JP3246935B2 - 新規な高分子化合物及びそれを用いた強誘電性液晶組成物 - Google Patents
新規な高分子化合物及びそれを用いた強誘電性液晶組成物Info
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Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は新規な高分子化合物及び
それを用いた強誘電性液晶組成物に関する。更に詳しく
いえば、本発明はオプトエレクトロニクス分野、特に電
卓、時計などのデジタル表示素子、ドットマトリクス型
表示素子、常温スイッチング素子、電子光学シャッタ
ー、電子光学絞り、光変調器、光通信光路切替スイッ
チ、メモリー、液晶プリンターヘッド、焦点距離可変レ
ンズなどに用いられる液晶素子の材料として好適に用い
られる新規な高分子化合物及びそれを用いた強誘電性液
晶組成物に関する。
それを用いた強誘電性液晶組成物に関する。更に詳しく
いえば、本発明はオプトエレクトロニクス分野、特に電
卓、時計などのデジタル表示素子、ドットマトリクス型
表示素子、常温スイッチング素子、電子光学シャッタ
ー、電子光学絞り、光変調器、光通信光路切替スイッ
チ、メモリー、液晶プリンターヘッド、焦点距離可変レ
ンズなどに用いられる液晶素子の材料として好適に用い
られる新規な高分子化合物及びそれを用いた強誘電性液
晶組成物に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、低分子液晶化合物を用いた表示素
子は、電卓、時計などのデジタル表示に広く使用されて
いる。これらの利用分野では、通常、従来の低分子液晶
化合物は、間隔をミクロンオーダーで制御した２枚のガ
ラス基板の間に挟んで使用されている。このような間隔
の調整は大型画面及び曲面画面では実現が不可能であっ
た。この難点を解決する１つの手段として、液晶を高分
子化したり、低分子液晶化合物と高分子化合物の組成物
とすることが行われている。
子は、電卓、時計などのデジタル表示に広く使用されて
いる。これらの利用分野では、通常、従来の低分子液晶
化合物は、間隔をミクロンオーダーで制御した２枚のガ
ラス基板の間に挟んで使用されている。このような間隔
の調整は大型画面及び曲面画面では実現が不可能であっ
た。この難点を解決する１つの手段として、液晶を高分
子化したり、低分子液晶化合物と高分子化合物の組成物
とすることが行われている。
【０００３】例えば、液晶組成物として不斉炭素を有す
る高分子液晶化合物と低分子液晶化合物からなる組成物
が特開昭６３−２８４２９１号公報において提案されて
いる。しかし、例示されている側鎖型高分子液晶化合物
は主鎖が通常のアクリレート鎖やシロキサン鎖であるの
で、側鎖間隔が十分でなく、分子量を大きくすると低分
子液晶化合物を十分に混合できなくなって高速応答化が
難しくなる。従って、本来の高分子性を保ちつつ高速応
答性の組成物を得ることが難しいという問題点がある。
る高分子液晶化合物と低分子液晶化合物からなる組成物
が特開昭６３−２８４２９１号公報において提案されて
いる。しかし、例示されている側鎖型高分子液晶化合物
は主鎖が通常のアクリレート鎖やシロキサン鎖であるの
で、側鎖間隔が十分でなく、分子量を大きくすると低分
子液晶化合物を十分に混合できなくなって高速応答化が
難しくなる。従って、本来の高分子性を保ちつつ高速応
答性の組成物を得ることが難しいという問題点がある。
【０００４】一方、非液晶性高分子化合物と低分子液晶
化合物からなる組成物で高分子性を保ちつつ、高速応答
性の組成物を得ようとする試みとしては、特開昭６１−
４７４２７号公報に低分子液晶化合物に非晶質ポリマー
を配合して自己形状保持能力を付与した組成物が記載さ
れている。この組成物においては、高分子化合物（樹
脂）マトリックス中に分散して液晶領域が存在するため
長時間放置すると分離してくる可能性があり、また島状
に液晶が分散しているので、コントラストが悪いなどの
問題点があり、分散系なので配向制御も難しい。特開昭
６２−２６０８５９号公報、特開昭６２−２６０８４１
号公報には熱可塑性樹脂と低分子液晶化合物を含む強誘
電性複合膜が記載されており、相溶系になる熱可塑性樹
脂が用いられているが、この熱可塑性樹脂と相溶系にな
る低分子液晶化合物の組合せが難しく、配向制御も難し
い。また、用いる低分子液晶化合物が強誘電性液晶に限
定されるという問題点がある。特開平１−１９８６８３
号公報にはプロトン供与体（又はプロトン受容体）を持
つポリマーとプロトン受容体（又はプロトン供与体）を
持つ低分子液晶化合物からなる組成物が記載されている
が、ポリマー、低分子液晶化合物ともプロトン供与体
（又はプロトン受容体）を持たなければならないので、
どちらの構造もかなり限定されるという問題点がある。
化合物からなる組成物で高分子性を保ちつつ、高速応答
性の組成物を得ようとする試みとしては、特開昭６１−
４７４２７号公報に低分子液晶化合物に非晶質ポリマー
を配合して自己形状保持能力を付与した組成物が記載さ
れている。この組成物においては、高分子化合物（樹
脂）マトリックス中に分散して液晶領域が存在するため
長時間放置すると分離してくる可能性があり、また島状
に液晶が分散しているので、コントラストが悪いなどの
問題点があり、分散系なので配向制御も難しい。特開昭
６２−２６０８５９号公報、特開昭６２−２６０８４１
号公報には熱可塑性樹脂と低分子液晶化合物を含む強誘
電性複合膜が記載されており、相溶系になる熱可塑性樹
脂が用いられているが、この熱可塑性樹脂と相溶系にな
る低分子液晶化合物の組合せが難しく、配向制御も難し
い。また、用いる低分子液晶化合物が強誘電性液晶に限
定されるという問題点がある。特開平１−１９８６８３
号公報にはプロトン供与体（又はプロトン受容体）を持
つポリマーとプロトン受容体（又はプロトン供与体）を
持つ低分子液晶化合物からなる組成物が記載されている
が、ポリマー、低分子液晶化合物ともプロトン供与体
（又はプロトン受容体）を持たなければならないので、
どちらの構造もかなり限定されるという問題点がある。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】本発明は配向制御が容
易で、配向性に優れている上に、強誘電性を示し、外的
因子に対する応答が速く、かつ大画面、屈曲画面の表示
素子として有利に使用できる液晶組成物を提供するもの
である。
易で、配向性に優れている上に、強誘電性を示し、外的
因子に対する応答が速く、かつ大画面、屈曲画面の表示
素子として有利に使用できる液晶組成物を提供するもの
である。
【０００６】本発明は、また前記液晶組成物の素材とし
て好適に使用できる低分子液晶化合物と相溶系となり、
相分離しない新規な高分子化合物を提供するものであ
る。
て好適に使用できる低分子液晶化合物と相溶系となり、
相分離しない新規な高分子化合物を提供するものであ
る。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明者らは前記課題を
解決するために鋭意研究を行った結果、くし型ポリマー
構造を有する新規な高分子化合物を合成し、この新規高
分子化合物を液晶組成物の高分子化合物成分として用い
ることにより、配向制御が容易で、配向性が優れている
上に、強誘電性を示し、外的因子に対する応答が速い液
晶組成物が得られることを見出し、この知見に基づいて
本発明を完成するに至った。
