JP2000183524A - 多層プリント配線板製造方法 - Google Patents
多層プリント配線板製造方法Info
- Publication number
- JP2000183524A JP2000183524A JP10355267A JP35526798A JP2000183524A JP 2000183524 A JP2000183524 A JP 2000183524A JP 10355267 A JP10355267 A JP 10355267A JP 35526798 A JP35526798 A JP 35526798A JP 2000183524 A JP2000183524 A JP 2000183524A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- insulating layer
- wiring board
- build
- via hole
- printed wiring
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K3/00—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
- H05K3/40—Forming printed elements for providing electric connections to or between printed circuits
- H05K3/42—Plated through-holes or plated via connections
- H05K3/429—Plated through-holes specially for multilayer circuits, e.g. having connections to inner circuit layers
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K1/00—Printed circuits
- H05K1/02—Details
- H05K1/11—Printed elements for providing electric connections to or between printed circuits
- H05K1/115—Via connections; Lands around holes or via connections
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K3/00—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
- H05K3/46—Manufacturing multilayer circuits
- H05K3/4602—Manufacturing multilayer circuits characterized by a special circuit board as base or central core whereon additional circuit layers are built or additional circuit boards are laminated
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K2201/00—Indexing scheme relating to printed circuits covered by H05K1/00
- H05K2201/03—Conductive materials
- H05K2201/0332—Structure of the conductor
- H05K2201/0335—Layered conductors or foils
- H05K2201/0352—Differences between the conductors of different layers of a multilayer
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K2201/00—Indexing scheme relating to printed circuits covered by H05K1/00
- H05K2201/09—Shape and layout
- H05K2201/09209—Shape and layout details of conductors
- H05K2201/095—Conductive through-holes or vias
- H05K2201/09536—Buried plated through-holes, i.e. plated through-holes formed in a core before lamination
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K2201/00—Indexing scheme relating to printed circuits covered by H05K1/00
- H05K2201/09—Shape and layout
- H05K2201/09209—Shape and layout details of conductors
- H05K2201/095—Conductive through-holes or vias
- H05K2201/09572—Solder filled plated through-hole in the final product
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K2201/00—Indexing scheme relating to printed circuits covered by H05K1/00
- H05K2201/09—Shape and layout
- H05K2201/09209—Shape and layout details of conductors
- H05K2201/095—Conductive through-holes or vias
- H05K2201/096—Vertically aligned vias, holes or stacked vias
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K2203/00—Indexing scheme relating to apparatus or processes for manufacturing printed circuits covered by H05K3/00
- H05K2203/04—Soldering or other types of metallurgic bonding
- H05K2203/045—Solder-filled plated through-hole [PTH] during processing wherein the solder is removed from the PTH after processing
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K2203/00—Indexing scheme relating to apparatus or processes for manufacturing printed circuits covered by H05K3/00
- H05K2203/13—Moulding and encapsulation; Deposition techniques; Protective layers
- H05K2203/1377—Protective layers
- H05K2203/1394—Covering open PTHs, e.g. by dry film resist or by metal disc
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K2203/00—Indexing scheme relating to apparatus or processes for manufacturing printed circuits covered by H05K3/00
- H05K2203/14—Related to the order of processing steps
- H05K2203/1476—Same or similar kind of process performed in phases, e.g. coarse patterning followed by fine patterning
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K3/00—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
- H05K3/0011—Working of insulating substrates or insulating layers
- H05K3/0017—Etching of the substrate by chemical or physical means
- H05K3/0026—Etching of the substrate by chemical or physical means by laser ablation
- H05K3/0032—Etching of the substrate by chemical or physical means by laser ablation of organic insulating material
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K3/00—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
- H05K3/22—Secondary treatment of printed circuits
- H05K3/225—Correcting or repairing of printed circuits
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K3/00—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
- H05K3/30—Assembling printed circuits with electric components, e.g. with resistor
- H05K3/32—Assembling printed circuits with electric components, e.g. with resistor electrically connecting electric components or wires to printed circuits
- H05K3/34—Assembling printed circuits with electric components, e.g. with resistor electrically connecting electric components or wires to printed circuits by soldering
- H05K3/3447—Lead-in-hole components
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K3/00—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
- H05K3/46—Manufacturing multilayer circuits
- H05K3/4644—Manufacturing multilayer circuits by building the multilayer layer by layer, i.e. build-up multilayer circuits
- H05K3/4652—Adding a circuit layer by laminating a metal foil or a preformed metal foil pattern
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T29/00—Metal working
- Y10T29/49—Method of mechanical manufacture
- Y10T29/49002—Electrical device making
- Y10T29/49117—Conductor or circuit manufacturing
- Y10T29/49124—On flat or curved insulated base, e.g., printed circuit, etc.
