JP4285210B2 - レーザ加工装置 - Google Patents
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- 238000012545 processing Methods 0.000 title claims description 58
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 62
- 238000009423 ventilation Methods 0.000 claims description 11
- 239000010409 thin film Substances 0.000 claims description 10
- 238000007664 blowing Methods 0.000 claims description 6
- 238000004587 chromatography analysis Methods 0.000 claims description 4
- 238000007667 floating Methods 0.000 claims description 4
- 238000003754 machining Methods 0.000 claims description 3
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 58
- 238000010926 purge Methods 0.000 description 14
- 238000005339 levitation Methods 0.000 description 9
- 238000000034 method Methods 0.000 description 9
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 7
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 6
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 5
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 4
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 3
- 238000003672 processing method Methods 0.000 description 3
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 2
- 238000012937 correction Methods 0.000 description 2
- 238000005401 electroluminescence Methods 0.000 description 2
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 2
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 2
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 2
- 239000011148 porous material Substances 0.000 description 2
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 229910001873 dinitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010408 film Substances 0.000 description 1
- 230000001771 impaired effect Effects 0.000 description 1
- AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N indium;oxotin Chemical compound [In].[Sn]=O AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- 238000000059 patterning Methods 0.000 description 1
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 1
- 230000007261 regionalization Effects 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 229920003002 synthetic resin Polymers 0.000 description 1
- 239000000057 synthetic resin Substances 0.000 description 1
- 239000012780 transparent material Substances 0.000 description 1
- 238000009966 trimming Methods 0.000 description 1
- 238000013022 venting Methods 0.000 description 1
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Description
上記実施の形態と同様にして、TFT基板11上の配線パターン12の短絡部12Aを修正し、レーザ加工物10を作製した。なお、レーザ加工物10は五つ作製し、それぞれにロット番号1〜5を付した。得られたレーザ加工物10について、レーザ光LBの照射位置を中心とした60μm角の領域内における径約0.5μm以下の飛散物の個数を調べたところ、図4に示したように5個ないし10個であった。
局所排気機構50による局所的な真空排気を行わなかったことを除き、上記実施例と同様にして五つのレーザ加工物を作製し、それぞれにロット番号1〜5を付した。得られたレーザ加工物について、上記実施例と同様にして飛散物の個数を調べたところ、図4に示したように45個ないし65個であった。
Claims (7)
- 薄膜が形成された基板を支持する載置台と、
前記載置台に支持された基板に向けてレーザ光を発生するレーザ光源と、
前記レーザ光を透過させるための窓、および、前記窓により塞がれると共に前記載置台に支持された基板の側が開放されたレーザ照射室を有し、前記載置台上の基板の表面に対して相対的に変位可能な局所加工部と、
前記基板上における前記レーザ光の照射位置を局所的に真空排気する局所排気機構と、
前記局所加工部の前記載置台側の面の外周に沿って設けられ、圧縮ガスを前記載置台上の基板に向けて吹き出す通気部、および、前記通気部の内周に沿って設けられ、前記レーザ照射室方向へ向かって流れてくる圧縮ガスを吸引する圧縮ガス吸引口を有し、前記局所加工部を圧縮ガスにより前記基板に対して浮上させる浮上機構と
を備えたレーザ加工装置。 - 前記局所排気機構は、前記基板上における前記レーザ光の照射位置の近傍から前記局所加工部を貫通するように設けられた排気孔を有する
請求項1記載のレーザ加工装置。 - 前記排気孔は、前記レーザ照射室の内面から前記局所加工部を貫通するように設けられた
請求項2記載のレーザ加工装置。 - 前記基板上における前記レーザ光の照射位置を外気から遮断するガスカーテン機構を備えた
請求項1記載のレーザ加工装置。 - 前記局所加工部は略円板状の形状を有すると共に中央に前記窓および前記レーザ照射室を有し、前記圧縮ガス吸引口および前記通気部は、前記窓に近い方からこの順に、前記窓を中心とした同心環状に配置されている。
請求項1記載のレーザ加工装置。 - 前記排気孔の入口は、前記レーザ照射室の周囲の前記局所加工部の底面に設けられている
請求項2記載のレーザ加工装置。 - 前記排気孔は前記レーザ照射室の周囲に環状に形成されている
請求項6記載のレーザ加工装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2003388826A JP4285210B2 (ja) | 2003-11-19 | 2003-11-19 | レーザ加工装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2003388826A JP4285210B2 (ja) | 2003-11-19 | 2003-11-19 | レーザ加工装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2005144526A JP2005144526A (ja) | 2005-06-09 |
JP4285210B2 true JP4285210B2 (ja) | 2009-06-24 |
Family
ID=34695752
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2003388826A Expired - Lifetime JP4285210B2 (ja) | 2003-11-19 | 2003-11-19 | レーザ加工装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4285210B2 (ja) |
Families Citing this family (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4760270B2 (ja) * | 2005-09-29 | 2011-08-31 | ソニー株式会社 | 配線基板の製造方法及び表示装置の製造方法 |
KR100703216B1 (ko) * | 2006-02-21 | 2007-04-09 | 삼성전기주식회사 | 발광다이오드 패키지의 제조 방법 |
JP4991667B2 (ja) * | 2008-09-25 | 2012-08-01 | 株式会社アマダ | 溶接作業台装置 |
KR102041155B1 (ko) * | 2017-05-17 | 2019-11-07 | (주)제이스텍 | 디스플레이 편광필름 절단시 발생하는 흄 가스 흡입 제거장치 |
-
2003
- 2003-11-19 JP JP2003388826A patent/JP4285210B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2005144526A (ja) | 2005-06-09 |
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Date | Code | Title | Description |
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FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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S303 | Written request for registration of pledge or change of pledge |
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