解決するために鋭意研究を行った結果、くし型ポリマー
構造を有する新規な高分子化合物を合成し、この新規高
分子化合物を液晶組成物の高分子化合物成分として用い
ることにより、配向制御が容易で、配向性が優れている
上に、強誘電性を示し、外的因子に対する応答が速い液
晶組成物が得られることを見出し、この知見に基づいて
本発明を完成するに至った。
【０００８】すなわち、本発明は下記の一般式で表わさ
れる繰り返し単位［Ｉ］及び［ＩＩ］からなり、重量平
均分子量が１，０００〜１，０００，０００であり、繰
り返し単位［Ｉ］と［ＩＩ］の割合がモル比（［Ｉ］：
［ＩＩ］）で９５：５〜５：９５である新規な高分子化
合物を提供するものである。
れる繰り返し単位［Ｉ］及び［ＩＩ］からなり、重量平
均分子量が１，０００〜１，０００，０００であり、繰
り返し単位［Ｉ］と［ＩＩ］の割合がモル比（［Ｉ］：
［ＩＩ］）で９５：５〜５：９５である新規な高分子化
合物を提供するものである。
【化２】 （式中、ｒ、ｕ、ｐ及びｓは２〜５の整数を表わし、ｑ
は０〜２０の数を表わし、ｍは８〜１２の整数を表わ
し、ｎは６〜１５の整数を表わし、ａは１〜８の整数を
表わし、ｂは５〜１５の整数を表わし、ＹはＯ又はＣＯ
Ｏを表わし、ＺはＯ又は単結合を表わし、＊は不斉炭素
を表わす。）
は０〜２０の数を表わし、ｍは８〜１２の整数を表わ
し、ｎは６〜１５の整数を表わし、ａは１〜８の整数を
表わし、ｂは５〜１５の整数を表わし、ＹはＯ又はＣＯ
Ｏを表わし、ＺはＯ又は単結合を表わし、＊は不斉炭素
を表わす。）
【０００９】本発明の高分子化合物の重量平均分子量
（Ｍｗ）は１，０００〜１，０００，０００であり、好
ましくは１，０００〜１００，０００である。Ｍｗが
１，０００未満であると、該高分子化合物のフィルム、
塗膜としての成形性に支障が生じる場合があり、一方、
１，０００，０００を超えると応答時間が長くなるなど
好ましくない効果が表われることがある。
（Ｍｗ）は１，０００〜１，０００，０００であり、好
ましくは１，０００〜１００，０００である。Ｍｗが
１，０００未満であると、該高分子化合物のフィルム、
塗膜としての成形性に支障が生じる場合があり、一方、
１，０００，０００を超えると応答時間が長くなるなど
好ましくない効果が表われることがある。
【００１０】本発明の高分子化合物は、例えば下記の一
般式で表わされるジエン化合物［ＩＩＩ］
般式で表わされるジエン化合物［ＩＩＩ］
【化３】 （式中、ｒ、ｐ、ｍ、ａ及び＊は前記と同じ。）と下記
一般式で表わされるジエン化合物［ＩＶ］と
一般式で表わされるジエン化合物［ＩＶ］と
【００１１】
【化４】 （式中、ｕ、ｓ、ｎ、ｂ、Ｙ、Ｚ及び＊は前記と同
じ。）
じ。）
【００１２】下記式で表わされるシリコン化合物［Ｖ］
【化５】 （式中、ｑは前記と同じ。）
【００１３】とを溶媒中、触媒の存在下、ヒドロシリル
化反応を行うことにより製造することができる。化合物
［ＩＩＩ］と化合物［ＩＶ］の合計と、化合物［Ｖ］と
の比によって、得ようとする高分子化合物の重合度が変
化する。即ち、高重合体を得ようとすれば、モル比
（［ＩＩＩ］＋［ＩＶ］）／［Ｖ］は１に近い方がよ
く、逆に低重合度のものを得ようとすれば、１より大き
く、又は小さくする必要がある。化合物［ＩＩＩ］と化
合物［ＩＶ］の割合はモル比で［ＩＩＩ］：［ＩＶ］が
９５：５〜５：９５とすることが好ましい。
化反応を行うことにより製造することができる。化合物
［ＩＩＩ］と化合物［ＩＶ］の合計と、化合物［Ｖ］と
の比によって、得ようとする高分子化合物の重合度が変
化する。即ち、高重合体を得ようとすれば、モル比
（［ＩＩＩ］＋［ＩＶ］）／［Ｖ］は１に近い方がよ
く、逆に低重合度のものを得ようとすれば、１より大き
く、又は小さくする必要がある。化合物［ＩＩＩ］と化
合物［ＩＶ］の割合はモル比で［ＩＩＩ］：［ＩＶ］が
９５：５〜５：９５とすることが好ましい。
【００１４】化合物［ＩＩＩ］と化合物［ＩＶ］及び化
合物［Ｖ］のヒドロシリル化反応を行う溶媒としては、
ベンゼン、トルエン、キシレン等の沸点７０℃以上の不
活性芳香族炭化水素及びテトラヒドロフラン、ジイソプ
ロピルエーテル等の沸点６５℃以上の不活性なエーテル
系溶媒などが好ましく用いられる。また、触媒として
は、塩化白金酸、例えばヘキサクロロ白金酸・六水和
物、ジシクロペンタジエニルプラチナムクロライド等の
白金系触媒が好ましく用いられる。また、反応は好まし
くは不活性ガス雰囲気下で６０〜１００℃で５〜２０時
間行われる。
合物［Ｖ］のヒドロシリル化反応を行う溶媒としては、
ベンゼン、トルエン、キシレン等の沸点７０℃以上の不
活性芳香族炭化水素及びテトラヒドロフラン、ジイソプ
ロピルエーテル等の沸点６５℃以上の不活性なエーテル
系溶媒などが好ましく用いられる。また、触媒として
は、塩化白金酸、例えばヘキサクロロ白金酸・六水和
物、ジシクロペンタジエニルプラチナムクロライド等の
白金系触媒が好ましく用いられる。また、反応は好まし
くは不活性ガス雰囲気下で６０〜１００℃で５〜２０時
間行われる。
【００１５】上記高分子化合物の製造原料として用いら
れる化合物［ＩＩＩ］は例えば、一般式
れる化合物［ＩＩＩ］は例えば、一般式
【００１６】
【化６】
【００１７】（式中、ｒ及びｐは前記と同じ。）で表わ
されるアルコール［ＶＩ］と一般式 Ｘ（ＣＨ2）mＸ ［ＶＩＩ］ （式中、ｍは８〜１２の整数、Ｘは−Ｂｒ、−Ｉ又は−
ＯＳＯ2Ｃ6Ｈ4ＣＨ3である。）で表わされる二官能性化
合物［ＶＩＩ］とを溶媒中、アルカリ試薬の存在下、エ
ーテル化反応を行い、得られた反応混合物を精製して得
られた生成物と、４−ヒドロキシ安息香酸メチルとを溶
媒中、アルカリ試薬の存在下、エーテル化反応を行い、
次いで得られた反応混合物を精製して得られた生成物を
アルカリ性水溶液又はアルカリ性水−アルコール混合溶
液中で加水分解し、得られた反応液を水中に投入し、鉱
酸を加えてｐＨを酸性にし、次いでエーテル抽出又は瀘
過によって得られた化合物に酸ハロゲン化剤を反応さ
せ、得られた酸塩化物と下記式で表わされるヒドロキシ
化合物［ＶＩＩＩ］とを溶媒中、エステル化反応を行う
ことにより製造することができる。
されるアルコール［ＶＩ］と一般式 Ｘ（ＣＨ2）mＸ ［ＶＩＩ］ （式中、ｍは８〜１２の整数、Ｘは−Ｂｒ、−Ｉ又は−
ＯＳＯ2Ｃ6Ｈ4ＣＨ3である。）で表わされる二官能性化
合物［ＶＩＩ］とを溶媒中、アルカリ試薬の存在下、エ
ーテル化反応を行い、得られた反応混合物を精製して得
られた生成物と、４−ヒドロキシ安息香酸メチルとを溶
媒中、アルカリ試薬の存在下、エーテル化反応を行い、
次いで得られた反応混合物を精製して得られた生成物を
アルカリ性水溶液又はアルカリ性水−アルコール混合溶
液中で加水分解し、得られた反応液を水中に投入し、鉱
酸を加えてｐＨを酸性にし、次いでエーテル抽出又は瀘
過によって得られた化合物に酸ハロゲン化剤を反応さ
せ、得られた酸塩化物と下記式で表わされるヒドロキシ
化合物［ＶＩＩＩ］とを溶媒中、エステル化反応を行う
ことにより製造することができる。
【００１８】
【化７】 （式中ａは前記と同じ。）
【００１９】反応は例えば次のように進行する。
【化８】
【００２０】前記アルコール［ＶＩ］と二官能性化合物
［ＶＩＩ］とを溶媒中、アルカリ試薬の存在下エーテル
化反応を行い（１）を得る。
［ＶＩＩ］とを溶媒中、アルカリ試薬の存在下エーテル
化反応を行い（１）を得る。
【００２１】前記アルコール［ＶＩ］の例としては具体
的に１，４−ペンタジエン−３−オール、１，５−ヘキ
