JPH11277452A - 磁気記録ディスク研磨用布帛及び研磨方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 磁気記録ディスク基盤を効率良く、又部分的
な深い傷を作らずに得ることができる研磨用布帛及びそ
の方法を提供する。 【解決手段】 頂角が４５度以下で、該頂角をはさむ二
辺の長さがそれぞれ７．μｍ以下、底辺が５．６μｍ以
下であるほぼ二等辺三角形状の断面を有する分割型単糸
フィラメントからなるマルチフィラメント糸条で経糸を
構成し、緯糸に対して該経糸が少なくとも２本以上浮い
た組織で構成されている磁気記録ディスク基盤研磨用布
帛

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、磁気記録媒体の製
造工程のうち磁気記録ディスク基盤の表面を研磨する際
に用いる研磨用布帛及び該研磨用布帛を用いた研磨方法
に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】従来、磁気記録ディスク基盤の研磨方法
としてたとえば特開平４−２２２９２５号公報には、磁
気記録ディスク基盤を通常のポリッシング用に使用され
る布帛で作られる研磨テープと磁気記録ディスク基盤を
接触回転させながら１〜５μｍの研磨砥粒を含有する研
磨液を研磨テープと磁気記録ディスク基盤の間に流し込
むことにより行う方法が開示されている。

【０００３】また特開平６−１８７６３７号公報にはポ
リエステル織布やポリアミド織布やセルロース織布等か
らなる研磨用布帛を使用し該研磨用布帛と磁気記録ディ
スクの間に０．５〜５μｍと０．０１〜０．５μｍの二
種類の粒度分布を有する研磨砥粒からなる研磨液を供給
しながら研磨する方法が開示されている。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】しかし、上記のような
従来の方法では安定した良好な研磨が出来ず、目標とす
る平均表面粗度が得られなかったり、研削速度が遅かっ
たり、部分的な深い傷が発生することがあり、問題点と
してこれらの改善が求められている。

【０００５】本発明はこれらの従来方法の問題点を改善
することを課題とするものであり、磁気記録ディスク基
盤を効率良く、また部分的な深い傷を作らずに研磨でき
る研磨用布帛及び磁気記録ディスク基盤を効率良く、ま
た部分的な深い傷を作らずに研磨する方法を提供するこ
とを目的とするものである。

【０００６】

【課題を解決するための手段】本発明者等は、このよう
な課題を解決するために、鋭意検討の結果、研磨布帛の
表面状態と研磨砥粒の平均粒度の組み合わせにより、目
標とする平均表面粗度が得られ、研削速度が早く、部分
的な深い傷が発生し難い研磨が可能であるという事実を
見いだし、本願発明に至った。

【０００７】すなわち、本発明は、頂角が４５度以下
で、該頂角をはさむ二辺の長さがそれぞれ７．１μｍ以
下、底辺が５．６μｍ以下であるほぼ二等辺三角形状の
断面を有する単糸フィラメントからなるマルチフィラメ
ント糸条で経糸を構成し、緯糸に対して該経糸が少なく
とも２本以上浮いた組織で構成されていることを特徴と
する磁気記録ディスク基盤研磨用布帛であり、さらに
は、頂角が４５度以下で、該頂角をはさむ二辺の長さが
それぞれ７．１μｍ以下、底辺が５．６μｍ以下である
ほぼ二等辺三角形状の断面を有する単糸フィラメントか
らなるマルチフィラメント糸条で経糸を構成し、緯糸に
対して該経糸が少なくとも２本以上浮いた組織で構成さ
れた布帛と被研磨物の間に、平均粒径７μｍ以下の研磨
砥粒を含む研磨液を介在させながら研磨することを特徴
とする磁気記録ディスク基盤の研磨方法を要旨とするも
のである。

【０００８】

【発明の実施の形態】以下本発明を詳細に説明する。

【０００９】本願発明でいうほぼ二等辺三角形状を有す
る断面の単糸フィラメントは、図１に示すごとく溶解特
性の異なる異種ポリマーを組み合わせ、円形断面が分割
される形に配置して製糸し，後加工時に易溶性ポリマー
を溶解して分割することにより得ることができる。該二
等辺三角形は、繊維製造時のポリマーの流動力学特性、
繊維加工工程途上の加熱、加圧、薬剤等の影響で多少の
変形を伴うので幾何学的に正確な二等辺三角形とは若干
異なるものである。

【００１０】すなわち本発明の二等辺三角形の角は、そ
れぞれ若干の曲率を持つ円弧を示している。たとえば、
頂角部は約０．５μｍの曲率半径を有し、両底角部は約
１μｍの曲率半径を有する円弧である。また、頂角を挟
む二辺は若干湾曲したり二辺の長さが若干違ったり、底
辺も円弧を呈している。