- Y10T29/49126—Assembling bases
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T29/00—Metal working
- Y10T29/49—Method of mechanical manufacture
- Y10T29/49002—Electrical device making
- Y10T29/49117—Conductor or circuit manufacturing
- Y10T29/49124—On flat or curved insulated base, e.g., printed circuit, etc.
- Y10T29/49155—Manufacturing circuit on or in base
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T29/00—Metal working
- Y10T29/49—Method of mechanical manufacture
- Y10T29/49002—Electrical device making
- Y10T29/49117—Conductor or circuit manufacturing
- Y10T29/49124—On flat or curved insulated base, e.g., printed circuit, etc.
- Y10T29/49155—Manufacturing circuit on or in base
- Y10T29/49158—Manufacturing circuit on or in base with molding of insulated base
- Y10T29/4916—Simultaneous circuit manufacturing
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T29/00—Metal working
- Y10T29/49—Method of mechanical manufacture
- Y10T29/49002—Electrical device making
- Y10T29/49117—Conductor or circuit manufacturing
- Y10T29/49124—On flat or curved insulated base, e.g., printed circuit, etc.
- Y10T29/49155—Manufacturing circuit on or in base
- Y10T29/49165—Manufacturing circuit on or in base by forming conductive walled aperture in base
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Production Of Multi-Layered Print Wiring Board (AREA)
Abstract
接続を確実に行う。 【解決手段】 先ず、インナーバイアホール11〜13
の端面に対して、絶縁シート111a,111b、11
2a,112b、および、113a,113bをそれぞ
れ貼付した後、絶縁層20,40を形成する。次に、絶
縁層20,40に対して回路パターンを形成し、インナ
ーバイアホール11〜13に対向する位置に形成された
ランド201,202,401,402と、各インナー
バイアホールの内部の孔とを連接するように、レーザ光
線により穿孔する。続いて、メッキ処理を施すことによ
り、インナーバイアホール11〜13と、ランド20
1,202,401,402とが、ビルドアップバイア
601〜604によって相互に接続される。そして、同
様の処理を繰り返すことにより、ランド301,30
2,501と、インナーバイアホール11〜13とをビ
ルドアップバイア601,602,604により接続す
る。
Description
製造方法に関し、特に、バイアホールが形成された絶縁
層上に、導体回路層が形成されたビルドアップ層を積層
することにより多層プリント配線板を製造する多層プリ
ント配線板製造方法に関する。
つつある。このような電子機器の小型化を支えているの
は、電子部品のLSI(Large Scale Integrated Circu
it)化技術の進歩のみならず、電子部品の実装技術の進
歩でもあることは疑う余地がない。
は、プリント配線板上への電子部品の実装密度の向上を
図ることであり、現在、実装密度の向上を実際に加勢し
ている一因は、例えば、部品のチップ化や前述のLSI
化等の技術であり、これらは、2次元的な実装密度の向
上に役立っている。また、3次元的な実装密度の向上さ
せる方法としては、例えば、インタースティシャルバイ
アホール(IVH)やビルドアップ法などのようにプリ
ント配線板を多層化する方法を挙げることができる。
プリント配線板上に、各導体層を絶縁する絶縁層と、回