サジエン−３−オール、１，６−ヘプタジエン−３−オ
ール、１，７−オクタジエン−３−オール、１，６−ヘ
プタジエン−４−オール、１，８−ノナジエン−５−オ
ール、１，１０−ウンデカジエン−６−オール等が挙げ
られる。
的に１，４−ペンタジエン−３−オール、１，５−ヘキ
サジエン−３−オール、１，６−ヘプタジエン−３−オ
ール、１，７−オクタジエン−３−オール、１，６−ヘ
プタジエン−４−オール、１，８−ノナジエン−５−オ
ール、１，１０−ウンデカジエン−６−オール等が挙げ
られる。
【００２２】前記二官能性化合物［ＶＩＩ］としては、
具体的にジブロモオクタン、ジヨードオクタン、ジトシ
ルオクタン、ジブロモノナン、ジヨードノナン、ジトシ
ルノナン、ジブロモデカン、ジヨードデカン、ジトシル
デカン、ジブロモウンデカン、ジヨードウンデカン、ジ
トシルウンデカン、ジブロモドデカン、ジヨードドデカ
ン、ジトシルドデカンが挙げられる。
具体的にジブロモオクタン、ジヨードオクタン、ジトシ
ルオクタン、ジブロモノナン、ジヨードノナン、ジトシ
ルノナン、ジブロモデカン、ジヨードデカン、ジトシル
デカン、ジブロモウンデカン、ジヨードウンデカン、ジ
トシルウンデカン、ジブロモドデカン、ジヨードドデカ
ン、ジトシルドデカンが挙げられる。
【００２３】エーテル化反応の溶媒としては、例えば
テトラヒドロフラン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド等
の非プロトン性極性溶媒が好適に用いられ、エーテル化
反応触媒としては、例えば水素化ナトリウム等の金属水
素化物、水酸化カリウム、水酸化ナトリウム等の金属水
酸化物又は−ＯＨをイオン化できる塩基性化合物などが
好適に用いられる。
テトラヒドロフラン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド等
の非プロトン性極性溶媒が好適に用いられ、エーテル化
反応触媒としては、例えば水素化ナトリウム等の金属水
素化物、水酸化カリウム、水酸化ナトリウム等の金属水
酸化物又は−ＯＨをイオン化できる塩基性化合物などが
好適に用いられる。
【００２４】エーテル化反応は、アルカリ試薬と溶媒
の混合液にアルコール［ＶＩ］を導入し、室温でアルコ
キシド化し、（ただし、反応性の低い化合物及び試薬の
場合は加熱する。）次に二官能性化合物［ＶＩＩ］を導
入し、５０〜１００℃で加熱攪拌することにより行われ
る。
の混合液にアルコール［ＶＩ］を導入し、室温でアルコ
キシド化し、（ただし、反応性の低い化合物及び試薬の
場合は加熱する。）次に二官能性化合物［ＶＩＩ］を導
入し、５０〜１００℃で加熱攪拌することにより行われ
る。
【００２５】次に化合物（１）と４−ヒドロキシ安息香
酸メチルとを溶媒中、アルカリ試薬の存在下エーテル化
反応を行い化合物（２）を得る。エーテル化反応の
溶媒としては、例えばアセトン、２−ブタノン等のケト
ン系溶媒及びテトラヒドロフラン、エーテル等のエーテ
ル系不活性溶媒が好適に用いられ、エーテル化反応試薬
としては、例えば炭酸カリウム、炭酸ナトリウム等の炭
酸塩又は水酸化カリウム、水酸化ナトリウム等の金属水
酸化物などが好適に用いられる。エーテル化反応は４
−ヒドロキシ安息香酸メチル、エーテル化反応で得ら
れた化合物（１）、アルカリ試薬、溶媒を順位不同で導
入し、５０〜１００℃で加熱攪拌することにより行われ
る。
酸メチルとを溶媒中、アルカリ試薬の存在下エーテル化
反応を行い化合物（２）を得る。エーテル化反応の
溶媒としては、例えばアセトン、２−ブタノン等のケト
ン系溶媒及びテトラヒドロフラン、エーテル等のエーテ
ル系不活性溶媒が好適に用いられ、エーテル化反応試薬
としては、例えば炭酸カリウム、炭酸ナトリウム等の炭
酸塩又は水酸化カリウム、水酸化ナトリウム等の金属水
酸化物などが好適に用いられる。エーテル化反応は４
−ヒドロキシ安息香酸メチル、エーテル化反応で得ら
れた化合物（１）、アルカリ試薬、溶媒を順位不同で導
入し、５０〜１００℃で加熱攪拌することにより行われ
る。
【００２６】次いで、アルカリ性水溶液又はアルカリ性
水−アルコール混合溶液中で必要に応じて加熱し、加水
分解を行い化合物（３）を得、その後酸ハロゲン化剤
を用いハロゲン化反応を行い、酸ハロゲン化物体にし
た後、ヒドロキシ化合物［ＶＩＩＩ］と、ピリジン等の
存在下トルエン溶媒等でエステル化反応を行い、目的
とするジエン化合物［ＩＩＩ］を得る。
水−アルコール混合溶液中で必要に応じて加熱し、加水
分解を行い化合物（３）を得、その後酸ハロゲン化剤
を用いハロゲン化反応を行い、酸ハロゲン化物体にし
た後、ヒドロキシ化合物［ＶＩＩＩ］と、ピリジン等の
存在下トルエン溶媒等でエステル化反応を行い、目的
とするジエン化合物［ＩＩＩ］を得る。
【００２７】加水分解において、アルカリとしては例
えば水酸化カリウム、水酸化ナトリウム等の金属水酸化
物が好適に用いられ、アルコールとしてはメタノール、
エタノール等の水溶性低級アルコール等が好適に用いら
れる。加水分解反応はエステル体、アルカリ触媒、水の
みで加熱してもよいが、更にアルコールを加えると、原
料であるエステル化合物の溶解性が向上し、反応が容易
に進行する。
えば水酸化カリウム、水酸化ナトリウム等の金属水酸化
物が好適に用いられ、アルコールとしてはメタノール、
エタノール等の水溶性低級アルコール等が好適に用いら
れる。加水分解反応はエステル体、アルカリ触媒、水の
みで加熱してもよいが、更にアルコールを加えると、原
料であるエステル化合物の溶解性が向上し、反応が容易
に進行する。
【００２８】のハロゲン化反応には塩化チオニル、オ
キシ塩化リン、五塩化リン等の公知の酸ハロゲン化剤が
用いられる。反応系にピリジン、トリエチルアミン等を
添加してもよい。のエステル化反応の溶媒としては、
例えばテトラヒドロフラン等のエーテル系不活性溶媒及
びトルエン、ヘキサン等の炭化水素系の不活性溶媒が好
適に用いられる。
キシ塩化リン、五塩化リン等の公知の酸ハロゲン化剤が
用いられる。反応系にピリジン、トリエチルアミン等を
添加してもよい。のエステル化反応の溶媒としては、
例えばテトラヒドロフラン等のエーテル系不活性溶媒及
びトルエン、ヘキサン等の炭化水素系の不活性溶媒が好
適に用いられる。
【００２９】エステル化反応はフェノール及びピリジ
ン、トリエチルアミン等の３級アミンなどのハロゲン化
水素受容剤を含む溶液に、酸塩化物又は溶媒に溶かした
酸塩化物を導入し、攪拌することにより行われる。ま
た、反応性が低いときは、３０〜８０℃に加熱してもよ
い。
ン、トリエチルアミン等の３級アミンなどのハロゲン化
水素受容剤を含む溶液に、酸塩化物又は溶媒に溶かした
酸塩化物を導入し、攪拌することにより行われる。ま
た、反応性が低いときは、３０〜８０℃に加熱してもよ
い。
【００３０】化合物［ＩＩＩ］は上記に述べた方法のほ
かに、例えばアルコール［ＶＩ］と二官能性化合物［Ｖ
ＩＩ］とを溶媒中、アルカリ試薬の存在下、エーテル化
反応を行い、得られた反応混合物を精製して得られる生
成物と、一般式
かに、例えばアルコール［ＶＩ］と二官能性化合物［Ｖ
ＩＩ］とを溶媒中、アルカリ試薬の存在下、エーテル化
反応を行い、得られた反応混合物を精製して得られる生
成物と、一般式
【００３１】
【化９】 （式中、ａは前記と同じ。）
【００３２】で表わされるヒドロキシ化合物［ＩＸ］と
を溶媒中アルカリ試薬の存在下、エーテル化反応を行う
ことにより製造することができる。反応は例えば次のよ