【００１１】このように本発明でいう二等辺三角形状と
は幾何学でいう数学的な二等辺三角形とは若干異なるも
のであるが本発明の効果を発揮するには十分である。

【００１２】また、該二等辺三角形の頂角は４５度以下
で、この頂角を挟む二辺の長さが７．１μｍ以下で、底
辺の長さが５．６μｍ以下であることが必要である。

【００１３】具体的な断面形状としては、図１のごとく
難溶性ポリマー１としてポリエチレンテレフタレートを
易溶性ポリマー２を介して接合するように８分割の形状
に配したものが挙げられる。易溶性ポリマーとしては、
ポリエチレンテレフタレートよりアルカリ溶解性の大き
いポリマーであればよく、例えばスルホイソフタル酸共
重合ポリエステルを用いることができる。

【００１４】該二等辺三角形のそれぞれの鋭角が磁気記
録ディスク基盤用研磨の際の研磨砥粒による研削効果を
補助的に向上し、効率的で安定した研磨を可能にする。

【００１５】研磨用布帛とダイヤモンド等の研磨砥粒の
組合わせによる研削においては、削り滓が表面に残ると
この削り滓が未研削面を覆っていくので、研削表面全体
の研削効率を低下させていく。この削り滓を速やかに除
去するため該単糸フィラメントの二等辺三角形の角（若
干の曲率半径を有する円弧による角）が有効に機能し、
４５度以下の鋭角の楔形により削り滓が削ぎ落とされ、
従来の研磨布帛素材より格段に研削効率が向上する。

【００１６】この楔形によって削がれて浮いた削り滓
は、研磨液の水分で洗い流されるか、研磨布帛の二等辺
三角形のマルチフィラメント糸群の中に分散して捕獲さ
れ被研磨物の表面から離脱する。

【００１７】本発明で使用する単糸フィラメントの二等
辺三角形の断面の大きさも本発明の大きな構成要因であ
り、研磨砥粒の平均粒度より小さすぎてはいけないし、
大きすぎてもいけない。すなわち、研磨砥粒の平均粒度
が７μｍ以下（好ましくは５μｍ以下）であることが磁
気記録ディスク基盤として必要な表面粗度を得るために
必要であるので、使用する二等辺三角形の二等辺は７．
１μｍ以下、好ましくは６．０μｍ以下、更に好ましく
は５．４μｍ以下で、底辺は５．６μｍ以下、好ましく
は４．７μｍ以下、更に好ましくは４．２μｍ以下とす
る。

【００１８】単糸フィラメントの断面の大きさは、研磨
砥粒の平均粒度と密接な関係が予測され、本発明者等の
実験によると、研磨砥粒の６０％〜１４０％程度である
のが好ましく、さらには８０〜１２０％であるのが好ま
しいことが判明した。

【００１９】また、該マルチフィラメント糸が織物の経
糸を構成すること，及び織物の組織は、朱子組織、綾組
織、ななこ組織等のように、緯糸に対して該経糸が少な
くとも２本以上浮いた組織であることも本発明の大きな
構成要因である。

【００２０】本発明で使用する織物は、緯糸に対して経
糸が２本以上浮いているので経糸のフィラメント単糸同
士が融通し合って研磨砥粒や削り滓を包含し易く、また
布帛のフィラメント方向は研削方向と同一であるという
理由により、研磨砥粒に過大な力が掛かった時、研磨砥
粒はフィラメントに沿って比較的移動し易く、研磨砥粒
が被研磨物に食い込むことが少ないので部分的な深い傷
を発生させ難いとの効果が得られる。

【００２１】本発明の布帛の経糸を構成するマルチフィ
ラメント糸は、単糸繊度が小さく、フィラメント数が多
いので研磨液を多く含むこと（研磨砥粒を多く保有する
こと）が可能で研磨効果が従来の研磨用布帛より大きい
ものである。

【００２２】本発明で使用する該マルチフィラメント糸
条は、撚糸、流体交絡、他種糸との合撚、捲縮加工等の
糸加工を必要に応じて任意に行うことができ、織物には
撥水加工、吸水加工、制電加工、柔軟平滑加工、抗菌加
工、防融加工、耐熱加工その他の樹脂加工等を必要に応
じて任意に行うことが出来る。

