JP2000214315A - ２つの波長における向上したブレ―ズ性能を有する回折格子 - Google Patents
２つの波長における向上したブレ―ズ性能を有する回折格子Info
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 ２つの異なる回折次数の２つの異なる波長で
放射されるレーザー光のブレーズ回折を向上させること
の可能な改良型エシェル回折格子を提供する。 【解決手段】 第１と第２のファセットの交差によって
形成される三角溝の配列を有する平面反射型回折格子で
あって、前記ファセットは、前記配置は異なる伝播次数
を持つ２つの異なる波長のレーザー放射光について、ブ
レーズされる次数がそれぞれ向上するように最も高次の
伝播回折次数は各波長でブレーズされ、次に高次の次数
は伝播しないような角度で前記平面に傾斜し、そのよう
な周期性を前記配列が持つことを特徴とするものであ
る。
放射されるレーザー光のブレーズ回折を向上させること
の可能な改良型エシェル回折格子を提供する。 【解決手段】 第１と第２のファセットの交差によって
形成される三角溝の配列を有する平面反射型回折格子で
あって、前記ファセットは、前記配置は異なる伝播次数
を持つ２つの異なる波長のレーザー放射光について、ブ
レーズされる次数がそれぞれ向上するように最も高次の
伝播回折次数は各波長でブレーズされ、次に高次の次数
は伝播しないような角度で前記平面に傾斜し、そのよう
な周期性を前記配列が持つことを特徴とするものであ
る。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、光ビームを回折す
るための光学格子に関し、特にエシェル格子に関し、さ
らに詳しくは、別個の２つの波長でのブレーズ性能がそ
れぞれの波長で次に高次な回折次数が弱まりながら消衰
することによって向上したリトロー配向のエシェル格子
に関する。
るための光学格子に関し、特にエシェル格子に関し、さ
らに詳しくは、別個の２つの波長でのブレーズ性能がそ
れぞれの波長で次に高次な回折次数が弱まりながら消衰
することによって向上したリトロー配向のエシェル格子
に関する。
【０００２】
【従来の技術】回折格子は、検討中の光の波長に匹敵す
る距離だけ離間した素子を反射または透過させる配置、
たとえば、不透明スクリーンにおいて等間隔で離間した
透明スリットや開口、あるいは基板上の反射溝の集合な
どの通常のパターンである。格子に入射する電磁波は、
回折すると、電場の振幅または位相、あるいはその両方
を予測可能に変更する。
る距離だけ離間した素子を反射または透過させる配置、
たとえば、不透明スクリーンにおいて等間隔で離間した
透明スリットや開口、あるいは基板上の反射溝の集合な
どの通常のパターンである。格子に入射する電磁波は、
回折すると、電場の振幅または位相、あるいはその両方
を予測可能に変更する。
【０００３】本発明は、エキシマガスレーザーから放射
されるようなほとんど単色の、ここでは「光」と呼ぶ電
磁放射に適応され、また、溝は互いに対して、しかも格
子の長手方向軸または平面に対して一定の角度で配置さ
れる第１と第２のファセットをそれぞれ備える三角溝を
有した線形格子によるその放射の回折に適応される。こ
のような三角格子は断面図では階段状である。
されるようなほとんど単色の、ここでは「光」と呼ぶ電
磁放射に適応され、また、溝は互いに対して、しかも格
子の長手方向軸または平面に対して一定の角度で配置さ
れる第１と第２のファセットをそれぞれ備える三角溝を
有した線形格子によるその放射の回折に適応される。こ
のような三角格子は断面図では階段状である。
【０００４】単色光が格子表面に入射すると、その光は
別個の角方向に回折する。それぞれの回折溝は、非常に
小さく、スリット状の回折光源とみなしてもよい。それ
ぞれの溝によって回折される光小波は、回折波面を形成
するために別の溝からの光と干渉する。格子が有用であ
るかどうかは、「次数」として知られる独自の組の離散
角が存在することによって決まり、その次数では、溝の
間のある間隔ｄにおいて、各溝のファセットからの回折
光の小波が１つおきの溝のファセットから回折される小
波と同位相であるので、小波が構成的に干渉する。入射
角αで１つの格子に衝突し、αとβの正弦の和のｄ倍の
溝間隔が波長λの整数倍ｍに等しい回折角βに沿って回
折する光だけが構成的に回折される。よって、ｍは構成
的回折次数である。これらのパラメータは次の格子等式
において次のように関連付けられる。 ｍλ＝ｄ（ｓｉｎ α ＋ ｓｉｎ β） （等式１） 本発明は、エシェル格子またはエシェルとして知られる
線形回折格子の部類に関する。このような格子は、長さ
の異なる第１と第２のファセットを持つ。この長さの比
は典型的には約２：１から６：１の間であり、当該技術
においては通常約４：１の比が用いられる。この比は格
子のｒ数として知られている。よって、たとえばｒ−４
格子では格子の長手軸に対して第２の、あるいは短い方
のファセットの角度が７５°５８′である。さらに、エ
シェルでは、通常入射ビームとブレーズ回折ビームが、
格子の長手軸に対して垂直の平面の同一側にある。エシ
ェルは相対的に粗く、精巧に製造される格子で、通常回
折角度が高く、高次のスペクトル次数で用いられる。典
型的な溝間隔は１ミリあたり溝の数が約２０から約３０
０個である。入射角は典型的には格子法線から約６３°
（ｒ−２）から約８０°（ｒ−６）の間で、使用される
スペクトル次数は約１０から５００であり、通常約１０
０である。エシェルは、高い光学的分散と解像度が求め
られる用途で特に有用である。
別個の角方向に回折する。それぞれの回折溝は、非常に
小さく、スリット状の回折光源とみなしてもよい。それ
ぞれの溝によって回折される光小波は、回折波面を形成
するために別の溝からの光と干渉する。格子が有用であ
るかどうかは、「次数」として知られる独自の組の離散
角が存在することによって決まり、その次数では、溝の
間のある間隔ｄにおいて、各溝のファセットからの回折
光の小波が１つおきの溝のファセットから回折される小
波と同位相であるので、小波が構成的に干渉する。入射
角αで１つの格子に衝突し、αとβの正弦の和のｄ倍の
溝間隔が波長λの整数倍ｍに等しい回折角βに沿って回
折する光だけが構成的に回折される。よって、ｍは構成
的回折次数である。これらのパラメータは次の格子等式
において次のように関連付けられる。 ｍλ＝ｄ（ｓｉｎ α ＋ ｓｉｎ β） （等式１） 本発明は、エシェル格子またはエシェルとして知られる
線形回折格子の部類に関する。このような格子は、長さ
の異なる第１と第２のファセットを持つ。この長さの比
は典型的には約２：１から６：１の間であり、当該技術
においては通常約４：１の比が用いられる。この比は格
子のｒ数として知られている。よって、たとえばｒ−４
格子では格子の長手軸に対して第２の、あるいは短い方
のファセットの角度が７５°５８′である。さらに、エ
シェルでは、通常入射ビームとブレーズ回折ビームが、
格子の長手軸に対して垂直の平面の同一側にある。エシ