うに進行する。
を溶媒中アルカリ試薬の存在下、エーテル化反応を行う
ことにより製造することができる。反応は例えば次のよ
うに進行する。
【００３３】
【化１０】
【００３４】エーテル化反応における化合物（１）の
製造は前述と同じである。また、エーテル化反応にお
ける溶媒、試薬、反応条件はエーテル化反応における
溶媒、試薬、反応条件と同じである。
製造は前述と同じである。また、エーテル化反応にお
ける溶媒、試薬、反応条件はエーテル化反応における
溶媒、試薬、反応条件と同じである。
【００３５】前記ヒドロキシ化合物［ＶＩＩＩ］、［Ｉ
Ｘ］における光学活性基は光学活性アルコールＲ3ＯＨ
を用いて次の反応を利用して導入される。 −ＣＯＯＨ＋Ｒ3ＯＨ→−ＣＯＯＲ3
Ｘ］における光学活性基は光学活性アルコールＲ3ＯＨ
を用いて次の反応を利用して導入される。 −ＣＯＯＨ＋Ｒ3ＯＨ→−ＣＯＯＲ3
【００３６】ここで用いる光学活性アルコールＲ3ＯＨ
としては、（＋）−２−ブタノール、（−）−２−ブタ
ノール、（＋）−２−ペンタノール、（−）−２−ペン
タノール、（＋）−２−ヘキサノール、（−）−２−ヘ
キサノール、（＋）−２−ヘプタノール、（−）−２−
ヘプタノール、（＋）−２−オクタノール、（−）−２
−オクタノール（＋）−２−ノナノール、（−）−２−
ノナノール、（＋）−２−デカノール、（−）−２−デ
カノール、（＋）−２−ウンデカノール及び（−）−２
−ウンデカノールが挙げられる。
としては、（＋）−２−ブタノール、（−）−２−ブタ
ノール、（＋）−２−ペンタノール、（−）−２−ペン
タノール、（＋）−２−ヘキサノール、（−）−２−ヘ
キサノール、（＋）−２−ヘプタノール、（−）−２−
ヘプタノール、（＋）−２−オクタノール、（−）−２
−オクタノール（＋）−２−ノナノール、（−）−２−
ノナノール、（＋）−２−デカノール、（−）−２−デ
カノール、（＋）−２−ウンデカノール及び（−）−２
−ウンデカノールが挙げられる。
【００３７】次に本発明で用いられるジエン化合物［Ｉ
Ｖ］は、前記のエーテル化反応で得られた化合物（１）
と同様の方法によって得られたｍがｎである化合物から
常法に従って合成される。
Ｖ］は、前記のエーテル化反応で得られた化合物（１）
と同様の方法によって得られたｍがｎである化合物から
常法に従って合成される。
【００３８】次に、本発明の高分子化合物の製造原料で
ある２個のＳｉ−Ｈ結合を持ったシリコン化合物［Ｖ］
としては、ｑの値が０、１、２のものはｑの値に分布は
ほとんどなく単一のものが用いられるが、ｑの値が大き
な化合物は重合度（ｑの値）に分布があるため、ｑの値
は平均値で表わされる。したがって得られた高分子化合
物のｑの値も平均値である。具体的には１，１，３，３
−テトラメチルジシロキサン、１，１，３，３，５，５
−ヘキサメチルトリシロキサン、１，１，３，３，５，
５，７，７−オクタメチルテトラシロキサン、ケイ素原
子の数が６以上の各種α，ω−ハイドロジェンオリゴジ
メチルシロキサン等が用いられる。
ある２個のＳｉ−Ｈ結合を持ったシリコン化合物［Ｖ］
としては、ｑの値が０、１、２のものはｑの値に分布は
ほとんどなく単一のものが用いられるが、ｑの値が大き
な化合物は重合度（ｑの値）に分布があるため、ｑの値
は平均値で表わされる。したがって得られた高分子化合
物のｑの値も平均値である。具体的には１，１，３，３
−テトラメチルジシロキサン、１，１，３，３，５，５
−ヘキサメチルトリシロキサン、１，１，３，３，５，
５，７，７−オクタメチルテトラシロキサン、ケイ素原
子の数が６以上の各種α，ω−ハイドロジェンオリゴジ
メチルシロキサン等が用いられる。
【００３９】本発明はまた、前記の高分子化合物と低分
子のスメクチック液晶化合物からなる強誘電性液晶組成
物を提供するものである。
子のスメクチック液晶化合物からなる強誘電性液晶組成
物を提供するものである。
【００４０】本発明の強誘電性液晶組成物は前記高分子
化合物と低分子のスメクチック液晶化合物を混合するこ
とにより得られる。
化合物と低分子のスメクチック液晶化合物を混合するこ
とにより得られる。
【００４１】本発明において用いられる低分子のスメク
チック液晶化合物については特に制限はなく、従来公知
の化合物の中から任意のものを１種以上選択して用いる
ことができる。該液晶化合物としては、例えば
チック液晶化合物については特に制限はなく、従来公知
の化合物の中から任意のものを１種以上選択して用いる
ことができる。該液晶化合物としては、例えば
【００４２】
【化１１】
【００４３】
【化１２】
【００４４】（式中のＲ4及びＲ5は、それぞれ炭素数１
〜１２の直鎖状又は分岐状のアルキル基、アルコキシ基
又はアシルオキシ基であり、それらは同一であってもよ
いし、互いに異なっていてもよい）などを挙げることが
できる。
〜１２の直鎖状又は分岐状のアルキル基、アルコキシ基
又はアシルオキシ基であり、それらは同一であってもよ
いし、互いに異なっていてもよい）などを挙げることが
できる。
【００４５】更に、一般式
【化１３】
【００４６】で表される化合物なども用いることができ
る。前記一般式（４）におけるＲ６は炭素数７〜１２の
アルキル基、炭素数６〜１１のアルコキシ基又は炭素数
６〜１２のアシルオキシ基、Ｒ７は炭素数７〜１２のア
ルキル基又は炭素数６〜１１のアルコキシ基である。ま
た、一般式（５）におけるＲ８及びＲ９は、それぞれ炭
素数４〜１４のアルキル基又はアルコキシ基であり、そ
れらは同一であってもよいし、互いに異なっていてもよ
い。一方、一般式（６）におけるＲ１０は炭素数４〜１
４のアルキル基、Ｒ１１は炭素数５〜１４のアルキル基
又は炭素数４〜１４のアルコキシ基である。
る。前記一般式（４）におけるＲ６は炭素数７〜１２の
アルキル基、炭素数６〜１１のアルコキシ基又は炭素数
６〜１２のアシルオキシ基、Ｒ７は炭素数７〜１２のア
ルキル基又は炭素数６〜１１のアルコキシ基である。ま
た、一般式（５）におけるＲ８及びＲ９は、それぞれ炭
素数４〜１４のアルキル基又はアルコキシ基であり、そ
れらは同一であってもよいし、互いに異なっていてもよ
い。一方、一般式（６）におけるＲ１０は炭素数４〜１
４のアルキル基、Ｒ１１は炭素数５〜１４のアルキル基
又は炭素数４〜１４のアルコキシ基である。
【００４７】これらの液晶の具体例としては、
【化１４】
【化１５】 などが挙げられる。
【００４８】前記高分子化合物は液晶相となっても液晶
相とならなくてもいずれでもよい。しかし前記高分子化
合物は構造上くし型ポリマーであるので、混合系におい
て、高分子の側鎖の間に低分子のスメクチック液晶化合
物が入り込み相溶系となる。図１はこの様子を模式的に
示した説明図である。
相とならなくてもいずれでもよい。しかし前記高分子化
合物は構造上くし型ポリマーであるので、混合系におい
て、高分子の側鎖の間に低分子のスメクチック液晶化合
物が入り込み相溶系となる。図１はこの様子を模式的に
示した説明図である。
【００４９】本発明の強誘電性液晶組成物はこのように
相溶系になるのでコントラスト比もよく、外的因子に対
して高速に応答する。また、高分子化合物を含んでいる
ので配向性がよく、配向制御も容易で簡便に液晶光学素
子を製作することができる。
相溶系になるのでコントラスト比もよく、外的因子に対
して高速に応答する。また、高分子化合物を含んでいる
ので配向性がよく、配向制御も容易で簡便に液晶光学素
子を製作することができる。
【００５０】また、くし型ポリマーに光学活性が導入さ
れているので、混合する低分子のスメクチック液晶化合
物が非カイラルのスメクチック液晶であっても、くし型
ポリマーがカイラルドーパントとしての役割を果たし、
組成物として強誘電性を発現することができ、液晶組成
物を強誘電性液晶組成物とすることができる。
れているので、混合する低分子のスメクチック液晶化合
物が非カイラルのスメクチック液晶であっても、くし型
ポリマーがカイラルドーパントとしての役割を果たし、
組成物として強誘電性を発現することができ、液晶組成
物を強誘電性液晶組成物とすることができる。
【００５１】高分子化合物と低分子のスメクチック液晶
化合物の混合方法としては、特に制限はなく、直接混合
でも溶液混合でもよい。例えば、溶液混合としては、高
分子化合物と低分子のスメクチック液晶化合物の所定量
を容器に入れてジクロルメタン等の溶媒に溶解し混合し
て溶媒を蒸発させる方法が好適である。混合比率として
は、高分子化合物の分率を５〜９９重量％とすることが
好ましい。高分子化合物の分率が５重量％未満では液晶
組成物の製膜性、配向性が低下することがある。また、
混合する低分子のスメクチック液晶化合物が非カイラル
の場合、強誘電相を発現しないなどの不都合を生じるこ
とがある。高分子化合物の分率が９９重量％を超えると
電界変化に対する応答時間が長くなることがある。ま
た、高分子化合物が液晶相にならないとき、組成物が液
晶とならなかったり、液晶となっても温度範囲が狭いな
どの不都合を生じることがある。高分子化合物と低分子
のスメクチック液晶化合物の混合は、液晶組成物が電界
応答性に優れた強誘電性液晶相を示すような組成となる
ように行うことが好ましい。このような組成は化合物に
より異なるので、一概には規定できないが、強誘電性液
晶相は本組成物中に含有する低分子のスメクチック液晶
化合物の少なくとも１つに不斉炭素を導入することで容
易に発現できる。また、混合物中には色素、接着剤等が
含まれていてもよい。
化合物の混合方法としては、特に制限はなく、直接混合
でも溶液混合でもよい。例えば、溶液混合としては、高
分子化合物と低分子のスメクチック液晶化合物の所定量
を容器に入れてジクロルメタン等の溶媒に溶解し混合し
て溶媒を蒸発させる方法が好適である。混合比率として
は、高分子化合物の分率を５〜９９重量％とすることが
好ましい。高分子化合物の分率が５重量％未満では液晶
組成物の製膜性、配向性が低下することがある。また、
混合する低分子のスメクチック液晶化合物が非カイラル
の場合、強誘電相を発現しないなどの不都合を生じるこ
とがある。高分子化合物の分率が９９重量％を超えると
電界変化に対する応答時間が長くなることがある。ま
た、高分子化合物が液晶相にならないとき、組成物が液
晶とならなかったり、液晶となっても温度範囲が狭いな
どの不都合を生じることがある。高分子化合物と低分子
のスメクチック液晶化合物の混合は、液晶組成物が電界
応答性に優れた強誘電性液晶相を示すような組成となる
ように行うことが好ましい。このような組成は化合物に
より異なるので、一概には規定できないが、強誘電性液
晶相は本組成物中に含有する低分子のスメクチック液晶
化合物の少なくとも１つに不斉炭素を導入することで容
易に発現できる。また、混合物中には色素、接着剤等が
含まれていてもよい。
【００５２】
【実施例】以下、本発明を実施例に基づいて詳細に説明
するが、本発明はこれに限定されるものではない。な
お、相転移挙動において、Ｃｒｙｓｔは結晶相を、ＳC *
はカイラルスメクチックＣ相を、ＳCはスメクチックＣ
相を、ＳAはスメクチックＡ相を、Ｎはネマチック相
を、Ｎ * はカイラルネマチック相を、Ｉｓｏは等方相
を、ｇｌａｓｓはガラス状態を示す。また数字は℃を表
わす。また、以下の実施例においてＭｗはＧＰＣを用い
て測定した重量平均分子量を表わす。
するが、本発明はこれに限定されるものではない。な
お、相転移挙動において、Ｃｒｙｓｔは結晶相を、ＳC *
はカイラルスメクチックＣ相を、ＳCはスメクチックＣ
相を、ＳAはスメクチックＡ相を、Ｎはネマチック相
を、Ｎ * はカイラルネマチック相を、Ｉｓｏは等方相
を、ｇｌａｓｓはガラス状態を示す。また数字は℃を表
わす。また、以下の実施例においてＭｗはＧＰＣを用い
て測定した重量平均分子量を表わす。
【００５３】合成例１
【化１６】
【００５４】３−（１０−ブロモデシルオキシ）−１，
５−ヘキサジエンの合成 水素化ナトリウム（含有量６０％）４．１ｇをテトラヒ
ドロフラン（ＴＨＦ）５０ｍｌに懸濁させ、系をアルゴ
ン置換した。１，５−ヘキサジエン−３−オール９．８
ｇを含むＴＨＦ溶液５０ｍｌを滴下した。水素ガスの発
生が収まるまで室温で攪拌した。１，１０−ジブロモデ
カン７５ｇを含むＴＨＦ溶液１００ｍｌを加え７時間還
流した。生じた不溶物を瀘過により除いた後、ＴＨＦを
減圧留去した。シリカゲルカラムクロマトグラフィーに
より精製し、目的とするブロム体１４．３ｇを得た。
（収率４５％）
５−ヘキサジエンの合成 水素化ナトリウム（含有量６０％）４．１ｇをテトラヒ
ドロフラン（ＴＨＦ）５０ｍｌに懸濁させ、系をアルゴ
ン置換した。１，５−ヘキサジエン−３−オール９．８
ｇを含むＴＨＦ溶液５０ｍｌを滴下した。水素ガスの発
生が収まるまで室温で攪拌した。１，１０−ジブロモデ
カン７５ｇを含むＴＨＦ溶液１００ｍｌを加え７時間還
流した。生じた不溶物を瀘過により除いた後、ＴＨＦを
減圧留去した。シリカゲルカラムクロマトグラフィーに
より精製し、目的とするブロム体１４．３ｇを得た。
（収率４５％）
【００５５】合成例２
【化１７】
【００５６】３−（１２−ブロモドデシルオキシ）−
１，５−ヘキサジエンの合成 合成例１で用いた１，１０−ジブロモデカンの代りに
１，１２−ジブロモドデカン８０ｇを用い、他は同一ス
ケールで同様の反応操作を行い、目的とするブロム体１
４．８ｇを得た。（収率４３％）
１，５−ヘキサジエンの合成 合成例１で用いた１，１０−ジブロモデカンの代りに
１，１２−ジブロモドデカン８０ｇを用い、他は同一ス
ケールで同様の反応操作を行い、目的とするブロム体１
４．８ｇを得た。（収率４３％）
【００５７】合成例３
【化１８】
【００５８】３−（８−ブロモオクチルオキシ）−１，
５−ヘキサジエンの合成 合成例１で用いた１，１０−ジブロモデカンの代りに
１，８−ジブロモオクタン７０ｇを用い、他は同一スケ
ールで同様の反応操作を行い、目的とするブロム体１
１．６ｇを得た。（収率４０％）
５−ヘキサジエンの合成 合成例１で用いた１，１０−ジブロモデカンの代りに
１，８−ジブロモオクタン７０ｇを用い、他は同一スケ
ールで同様の反応操作を行い、目的とするブロム体１
１．６ｇを得た。（収率４０％）
【００５９】合成例４
【化１９】
【００６０】４−（１０−ブロモデシルオキシ）−１，
６−ヘプタジエンの合成 合成例１で用いた１，５−ヘキサジエン−３−オールの
代りに１，６−ヘプタジエン−４−オール１１．２ｇを
用い、他は同一スケールで同様の反応操作を行い、目的
とするブロム体１１．６ｇを得た。（収率３５％）
６−ヘプタジエンの合成 合成例１で用いた１，５−ヘキサジエン−３−オールの
代りに１，６−ヘプタジエン−４−オール１１．２ｇを
用い、他は同一スケールで同様の反応操作を行い、目的
とするブロム体１１．６ｇを得た。（収率３５％）
【００６１】合成例５
【化２０】
【００６２】３−（１０−カルボキシデシルオキシ）−
１，５−ヘキサジエンの合成 マグネシウム（リボン状）１．７ｇをＴＨＦ５０ｍｌ中
に懸濁させ、系をアルゴン置換した。合成例１に記した
方法で得たブロム体８．５ｇ、エチルブロミド０．３ｇ
を含むＴＨＦ溶液２５ｍｌを滴下し、２時間還流した。
次いで、−６０〜−５０℃に冷却し炭酸ガスを吹き込
み、そのまま系が室温になるまで放置した。次いで、エ
ーテル１００ｍｌ、３５％塩酸１０ｍｌ、及び水５０ｍ
ｌを加え振り混ぜた。エーテル層を集め硫酸マグネシウ
ム上で乾燥した後、溶媒を減圧留去し、目的とするカル
ボン酸６．０ｇを得た。（収率７９％）
１，５−ヘキサジエンの合成 マグネシウム（リボン状）１．７ｇをＴＨＦ５０ｍｌ中
に懸濁させ、系をアルゴン置換した。合成例１に記した
方法で得たブロム体８．５ｇ、エチルブロミド０．３ｇ
を含むＴＨＦ溶液２５ｍｌを滴下し、２時間還流した。
次いで、−６０〜−５０℃に冷却し炭酸ガスを吹き込
み、そのまま系が室温になるまで放置した。次いで、エ
ーテル１００ｍｌ、３５％塩酸１０ｍｌ、及び水５０ｍ
ｌを加え振り混ぜた。エーテル層を集め硫酸マグネシウ
ム上で乾燥した後、溶媒を減圧留去し、目的とするカル
ボン酸６．０ｇを得た。（収率７９％）
【００６３】合成例６
【化２１】
【００６４】光学活性モノマーＡの合成 合成例１で得たブロム体１９．０ｇ、メチル ４−ヒド
ロキシベンゾエート９．２ｇ、炭酸カリウム３．４ｇを
２−ブタノン５０ｍｌ中で１２時間還流した。生じた不
溶物を瀘過により除き、溶媒を減圧留去した。シリカゲ
ルカラムクロマトグラフィーにより精製し、メチルエス
テル体を得た。
ロキシベンゾエート９．２ｇ、炭酸カリウム３．４ｇを
２−ブタノン５０ｍｌ中で１２時間還流した。生じた不
溶物を瀘過により除き、溶媒を減圧留去した。シリカゲ
ルカラムクロマトグラフィーにより精製し、メチルエス
テル体を得た。
【００６５】上記のメチルエステル体及び水酸化カリウ
ム１０．０ｇ、水３．０ｇをメタノール２０ｍｌ中で１
時間還流した。水５０ｍｌを加えさらに１時間還流し
た。水３００ｍｌで希釈し、希塩酸を滴下してｐＨ＝２
とした。生じた沈殿を瀘過により集め、水洗、乾燥し４
−｛１０−（１，５−ヘキサジエン−３−イロキシ）デ
シルオキシ｝ベンゾイックアシッド１６．６ｇを得た。
ム１０．０ｇ、水３．０ｇをメタノール２０ｍｌ中で１
時間還流した。水５０ｍｌを加えさらに１時間還流し
た。水３００ｍｌで希釈し、希塩酸を滴下してｐＨ＝２
とした。生じた沈殿を瀘過により集め、水洗、乾燥し４
−｛１０−（１，５−ヘキサジエン−３−イロキシ）デ
シルオキシ｝ベンゾイックアシッド１６．６ｇを得た。
【００６６】上記カルボン酸のうちの８．３ｇにチオニ
ルクロリド４．０ｇ及び触媒量のピリジンを加え８５℃
に２時間加熱した。過剰のチオニルクロリドを減圧留去
した後、トルエン５０ｍｌを加え酸クロリド溶液とし
た。そこへ、（Ｓ）−１−メチルブチル ４−ヒドロキ
シビフェニル−４′−カルボキシレート６．３ｇ、ピリ
ジン１．８ｇを含むトルエン溶液５０ｍｌを室温で滴下
し、室温で１日反応させた。生じた不溶物を瀘過により
除き、溶媒を減圧留去した。シリカゲルカラムクロマト
グラフィーにより精製し、目的とする光学活性モノマー
Ａ９．７ｇを得た。（ブロム体からの収率５０％）
ルクロリド４．０ｇ及び触媒量のピリジンを加え８５℃
に２時間加熱した。過剰のチオニルクロリドを減圧留去
した後、トルエン５０ｍｌを加え酸クロリド溶液とし
た。そこへ、（Ｓ）−１−メチルブチル ４−ヒドロキ
シビフェニル−４′−カルボキシレート６．３ｇ、ピリ
ジン１．８ｇを含むトルエン溶液５０ｍｌを室温で滴下
し、室温で１日反応させた。生じた不溶物を瀘過により
除き、溶媒を減圧留去した。シリカゲルカラムクロマト
グラフィーにより精製し、目的とする光学活性モノマー
Ａ９．７ｇを得た。（ブロム体からの収率５０％）
【００６７】合成例７
【化２２】
【００６８】光学活性モノマーＢの合成 合成例６で得たカルボン酸の残り８．３ｇを同様の操作
により酸クロリド化した。合成例６で用いた（Ｓ）−１
−メチルブチル ４−ヒドロキシビフェニル−４′−カ
ルボキシレートの代わりに（Ｓ）−１−メチルヘプチル
４−ヒドロキシビフェニル−４′−カルボキシレート
７．２ｇを用いて同様の反応操作を行い目的とする光学
活性モノマーＢ１０．９ｇを得た。（ブロム体からの収
率５３％）
により酸クロリド化した。合成例６で用いた（Ｓ）−１
−メチルブチル ４−ヒドロキシビフェニル−４′−カ
ルボキシレートの代わりに（Ｓ）−１−メチルヘプチル
４−ヒドロキシビフェニル−４′−カルボキシレート
７．２ｇを用いて同様の反応操作を行い目的とする光学
活性モノマーＢ１０．９ｇを得た。（ブロム体からの収
率５３％）
【００６９】合成例８
【化２３】
【００７０】光学活性モノマーＣの合成 合成例６で用いたブロム体の代わりに合成例４で得たブ
ロム体１０．０ｇ、そしてメチル ４−ヒドロキシベン
ゾエート４．６ｇ、炭酸カリウム４．２ｇを用いメチル
エステルを合成し、さらに水酸化カリウム６．０ｇ、水
１．６ｇを用いてカルボン酸７．４ｇを得た。チオニル
クロリド３．５ｇ、ピリジン１．６ｇ、（Ｓ）−１−メ
チルブチル４−ヒドロキシビフェニル−４′−カルボキ
シレート５．４ｇを用いて同様の反応操作を行い目的と
する光学活性モノマーＣ８．７ｇを得た。（ブロム体か
らの収率４４％）
ロム体１０．０ｇ、そしてメチル ４−ヒドロキシベン
ゾエート４．６ｇ、炭酸カリウム４．２ｇを用いメチル
エステルを合成し、さらに水酸化カリウム６．０ｇ、水
１．６ｇを用いてカルボン酸７．４ｇを得た。チオニル
クロリド３．５ｇ、ピリジン１．６ｇ、（Ｓ）−１−メ
チルブチル４−ヒドロキシビフェニル−４′−カルボキ
シレート５．４ｇを用いて同様の反応操作を行い目的と
する光学活性モノマーＣ８．７ｇを得た。（ブロム体か
らの収率４４％）
【００７１】合成例９
【化２４】
【００７２】光学活性モノマーＤの合成 合成例８と同様の手段にて得たカルボン酸４．０ｇにチ
オニルクロリド１０．０ｇを加え７５℃で４時間反応し
た。過剰のチオニルクロリドを減圧留去しトルエン８ｍ
ｌを加えた。（Ｓ）−１−メチルブチル ４−ヒドロキ
シビフェニル−４′−カルボキシレートの代わりに
（Ｓ）−１−メチルペンチル ４−ヒドロキシビフェニ
ル−４′−カルボキシレート３．４ｇ及びピリジン１．
０ｇを用いて合成例８と同様の反応操作を行い目的とす
る光学活性モノマーＤ５．２ｇを得た。（カルボン酸か
らの収率７５％）
オニルクロリド１０．０ｇを加え７５℃で４時間反応し
た。過剰のチオニルクロリドを減圧留去しトルエン８ｍ
ｌを加えた。（Ｓ）−１−メチルブチル ４−ヒドロキ
シビフェニル−４′−カルボキシレートの代わりに
（Ｓ）−１−メチルペンチル ４−ヒドロキシビフェニ
ル−４′−カルボキシレート３．４ｇ及びピリジン１．
０ｇを用いて合成例８と同様の反応操作を行い目的とす
る光学活性モノマーＤ５．２ｇを得た。（カルボン酸か
らの収率７５％）
【００７３】合成例１０
【化２５】
【００７４】光学活性モノマーＥの合成 合成例８と同様の手段にて得たカルボン酸４．１ｇにチ
オニルクロリド１０．０ｇを加え６０℃で４時間反応し
た。過剰のチオニルクロリドを減圧留去しトルエン１１
ｍｌを加えた。（Ｓ）−１−メチルブチル ４−ヒドロ
キシビフェニル−４′−カルボキシレートの代わりに
（Ｓ）−１−メチルヘキシル ４−ヒドロキシビフェニ
ル−４′−カルボキシレート３．７ｇ及びピリジン１．
１ｇを用いて合成例８と同様の反応操作を行い目的とす
るモノマーＥ５．２ｇを得た。（カルボン酸からの収率
７２％）
オニルクロリド１０．０ｇを加え６０℃で４時間反応し
た。過剰のチオニルクロリドを減圧留去しトルエン１１
ｍｌを加えた。（Ｓ）−１−メチルブチル ４−ヒドロ
キシビフェニル−４′−カルボキシレートの代わりに
（Ｓ）−１−メチルヘキシル ４−ヒドロキシビフェニ
ル−４′−カルボキシレート３．７ｇ及びピリジン１．
１ｇを用いて合成例８と同様の反応操作を行い目的とす
るモノマーＥ５．２ｇを得た。（カルボン酸からの収率
７２％）
【００７５】合成例１１
【化２６】
【００７６】非光学活性モノマーａの合成 ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）３０ｍｌ中に水素化ナ
トリウム０．３３ｇを加え系をアルゴン置換した。２−
（４−ヒドロキシフェニル）−５−ノニルオキシピリミ
ジン２．５ｇを少しづつ加えた。合成例３に記した方法
で得たブロム体２．３ｇを加え、８０℃にて７時間反応
させた。不溶物を瀘過により除き、溶媒を減圧留去し
た。シリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製
し、目的とするモノマーａ２．２ｇを得た。（収率５３
％）
トリウム０．３３ｇを加え系をアルゴン置換した。２−
（４−ヒドロキシフェニル）−５−ノニルオキシピリミ
ジン２．５ｇを少しづつ加えた。合成例３に記した方法
で得たブロム体２．３ｇを加え、８０℃にて７時間反応
させた。不溶物を瀘過により除き、溶媒を減圧留去し
た。シリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製
し、目的とするモノマーａ２．２ｇを得た。（収率５３
％）
【００７７】合成例１２
【化２７】
【００７８】非光学活性モノマーｂの合成 合成例２で得たブロム体１０．４ｇ、２−（４−ヒドロ
キシフェニル）−５−ヘプチルオキシピリミジン８．６
ｇ、炭酸カリウム４．２ｇを２−ブタノン（ＭＥＫ）５
０ｍｌ中で８０℃にて８時間反応させた。不溶物を瀘過
により除き、溶媒を減圧留去した。シリカゲルカラムク
ロマトグラフィーにより精製し、目的とする非光学活性
モノマーｂ８．２ｇを得た。（収率５０％）
キシフェニル）−５−ヘプチルオキシピリミジン８．６
ｇ、炭酸カリウム４．２ｇを２−ブタノン（ＭＥＫ）５
０ｍｌ中で８０℃にて８時間反応させた。不溶物を瀘過
により除き、溶媒を減圧留去した。シリカゲルカラムク
ロマトグラフィーにより精製し、目的とする非光学活性
モノマーｂ８．２ｇを得た。（収率５０％）
【００７９】合成例１３
【化２８】
【００８０】非光学活性モノマーｃの合成 合成例１で得たブロム体６．４ｇ、２−（４−ヒドロキ
シフェニル）−５−オクチルオキシピリミジン６．０
ｇ、炭酸カリウム２．８ｇをＭＥＫ３０ｍｌ中で８０℃
にて８時間反応させた。不溶物を瀘過により除き、溶媒
を減圧留去した。シリカゲルカラムクロマトグラフィー
により精製し、目的とする非光学活性モノマーｃ３．６
ｇを得た。（収率３４％）
シフェニル）−５−オクチルオキシピリミジン６．０
ｇ、炭酸カリウム２．８ｇをＭＥＫ３０ｍｌ中で８０℃
にて８時間反応させた。不溶物を瀘過により除き、溶媒
を減圧留去した。シリカゲルカラムクロマトグラフィー
により精製し、目的とする非光学活性モノマーｃ３．６
ｇを得た。（収率３４％）
【００８１】合成例１４
【化２９】
【００８２】非光学活性モノマーｄの合成 合成例１で得たブロム体４．０ｇ、２−（４−ヒドロキ
シフェニル）−５−ノニルオキシピリミジン４．０ｇ、
炭酸カリウム２．０ｇをＭＥＫ３０ｍｌ中で８０℃にて
１０時間反応させた。不溶物を瀘過により除き、溶媒を
減圧留去した。シリカゲルカラムクロマトグラフィーに
より精製し、目的とする非光学活性モノマーｄ３．７ｇ
を得た。（収率５４％）
シフェニル）−５−ノニルオキシピリミジン４．０ｇ、
炭酸カリウム２．０ｇをＭＥＫ３０ｍｌ中で８０℃にて
１０時間反応させた。不溶物を瀘過により除き、溶媒を
減圧留去した。シリカゲルカラムクロマトグラフィーに
より精製し、目的とする非光学活性モノマーｄ３．７ｇ
を得た。（収率５４％）
【００８３】合成例１５
【化３０】
【００８４】非光学活性モノマーｅの合成 ＤＭＦ３０ｍｌ中に水素化ナトリウム０．７ｇを加え系
をアルゴン置換した。２−（４−ヒドロキシフェニル）
−５−ウンデシルオキシピリミジン５．０ｇを少しづつ
加えた。合成例１に記した方法で得たブロム体５．０ｇ
を加え、８０℃にて１８時間反応させた。不溶物を瀘過
により除き、溶媒を減圧留去した。シリカゲルカラムク
ロマトグラフィーにより精製し、目的とする非光学活性
モノマーｅ５．２ｇを得た。（収率６１％）
をアルゴン置換した。２−（４−ヒドロキシフェニル）
−５−ウンデシルオキシピリミジン５．０ｇを少しづつ
加えた。合成例１に記した方法で得たブロム体５．０ｇ
を加え、８０℃にて１８時間反応させた。不溶物を瀘過
により除き、溶媒を減圧留去した。シリカゲルカラムク
ロマトグラフィーにより精製し、目的とする非光学活性
モノマーｅ５．２ｇを得た。（収率６１％）
【００８５】合成例１６
【化３１】
【００８６】非光学活性モノマーｆの合成 ＤＭＦ３０ｍｌ中に水素化ナトリウム０．３６ｇを加え
系をアルゴン置換した。２−（４−ヒドロキシフェニ
ル）−５−ノニルオキシピリミジン２．５ｇを少しづつ
加えた。合成例２に記した方法で得たブロム体３．１ｇ
を加え、７０℃にて１０時間反応させた。不溶物を瀘過
により除き、溶媒を減圧留去した。シリカゲルカラムク
ロマトグラフィーにより精製し、目的とする非光学活性
モノマーｆ２．６ｇを得た。（収率５６％）
系をアルゴン置換した。２−（４−ヒドロキシフェニ
ル）−５−ノニルオキシピリミジン２．５ｇを少しづつ
加えた。合成例２に記した方法で得たブロム体３．１ｇ
を加え、７０℃にて１０時間反応させた。不溶物を瀘過
により除き、溶媒を減圧留去した。シリカゲルカラムク
ロマトグラフィーにより精製し、目的とする非光学活性
モノマーｆ２．６ｇを得た。（収率５６％）
【００８７】合成例１７
【化３２】
【００８８】非光学活性モノマーｇの合成 ＤＭＦ３０ｍｌ中に水素化ナトリウム０．３４ｇを加え
系をアルゴン置換した。２−（４−ヒドロキシフェニ
ル）−５−デシルピリミジン２．５ｇを少しづつ加え
た。合成例１に記した方法で得たブロム体２．５ｇを加
え、８０℃にて１０時間反応させた。不溶物を瀘過によ
り除き、溶媒を減圧留去した。シリカゲルカラムクロマ
トグラフィーにより精製し、目的とする非光学活性モノ
マーｇ２．８ｇを得た。（収率６４％）
系をアルゴン置換した。２−（４−ヒドロキシフェニ
ル）−５−デシルピリミジン２．５ｇを少しづつ加え
た。合成例１に記した方法で得たブロム体２．５ｇを加
え、８０℃にて１０時間反応させた。不溶物を瀘過によ
り除き、溶媒を減圧留去した。シリカゲルカラムクロマ
トグラフィーにより精製し、目的とする非光学活性モノ
マーｇ２．８ｇを得た。（収率６４％）
【００８９】合成例１８
【化３３】
【００９０】非光学活性モノマーｈの合成 ＤＭＦ３０ｍｌ中に水素化ナトリウム０．７ｇを加え系
をアルゴン置換した。２−（４−ヒドロキシフェニル）
−５−ウンデシルピリミジン５．０ｇを少しづつ加え
た。合成例１に記した方法で得たブロム体５．０ｇを加
え、８０℃にて１０時間反応させた。不溶物を瀘過によ
り除き、溶媒を減圧留去した。シリカゲルカラムクロマ
トグラフィーにより精製し、目的とする非光学活性モノ
マーｈ３．８ｇを得た。（収率４４％）
をアルゴン置換した。２−（４−ヒドロキシフェニル）
