JP2021119590A - 印刷配線板及び印刷配線板の製造方法 - Google Patents
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Abstract
Description
絶縁層及び導体部を備える印刷配線板であって、
前記絶縁層は、当該絶縁層の第1面に対して垂直な方向に形成された開口部を有し、
前記導体部は、前記開口部の少なくとも一部を埋めるように設けられている接続導体を有し、
前記開口部は、前記第1面における第1開口の径よりも、前記絶縁層の第2面側の第2開口の径が小さくなる段部を有する形状であり、
前記接続導体は、前記段部を埋めるように設けられている。
絶縁層の第1面に対して垂直な方向に開口部を形成する開口部形成工程と、
前記開口部の少なくとも一部を埋めるように接続導体を形成する接続導体形成工程と、
を含み、
前記開口部形成工程では、前記第1面における第1開口の径よりも、前記絶縁層の第2面側の第2開口の径が小さくなる段部を有する形状の前記開口部を形成し、
前記接続導体形成工程では、前記段部を埋めるように前記接続導体を形成する。
図1は、本実施形態に係る印刷配線板1の断面図である。
印刷配線板1は、導体部100と、絶縁層200と、を備えている。絶縁層200において、第2面S2は第1面S1の反対側に位置する面である。また、別の観点では、印刷配線板1は、コア層R1と、コア層R1の表裏にそれぞれ設けられたビルドアップ層R2と、を備えている。コア層R1は、導体部100の一部及び絶縁層200の一部からなり、ビルドアップ層R2は、導体部100の一部及び絶縁層200の一部からなる。
以下では、印刷配線板1の厚さ方向をZ方向とするXYZ直交座標系で印刷配線板1の各部の向きを説明する。印刷配線板1の絶縁層200の第1面S1及び第2面S2は、XY平面と平行である。図1は、印刷配線板1のY方向と垂直な断面を示す図である。以下では、印刷配線板1を構成する各層の+Z方向を向く面を「上面」とも記し、−Z方向を向く面を「下面」とも記す。
ビルドアップ層R2は、平板状の第2絶縁層22と、銅箔C1(金属箔)と、第1めっき層C2と、第2めっき層C3と、を有する。コア層R1の第1絶縁層21及びビルドアップ層R2の第2絶縁層22により絶縁層200が構成される。また、コア層R1のコア導体層C0と、ビルドアップ層R2の銅箔C1、第1めっき層C2及び第2めっき層C3と、から導体部100が構成される。
第2めっき層C3は、銅箔C1の表面、及び第1めっき層C2の表面を覆う範囲に形成されている。
第1めっき層C2及び第2めっき層C3のうち、Z方向から見て第2の開口部70Bの範囲内に形成されている部分により、第2の接続導体50が構成される。第2の接続導体50は、第1面S1上の導体層60と第2面S2上の導体層60とを電気的に接続するスルーホール51を有する。
第2めっき層C3のうち銅箔C1に重なっている部分、及び銅箔C1により、導体層60が構成される。換言すれば、第2めっき層C3のうち第1の接続導体40及び第2の接続導体50のいずれにも属さない部分、及び銅箔C1により、導体層60が構成される。
以下、第1の接続導体40及び第2の接続導体50の構造について詳しく説明する。
第1の接続導体40は、ビア41、ランド42及び表面層43を有する。ビア41は、コア導体層C0と導体層60とをランド42を介して電気的に接続する。表面層43は、ビア41の上面を覆っている。
詳しくは、第1の接続導体40のうち第1めっき層C2により構成される部分は、段部72と、主開口部71Aの一部を埋めている。第1めっき層C2のうち主開口部71Aの内壁面に接する部分によりビア41が構成されている。ビア41は、第1面S1に垂直な方向から見て第1の開口部70Aの中央に開口した凹部41aを有している。この凹部41aは、第1の接続導体40のうち第2めっき層C3により構成される表面層43により埋められている。
第2の接続導体50は、スルーホール51及びランド52を有する。
+Z方向から見た第1開口A1及び第2開口A2の形状は、第1の開口部70Aにおける第1開口A1及び第2開口A2の形状と同一であってもよいし、異なっていてもよい。また、第1開口A1と第2開口A2との距離d及び段部72の高さhは、第1の接続導体40における距離d及び高さhと同様の範囲内とすることができる。例えば、第2の接続導体50における距離d及び高さhは、第1の接続導体40における距離d及び高さhと同一とすることができる。