【００２３】本発明の研磨用布帛を用いた磁気記録ディ
スク基盤の研磨は、布帛と被研磨物の間に、研磨砥粒を
含む研磨液を介在させながら研磨する。この場合磁気記
録ディスク基盤として必要な表面粗度を得るために研磨
砥粒としては平均粒径７μｍ以下の大きさのもの、好ま
しくは５μｍ以下の大きさのものを用いる。これにより
平均表面粗度が５０Å以下の表面状態を有する磁気記録
ディスク基盤を得ることができる。具体的な例として
は，研磨部の概略を示した図５のような磁気記録ディス
ク基盤研磨機を使用して，本発明の研磨用布帛を所定の
幅に裁断して研磨用テープとして，研磨砥粒としてダイ
ヤモンド粒を一定量含むスラリーを，磁気記録ディスク
基盤と研磨テープとの間に注入し，磁気記録ディスク基
盤の回転速度を回転させると共に，研磨テープを磁気記
録ディスク基盤の回転と同方向に移動させつつ研磨す
る。

【００２４】

【作用】単糸フィラメントの三角形断面の角により、被
研削物表面の削り滓を速やかに削ぎ落として除去するこ
とが可能であり、効率的な研削が可能になることと、研
磨砥粒の平均粒度と断面の大きさがほぼ同じである（頂
角をはさむ二辺の長さが研磨砥粒の粒径の１４０〜６０
％である）の二等辺三角形断面の単糸フィラメントから
なるマルチフィラメント糸条を経糸として緯糸を２本以
上浮かせて組織して構成することにより、過負荷が掛か
った時にフィラメントの軸方向に研磨粒の移動が容易
で、また二等辺三角形の頂角付近では繊維の厚さも薄い
ので曲げ剛性が小さくフィラメントの軸と直角方向にも
研磨砥粒は移動し易く、部分的な深い傷が付く前に研磨
粒が移動して深く傷付けることがない。

【００２５】また、単糸フィラメントが細く、フィラメ
ント数が多く表面積が大きいので研磨液を多く含むこと
が可能であり、研磨砥粒を把持する隙間が多いので研磨
砥粒を多く保有することができ、優れた研磨効果を得る
ことができる。

【００２６】

【実施例】次に実施例によって本発明を説明する。実施
例における評価は, 次の方法により行った。

【００２７】（１）分割後の単糸断面の二等辺長，底辺
長及び頂角 電子顕微鏡による４００倍拡大写真より測定した。

【００２８】（２）ディスク研磨試験 試料を幅４０ｍｍに裁断した研磨用テープを用いて図５
に示す磁気記録ディスク基盤研磨機により，外径９５ｍ
ｍ，穴径２５ｍｍ，厚さ１ｍｍの磁気記録ディスク基盤
５枚を研磨した。その研磨条件としては，研磨砥粒とし
て平均粒径６μｍ以下のダイヤモンド粒を０．４重量％
含むスラリーを，磁気記録ディスク基盤と研磨テープと
の間に３リットル／分で注入し，磁気記録ディスク基盤
の回転速度を４００ｒｐｍ，研磨テープの移動を磁気記
録ディスク基盤の回転と同方向に１ｃｍ／秒として，６
０分間研磨した。研磨前後のディスクの重量差より１秒
間の平均研磨量を算出して研磨速度（mg／秒：目標研磨
速度０．３mg／秒以上）とした。研磨後のディスクを顕
微鏡で観察し，異常に深い研磨傷を係数（目標値１．８
個／面以下）とし，表面粗さを触針式ＴＥＮＣＯＲ−Ｐ
２表面粗さ計により測定（目標値１３Å以下）した。

【００２９】実施例１ 難溶性ポリマー１としてポリエチレンテレフタレート
を，易溶性ポリマー２としてポリエチレンテレフタレー
トに第三成分としてスルホイソフタル酸を２モル％共重
合したポリエステルを図１のごとく二等辺三角形の繊維
に８分割可能な断面構造に配して，難溶性ポリマー１と
易溶性ポリマー２の割合を８１：１９として製糸した８
分割フィラメント糸１０５デニール４８フィラメントに
３００回／ｍの撚糸をして経緯糸として用いて，５枚朱
子組織にて経密度２５０本／吋，緯密度８３本／吋
の朱子織物を製織し，精錬，プレセット，苛性ソーダ２
０ｇ／Ｌ、浴比１：３０，温度９８℃による分割処理，
仕上げセットを行うことにより，本発明の磁気記録ディ
スク基盤研磨用布帛を得た。なお，仕上工程における経
糸方向の縮率は１２％であった。

【００３０】実施例２ 実施例１において，８分割フィラメント糸の繊度を１０
０デニールとし経密度を２６３本／吋，緯密度を８７本
／吋とすること以外は実施例１と同様にして本発明の磁
気記録ディスク基盤研磨用布帛を得た。

