JP2000182237A - 磁気記録ディスク研磨用布帛及び研磨方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 磁気記録ディスク基盤を効率良く、又部分的
な深い傷を作らずに得ることができる研磨用布帛及びそ
の方法を提供する。 【解決手段】 布帛に使用する０．３デニール以下のマ
ルチフィラメント糸糸条の単糸フィラメント糸が朱子組
織又は綾組織による経糸の傾きと、撚糸による傾きの両
者により、研磨布帛の長手方向に対して１０度以上の傾
きを成し、ダイヤモンドスラリーを併用する研磨工程で
ダイヤモンド粒が研磨布帛に全面に均一に散布されるこ
ととなり均一で効率的な研磨が可能となる磁気記録ディ
スクの研磨用布帛。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、磁気記録媒体の製
造工程において、磁気記録ディスク基盤の表面を研磨す
る際に用いる研磨用布帛及び該研磨用布帛を用いた研磨
方法に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】従来、磁気記録ディスク基盤の研磨方法
として、例えば特開平４−２２２９２５号公報には、磁
気記録ディスク基盤を通常のポリッシング用に使用され
る布帛で作られる研磨テープと磁気記録ディスク基盤を
接触回転させながら１〜５μｍの研磨砥粒を含有する研
磨液を研磨テープと磁気記録ディスク基盤の間に流し込
むことにより行う方法が開示されている。

【０００３】また特開平６−１８７６３７号公報には、
ポリエステル織物やポリアミド織物やセルロース織物等
からなる研磨用布帛を使用し該研磨用布帛と磁気記録デ
ィスクの間に０．５〜５μｍと０．０１〜０．５μｍの
二種類の粒度分布を有する研磨砥粒からなる研磨液を供
給しながら研磨する方法が開示されている。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】しかし、上記のような
従来の方法では安定した良好な研磨が出来ず、目標とす
る平均表面粗度が得られなかったり、研削速度が遅かっ
たり、部分的な深い傷が発生することがあり、これらの
問題点の改善が求められている。本発明は、これらの従
来方法の問題点を改善することを課題とするものであ
り、磁気記録ディスク基盤を効率良く、また部分的な深
い傷を作らずに研磨できる研磨用布帛及び磁気記録ディ
スク基盤を効率良く、また部分的な深い傷を作らずに研
磨する方法を提供することを目的とするものである。

【０００５】

【課題を解決するための手段】本発明者等は、このよう
な課題を解決するために、鋭意検討の結果、研磨方向と
研磨布帛の表面の単フィラメントの方向の組合せ、繊維
の適正な単糸デニール、単フィラメントの適正な断面形
状により目標とする平均表面粗度が得られ、研削速度が
早く、部分的な深い傷が発生し難い研磨が可能であると
いう事実を見いだし、本発明に至った。すなわち、本発
明は、織物組織が朱子組織又は綾組織であり、朱子線又
は綾線の方向と逆方向の撚線方向が与えられた合成繊維
マルチフィラメント糸よりなる織物であることを特徴と
する磁気記録ディスク用研磨布帛であり、また、朱子線
又は綾線の方向と逆方向の撚線方向が与えられた、合成
繊維マルチフィラメント糸の単フィラメント繊度が０．
３デニール以下である上記磁気記録ディスク用研磨布
帛、合成繊維マルチフィラメント糸の断面形状がほぼ二
等辺三角形である上記磁気記録ディスク用研磨布帛、合
成繊維マルチフィラメント糸に撚係数が２０００〜１０
０００の撚が与えられている磁気記録ディスク用研磨布
帛、及び上記の磁気記録ディスク用研磨布帛を使用する
ことを特徴とする磁気記録ディスクの研磨方法を要旨と
するものである。

【０００６】

【発明の実施の形態】以下本発明を詳細に説明する。本
発明の磁気記録ディスク用研磨布帛は、織物組織が朱子
組織又は綾組織である織物である。本発明でいう朱子組
織とは、一完全組織が経糸、緯糸共に５本以上で形成さ
れる正則朱子組織であり、５枚朱子やその他７枚朱子、
８枚朱子、１０枚朱子等が挙げられる。また経糸が主に
浮くものを経朱子、緯糸が主に浮くものを緯朱子という
が、本発明ではいずれの朱子組織をも用いることができ
る。一般的に朱子組織では明瞭な朱子線が視認し難い
が、朱子線を意識して注意深く観察すると経糸の傾き
と、この傾きが連続して配置されることによる朱子線が
確認できる。

