JP2000155217A - 光学異方体フィルムとその製造方法、液晶表示装置、共重合ネマティック高分子液晶およびメソゲン基 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】液晶表示セルのレタデーションの温度変化率に
応じることができる温度変化率を有し、かつある温度で
の液晶化合物によるレタデーションの経時変化が小さい
光学異方体フィルム及びその製造方法等を提供する。 【解決手段】［１］高分子と液晶化合物を含む透明また
は半透明な光学異方体フィルムであり、法線方向から測
定した該光学異方体フィルムの８０℃におけるレタデー
ションが３０℃におけるレタデーションの２０〜９７％
であり、該光学異方体フィルムを３０℃で２００時間保
持したときの液晶化合物によるレタデーション変化の絶
対値が６％以下であることを特徴とする光学異方体フィ
ルム（ただし、レタデーションの測定波長は、５４６ｎ
ｍである）。 ［２］高分子と液晶化合物とを混合し、フィルムに成形
したのち、加熱しながらフィルムを一軸延伸する［１］
記載の光学異方体フィルムの製造方法。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、スーパーツイスト
ネマティック（以下ＳＴＮという。）型または電界制御
複屈折（以下ＥＣＢという。）型液晶表示装置などに用
いられる光学異方体フィルム、その製造方法および該光
学異方体フィルムを用いた液晶表示装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】位相差フィルムは、透明な熱可塑性高分
子フィルムを一軸延伸することにより得られ、液晶表示
装置、特にＳＴＮ型液晶表示装置またはＥＣＢ型液晶表
示装置の着色を補償して表示品質を向上させるための光
学補償板（色補償板）として用いられている。該位相差
フィルムを用いた液晶表示装置は、軽い、薄い、安価で
ある等の長所を持っている。最近、液晶表示装置を自動
車などに搭載して低温から高温の幅広い温度条件下で使
用することも多くなってきているが、液晶セルと位相差
フィルムのレタデーション（位相差）が温度変化により
異なった変化をするので、表示品質が低下する問題点が
あった。また、ＳＴＮ型液晶表示装置の画面の大型化に
伴い、バックライトに用いられる蛍光管からの熱伝導に
より、液晶セルの温度が不均一となり、画面内で表示品
位が異なる問題点があった。

【０００３】すなわち、温度変化に伴い液晶分子や高分
子の配向が変化し、レタデーションが変化するが、一般
に液晶セルに使われている低分子液晶材料の配向の変化
の方が位相差フィルムに使われている高分子の配向の変
化より大きく、レタデーションの変化も大きいため、室
温で最適化されていた両者のレタデーションが低温およ
び高温では最適条件からずれてしまい、液晶セルの色補
償が不完全になり着色が生じるなどの問題が生じ、表示
特性が低下する。

【０００４】車の中などの高温にさらされる環境中で
も、ＥＣＢまたはＳＴＮ型液晶表示装置の表示品位を保
持できる光学異方体フィルムは知られていないが、液晶
を用いた光学異方体フィルムは開示されている。特開平
３−２９１６０１号公報には、大面積で均一な位相差フ
ィルムを得るために、実質的にオルソ置換芳香族単位を
含むポリエステルからなる液晶性高分子を溶解した溶液
を公知の配向膜を有する基板上に塗布し、熱処理を行う
ことにより、水平配向させたものが例示されている。位
相差フィルムのレタデーションは、フィルムの材料の屈
折率異方性とフィルムの厚みの積で得られる。液晶性高
分子のみを水平配向した位相差フィルムでは、液晶性高
分子の屈折率異方性が大きいため、フィルム全面にわた
って均一なレタデーションを得るためには、液晶性高分
子の膜厚を非常に精密に制御する必要があり、工業的に
困難であり、効率的でなかった。

【０００５】また、特表平４−５００２８４号公報に
は、直鎖または環状の主鎖を有する側鎖型液晶ポリマー
を用いて、液晶セルに使われている液晶分子と同じ温度
依存性および波長依存性を有する位相差フィルムが例示
されている。しかしながら、側鎖型液晶ポリマーを用い
てその膜厚を非常に精密に制御することは困難であっ
た。また、特開平５−２５７０１３号公報には、高分子
フィルムに液晶分子を分散し、高分子フィルムごと延伸
することにより位相差フィルムを得ることが記載されて
いる。しかしながら、具体的にどのような特性を有する
液晶化合物と高分子との組み合わせのときに優れた効果
が得られるかの記載はない。

【０００６】また、特開平８−１９００９４号公報には
液晶化合物と透明または半透明の高分子からなる光学異
方体フィルムが記載されており、液晶化合物として異な
る側鎖よりなる側鎖型共重合高分子液晶について言及し
ている。しかし、３０℃で保存したときの液晶化合物に
よるレタデーションの変化については言及していない。

【０００７】本発明の光学異方体フィルムに用いる液晶
化合物として液晶性ポリシロキサンが挙げられる。液晶
性ポリシロキサンの特徴は、"Ｓｉｌｉｃｏｎ ｉｎ
Ｐｏｌｙｍｅｒ Ｓｙｎｔｈｅｓｉｓ" （Ｈ. Ｒ.
Ｋｒｉｃｈｅｌｄｏｒｆ編、Ｓｐｒｉｎｇｅｒ−Ｖｅｒ
ｌａｇ， Ｂｅｒｌｉｎ， Ｈｅｉｄｅｌｂｅｒｇ，１
９９６）に記載のあるＣ. Ｂｕｒｇｅｒ ａｎｄ Ｆ.
Ｈ. Ｋｒｅｕｚｅｒ， " Ｐｏｌｙｓｉｌｏｘａｎ
ｅ ａｎｄ Ｐｏｌｙｍｅｒ Ｃｏｎｔａｉｎｉｎｇ
Ｓｉｌｏｘａｎｅ Ｇｒｏｕｐｓ" やそれのレファレ
ンスに記載がある。また、４−（２−プロペニルオキ
シ）安息香酸［４−（メトキシカルボニル）フェニル］
エステルや、４−（２−プロペニルオキシ）安息香酸
［４−（ブトキシカルボニル）フェニル］エステルを、
鎖長３５ユニットのポリシロキサンにハイドロシリレー
ションで付加することにより、モノマーは結晶性である
が生成したポリマーは液晶層を示すことが、Ｇ. −Ｐ.
Ｃｈａｎｇ Ｃｈｅｉｎｅｔ ａｌ （Ｊ. Ｐｏｌ
ｙｍ. Ｓｃｉ. Ａ， １９９３， ３１， ２４３２
−２４３６）に示されている。しかしながら、Ｃｈｅｉ
ｎらは、このようなポリマーの用途について開示してい
ない。またこのポリマーは、分子量が高いために粘度が
高すぎることや、４−（２−プロピレンオキシ）安息香
酸［４−（メトキシカルボニル）フェニル］エステルを
側鎖に有するポリシロキサンではガラス転移温度が高す
ぎることや、４−（２−プロピレンオキシ）安息香酸
［４−（ブトキシカルボニル）フェニル］エステルを側
鎖に有するポリシロキサンでは等方相転移温度が低すぎ
るなどの問題があり、本発明の用途に用いることは不可
能であった。

【０００８】

【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、液晶
表示セルのレタデーションの温度変化率に応じることが
できる温度変化率を有し、かつある温度での液晶化合物
によるレタデーションの経時変化が小さい光学異方体フ
ィルム、その製造方法、該光学異方体フィルムを用いた
表示特性の優れた液晶表示装置、共重合高分子液晶およ
び該共重合高分子液晶の原料として使用可能な液晶化合
物を提供することにある。

【０００９】

【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記の問
題を解決するために鋭意検討した結果、高分子と液晶化
合物または液晶組成物を混合して得られる特定の物性を
有する光学異方体フィルムが、前記の課題を解決するこ
とを見出し、該光学異方体フィルムを用いると低温で使
用しても白黒レベルに優れた液晶表示装置が得られるこ
とを見出して、本発明を完成するに至った。ここで高分
子と混合する液晶は、仕様として要求される位相差フィ
ルムのレタデーション変化の下限以下のガラス転移温度
を有し、組み合わせて使用する液晶セルのΔｎｄの温度
依存性に合うように等方相転移温度が選ばれてなる、液
晶材料または液晶組成物である。

【００１０】更に、本発明者らは、前述の４−（２−プ
ロペニルオキシ）安息香酸［４−（プロポキシカルボニ
ル）フェニル］エステルや、類似の［４−（ブトキシカ
ルボニル）フェニル］エステル、特により長鎖アルコキ
シのペンチルオキシカルボニル誘導体からドデシルオキ
シカルボニル誘導体ではしばしば、Ｃｈｉｅｎらの文献
では予見できないようなそれ自身で液晶性を示し、かつ
適当なシロキサンに付加することで、低いガラス転移温
度と低い等方相転移温度を示す、広い液晶温度範囲を有
する共重ネマティック合高分子液晶とすることができる
ことを見出した。また、本発明者らは、鎖長が短いポリ
シロキサン主鎖を用いることや、側鎖エステル部として
長鎖アルキルを用いることにより、粘度が低く、１０℃
以下のガラス転移温度を有するため室温付近での光学異
方体フィルムのレタデーションを制御するのに適してお
り、本発明で好適に用いることのできる共重合ネマティ
ック高分子液晶を得ることができることを見出した。さ
らに驚くべきことに、本発明者らは、開示されている４
−（２−プロペニルオキシ）安息香酸［４−（アルコキ
シカルボニル）フェニル］エステルと、たとえば４−
（２−プロペニルオキシ）ベンゾイルオキシ−４−
（４'−メトキシベンゾイル）フェニルエステルなどの
ような等方相転移温度の高い側鎖基とを共重合体とする
ことで、広い温度範囲にわたり液晶性を示す高分子液晶
とすることができることを見出した。更に本発明者ら
は、ガラス転移温度や等方相転移温度は、側鎖基の数の
比を調整することで所望の値に調整することができるこ
とも見出した。

【００１１】すなわち、本発明は、次に記す発明からな
る。 ［１］高分子と液晶化合物を含む透明または半透明な光
学異方体フィルムであり、法線方向から測定した該光学
異方体フィルムの８０℃におけるレタデーションが３０
℃におけるレタデーションの２０〜９７％であり、該光
学異方体フィルムを３０℃で２００時間保持したときの
液晶化合物によるレタデーション変化の絶対値が６％以
下であることを特徴とする光学異方体フィルム（ただ
し、レタデーションの測定波長は、５４６ｎｍであ
る）。

【００１２】［２］高分子と液晶化合物を含む透明また
は半透明な光学異方体フィルムであり、法線方向から測
定した該光学異方体フィルムの６０℃におけるレタデー
ションが３０℃におけるレタデーションの２０〜９９％
であり、該光学異方体フィルムを３０℃で２００時間保
持したときの液晶化合物によるレタデーション変化の絶
対値が６％以下であることを特徴とする光学異方体フィ
ルム（ただし、レタデーションの測定波長は、５４６ｎ
ｍである）。

【００１３】［３］高分子と液晶化合物を含む透明また
は半透明な光学異方体フィルムであり、法線方向から測
定した該光学異方体フィルムの０℃におけるレタデーシ
ョンが３０℃におけるレタデーションの１０１〜１５０
％であり、該光学異方体フィルムを３０℃で２００時間
保持したときの液晶化合物によるレタデーション変化の
絶対値が６％以下であることを特徴とする光学異方体フ
ィルム（ただし、レタデーションの測定波長は、５４６
ｎｍである）。

【００１４】［４］液晶が下記式（１）、（２）および
（３）を反復単位としてなる高分子液晶を含み、該高分
子液晶位置分子中の反復単位式（１）、（２）および
（３）の数を、それぞれｎ₁，ｎ₂およびｎ₃とすると、
ｎ₁／（ｎ₂+ｎ₃）の比が一分子あたり平均して９８／２
から２０／８０で、ｎ₂／ｎ₃の比が１００／０から２０
／８０の範囲にあることを特徴とする、［１］〜［３］
記載のいずれかの光学異方体フィルム。

【００１５】

【化１４】 ・・・・・（１）

【００１６】

【化１５】 ・・・・・（２）

【００１７】

【化１６】 ・・・・・（３）

【００１８】［ 一般式（１）、（２）または（３）に
おいて、Ａは下記一般式（４）または（５）で表される
基である。

【００１９】

【化１７】 ・・・・・（４）

【００２０】

【化１８】 ・・・・・（５）

【００２１】一般式（４）において−Ｓｉ−Ｏ−は、一
般式（１）、（２）および（３）の主鎖であり、環状で
あっても直鎖状であってもよい。一般式（５）におい
て、−Ｃ−ＣＨ₂−は一般式（１）、（２）および
（３）の主鎖であり、ＣＯＯ基は一般式（１）の（ＣＨ
₂）k₁基、一般式（２）のＲ₃基、および一般式（３）の
Ｒ₄基に結合する。一般式（１）、（２）および（３）
において、Ａが一般式（５）のとき、Ｒ₁はそれぞれ同
一または相異なり、炭素数１〜６のアルキル基または炭
素数１〜６のアルコキシ基であり、一般式（１）、
（２）および（３）において、Ａが一般式（４）のと
き、Ｒ₁は、それぞれ同一または相異なり、炭素数１〜
１０のアルキル基、炭素数１〜１０のアルコキシ基、ま
たはフェニル基である。一般式（２）でＲ₃は炭素数３
〜３０の炭化水素基、４−（コレステリルオキシカルボ
ニルフェニル）オキシアルケンまたは

【００２２】

【化１９】−(CH₂)k₃−(O)m₂−Ar₂−(L₃)p₃−Ar₅−
((L₄)p₄−(Ar₆)q₂)k₄−R₅ である。一般式（３）において、Ｒ₄は炭素数３〜３０
の炭化水素基または

【００２３】

【化２０】−(CH₂)k₅−(O)m₃−Ar₇−(L₅)p₅−Ar₈−
((L₆)p₆−(Ar₉)q₃)k₆−R₆

【００２４】であり、一般式（１）、（２）および
（３）において、ｋ₁、ｋ₃およびｋ₅は、それぞれ独立
に２〜１０の整数を表し、ｋ₂、ｋ₄、ｋ₆、ｍ₁、ｍ₂、
ｍ₃、ｐ₁、ｐ₂、ｐ₃、ｐ₄、ｐ₅、ｐ₆、ｑ₁、ｑ₂および
ｑ₃は、それぞれ独立に０または１である（ここで０は
隣接する基が直接結合していることを意味する）。Ａｒ
₁、Ａｒ₂、Ａｒ₃、Ａｒ₄、Ａｒ₅、Ａｒ₆、Ａｒ₇、Ａｒ₈
およびＡｒ₉は、それぞれ同一または異なり、１，４−
フェニレン、１，４−シクロヘキシレン、ピリジン−
２，５−ジイルまたはピリミジン−２，５−ジイルであ
る。Ｌ₁、Ｌ₂、Ｌ₃、Ｌ₄、Ｌ₅およびＬ₆は、それぞれ同
一または異なり、−ＣＨ2−Ｏ−、−Ｏ−ＣＨ₂−、−Ｃ
ＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＨ₂−ＣＨ₂−、−ＣＨ＝Ｎ
−、−Ｎ＝ＣＨ−、−Ｎ＝Ｎ−、−Ｎ（Ｏ）＝Ｎ−また
は−Ｎ＝Ｎ（Ｏ）−で示される基である。Ｒ₂、Ｒ₅およ
びＲ₆は、それぞれ同一または相異なり、水素、ハロゲ
ン、シアノ基、または隣接しないメチレン（ＣＨ₂）基
が酸素で置換されても良い直鎖もしくは環状のアルキル
基である。］

【００２５】［５］高分子と液晶化合物とを混合し、フ
ィルムに成形したのち、加熱しながらフィルムを一軸延
伸することを特徴とする［１］ないし［４］記載のいず
れかの光学異方体フィルムの製造方法。

【００２６】［６］前記［１］ないし［４］記載のいず
れかの光学異方体フィルムを使用することを特徴とする
液晶表示装置。

【００２７】［７］下記一般式（６）、（７）および
（８）を反復単位としてなり、ｎ₆、ｎ₇およびｎ₈をそ
れぞれ一般式（６）、（７）および（８）の反復単位数
とすると、ｎ₆／（ｎ₇+ｎ₈）の比が９８／２から５／９
５の範囲にある共重合ネマティック高分子液晶。

【００２８】

【化２１】 ・・・・・（６）

【００２９】

【化２２】 ・・・・・（７）

【００３０】

【化２３】 ・・・・・（８）

【００３１】［式中−Ｓｉ−Ｏ−は直鎖または環状にな
り、Ｒ₁はそれぞれ同一または相異なり、炭素数１〜１
０のアルキル基、炭素数１〜１０のアルキルオキシ基ま
たはフェニル基である。Ｑは、孤立した隣接しないＣＨ
₂基が酸素で置換されていても良い１〜１２個のメチレ
ン直鎖、４−位がＣ₁〜Ｃ₃（炭素数１〜３を意味する。
以下同様である）アルキル基、またはＣ₁〜Ｃ₃アルコキ
シ基で置換されたシクロヘキシレン基である。Ｒ₃は、
炭素数３〜３０の炭化水素基、4−(コレステリルオキシ
カルボニルフェニル)オキシアルケンまたは

【００３２】

【化２４】−(CH₂)k₃−(O)m₂−Ar₂−(L₃)p₃−Ar₅−
((L₄)p₄−(Ar₆)q₂)k₄−R₅ である。Ｒ₄は、炭素数３〜３０の炭化水素基または

【００３３】

【化２５】−(CH₂)k₅−(O)m₃−Ar₇−(L₅)p₅−Ar₈−
((L₆)p₆−(Ar₉)q₃)k₆−R₆

【００３４】ここで、ｋ₁、ｋ₃およびｋ₅は、それぞれ
同一または相異なる２〜１０の整数を表し、ｋ₄、ｋ₆、
ｍ₂、ｍ₃、ｐ₃、ｐ₄、ｐ₅、ｐ₆、ｑ₂およびｑ₃は、それ
ぞれ同一または相異なり、０または１である。Ａｒ₄、
Ａｒ₅、Ａｒ₆、Ａｒ₇、Ａｒ₈およびＡｒ₉は、それぞれ
同一または相異なり、１，４−フェニレン、１，４−シ
クロヘキシレン、ピリジン−２，５−ジイルまたはピリ
ミジン−２，５−ジイルである。Ｌ₃、Ｌ₄、Ｌ₅および
Ｌ₆は、それぞれ同一または相異なり、−ＣＨ₂−Ｏ−、
−Ｏ−ＣＨ₂−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＨ₂−Ｃ
Ｈ₂−、−ＣＨ＝Ｎ−、−Ｎ＝ＣＨ−、−Ｎ＝Ｎ−、−
Ｎ（Ｏ）＝Ｎ−または−Ｎ＝Ｎ（Ｏ）−で示される基で
ある。Ｒ₅およびＲ₆は、それぞれ同一または相異なり、
ハロゲン、シアノ基、または隣接しないメチレン（ＣＨ
₂）基が酸素で置換されても良い直鎖もしくは環状のア
ルキル基から選ばれる基である。］

【００３５】［８］一般式（９）からなるメソゲン基。

【００３６】

【化２６】 ・・・・・（９）

【００３７】（ここで、ｋ₇は０〜８の整数であり、Ｑ₂
は、孤立した隣接しないＣＨ₂基が酸素で置換されてい
ても良い少なくとも５〜１２個のメチレン直鎖、４−位
がＣ₁〜Ｃ₃のアルキル基、またはＣ₁〜Ｃ₃のアルコキシ
基で置換されたシクロヘキシレン基である。）

【００３８】

【発明の実施の形態】次に、本発明を詳細に説明する。
本発明の光学異方体フィルムのレタデーションの温度変
化率は、組合わせて使用する液晶表示セルの温度変化率
に応じて最適になるように選択することができる。すな
わち、液晶表示セルの温度変化率が大きい場合には、光
学異方体フィルムの温度変化率もそれに合わせて大きく
し、液晶表示セルの温度変化率が小さい場合には、光学
異方体フィルムの温度変化率もそれに合わせて小さくす
ることができる。

【００３９】本発明の光学異方体フィルム〔１〕のレタ
デーションの温度変化率については、８０℃でのレタデ
ーションが３０℃でのレタデーションの２０〜９７％で
あり、好ましくは６０〜９５％、さらに好ましくは７０
〜９３％である（ただし、レタデーションの測定波長
は、５４６ｎｍである）。さらに、該光学異方体フィル
ム〔１〕において、さらに法線方向から測定した該光学
異方体フィルムの６０℃におけるレタデーションが３０
℃におけるレタデーションの２０〜９９％であってもよ
い（ただし、レタデーションの測定波長は、５４６ｎｍ
である）。さらに、法線方向から測定した該光学異方体
フィルムの０℃におけるレタデーションが３０℃におけ
るレタデーションの１０１〜１５０％であってもよい
（ただし、レタデーションの測定波長は、５４６ｎｍで
ある）。

【００４０】また、本発明の光学異方体フィルム〔２〕
のレタデーションの温度変化率については、６０℃での
レタデーションが３０℃でのレタデーションの２０〜９
９％であり、好ましくは６０〜９８％、さらに好ましく
は７０〜９７％である。さらに、該光学異方体フィルム
〔２〕において、さらに法線方向から測定した該光学異
方体フィルムの０℃におけるレタデーションが３０℃に
おけるレタデーションの１０１〜１５０％であってもよ
い（ただし、レタデーションの測定波長は、５４６ｎｍ
である）。また、本発明の光学異方体フィルム〔３〕の
レタデーションの温度変化率については、０℃でのレタ
デーションが３０℃でのレタデーションの１０１〜１５
０％である。

【００４１】本発明の光学異方体フィルムは、該光学異
方体フィルムを３０℃で２００時間保持したときの液晶
化合物によるレタデーション変化の絶対値が６％以下で
あることを特徴とする（但し、レタデーションの測定波
長は、５４６ｎｍである）。

【００４２】本発明の光学異方体フィルムのある温度Ｔ
におけるレタデーションＲ_film(Ｔ)は式（Ａ）に示すよ
うに液晶化合物によるレタデーションＲ_LC（Ｔ）と高分
子によるレタデーションＲ_polymer（Ｔ）の和で表され
る。

【００４３】

【数１】 Ｒ_film（Ｔ）＝Ｒ_LC（Ｔ）＋Ｒ_polymer（Ｔ） ・・・・・（Ａ）

【００４４】高分子によるレタデーションＲ
_polymer（Ｔ）は、光学異方体フィルムを示差走査熱量
計（ＤＳＣ）により求めた液晶化合物の液晶相−等方相
転移温度（Ｔｉ）より１０℃以上高い温度に加熱し、液
晶によるレタデーションＲ_LC（Ｔｉ＋１０）を０にした
ときのフィルムのレタデーションＲ_film（Ｔｉ＋１０）
を高分子によるレタデーションとみなす。またＤＳＣで
液晶のＴｉがわかりにくい場合は、室温から昇温しなが
ら本発明の光学異方体フィルムのレタデーションを測定
したときに、レタデーションが温度によらず一定になる
温度域がある。これはフィルム中の液晶が等方相にな
り、Ｒ_LC＝０になった状態に相当する。このようにレタ
デーションが変化しなくなりだす温度＋１０℃の温度で
測定したフィルムのレタデーションを高分子によるレタ
デーションとみなしてもよい。

【００４５】したがって、光学異方体フィルムのある温
度における液晶によるレタデーションは、フィルムのレ
タデーションＲ_film（Ｔ）から上記高分子によるレタデ
ーションＲ_polymer（Ｔｉ＋１０）を引くことにより求
めることができる。

【００４６】本発明において、光学異方体フィルムを３
０℃で２００時間保持したときの液晶化合物によるレタ
デーション変化は、光学異方体フィルムを作製後、用い
た液晶化合物の液晶相−等方相転移温度より１０℃以上
高い温度で２時間フィルムを加熱した後、上記計算によ
り求めた液晶によるレタデーションＲ_LC（３０℃：０時
間）と、加熱から起算して２００時間経過した後に同様
の測定と計算を行い求めたＲ_LC（３０℃：２００時間）
を用い、以下の式（Ｂ）により計算する。

【００４７】

【数２】 レタデーション変化＝｛Ｒ_LC（３０℃：２００時間）−Ｒ_LC（３０℃：０時間） ｝／Ｒ_LC（３０℃：０時間） ・・・・・(Ｂ)

【００４８】本発明の光学異方体フィルムにおいて、フ
ィルムを３０℃で保持したときの液晶化合物によるレタ
デーションの変化の絶対値は、６％以下である。

【００４９】本発明の光学異方体フィルムの、フィルム
法線方向から見たレタデーションの値（測定波長５４６
ｎｍ）は、５０〜２０００ｎｍであることが好ましく、
さらに好ましくは１００〜１５００ｎｍである。

【００５０】本発明の光学異方体フィルムは、液晶表示
セル、特にＳＴＮ型液晶表示セルまたはＥＣＢ型液晶表
示セルにより生じた位相差を主としてマトリックス中の
液晶化合物により補償するので、用いる液晶化合物は液
晶表示セル、特にＳＴＮ型液晶表示セルに用いられてい
る液晶またはＥＣＢ型液晶表示セルに用いられている液
晶に屈折率や、屈折率異方性の温度依存性などの特性が
近いものが好ましい。

【００５１】本発明の光学異方体フィルムおける液晶化
合物は、下記反復単位式（１）、（２）および式（３）
よりなる側鎖型共重合高分子液晶であることが好まし
い。さらに、本発明の光学異方体フィルムに用いる液晶
化合物は２種類以上の側鎖型共重合高分子液晶の混合物
であっても良いし、該側鎖型共重合高分子液晶以外に高
分子液晶、共重合ネマティック高分子液晶、側鎖型ホモ
高分子液晶、低分子液晶などを含んでいてもよい。本発
明における反復単位式（１）、（２）および式（３）か
らなる側鎖型共重合高分子液晶(以下単に高分子液晶と
呼ぶこともある)の骨格として、前記一般式（４）で示
されるものを用いる場合、直鎖または環状のものが利用
できる。特定の方向への配向を得やすいなどの観点か
ら、ネマチック相またはスメクチック相を示す高分子液
晶が好ましい。液晶性を与える基（以下、メソゲン基と
いうことがある。）は屈曲鎖（以下、スペーサーという
ことがある。）を介して、主鎖と結合したものが一般的
に使用できる。

【００５２】本発明で用いられる高分子液晶は、該高分
子液晶１分子中の反復単位式（１）、（２）、（３）の
数をそれぞれｎ₁、ｎ₂、ｎ₃とすると、ｎ₁／（ｎ₂＋
ｎ₃）の比が、１分子当り平均して９８／２〜２０／８
０であり、かつｎ₂／ｎ₃の比が１００／０〜２０／８０
である。光学異方体フィルムを得る観点からは、使用温
度の範囲、すなわち、−２０℃〜８０℃程度で、ネマチ
ック相またはスメクチック相を示すものであることが好
ましい。上記温度範囲を満たすような高分子液晶を単独
で用いてもよいし、温度範囲を上記範囲内にするために
１種類以上の液晶化合物を混合して用いてもよい。

【００５３】

【化２７】 ・・・・・（１）

【００５４】

【化２８】 ・・・・・（２）

【００５５】

【化２９】 ・・・・・（３）

【００５６】［ 一般式（１）、（２）または（３）に
おいて、Ａは下記一般式（４）または（５）で表される
基である。

【００５７】

【化３０】 ・・・・・（４）

【００５８】

【化３１】 ・・・・・（５）

【００５９】一般式（４）において−Ｓｉ−Ｏ−は、一
般式（１）、（２）および（３）の主鎖であり、環状で
あっても直鎖状であってもよい。一般式（５）におい
て、−Ｃ−ＣＨ₂−は一般式（１）、（２）および
（３）の主鎖であり、ＣＯＯ基は一般式（１）の（ＣＨ
₂）k₁基、一般式（２）のＲ₃基、および一般式（３）の
Ｒ₄基に結合する。

【００６０】一般式（１）、（２）および（３）におい
て、Ａが一般式（５）のときＲ₁はそれぞれ同一または
相異なり、炭素数１〜６のアルキル基またはアルコキシ
基である。アルキル基としてメチル、エチル、プロピ
ル、ブチル、ペンチル、ヘキシル基が例示され、アルコ
キシ基としてメトキシ、エトキシ、プロピルオキシ、ブ
トキシ、ペンチルオキシ、ヘキシルオキシ基が例示され
る。

【００６１】一般式（１）〜（３）において、Ｒ₁は、
それぞれ独立に炭素数１〜１０のアルキル基、炭素数１
〜１０のアルキルオキシ基またはフェニル基から選ばれ
る基である。アルキル基として、メチル、エチル、プロ
ピル、ブチル、ペンチル、ヘキシル、ヘプチル、オクチ
ル、ノニルおよびデシル基が例示され、アルコキシ基と
してメトキシ、エトキシ、プロピルオキシ、ブトキシ、
ペンチルオキシ、ヘキシルオキシ、ヘプチルオキシ、オ
クチルオキシ、ノニルオキシおよびデシルオキシ基が例
示される。

【００６２】一般式（２）において、Ｒ₃は炭素数３〜
３０の炭化水素基、４−（コレステリルオキシカルボニ
ルフェニル）オキシアルケンまたは

【００６３】

【化３２】−(CH₂)k₃−(O)m₂−Ar₂−(L₃)p₃−Ar₅−
((L₄)p₄−(Ar₆)q₂)k₄−R₅

【００６４】から選ばれる基である。該炭化水素基とし
てはメチル、エチル、プロピル、ブチル、ペンチル、ヘ
キシル、ヘプチル、オクチル、ノニル、デシル、ドデシ
ル、テトラデシル、ヘキサデシル、エイコサニル基が例
示される。４−（コレステリルオキシカルボニルフェニ
ル）オキシアルケンとしては、４−（コレステリルオキ
シカルボニルフェニル）オキシ（１、３ープロピレ
ン）、（コレステリルオキシカルボニルフェニル）オキ
シ（１，４−ブチレン）または、

【００６５】

【化３３】

【００６６】［ここで、ｗは３または４の整数であ
る。］が例示される。

【００６７】一般式（３）において、Ｒ₄は炭素数３〜
３０の炭化水素基、または

【００６８】

【化３４】−(CH₂)k₅−(O)m₃−Ar₇−(L₅)p₅−Ar₈−
((L₆)p₆−(Ar₉)q₃)k₆−R₆

【００６９】である。炭化水素基として、メチル、エチ
ル、プロピル、ブチル、ペンチル、ヘキシル、ヘプチ
ル、オクチル、ノニル、デシル、ドデシル、テトラデシ
ル、ヘキサデシル、エイコサニル基が例示される。

【００７０】一般式（１）〜（３）において、ｋ₁、ｋ₃
およびｋ₅はそれぞれ独立に２〜１０の整数を表し、合
成の容易さから３または４が好ましい。ｋ₂、ｋ₄、
ｋ₆、ｍ₁、ｍ₂、ｍ₃、ｐ₁、ｐ₂、ｐ₃、ｐ₄、ｐ₅、ｐ₆、
ｑ₁、ｑ₂およびｑ₃は、それぞれ独立に０または１であ
る（ここでｐ₁、またはｐ₂、またはｐ₃、またはｐ₄、ま
たはｐ₅、またはｐ₆が０のとき隣接する基が直接結合し
ていることを意味し、ｋ₂またはｋ₄またはｋ₆が０のと
き、Ａｒ₂とＲ₂、Ａｒ₅とＲ₅、Ａｒ₈とＲ₆がそれぞれ直
接結合することを意味する）。Ａｒ₁、Ａｒ₂、Ａｒ₃、
Ａｒ₄、Ａｒ₅、Ａｒ₆、Ａｒ₇、Ａｒ₈およびＡｒ_9、は、
それぞれ同一または相異なり、１，４−フェニレン、
１，４−シクロヘキシレン、ピリジン−２，５−ジイル
またはピリミジン−２，５−ジイルである。合成の容易
さからは、１，４−フェニレン基、１，４−シクロヘキ
シレン基、ピリミジン−２、５−ジイル基が好ましい。
Ｌ₁、Ｌ₂、Ｌ₃、Ｌ₄、Ｌ₅およびＬ₆は、それぞれ同一ま
たは相異なり、−ＣＨ ₂−Ｏ−、−Ｏ−ＣＨ₂−、−ＣＯ
Ｏ−、−ＯＣＯ−、−ＣＨ₂−ＣＨ₂−、−ＣＨ＝Ｎ−、
−Ｎ＝ＣＨ−、−Ｎ＝Ｎ−、−Ｎ（Ｏ）＝Ｎ−または−
Ｎ＝Ｎ（Ｏ）−で示される基である。一般式（１）〜
（３）において、Ａが一般式（４）のとき、Ｒ₂、Ｒ₅お
よびＲ ₆は、それぞれ同一または相異なり、水素、ハロ
ゲン、シアノ基、または隣接しないメチレン（ＣＨ₂）
基が酸素で置換されても良い直鎖または環状のアルキル
基から選ばれる基である。］

【００７１】その他の物性、例えば共重合高分子液晶と
高分子マトリックスの相分離に影響を与える物性など、
を得るために、液晶性が損なわれない範囲で、共重合高
分子液晶にその他の側鎖基を導入しても良い。その他の
側鎖基として、アルキル基、アルコキシ基や公知の液晶
性を示す側鎖基などから選ばれる任意の組み合わせが好
適に用いられる。

【００７２】また、これらの側鎖型共重合高分子液晶の
分子量または重合度は、分散状態を決定する点で重要で
ある。分子量が小さいと相分離せず、分子量が高いと相
分離した際の液晶の粒径が大きくなるため光散乱が強く
なり実用的でない。本発明で好ましく用いられる高分子
液晶の分子量は、ポリスチレン換算数平均分子量で好ま
しくは１，２００以上１０，０００であり、平均的な重
合度は、好ましくは３以上３０以下であり、より好まし
くは５以上２０以下である。

【００７３】つぎに本発明の共重合ネマティック高分子
液晶として、下記（６）、（７）および（８）を反復単
位としてなり、ｎ₆、ｎ₇およびｎ₈をそれぞれ一般式
（６）、（７）および（８）の反復単位数とすると、ｎ
₆／（ｎ₇+ｎ₈）の比が９８／２から５／９５の範囲にあ
る、共重合ネマティック高分子液晶である。

【００７４】

【化３５】 ・・・・・（６）

【００７５】

【化３６】 ・・・・・（７）

【００７６】

【化３７】 ・・・・・（８）

【００７７】［式中−Ｓｉ−Ｏ−は直鎖または環状のも
のであり、Ｒ₁は、それぞれ同一または相異なり、炭素
数１〜１０のアルキル基、炭素数１〜１０のアルキルオ
キシ基、またはフェニル基である。アルキル基としてメ
チル、エチル、プロピル、ブチル、ペンチル、ヘキシ
ル、ヘプチル、オクチル、ノニルおよびデシル基が例示
され、アルコキシ基として、メトキシ、エトキシ、プロ
ピルオキシ、ブトキシ、ペンチルオキシ、ヘキシルオキ
シ、ヘプチルオキシ、オクチルオキシ、ノニルオキシお
よびデシルオキシ基が例示される。

【００７８】Ｑは、孤立した隣接しないＣＨ₂基が酸素
で置換されていても良い１〜１２個のメチレン直鎖また
は、４−位が、メチル、エチル、ｎ−プロピルなどのＣ
₁〜Ｃ₃（炭素数が１〜３を意味する。以下同様である）
アルキル基、またはメトキシ、エトキシ、ｎ−プロピル
オキシなどのＣ₁〜Ｃ₃アルコキシ基で置換されたシクロ
ヘキサン基である。

【００７９】Ｒ₃は、炭素数３〜３０の炭化水素基、4−
(コレステリルオキシカルボニルフェニル)オキシアルケ
ン、または

【００８０】

【化３８】−(CH₂)k₃−(O)m₂−Ar₂−(L₃)p₃−Ar₅−
((L₄)p₄−(Ar₆)q₂)k₄−R₅

【００８１】である。炭化水素基としてメチル、エチ
ル、プロピル、ブチル、ペンチル、ヘキシル、ヘプチ
ル、オクチル、ノニル、デシル、ドデシル、テトラデシ
ル、ヘキサデシル、エイコサニル基が例示される。4−
(コレステリルオキシカルボニルフェニル)オキシアルケ
ンとしては、４−（コレステリルオキシカルボニルフェ
ニル）オキシ（１、３−プロピレン）または（コレステ
リルオキシカルボニルフェニル）オキシ（１，４−ブチ
レン）または

【００８２】

【化３９】

【００８３】［ここで、ｗは３または４の整数であ
る。］が例示される。

【００８４】Ｒ₄は、炭素数３〜３０の炭化水素基、ま
たは

【００８５】

【化４０】−(CH₂)k₅−(O)m₃−Ar₇−(L₅)p₅−Ar₈−
((L₆)p₆−(Ar₉)q₃)k₆−R₆

【００８６】から選ばれる。炭化水素基としては、メチ
ル、エチル、プロピル、ブチル、ペンチル、ヘキシル、
ヘプチル、オクチル、ノニル、デシル、ドデシル、テト
ラデシル、ヘキサデシル、エイコサニル基が例示され
る。

【００８７】ここで、ｋ₁、ｋ₃およびｋ₅は、それぞれ
同一または相異なる２〜１０の整数を表し、ｋ₄、ｋ₆、
ｍ₂、ｍ₃、ｐ₃、ｐ₄、ｐ₅、ｐ₆、ｑ₂およびｑ₃は、それ
ぞれ同一または相異なり、０または１である。Ａｒ₄、
Ａｒ₅、Ａｒ₆、Ａｒ₇、Ａｒ₈およびＡｒ₉は、それぞれ
同一または相異なり、１，４−フェニレン、１，４−シ
クロヘキシレン、ピリジン−２，５−ジイル、ピリミジ
ン−２，５−ジイルである。Ｌ₃、Ｌ₄、Ｌ₅およびＬ
₆は、それぞれ同一または相異なり、−ＣＨ₂−Ｏ−、−
Ｏ−ＣＨ₂−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＨ₂−ＣＨ
₂−、−ＣＨ＝Ｎ−、−Ｎ＝ＣＨ−、−Ｎ＝Ｎ−、−Ｎ
（Ｏ）＝Ｎ−または−Ｎ＝Ｎ（Ｏ）−で示される基であ
る。Ｒ₅およびＲ₆は、それぞれ同一または相異なり、ハ
ロゲン、シアノ基、または隣接しないメチレン（Ｃ
Ｈ₂）基が酸素で置換されても良い直鎖もしくは環状の
アルキル基である。］

【００８８】また、本発明のメソゲン基は、下記式
（９）で示される化合物である。

【００８９】

【化４１】 ・・・・・（９）

【００９０】［ここで、ｋ₇は０〜８の整数であり、Ｑ₂
は、孤立した隣接しないＣＨ₂基が酸素で置換されてい
ても良い少なくとも５〜１２個のメチレン直鎖または４
−位が、メチル、エチル、ｎ−プロピルなどのＣ₁〜Ｃ₃
アルキル基またはメトキシ、エトキシ、ｎ−プロピルオ
キシなどのＣ₁〜Ｃ₃アルコキシ基で置換されたシクロヘ
キシレン基である。］

【００９１】以上述べた本発明の光学異方体フィルムに
用いることのできる側鎖型共重合高分子液晶や共重合ネ
マティック高分子液晶の合成方法としては、特に限定さ
れないが、米国特許第４，４１０，５７０号明細書や米
国特許第４，３５８，３９１号明細書および米国特許第
５，２１１，８７７号明細書に記載の方法が採用でき
る。例えばポリシロキサン鎖に該側鎖のメソゲン基およ
び炭化水素基を付加させる方法が例示される。ポリシロ
キサン鎖にメソゲン基および炭化水素基を付加する場合
には、白金触媒のもとで反復単位式（１）の側鎖のメソ
ゲン基と同じ構造を有し、ω−アルケニルオキシ基を有
する化合物を、反復単位（２）の側鎖基と同じ構造をも
ち炭化水素基の末端に不飽和二重結合を有するα−オレ
フィンおよびポリ（メチルヒドロシロキサン）と共に反
応される方法が例示される。ここで、ω−アルケニルオ
キシ基とは、スペーサーとしての機能を有するアルキレ
ンオキシ基の末端に不飽和二重結合を持つものである。

【００９２】以下に記載されるハイドロシリレーション
反応は、触媒の存在下ですべて行われる。触媒として
は、プラチナ、パラジウム、ロジウム、イリジウムおよ
びそれらの化合物のような、プラチナ（白金）族系の遷
移金属および／またはそれらの化合物（以下プラチナ触
媒と呼ぶ）が用いられている。これらは新規に発明され
た合成反応に供されるものである。また、ケイ原子に直
結した水素原子を、不飽和脂肪族系化合物へ付加するこ
とができる触媒であれば、いかなるものでも用いること
ができる。これら触媒の例としては、二酸化ケイ素、酸
化アルミニウムまたは活性炭のような担持材料に微分散
された金属プラチナ、例えばＰｔＣｌ₄、Ｈ₂ＰｔＣｌ₆
・６Ｈ₂Ｏ、Ｎａ₂ＰｔＣｌ₄・４Ｈ₂Ｏのような塩化物、
またはプラチナ−オレフィン錯体、プラチナ−アルコー
ル錯体、プラチナ−アルコレート錯体、プラチナ−エー
テル錯体、プラチナ−アルデヒド錯体およびプラチナ−
ケトン錯体のような錯体を用いることができる。さら
に、六塩化白金酸六水和物とシクロヘキサノンとの反応
生成物、プラチナ−ビニルシロキサン錯体、特に少量の
無機的に結合したハロゲンが存在するか存在しないプラ
チナ−ジビニル−テトラメチル−ジシロキサン錯体、ビ
ス（γ−ピコリン）プラチナ二塩化物、トリメチレン−
ジピリジンプラチナ二塩化物、ジシクロペンタジエニル
−プラチナ二塩化物、ジメチル−サルフォキサイド−エ
チレンプラチナ（ＩＩ）二塩化物、および１−オクテン
中に溶解したプラチナ六塩化物と二級ブチルアミンとの
反応生成物だけでなく、プラチナ六塩化物とオレフィン
および一級アミンまたは二級アミンまたは一級アミンと
二級アミンとの混合物との反応生成物、またはプラチナ
−アンモニア錯体（欧州特許第１１０３７０号明細書、
米国特許第４，５４６，１６４号明細書に開示されてい
る）などを用いることができる。プラチナ触媒は、金属
プラチナまたはプラチナ化合物として、対応するシロキ
サン誘導体のモル量に対して、好ましくは０．０５〜
０．５０ｍｍｏｌ用いられる。その際、シロキサン誘導
体は、ケイ素原子に少なくとも一つ結合した水素原子を
有しており。当量もしくは当量より少ない量で反応物の
一つとして用いられる。

【００９３】反応温度は好ましくは０℃〜１１０℃であ
り、反応時の圧力は好ましくは０．０５ＭＰａ〜１．０
ＭＰａである。上記反応は好ましくは溶媒中で行われ
る。溶媒は特に非プロトン性でなければならない。溶媒
または溶媒混合物は、１６０℃までの、特に１２０℃ま
での沸点または沸騰範囲を持つことが必要であり、その
際圧力は０．１ＭＰａが好ましい。

【００９４】これらの溶媒としてメチルアセテート、エ
チルアセテート、ｎ−もしくはｉｓｏ−プロピルアセテ
ート、ｎ−，ｓｅｃ−もしくはｔ−ブチルアセテート、
エチルフォルメート、またはジエチルカーボネートなど
のエステル類；ジオキサン、テトラヒドロフラン、ジエ
チルエーテル、ジ−ｎ−プロピルエーテル、ジイソプロ
ピルエーテル、ジ−ｎ−ブチルエーテル、エチレングリ
コールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールジメ
チルエーテルもしくはアニソールなどのエーテル；ジク
ロロメタン、トリクロロメタン、テトラクロロメタン、
１，２−ジクロロエタン、トリクロロエチレン、テトラ
クロロエチレンもしくはクロロベンゼンなどの塩素化炭
化水素；ペンタン、ｎ−ヘキサン、ヘキサンアイソマー
混合物、シクロヘキサン、ヘプタン、オクタン、ｌｉｇ
ｒｏｉｎ、石油エーテル、ベンゼン、トルエン、キシレ
ンなどの炭化水素；アセトン、メチルエチルケトン、メ
チルイソブチルケトンなどのケトン；または二硫化炭
素、ピリジン、アセトニトリル、ニトロベンゼン、また
はこれらの混合溶媒が例示される。本発明で言う溶媒と
は、反応物を必ずしも溶解させる必要はない。反応は一
つ以上の反応体の懸濁液、エマルジョン液中で行われて
も良い。相溶性の差がある溶媒中で反応が行われていて
も良く、この場合少なくとも一つの反応体がそれぞれの
混合相に溶解していてもよい。

【００９５】本発明の側鎖型共重合高分子液晶の反復単
位式（１）〜（３）の１分子中に平均して含まれる割合
は、反応時に、反復単位式（１）〜（３）に対応する反
応原料の仕込み比率で、反復単位式（１）〜（３）に対
応する基の結合比率を制御することができる。このよう
にして得られた側鎖型共重合高分子液晶は、液晶相、特
にネマチック相またはスメクチック相を示すものが、優
れた光学異方性を示すので好ましい。

【００９６】本発明の光学異方体フィルムにおいて、上
記側鎖型共重合高分子液晶と共に用いてもよい低分子液
晶として、下記一般式（１０）で示されるものが例示さ
れる。

【００９７】

【化４２】

【００９８】［一般式（１０）中、Ｒ₇は炭素数１〜６
のアルキル基またはアルコキシ基である。Ａｒ₁₀、Ａｒ
₁₁およびＡｒ₁₂は、それぞれ独立に１、４−フェニレン
基、１、４−シクロへキシレン基、ピリジン−２、５−
ジイル基、ピリミジン−２、５−ジイル基またはこれら
の基の誘導体である。Ｌ₇およびＬ₈は、それぞれ独立に
−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−Ｎ＝ＣＨ−、−ＣＨ＝Ｎ
−、−ＣＨ₂−ＣＨ₂−、−ＣＨ₂−Ｏ−、−Ｏ−ＣＨ
₂−、−Ｎ＝Ｎ−、単結合（Ａｒ₁₀とＡｒ₁₁、またはＡ
ｒ₁₁とＡｒ₁₂が直接結合することに該当する。）、また
は−Ｎ（Ｏ）＝Ｎ−、−Ｎ＝Ｎ（Ｏ）−で示される２価
の基である、p₇、ｑ₄およびｋ₈は、それぞれ独立に０ま
たは１の整数である。Ｂは水素、シアノ基、ハロゲン、
アクリレート基もしくはメタクリレート基、または炭素
数１〜２０のアルキル基もしくはアルコキシ基であり、
このうちアルキル基またはアルコキシ基については隣接
しない（ＣＨ₂）基が酸素で置換されていても良い。］

【００９９】本発明の光学異方体フィルムにおいて側鎖
型共重合高分子液晶と共に用いてもよい液晶ホモオリゴ
マー、液晶ホモポリマーとしては、側鎖型液晶ホモオリ
ゴマー、側鎖型液晶ホモポリマーや主鎖型液晶ホモオリ
ゴマー、主鎖型液晶ポリマーも含まれる。これらの中で
も、側鎖型液晶ホモオリゴマーや側鎖型液晶ホモポリマ
ーが価格や、分子量の制御が容易である点から好まし
い。側鎖型液晶ホモオリゴマーや側鎖型液晶ホモポリマ
ーとして、前記反復単位（１）または（２）または
（６）のみからなる高分子液晶が例示される。本発明の
側鎖型液晶共重合ポリマーと他の液晶材料の混合比は、
混合物の粘度や、液晶相を示す温度範囲が所望のものに
なるよう適宜選択することができる。

【０１００】本発明における液晶化合物と高分子の混合
割合については、液晶化合物が液晶化合物と高分子の重
量和に対して０．５〜５０重量％であることが好まし
く、１〜３０重量％がさらに好ましく、１〜２０重量％
が特に好ましい。該割合が０．５重量％未満では、液晶
化合物によるレタデーションの発現が小さく、レタデー
ションの温度依存性が小さくなり、５０重量％を超える
と得られるフィルムの強度が小さくなるので好ましくな
い。液晶化合物と高分子の割合について具体的には、前
記の範囲の中でフィルムの強度や得られるレタデーショ
ンの温度依存性から適宜決めることができる。

【０１０１】本発明の光学異方体フィルムでは、液晶化
合物が高分子マトリックスから相分離しておりドメイン
を形成していることが好ましい。液晶化合物の配向は、
ドメインの形状で制御できる。たとえば、ドメインの形
状が回転楕円体の場合、高分子液晶および／または液晶
は、一軸配向し、３つの軸の長さが異なる楕円の場合、
液晶の配向は二軸性配向になる。これらのドメインの形
状は、後述の延伸操作により制御することが効果的であ
る。

【０１０２】該ドメインの粒径の上限は、光散乱の観点
から決定され、該ドメインの粒径の下限は、液晶の配向
の観点から決定される。ドメインの粒径をドメインの長
軸の長さで表すと、好ましいドメインの平均的な長軸の
長さは、２０〜６００ｎｍであり、３０〜４００ｎｍが
さらに好ましい。ドメインの平均的な長軸の長さは、光
学異方体フィルムを透過型電子顕微鏡で観測し、個々の
粒径を直接測定し、得られた粒径の数平均値を求めるこ
とにより決定される。

【０１０３】次に、マトリックスポリマーについて説明
する。本発明のマトリックスに用いられる高分子は、使
用温度やＬＣＤとの貼合工程の温度で光学的性質や形状
の変化が起こらない高分子が好ましく、ガラス転移温度
がある程度高い熱可塑性エンジニアリング高分子、また
は可塑材が添加されている高分子では流動温度がある程
度高い高分子が好ましく用いられる。マトリックスの高
分子のガラス転移温度または軟化温度は、液晶表示装置
を使用する温度範囲内で光学特性の変化やフィルムの収
縮などの変形のないように下限が決定され、また光学異
方体フィルムとする際に加熱しながら延伸する必要があ
るので、ガラス転移温度が高すぎると工業的に好ましく
ないことから上限が決定される。マトリックスに求めら
れるガラス転移温度もしくは軟化温度としては、８０℃
〜２５０℃が好ましく、９０℃〜２００℃がさらに好ま
しい。

【０１０４】これらの条件を満たす高分子としては、ポ
リカーボネート、ポリスルホン、ポリアリレート、ポリ
エーテルスルホン、２酢酸セルロース、３酢酸セルロー
ス、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタ
レートなどが例示され、好ましくはポリカーボネート、
ポリアリレート、ポリスルホン、３酢酸セルロース、ポ
リエチレンテレフタレートが例示される。

【０１０５】マトリックスポリマーとして、複屈折の小
さい高分子を用いてもよい。一般的にポリマーの配向に
よる複屈折Δｎは、ポリマーの固有複屈折Δｎ₀と配向
関数ｆを用いて、下式のように表される。

【０１０６】

【数３】Δｎ＝Δｎ₀×ｆ

【０１０７】高分子の複屈折を低減する方法としては、
固有複屈折の小さい高分子を使用する方法、固有複屈折
が正の高分子と負の高分子を混合し、見かけの固有複屈
折を小さくする方法、配向関数を小さくする方法が例示
される。

【０１０８】これらのマトリックスポリマーに機械的強
度を付与やＬＣＤパネルに貼合する際の接着性を改良す
るなどの目的のために添加物を用いてもよい。添加物の
種類や量については、本発明の目的を損なわない程度の
範囲であれば特に限定はない。

【０１０９】次に、光学異方体フィルムの製造方法につ
いて説明する。液晶化合物と高分子の混合方法として
は、均一性の観点から溶液状態で混合することが好まし
い。具体的には液晶化合物を溶媒に懸濁または溶解し
て、これに高分子を懸濁または溶解して混合する方法が
挙げられる。溶媒は高分子の良溶媒を用いることが好ま
しい。

【０１１０】液晶化合物とマトリックスポリマーの混合
物からなるフィルムの成膜法については、液晶化合物と
マトリックスポリマーを溶剤に溶かしキャストする溶剤
キャスト法、固体状態で混練しダイなどから押し出しフ
ィルムにする押し出し成型法、固体状態で混練した後カ
レンダロールでフィルムにするカレンダー法、プレスな
どでフィルムにするプレス成型法などが例示される。こ
の中でも膜厚精度に優れた溶剤キャスト法が好ましい。
成膜後のフィルムの厚みは、特に制限はないが、２０〜
３００μｍが好ましく、さらに好ましくは７０〜１２０
μｍである。このようにして成膜して得られたフィルム
を加熱しても良い。フィルムを加熱する温度、時間、方
法などはとくに限定はない。

【０１１１】成膜後フィルムを加熱しながら延伸すると
きの延伸方法としては、テンター延伸法、ロール間延伸
法、ロール間圧縮延伸法などが例示される。フィルム面
の均一性などの観点からテンター延伸法、ロール間延伸
法が好ましい。フィルムの加熱方法については特に制限
はない。加熱温度については、使用するマトリックスポ
リマーや液晶の転移温度、得られる光学異方体フィルム
のレタデーションの温度変化率により適宜選択される
が、液晶表示装置の使用温度以上が好ましく、具体的に
は９０℃以上が好ましい。延伸倍率については、倍率が
低いと液晶化合物の配向が不充分になり、高すぎると生
産性が悪くなるので好ましくなく、具体的には１．０１
倍〜８倍が好ましく、１．１倍〜６倍がさらに好まし
い。延伸速度や冷却速度については特に限定はない。延
伸したフィルムを延伸後に加熱しても良い。フィルムを
加熱する温度、時間、方法などはとくに限定はない。以
上のように成膜して得られたフィルムを延伸前および／
または延伸処理後に加熱処理を行うことが好ましい。延
伸後に熱処理を行うことがより好ましい。フィルムの熱
処理温度、時間、方法などは特に制限はない。またフィ
ルムの表面硬度の改良や接着性の改良のために、延伸後
のフィルムの片面もしくは両面に公知のハードコート処
理やガスバリア処理を行ってもよい。

【０１１２】本発明の液晶表示装置は、本発明のいずれ
かの光学異方体フィルムを使用することを特徴とする。
具体的には、本発明の液晶表示装置は、液晶表示セルと
少なくとも１枚以上の光学異方体フィルムと少なくとも
１枚以上の偏光フィルムを有する液晶表示装置である。
特に、ＳＴＮ型液晶表示装置の場合には、液晶表示セル
として、電極を有する基板に挟持された、捩れ角が１８
０〜３６０°である捩れネマティック配向した低分子液
晶よりなるセルが例示される。本発明の液晶表示装置に
おいて、光学異方体フィルムを配置する場所や枚数につ
いて特に制限はなく、偏光フィルムと液晶表示セルとの
間であればどこでもよい。また、偏光フィルムの吸収軸
や液晶表示セルのラビング方向と光学異方体フィルムの
延伸軸とのなす角などについては、コントラストや視角
特性が最適になるように決められる。

【０１１３】

【実施例】以下、実施例により本発明を詳細に説明する
が、本発明はこれに限定されるものではない。高分子液
晶のガラス転移点（Ｔｇ）や液晶相と等方相との転移温
度（Ｔｉ）は、示差走査熱量計（ＤＳＣ）によって評価
した。昇温時の吸熱カーブの一次微分のピークをＴｇと
みなし、液晶相／等方相転移による吸熱ピークをＴｉと
見なした。得られた光学異方体フィルムのレタデーショ
ンは、偏光顕微鏡〔ニコン（株）製、ＯＰＴＩＰＨＯＴ
Ｏ２−ＰＯＬ〕によりセナルモン法を用いて測定した。
測定光の波長は５４６ｎｍである。レタデーションの温
度依存性は、得られた光学異方体フィルムをクーリング
ユニットを装備したホットステージ（メトラー社製商品
名ＦＰ８２ホットステージ）で冷却しながらレタデーシ
ョンを測定し求めた。

【０１１４】実施例１ 米国特許第４，３９９，４３５号明細書に開示されてい
る４−（２−プロペニルオキシ）安息香酸（４'−メト
キシフェニル）エステル４４.９ｇを４００ｍｌのトル
エンに溶解した。１０％の溶媒を蒸留し除いたあと、１
５.０ｇの直鎖ポリメチルシロキサン（平均分子量９０
１ｇ／ｍｏｌ：Ｗａｃｋｅｒ Ｃｈｅｍｉｅ Ｇｍｂ
Ｈ， Ｍｕｎｃｈｅｎ， Ｇｅｒｍａｎｙ）と４００μ
ｌの１％白金触媒塩化メチレン溶液を７５℃で上記トル
エン溶液に加えた。反応混合物を１００℃で９０分間撹
拌した。混合物を７５℃に冷却した後、４.０ｇの１−
ヘキセンを加え、更に５０ｕｌの白金触媒溶液を加え
た。反応混合物をさらに１時間１００℃に加熱しながら
撹拌し、その後室温に冷却して濾過した。その後反応混
合物にｎ−ペンタンを加え目的の生成物を沈殿させた。
残存溶媒を取り除くため減圧乾燥したところ４６.２ｇ
の液晶性オリゴマー１が得られた。得られた液晶化合物
は数平均分子量５１４０、分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）
１.３５で、１.３％のモノマーを含んでいた。ＤＳＣよ
り求めた相転移温度はＴｇ＝１３℃、Ｔｉ＝４５℃であ
った。液晶性オリゴマー１とポリカーボネート（帝人化
成製：商品名パンライトＣ１４００）を重量比で６：９
４になるよう混合し、混合物が２０重量％になるように
塩化メチレンに溶解した。この溶液を５００μｍギャッ
プのアプリケーターを用いてガラス板上にキャストしフ
ィルムを得た。得られたフィルムを１７５℃で１．５倍
に延伸し光学異方体フィルムを得た。得られた光学異方
体フィルムの８０、６０、３０、０℃におけるレタデー
ションは、それぞれ３４７、３４７、４７３、５２７ｎ
ｍであり、８０、６０、０℃のレタデーションは、３０
℃のレタデーションに対してそれぞれ７４、７４、１１
１％であった。得られた光学異方体フィルムを８５℃で
２時間熱処理下した後の液晶によるレタデーションは１
１９ｎｍであった。熱処理後２００時間経過したときの
液晶によるレタデーションは１１６ｎｍであり、熱処理
直後のレタデーションと比較して２．６％変化した。得
られた光学異方体フィルムをＳＴＮ型液晶表示装置に搭
載すると０〜４０℃の範囲で白黒表示が可能である。

【０１１５】実施例２ 実施例１記載の液晶性オリゴマー１に下記式（１１）で
示される液晶を１：１の重量比で混合し、ＤＳＣより相
転移温度を測定したところ、混合物の液晶相−等方相転
移温度に対応する吸熱ピークが８９℃に見られた。

【０１１６】

【化４３】 ・・・・・（１１） 液晶性オリゴマー１：上記式（７）の液晶：ＰＣ＝５：
５：９０（重量比）になるよう混合し、塩化メチレンに
固形分が２０重量％になるよう溶解し、得られた溶液を
ガラス板上にキャストした。得られたキャストフィルム
を１６０℃で１．５倍に延伸し光学異方体フィルムを得
た。得られた光学異方体フィルムのレタデーションは８
０、６０、３０℃でそれぞれ３８７、４９３、５５４ｎ
ｍであり、８０、６０℃のレタデーションは３０℃の値
のそれぞれ７０、８９％であった。得られた光学異方体
フィルムを１００℃で２時間熱処理した後の液晶による
レタデーションは１５５ｎｍであった。熱処理後２００
時間経過したときの液晶によるレタデーションは１６２
ｎｍであり、熱処理直後のレタデーションと比較して
４．９％変化した。得られた光学異方体フィルムをＳＴ
Ｎ型液晶表示装置に搭載すると３０〜８０℃の範囲で白
黒表示が可能である。

【０１１７】実施例３ 液晶性オリゴマー１：Ｅ９：ＰＣ＝７：７：８６（重量
比）になるように混合し、塩化メチレンに固形分が２０
重量％になるように溶解し、得られた溶液をガラス板上
にキャストした。得られたキャストフィルムを１５０℃
で１．５倍に延伸し、光学異方体フィルムを得た。得ら
れた光学異方体フィルムのレタデーションは、８０、６
０、３０、０℃でそれぞれ１９６、２３９、４８４、５
４１ｎｍであり、８０、６０、０℃のレタデーション
は、３０℃の値のそれぞれ４０、４９、１１２％であっ
た。得られた光学異方体フィルムを１００℃で２時間熱
処理した後の液晶によるレタデーションは、２７５ｎｍ
であった。熱処理後２００時間経過したときの液晶によ
るレタデーションは２８１ｎｍであり、熱処理直後のレ
タデーションと比較して２．１％変化した。得られた光
学異方体フィルムをＳＴＮ型液晶表示装置に搭載すると
０〜８０℃の範囲で白黒表示が可能である。

【０１１８】比較例１ ４−（２−プロペニルオキシ）安息香酸（４'−メトキ
シフェニル）エステル１１７ｇを９６０ｍｌのトルエン
に溶解した。１０％の溶媒を蒸留し除いたあと、３０.
０ｇの直鎖ポリメチルシロキサン（平均分子量１００４
ｇ／ｍｏｌ：Ｗａｃｋｅｒ Ｃｈｅｍｉｅ ＧｍｂＨ，
Ｍｕｎｃｈｅｎ， Ｇｅｒｍａｎｙ製）と１.７ｇの１
％白金触媒塩化メチレン溶液を７０℃で上記トルエン溶
液に加えた。反応混合物を９０℃で２時間撹拌した。そ
の後室温に冷却して濾過した。その後反応混合物にｎ−
ペンタンを加え目的の生成物を沈殿させた。残存溶媒を
取り除くため減圧乾燥したところ２１.２ｇの液晶性オ
リゴマー２が得られた。得られた液晶化合物は数平均分
子量５２００、分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）１.３８で、
１.０％のモノマーを含んでいた。ＤＳＣより求めた相
転移温度はＴｇ＝２３℃、Ｔｉ＝７１℃であった。液晶
性オリゴマー２とポリカーボネート（帝人化成製：商品
名パンライトＣ１４００）を重量比で７：９３になるよ
う混合し、混合物が２０重量％になるように塩化メチレ
ンに溶解した。この溶液を５００μｍギャップのアプリ
ケーターを用いてガラス板上にキャストしフィルムを得
た。得られたフィルムを１７５℃で１．５倍に延伸し、
位相差フィルムを得た。得られた位相差フィルムのレタ
デーションは、３０℃で４９８ｎｍであった。得られた
光学異方体フィルムの８０℃におけるレタデーション
は、３１４ｎｍであり、８０℃のレタデーションは、３
０℃のレタデーションに対して６３％であった。得られ
た光学異方体フィルムを８５℃で２時間熱処理した後の
液晶によるレタデーションは、１６０ｎｍであった。熱
処理後２００時間経過したときの液晶によるレタデーシ
ョンは、１８１ｎｍであり、熱処理直後のレタデーショ
ンと比較して１３．１％変化した。

【０１１９】実施例４ ４−（２−プロペニルオキシ）ベンゾイルオキシ−４−
（４'−メトキシベンゾイル）フェニルエステル３１.５
ｇと、Ｇ，−Ｐ，Ｃｈａｎｇ Ｃｈｉｅｎ，Ｊ，−Ｆ，
Ｋｕｏ，Ｃ，−Ｙ，ＣｈｅｎらのＪ.Ｐｏｌｙｍ.Ｓｃ
ｉ.Ａ，１９９３，３１，２４３２−２４３６に記載の
方法に従い合成した４−（２−プロペニルオキシ）安息
香酸［４−（ブトキシカルボニル）フェニル］エステル
２７.７ｇと、１２.２ｇの直鎖ポリメチルシロキサン
（平均分子量７３８ｇ／ｍｏｌ）を４００ｍｌの乾燥ト
ルエンに溶解した。溶液を７５℃に加熱したあと、１.
５３ｇの１％白金触媒塩化メチレン溶液を上記トルエン
溶液に加えた。反応混合物を１００℃で３時間撹拌し
た。混合物を室温に冷却した後、反応混合物をｎ−ペン
タンを用いて沈殿させ、沈殿物を濾過した。残存溶媒を
取り除くため減圧乾燥したところ４９.１ｇの液晶性オ
リゴマー３が得られた。得られた液晶化合物は数平均分
子量５２００、分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）１.３２で、
４.５％のモノマーを含んでいた。ＤＳＣより求めた相
転移温度はＴｇ＝１６℃、Ｔｉ＝１３５℃であった。液
晶性オリゴマー３とポリカーボネート（帝人化成製：商
品名パンライトＣ１４００）を重量比で７：９３になる
よう混合し、混合物が２０重量％になるように塩化メチ
レンに溶解した。この溶液を６８０μｍギャップのアプ
リケーターを用いてガラス板上にキャストし膜厚１００
μｍのフィルムを得た。得られたフィルムを１７５℃で
１．５倍に延伸し光学異方体フィルムを得た。得られた
光学異方体フィルムの１２０、８０、６０、３０℃にお
けるレタデーションは、それぞれ２７５、３９４、４２
９、４６０ｎｍであり、１２０、８０、６０℃のレタデ
ーションは、３０℃のレタデーションに対してそれぞれ
６０、８６、９３％であった。得られた光学異方体フィ
ルムを８５℃で２時間熱処理した後の、３０℃における
液晶によるレタデーションは２４０ｎｍであった。熱処
理後２００時間経過したときの液晶によるレタデーショ
ンは２３５ｎｍであり、熱処理直後のレタデーションと
比較して２％の変化であった。

【０１２０】実施例５ ４−（２−プロペニルオキシ）ベンゾイルオキシ−４−
（４'−メトキシベンゾイル）フェニルエステル２５.２
ｇと、４−（２−プロペニルオキシ）安息香酸［４−
（ブトキシカルボニル）フェニル］エステル２２.１ｇ
と、２.６３ｇの１−ヘキセンと、１２.２ｇの直鎖ポリ
メチルシロキサン（平均分子量７３８ｇ／ｍｏｌ）を４
００ｍｌの乾燥トルエンに溶解した。溶液を７５℃に加
熱したあと、１.５３ｇの１％白金触媒塩化メチレン溶
液を上記トルエン溶液に加えた。反応混合物を１００℃
で３時間撹拌した。混合物を室温に冷却した後、反応混
合物を濾過し、得られた上澄みをｎ−ペンタンを用いて
沈殿させた。沈殿物を濾過し、減圧乾燥したところ３
０.３ｇの液晶性オリゴマー４が得られた。得られた液
晶化合物は数平均分子量５０００、分子量分布（Ｍｗ／
Ｍｎ）１.３３で、３％のモノマーを含んでいた。ＤＳ
Ｃより求めた相転移温度はＴｇ＝１１℃、Ｔｉ＝１０８
℃であった。液晶性オリゴマー４とポリカーボネート
（帝人化成製：商品名パンライトＣ１４００）を重量比
で７：９３になるよう混合し、混合物が２０重量％にな
るように塩化メチレンに溶解した。この溶液を６８０μ
ｍギャップのアプリケーターを用いてガラス板上にキャ
ストし膜厚１００μｍのフィルムを得た。得られたフィ
ルムを１７５℃で１．５倍に延伸し光学異方体フィルム
を得た。得られた光学異方体フィルムの１２０、８０、
６０、３０℃におけるレタデーションは、それぞれ５４
９、８０１、８６８、９３１ｎｍであり、１２０、８
０、６０℃のレタデーションは、３０℃のレタデーショ
ンに対してそれぞれ５９、８６、９３％であった。得ら
れた光学異方体フィルムを８５℃で２時間熱処理した後
の、３０℃における液晶によるレタデーションは３８０
ｎｍであった。熱処理後２００時間経過したときの液晶
によるレタデーションは２６９ｎｍであり、熱処理直後
のレタデーションと比較して３％変化した。

【０１２１】実施例６ ４−（２−プロペニルオキシ）ベンゾイルオキシ−４−
（４'−メトキシベンゾイル）フェニルエステル１５.８
ｇと、４−（２−プロペニルオキシ）安息香酸［４−
（ブトキシカルボニル）フェニル］エステル４１.５ｇ
と、１２.２ｇの直鎖ポリメチルシロキサン（平均分子
量７３８ｇ／ｍｏｌ）を４００ｍｌの乾燥トルエンに溶
解した。溶液を７５℃に加熱したあと、１.５３ｇの１
％白金触媒塩化メチレン溶液を上記トルエン溶液に加え
た。反応混合物を１００℃で３時間撹拌した。混合溶液
を室温に冷却した後、ｎ−ペンタンを用いて沈殿させ
た。沈殿物を濾過し、減圧乾燥したところ４９.１ｇの
液晶性オリゴマー５が得られた。得られた液晶化合物は
数平均分子量５３００、分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）１.
３０で、３％のモノマーを含んでいた。ＤＳＣより求め
た相転移温度はＴｇ＝６℃、Ｔｉ＝６８℃であった。液
晶性オリゴマー５とポリカーボネート（帝人化成製：商
品名パンライトＣ１４００）を重量比で７：９３になる
よう混合し、混合物が２０重量％になるように塩化メチ
レンに溶解した。この溶液を６８０μｍギャップのアプ
リケーターを用いてガラス板上にキャストし、乾燥後の
膜厚が１００μｍのフィルムを得た。得られたフィルム
を１７５℃で１．５倍に延伸し光学異方体フィルムを得
た。得られた光学異方体フィルムの８０、６０、３０、
２０℃におけるレタデーションは、それぞれ３８５、５
３９、７４１、７６５ｎｍであり、８０、６０、２０℃
のレタデーションは、３０℃のレタデーションに対して
それぞれ５２、７９、１０３％であった。得られた光学
異方体フィルムを８５℃で２時間熱処理した後の、３０
℃における液晶によるレタデーションは３７６ｎｍであ
った。熱処理後２００時間経過したときの液晶によるレ
タデーションは３８０ｎｍであり、熱処理直後のレタデ
ーションと比較して１％変化した。

【０１２２】実施例７ ４−（２−プロペニルオキシ）ベンゾイルオキシ−４−
（４'−メトキシベンゾイル）フェニルエステル１８.９
ｇと、４−（２−プロペニルオキシ）安息香酸［４−
（ブトキシカルボニル）フェニル］エステル３８.７ｇ
と、１２.２ｇの直鎖ポリメチルシロキサン（平均分子
量７３８ｇ／ｍｏｌ）を４００ｍｌの乾燥トルエンに溶
解した。溶液を７５℃に加熱したあと、１.５３ｇの１
％白金触媒塩化メチレン溶液を上記トルエン溶液に加え
た。混合物を１００℃で３時間撹拌した。混合溶液を室
温に冷却した後、ｎ−ペンタンを用いて沈殿させた。沈
殿物を濾過し、減圧乾燥したところ４９.７ｇの液晶性
オリゴマー６が得られた。得られた液晶化合物は数平均
分子量５３００、分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）１.３０
で、３％のモノマーを含んでいた。ＤＳＣより求めた相
転移温度はＴｇ＝７℃、Ｔｉ＝８３℃であった。液晶性
オリゴマー６とポリカーボネート（帝人化成製：商品名
パンライトＣ１４００）を重量比で７：９３になるよう
混合し、混合物が２０重量％になるように塩化メチレン
に溶解した。この溶液を６８０μｍギャップのアプリケ
ーターを用いてガラス板上にキャストし、乾燥後の膜厚
が１００μｍのフィルムを得た。得られたフィルムを１
７５℃で１．５倍に延伸し光学異方体フィルムを得た。
得られた光学異方体フィルムの１００、８０、６０、３
０、２０℃におけるレタデーションは、それぞれ４８
２、５８０、８０５、９００、９１８ｎｍであり、１０
０、８０、６０、２０℃のレタデーションは、３０℃の
レタデーションに対してそれぞれ５３、６４、８９、１
０２％であった。得られた光学異方体フィルムを８５℃
で２時間熱処理した後の、３０℃における液晶によるレ
タデーションは４３６ｎｍであった。熱処理後２００時
間経過したときの液晶によるレタデーションは４３７ｎ
ｍであり、熱処理直後のレタデーションと比較して１％
以下の変化であった。

【０１２３】実施例８ ４−（２−プロペニルオキシ）ベンゾイルオキシ−４−
（４'−メトキシベンゾイル）フェニルエステル４.４５
ｇと、４−（２−プロペニルオキシ）安息香酸［４−
（ブトキシカルボニル）フェニル］エステル９.１０ｇ
と、３.０６ｇの直鎖ポリメチルシロキサン（平均分子
量６０８ｇ／ｍｏｌ：Ｗａｃｋｅｒ Ｃｈｅｍｉｅ Ｇ
ｍｂＨ，Ｍｕｎｃｈｅｎ，Ｇｅｒｍａｎｙ製）を８０ｍ
ｌの乾燥トルエンに溶解した。溶液を７５℃に加熱した
あと、０.１５ｇの１％白金触媒塩化メチレン溶液を上
記トルエン溶液に加えた。混合物を１００℃で３時間撹
拌した。混合溶液を室温に冷却した後、ｎ−ペンタンを
用いて沈殿させた。沈殿物を濾過し、減圧乾燥したとこ
ろ７.７５ｇの液晶性オリゴマー７が得られた。得られ
た液晶化合物は数平均分子量４５００、分子量分布（Ｍ
ｗ／Ｍｎ）１.２５で、１％のモノマーを含んでいた。
ＤＳＣより求めた相転移温度はＴｇ＝７℃、Ｔｉ＝７４
℃であった。液晶性オリゴマー７とポリカーボネート
（帝人化成製：商品名パンライトＣ１４００）を重量比
で７：９３になるよう混合し、混合物が２０重量％にな
るように塩化メチレンに溶解した。この溶液を６８０μ
ｍギャップのアプリケーターを用いてガラス板上にキャ
ストし、乾燥後の膜厚が１００μｍのフィルムを得た。
得られたフィルムを１７５℃で１．５倍に延伸し光学異
方体フィルムを得た。得られた光学異方体フィルムの８
０、６０、３０、２０℃におけるレタデーションは、そ
れぞれ２３２、４５０、５５７、５７８ｎｍであり、８
０、６０、２０℃のレタデーションは、３０℃のレタデ
ーションに対してそれぞれ４２、８１、１０４％であっ
た。得られた光学異方体フィルムを８５℃で２時間熱処
理した後の、３０℃における液晶によるレタデーション
は３３０ｎｍであった。熱処理後２００時間経過したと
きの液晶によるレタデーションは３３１ｎｍであり、熱
処理直後のレタデーションと比較して１％以下の変化で
あった。

【０１２４】実施例９ ４−ヒドロキシ安息香酸のヘプチルエステル（Ａｖｏｃ
ａｄｏ製、ＧＢ−ＬＡ３２ＸＹ Ｈｅｙｓｈａｍ）を１
００ｇ（０.４２ｍｏｌ）を３００ｍｌのトルエンに溶
解した。８３.２ｇ（０.４２ｍｏｌ、１当量）の４−プ
ロプレンオキシ安息香酸クロライドを加え、混合溶液を
撹拌しながら６０℃に加熱した。４８.７ｇ（０.４８ｍ
ｏｌ）のトリエチルアミンを７０ｍｌのトルエンに溶解
し４５分かけて該混合溶液に加えた。その後混合溶液を
９０℃で３時間撹拌した。溶液を室温に冷却し、沈殿し
たトリエチルアミンハイドロクロライド錯体を濾過し
た。濾過した溶液を徹底的に水洗し、２Ｎの希塩酸で２
回洗った。溶液を硫酸ナトリウムで乾燥し一部の溶媒を
取り除いた。粗生成物をイソプロピルアルコールを用い
て再結晶し、１４７ｇ（収率８８％）の無色の結晶状で
融点が４１〜４５℃の生成物を得た。得られた化合物は
冷却時に４１℃〜３３℃の範囲でネマティック相を示し
た。同様にして以下のエステル類縁体を準備した。 （２−プロペニルオキシ）安息香酸［４−（プロピルオ
キシカルボニル）フェニル］エステル：融点が６５〜７
０℃で、冷却時に４８℃〜４５℃の範囲でモノトロピッ
クなネナティック相を示す。 （２−プロペニルオキシ）安息香酸［４−（ペンチルオ
キシカルボニル）フェニル］エステル：融点３９−５７
℃ （２−プロペニルオキシ）安息香酸［４−（ヘキシルオ
キシカルボニル）フェニル］エステル：融点５０−５４
℃ （２−プロペニルオキシ）安息香酸［４−（オクチルオ
キシカルボニル）フェニル］エステル：融点４２−４９
℃ （２−プロペニルオキシ）安息香酸［４−（ドデシルオ
キシカルボニル）フェニル］エステル：融点５８−６５
℃

【０１２５】実施例１０ ４−（２−プロペニルオキシ）ベンゾイルオキシ−４−
（４'−メトキシベンゾイル）フェニルエステル３.５４
ｇと、４−（２−プロペニルオキシ）安息香酸［４−
（ヘプトキシカルボニル）フェニル］エステル１０.４
ｇと、２.７ｇの直鎖ポリメチルシロキサン（平均分子
量７８６ｇ／ｍｏｌ）を８０ｍｌの乾燥トルエンに溶解
した。溶液を７５℃に加熱したあと、０.１５ｇの１％
白金触媒塩化メチレン溶液を上記トルエン溶液に加え
た。混合物を１００℃で３時間撹拌した。混合溶液を室
温に冷却し、濾過した。上澄み溶液をｎ−ペンタンに注
ぎ、得られた沈殿を濾過し、減圧乾燥した。８.２ｇの
液晶性オリゴマー８が得られた。得られた液晶化合物は
数平均分子量６３００、分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）１.
２９で、３％のモノマーを含んでいた。ＤＳＣより求め
た相転移温度はＴｇ＝−１℃、Ｔｉ＝６２℃であった。
液晶性オリゴマー８とポリカーボネート（帝人化成製：
商品名パンライトＣ１４００）を重量比で７：９３にな
るよう混合し、混合物が２０重量％になるように塩化メ
チレンに溶解した。この溶液を６８０μｍギャップのア
プリケーターを用いてガラス板上にキャストし、乾燥後
の膜厚が１００μｍのフィルムを得た。得られたフィル
ムを１７５℃で１．５倍に延伸し光学異方体フィルムを
得た。得られた光学異方体フィルムの８０、６０、３
０、−１０℃におけるレタデーションは、それぞれ５２
９、５４５、９７８、１０８３ｎｍであり、８０、６
０、−１０℃のレタデーションは、３０℃のレタデーシ
ョンに対してそれぞれ５４、５６、１１１％であった。
得られた光学異方体フィルムを８５℃で２時間熱処理し
た後の、３０℃における液晶によるレタデーションは４
５０ｎｍであった。熱処理後２００時間経過したときの
液晶によるレタデーションは４５１ｎｍであり、熱処理
直後のレタデーションと比較して１％以下の変化であっ
た。

【０１２６】実施例１１ ４−（２−プロペニルオキシ）ベンゾイルオキシ−４−
（４'−メトキシベンゾイル）フェニルエステル４.３３
ｇと、４−（２−プロペニルオキシ）安息香酸［４−
（オクチルオキシカルボニル）フェニル］エステル１
０.１ｇと、２.７ｇの直鎖ポリメチルシロキサン（平均
分子量７８６ｇ／ｍｏｌ）を８０ｍｌの乾燥トルエンに
溶解した。溶液を７５℃に加熱したあと、０.１５ｇの
１％の白金触媒の塩化メチレン溶液を上記トルエン溶液
に加えた。混合物を１００℃で３時間撹拌した。混合溶
液を室温に冷却し、濾過した。上澄み溶液をｎ−ペンタ
ンに注ぎ、得られた沈殿を濾過し、減圧乾燥した。７.
９ｇの液晶性オリゴマー９が得られた。得られた液晶化
合物は数平均分子量６５５０、分子量分布（Ｍｗ／Ｍ
ｎ）１.２７で、３.８％のモノマーを含んでいた。ＤＳ
Ｃより求めた相転移温度はＴｇ＝２℃、Ｔｉ＝８０℃で
あった。液晶性オリゴマー９とポリカーボネート（帝人
化成製：商品名パンライトＣ１４００）を重量比で７：
９３になるよう混合し、混合物が２０重量％になるよう
に塩化メチレンに溶解した。この溶液を６８０μｍギャ
ップのアプリケーターを用いてガラス板上にキャスト
し、乾燥後の膜厚が１００μｍのフィルムを得た。得ら
れたフィルムを１７５℃で１．５倍に延伸し光学異方体
フィルムを得た。得られた光学異方体フィルムの８０、
６０、３０、２０℃におけるレタデーションは、それぞ
れ３９１、７４７、８９３、９０６ｎｍであり、８０、
６０、２０℃のレタデーションは、３０℃のレタデーシ
ョンに対してそれぞれ４４、８４、１０１％であった。
得られた光学異方体フィルムを８５℃で２時間熱処理し
た後の３０℃における液晶によるレタデーションは５２
０ｎｍであった。熱処理後２００時間経過したときの液
晶によるレタデーションは５２１ｎｍであり、熱処理直
後のレタデーションと比較して１％以下の変化であっ
た。

【０１２７】実施例１２ ４−（２−プロペニルオキシ）安息香酸（４'−メトキ
シフェニル）エステル３６.０ｇと、米国特許第４，３
９９，４３５号明細書に記載のあるコレステ−５−エン
−３−オル（３β）−，４−（２−プロペニルオキシ）
ベンゾエート（欧州特許公開公報第３５８２０８号、米
国特許第５，２１１，８７７号明細書）１７.３ｇと、
１.４８ｇの１−ヘキセンと、２.７ｇの直鎖ポリメチル
シロキサン（平均分子量７３８ｇ／ｍｏｌ）を４００ｍ
ｌの乾燥トルエンに溶解した。溶液を反応容器中にい
れ、７５−８０℃に暖めた。溶液を７５℃に加熱したあ
と、１.５３ｇの１％白金触媒塩化メチレン溶液を上記
トルエン溶液に加えた。混合物を１００℃で３時間撹拌
した。混合溶液を室温に冷却し、濾過した。上澄み溶液
をｎ−ペンタンに注ぎ、得られた沈殿を濾過し、減圧乾
燥した。１８.７ｇの液晶性オリゴマー１０が得られ
た。得られた液晶化合物は数平均分子量５０００、分子
量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）１.４で、３.７％のモノマーを含
んでいた。ＤＳＣより求めた相転移温度はＴｇ＝１９
℃、Ｔｉ＝８７℃であった。液晶性オリゴマー１０とポ
リカーボネート（帝人化成製：商品名パンライトＣ１４
００）を重量比で７：９３になるよう混合し、混合物が
２０重量％になるように塩化メチレンに溶解した。この
溶液を６８０μｍギャップのアプリケーターを用いてガ
ラス板上にキャストし、乾燥後の膜厚が１００μｍのフ
ィルムを得た。得られたフィルムを１７５℃で１．５倍
に延伸し光学異方体フィルムを得た。得られた光学異方
体フィルムの１００、８０、６０、３０℃におけるレタ
デーションは、それぞれ５４８、６３８、６８３、６９
６ｎｍであり、１００、８０、６０℃のレタデーション
は、３０℃のレタデーションに対してそれぞれ７９、９
２、９８％であった。得られた光学異方体フィルムを８
５℃で２時間熱処理した後の３０℃における液晶による
レタデーションは１５０ｎｍであった。熱処理後２００
時間経過したときの液晶によるレタデーションは１４９
ｎｍであり、熱処理直後のレタデーションと比較して１
％以下の変化であった 実施例１３ 実施例８記載の液晶前駆体と平均分子量の異なる直鎖ポ
リシロキサンを用い、数平均分子量３８００、分子量分
布（Ｍｗ／Ｍｎ）１．２５で、６．６％のモノマーを含
む液晶性オリゴマー１１を得た。ＤＳＣより求めた相転
移温度はＴｇ＝０℃、Ｔｉ＝５６℃であった。液晶性オ
リゴマー１１と実施例２記載の式（１１）で示される液
晶とポリカーボネート（帝人化成製：商品名パンライト
Ｃ１４００）とを重量比で６：１：９７になるよう混合
し、混合物が２０重量%になるよう塩化メチレンに溶解
した。この溶液をＰＥＴフィルム上にキャストしフィル
ムを得た。得られたフィルムを１７５℃で１．５倍に延
伸し光学異方体フィルムを得た。得られた光学異方体フ
ィルムを１１０℃で６０分熱処理した後の３０、８０℃
におけるレタデーションはそれぞれ４０２．８ｎｍ、３
４５．８ｎｍであり、８０℃のレターデーションは３０
℃のレタデーションに対して８５．８％であった。３０
℃における液晶によるレタデーションは５７．０ｎｍで
あった。３０℃で２００時間経過したときの液晶による
レタデーションは５８．９ｎｍであり、熱処理後のレタ
デーションと比較して３．３％の変化であった。

【０１２８】実施例１４ 実施例１３と同様にして光学異方体フィルムを得た。得
られた光学異方体フィルムを１２０℃で２０分熱処理し
た後の８０、３０℃におけるレタデーションはそれぞれ
３０９．７ｎｍ、３６６．４ｎｍであり、８０℃のレタ
ーデーションは３０℃のレタデーションに対して８４．
５％であった。３０℃における液晶によるレタデーショ
ンは５６．７ｎｍであった。３０℃で２００時間経過し
たときの液晶によるレタデーションは５９．８ｎｍであ
り、熱処理後のレタデーションと比較して５．５％の変
化であった。また、同様にして得られた光学異方体フィ
ルムを１２０℃で２０分間熱処理した後の８０、３０℃
におけるレタデーションはそれぞれ２７４．２、３２
０．６ｎｍであり、８０℃のレターデーションは３０℃
のレタデーションに対して８５．５％であった。３０℃
における液晶によるレタデーションは４６．４ｎｍであ
った。１００℃で２００時間経過したときの液晶による
レタデーションは４８．８ｎｍであり、熱処理後のレタ
デーションと比較して５．１％の変化であった。

【０１２９】

【発明の効果】本発明の光学異方体フィルムは、組合わ
せて使用する液晶表示セルのレタデーションの温度変化
率に応じた温度変化率を有し、かつ光学異方体フィルム
を室温付近で保存したときも特性の変化が少ない。また
本発明の共重合ネマティック高分子液晶は、本発明の光
学異方体フィルムの液晶化合物として好適に用いること
ができる。また本発明のメソゲン基は本発明の光学異方
体フィルム用の側鎖型共重合高分子液晶や共重合ネマテ
ィック高分子液晶の出発物質として好適に用いることが
可能である。該光学異方体フィルムを液晶表示装置、特
にＳＴＮ型液晶表示装置またはＥＣＢ型液晶表示装置に
用いることにより室温より低い温度での表示特性の優れ
た液晶表示装置を得ることができるので工業的価値が大
きい。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 桑原 眞人 茨城県つくば市北原６ 住友化学工業株式 会社内 (72)発明者 藤沢 幸一 茨城県つくば市北原６ 住友化学工業株式 会社内 (72)発明者 エックハルト ハーネルト ドイツ連邦共和国 ゲルテンドルフ レル ヒェンヴェーク 10アー (72)発明者 トーマス カメル ドイツ連邦共和国 ミュンヘン 70 ツィ ールシュタット シュトラーセ 20 (72)発明者 ノルマン ヘーベルレ ドイツ連邦共和国 ミュンヘン 21 ヴィ リーバルト シュトラーセ 51 アー

Claims (11)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】高分子と液晶化合物を含む透明または半透
   明な光学異方体フィルムであり、法線方向から測定した
   該光学異方体フィルムの８０℃におけるレタデーション
   が３０℃におけるレタデーションの２０〜９７％であ
   り、該光学異方体フィルムを３０℃で２００時間保持し
   たときの液晶化合物によるレタデーション変化の絶対値
   が６％以下であることを特徴とする光学異方体フィルム
   （ただし、レタデーションの測定波長は、５４６ｎｍで
   ある）。
2. 【請求項２】高分子と液晶化合物を含む透明または半透
   明な光学異方体フィルムであり、法線方向から測定した
   該光学異方体フィルムの６０℃におけるレタデーション
   が３０℃におけるレタデーションの２０〜９９％であ
   り、該光学異方体フィルムを３０℃で２００時間保持し
   たときの液晶化合物によるレタデーション変化の絶対値
   が６％以下であることを特徴とする光学異方体フィルム
   （ただし、レタデーションの測定波長は、５４６ｎｍで
   ある）。
3. 【請求項３】高分子と液晶化合物を含む透明または半透
   明な光学異方体フィルムであり、法線方向から測定した
   該光学異方体フィルムの０℃におけるレタデーションが
   ３０℃におけるレタデーションの１０１〜１５０％であ
   り、該光学異方体フィルムを３０℃で２００時間保持し
   たときの液晶化合物によるレタデーション変化の絶対値
   が６％以下であることを特徴とする光学異方体フィルム
   （ただし、レタデーションの測定波長は、５４６ｎｍで
   ある）。
4. 【請求項４】請求項１記載の光学異方体フィルムにおい
   て、さらに法線方向から測定した該光学異方体フィルム
   の６０℃におけるレタデーションが３０℃におけるレタ
   デーションの２０〜９９％であることを特徴とする光学
   異方体フィルム（ただし、レタデーションの測定波長
   は、５４６ｎｍである）。
5. 【請求項５】請求項４記載の光学異方体フィルムにおい
   て、さらに法線方向から測定した該光学異方体フィルム
   の０℃におけるレタデーションが３０℃におけるレタデ
   ーションの１０１〜１５０％であることを特徴とする光
   学異方体フィルム（ただし、レタデーションの測定波長
   は、５４６ｎｍである）。
6. 【請求項６】請求項２記載の光学異方体フィルムにおい
   て、さらに法線方向から測定した該光学異方体フィルム
   の０℃におけるレタデーションが３０℃におけるレタデ
   ーションの１０１〜１５０％であることを特徴とする光
   学異方体フィルム（ただし、レタデーションの測定波長
   は、５４６ｎｍである）。
7. 【請求項７】液晶が下記式（１）、（２）および（３）
   を反復単位としてなる側鎖型共重合高分子液晶を含み、
   該側鎖型共重合高分子液晶一分子中の反復単位式
   （１）、（２）および（３）の数をそれぞれｎ₁、ｎ₂お
   よびｎ₃とすると、ｎ₁／（ｎ₂+ｎ₃）の比が一分子あた
   り平均して９８／２から２０／８０で、ｎ₂／ｎ₃の比が
   １００／０から２０／８０の範囲にあることを特徴とす
   る請求項１ないし６記載のいずれかの光学異方体フィル
   ム 【化１】 ・・・・・（１） 【化２】 ・・・・・（２） 【化３】 ・・・・・（３） ［一般式（１）、（２）または（３）において、Ａは下
   記一般式（４）または（５）で表される基である。 【化４】 ・・・・・（４） 【化５】 ・・・・・（５） 一般式（４）において−Ｓｉ−Ｏ−は、一般式（１）、
   （２）および（３）の主鎖であり、環状であっても直鎖
   状であってもよい。一般式（５）において、−Ｃ−ＣＨ
   ₂−は一般式（１）、（２）および（３）の主鎖であ
   り、ＣＯＯ基は一般式（１）の（ＣＨ₂）k₁基、一般式
   （２）のＲ₃基、および一般式（３）のＲ₄基に結合す
   る。一般式（１）、（２）および（３）において、Ａが
   一般式（５）のとき、Ｒ₁は、それぞれ同一または相異
   なり、炭素数１〜６のアルキル基または炭素数１〜６の
   アルコキシ基であり、一般式（１）、（２）および
   （３）において、Ａが一般式（４）のとき、Ｒ₁は、そ
   れぞれ同一または相異なり、炭素数１〜１０のアルキル
   基、炭素数１〜１０のアルコキシ基またはフェニル基で
   ある。一般式（２）でＲ₃は炭素数３〜３０の炭化水素
   基、４−（コレステリルオキシカルボニルフェニル）オ
   キシアルケンまたは 【化６】−(CH₂)k₃−(O)m₂−Ar₂−(L₃)p₃−Ar₅−((L₄)p
   ₄−(Ar₆)q₂)k₄−R₅ である。一般式（３）において、Ｒ₄は炭素数３〜３０
   の炭化水素基または 【化７】−(CH₂)k₅−(O)m₃−Ar₇−(L₅)p₅−Ar₈−((L₆)p
   ₆−(Ar₉)q₃)k₆−R₆ であり、一般式（１）、（２）および（３）において、
   ｋ₁、ｋ₃およびｋ₅は、それぞれ独立に２〜１０の整数
   を表し、ｋ₂、ｋ₄、ｋ₆、ｍ₁、ｍ₂、ｍ₃、ｐ₁、ｐ₂、ｐ
   ₃、ｐ₄、ｐ₅、ｐ₆、ｑ₁、ｑ₂およびｑ₃は、それぞれ独
   立に０または１である（ここで０は隣接する基が直接結
   合していることを意味する）。Ａｒ₁、Ａｒ₂、Ａｒ₃、
   Ａｒ₄、Ａｒ₅、Ａｒ₆、Ａｒ₇、Ａｒ₈およびＡｒ₉は、そ
   れぞれ同一または相異なり、１，４−フェニレン、１，
   ４−シクロヘキシレン、ピリジン−２，５−ジイルまた
   はピリミジン−２，５−ジイルである。Ｌ₁、Ｌ₂、
   Ｌ₃、Ｌ₄、Ｌ₅およびＬ₆は、それぞれ同一または相異な
   り、−ＣＨ ₂−Ｏ−、−Ｏ−ＣＨ₂−、−ＣＯＯ−、−Ｏ
   ＣＯ−、−ＣＨ₂−ＣＨ₂−、−ＣＨ＝Ｎ−、−Ｎ＝ＣＨ
   −、−Ｎ＝Ｎ−、−Ｎ（Ｏ）＝Ｎ−または−Ｎ＝Ｎ
   （Ｏ）−で示される基である。Ｒ₂、Ｒ₅およびＲ₆は、
   それぞれ同一または相異なり、水素、ハロゲン、シアノ
   基、または隣接しないメチレン（ＣＨ₂）基が酸素で置
   換されても良い直鎖もしくは環状のアルキル基であ
   る。］
8. 【請求項８】高分子と液晶化合物とを混合し、フィルム
   に成形したのち、加熱しながらフィルムを一軸延伸する
   ことを特徴とする請求項１ないし７記載のいずれかの光
   学異方体フィルムの製造方法。
9. 【請求項９】請求項１ないし７記載のいずれかの光学異
   方体フィルムを使用することを特徴とする液晶表示装
   置。
10. 【請求項１０】下記一般式（６）、（７）および（８）
    を反復単位としてなり、ｎ₆、ｎ₇およびｎ₈をそれぞれ
    一般式（６）、（７）および（８）の反復単位数とする
    と、ｎ₆／（ｎ₇+ｎ₈）の比が９８／２から５／９５の範
    囲にある共重合ネマティック高分子液晶。 【化８】 ・・・・・（６） 【化９】 ・・・・・（７） 【化１０】 ・・・・・（８） ［式中−Ｓｉ−Ｏ−は、直鎖または環状になり、Ｒ₁は
    それぞれ同一または相異なり、炭素数１〜１０のアルキ
    ル基、炭素数１〜１０のアルキルオキシ基またはフェニ
    ル基である。Ｑは、孤立した隣接しないＣＨ₂基が酸素で
    置換されていても良い、１〜１２個のメチレン直鎖、４
    −位がＣ₁〜Ｃ₃（炭素数１〜３を意味する。以下同様で
    ある）アルキル基、またはＣ₁〜Ｃ₃アルコキシ基で置換
    されたシクロヘキサン基である。Ｒ₃は、炭素数３〜３
    ０の炭化水素基、4−(コレステリルオキシカルボニルフ
    ェニル)オキシアルケンまたは 【化１１】−(CH₂)k₃−(O)m₂−Ar₂−(L₃)p₃−Ar₅−
    ((L₄)p₄−(Ar₆)q₂)k₄−R₅ である。Ｒ₄は、炭素数３〜３０の炭化水素基または 【化１２】−(CH₂)k₅−(O)m₃−Ar₇−(L₅)p₅−Ar₈−
    ((L₆)p₆−(Ar₉)q₃)k₆−R₆ である。ここで、ｋ₁、ｋ₃およびｋ₅は、それぞれ同一
    または相異なる２〜１０の整数を表し、ｋ₄、ｋ₆、
    ｍ₂、ｍ₃、ｐ₃、ｐ₄、ｐ₅、ｐ₆、ｑ₂およびｑ₃は、それ
    ぞれ同一または相異なり、０または１である。Ａｒ₄、
    Ａｒ₅、Ａｒ₆、Ａｒ₇、Ａｒ₈およびＡｒ₉は、それぞれ
    同一または相異なり、１，４−フェニレン、１，４−シ
    クロヘキシレン、ピリジン−２，５−ジイルまたはピリ
    ミジン−２，５−ジイルである。Ｌ₃、Ｌ₄、Ｌ₅および
    Ｌ₆は、それぞれ同一または相異なり、−ＣＨ₂−Ｏ−、
    −Ｏ−ＣＨ₂−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＨ₂−Ｃ
    Ｈ₂−、−ＣＨ＝Ｎ−、−Ｎ＝ＣＨ−、−Ｎ＝Ｎ−、−
    Ｎ（Ｏ）＝Ｎ−または−Ｎ＝Ｎ（Ｏ）−で示される基で
    ある。Ｒ₅およびＲ₆は、それぞれ同一または相異なり、
    ハロゲン、シアノ基、または隣接しないメチレン（ＣＨ
    ₂）基が酸素で置換されても良い直鎖もちくは環状のア
    ルキル基である。］
11. 【請求項１１】一般式（９）からなるメソゲン基。 【化１３】 ・・・・・（９） （ここで、ｋ₇は０〜８の整数であり、Ｑ₂は、孤立した
    隣接しないＣＨ₂基が酸素で置換されていても良い少な
    くとも５〜１２個のメチレン直鎖、４−位がＣ₁〜Ｃ₃の
    アルキル基、またはＣ₁〜Ｃ₃のアルコキシ基で置換され
    たシクロヘキサン基である。）