【００３１】実施例３ 実施例１において，８分割フィラメント糸の繊度を７５
デニールとし，撚数を３５０回／ｍ，経密度を３５０本
／吋，緯密度を１１６本／吋とすること以外は実施例１
と同様にして本発明の磁気記録ディスク基盤研磨用布帛
を得た。

【００３２】実施例４ 実施例１において，８分割フィラメント糸の繊度を４０
デニールとし撚数を４７０回／ｍ，経密度を６５６本／
吋，緯密度を２１８本／吋とすること以外は実施例１と
同様にして本発明の磁気記録ディスク基盤研磨用布帛を
得た。

【００３３】実施例５ 実施例２において，難溶性ポリマー１と易溶性ポリマー
２を図２のごとく配して１２分割フィラメント糸とする
こと以外は実施例２と同様にして本発明の磁気記録ディ
スク基盤研磨用布帛を得た。

【００３４】比較例１ 実施例１において，８分割フィラメント糸の繊度を１１
０デニールとし経密度を２３９本／吋，緯密度を７９本
／吋とすること以外は実施例１と同様にして比較例の磁
気記録ディスク基盤研磨用布帛を得た。

【００３５】比較例２ 実施例２において，難溶性ポリマー１と易溶性ポリマー
２を図３のごとく配して６分割フィラメント糸とし，そ
の割合を８４：１６とすること以外は実施例２と同様に
して比較例の磁気記録ディスク基盤研磨用布帛を得た。

【００３６】比較例３ 実施例２において，難溶性ポリマー１と易溶性ポリマー
２を図４のごとく配して４分割フィラメント糸とし，そ
の割合を８６：１４とすること以外は実施例２と同様に
して比較例の磁気記録ディスク基盤研磨用布帛を得た。

【００３７】比較例４ 実施例１と同様の８分割フィラメント糸１０５デニール
４８フィラメントに３００回／ｍの撚糸をして経緯糸と
して用いて，平組織にて経密度１４０本／吋，緯密度９
０本／吋の平織物を製織し，精錬，プレセット，カセイ
ソーダによる分割処理，仕上げセットを行うことによ
り，比較例の磁気記録ディスク基盤研磨用布帛を得た。

【００３８】得られた実施例１〜５及び比較例１〜４の
性能をまとめて表１に示す。

【００３９】

【表１】

【００４０】表１により明らかなごとく本発明の実施例
は，各比較例と比べて研削速度が早く、異常に深く大き
な傷が少なく、表面粗さが小さくて優れた研磨能力を有
していた。

【００４１】

【発明の効果】本発明によれば、磁気記録ディスク基盤
を効率良く、又部分的な深い傷を作らずに研磨できる研
磨用布帛及び磁気記録ディスク基盤を効率良く、又部分
的な深い傷を作らずに研磨できる方法を提供することが
できる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明に使用する８分割割繊糸の断面を示す図
である。

【図２】本発明に使用する１２分割割繊糸の断面を示す
図である。

【図３】本発明の比較例に使用する６分割割繊糸の断面
を示す図である。

【図４】本発明の比較例に使用する４分割割繊糸の断面
を示す図である。

【図５】本発明の磁気記録ディスク用基盤の研磨機構を
しめすモデル図である。

【符号の説明】

１ 難溶性ポリマー ２ 易溶性ポリマー ３ 磁気記録ディスク基盤 ４ 研磨布帛からなる研磨テープ ５ ダイヤモンドスラリー

フロントページの続き (51)Int.Cl.⁶ 識別記号 ＦＩ Ｇ１１Ｂ 5/84 Ｇ１１Ｂ 5/84 Ａ

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 頂角が４５度以下で、該頂角をはさむ二
   辺の長さがそれぞれ７．１μｍ以下、底辺が５．６μｍ
   以下であるほぼ二等辺三角形状の断面を有する単糸フィ
   ラメントからなるマルチフィラメント糸条で経糸を構成
   し、緯糸に対して該経糸が少なくとも２本以上浮いた組
   織で構成されていることを特徴とする磁気記録ディスク
   基盤研磨用布帛。
2. 【請求項２】 頂角が４５度以下で、該頂角をはさむ二
   辺の長さがそれぞれ７．１μｍ以下、底辺が５．６μｍ
   以下であるほぼ二等辺三角形状の断面を有する単糸フィ
   ラメントからなるマルチフィラメント糸条で経糸を構成
   し、緯糸に対して該経糸が少なくとも２本以上浮いた組
   織で構成された布帛と被研磨物の間に、平均粒径７μｍ
   以下の研磨砥粒を含む研磨液を介在させながら研磨する
   ことを特徴とするる磁気記録ディスク基盤の研磨方法。