【０００７】また、本発明でいう綾組織とは、経糸が緯
糸を少なくとも２本以上浮いた部分と、この浮きの部分
が、ずれて規則的に配置されていて、比較的明瞭な綾線
が発現し、経糸が傾いて配置されているものをいう。具
体的には緯糸を２本浮き、次いで２本沈む経糸が、緯糸
を一本分ずつずれて配置される２／２綾や、緯糸を３本
浮き、次いで２本沈む経糸が、緯糸を一本ないし二本ず
らして配置する３／２綾等が挙げられる。その他２／１
綾，４／１綾等の一般的な綾組織がある。本発明でいう
朱子線又は綾線とは朱子組織或いは綾組織の織物の表面
に現れる斜め方向に走る組織癖による線のことである。

【０００８】この斜め方向の線は、朱子組織や綾組織等
の組織癖によって現れ、さらに、経糸がこの朱子線や綾
線の方向と逆方向に傾いて配置されることとなる。たと
えば図１に示す２／２の右上がりの綾（右上がりの綾
線）を例にして、この経糸の傾きについて説明すると、
ある経糸Ａは緯糸を２本浮いた後、次の緯糸を２本沈ん
で組織され再び次の２本の緯糸を浮いて組織される。こ
れを繰り返しながら製織される。一方、経糸Ａの右隣の
経糸Ｂは経糸Ａが浮いている２本の緯糸の間から浮きが
始まり、経糸Ａが浮いている二本目の緯糸と、次に経糸
Ａが沈んでいる２本の緯糸の最初の一本目の緯糸を浮
き、続いて経糸Ａの沈んでいる緯糸の間から沈み込み、
再び経糸Ａが浮いている２本の緯糸の間から浮きがはじ
まる。このとき、経糸Ｂは緯糸を２本浮いているがこの
２本の緯糸の最初の一本目は左隣に経糸Ａが在るため、
左方向には動けない。しかし次の２本目の緯糸上では左
隣には経糸Ａの経糸が無く、横方向に若干の力が掛かれ
ば簡単に動くことができる。実際の製織においては経糸
Ｂの右隣に経糸Ｃがあり、この経糸Ｃに押されて経糸Ｂ
は左方向にずれることなる。また経糸Ｂの最初の緯糸一
本目の浮いた部分はその右隣に経糸Ｃが無いため経糸Ａ
に押されて右方向にずれる。こうして経糸Ｂは全体とし
て左上がりに傾くこととなる。経糸Ａも経糸Ｃも同じメ
カニズムにより左上がりに傾いて配置される。朱子組織
であっても前記理屈により経糸は傾き、この傾きと逆方
向の朱子線が視認できる。

【０００９】これらの朱子組織における朱子線や綾組織
における綾線は、組織設計により右上がり又は左上がり
となるが、本発明では朱子線や綾線の方向はいずれでも
よい。この朱子線や綾線を発現させる経糸の傾き角度
は、使用する糸条の太さと組織の密度や組織設計によっ
て影響される。例えば、１００デニールのポリエステル
長繊維加工糸を経糸に使用し、緯糸に７５デニールのポ
リエステル長繊維を緯糸に使用した経５枚朱子組織の織
物を、経糸密度３００本／吋、緯糸密度１３５本／吋に
精練仕上げした織物を顕微鏡観察すると織物の長手方向
を基準にしてとほぼ８度の角度で傾いている。

【００１０】本発明の磁気記録ディスク用研磨布帛は、
合成繊維マルチフィラメント糸からなる織物である。合
成繊維としては、ポリエステル、ポリアミド等からなる
繊維が挙げられ、ポリエステルとしては、ポリエチレン
テレフタレートあるいはこれを主体とし、第３成分を共
重合したポリエステルが挙げられ、ポリエチレンテレフ
タレートからなる繊維であるのが好ましい。

【００１１】磁気記録ディスクの研磨表面の平均粗さを
２０Å以下に抑える場合には、５μｍ以下の平均粒径の
ダイヤモンド粒が都合良く使用されるので、このような
微細粒子を効率よく把持するため、合成繊維マルチフィ
ラメント糸の単フィラメント繊度が０．３デニール以下
であるのが好ましい。