路パターンである導体層とを交互に積層することによ
り、立体的な配線パターンを有するプリント配線板を形
成する手法である。
って形成されたプリント配線板は、各導体層同士を接続
する必要があることから、絶縁層の所定の位置に「バイ
ア」と呼ばれる導体を形成(または、埋設)し、このバ
イアと導体パターンとを連接することにより電気的な接
続を図っていた。
続するためのランド領域を、導体パターンに作成する必
要が生じることから、部品同士を接続するための導体パ
ターンの占有する面積が相対的に減少し、部品の実装密
度が低下するという問題点があった。
は、バイアの内側に導電性物質を充填し、バイア同士を
同軸上で接続することにより、上述の問題点を解決する
方法(以下、従来法という)が開示されている。
ト配線板の断面を示す断面図である。この図に示すよう
に、従来法によって形成された多層プリント配線板1
は、コア層1a、ビルドアップ層1b、および、ビルド
アップ層1cによって形成されている。
電性を有するインナーバイアホール11〜13が埋設さ
れて形成されている。また、コア層の上面には、配線パ
ターン14,15が形成され、また、その下面には、配
線パターン16,17が形成されている。
20および絶縁層40がそれぞれ形成されている。絶縁
層20には、導電性を有するビルドアップバイア21〜
23が埋設されており、また、その上面には配線パター
ン24,25が形成されている。
ル11〜13の内部には、導電性物質11a〜13aが
充填されており、導電性物質11a,12aの端面に対
してビルドアップバイア22およびビルドアップバイア
23の下面が当接することにより、これら相互の電気的
な接続が図られている。
〜43が埋設されており、また、その下面には配線パタ
ーン44が形成されている。インナーバイアホール1
2,13とビルドアップバイア41,42も、前述の場
合と同様に、インナーバイアホール12,13にそれぞ
れ充填された導電物質12a,13bによって電気的な
接続が図られている。
されている。絶縁層30には、ビルドアップバイア31
〜33が埋設されており、また、その上面には配線パタ
ーン34,35が形成されている。
ドアップバイア21〜23の内部には、導電性物質21
a〜23aがそれぞれ充填されており、ビルドアップバ
イア31〜33の下面が各導電性物質の端面に当接する
ことにより、これら相互の電気的な接続が図られてい
る。
されている。絶縁層50には、ビルドアップバイア51
〜53が埋設され、また、その下面には配線パターン5
4,55が形成されている。ビルドアップバイア52,
53は、前述の場合と同様に、ビルドアップバイア4
2,43の内部に充填された導電性物質42a,43a
と当接することにより、相互の電気的な接続が図られて
いる。
いては、絶縁層を積層する度に、バイアに対して導電性
物質を充填する作業が必要となる。しかしながら、図9
に示すように、例えば、インナーバイアホール12に対
する導電物資12aの充填が充分でない場合には、接触
不良箇所12bが発生したり、ブローホール12cが形
成される場合があった。なお、この図9は、図8に示す
インナーバイアホール12の近辺を拡大して示した図で
ある。
ール12cが形成されると、電気的な接続が不十分とな
り、製品の不良の原因となったり、経年変化によって接
続不良個所が発生するなどして信頼性が低下するという
問題点があった。
イアに対する充填が十分であるか否かの確認を行う必要
があるため、作業が煩雑になるという問題点もあった。
更に、導電性物質の充填が十分に行われた場合において
も、その後のプロセスであるエッチング処理において、
導電性物質の表面が侵食され、図9に示すような接触不
良箇所12bが発生する場合があるという問題点もあっ
た。
接触不良箇所が発見されたとしても、接続箇所はプリン
ト配線板の内部であるため、その修復を図ることができ
ないという問題点もあった。
の修正が必要となる場合があり、そのような場合にはバ
イアに対してジャンパー線を接続し、このジャンパー線
を所定の箇所に接続することで修正がなされる場合があ
る。しかしながら、バイアの内部には導電性物質が充填
されているため、ジャンパー線を挿入したり、半田付す
ることが困難であるという問題点もあった。
のであり、バイア同士の接続を確実に行うことが可能な
プリント配線板製造方法を提供することを目的とする。
また、本発明は、製造プロセスにおいて発生した接触不
良個所の修復や、設計変更に伴うパターンの変更が容易
なプリント配線板の製造方法を提供することを目的とす
る。
決するために、図2〜図4に示す、バイアホールが形成
された絶縁層上に回路パターンを形成する工程を繰り返
すことにより、多層プリント配線板を製造する多層プリ
ント配線板製造方法において、前記絶縁層10の所定の
位置に前記バイアホール11を形成するプロセス(図
2)と、前記バイアホール11の開口面を覆う薄膜11
1aを形成するプロセス(図2)と、前記薄膜111a
上に新たな絶縁層20を形成するプロセス(図2)と、
