JP2569239B2 - 光学用ポリカーボネートの製造法 - Google Patents
光学用ポリカーボネートの製造法Info
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Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、光学用ポリカーボネー
トの製造法、更に詳しくは四塩化炭素を含有するホスゲ
ンを用いて四塩化炭素含有量の少ない光学用途に適した
ポリカーボネートを製造する方法に関する。
トの製造法、更に詳しくは四塩化炭素を含有するホスゲ
ンを用いて四塩化炭素含有量の少ない光学用途に適した
ポリカーボネートを製造する方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】ポリカーボネートは透明性、耐熱性、機
械的特性に優れているがゆえにエンジエアリングプラス
チックとして多くの分野に広く用いられている。近年、
更にその透明性を生かして光学用ディスクやレンズ等の
分野への利用が拡大している。ポリカーボネートは、一
般に二価フエノールのアルカリ水溶液とホスゲンとを、
塩化メチレンの如き有機溶剤の存在下反応させて製造さ
れており、ここで用いるホスゲン中には数百ppm の四塩
化炭素が含有されていることは、例えば特公昭５５−１
４０４４号公報に記載されているように公知である。か
かるホスゲンを用いてポリカーボネートを製造すると、
ホスゲン中の四塩化炭素はその大半が塩化メチレン中に
溶解し、その結果多量の四塩化炭素を含有するポリカー
ボネートの塩化メチレン溶液が生成し、この溶液から分
離して得られるポリカーボネート中に相当量の四塩化炭
素が残留する。
械的特性に優れているがゆえにエンジエアリングプラス
チックとして多くの分野に広く用いられている。近年、
更にその透明性を生かして光学用ディスクやレンズ等の
分野への利用が拡大している。ポリカーボネートは、一
般に二価フエノールのアルカリ水溶液とホスゲンとを、
塩化メチレンの如き有機溶剤の存在下反応させて製造さ
れており、ここで用いるホスゲン中には数百ppm の四塩
化炭素が含有されていることは、例えば特公昭５５−１
４０４４号公報に記載されているように公知である。か
かるホスゲンを用いてポリカーボネートを製造すると、
ホスゲン中の四塩化炭素はその大半が塩化メチレン中に
溶解し、その結果多量の四塩化炭素を含有するポリカー
ボネートの塩化メチレン溶液が生成し、この溶液から分
離して得られるポリカーボネート中に相当量の四塩化炭
素が残留する。
【０００３】この残留四塩化炭素は、ポリカーボネート
を溶融してペレット化したり、成形する際に、酸性成分
を発生して成形金型を腐食させたり、成形品の色相を悪
化させる等の問題を生じる。特に金型の腐食は光学ディ
スク成形の際のスタンパー寿命の低下を引き起こした
り、転写性を悪くし、記録媒体としての信頼性を損なう
原因にもなる。
を溶融してペレット化したり、成形する際に、酸性成分
を発生して成形金型を腐食させたり、成形品の色相を悪
化させる等の問題を生じる。特に金型の腐食は光学ディ
スク成形の際のスタンパー寿命の低下を引き起こした
り、転写性を悪くし、記録媒体としての信頼性を損なう
原因にもなる。
【０００４】このため、ポリカーボネート中の残留四塩
化炭素を低減除去する方法が種々提案されている。例え
ば特公昭５５−１４０４４号公報には、ホスゲンを製造
する際に反応原料ガスを、触媒充填層を貫通させること
なく触媒充填面に接触させて触媒充填層の表層部で反応
させる方法が、特開平２−６３０７号公報には、ホスゲ
ンを製造する際に用いる触媒中の金属分含有量を低減さ
せてる方法が提案されている。しかしながら、これらの
方法ではその効果は未だ充分ではない。
化炭素を低減除去する方法が種々提案されている。例え
ば特公昭５５−１４０４４号公報には、ホスゲンを製造
する際に反応原料ガスを、触媒充填層を貫通させること
なく触媒充填面に接触させて触媒充填層の表層部で反応