【００１２】また、合成繊維マルチフィラメント糸は、
ほぼ二等辺三角形状の断面を有するのが好ましい。この
二等辺三角形状は、繊維製造時のポリマーの流動力学特
性、繊維加工工程途上の加熱、加圧、薬剤等の影響によ
る変形を受けて、幾何学でいう完全な二等辺三角形とは
異なるものであっても本発明の効果を発揮するものであ
れば十分である。すなわち各単糸の二等辺三角形の角
は、それぞれ若干の曲率を持つ円弧を示している。たと
えば、頂角部は約０．５μｍの曲率半径を有し、両底角
部は約１μｍの曲率半径を有する円弧である。また、頂
角を挟む二辺は若干湾曲したり二辺の長さが若干違った
り、底辺も円弧を呈している。また、該二等辺三角形の
頂角は４５度以下で、この頂角を挟む二辺の長さが７．
１μｍ以下で、底辺の長さが５．６μｍ以下であるのが
好ましい。このような二等辺三角形断面としておくと、
二等辺三角形のそれぞれの鋭角が磁気記録ディスク基盤
用研磨の際の研磨砥粒による研削効果を補助的に向上さ
せ、効率的で安定した研磨を可能にする。

【００１３】このような断面形状は、アルカリ等への溶
解特性の異なる異種ポリマーを組み合わせ、円形断面が
分割される形に配置して製糸し，後加工時に易溶性ポリ
マーを溶解して分割することにより得ることができる。
具体的には、例えば図２のごとくアルカリへの難溶性ポ
リマー１としてポリエチレンテレフタレートをアルカリ
への易溶性ポリマー２を介して接合するように８分割の
形状に配したものが挙げられる。易溶性ポリマーとして
は、この場合ポリエチレンテレフタレートよりアルカリ
溶解性の大きいポリマーであればよく、例えばスルホイ
ソフタル酸共重合ポリエステルを用いることができる。

【００１４】本発明では、上記の合成繊維マルチフィラ
メント糸に撚を付与して織物としている。一般的に糸条
に撚を掛けると、糸条を構成するフィラメントが螺旋状
に捻られる。そしてフィラメントの傾きによって右上が
りの傾きのものをＺ撚（左撚）、左上がりのものをＳ撚
（右寄り）と称している。本発明でいう朱子線や綾線の
方向と逆方向の撚線方向とは、朱子線や綾線が右上がり
であればマルチフィラメント糸の単フィラメントの傾き
が左上がり”Ｓ撚（右撚）”の撚形態をいう。前記朱子
組織や綾組織による経糸の傾きは前述のごとく、朱子線
や綾線と逆方向であり、本発明で言うところの、朱子線
や綾線方向と逆方向の撚線方向とは経糸の傾きと同方向
と言うことである。

【００１５】この撚による単フィラメントの傾き角度
は、１００デニールのポリエステル長繊維に６００回／
ｍの撚を掛けた場合理論的には約４度となるが、マルチ
フィラメント糸同士の空隙による見掛け太さの増大、撚
縮み、加工縮み（熱収縮）、単フィラメント間の緩みや
屈折による膨らみ等の影響で実際には５〜１０度の傾き
が見られる。

【００１６】本発明でいう撚係数とは、マルチフィラメ
ント糸のデニールの二乗根と１メートル間の撚数の積で
表されるものである。例えば１００デニールのマルチフ
ィラメント糸に３００回／ｍの撚数がある場合の撚係数
は３０００となる。この撚係数によってマルチフィラメ
ント糸の単フィラメントの傾き（撚角度）が決定され、
撚係数３０００の場合ほぼ理論的には２度の傾き角度
（撚角度）となる。撚係数が２０００以下であると、必
要な単糸フィラメントの傾き角度が得られず、磁気記録
ディスクの研磨を行う場合の研磨性が低下してくる。ま
た、撚係数が１００００を越えるとフィラメント間の隙
間が詰まり過ぎ、研磨布帛としては好ましくない。

【００１７】経糸の単フィラメントの研磨布帛の長手方
向に対する傾きは朱子組織や綾組織による経糸の傾き角
度と撚糸による傾き角度とを加算したものとなる。例え
ば朱子組織や綾組織による経糸の傾きが８度で、撚糸に
よる単フィラメントの傾きが前記経糸と同じ方向の傾き
で、７度であれば合計１５度の傾きがあることとなる。
この単フィラメントの傾き角度は研磨性において重要な
要因の一つであり、磁気記録ディスクの研磨方向（研磨
布帛の長手方向）に対して１０度以上の傾きがあると研
磨性に良いことが分かった。