ェルは相対的に粗く、精巧に製造される格子で、通常回
折角度が高く、高次のスペクトル次数で用いられる。典
型的な溝間隔は１ミリあたり溝の数が約２０から約３０
０個である。入射角は典型的には格子法線から約６３°
（ｒ−２）から約８０°（ｒ−６）の間で、使用される
スペクトル次数は約１０から５００であり、通常約１０
０である。エシェルは、高い光学的分散と解像度が求め
られる用途で特に有用である。
【０００５】それぞれの回折次数に含まれ、入射ビーム
の強度を標準とした光の強度あるいは放射エネルギー量
は、その次数における回折「効率」として知られてい
る。光の任意の波長における格子の回折次数ではエネル
ギーは同量ではなく、ほとんどの次数はエネルギーがほ
とんどない。しかし、それぞれの格子、しかもある入射
角で衝突する各波長について、回折エネルギー量が最も
高い１つの次数があり、これは当該技術では「ブレーズ
次数」として知られている。ブレーズ次数の一方の側に
角変位した次数（ｍ＋１とｍ−１）は多量のエネルギを
持つ場合も持たない場合もある。
の強度を標準とした光の強度あるいは放射エネルギー量
は、その次数における回折「効率」として知られてい
る。光の任意の波長における格子の回折次数ではエネル
ギーは同量ではなく、ほとんどの次数はエネルギーがほ
とんどない。しかし、それぞれの格子、しかもある入射
角で衝突する各波長について、回折エネルギー量が最も
高い１つの次数があり、これは当該技術では「ブレーズ
次数」として知られている。ブレーズ次数の一方の側に
角変位した次数（ｍ＋１とｍ−１）は多量のエネルギを
持つ場合も持たない場合もある。
【０００６】回折光を伝播できる次数は、回折ビームが
格子から脱出できるような次数である。格子内に延びる
方向の角度で配置される次数、「水平線未満」と当該技
術では呼ばれる次数は回折光を伝播できない。ブレーズ
次数で回折するビームと入射ビームが空間内で同一経路
をとるよう（入射角θｉが回折角θｄに等しいよう）に
特に位置決めされるエシェル格子は、「リトロー」配置
内にあると言われる。リトロー配向格子において、ブレ
ーズ次数θＢの角度は格子ｒ数の逆正接に等しいファセ
ット角θＧとほぼ等しい。この配置において、格子等式
（等式１）は次のように書き換えられる。 ｍλ ＝ ２ｄ ｓｉｎ θＢ （リトロー） （等式２） 入射角が、ブレーズ角が最高次数の伝播次数となるよう
に設定されるとき、その次数は別の角度の位置にある場
合より、およびスケーラ理論によって予測されるものよ
り幾分多くのエネルギーを含む。これは当該技術では
「異常状態」と呼ばれるもので、これはリトロー式配置
のエシェル格子の持つ興味深い特性である。そのブレー
ズ角からの放射は「向上している」と言われる。エネル
ギーを節約しなくてはならないので、非伝播次数に回折
するエネルギーは伝播次数内に再配分され、そのうちで
近接するブレーズ次数には最も多くのエネルギが割り当
てられる。
格子から脱出できるような次数である。格子内に延びる
方向の角度で配置される次数、「水平線未満」と当該技
術では呼ばれる次数は回折光を伝播できない。ブレーズ
次数で回折するビームと入射ビームが空間内で同一経路
をとるよう（入射角θｉが回折角θｄに等しいよう）に
特に位置決めされるエシェル格子は、「リトロー」配置
内にあると言われる。リトロー配向格子において、ブレ
ーズ次数θＢの角度は格子ｒ数の逆正接に等しいファセ
ット角θＧとほぼ等しい。この配置において、格子等式
（等式１）は次のように書き換えられる。 ｍλ ＝ ２ｄ ｓｉｎ θＢ （リトロー） （等式２） 入射角が、ブレーズ角が最高次数の伝播次数となるよう
に設定されるとき、その次数は別の角度の位置にある場
合より、およびスケーラ理論によって予測されるものよ
り幾分多くのエネルギーを含む。これは当該技術では
「異常状態」と呼ばれるもので、これはリトロー式配置
のエシェル格子の持つ興味深い特性である。そのブレー
ズ角からの放射は「向上している」と言われる。エネル
ギーを節約しなくてはならないので、非伝播次数に回折
するエネルギーは伝播次数内に再配分され、そのうちで
近接するブレーズ次数には最も多くのエネルギが割り当
てられる。
【０００７】エシェル格子は、たとえば、エシェルがガ
スレーザー空洞の光学的要素の一端を形成し、そのエシ
ェルを介して軸を中心に回転し、レーザーを最大応答の
波長に合わせるようにレーザービームに垂直であるよう
なガスレーザー空洞内で光学素子として用いられると効
果的である。特にガスレーザーは、たとえば光子放出中
にガス分子の集合体の速度が分散することによって生じ
るドップラー効果のために、完全には単色というわけで
はない。あるレーザーの応用で、たとえば、コンピュー
タ回路の製造においては、レーザーのスペクトル出力幅
を狭くするのが非常に望ましい。これは、レーザー分布
の外側の波長を排除して実質的に狭い波長帯域の増幅用
に空洞に回折させることができるリトロー配置で用いら
れる非常に分散度の高いエシェル格子を用いれば容易に
達成できる。これは「線路狭窄」として当該技術では知
られている。この目的のために好適な格子は、１ミリあ
たり８５．８４個の溝を有する３５−１３−＊−４０６
格子などのｒ−５格子であり、この格子は米国ニューヨ
ーク州、ロチェスターにあるＳｐｅｃｔｒｏｎｉｃＩｎ
ｓｔｒｕｍｅｎｔｓ， Ｉｎｃ．（スペクトロニック・
インスツルメンツ社）の、Ｒｉｃｈａｒｄｓｏｎ Ｇｒ
ａｔｉｎｇ Ｌａｂｏｒａｔｏｒｙ（リチャードソン・
グレーティング・ラボラトリ）から入手可能である。
スレーザー空洞の光学的要素の一端を形成し、そのエシ
ェルを介して軸を中心に回転し、レーザーを最大応答の
波長に合わせるようにレーザービームに垂直であるよう
なガスレーザー空洞内で光学素子として用いられると効
果的である。特にガスレーザーは、たとえば光子放出中
にガス分子の集合体の速度が分散することによって生じ
るドップラー効果のために、完全には単色というわけで
はない。あるレーザーの応用で、たとえば、コンピュー
タ回路の製造においては、レーザーのスペクトル出力幅
を狭くするのが非常に望ましい。これは、レーザー分布
の外側の波長を排除して実質的に狭い波長帯域の増幅用
に空洞に回折させることができるリトロー配置で用いら
れる非常に分散度の高いエシェル格子を用いれば容易に
達成できる。これは「線路狭窄」として当該技術では知
られている。この目的のために好適な格子は、１ミリあ
たり８５．８４個の溝を有する３５−１３−＊−４０６
格子などのｒ−５格子であり、この格子は米国ニューヨ
ーク州、ロチェスターにあるＳｐｅｃｔｒｏｎｉｃＩｎ
ｓｔｒｕｍｅｎｔｓ， Ｉｎｃ．（スペクトロニック・
インスツルメンツ社）の、Ｒｉｃｈａｒｄｓｏｎ Ｇｒ
ａｔｉｎｇ Ｌａｂｏｒａｔｏｒｙ（リチャードソン・
グレーティング・ラボラトリ）から入手可能である。
【０００８】さらに、レーザー調整と線路狭窄用に利用
可能なブレーズ次数は最高次の伝播次数である。よって
上記のように向上した事が更に非常に好ましい。公知の
技術において、たとえば上述のリチャードソンの格子な
どのある間隔ｄを有した格子は、向上したブレーズ次数