前記バイアホール11と連接するように前記新たな絶縁
層20を穿孔するプロセス(図3)と、前記新たな絶縁
層20に形成されたランド201と、前記バイアホール
11とを導体薄膜601によって接続するプロセス(図
4)と、を有することを特徴とする多層プリント配線板
製造方法が提供される。
10の所定の位置にバイアホール11が形成され、バイ
アホール11の開口面を覆う薄膜111aが形成され、
薄膜111a上に新たな絶縁層20が形成される。ま
た、図3に示すプロセスでは、バイアホール11と連接
するように新たな絶縁層20が穿孔される。更に、図4
に示すプロセスでは、新たな絶縁層20に形成されたラ
ンド201と、バイアホール11とが導体薄膜601に
よって接続される。
を参照して説明する。図1は、本発明の実施の形態の構
成例を示す断面図である。なお、この図において、図8
と対応する部分には、同一の符号を付してあるので、そ
の説明は適宜省略する。
プリント配線板100は、コア層1a、ビルドアップ層
1b、および、ビルドアップ層1cによって形成されて
いる。
電性を有するインナーバイアホール11〜13が埋設さ
れて形成されている。また、コア基板10の上面には、
配線パターン14,15が形成され、また、その下面に
は、配線パターン16,17が形成されている。
層20および絶縁層40がそれぞれ形成されている。絶
縁層20の上面には、バイアを接続するためのパターン
であるランド201,202および配線パターン24,
25が形成されている。なお、ランドは、例えば、円形
のパターンであり、このランドの中心部に対して後述す
るビルドアップバイアが連接されることにより、層間の
電気的な接続が図られる。
されている。この絶縁層30の上面には、ランド30
1,302と、配線パターン34,35が形成されてい
る。ここで、コア基板10のインナーバイアホール11
と、絶縁層20の上面にあるランド201と、絶縁層3
0の上面にあるランド301とは、後述するように、メ
ッキ処理によって形成された中空のビルドアップバイア
601によって電気的に接続されている。
に分けて形成されるので、1つの構成要素として扱うこ
とには問題があるが、ここでは説明を簡略化するために
1つの構成要素として示した。
面には、絶縁シート111a,111bが貼付されてお
り、これらは、コア基板10の上下面に絶縁層20,4
0をそれぞれ形成する場合において、絶縁層を構成する
素材が内部に浸透しないようにするための保護キャップ
の役割を果たす。なお、絶縁層20,40が形成され、
インナーバイアホール11とランド201とをメッキ処
理により接続する場合には、この絶縁シート111a
は、絶縁層20の一部とともにレーザ光線によって溶解
されて削除されることになる(詳細は後述する)。
ール12と、絶縁層20の上面にあるランド202と、
絶縁層30の上面にあるランド302とは、メッキ処理
によって形成された中空のビルドアップバイア602に
よって電気的に接続されている。
ル12と、絶縁層40の下面にあるランド401とは、
ビルドアップバイア603によって接続されている。更
にまた、インナーバイアホール13と、絶縁層40の下
面にあるランド402と、絶縁層50の下面に形成され
たランド501とは、ビルドアップバイア604によっ
て接続されている。
製造方法について説明する。図2〜図4は、図1に示す
インナーバイアホール11に係る部分を形成するプロセ
スの一例を示す図である。
埋設されたインナーバイアホール11の加工する側の端
面(開口面)に対して、絶縁シート111aが貼付され
る。この絶縁シートは、例えば、ポリエステル製の薄膜
の片面に対して接着剤等が塗布されて形成される。
だけ表面が撓まないように貼付する必要がある。そのよ
うにすることで、絶縁シート111aが平坦化され、そ
の上に形成される絶縁層20の上面が凹凸を有すること
を防止できる。従って、絶縁シートの素材としては、で
きるだけ可撓性が低い素材を用いるほうが望ましい。
トを用いることも可能であるが、回路パターンの短絡を
招くおそれがあることから、絶縁性のシートのほうが望
ましい。
すると、コア基板10の上面に対して絶縁層20が形成
される。そして、絶縁層20の上面に回路パターンを形
成するための銅箔20aが形成される。その結果、図2
に示すような断面を有する多層プリント配線板を得る。
を所定のパターンに加工する。その結果、インナーバイ
アホール11の真上には、ランド201が形成されるこ
とになる。ランド201には、エッチング処理により、
絶縁層20に穿孔する孔と同じ形状の孔が形成されてい
る。
20、および、絶縁シート111aを溶解し、インナー
バイアホール11の内部孔と連接する貫通孔20bを穿
孔する。
ル等のような機械的な手段によって貫通孔20bを形成
するようにしてもよい。次に、貫通孔20bが形成され
た多層プリント配線板に対してメッキ処理(例えば、銅
の電解メッキ処理)を施すことにより、絶縁層20上に
形成されたランド201とインナーバイアホール11と
を接続する導電性の薄膜(銅の薄膜)を形成する。