させる方法が、特開平２−６３０７号公報には、ホスゲ
ンを製造する際に用いる触媒中の金属分含有量を低減さ
せてる方法が提案されている。しかしながら、これらの
方法ではその効果は未だ充分ではない。
【０００５】また、特開昭６２−２９７３２０号公報に
は、ホスゲン中の四塩化炭素を蒸留により低減する方法
が、特開昭６２−２９７３２１号公報や特開昭６３−２
６８７３６号公報には、リサイクルして用いる塩化メチ
レンを蒸留、吸着又は膜分離法等により塩化メチレン中
の四塩化炭素を低減する方法が提案されている。しかし
ながら、かかる方法ではポリカーボネートの製造設備と
は別に新たに塩化メチレンの精製設備が必要であり、コ
ストがかかるという問題がある。
は、ホスゲン中の四塩化炭素を蒸留により低減する方法
が、特開昭６２−２９７３２１号公報や特開昭６３−２
６８７３６号公報には、リサイクルして用いる塩化メチ
レンを蒸留、吸着又は膜分離法等により塩化メチレン中
の四塩化炭素を低減する方法が提案されている。しかし
ながら、かかる方法ではポリカーボネートの製造設備と
は別に新たに塩化メチレンの精製設備が必要であり、コ
ストがかかるという問題がある。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、四塩化炭素
を含有するホスゲンを用いても四塩化炭素残留量の少な
い高品質の光学用途に適したポリカーボネートを経済的
に製造する方法を提供することを目的とする。
を含有するホスゲンを用いても四塩化炭素残留量の少な
い高品質の光学用途に適したポリカーボネートを経済的
に製造する方法を提供することを目的とする。
【０００７】本発明者は上記目的を達成せんとして鋭意
研究を重ねた結果、有機溶剤を用いずに二価フェノール
のアルカリ水溶液とホスゲンとを反応させると、ホスゲ
ン化反応中に四塩化炭素が反応系外に逃散することを究
明し、本発明を完成した。
研究を重ねた結果、有機溶剤を用いずに二価フェノール
のアルカリ水溶液とホスゲンとを反応させると、ホスゲ
ン化反応中に四塩化炭素が反応系外に逃散することを究
明し、本発明を完成した。
【０００８】
【課題を解決するための手段】本発明は、二価フェノー
ルのアルカリ水溶液と四塩化炭素を含有するホスゲンと
を有機溶剤及び触媒を用いずに開放系で反応させた後、
有機溶剤を添加して重合反応させてポリカーボネートを
製造することを特徴とする四塩化炭素含有量が０．０５
ｐｐｍ以下の光学用ポリカーボネートの製造法である。
ルのアルカリ水溶液と四塩化炭素を含有するホスゲンと
を有機溶剤及び触媒を用いずに開放系で反応させた後、
有機溶剤を添加して重合反応させてポリカーボネートを
製造することを特徴とする四塩化炭素含有量が０．０５
ｐｐｍ以下の光学用ポリカーボネートの製造法である。
【０００９】本発明で用いる二価フェノールは、２，２
−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパン［通称ビス
フェノールＡ］を主たる対象とするが、その一部又は全
部を他の二価フェノールで置換えてもよい。他の二価フ
ェノールとしては例えばビス（４−ヒドロキシフェニ
ル）メタン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）
エタン、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）ブタ
ン、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）ペンタ
ン、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）ヘキサ
ン、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）４−メチ
ルペンタン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）