が単一の波長でのみ利用可能なように配向させることが
できる。たとえば、８５．８４ｇ／ｍｍの格子であれ
ば、クリプトン−フッ素（ＫｒＦ）エキシマレーザーに
よって生成されるような２４８．４ナノメータの波長の
光のブレーズ次数（９２）が伝播され、次に高い次数
（９３番目）が伝播されない。この格子も又１９３．３
ｎｍのアルゴン−フッ素（ＡｒＦ）エキシマレーザーに
おける線路狭窄用に効果的であるが、（リトロー配置に
おける）ブレーズ次数は向上しない。公知の技術におい
て、１９３．３ｎｍでブレーズを示すように設計される
別のリトローマウント式エシェル格子は、２４８．４ｎ
ｍではブレーズを示さない。
可能なブレーズ次数は最高次の伝播次数である。よって
上記のように向上した事が更に非常に好ましい。公知の
技術において、たとえば上述のリチャードソンの格子な
どのある間隔ｄを有した格子は、向上したブレーズ次数
が単一の波長でのみ利用可能なように配向させることが
できる。たとえば、８５．８４ｇ／ｍｍの格子であれ
ば、クリプトン−フッ素（ＫｒＦ）エキシマレーザーに
よって生成されるような２４８．４ナノメータの波長の
光のブレーズ次数（９２）が伝播され、次に高い次数
（９３番目）が伝播されない。この格子も又１９３．３
ｎｍのアルゴン−フッ素（ＡｒＦ）エキシマレーザーに
おける線路狭窄用に効果的であるが、（リトロー配置に
おける）ブレーズ次数は向上しない。公知の技術におい
て、１９３．３ｎｍでブレーズを示すように設計される
別のリトローマウント式エシェル格子は、２４８．４ｎ
ｍではブレーズを示さない。
【０００９】回折格子は製造が非常に困難で、高価で、
時間がかかるものであり、実際には、全世界でも非常に
高品質の格子を製造できるほんのわずかな刻線機械での
み存在する。よって、２つの異なる光の波長でブレーズ
作用を向上させることが可能なエシェル格子を得ること
が非常に望まれている。
時間がかかるものであり、実際には、全世界でも非常に
高品質の格子を製造できるほんのわずかな刻線機械での
み存在する。よって、２つの異なる光の波長でブレーズ
作用を向上させることが可能なエシェル格子を得ること
が非常に望まれている。
【００１０】
【発明が解決しようとする課題】本発明の主要な目的
は、２つの異なる回折次数の２つの異なる波長で放射さ
れるレーザー光のブレーズ回折を向上させることができ
る改良型エシェル回折格子を提供することである。
は、２つの異なる回折次数の２つの異なる波長で放射さ
れるレーザー光のブレーズ回折を向上させることができ
る改良型エシェル回折格子を提供することである。
【００１１】本発明のもう一つの目的は、ＫｒＦエキシ
マレーザーとＡｒＦエキシマレーザーからの光のブレー
ズ回折を向上させることができる改良形エシェル回折格
子を提供することである。
マレーザーとＡｒＦエキシマレーザーからの光のブレー
ズ回折を向上させることができる改良形エシェル回折格
子を提供することである。
【００１２】本発明のさらに別の目的は、２つの異なる
回折次数の２つの異なる波長で放射されるレーザー光の
ブレーズ回折を向上させることができるエシェル回折格
子における最適な溝間隔と溝ファセット角を決定するた
めの改良された方法を提供することである。
回折次数の２つの異なる波長で放射されるレーザー光の
ブレーズ回折を向上させることができるエシェル回折格
子における最適な溝間隔と溝ファセット角を決定するた
めの改良された方法を提供することである。
【００１３】
【課題を解決するための手段】本発明は上記の目的を達
成するため、基本的には、以下に記載されたような技術
構成を採用するものである。
成するため、基本的には、以下に記載されたような技術
構成を採用するものである。
【００１４】即ち、本発明に係る第１の態様は、第１と
第２のファセットの交差によって形成される三角溝の配
列を有する平面反射型回折格子であって、前記ファセッ
トは、所定の角度で前記平面に傾斜しており、かつ前記
配置は、異なる伝播次数を持つ２つの異なる波長のレー
ザー放射光について、ブレーズされる次数がそれぞれ向
上するように最も高次の伝播回折次数は各波長でブレー
ズされ、次に高次の伝播回折次数は伝播しないような周
期性を持つことを特徴とする平面反射型回折格子を提供
するものである。
第２のファセットの交差によって形成される三角溝の配
列を有する平面反射型回折格子であって、前記ファセッ
トは、所定の角度で前記平面に傾斜しており、かつ前記
配置は、異なる伝播次数を持つ２つの異なる波長のレー
ザー放射光について、ブレーズされる次数がそれぞれ向
上するように最も高次の伝播回折次数は各波長でブレー
ズされ、次に高次の伝播回折次数は伝播しないような周
期性を持つことを特徴とする平面反射型回折格子を提供
するものである。
【００１５】本発明に係る第２の態様は、２つの異なる
波長のレーザー放射光を向上したブレーズ次数で回折す
るための平面反射型エシェル回折格子であって、 ａ）溝の頻度は、溝が１マイクロメータあたり約０．０
９４１３個であり、 ｂ）ファセット角が前記格子の平面から測定すると約８
０°であり、 ｃ）溝の頂点開光角が約８５°である平面反射型エシェ
ル回折格子を提供する ものである。
波長のレーザー放射光を向上したブレーズ次数で回折す
るための平面反射型エシェル回折格子であって、 ａ）溝の頻度は、溝が１マイクロメータあたり約０．０
９４１３個であり、 ｂ）ファセット角が前記格子の平面から測定すると約８
０°であり、 ｃ）溝の頂点開光角が約８５°である平面反射型エシェ
ル回折格子を提供する ものである。
【００１６】本発明に係る第３の態様は、それぞれ第１
と第２の向上したブレーズ回折角度θＢλ１とθＢλ２
で第１と第２の波長λ１とλ２のレーザー放射光を回折
するためにリトロー配向内で用いられるエシェル回折格
子を形成する方法であって、 ａ）前記第１と第２の波長のうち短い方の波長につい
て、約７５°から約８５°の間でファセット角を選択
し、約８０°から９０°の間で頂角を選択し、λ１を前
記第１と第２の波長のうち短い方の波長に指定する工程
と、 ｂ）前記短い方の波長について、整数次数ｍ１の範囲を
選択する工程と、 ｃ）θＢλ１／θＢλ２の比がほとんど１．０であるよ
うな前記範囲において値ｍ１とｍ２を決定する工程と、 ｄ）次に高次の次数は伝播しないような等式ｆ＝１／
｛（ｍ１＋１）λ１ −ｍ１λ１／２｝に従って各次数
ｍ１における溝頻度ｆについての値を決定する工程と、 ｅ）前記回折角θＢλ１とθＢλ２との間でもっとも小
さい正の差を生じさせる前記溝頻度ｆの値を選択する工
程と、 ｆ）ファセット角、頂角、溝頻度について前記選択され
た値に従って、格子マスタを形成するために格子基板に
刻線する工程とを備える方法が提供される。
と第２の向上したブレーズ回折角度θＢλ１とθＢλ２
で第１と第２の波長λ１とλ２のレーザー放射光を回折
するためにリトロー配向内で用いられるエシェル回折格
子を形成する方法であって、 ａ）前記第１と第２の波長のうち短い方の波長につい
て、約７５°から約８５°の間でファセット角を選択
し、約８０°から９０°の間で頂角を選択し、λ１を前