【００１８】一方、磁気記録ディスクの研磨の際に研磨
粒としてダイヤモンドスラリーを併用することが一般的
に行われているが、このダイヤモンドの平均粒径は０．
０１〜１０μｍのものが使用されることが多い。特に表
面の平均粗さを２０Å以下に抑える場合５μｍ以下の平
均粒径のダイヤモンド粒が都合良く使用される。求めら
れる表面粗さ、研磨速度、研磨品位によってダイヤモン
ドの適正な平均粒径は変わり、使用するマルチフィラメ
ント糸の単フィラメントの繊度による影響もあり、単フ
ィラメントの繊度が０．３デニール以下であると研磨性
向上に寄与する。０．３デニールのポリエステルは円形
断面換算で直径がおよそ５．５μｍで有り、０．１デニ
ールのポリエステルは円形断面換算で直径がおよそ３．
２μｍで有り、０．０５デニールのポリエステルは円形
断面換算で直径がおよそ２．２μｍである。

【００１９】本発明で使用するダイヤモンド粒等の研磨
砥粒のスラリーは一般的に市販されているが、たとえば
平均粒度が５μｍの合成ダイヤモンンドを純水に０．４
重量％分散させたものがある。このダイヤモンドスラリ
ーを使用して研磨する場合、研磨布帛が磁気記録ディス
クと接触している一定面積の部分で純水のみが濾過され
て、ダイヤモンド粒が布帛の縦横方向にほぼ均一に残査
として残ることが均一な研磨を行うため必要である。

【００２０】研磨布帛を構成しているマルチフィラメン
ト糸の単フィラメントの方向が研磨布帛の長手方向と傾
きがなければ研磨粒は、ほとんどフィラメントとフィラ
メントの間隙に収まって、ダイヤモンド粒による研削が
横方向に間歇的に行われることとなって均一性に欠け、
また研削速度も遅くなり好ましくない。一方本発明のよ
うに織物組織によりマルチフィラメント糸の傾き角度が
研磨方向に対して傾いていて、さらに単フィラメントが
傾いて配置されている場合には、ダイヤモンド粒がフィ
ラメント間隙の間に収まっていると、一定面積の範囲内
でダイヤモンド粒は縦横方向にほぼ全面に存在すること
となり均一で効率的な研磨が可能となる。

【００２１】研磨用布帛とダイヤモンド等の研磨砥粒の
組合わせによる研削においては、削り滓が表面に残ると
この削り滓が未研削面を覆っていくので、研削表面全体
の研削効率を低下させていく。この削り滓を速やかに除
去するため該単糸フィラメントの二等辺三角形の角（若
干の曲率半径を有する円弧による角）が有効に機能し、
二等辺三角形の頂角を４５度以下の鋭角の楔形にしてお
くと、より削り滓が削ぎ落とされ、従来の研磨布帛素材
より格段に研削効率が向上する。この楔形によって削が
れて浮いた削り滓は、研磨液の水分で洗い流されるか、
研磨布帛の二等辺三角形のマルチフィラメント糸糸群の
中に分散して捕獲され被研磨物の表面から離脱させるこ
とができる。

【００２２】本発明で二等辺三角形の断面の単フィラメ
ントを使用する場合、断面の大きさも大きな重要な要因
となり、研磨砥粒の平均粒度より小さすぎても、大きす
ぎても研削効率に影響してくる。すなわち、研磨砥粒の
平均粒度が５μｍ以下である場合、二等辺三角形の二等
辺を７．１μｍ以下とするのが好ましく、より好ましく
は６．０μｍ以下、更に好ましくは５．４μｍ以下と
し、底辺を５．６μｍ以下とするのが好ましく、より好
ましくは４．７μｍ以下、更に好ましくは４．２μｍ以
下とする。

【００２３】単糸フィラメントの断面の大きさは、研磨
砥粒の平均粒度と密接な関係が予測され、本発明者等の
実験によると、研磨砥粒の４０％〜１６０％程度である
のが好ましく、さらには６０〜１４０％であるのが好ま
しい。本発明の研磨布帛構成する上記の合成繊維マルチ
フィラメント糸を含む糸条は、撚糸、流体交絡、他種糸
との合撚、捲縮加工等の糸加工を必要に応じて任意に行
うことができ、織物には撥水加工、吸水加工、制電加
工、柔軟平滑加工、抗菌加工、防融加工、耐熱加工その
他の樹脂加工等を必要に応じて任意に行うことができ
る。

