JP4282617B2 - ガスウィンドウ及び化学気相成長装置 - Google Patents
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Description
2;窓
3、102a;レーザ照射部
4a;原料ガス出口
4b;原料ガス入口
5、6;環状溝
7;リブ
7a〜7d;横断溝
8、115;原料ガス
9、114;ギャップ
10、101;基板
11a;パージガス吹出口
11b;パージガス入口
100;レーザCVD装置
103;パージガス用配管
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108;レーザ照射光学系
109;レーザ光
110;X−Yステージ
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113;パージガス吹き出し口
116;パージガス
Claims (6)
- 基板とレーザ光源との間に配置されるレーザ化学気相成長装置用のガスウィンドウにおいて、前記レーザ光源から出射したレーザ光を透過して前記基板に照射するレーザ光照射部と、前記基板に向けて原料ガスを供給する原料ガス供給口と、前記基板側の面に前記レーザ光照射部と前記原料ガス供給口とを囲むように形成された環状溝を備えたガス吸引部と、前記環状溝の外縁を形成する凸部に設けられ前記凸部の内側から外側に貫通する横断溝と、を有し、前記ガス吸引部は、前記環状溝よりも内側に前記レーザ光照射部と前記原料ガス供給口とを囲むように形成された他の環状溝を備えていることを特徴とするガスウィンドウ。
- 前記環状溝及び前記他の環状溝は円状であり、同心円状に配置されていることを特徴とする請求項1に記載のガスウィンドウ。
- 前記横断溝が複数本形成されており、この複数本の横断溝は等間隔に配置されていることを特徴とする請求項1又は2に記載のガスウィンドウ。
- 前記横断溝が4本形成されていることを特徴とする請求項3に記載のガスウィンドウ。
- 更に、前記レーザ光照射部にパージガスを供給するパージガス供給口を有することを特徴とする請求項1乃至4のいずれか1項に記載のガスウィンドウ。
- 請求項1乃至5のいずれか1項に記載のガスウィンドウを有することを特徴とする化学気相成長装置。
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