１−フェニルエタン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフ
ェニル）シクロヘキサン、２，２−ビス（４−ヒドロキ
シ−３−メチルフェニル）プロパン、２，２−ビス（４
−ヒドロキシフェニル）ヘキサフロロプロパン、２，２
−ビス（３，５−ジブロモ−４−ヒドロキシフェニル）
プロパン等があげられる。
−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパン［通称ビス
フェノールＡ］を主たる対象とするが、その一部又は全
部を他の二価フェノールで置換えてもよい。他の二価フ
ェノールとしては例えばビス（４−ヒドロキシフェニ
ル）メタン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）
エタン、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）ブタ
ン、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）ペンタ
ン、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）ヘキサ
ン、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）４−メチ
ルペンタン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）
１−フェニルエタン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフ
ェニル）シクロヘキサン、２，２−ビス（４−ヒドロキ
シ−３−メチルフェニル）プロパン、２，２−ビス（４
−ヒドロキシフェニル）ヘキサフロロプロパン、２，２
−ビス（３，５−ジブロモ−４−ヒドロキシフェニル）
プロパン等があげられる。
【００１０】かかる二価フェノールはアルカリ水溶液に
溶解して用いる。アルカリとしては苛性ソーダ、苛性カ
リ等のアルカリ金属水酸化物が好ましく用いられる。そ
の濃度は５〜１０重量％が好ましい。二価フェノールと
アルカリのモル比は１：１．９〜３．２の範囲が好まし
く、特に１：２．０〜２．５の範囲が好ましい。二価フ
ェノールのアルカリ水溶液中の濃度は高い方が好まし
く、二価フェノールの溶解度から１５０〜２３０ g／リ
ットルが好ましい。二価フェノールのアルカリ水溶液を
調製する際、温度を２０℃以上にするのが好ましいが、
あまり高温では二価フェノールが酸化されるので、必要
最低温度とし且つ窒素雰囲気下で行うか、又はハイドロ
サルファイト等の還元剤を用いるのが好ましい。
溶解して用いる。アルカリとしては苛性ソーダ、苛性カ
リ等のアルカリ金属水酸化物が好ましく用いられる。そ
の濃度は５〜１０重量％が好ましい。二価フェノールと
アルカリのモル比は１：１．９〜３．２の範囲が好まし
く、特に１：２．０〜２．５の範囲が好ましい。二価フ
ェノールのアルカリ水溶液中の濃度は高い方が好まし
く、二価フェノールの溶解度から１５０〜２３０ g／リ
ットルが好ましい。二価フェノールのアルカリ水溶液を
調製する際、温度を２０℃以上にするのが好ましいが、
あまり高温では二価フェノールが酸化されるので、必要
最低温度とし且つ窒素雰囲気下で行うか、又はハイドロ
サルファイト等の還元剤を用いるのが好ましい。
【００１１】本発明で用いるホスゲンは、それに含有さ
れる四塩化炭素量が多くとも差支えないが、少ないほう
が好ましく、通常２０００〜３０ppm であり、５００pp
m 以下が好ましい。またホスゲン中には反応に不活性な
他のガスを少量含有していてもよい。ホスゲンの好まし
い使用量は、反応条件、特に反応温度と反応に用いる二
価フェノールのアルカリ水溶液の濃度に影響されるが、
本発明においては二価フェノールに対し１．０〜１．２
モルの範囲が好ましく、特に１．０５〜１．１５モルの
範囲が好ましい。
れる四塩化炭素量が多くとも差支えないが、少ないほう
が好ましく、通常２０００〜３０ppm であり、５００pp