【００２４】本発明の研磨用布帛を用いた研磨は、布帛
と被研磨物の間に、研磨砥粒を含む研磨液を介在させな
がら研磨する。この場合磁気記録ディスク基盤として必
要な表面粗度を得るために研磨砥粒としては平均粒径１
０μｍ以下の大きさのもの、好ましくは５μｍ以下の大
きさのものを用いる。これにより平均表面粗度が２０Å
以下の表面状態を有する磁気記録ディスク基盤を得るこ
とができる。具体的な例としては，研磨部の概略を示し
た図３のような磁気記録ディスク基盤研磨機を使用し
て，本発明の研磨用布帛を所定の幅に裁断して研磨用テ
ープとして，研磨砥粒としてダイヤモンド粒を一定量含
むスラリーを，磁気記録ディスク基盤と研磨テープとの
間に注入し，磁気記録ディスク基盤の回転速度を回転さ
せると共に，研磨テープを磁気記録ディスク基盤の回転
と同方向又は逆方向に移動させつつ研磨する。

【００２５】

【作用】研磨布帛に使用する合成繊維マルチフィラメン
ト糸の単フィラメントが朱子組織又は綾組織による経糸
の傾きと、撚糸による傾きの両者により、ダイヤモンド
スラリーを併用する研磨工程でダイヤモンド粒が研磨布
帛に全面に均一に散布されることとなり均一で効率的な
研磨が可能となる。また単フィラメントの三角形断面の
角により、被研削物表面の削り滓を速やかに削ぎ落とし
て除去することが可能であり、効率的な研削が可能にな
る。研磨砥粒の平均粒度と断面の大きさがほぼ同じであ
る（頂角をはさむ二辺の長さが研磨砥粒の粒径の４０〜
１６０％である）二等辺三角形断面の単糸フィラメント
からなるマルチフィラメント糸を経糸として緯糸を２本
以上浮かせて組織して構成することにより、過負荷が掛
かった時にフィラメントの軸方向に研磨粒の移動が容易
で、また二等辺三角形の頂角付近では繊維の厚さも薄い
ので曲げ剛性が小さくフィラメントの軸と直角方向にも
研磨砥粒は移動し易く、部分的な傷が付く前に研磨粒が
移動して深く傷付けることがない。また、単フィラメン
トが細く、フィラメント数が多く表面積が大きいので研
磨液を多く含むことが可能であり、研磨砥粒を把持する
隙間が多いので研磨砥粒を多く保有することができ、優
れた研磨効果を得ることができる。

【００２６】

【実施例】次に実施例によって本発明を説明する。実施
例における評価は, 次の方法により行った。 （１）朱子線方向、経糸傾き及び撚糸による単フィラメ
ントの傾き 顕微鏡観察により実測した。 （２）分割後の単糸断面の二等辺長，底辺長及び頂角 電子顕微鏡による４００倍拡大写真より測定した。 （３）ディスク研磨試験 試料を幅４０ｍｍに裁断した研磨用テープを用いて図３
に示す磁気記録ディスク基盤研磨機により，外径９５ｍ
ｍ，穴径２５ｍｍ，厚さ１ｍｍの磁気記録ディスク基盤
５枚を研磨した。その研磨条件としては，研磨砥粒とし
て平均粒径５μｍ以下のダイヤモンド粒を０．４重量％
含むスラリーを，磁気記録ディスク基盤と研磨テープと
の間に３ミリリットル／分で注入し，磁気記録ディスク
基盤の回転速度を４００ｒｐｍ，研磨テープの移動を磁
気記録ディスク基盤の回転と逆方向に１０ｃｍ／分とし
て，２０秒間研磨した。研磨前後のディスクの重量差よ
り１秒間の平均研磨量を算出して研磨速度（mg／秒：目
標研磨速度０．２mg／秒以上）とした。研磨後のディス
クを顕微鏡で観察し，異常に深い研磨傷を係数（目標値
２．０個／面以下）とし，表面粗さを触針式ＴＥＮＣＯ
Ｒ−Ｐ２表面粗さ計により測定（目標値２０Å以下）し
た。