詳しくは、第2の接続導体50のうち第1めっき層C2により構成される部分は、段部72を埋め、主開口部71Bの内壁面に接している。また、第2の接続導体50のうち第2めっき層C3により構成される部分は、第2の接続導体50のうち第1めっき層C2により構成される部分を覆っている。第2の接続導体50のうち主開口部71Bの内壁面に形成された部分により、スルーホール51が構成されている。また、第2の接続導体50のうち段部72を埋めている部分によりランド52が構成されている。スルーホール51及びランド52は、第1めっき層C2及び第2めっき層C3からなる。スルーホール51及びランド52は、一体的に接続されている。
次に、印刷配線板1の製造方法について説明する。
図4〜図6は、印刷配線板1の製造方法を説明する断面図である。
第1工程では、図4(a)に示すように、内層回路としてのコア導体層C0が内部に形成され、銅箔C1が外面の全体に形成された基板を用意する。
第3工程では、第2工程の主開口部71Aの加工と同様に、銅箔C1及び第2絶縁層22に対して、それぞれ条件を適切に切り替えて連続してレーザ加工を行う。ただし、第2絶縁層22に対しては、段部72の高さh(10〜20μm程度)に相当する表層のみが除去されるように、第2工程よりも弱い条件でレーザ加工を行う。
なお、上記に代えて、ドリルにより銅箔C1及び第2絶縁層22を加工することで段部72を形成してもよい。
また、銅箔C1の除去は、サブトラクティブ法によるエッチングで行ってもよい。ただし、この場合においても、第2絶縁層22の除去は、レーザ加工またはドリル加工により行う。
段部72が形成されて第2絶縁層22の表面が露出した後に、除去残渣のクリーニングなどのため、過マンガン酸水溶液、プラズマ処理などの樹脂粗化処理を施す。
電解パターンめっきの完了後、めっきレジスト80を剥離する。
なお、第6工程及び第7工程は、銅箔C1をシード層としたMSAP(Modified Semi-Additive Process)によりも行ってもよい。
次に、上記実施形態の変形例1について説明する。
図7は、上記実施形態の印刷配線板1の変形例1を示す断面図である。変形例1では、第1めっき層C2が第1の開口部70Aの全体を埋めており、ビア41が凹部41aを有していない。また、第1の開口部70Aを埋める部分を含めた第1めっき層C2の全体の表面が銅箔C1の表面と面一になっており、この平坦な第1めっき層C2及び銅箔C1に重ねて第2めっき層C3が積層されている。このような構成によっても、上記実施形態と同様の効果が得られる。
本変形例1の構成は、例えば第1めっき層C2を形成する電解パターンめっきにフィルドめっきを用いることで実現することができる。
次に、上記実施形態の変形例2について説明する。
図8は、上記実施形態の印刷配線板1の変形例2を示す断面図である。変形例2では、第1の接続導体40及び第2の接続導体50が第1めっき層C2からなり、ビア41の凹部41aが第2めっき層C3(表面層43)により埋められていない。このような構成によっても、上記実施形態と同様の効果が得られる。
本変形例2の構成は、例えば第1めっき層C2の形成後に、銅箔C1をシード層としたMSAPにより導体層60を形成することで実現することができる。なお、図8では、ランド42、52の表面の高さと導体層60の表面の高さとが異なっているが、第1めっき層C2の形成量やMSAPによるパターンの形成量を調整することで、ランド42、52の表面と導体層60の表面とを面一とすることがより好ましい。
以上のように、本実施形態の印刷配線板1は、絶縁層200及び導体部100を備え、絶縁層200は、当該絶縁層200の第1面S1に対して垂直な方向に形成された開口部70を有し、導体部100は、開口部70の少なくとも一部を埋めるように設けられている第1の接続導体40及び第2の接続導体50を有し、開口部70は、第1面S1における第1開口A1の径よりも、絶縁層200の第2面S2側の第2開口A2の径が小さくなる段部72を有する形状であり、第1の接続導体40及び第2の接続導体50は、段部72を埋めるように設けられている。
例えば、上記実施形態では、印刷配線板1が、ビア41を含む第1の接続導体40、及びスルーホール51を含む第2の接続導体50の双方を備える例を用いて説明したが、これに限られず、印刷配線板1は、第1の接続導体40及び第2の接続導体50のうち一方のみを有していてもよい。
また、印刷配線板1は、片面のみに導体層60を有するものであってもよい。
21 第1絶縁層
22 第2絶縁層
23 絶縁体