ンド201の上面、貫通孔20bの内周面、および、イ
ンナーバイアホール11の内周面に対して銅の薄膜が形
成され、これがビルドアップバイア601として機能す
ることになる。
ことにより、ビルドアップバイア同士を相互に接続する
ことも可能となる。即ち、図4に示すビルドアップバイ
ア601の絶縁層20側の端面に対して絶縁シート21
1を貼付した後、絶縁層30を形成し、絶縁層30上の
ランド301と、図4に示すビルドアップバイア601
とを、メッキ処理により接続する。その結果、図1に示
すように、インナーバイアホール11、絶縁層20上の
ランド201、および、絶縁層30上のランド301と
を相互に電気的に接続するビルドアップバイア601が
形成されることになる。
において、図5に示すように、ビルドアップバイア60
1が何らかの原因により正常に形成されず、接触不良個
所601aが発生したとする。
イア601の内部に対して、例えば、半田などの導電性
の金属等を流し込むことにより、図6に示すように、接
触不良個所の修復を図ることが可能となる。
等を使用することも可能である。また、設計の変更等に
よって、配線パターンを修正する必要が生じた場合に
は、図7に示すように、ジャンパ線700をビルドアッ
プバイア601の内部に挿入し、半田等を流し込むこと
により、ジャンパ線700を接続することが可能とな
る。この例では、ジャンパ線700の被覆702を剥が
すことにより露出された導線701がビルドアップバイ
ア601内に挿入された後、半田601bが流し込まれ
て接続が図られている。
態によれば、導電性物質を充填することなく、バイアを
接続可能としたので、バイアの接続不良の発生率を低減
することが可能となるとともに、導電性物質の充填不良
のチェックを省略することにより製造プロセスを簡略化
することが可能となる。
されるので、配線パターンにおけるランドの占有する面
積を相対的に減少させ、その結果、多層プリント配線板
の実装密度を一層向上させることが可能となる。
が発生した場合においても、半田等を用いて不良個所を
簡単に修復することが可能となるので、歩留まりを向上
させることができるとともに、製造コストを削減するこ
とが可能となる。
易に接続することが可能となるので、設計変更などが生
じた場合においても、柔軟に対応することが可能とな
る。また、絶縁シートを貼付した後に、絶縁層を形成す
るようにしたので、この絶縁シートが、絶縁層を形成す
る素材がバイア内部に浸透し、その分だけ絶縁層表面が
陥没することを防止するので、絶縁層の表面の平坦化が
図られる。その結果、絶縁層表面の凹凸に起因する部品
の搭載不良の発生を防止できることから、歩留まりを向
上させることが可能となる。
および図4に示すように、配線パターンを形成した後
に、レーザ光線により穿孔し、ビルドアップバイアを形
成するようにしたが、レーザ光線による穿孔を行った後
にビルドアップバイアを形成し、最後に配線パターンを
形成するようにしてもよい。
ホールが形成された絶縁層上に回路パターンを形成する
工程を繰り返すことにより、多層プリント配線板を製造
する多層プリント配線板製造方法において、絶縁層の所
定の位置にバイアホールを形成するプロセスと、バイア
ホールの開口面を覆う薄膜を形成するプロセスと、薄膜
上に新たな絶縁層を形成るプロセスと、バイアホールと
連接するように新たな絶縁層を穿孔するプロセスと、新
たな絶縁層に形成されたランドと、バイアホールとを導
体薄膜によって接続するプロセスとを有するようにした
ので、バイアの接続不良の発生率を低減するとともに、
製造プロセスを簡略化することが可能となる。
が発生した場合においても、不良個所を簡単に修復する
ことが可能となるとともに、設計変更などが生じた場合
においても、柔軟に対応することが可能となる。
その結果、部品の搭載不良の発生を防止することができ
る。
図である。
面図である。
面図である。
面図である。
された場合の修復方法の一例を示す断面図である。
された場合の修復方法の一例を示す断面図である。
合に、図4に示すプロセス完了後における修正方法の一
例を示す図である。
である。
て示した断面図である。
Claims (3)
- 【請求項1】 バイアホールが形成された絶縁層上に回
路パターンを形成する工程を繰り返すことにより、多層
プリント配線板を製造する多層プリント配線板製造方法
において、 前記絶縁層の所定の位置に前記バイアホールを形成する
プロセスと、 前記バイアホールの開口面を覆う薄膜を形成するプロセ
スと、 前記薄膜上に新たな絶縁層を形成するプロセスと、 前記バイアホールと連接するように前記新たな絶縁層を
穿孔するプロセスと、 前記新たな絶縁層に形成されたランドと、前記バイアホ
ールとを導体薄膜によって接続するプロセスと、 を有することを特徴とする多層プリント配線板製造方
法。 - 【請求項2】 前記薄膜は、絶縁性のシートであり、前
記バイアホールの開口面に対して、前記シートを接着す
ることにより前記開口面を覆うことを特徴とする請求項