記第１と第２の波長のうち短い方の波長に指定する工程
と、 ｂ）前記短い方の波長について、整数次数ｍ１の範囲を
選択する工程と、 ｃ）θＢλ１／θＢλ２の比がほとんど１．０であるよ
うな前記範囲において値ｍ１とｍ２を決定する工程と、 ｄ）次に高次の次数は伝播しないような等式ｆ＝１／
｛（ｍ１＋１）λ１ −ｍ１λ１／２｝に従って各次数
ｍ１における溝頻度ｆについての値を決定する工程と、 ｅ）前記回折角θＢλ１とθＢλ２との間でもっとも小
さい正の差を生じさせる前記溝頻度ｆの値を選択する工
程と、 ｆ）ファセット角、頂角、溝頻度について前記選択され
た値に従って、格子マスタを形成するために格子基板に
刻線する工程とを備える方法が提供される。
【００１７】
【発明の実施の形態】本発明にかかるエシェル格子は２
つの異なるレーザー光波長λ１とλ２および異なる２つ
の対応の回折次数ｍ１とｍ２における許容可能な小さな
限界内で等式２を満足する特定の溝間隔ｄと溝角度θｇ
とを有し、いずれの次数もブレーズ次数であり、次に高
次の次数は伝播しない。たとえば、公知のＫｒＦレーザ
ーは実質的に２４８．４ｎｍの光を放射し、公知のＡｒ
Ｆレーザーは実質的に１９３．３ｎｍの光を放射する。
以下に述べる新規の方法により、ＫｒＦレーザーの第８
４次数とＡｒＦレーザーの第１０８次数はいずれも、ｄ
が１ミリあたり９４．１３個の溝の頻度ｆに対応する
０．０１０６２３ｍｍであり、またθｇが約８０°（ｒ
−５）のときブレーズする。等式２によれば、ｍＡｒＦ
λＡｒＦはｍＫｒＦλＫｒＦに等しくなければならな
い。適切な値を掛けると、ｍＡｒＦλＡｒＦ＝２０８６
６ｎｍでｍＫｒＦλＫｒＦ＝２０８７６ｎｍとなる。い
ずれの次数でもブレーズできるのには、１００万分の１
００以内で一致すれば十分である。また、本方法によれ
ば、各レーザーにおいて次に高次の次数、すなわち、第
８５番目と第１０９番目の次数はそれぞれ伝播しない。
よっていずれのブレーズ次数も向上することがわかる。
つの異なるレーザー光波長λ１とλ２および異なる２つ
の対応の回折次数ｍ１とｍ２における許容可能な小さな
限界内で等式２を満足する特定の溝間隔ｄと溝角度θｇ
とを有し、いずれの次数もブレーズ次数であり、次に高
次の次数は伝播しない。たとえば、公知のＫｒＦレーザ
ーは実質的に２４８．４ｎｍの光を放射し、公知のＡｒ
Ｆレーザーは実質的に１９３．３ｎｍの光を放射する。
以下に述べる新規の方法により、ＫｒＦレーザーの第８
４次数とＡｒＦレーザーの第１０８次数はいずれも、ｄ
が１ミリあたり９４．１３個の溝の頻度ｆに対応する
０．０１０６２３ｍｍであり、またθｇが約８０°（ｒ
−５）のときブレーズする。等式２によれば、ｍＡｒＦ
λＡｒＦはｍＫｒＦλＫｒＦに等しくなければならな
い。適切な値を掛けると、ｍＡｒＦλＡｒＦ＝２０８６
６ｎｍでｍＫｒＦλＫｒＦ＝２０８７６ｎｍとなる。い
ずれの次数でもブレーズできるのには、１００万分の１
００以内で一致すれば十分である。また、本方法によれ
ば、各レーザーにおいて次に高次の次数、すなわち、第
８５番目と第１０９番目の次数はそれぞれ伝播しない。
よっていずれのブレーズ次数も向上することがわかる。
【００１８】本発明の前述およびその他の目的、特徴、
効果ならびに発明の現在好適な実施例は添付の図面とと
もに以下の説明を読めば、一層明らかになるであろう。
効果ならびに発明の現在好適な実施例は添付の図面とと
もに以下の説明を読めば、一層明らかになるであろう。
【００１９】
【実施例】図１を参照すると、断面図で示される概略的
な線形三角溝反射回折格子１０は、たとえば公知の技術
に従ったアルミニウムまたはアルミ化ガラスなどの反射
材からなる。格子１０は、格子基準面を限定する平坦な
裏面１４を持つスラブ本体１２を有する。裏面１４に対
向する正面は、第１と第２のファセット１８と２０のそ
れぞれの端部交差によって形成される複数の平行度の高
い三角溝１６を特徴とする。ファセットは、それぞれの
交差１９でほぼ９０°の開光頂角１７で接するのが好ま
しい。ファセット２０は基準面１４に対して角度θｇで
傾斜し、溝は周期ｄを持つ。光ビーム２２は、基準面１
４に垂直な格子の法線面２４から測定すると角度αです
べての第２のファセット２０に入射ししており、同じく
格子法線２４から測定され、図の例ではブレーズ方向と
しても示される角度βだけが図示されているが、光ビー
ムは多くの次数角で回折される。ファセット法線２６
は、入射光線と回折光線との間の開光角度を二等分す
る。ブレーズ次数は矢印２８の示す方向に伝搬される。
な線形三角溝反射回折格子１０は、たとえば公知の技術
に従ったアルミニウムまたはアルミ化ガラスなどの反射
材からなる。格子１０は、格子基準面を限定する平坦な
裏面１４を持つスラブ本体１２を有する。裏面１４に対
向する正面は、第１と第２のファセット１８と２０のそ
れぞれの端部交差によって形成される複数の平行度の高
い三角溝１６を特徴とする。ファセットは、それぞれの
交差１９でほぼ９０°の開光頂角１７で接するのが好ま
しい。ファセット２０は基準面１４に対して角度θｇで
傾斜し、溝は周期ｄを持つ。光ビーム２２は、基準面１
４に垂直な格子の法線面２４から測定すると角度αです
べての第２のファセット２０に入射ししており、同じく
格子法線２４から測定され、図の例ではブレーズ方向と
しても示される角度βだけが図示されているが、光ビー
ムは多くの次数角で回折される。ファセット法線２６
は、入射光線と回折光線との間の開光角度を二等分す
る。ブレーズ次数は矢印２８の示す方向に伝搬される。
【００２０】図２を参照すると、エシェル格子３０は、
α＝βであり、入射ビームと回折小波がいずれもファセ
ット法線と一致するリトロー配置内に設けられている。
α＝βであり、入射ビームと回折小波がいずれもファセ
ット法線と一致するリトロー配置内に設けられている。
【００２１】格子３０のｄが０．０１２０２８（１ミリ
あたり８３．１４個の溝）で、θｇが約７９°で、溝の
頂角が約８５°のとき、図４に示すように、約７５％の
効率でＫｒＦレーザーの第９５次数がブレーズする。第
９６次数は伝播せず、それにより第９５次数のブレーズ
が向上する。同様な格子を用いて、図３に示されるよう
に、ＡｒＦレーザーの第１２２次数は約７２％の効率で
ブレーズするが、第１２３次数も又伝播するため、第１
２２次数のブレーズは向上しない。
あたり８３．１４個の溝）で、θｇが約７９°で、溝の
頂角が約８５°のとき、図４に示すように、約７５％の
効率でＫｒＦレーザーの第９５次数がブレーズする。第
９６次数は伝播せず、それにより第９５次数のブレーズ
が向上する。同様な格子を用いて、図３に示されるよう
に、ＡｒＦレーザーの第１２２次数は約７２％の効率で
ブレーズするが、第１２３次数も又伝播するため、第１
２２次数のブレーズは向上しない。
【００２２】上述の通り、本発明によれば格子３０のｄ
は０．０１０６２３ｍｍ（１ミリあたり９４．１３個の
溝）、θｇは約８０°、溝の頂角が８５°のとき、図６
に示されるように、ＫｒＦレーザーの第８４次数は約７
３％の効率でブレーズし、第８５次数は消衰する。ま