【００２７】実施例１ 難溶性ポリマー１としてポリエチレンテレフタレート
を，易溶性ポリマー２としてポリエチレンテレフタレー
トに第三成分としてスルホイソフタル酸を２モル％共重
合したポリエステルを図２のごとく二等辺三角形のフィ
ラメントに８分割可能な断面構造に配して，難溶性ポリ
マー１と易溶性ポリマー２の割合を８１：１９として製
糸した８分割フィラメント糸１０５デニール４８フィラ
メントに６００回／ｍの撚糸（撚方向Ｓ方向、撚線方向
左上がり、撚係数６１４８）をして経糸及び緯糸として
用いて，５枚経朱子組織（朱子線右上がり組織）にて経
密度２５０本／吋，緯密度８３本／吋の朱子織物を製織
し，この織物を精練，プレセットした後，苛性ソーダ２
０ｇ／Ｌ、浴比１：３０，温度９８℃の条件により易溶
性ポリマー２を溶出する分割処理と仕上げセットを行う
ことにより，断面が二等辺三角形，単糸繊度が０．２５
デニールで，撚係数が５５３３のポリエステルマルチフ
ィラメント糸からなる本発明の磁気記録ディスク研磨用
布帛を得た。

【００２８】実施例２ 実施例１において，８分割フィラメント糸の繊度を４０
デニールとし撚数を５００回／ｍ（撚係数３１６２），
経密度を６５６本／吋，緯密度を２１８本／吋とするこ
と以外は実施例１と同様にして断面が二等辺三角形，単
糸繊度が０．０９デニールで，撚係数が２８４６のポリ
エステルマルチフィラメント糸からなる本発明の磁気記
録ディスク研磨用布帛を得た。

【００２９】比較例１ 実施例１において，撚方向をＺ方向（撚線方向右上が
り）にする以外は実施例１と同様にして比較例の磁気記
録ディスク研磨用布帛を得た。

【００３０】比較例２ 実施例２において，撚方向をＺ方向（撚線方向右上が
り）にする以外は実施例２と同様にして比較例の磁気記
録ディスク研磨用布帛を得た。

【００３１】比較例３ 実施例１において，撚数１３００回／ｍ（撚係数：１３
３２１）をにする以外は同様にして比較例の磁気記録デ
ィスク研磨用布帛（撚係数：１１９８９）を得た。得ら
れた実施例１〜２及び比較例１〜３の性能をまとめて表
１に示す。

【００３２】

【表１】

【００３３】表１から明らかなように、実施例１及び実
施例２の研磨用布帛を用いて磁気記録ディスク基盤を研
磨した結果は、研磨性、研磨表面共に良好であった。撚
係数の大きい糸条を用いた実施例３は、研磨性、研磨表
面共に良好であるが、実施例１〜２に比較するとやや劣
るものであった。これに対して、朱子線と撚線の方向が
同一である比較例１及び比較例２は、研磨速度が遅く、
研磨表面も深い傷数が多く、粗さも粗いものであった。

【００３４】

【発明の効果】本発明によれば、磁気記録ディスク基盤
を効率良く、又部分的な深い傷を作らずに研磨できる研
磨用布帛及び磁気記録ディスク基盤を効率良く、部分的
な深い傷を作らずに研磨できる方法を提供することがで
きる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明に使用する８分割割繊糸の断面を示す図
である。

【図２】本発明に使用できる織物組織図の例である。

【図３】本発明の磁気記録ディスク用基盤の研磨機構を
示すモデル図である。

【符号の説明】

１ 難溶性ポリマー ２ 易溶性ポリマー ３ 磁気記録ディスク基盤 ４ 研磨布帛からなる研磨テープ ５ ダイヤモンドスラリー Ａ〜Ｄ 経糸

Claims (5)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 織物組織が朱子組織又は綾組織であり、
   朱子線又は綾線の方向と逆方向の撚線方向が与えられた
   合成繊維マルチフィラメント糸よりなる織物であること
   を特徴とする磁気記録ディスク用研磨布帛。
2. 【請求項２】 合成繊維マルチフィラメント糸の単フィ
   ラメントの繊度が０．３デニール以下である請求項１記
   載の磁気記録ディスク用研磨布帛。
3. 【請求項３】 合成繊維マルチフィラメント糸の断面形
   状がほぼ二等辺三角形である請求項２記載の磁気記録デ
   ィスク用研磨布帛。
4. 【請求項４】 合成繊維マルチフィラメント糸の撚係数
   が２０００〜１００００である請求項３記載の磁気記録
   ディスク用研磨布帛。
5. 【請求項５】 請求項１、請求項２、請求項３又は請求
   項４記載の磁気記録ディスク用研磨布帛を使用すること
   を特徴とする磁気記録ディスクの研磨方法。