1記載の多層プリント配線板製造方法。 - 【請求項3】 前記導体薄膜は、メッキ処理によって形
成されることを特徴とする請求項1記載の多層プリント
配線板製造方法。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP35526798A JP3838800B2 (ja) | 1998-12-15 | 1998-12-15 | 多層プリント配線板製造方法 |
US09/377,067 US20010039727A1 (en) | 1998-12-15 | 1999-08-19 | Manufacturing method for multilayer printed circuit board |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP35526798A JP3838800B2 (ja) | 1998-12-15 | 1998-12-15 | 多層プリント配線板製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2000183524A true JP2000183524A (ja) | 2000-06-30 |
JP3838800B2 JP3838800B2 (ja) | 2006-10-25 |
Family
ID=18442945
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP35526798A Expired - Fee Related JP3838800B2 (ja) | 1998-12-15 | 1998-12-15 | 多層プリント配線板製造方法 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US20010039727A1 (ja) |
JP (1) | JP3838800B2 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2020241831A1 (ja) * | 2019-05-31 | 2020-12-03 | 京セラ株式会社 | 印刷配線板及び印刷配線板の製造方法 |
Families Citing this family (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP2890018B1 (en) * | 2004-02-13 | 2019-06-26 | Nec Corporation | Digital wireless apparatus |
KR100751995B1 (ko) * | 2006-06-30 | 2007-08-28 | 삼성전기주식회사 | 인쇄회로기판 및 그 제조방법 |
FR2909833B1 (fr) * | 2006-12-08 | 2009-01-23 | Thales Sa | Procede de realisation d'un circuit imprime multicouche |
JP5214671B2 (ja) * | 2010-07-07 | 2013-06-19 | 株式会社東芝 | プリント配線基板の製造方法 |
TWI713842B (zh) * | 2018-05-10 | 2020-12-21 | 恆勁科技股份有限公司 | 覆晶封裝基板之製法及其結構 |
CN111565524B (zh) * | 2020-05-29 | 2022-08-30 | 新华三技术有限公司合肥分公司 | 一种电路板及其制备工艺 |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH09199854A (ja) * | 1996-01-23 | 1997-07-31 | Nec Corp | 多層配線基板、および多層配線基板の製造方法 |
JPH10322024A (ja) * | 1997-05-16 | 1998-12-04 | Hitachi Ltd | 非貫通ビアホールを有するビルドアップ多層プリント配線板及びその製造方法 |
-
1998
- 1998-12-15 JP JP35526798A patent/JP3838800B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
1999
- 1999-08-19 US US09/377,067 patent/US20010039727A1/en not_active Abandoned
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH09199854A (ja) * | 1996-01-23 | 1997-07-31 | Nec Corp | 多層配線基板、および多層配線基板の製造方法 |