た、図５に示されるようにＡｒＦレーザーの第１０８次
数は約８０％の効率でブレーズし、第１０９次数は消衰
する。よって、本発明における単一の格子は、複数の入
射波長でブレーズを向上させることが可能である。
は０．０１０６２３ｍｍ（１ミリあたり９４．１３個の
溝）、θｇは約８０°、溝の頂角が８５°のとき、図６
に示されるように、ＫｒＦレーザーの第８４次数は約７
３％の効率でブレーズし、第８５次数は消衰する。ま
た、図５に示されるようにＡｒＦレーザーの第１０８次
数は約８０％の効率でブレーズし、第１０９次数は消衰
する。よって、本発明における単一の格子は、複数の入
射波長でブレーズを向上させることが可能である。
【００２３】２つの波長でブレーズが向上する格子に関
する設計パラメータの本発明における決定方法は次の通
りである。
する設計パラメータの本発明における決定方法は次の通
りである。
【００２４】第１に、格子マウンチングについて、ブレ
ーズ角θＢが入射角αと回折角βに等しいリトロー幾何
学的配置を選択する。ブレーズ角θＢが溝の角θＧに実
質的に等しい（ブレーズビームはファセット法線に従
う）ような溝間隔ｄにおける開始値を選択する。
ーズ角θＢが入射角αと回折角βに等しいリトロー幾何
学的配置を選択する。ブレーズ角θＢが溝の角θＧに実
質的に等しい（ブレーズビームはファセット法線に従
う）ような溝間隔ｄにおける開始値を選択する。
【００２５】第２に、対象となる２つの波長λ１とλ２
を決定し、λ１を短い方の波長に指定する。
を決定し、λ１を短い方の波長に指定する。
【００２６】第３に、約１００の、たとえば８０＜ｍ＜
１４０の短い方の波長についての作動次数ｍ１の範囲を
選択する。与えられるこれらのｍ１はいずれも整数であ
る。
１４０の短い方の波長についての作動次数ｍ１の範囲を
選択する。与えられるこれらのｍ１はいずれも整数であ
る。
【００２７】第４に、２つの波長におけるθＢは近いが
同一ではないと仮定し、θＢλ１／θＢλ２ がほとん
ど１．０となるような範囲でｍ１とｍ２の値を次のよう
に決定する。等式１と等式２に従って、ｓｉｎθＢはｍ
λに比例する。よってθＢ１＜、または、＞θＢ２であ
れば、ｍ１λ１＜、または、＞ｍ２λ２である。ｍ２λ
２／ｍ１λ１はｍ１のポテンシャル値の関数としてプロ
ットする。θＢ１＜θ Ｂ２の値について、ｍ１λ１／λ
２より低い整数値となるｍ２を求め、θＢ１＞θＢ２の
値については、（ｍ１λ１／λ２）＋１より低い整数値
となるｍ２を求める。ｍ２λ２／ｍ１λ１がほとんど
１．０に近い場合のｍ１の値は、これからも用いるので
保存する。
同一ではないと仮定し、θＢλ１／θＢλ２ がほとん
ど１．０となるような範囲でｍ１とｍ２の値を次のよう
に決定する。等式１と等式２に従って、ｓｉｎθＢはｍ
λに比例する。よってθＢ１＜、または、＞θＢ２であ
れば、ｍ１λ１＜、または、＞ｍ２λ２である。ｍ２λ
２／ｍ１λ１はｍ１のポテンシャル値の関数としてプロ
ットする。θＢ１＜θ Ｂ２の値について、ｍ１λ１／λ
２より低い整数値となるｍ２を求め、θＢ１＞θＢ２の
値については、（ｍ１λ１／λ２）＋１より低い整数値
となるｍ２を求める。ｍ２λ２／ｍ１λ１がほとんど
１．０に近い場合のｍ１の値は、これからも用いるので
保存する。
【００２８】第５に、次に高次の次数は伝播しないよう
な（工程４から得られる）各次数ｍ １についての溝頻度
ｆ（＝１／ｄ）を算出する。
な（工程４から得られる）各次数ｍ １についての溝頻度
ｆ（＝１／ｄ）を算出する。
【００２９】 ｆ ＝ １／｛（ｍ１＋１）λ１ − ｍ１λ１／２｝ （等式３） 注：次に高次の次数が確実に水平より高く（＞９０
°）、よって伝播できないように、短い波長についての
それぞれのこうした溝頻度に小さな定数値を加えるのが
望ましい。短い波長について確実に消え失せる次数が確
認されれば、長い波長についても消え失せる次数が確認
される。
°）、よって伝播できないように、短い波長についての
それぞれのこうした溝頻度に小さな定数値を加えるのが
望ましい。短い波長について確実に消え失せる次数が確
認されれば、長い波長についても消え失せる次数が確認
される。
【００３０】第６に、工程５から得られたそれぞれの溝
頻度について回折角の差θＢλ１−θＢλ２を算出し、
回折角のもっとも小さい正の差に対応する溝頻度を選択
する。こうして、λ１とλ２のいずれでもブレーズが向
上を表示するようなエシェル格子における幾何学的配置
パラメータが特定されたことになる。実例 ：ＡｒＦエキシマレーザー（λ１＝１９３．３ｎ
ｍ）とＫｒＦエキシマレーザー（λ２＝２４８．４ｎ
ｍ）のいずれでもブレーズが向上するｒ−５（θＧ＝８
０°）で頂角８５°のエシェル格子の溝頻度を決定し
た。
頻度について回折角の差θＢλ１−θＢλ２を算出し、
回折角のもっとも小さい正の差に対応する溝頻度を選択
する。こうして、λ１とλ２のいずれでもブレーズが向
上を表示するようなエシェル格子における幾何学的配置
パラメータが特定されたことになる。実例 ：ＡｒＦエキシマレーザー（λ１＝１９３．３ｎ
ｍ）とＫｒＦエキシマレーザー（λ２＝２４８．４ｎ
ｍ）のいずれでもブレーズが向上するｒ−５（θＧ＝８
０°）で頂角８５°のエシェル格子の溝頻度を決定し
た。
【００３１】９４から１２４のｍ１のポテンシャル値
を、上記工程４に従って検査し、図７と図８にプロット
して示している。１９３．３ｎｍのときの作動次数につ
いての妥当な選択としては、１．０：９５、１００、１
０３、１０４、１０８、１０９、１１２、１１３、１１
７、１１８、１２１と１２２に最も近いｍ２λ２／λ１
の値３２に関連するｍ１次数であった。
を、上記工程４に従って検査し、図７と図８にプロット
して示している。１９３．３ｎｍのときの作動次数につ
いての妥当な選択としては、１．０：９５、１００、１
０３、１０４、１０８、１０９、１１２、１１３、１１
７、１１８、１２１と１２２に最も近いｍ２λ２／λ１
の値３２に関連するｍ１次数であった。
【００３２】上記方法の工程に従って算出した結果は図
９に示す通りである。
９に示す通りである。
【００３３】最適な格子頻度ｆは溝が１マイクロメータ
あたり０．０９４１３個（１ミリあたり９４．１３個）
であることが知られ、２つのレーザーにおける最適角間
のブレーズ角の差異は＋０．１５５°に過ぎず、ＡｒＦ
レーザーについては第１０８次数で向上したブレーズ角
が得られ、ＫｒＦレーザーについては第８４次数で向上
したブレーズ角が得られる。しかし、これだけが唯一の
解明ではなく、固定入射角αを有した設置についてのみ
最適にすぎないことを理解されたい。たとえば、頻度ｆ
がｆ＝０．０８７０２でブレーズ角差が＋０．１６２の
格子はそれぞれ次数１１７と９１においてブレーズが向
上することがわかる。
あたり０．０９４１３個（１ミリあたり９４．１３個）
であることが知られ、２つのレーザーにおける最適角間
のブレーズ角の差異は＋０．１５５°に過ぎず、ＡｒＦ
レーザーについては第１０８次数で向上したブレーズ角
が得られ、ＫｒＦレーザーについては第８４次数で向上
したブレーズ角が得られる。しかし、これだけが唯一の
解明ではなく、固定入射角αを有した設置についてのみ
最適にすぎないことを理解されたい。たとえば、頻度ｆ
がｆ＝０．０８７０２でブレーズ角差が＋０．１６２の
格子はそれぞれ次数１１７と９１においてブレーズが向
上することがわかる。
【００３４】本発明にかかる三角格子は公知の方法と装
置によって形成してもよい。たとえば、マスタ格子は刻
線機械によってアルミニウム基板内でバニシング（研
磨）仕上げしてもよい。このような格子は、溝を形成す
る場合に変位する材料が外側溝の頂点上に蓄積し、内側
溝の頂点は刻線機械によって鋭角に形成されるので、通
常直接回折には役立たない。典型的には、金属化（第１
の世代）鋳込みは完全に機能的な反転した位相幾何学的
配列を持つように製造される。このため、次の金属化鋳
込み（第２の世代）は、同様に完全に機能的で商業的な
量だけ製造され販売される第３世代複製を鋳造するため
の複製マスタとなる。よって、すべての奇数世代の複製
は反転した位相幾何配列を有する。
置によって形成してもよい。たとえば、マスタ格子は刻
線機械によってアルミニウム基板内でバニシング（研
磨）仕上げしてもよい。このような格子は、溝を形成す
る場合に変位する材料が外側溝の頂点上に蓄積し、内側
溝の頂点は刻線機械によって鋭角に形成されるので、通
常直接回折には役立たない。典型的には、金属化（第１
の世代）鋳込みは完全に機能的な反転した位相幾何学的
配列を持つように製造される。このため、次の金属化鋳
込み（第２の世代）は、同様に完全に機能的で商業的な
量だけ製造され販売される第３世代複製を鋳造するため
の複製マスタとなる。よって、すべての奇数世代の複製
は反転した位相幾何配列を有する。
【００３５】本発明にかかるエシェル格子の効果は、用
いようとする入射角、好ましくはαが約α＝７９．３６
°の１度以内で格子に入射する６３２．８ナノメータの
光を放射する公知のヘリウム−ネオン（ＨｅＮｅ）レー
ザーを用いることにより公知の技術で平坦度試験が容易
に行えるという点にある。上述の説明から、２つの異な
る向上したリトローブレーズ次数が２つの異なる波長の
レーザーが放射する入射光について維持されるような、
改良形エシェル回折格子およびこのような格子の幾何学
的配置パラメータを決定する方法が提供されたことは明
らかであろう。本発明に従って、本文で説明した格子の
変更や変形は当業者であれば確実に思いつくであろう。
従って、先の説明は例証であり本発明を限定する意味の
ものではないと理解されるべきである。
いようとする入射角、好ましくはαが約α＝７９．３６
°の１度以内で格子に入射する６３２．８ナノメータの
光を放射する公知のヘリウム−ネオン（ＨｅＮｅ）レー
ザーを用いることにより公知の技術で平坦度試験が容易
に行えるという点にある。上述の説明から、２つの異な
る向上したリトローブレーズ次数が２つの異なる波長の
レーザーが放射する入射光について維持されるような、
改良形エシェル回折格子およびこのような格子の幾何学
的配置パラメータを決定する方法が提供されたことは明
らかであろう。本発明に従って、本文で説明した格子の
変更や変形は当業者であれば確実に思いつくであろう。
従って、先の説明は例証であり本発明を限定する意味の
ものではないと理解されるべきである。
【００３６】
【発明の効果】製造が非常に困難であり、且つ非常に時
間のかかる刻線作業であるにもかかわらず、２つの異な
る回折次数の２つの異なる波長で放射されるレーザー光
のブレーズ回折を向上させることができる改良型エシェ
ル回折格子が得られるものである。
間のかかる刻線作業であるにもかかわらず、２つの異な
る回折次数の２つの異なる波長で放射されるレーザー光
のブレーズ回折を向上させることができる改良型エシェ
ル回折格子が得られるものである。
【００３７】また、ＫｒＦエキシマレーザーとＡｒＦエ
キシマレーザーからの光のブレーズ回折を向上させるこ
とが可能になった。
キシマレーザーからの光のブレーズ回折を向上させるこ
とが可能になった。
【００３８】更に、２つの異なる回折次数の２つの異な
る波長で放射されるレーザー光のブレーズ回折を向上さ
せることができるエシェル回折格子において最適な溝間
隔と溝ファセット角を決定するための改良された方法が
可能になった。
る波長で放射されるレーザー光のブレーズ回折を向上さ
せることができるエシェル回折格子において最適な溝間
隔と溝ファセット角を決定するための改良された方法が
可能になった。
【図１】図１は、本発明に係る線形三角回折格子の断面
図である。
図である。
【図２】図２は、本発明に係るエシェル回折格子の断面
図である。
図である。
【図３】図３は、従来の１ミリあたり８３．１４個の溝
を持つエシェル格子によって回折される場合、１９３．
３ｎｍの光を放射するＡｒＦエキシマレーザーのブレー
ズ次数１２２について算出される、溝ファセット角に対
する回折効率を示すグラフである。
を持つエシェル格子によって回折される場合、１９３．
３ｎｍの光を放射するＡｒＦエキシマレーザーのブレー
ズ次数１２２について算出される、溝ファセット角に対
する回折効率を示すグラフである。
【図４】図４は、従来の１ミリあたり８３．１４個の溝
を持つエシェル格子によって回折される場合、２４８．
４ｎｍの光を放射するＫｒＦエキシマレーザーのブレー
ズ次数９５について算出される、溝ファセット角に対す
る回折効率を示すグラフである。
を持つエシェル格子によって回折される場合、２４８．
４ｎｍの光を放射するＫｒＦエキシマレーザーのブレー
ズ次数９５について算出される、溝ファセット角に対す
る回折効率を示すグラフである。
【図５】図５は、本発明に係るエシェル格子における回
折効率を示すグラフである。特に、１ミリあたり９４．
１３個の溝を持つ格子によって回折される場合にブレー
ズ次数が向上するエシェル格子における、図３に示され
るグラフと同様なグラフである。
折効率を示すグラフである。特に、１ミリあたり９４．
１３個の溝を持つ格子によって回折される場合にブレー
ズ次数が向上するエシェル格子における、図３に示され
るグラフと同様なグラフである。
【図６】図６は、本発明に係るエシェル格子における回
折効率を示すグラフである。特に、１ミリあたり９４．
１３個の溝を持つ格子によって回折される場合にブレー
ズ次数が向上する本発明にかかるエシェル格子におけ
る、図４に示されるグラフと同様なグラフである。
折効率を示すグラフである。特に、１ミリあたり９４．
１３個の溝を持つ格子によって回折される場合にブレー
ズ次数が向上する本発明にかかるエシェル格子におけ
る、図４に示されるグラフと同様なグラフである。
【図７】図７は、θＡｒＦ＜θＫｒＦ条件の場合に算出
される、相対的なブレーズ角に対する次数ｍ１のプロッ
ト図である。
される、相対的なブレーズ角に対する次数ｍ１のプロッ
ト図である。
【図８】図８は、θＡｒＦ＞θＫｒＦ条件の場合に算出
される、相対的なブレーズ角に対する次数ｍ１のプロッ
ト図である。
される、相対的なブレーズ角に対する次数ｍ１のプロッ
ト図である。
【図９】本発明の方法の工程に従って算出したｍ１、ｍ
２、ｆ およびθＢλ１――θ Ｂλ２ （回転角の差）の
値が示されている。
２、ｆ およびθＢλ１――θ Ｂλ２ （回転角の差）の
値が示されている。
１０ 線形三角溝反射型回折格子 １２ スラブ体 １４ 基準面／裏面 １６ 三角溝 １７ 開光頂角 １８ ファセット １９ 交差 ２０ ファセット ２２ 光ビーム ２４ 格子法線 ２６ ファセット法線 ２８ 矢印 ３０ エシェル格子
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 セムヨン エル ゼレズニヤク アメリカ合衆国 ニューヨーク州 14526 ペンフィールド ブレメン サークル 15
Claims (16)
- 【請求項１】 第１と第２のファセットの交差によって
形成される三角溝の配列を有する平面反射型回折格子で
あって、前記ファセットは、所定の角度で前記平面に傾
斜しており、かつ前記配置は、異なる伝播次数を持つ２
つの異なる波長のレーザー放射光について、ブレーズさ
れる次数がそれぞれ向上するように最も高次の伝播回折
次数は各波長でブレーズされ、次に高次の伝播回折次数
は伝播しないような周期性を持つことを特徴とする平面
反射型回折格子。 - 【請求項２】 前記格子はエシェル格子であることを特
徴とする請求項１記載の格子。 - 【請求項３】 前記ブレーズされる次数は５０より大き
いことを特徴とする請求項１記載の格子。 - 【請求項４】 前記格子は約２から約６の間のｒ値を持
つことを特徴とする請求項１記載の格子。 - 【請求項５】 頂点開光角度は約８０°から約９０°の
間であることを特徴とする請求項１記載の格子。 - 【請求項６】 前記第１と第２のファセットのうち１つ
は前記ファセットの他方より短く、前記第１と第２のフ
ァセットのうち短いファセットと前記格子平面とのなす
角は約７５°から約８５°の間であることを特徴とする
請求項１記載の格子。． - 【請求項７】 前記ファセット角は約７８°から８１°
の間であることを特徴とする請求項６記載の格子。 - 【請求項８】 前記溝の頻度は溝が１マイクロメータあ
たり約０．０８３から約０．１０７個の間であることを
特徴とする請求項１記載の格子。 - 【請求項９】 前記頻度は溝が１マイクロメータあたり
約０．０９３から約０．０９５個の間であることを特徴
とする請求項８記載の格子。 - 【請求項１０】 ２つの異なる波長の前記光の少なくと
も１つは、クリプトン−フッ素エキシマレーザーによっ
て放射されることを特徴とする請求項１記載の格子。 - 【請求項１１】 ２つの異なる波長の前記光の少なくと
も１つは、アルゴン−フッ素エキシマレーザーによって
放射されることを特徴とする請求項１記載の格子。 - 【請求項１２】 波長１９３．３ナノメータの場合に向
上するブレーズ次数は１０８であり、波長２４８．４ナ
ノメータの場合に向上するブレーズ次数は８４であるこ
とを特徴とする請求項１記載の格子。 - 【請求項１３】 前記格子は、用いようとする入射ビー
ム角の１度以内の入射ビーム角での表面平坦度の検査に
好適であり、前記入射ビームの波長は６３２．８ナノメ
ータであることを特徴とする請求項１記載の格子。 - 【請求項１４】 ２つの異なる波長のレーザー放射光を
向上したブレーズ次数で回折するための平面反射型エシ
ェル回折格子であって、 ａ）溝の頻度は、溝が１マイクロメータあたり約０．０
９４１３個であり、 ｂ）ファセット角が前記格子の平面から測定すると約８
０°であり、 ｃ）溝の頂点開光角が約８５°である平面反射型エシェ
ル回折格子。 - 【請求項１５】 それぞれ第１と第２の向上したブレー
ズ回折角度θＢλ １とθＢλ２で第１と第２の波長λ１
とλ２のレーザー放射光を回折するためにリトロー配向
内で用いられるエシェル回折格子を形成する方法であっ
て、 ａ）前記第１と第２の波長のうち短い方の波長につい
て、約７５°から約８５°の間でファセット角を選択
し、約８０°から９０°の間で頂角を選択し、λ１を前
記第１と第２の波長のうち短い方の波長に指定する工程
と、 ｂ）前記短い方の波長について、整数次数ｍ１の範囲を
選択する工程と、 ｃ）θＢλ１／θＢλ２の比がほとんど１．０であるよ
うな前記範囲において値ｍ１とｍ２を決定する工程と、 ｄ）次に高次の次数は伝播しないような等式ｆ＝１／
｛（ｍ１＋１）λ１ −ｍ１λ１／２｝に従って各次数
ｍ１における溝頻度ｆについての値を決定する工程と、 ｅ）前記回折角θＢλ１とθＢλ２との間でもっとも小
さい正の差を生じさせる前記溝頻度ｆの値を選択する工
程と、 ｆ）ファセット角、頂角、溝頻度について前記選択され
た値に従って、格子マスタを形成するために格子基板に
刻線する工程とを備える方法。 - 【請求項１６】 前記決定した頻度ｆの値にバイアス定
数を加える工程をさらに具備することを特徴とする請求
項１４記載の方法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US09/219,031 US6067197A (en) | 1998-12-23 | 1998-12-23 | Difraction grating having enhanced blaze performance at two wavelengths |
| US219031 | 1998-12-23 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000214315A true JP2000214315A (ja) | 2000-08-04 |
| JP3673686B2 JP3673686B2 (ja) | 2005-07-20 |
Family
ID=22817535
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP36644199A Expired - Lifetime JP3673686B2 (ja) | 1998-12-23 | 1999-12-24 | ２つの波長における向上したブレーズ性能を有する回折格子 |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US6067197A (ja) |
| JP (1) | JP3673686B2 (ja) |
| DE (1) | DE19958211B4 (ja) |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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| JP2012189784A (ja) * | 2011-03-10 | 2012-10-04 | Canon Inc | 回折格子の製造方法 |
| JP2013092754A (ja) * | 2011-10-06 | 2013-05-16 | Canon Inc | エシェル型回折格子およびその製造方法、エキシマレーザおよびその製造方法 |
| JP2013092756A (ja) * | 2011-10-06 | 2013-05-16 | Canon Inc | エシェル型回折格子、エキシマレーザ、エシェル型回折格子の製造方法、ＡｒＦエキシマレーザ |
| JP2015169861A (ja) * | 2014-03-10 | 2015-09-28 | キヤノン株式会社 | 回折格子、レーザ装置、および回折格子の製造方法 |
| JP2018139300A (ja) * | 2018-04-09 | 2018-09-06 | キヤノン株式会社 | レーザ装置、および分光方法 |
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| JP2018139300A (ja) * | 2018-04-09 | 2018-09-06 | キヤノン株式会社 | レーザ装置、および分光方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3673686B2 (ja) | 2005-07-20 |
| DE19958211A1 (de) | 2000-08-24 |
| US6067197A (en) | 2000-05-23 |
| DE19958211B4 (de) | 2010-12-02 |
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Legal Events
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| A602 | Written permission of extension of time |
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|
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| A131 | Notification of reasons for refusal |
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| A521 | Request for written amendment filed |
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|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
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|
| A521 | Request for written amendment filed |
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| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
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|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
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| R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
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|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090428 Year of fee payment: 4 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090428 Year of fee payment: 4 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100428 Year of fee payment: 5 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100428 Year of fee payment: 5 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110428 Year of fee payment: 6 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120428 Year of fee payment: 7 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
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|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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|
| R250 | Receipt of annual fees |
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|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130428 Year of fee payment: 8 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140428 Year of fee payment: 9 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
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| R250 | Receipt of annual fees |
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| R250 | Receipt of annual fees |
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| R250 | Receipt of annual fees |
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| R250 | Receipt of annual fees |
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| R250 | Receipt of annual fees |
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| R250 | Receipt of annual fees |
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