40 第1の接続導体
41 ビア
41a 凹部
42 ランド
43 表面層
50 第2の接続導体
51 スルーホール
52 ランド
60 導体層
70 開口部
70A 第1の開口部
70B 第2の開口部
71A、71B 主開口部
72 段部
80 レジスト
100 導体部
200 絶縁層
C0 コア導体層
C1 銅箔
C2 第1めっき層
C3 第2めっき層
P1、P2 接続部
R1 コア層
R2 ビルドアップ層
S1 第1面
S2 第2面
Claims (15)
- 絶縁層及び導体部を備える印刷配線板であって、
前記絶縁層は、当該絶縁層の第1面に対して垂直な方向に形成された開口部を有し、
前記導体部は、前記開口部の少なくとも一部を埋めるように設けられている接続導体を有し、
前記開口部は、前記第1面における第1開口の径よりも、前記絶縁層の第2面側の第2開口の径が小さくなる段部を有する形状であり、
前記接続導体は、前記段部を埋めるように設けられている、印刷配線板。 - 前記導体部は、
深さが前記絶縁層の厚さより小さい第1の前記開口部に設けられたビアと、当該ビアに接続され前記段部を埋めるランドと、を有する第1の前記接続導体、及び、
前記絶縁層を前記第1面から前記第2面まで貫通する第2の前記開口部に設けられたスルーホールと、当該スルーホールに接続され前記段部を埋めるランドと、を有する第2の前記接続導体、
の少なくとも一方を有する、請求項1に記載の印刷配線板。 - 前記導体部は、前記第1の接続導体及び前記第2の接続導体を有する、請求項2に記載の印刷配線板。
- 前記導体部は、前記第1の接続導体を有し、
前記ビアは、前記第1面に垂直な方向から見て前記第1の開口部の中央に開口した凹部を有し、
前記第1の接続導体は、前記凹部を埋める表面層を有する、請求項2又は3に記載の印刷配線板。 - 前記導体部は、前記第2の接続導体を有し、
前記スルーホールは、前記第2の開口部の内壁面に接し、かつ前記第2の開口部の中心軸が中空となるように設けられている、請求項2〜4のいずれか一項に記載の印刷配線板。 - 前記接続導体は前記第1面から突出している、請求項1〜5のいずれか一項に記載の印刷配線板。
- 前記導体部は、前記第1面に形成され前記接続導体に電気的に接続された導体層を有し、
前記接続導体の前記第1面側の表面は、前記導体層の表面と面一である、請求項1〜6のいずれか一項に記載の印刷配線板。 - 前記第1開口と前記第2開口との間の、前記第1面に平行な方向についての距離は0.2mm以下である、請求項1〜7のいずれか一項に記載の印刷配線板。
- 前記段部の、前記第1面に垂直な方向についての高さは20μm以下である、請求項1〜8のいずれか一項に記載の印刷配線板。
- 絶縁層の第1面に対して垂直な方向に開口部を形成する開口部形成工程と、
前記開口部の少なくとも一部を埋めるように接続導体を形成する接続導体形成工程と、
を含み、
前記開口部形成工程では、前記第1面における第1開口の径よりも、前記絶縁層の第2面側の第2開口の径が小さくなる段部を有する形状の前記開口部を形成し、
前記接続導体形成工程では、前記段部を埋めるように前記接続導体を形成する、印刷配線板の製造方法。 - 前記開口部形成工程は、
前記第1面に予め形成されている金属箔をサブトラクティブ法により除去する工程と、
前記絶縁層のうちの一部の領域をレーザ又はドリルにより一部除去して前記段部を形成する工程と、
を含む、請求項10に記載の印刷配線板の製造方法。 - 前記接続導体形成工程では、前記段部を少なくとも埋めるように電解パターンめっきを施す、請求項10又は11に記載の印刷配線板の製造方法。
- 前記接続導体形成工程では、前記電解パターンめっきの後に、該電解パターンめっきにより形成された凹部に電解パネルめっきを施し、前記凹部を導体で充填する、請求項12に記載の印刷配線板の製造方法。
- 前記接続導体に電気的に接続されるように導体層を前記第1面に形成する導体層形成工程を含み、
該導体層形成工程では、電解パネルめっきにより形成された導体に対してサブトラクティブ法を施して前記導体層のパターンを形成する、請求項10〜12のいずれか一項に記載の印刷配線板の製造方法。 - 前記接続導体に電気的に接続されるように導体層を前記第1面に形成する導体層形成工程を含み、
前記導体層形成工程では、MSAP法により前記導体層のパターンを形成する、請求項10〜12のいずれか一項に記載の印刷配線板の製造方法。
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