JPH10322024A (ja) * | 1997-05-16 | 1998-12-04 | Hitachi Ltd | 非貫通ビアホールを有するビルドアップ多層プリント配線板及びその製造方法 |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2020241831A1 (ja) * | 2019-05-31 | 2020-12-03 | 京セラ株式会社 | 印刷配線板及び印刷配線板の製造方法 |
CN113826450A (zh) * | 2019-05-31 | 2021-12-21 | 京瓷株式会社 | 印刷布线板以及印刷布线板的制造方法 |
US11903146B2 (en) | 2019-05-31 | 2024-02-13 | Kyocera Corporation | Printed wiring board and method for manufacturing printed wiring board |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP3838800B2 (ja) | 2006-10-25 |
US20010039727A1 (en) | 2001-11-15 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US7297562B1 (en) | Circuit-on-foil process for manufacturing a laminated semiconductor package substrate having embedded conductive patterns | |
US6453549B1 (en) | Method of filling plated through holes | |
KR101046077B1 (ko) | 부품 내장 배선판, 부품 내장 배선판의 제조 방법 | |
CN102111968B (zh) | 多层布线基板的制造方法及多层布线基板 | |
CN102111952B (zh) | 多层布线基板 | |
JP3629375B2 (ja) | 多層回路基板の製造方法 | |
JP2008131036A (ja) | 印刷回路基板及びその製造方法 | |
JP3577421B2 (ja) | 半導体装置用パッケージ | |
KR100751984B1 (ko) | 전자 부품의 제조 방법 및 전자 부품 | |
JP2008016817A (ja) | 埋立パターン基板及びその製造方法 | |
JP2006100789A (ja) | 電気配線構造の製作方法 | |
KR100349119B1 (ko) | 인쇄회로기판 및 그 제조방법 | |
JP3838800B2 (ja) | 多層プリント配線板製造方法 | |
JP3770895B2 (ja) | 電解めっきを利用した配線基板の製造方法 | |
JP5317491B2 (ja) | プリント配線板の製造方法 | |
JP3155565B2 (ja) | プリント配線板の製造方法 | |
JP3575783B2 (ja) | プリント配線板およびその製造方法 | |
JP2001308484A (ja) | 回路基板及びその製造方法 | |
JP2001189559A (ja) | ビルドアッププリント配線板の製造方法 | |
JP4802402B2 (ja) | 高密度多層ビルドアップ配線板及びその製造方法 | |
JP2000200975A (ja) | 多層配線基板の製造方法 | |
JP2004335726A (ja) | キャビティ付き多層プリント配線板の製造方法 | |
JPH09130049A (ja) | 多層プリント配線板のビルドアップ法におけるバイア・ホールの形成方法およびそれにより製造される多層プリント配線板 | |
JP3759755B2 (ja) | 恒久的接続のために電気回路の上に隆起した金属接点を作成する方法 | |
JP2021119590A (ja) | 印刷配線板及び印刷配線板の製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20060523 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20060706 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20060801 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20060801 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090811 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100811 Year of fee payment: 4 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110811 Year of fee payment: 5 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |