JP2000211911A - ホスゲンの製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 含有不純物（四塩化炭素、塩素分子等）の少
ないホスゲンを効率良く製造する方法を提供する。 【解決手段】 一酸化炭素と塩素を反応させてホスゲン
を製造する方法において、活性炭の総比表面積の異なる
多段反応槽を用いることを特徴とするホスゲンの製造方
法。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、含有不純物（四塩
化炭素、塩素分子等）の少ないホスゲンを効率良く製造
する方法に関する。更に詳しくは活性炭の総比表面積の
異なる多段反応槽の総比表面積の一番小さい槽から一酸
化炭素（以下、ＣＯと略称することがある。）と塩素
（以下、Ｃｌ２と略称することがある。）を通気させる
方法によって、含有不純物の少ないホスゲンを製造する
方法を提供するものである。

【０００２】

【従来の技術】従来から、ホスゲンは医薬分野、染料分
野、ポリカーボネート樹脂・ウレタン樹脂・エポキシ樹
脂等プラスチック分野等各種分野の原料として多用され
ている。このホスゲンの製造は反応熱を除去するための
機能を有し、活性炭触媒を充填した反応槽に一酸化炭素
／塩素（以下、ＣＯ／Ｃｌ２と略称することがある。）
のモル比を１．０００〜１．０１８で通気して反応せし
めて、得られたホスゲンを凝縮器で凝縮せしめて液化ホ
スゲンを得る。凝縮器を出た残余のＣＯ及び未凝縮のホ
スゲンガスはホスゲン中和塔（吸収塔）を経て放出され
る。この中和塔（吸収塔）には活性炭またはラシヒリン
グを充填した塔が使用され、これにか性ソーダ水溶液を
通してホスゲンを分解する方法が一般的に採用されてい
る。この方法によって得られたホスゲンは不純物として
四塩化炭素１００〜２５０ｐｐｍ、塩素分子数千〜数万
ｐｐｐｍと多量に含有し色相も悪い。また、このホスゲ
ンを原料として製造された製品は良品質のものが得られ
ない等のことから、このホスゲン中の四塩化炭素や塩素
分子を少なくする方法が提案されている。

【０００３】例えば、特公昭５５−１４０４４号公報に
おいてはＣＯ／Ｃｌ２のモル比を１．０００程度で反応
せしめて、四塩化炭素含有量２５０ｐｐｍ程度のホスゲ
ンを製造する方法、特開昭６２−２９７３２０号公報に
おいて四塩化炭素５００ｐｐｍ含有するホスゲンを蒸留
してホスゲン中の四塩化炭素５ｐｐｍにする方法や特開
平１０−２２６７２４号公報においては塩素分子含有量
５００〜１００００ｐｐｍのホスゲンを活性炭吸着する
方法によってにホスゲン中の塩素分子が除去する方法が
開示されている。しかし、何れの方法においても四塩化
炭素と塩素分子含有量を各々単独で低減する方法であっ
て、両者を同時に効率よく低減することはできなかっ
た。また、蒸留で残った四塩化炭素の処理や塩素分子を
吸着した活性炭を処理することが必須になり経済的にも
負担が多く、地球環境への負荷も大きい。即ち、この様
な不純物（四塩化炭素や塩素分子）の発生の少ない新し
いホスゲンの製造方法が望まれていた。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】本発明者らは、上記課
題を解決すべく鋭意検討した結果、驚くべきことに、Ｃ
ＯとＣｌ２を反応せしめてホスゲンを製造する方法にお
いて、活性炭の総比表面積の異なる多段反応槽を用い、
総比表面積の小さい反応槽から順に通気して反応せしめ
ることによって含有不純物が少なくなることを見出し
た。また、未凝縮ガス中に含まれる余剰ＣＯをホスゲン
の原料としてリサイクルすることによってＣＯの原単位
が向上すると共に未凝縮ホスゲンの中和設備を極小化で
き、また、か性アルカリの使用量も少なくでき、しかも
ＣＯリサイクルなしと同等の品質のホスゲンが得られ
る。更に、金属アンチモンや活性炭を充填した槽を通気
または通液する方法で塩素分子１０ｐｐｂ以下まで効率
的に少なくせしめることができることを究明し、本発明
を完成した。

【０００５】

【課題を解決するための手段】本発明の目的は、四塩化
炭素、塩素分子含有量の少ないホスゲンを効率良く製造
する方法を提供するものである。即ち、本発明は、一酸
化炭素と塩素を反応させてホスゲンを製造する方法にお
いて、活性炭の総比表面積の異なる多段反応槽を用いる
ことを特徴とするホスゲンの製造方法によって達成され
る。

【０００６】以下、本発明を更に詳細に説明する。本発
明のホスゲンの製造に用いるＣＯは露点−５℃以下、好
ましくは−３０℃以下、且つ硫黄成分が少なく、純度が
高い程好ましい。露点−５℃以下、硫黄成分５ｐｐｍ以
下のＣＯを得る方法は１例として、コークスと酸素を反
応させて得られたＣＯをか性アルカリ水溶液と向流接触
せしめ後、このＣＯを熱交換器を用いて５℃程度に冷却
せしめ、次に活性アルミナ充填槽を通気せしめる方法に
よって効率的に得られる。また、この方法によればＣＯ
中の炭酸ガスの含有量も極めて少なくすることができ
る。

【０００７】本発明のホスゲンはＣＯとＣｌ２とを反応
させる方法において、活性炭の総比表面積の異なる多段
反応槽と、多段反応槽の最終反応槽の後に−５〜−２５
℃のブラインを通液したコンデンサーと液化ホスゲン貯
槽及び未凝縮ホスゲン中和装置を直列に接続した構成が
挙げられ、多段反応槽の第１槽からＣＯとＣｌ２を通
気、反応させて得られる。

【０００８】この多段反応槽は反応熱を除去する機能を
有した装置であり、２〜１０段が好ましく、２〜６段が
より好ましく、３〜５段が更に好ましい。第１反応槽の
活性炭の総比表面積は反応槽１槽のみでホスゲンを製造
する方法の活性炭の最低必要総比表面積に対し１０〜６
０％に、第２反応槽以降の活性炭の総比表面積は総比表
面積は反応槽１槽のみでホスゲンを製造する方法の活性
炭の最低必要総比表面積に対し、１０〜１００％がよい
が、各反応槽の活性炭の総比表面積は最終反応槽より総
比表面積を小さくすることが望ましく、その反応槽４段
の１例として、第１反応槽の活性炭の総比表面積は第４
反応槽の総比表面積に対し１０〜６０％程度、第２反応
槽のは第４反応槽の総比表面積に対し２０〜７０％程
度、第３反応槽の活性炭の総比表面積は第４反応槽の総
比表面積に対し２０〜８０％程度とし、全反応槽の活性
炭の総比表面積合計は反応槽１槽のみでホスゲンを製造
する方法の活性炭の最低必要総比表面積に対し１．１〜
５倍程度が好ましく、１．１〜３倍程度がより好まし
い。全反応槽の活性炭の総比表面積合計が１倍以下の場
合はホスゲン中の塩素分子が多くなり、５倍以上になる
と品質的には問題ないが、装置が極大化するので好まし
くない。

【０００９】反応槽内の活性炭の総比表面積は一例とし
て活性炭と陶磁器製、ガラス製、金属製等のビーズやラ
シヒリングとの混合比を変える方法や比表面積の異なる
活性炭を用いる方法で調整できる。

【００１０】ＣＯとＣｌ２はＣＯ／Ｃｌ２のモル比が
１．０２０以上になるように第１反応槽から通気するこ
とが好ましい。ＣＯ／Ｃｌ２のモル比は高い方が塩素分
子含有量少なくできるがＣＯ／Ｃｌ２のモル比が高過ぎ
ると収率が低下すると共にホスゲン中和塔が極大化す
る。また、余剰のＣＯをリサイクルする方法において余
剰のＣＯリサイクル量が多くなるので好ましくない。ま
た、ＣＯ／Ｃｌ２のモル比が１．０２０未満では塩素分
子含有量が多くなりホスゲンの色相が悪くなるので、Ｃ
Ｏ／Ｃｌ２のモル比は１．０２０〜１．１５０の範囲が
好ましく、１．０２０〜１．０８０の範囲がより好まし
く、１．０３０〜１．０６０の範囲が更に好ましく、
１．０３０〜１．０４５の範囲が最も好ましい。

【００１１】本発明の余剰のＣＯをリサイクルする方法
は、上述した装置の構成において、液化ホスゲン貯槽の
出口のガスを直接第１反応槽入口から最終反応槽の何れ
かに投入する方法またはホスゲン中和塔出口のガスを冷
却したり、シリカゲル、塩化カルシュウム、活性アルミ
ナ等で除湿して第１反応槽入口から最終反応槽の何れか
に投入する方法によって行える。

【００１２】更に塩素分子含有量を１０ｐｐｂ以下まで
効率良く低くする方法は反応熱を除去する機能を有した
金属アンチモン充填槽をホスゲンの最終反応槽の後に、
または液化ホスゲン貯槽の後に付設しする。この金属ア
ンチモン槽に本発明で得られたホスゲンを通気または通
液することによって塩素を低減することができる。ま
た、活性炭充填槽を液化ホスゲン貯槽の後に付設し、こ
の活性炭充填槽に液化ホスゲンを通液する方法等によっ
て達成できるが、金属アンチモン槽が最も好ましい。ま
た、更に四塩化炭素含有量を５ｐｐｍ以下まで低くする
方法は本発明で得られたホスゲンを多段蒸留装置や充填
塔蒸留装置を用いて蒸留することによって得られる。

【００１３】本発明の方法で得られたホスゲンは、品質
に優れているので、ポリカーボネート樹脂やイソシアネ
ート及び染料・医薬品等の原料に用いると極めて品質の
良い製品が得られる。特にポリカーボネート樹脂の製造
に好適に用いることができる。特に本発明のホスゲンを
用いて製造したポリカーボネート樹脂は色相等品質に優
れているので広範囲の分野、特に光学分野に用いれば効
果も顕著に表れる。

【００１４】かかるポリカーボネート樹脂は通常二価フ
ェノールとホスゲンとを溶液法で反応させて得られるも
のである。ここで使用される二価フェノールの代表的な
例としては、ハイドロキノン、レゾルシノール、４，
４’−ジヒドロキシジフェニル、ビス（４−ヒドロキシ
フェニル）メタン、ビス｛（４−ヒドロキシ−３，５−
ジメチル）フェニル｝メタン、１，１−ビス（４−ヒド
ロキシフェニル）エタン、１，１−ビス（４−ヒドロキ
シフェニル）−１−フェニルエタン、２，２−ビス（４
−ヒドロキシフェニル）プロパン（通称ビスフェノール
Ａ）、２，２−ビス｛（４−ヒドロキシ−３−メチル）
フェニル｝プロパン、２，２−ビス｛（４−ヒドロキシ
−３，５−ジメチル）フェニル｝プロパン、２，２−ビ
ス｛（３，５−ジブロモ−４−ヒドロキシ）フェニル｝
プロパン、２，２−ビス｛（３−イソプロピル−４−ヒ
ドロキシ）フェニル｝プロパン、２，２−ビス｛（４−
ヒドロキシ−３−フェニル）フェニル｝プロパン、２，
２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）ブタン、２，２−
ビス（４−ヒドロキシフェニル）−３−メチルブタン、
２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−３，３−ジ
メチルブタン、２，４−ビス（４−ヒドロキシフェニ
ル）−２−メチルブタン、２，２−ビス（４−ヒドロキ
シフェニル）ペンタン、２，２−ビス（４−ヒドロキシ
フェニル）−４−メチルペンタン、１，１−ビス（４−
ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン、１，１−ビス
（４−ヒドロキシフェニル）−４−イソプロピルシクロ
ヘキサン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−
３，３，５−トリメチルシクロヘキサン、９，９−ビス
（４−ヒドロキシフェニル）フルオレン、９，９−ビス
｛（４−ヒドロキシ−３−メチル）フェニル｝フルオレ
ン、α，α’−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−ｏ−
ジイソプロピルベンゼン、α，α’−ビス（４−ヒドロ
キシフェニル）−ｍ−ジイソプロピルベンゼン、α，
α’−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−ｐ−ジイソプ
ロピルベンゼン、１，３−ビス（４−ヒドロキシフェニ
ル）−５，７−ジメチルアダマンタン、４，４’−ジヒ
ドロキシジフェニルスルホン、４，４’−ジヒドロキシ
ジフェニルスルホキシド、４，４’−ジヒドロキシジフ
ェニルスルフィド、４，４’−ジヒドロキシジフェニル
ケトン、４，４’−ジヒドロキシジフェニルエーテルお
よび４，４’−ジヒドロキシジフェニルエステル等があ
げられ、これらは単独または２種以上を混合して使用で
きる。

【００１５】なかでもビスフェノールＡ、２，２−ビス
｛（４−ヒドロキシ−３−メチル）フェニル｝プロパ
ン、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）ブタン、
２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−３−メチル
ブタン、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−
３，３−ジメチルブタン、２，２−ビス（４−ヒドロキ
シフェニル）−４−メチルペンタン、１，１−ビス（４
−ヒドロキシフェニル）−３，３，５−トリメチルシク
ロヘキサンおよびα，α’−ビス（４−ヒドロキシフェ
ニル）−ｍ−ジイソプロピルベンゼンからなる群より選
ばれた少なくとも１種の二価フェノールより得られる単
独重合体または共重合体が好ましく、特に、ビスフェノ
ールＡの単独重合体および１，１−ビス（４−ヒドロキ
シフェニル）−３，３，５−トリメチルシクロヘキサン
とビスフェノールＡ、２，２−ビス｛（４−ヒドロキシ
−３−メチル）フェニル｝プロパンまたはα，α’−ビ
ス（４−ヒドロキシフェニル）−ｍ−ジイソプロピルベ
ンゼンとの共重合体が好ましく使用される。

【００１６】上記二価フェノールとホスゲンを溶液法に
よって反応させてポリカーボネート樹脂を製造するに当
っては、必要に応じて触媒、末端停止剤、二価フェノー
ルの酸化防止剤等を使用する。またポリカーボネート樹
脂は三官能以上の多官能性芳香族化合物を共重合した分
岐ポリカーボネート樹脂にすることもできる。

【００１７】二価フェノールとホスゲンとの反応には、
酸結合剤および有機溶媒の存在させる。酸結合剤として
は、例えば水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等のアル
カリ金属水酸化物またはピリジン等のアミン化合物が用
いられる。有機溶媒としては、例えば塩化メチレン、ク
ロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素が用いられる。ま
た、反応促進のために例えばトリエチルアミン、テトラ
−ｎ−ブチルアンモニウムブロマイド、テトラ−ｎ−ブ
チルホスホニウムブロマイド等の第三級アミン、第四級
アンモニウム化合物、第四級ホスホニウム化合物等の触
媒を用いることもできる。その際、反応温度は通常０〜
４０℃、反応時間は１０分〜５時間程度、反応中のｐＨ
は９以上に保つのが好ましい。

【００１８】また、かかる重合反応において、通常末端
停止剤が使用される。かかる末端停止剤として単官能フ
ェノール類を使用することができる。単官能フェノール
類は末端停止剤として分子量調節のために一般的に使用
され、また得られたポリカーボネート樹脂は、末端が単
官能フェノール類に基づく基によって封鎖されているの
で、そうでないものと比べて熱安定性に優れている。か
かる単官能フェノール類としては、一般にはフェノール
又は低級アルキル置換フェノールであって、下記一般式
（１）で表される単官能フェノール類を示すことができ
る。

【００１９】

【化１】

【００２０】［式中、Ａは水素原子、炭素数１〜９の直
鎖又は分岐のアルキル基、或いはフェニル基置換アルキ
ル基であり、ｒは１〜５、好ましくは１〜３の整数であ
る。］

【００２１】上記単官能フェノール類の具体例として
は、例えばフェノール、ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノー
ル、ｐ−クミルフェノールおよびイソオクチルフェノー
ル等１ケの水酸基を有するフェノール化合物がが挙げら
れる。

【００２２】また、他の単官能フェノール類としては、
長鎖のアルキル基あるいは脂肪族ポリエステル基を置換
基として有するフェノール類または安息香酸クロライド
類、もしくは長鎖のアルキルカルボン酸クロライド類を
使用することができ、これらを用いてポリカーボネート
共重合体の末端を封鎖すると、これらは末端停止剤また
は分子量調節剤として機能するのみならず、樹脂の溶融
流動性が改良され、成形加工が容易になるばかりでな
く、基板としての物性、特に樹脂の吸水率を低くする効
果があり、また、基板の複屈折が低減される効果もあり
好ましく使用される。なかでも、下記一般式（２）およ
び（３）で表される長鎖のアルキル基を置換基として有
するフェノール類が好ましく使用される。

【００２３】

【化２】

【００２４】

【化３】

【００２５】［式中、Ｘは−Ｒ−Ｏ−、−Ｒ−ＣＯ−Ｏ
−または−Ｒ−Ｏ−ＣＯ−である、ここでＲは単結合ま
たは炭素数１〜１０、好ましくは１〜５の二価の脂肪族
炭化水素基を示し、ｎは１０〜５０の整数を示す。］

【００２６】かかる式（２）の置換フェノール類として
はｎが１０〜３０、特に１０〜２６のものが好ましく、
その具体例としては例えばデシルフェノール、ドデシル
フェノール、テトラデシルフェノール、ヘキサデシルフ
ェノール、オクタデシルフェノール、エイコシルフェノ
ール、ドコシルフェノール及びトリアコンチルフェノー
ル等を挙げることができる。

【００２７】このようにして縮重合反応によって得られ
るポリカーボネート溶液は電解物質が無くなるまで有機
相を洗浄し、最終的には有機相から溶媒を除去して、粒
状体、フレーク等の固形物とし、この固形物を乾燥して
ポリカーボネート樹脂が得られるが一般的には乾燥した
固形物を溶融押出しし、ペレット化した物を成形用に好
ましく供される。

【００２８】成形用に供されるポリカーボネート樹脂の
粘度平均分子量は１０，０００〜１００，０００程度で
あり、好ましくは１１，０００〜４５，０００程度であ
り、光ディスク用のポリカーボネート樹脂の分子量は、
粘度平均分子量で１０,０００〜２２,０００が好まし
く、１２,０００〜２０,０００がより好ましく、１３,
０００〜１８,０００が特に好ましい。かかる粘度平均
分子量を有するポリカーボネート樹脂は、光学用材料と
して十分な強度が得られ、また、成形時の溶融流動性も
良好であり成形歪みが発生せず好ましい。

【００２９】シリコンウエハー等の精密機材収納容器に
用いられるポリカーボネート樹脂の分子量は、粘度平均
分子量で１４，０００〜３０，０００が好ましく、１
４，５００〜２５，０００がより好ましく、１５，００
０〜２４，０００がさらに好ましい。かかる粘度平均分
子量を有する芳香族ポリカーボネート樹脂は、一定の機
械的強度を有し成形時の流動性も良好であり好ましい。

【００３０】上記ポリカーボネート樹脂に離型剤、帯電
防止剤、増白剤、熱安定剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤
（耐候剤）、抗菌剤等の改質改良剤を適宜添加して用い
ることができる。

【００３１】

【実施例】以下実施例に従って、本発明を具体的に説明
するが本発明の要旨を越えない限り、これらの実施例に
よって限定されるものではない。

【００３２】（１）ＣＯ中の硫黄含有量 ガスクロマトグラフ装置（日立製作所製）にＣＯを注入
し測定した。

【００３３】（２）露点の測定 露点計（桜測器（株）製ＷＴＹ１８０）を用いて測定し
た。

【００３４】（３）ホスゲン中の四塩化炭素含有量の測
定 得られた液化ホスゲン１μｌを電子捕獲型検出器付きガ
スクロマトグラフ装置（日立製作所製２６３型）に注入
し測定した。

【００３５】（４）ホスゲン中の塩素分子含有量の測定 得られた液化ホスゲンを１００ｇサンプリングし、これ
を気化させて、ＮａＯＨ溶液に吸収させて、ＮａＣｌＯ
として酸化還元滴定しその絶対量を測定して、ホスゲン
中の塩素分子含有量とした。

【００３６】（５）ホスゲンの色相 得られた液化ホスゲンをサンプリングし、ＪＩＳＫ６９
０１のハーゼン色数法で評価した。

【００３７】（６）ＣＯ中の硫黄含有量 ガスクロマトグラフ装置（日立製作所製）にＣＯを注入
し測定した。

【００３８】（７）腐蝕評価 １００ｍｌのねじ口透明ビンに得られた液化ホスゲン１
００ｇをサンプリングし、鏡面仕上げしたＳＵＳ３０４
のテストピースを浸積させて密栓し、その容器を−１５
℃の冷凍庫に保管し、１０日毎に腐蝕の有無を確認し１
００日で終了した。

【００３９】［比較例１］反応熱を除去する機能を有し
た多管式反応槽のシェル側に１０℃の冷水を通水し、チ
ューブ側に活性炭５０ｋｇを充填した反応槽の後に−２
５℃のブラインを通液したコンデンサーと重量測定装置
を付設した液化ホスゲン貯槽を設け、これらの装置を直
列に接続し、反応槽から、ＣＯ／Ｃｌ２のモル比１．０
１８になるようにＣＯを１０．１８Ｎｍ³／ＨｒとＣｌ
２を１０．００Ｎｍ³／Ｈｒ通気して液化ホスゲン１０
０ｋｇ得た。このホスゲン中の四塩化炭素含有量１５０
ｐｐｍ、塩素分子含有量５０００ｐｐｂであった。

【００４０】［実施例１］コークスと酸素を反応させて
得られたＣＯをか性ソーダ水溶液と向流接触せしめた
後、熱交換器を用いて５℃に冷却せしめ、次に活性アル
ミナ充填槽を通気させて、硫黄化合物０．５ｐｐｍ、露
点−３０℃のＣＯを得た。このＣＯを用いて次の方法で
ホスゲンを製造した。

【００４１】ホスゲンの製造は、反応熱を除去する機能
を有した多管式反応槽のシェル側に１０℃の冷水を通水
し、チューブ側に活性炭１５ｋｇと直径３ｍｍのガラス
玉の混合物を充填した第１反応槽、多管式反応槽のシェ
ル側に１０℃の冷水を通水し、チューブ側に活性炭２５
ｋｇと直径３ｍｍのガラス玉の混合物を充填した第２反
応槽、多管式反応槽のシェル側に１０℃の冷水を通水
し、チューブ側に活性炭３５ｋｇと直径３ｍｍのガラス
玉の混合物を充填した第３反応槽、多管式反応槽のシェ
ル側に１０℃の冷水を通水し、チューブ側に活性炭５０
ｋｇ充填した第４反応槽、（４基とも同じ容積）と第４
反応槽の後に−２０℃のブラインを通液したコンデンサ
ーと液化ホスゲン貯槽及び未凝縮ホスゲン中和装置を設
け、これらの装置を直列に接続し第１反応槽下部からＣ
Ｏ／Ｃｌ２のモル比が１．０４０になるようにＣＯを１
０．４０Ｎｍ³／ＨｒとＣｌ２を１０．００Ｎｍ³／Ｈｒ
通気して液化ホスゲンを得た。該ホスゲン中の四塩化炭
素３５ｐｐｍ、塩素分子８５ｐｐｂであり、色相は無色
透明であった。

【００４２】次に、かかるホスゲンを用いてポリカーボ
ネート樹脂を製造した。温度計、撹拌機及び還流冷却器
付き反応器にイオン交換水２１９．４部、４８％水酸化
ナトリウム水溶液４０．２部を仕込み、これに２，２−
ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパン５７．５部
（０．２５２モル）およびハイドロサルファイト０．１
２部を溶解した後、塩化メチレン１８１部を加え、撹拌
下１５〜２５℃で上記ホスゲン２８．３部を４０分要し
て吹込んだ。ホスゲン吹き込み終了後、４８％水酸化ナ
トリウム水溶液７．２部およびｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフ
ェノール２．４２部を加え、撹拌を始め、乳化後トリエ
チルアミン０．０６部を加え、さらに２８〜３３℃で１
時間撹拌して反応を終了した。反応終了後生成物を塩化
メチレンで希釈して水洗した後塩酸酸性にして水洗し、
水相の導電率がイオン交換水と殆ど同じになったところ
で、軸受け部に異物取出口を有する隔離室を設けたニー
ダーにて塩化メチレンを蒸発して、粘度平均分子量１
５，１００のポリカーボネート樹脂パウダーを得た。こ
のパウダーを１４５℃、６時間乾燥し、トリス（２，４
−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ホスファイトを０．
００４重量％、ステアリン酸モノグリセリドを０．０６
重量％加えた。次に、かかるパウダーをベント式二軸押
出機［神戸製鋼（株）製ＫＴＸ−４６］によりシリンダ
ー温度２４０℃、ベントガス吸引度−５ｍｍＨｇで脱気
しながら溶融混練し、ペレットを得た。このペレットは
ＡＳＴＭ−Ｅ１９２５に準じて測定したＹＩ値が０．９
２で、比較例１のホスゲンを用いて実施例１と同様に製
造したポリカーボネート樹脂よりもＹＩが約１低く、色
相に優れていた。

【００４３】［実施例２］ホスゲンを製造するにおい
て、ＣＯとＣｌ２を第２反応槽から投入する方法に変更
した以外は実施例１と同じ方法で行った。該ホスゲン中
の四塩化炭素５０ｐｐｍ、塩素分子９０ｐｐｂであり、
色相は無色透明であった。

【００４４】［実施例３］ホスゲンを製造するにおい
て、ＣＯ１０．４０Ｎｍ³／ＨｒとＣｌ２ガス１０．０
０Ｎｍ³／Ｈｒ第１反応槽下部から通気し、液化ホスゲ
ン貯槽の出口から余剰ガス０．３Ｎｍ³／Ｈｒ抜き取り
第１反応槽下部から投入しながら、第１反応槽下部から
通気しているＣＯを１０．１０Ｎｍ³／Ｈｒに変更した
以外は実施例１と同じ方法で行った。該ホスゲン中の四
塩化炭素４０ｐｐｍ、塩素分子８０ｐｐｂであり、色相
は無色透明であった。

【００４５】［実施例４］第４反応槽の後に内部冷却管
を有し１０℃の冷水を通水した金属アンチモン槽を設け
た以外は実施例１と同じ方法で行った。該ホスゲン中の
四塩化炭素３５ｐｐｍ、塩素分子は検出できなかった。
また、ホスゲンの色相は無色透明であった。

【００４６】［実施例５］第４反応槽の後に内部冷却管
を有し１０℃の冷水を通水した金属アンチモン槽を設け
た以外は実施例３と同じ方法で行った。該ホスゲン中の
四塩化炭素３５ｐｐｍ、塩素分子は検出できなかった。
また、ホスゲンの色相は無色透明であった。

【００４７】［実施例６］実施例１で得られたホスゲン
を連続式多段蒸留塔で精留した以外は実施例１と同じ方
法で行った。該ホスゲン中の四塩化炭素０．３ｐｐｍ、
塩素分子７５ｐｐｂであり、色相は無色透明であった。

【００４８】［実施例７］実施例４で得られたホスゲン
を連続式多段蒸留塔で精留した以外は実施例１と同じ方
法で行った。該ホスゲン中の四塩化炭素０．４ｐｐｍ、
塩素分子は検出できなかった。また、ホスゲンの色相は
無色透明であった。

【００４９】［実施例８］実施例５で得られたホスゲン
を連続式多段蒸留塔で精留した以外は実施例１と同じ方
法で行った。該ホスゲン中の四塩化炭素０．３ｐｐｍ、
塩素分子は検出できなかった。また、ホスゲンの色相は
無色透明であった。

【００５０】

【表１】

【００５１】

【発明の効果】本発明は含有不純物（四塩化炭素、塩素
分子等）が少なく色相等品質に優れたホスゲンを効率良
く製造できるので、ポリカーボネート樹脂、イソシアネ
ート、医薬及び染料等広範囲の分野の原料として好適で
ある。特に、このホスゲンを原料として得られたポリカ
ーボネート樹脂を光学分野に用いれば効果も顕著に表れ
る。

Claims (3)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 一酸化炭素と塩素を反応させてホスゲン
   を製造する方法において、活性炭の総比表面積の異なる
   多段反応槽を用いることを特徴とするホスゲンの製造方
   法。
2. 【請求項２】 余剰の一酸化炭素をリサイクルする請求
   項１記載のホスゲンの製造方法。
3. 【請求項３】 ホスゲン中の塩素分子を除去する装置と
   して金属アンチモン槽を付設した請求項１記載のホスゲ
   ンの製造方法。