m 以下が好ましい。またホスゲン中には反応に不活性な
他のガスを少量含有していてもよい。ホスゲンの好まし
い使用量は、反応条件、特に反応温度と反応に用いる二
価フェノールのアルカリ水溶液の濃度に影響されるが、
本発明においては二価フェノールに対し１．０〜１．２
モルの範囲が好ましく、特に１．０５〜１．１５モルの
範囲が好ましい。
【００１２】二価フェノールのアルカリ水溶液とホスゲ
ンの反応は、二価フェノールのアルカリ水溶液にホスゲ
ンをガス状で吹込むか、又は液状で混合すればよく、反
応条件としては、pHを１０〜１２、温度を０〜８０℃に
保持するのが好ましい。
ンの反応は、二価フェノールのアルカリ水溶液にホスゲ
ンをガス状で吹込むか、又は液状で混合すればよく、反
応条件としては、pHを１０〜１２、温度を０〜８０℃に
保持するのが好ましい。
【００１３】本発明にあっては上記ホスゲン化反応には
有機溶剤を用いないが、ホスゲン化した後、有機溶剤の
存在下で重合させる。ここで用いる有機溶剤は、反応に
対して不活性で且つポリカーボネートを溶解し、水には
実質的に溶解しない有機溶剤であり、例えば塩化メチレ
ンが好ましく用いられる。
有機溶剤を用いないが、ホスゲン化した後、有機溶剤の
存在下で重合させる。ここで用いる有機溶剤は、反応に
対して不活性で且つポリカーボネートを溶解し、水には
実質的に溶解しない有機溶剤であり、例えば塩化メチレ
ンが好ましく用いられる。
【００１４】有機溶剤の使用量は、特に限定されない
が、ポリカーボネートオリゴマーを溶解する際に、得ら
れる溶液中のポリカーボネートオリゴマー濃度が１０〜
３５重量％の範囲になる量が好ましい。
が、ポリカーボネートオリゴマーを溶解する際に、得ら
れる溶液中のポリカーボネートオリゴマー濃度が１０〜
３５重量％の範囲になる量が好ましい。
【００１５】有機溶剤の存在下行う重合反応には、格別
の方法、条件をとる必要はなく、任意の方法が採用でき
る。また、この重合反応するに当っては必要に応じてア
ミン、第４級アンミニウム塩等の重合触媒、一価フェノ
ール等の分子量調節剤、アルカリ等を加えることができ
る。
の方法、条件をとる必要はなく、任意の方法が採用でき
る。また、この重合反応するに当っては必要に応じてア
ミン、第４級アンミニウム塩等の重合触媒、一価フェノ
ール等の分子量調節剤、アルカリ等を加えることができ
る。
【００１６】
【実施例】以下に実施例を示して本発明を更に説明す
る。なお、実施例中の部は重量部であり、％は重量％で
ある。また、相対粘度は得られたオリゴマー又はポリマ
ーの０．７００g を塩化メチレン１００mlに溶解してオ
ストワルド粘度計により２０℃で測定し、ポリカーボネ
ート中の四塩化炭素の濃度は、ポリカーボネート１．０
g を内容積１２０mlのステンレス製容器に封入し、１５
５℃で４時間加熱して発生するガスをガスクロマトグラ
フ［（株）島津製作所製ＧＣ−７Ａ型］に導入し、エレ
クトロンキャプチャ検出器（ＥＣＤ）で定量した。
る。なお、実施例中の部は重量部であり、％は重量％で
ある。また、相対粘度は得られたオリゴマー又はポリマ
ーの０．７００g を塩化メチレン１００mlに溶解してオ
ストワルド粘度計により２０℃で測定し、ポリカーボネ
ート中の四塩化炭素の濃度は、ポリカーボネート１．０
g を内容積１２０mlのステンレス製容器に封入し、１５
５℃で４時間加熱して発生するガスをガスクロマトグラ
フ［（株）島津製作所製ＧＣ−７Ａ型］に導入し、エレ
クトロンキャプチャ検出器（ＥＣＤ）で定量した。
【００１７】
【実施例１】撹拌機、温度計、ベントを備えた反応器中
で、ビスフェノールＡ９１．２部を１０％水酸化ナトリ
ウム水溶液３２０部に窒素気流下溶解し、２５℃に保持
し、強撹拌下で、四塩化炭素を４５０ppm 含有するホス
ゲン４７．５部を９０分を要して吹込んだ。この間１５
％水酸化ナトリウム水溶液で水相のpHを１０〜１２に調
整してオリゴマー混合液を得た。このオリゴマーの相対
粘度は１．０２９であった。このオリゴマー混合液にp-
tert−ブチルフェノール１．８部、塩化メチレン４１０
部及びトリエチルアミン０．２部を添加し、１５％水酸
化ナトリウム水溶液で水相のpHを１３に調整した混合液
を３０±１℃に保ち、３時間重合反応させた。重合反応
終了後有機相を塩化メチレンで希釈し、５％塩酸水で２
回洗浄した後電解質がなくなるまで水で洗浄した。次い
で有機相を分離し、塩化メチレンを留去して得た粉末ポ
リカーボネートを熱風循環式乾燥器により１４０℃で６
時間乾燥してポリカーボネートを得た。このポリマーの
相対粘度は１．４２８であり、その残留四塩化炭素量は
０．０５０ppm であった。
で、ビスフェノールＡ９１．２部を１０％水酸化ナトリ
ウム水溶液３２０部に窒素気流下溶解し、２５℃に保持
し、強撹拌下で、四塩化炭素を４５０ppm 含有するホス
ゲン４７．５部を９０分を要して吹込んだ。この間１５
％水酸化ナトリウム水溶液で水相のpHを１０〜１２に調
整してオリゴマー混合液を得た。このオリゴマーの相対
粘度は１．０２９であった。このオリゴマー混合液にp-
tert−ブチルフェノール１．８部、塩化メチレン４１０
部及びトリエチルアミン０．２部を添加し、１５％水酸
化ナトリウム水溶液で水相のpHを１３に調整した混合液
を３０±１℃に保ち、３時間重合反応させた。重合反応
終了後有機相を塩化メチレンで希釈し、５％塩酸水で２
回洗浄した後電解質がなくなるまで水で洗浄した。次い
で有機相を分離し、塩化メチレンを留去して得た粉末ポ
リカーボネートを熱風循環式乾燥器により１４０℃で６
時間乾燥してポリカーボネートを得た。このポリマーの
相対粘度は１．４２８であり、その残留四塩化炭素量は
０．０５０ppm であった。
【００１８】
【実施例２】実施例１と同じ装置を用いてビスフェノー
ルＡ９１．２部を１０％水酸化ナトリウム水溶液３３６
部に窒素気流下で溶解し、６５℃に保持し、強撹拌下、
四塩化炭素を７０ppm 含有するホスゲン４７．５部を８
０分を要して吹込んだ。この間１５％水酸化ナトリウム
水溶液で水相のpHを１０〜１２に調整してオリゴマー混
合液を得た。このオリゴマーの相対粘度は１．０３５で
あった。このオリゴマー混合液にp-tert−ブチルフェノ
ール１．８部、塩化メチレン４１０部及びトリエチルア
ミン０．２部を添加し、１５％水酸化ナトリウム水溶液
で水相のpHを１３に調整した混合液を３２±１℃に保
ち、３．２時間重合反応させた後実施例１と同様に精
製、乾燥した。得られたポリカーボネートの相対粘度は
１．４２６であり、その残留四塩化炭素量は０．０４２
ppm であった。
ルＡ９１．２部を１０％水酸化ナトリウム水溶液３３６
部に窒素気流下で溶解し、６５℃に保持し、強撹拌下、
四塩化炭素を７０ppm 含有するホスゲン４７．５部を８
０分を要して吹込んだ。この間１５％水酸化ナトリウム
水溶液で水相のpHを１０〜１２に調整してオリゴマー混
合液を得た。このオリゴマーの相対粘度は１．０３５で
あった。このオリゴマー混合液にp-tert−ブチルフェノ
ール１．８部、塩化メチレン４１０部及びトリエチルア
ミン０．２部を添加し、１５％水酸化ナトリウム水溶液
で水相のpHを１３に調整した混合液を３２±１℃に保
ち、３．２時間重合反応させた後実施例１と同様に精
製、乾燥した。得られたポリカーボネートの相対粘度は
１．４２６であり、その残留四塩化炭素量は０．０４２
ppm であった。
【００１９】
【実施例３】実施例１と同じ装置を用いてビスフェノー
ルＡ９１．２部を１０％水酸化ナトリウム水溶液３３６
部に窒素気流下で溶解し、４５℃に保持し、強撹拌下、
四塩化炭素を２５０ppm 含有するホスゲン４７．５部を
６０分を要して吹込んだ。この間１５％水酸化ナトリウ
ム水溶液で水相のpHを１０〜１２に調整してオリゴマー
混合液を得た。このオリゴマーの相対粘度は１．０３２
であった。このオリゴマー混合液にp-tert−ブチルフェ
ノール３．７部、塩化メチレン４１０部及びトリエチル
アミン０．２部を添加し、１５％水酸化ナトリウム水溶
液で水相のpHを１３に調整した混合液を３２±１℃に保
ち３．２時間重合反応させた後実施例１と同様に精製、
乾燥した。得られたポリカーボネートの相対粘度は１．
２７７であり、その残留四塩化炭素量は０．０４３ppm
であった。
ルＡ９１．２部を１０％水酸化ナトリウム水溶液３３６
部に窒素気流下で溶解し、４５℃に保持し、強撹拌下、
四塩化炭素を２５０ppm 含有するホスゲン４７．５部を
６０分を要して吹込んだ。この間１５％水酸化ナトリウ
ム水溶液で水相のpHを１０〜１２に調整してオリゴマー
混合液を得た。このオリゴマーの相対粘度は１．０３２
であった。このオリゴマー混合液にp-tert−ブチルフェ
ノール３．７部、塩化メチレン４１０部及びトリエチル
アミン０．２部を添加し、１５％水酸化ナトリウム水溶
液で水相のpHを１３に調整した混合液を３２±１℃に保
ち３．２時間重合反応させた後実施例１と同様に精製、
乾燥した。得られたポリカーボネートの相対粘度は１．
２７７であり、その残留四塩化炭素量は０．０４３ppm
であった。
【００２０】
【実施例４】図１に示す反応塔（長さ８５０mm、内径１
６０mmのガラスライニングした反応塔、図中１は反応
塔、２はホスゲン導入管、３は二価フェノールのアルカ
リ水溶液導入口、４は反応生成混合物排出口、５は冷却
用ジャケット水導入口、６は冷却用ジャケット水排出
口、７は撹拌翼、８はベント）を用いた。
６０mmのガラスライニングした反応塔、図中１は反応
塔、２はホスゲン導入管、３は二価フェノールのアルカ
リ水溶液導入口、４は反応生成混合物排出口、５は冷却
用ジャケット水導入口、６は冷却用ジャケット水排出
口、７は撹拌翼、８はベント）を用いた。
【００２１】ビスフェノールＡを７．０％水酸化ナトリ
ウム水溶液に３０℃で溶解して１６５g ／リットルの濃
度のビスフェノールＡの水酸化ナトリウム水溶液を調製
し、このビスフェノールＡの水酸化ナトリウム水溶液を
導入管２から１９９部／hrの速度で供給すると同時に、
四塩化炭素を２２０ppm含有するホスゲンを導入管３か
ら１４．５部／hrの速度で供給した。導入管５から温度
を調整した冷却水を供給したところ反応塔の内温は４０
±１℃になった。排出口４から反応生成混合液が排出さ
れ始めてから１時間後サンプリングしたところ、得られ
たオリゴマーの相対粘度は１．０２６であった。
ウム水溶液に３０℃で溶解して１６５g ／リットルの濃
度のビスフェノールＡの水酸化ナトリウム水溶液を調製
し、このビスフェノールＡの水酸化ナトリウム水溶液を
導入管２から１９９部／hrの速度で供給すると同時に、
四塩化炭素を２２０ppm含有するホスゲンを導入管３か
ら１４．５部／hrの速度で供給した。導入管５から温度
を調整した冷却水を供給したところ反応塔の内温は４０
±１℃になった。排出口４から反応生成混合液が排出さ
れ始めてから１時間後サンプリングしたところ、得られ
たオリゴマーの相対粘度は１．０２６であった。
【００２２】重合反応は、排出口４から排出された反応
生成混合液に３０％水酸化ナトリウム水溶液を８．９部
／ｈｒ、ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノールを０．６０部
／ｈｒ、塩化メチレンを９７部／ｈｒ及びトリエチルア
ミンを０．１５部／ｈｒの速度で供給し、３０℃で滞留
時間３時間の連続反応器で反応させた。重合反応後実施
例１と同様に精製、乾燥した。得られたポリカーボネー
トの相対粘度は１．４２９であり、その残留四塩化炭素
量は０．０４５ｐｐｍであった。
生成混合液に３０％水酸化ナトリウム水溶液を８．９部
／ｈｒ、ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノールを０．６０部
／ｈｒ、塩化メチレンを９７部／ｈｒ及びトリエチルア
ミンを０．１５部／ｈｒの速度で供給し、３０℃で滞留
時間３時間の連続反応器で反応させた。重合反応後実施
例１と同様に精製、乾燥した。得られたポリカーボネー
トの相対粘度は１．４２９であり、その残留四塩化炭素
量は０．０４５ｐｐｍであった。
【００２３】
【実施例５】実施例４と同じ装置を用いて反応塔の内温
を８０±１℃にする以外は実施例４と同様にした。排出
口４から排出開始１時間後のオリゴマーの相対粘度は
１．０３７であった。また重合反応後実施例１と同様に
精製、乾燥して得られたポリカーボネートの相対粘度は
１．４２４であり、その残留四塩化炭素量は０．０３０
ppm であった。
を８０±１℃にする以外は実施例４と同様にした。排出
口４から排出開始１時間後のオリゴマーの相対粘度は
１．０３７であった。また重合反応後実施例１と同様に
精製、乾燥して得られたポリカーボネートの相対粘度は
１．４２４であり、その残留四塩化炭素量は０．０３０
ppm であった。
【００２４】
【比較例１】実施例１と同じ装置を用いてビスフェノー
ルＡ９１．２部を１０％水酸化ナトリウム水溶液３３６
部に窒素気流下で溶解し、この溶液に塩化メチレン４１
０部添加し、２５℃に保持し、強撹拌下、四塩化炭素を
４５０ppm 含有するホスゲン４７．５部を９０分を要し
て吹込んだ。この間１５％水酸化ナトリウム水溶液で水
相のpHを１０〜１２に調整してオリゴマー混合液を得
た。このオリゴマーの相対粘度は１．０８７であった。
このオリゴマー混合液にp-tert−ブチルフェノール１．
８部及びトリエチルアミン０．２部を添加し、１５％水
酸化ナトリウム水溶液で水相のpHを１３に調整した混合
液を３２±１℃に保ち、３．２時間重合反応させた後実
施例１と同様に精製、乾燥した。得られたポリカーボネ
ートの相対粘度は１．４２７であり、その残留四塩化炭
素量は１２５ppm であった。
ルＡ９１．２部を１０％水酸化ナトリウム水溶液３３６
部に窒素気流下で溶解し、この溶液に塩化メチレン４１
０部添加し、２５℃に保持し、強撹拌下、四塩化炭素を
４５０ppm 含有するホスゲン４７．５部を９０分を要し
て吹込んだ。この間１５％水酸化ナトリウム水溶液で水
相のpHを１０〜１２に調整してオリゴマー混合液を得
た。このオリゴマーの相対粘度は１．０８７であった。
このオリゴマー混合液にp-tert−ブチルフェノール１．
８部及びトリエチルアミン０．２部を添加し、１５％水
酸化ナトリウム水溶液で水相のpHを１３に調整した混合
液を３２±１℃に保ち、３．２時間重合反応させた後実
施例１と同様に精製、乾燥した。得られたポリカーボネ
ートの相対粘度は１．４２７であり、その残留四塩化炭
素量は１２５ppm であった。
【００２５】
【比較例２】実施例４と同じ装置を用い、導入管３から
四塩化炭素を２２０ppm 含有するホスゲンを−１５℃の
塩化メチレンに溶解した１７０ g／リットルの濃度のホ
スゲンの塩化メチレン溶液を１１１部／hrの速度で導入
する以外は実施例４と同様にした。導入管５から温度を
調整した冷却水を供給したところ反応塔の内温は２５±
１℃になった。排出口４から排出開始１時間後のオリゴ
マーの相対粘度は１．０７０であった。また、重合反応
後実施例１と同様に精製、乾燥して得られたポリカーボ
ネートの相対粘度は１．４２９であり、その残留四塩化
炭素量は１４０ppm であった。
四塩化炭素を２２０ppm 含有するホスゲンを−１５℃の
塩化メチレンに溶解した１７０ g／リットルの濃度のホ
スゲンの塩化メチレン溶液を１１１部／hrの速度で導入
する以外は実施例４と同様にした。導入管５から温度を
調整した冷却水を供給したところ反応塔の内温は２５±
１℃になった。排出口４から排出開始１時間後のオリゴ
マーの相対粘度は１．０７０であった。また、重合反応
後実施例１と同様に精製、乾燥して得られたポリカーボ
ネートの相対粘度は１．４２９であり、その残留四塩化
炭素量は１４０ppm であった。
【００２６】
【発明の効果】本発明は、ホスゲンや有機溶剤（塩化メ
チレン）の精製設備を必要とせずに、四塩化炭素を含有
するホスゲンを用いても四塩化炭素含有量の極めて少な
い高品質の光学用途に適したポリカーボネートを経済的
に且つ容易に製造することを可能にしたものであり、そ
の奏する工業的効果は格別なものである。
チレン）の精製設備を必要とせずに、四塩化炭素を含有
するホスゲンを用いても四塩化炭素含有量の極めて少な
い高品質の光学用途に適したポリカーボネートを経済的
に且つ容易に製造することを可能にしたものであり、そ
の奏する工業的効果は格別なものである。
【図１】本発明を実施するに適した装置の一例を示す略
図。
図。
１：反応塔 ２：ホスゲン導入管 ３：二価フェノールのアルカリ水溶液導入口 ４：反応生成混合物排出口 ５：冷却用ジャケット水導入口 ６：冷却用ジャケット水排出口 ７：撹拌翼 ８：ベント
Claims (1)
- 【請求項１】二価フェノールのアルカリ水溶液と四塩化
炭素を含有するホスゲンとを有機溶剤及び触媒を用いず
に開放系で反応させた後、有機溶剤を添加して重合反応
させてポリカーボネートを製造することを特徴とする四
塩化炭素含有量が０．０５ｐｐｍ以下の光学用ポリカー
ボネートの製造法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3185882A JP2569239B2 (ja) | 1991-07-01 | 1991-07-01 | 光学用ポリカーボネートの製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3185882A JP2569239B2 (ja) | 1991-07-01 | 1991-07-01 | 光学用ポリカーボネートの製造法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH059288A JPH059288A (ja) | 1993-01-19 |
| JP2569239B2 true JP2569239B2 (ja) | 1997-01-08 |
Family
ID=16178533
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3185882A Expired - Lifetime JP2569239B2 (ja) | 1991-07-01 | 1991-07-01 | 光学用ポリカーボネートの製造法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2569239B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP6045825B2 (ja) | 2012-07-05 | 2016-12-14 | 出光興産株式会社 | ポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体及びその連続的な製造方法 |
Family Cites Families (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE2305144C2 (de) * | 1973-02-02 | 1982-05-06 | Basf Ag, 6700 Ludwigshafen | Verfahren zur kontinuierlichen Herstellung von Polycarbonaten |
| JPS5514044A (en) * | 1978-07-18 | 1980-01-31 | Tokyo Shibaura Electric Co | Preparation of ultrasoniccwave detecting contacting piece |
| JPH04146922A (ja) * | 1990-10-11 | 1992-05-20 | Mitsubishi Kasei Corp | 光学情報基板用ポリカーボネート樹脂成形材料 |
-
1991
- 1991-07-01 JP JP3185882A patent/JP2569239B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH059288A (ja) | 1993-01-19 |
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