−５−ウンデシルピリミジン５．０ｇを少しづつ加え
た。合成例１に記した方法で得たブロム体５．０ｇを加
え、８０℃にて１０時間反応させた。不溶物を瀘過によ
り除き、溶媒を減圧留去した。シリカゲルカラムクロマ
トグラフィーにより精製し、目的とする非光学活性モノ
マーｈ３．８ｇを得た。（収率４４％）
【００９１】合成例１９
【化３４】
【００９２】非光学活性モノマーｉの合成 ＤＭＦ２０ｍｌ中に水素化ナトリウム０．２５ｇを加え
系をアルゴン置換した。２−（４−ヒドロキシフェニ
ル）−５−ドデシルピリミジン２．０ｇを少しづつ加え
た。合成例１に記した方法で得たブロム体１．９ｇを加
え、８０℃にて１４時間反応させた。不溶物を瀘過によ
り除き、溶媒を減圧留去した。シリカゲルカラムクロマ
トグラフィーにより精製し、目的とする非光学活性モノ
マーｉ２．０ｇを得た。（収率５９％）
系をアルゴン置換した。２−（４−ヒドロキシフェニ
ル）−５−ドデシルピリミジン２．０ｇを少しづつ加え
た。合成例１に記した方法で得たブロム体１．９ｇを加
え、８０℃にて１４時間反応させた。不溶物を瀘過によ
り除き、溶媒を減圧留去した。シリカゲルカラムクロマ
トグラフィーにより精製し、目的とする非光学活性モノ
マーｉ２．０ｇを得た。（収率５９％）
【００９３】合成例２０
【化３５】
【００９４】非光学活性モノマーｊの合成 合成例５で得たカルボン酸３．０ｇにチオニルクロリド
１５ｇを加え６０℃で２時間反応させた。過剰のチオニ
ルクロリドを減圧留去し、そこへ２−（４−ヒドロキシ
フェニル）−５−ノニルオキシピリミジン２．３ｇ、ピ
リジン０．７３ｇを含むトルエン溶液２０ｍｌを滴下し
た。室温で１日反応させた。不溶物を瀘過により除き、
溶媒を減圧留去した。シリカゲルカラムクロマトグラフ
ィーにより精製し、目的とする非光学活性モノマーｊ
２．６ｇを得た。（収率６１％）
１５ｇを加え６０℃で２時間反応させた。過剰のチオニ
ルクロリドを減圧留去し、そこへ２−（４−ヒドロキシ
フェニル）−５−ノニルオキシピリミジン２．３ｇ、ピ
リジン０．７３ｇを含むトルエン溶液２０ｍｌを滴下し
た。室温で１日反応させた。不溶物を瀘過により除き、
溶媒を減圧留去した。シリカゲルカラムクロマトグラフ
ィーにより精製し、目的とする非光学活性モノマーｊ
２．６ｇを得た。（収率６１％）
【００９５】合成例２１
【化３６】
【００９６】非光学活性モノマーｋの合成 ＤＭＦ３０ｍｌ中に水素化ナトリウム０．２８ｇを加え
系をアルゴン置換した。２−（４−ヒドロキシフェニ
ル）−５−ノニルオキシピリミジン２．０ｇを少しづつ
加えた。合成例４に記した方法で得たブロム体２．３ｇ
を加え、８０℃にて１０時間反応させた。不溶物を瀘過
により除き、溶媒を減圧留去した。シリカゲルカラムク
ロマトグラフィーにより精製し、目的とする非光学活性
モノマーｋ２．６ｇを得た。（収率７５％）
系をアルゴン置換した。２−（４−ヒドロキシフェニ
ル）−５−ノニルオキシピリミジン２．０ｇを少しづつ
加えた。合成例４に記した方法で得たブロム体２．３ｇ
を加え、８０℃にて１０時間反応させた。不溶物を瀘過
により除き、溶媒を減圧留去した。シリカゲルカラムク
ロマトグラフィーにより精製し、目的とする非光学活性
モノマーｋ２．６ｇを得た。（収率７５％）
【００９７】実施例１
【化３７】
【００９８】共重合体の合成 合成例６に記した方法により得た光学活性モノマーＡ
２．４ｇ及び合成例１１に記した方法で得た非光学活性
モノマーａ０．４９ｇをトルエン２０ｍｌに溶解させ系
をアルゴン置換した。１，１，３，３−テトラメチルジ
シロキサン０．４２ｇと触媒量の塩化白金酸６水和物を
加え８５℃にて１６時間重合させた。溶媒を減圧留去
し、シリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製し
目的とする上記共重合比の共重合体２．７ｇを得た。
（収率８２％） 物性値を表１に示す。得られた共重合体のＮＭＲチャー
トを図２に示す。
２．４ｇ及び合成例１１に記した方法で得た非光学活性
モノマーａ０．４９ｇをトルエン２０ｍｌに溶解させ系
をアルゴン置換した。１，１，３，３−テトラメチルジ
シロキサン０．４２ｇと触媒量の塩化白金酸６水和物を
加え８５℃にて１６時間重合させた。溶媒を減圧留去
し、シリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製し
目的とする上記共重合比の共重合体２．７ｇを得た。
（収率８２％） 物性値を表１に示す。得られた共重合体のＮＭＲチャー
トを図２に示す。
【００９９】実施例２
【化３８】
【０１００】共重合体の合成 合成例６に記した方法により得た光学活性モノマーＡ
２．５ｇ及び合成例１２に記した方法で得た非光学活性
モノマーｂ０．５４ｇをトルエン３０ｍｌに溶解させ系
をアルゴン置換した。１，１，３，３−テトラメチルジ
シロキサン０．４４ｇと触媒量の塩化白金酸６水和物を
加え８０℃にて１８時間重合させた。溶媒を減圧留去
し、シリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製し
目的とする上記共重合比の共重合体２．８ｇを得た。
（収率８０％） 物性値を表１に示し、得られた共重合体のＮＭＲチャー
トを図３に示す。
２．５ｇ及び合成例１２に記した方法で得た非光学活性
モノマーｂ０．５４ｇをトルエン３０ｍｌに溶解させ系
をアルゴン置換した。１，１，３，３−テトラメチルジ
シロキサン０．４４ｇと触媒量の塩化白金酸６水和物を
加え８０℃にて１８時間重合させた。溶媒を減圧留去
し、シリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製し
目的とする上記共重合比の共重合体２．８ｇを得た。
（収率８０％） 物性値を表１に示し、得られた共重合体のＮＭＲチャー
トを図３に示す。
【０１０１】実施例３
【化３９】
【０１０２】共重合体の合成 合成例６に記した方法により得た光学活性モノマーＡ
１．９ｇ及び合成例１２に記した方法で得た非光学活性
モノマーｂ１．１ｇをトルエン３０ｍｌに溶解させ系を
アルゴン置換した。１，１，３，３−テトラメチルジシ
ロキサン０．４４ｇと触媒量の塩化白金酸６水和物を加
え８０℃にて１８時間重合させた。溶媒を減圧留去し、
シリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製し目的
とする上記共重合比の共重合体３．０ｇを得た。（収率
８７％） 物性値を表１に示す。共重合比はＮＭＲチャートより求
めた。その結果を表５に示す。
１．９ｇ及び合成例１２に記した方法で得た非光学活性
モノマーｂ１．１ｇをトルエン３０ｍｌに溶解させ系を
アルゴン置換した。１，１，３，３−テトラメチルジシ
ロキサン０．４４ｇと触媒量の塩化白金酸６水和物を加
え８０℃にて１８時間重合させた。溶媒を減圧留去し、
シリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製し目的
とする上記共重合比の共重合体３．０ｇを得た。（収率
８７％） 物性値を表１に示す。共重合比はＮＭＲチャートより求
めた。その結果を表５に示す。
【０１０３】実施例４
【化４０】
【０１０４】共重合体の合成 合成例６に記した方法により得た光学活性モノマーＡ
８．６ｇ及び合成例１３に記した方法で得た非光学活性
モノマーｃ１．８ｇをトルエン５０ｍｌに溶解させ系を
アルゴン置換した。１，１，３，３−テトラメチルジシ
ロキサン１．５ｇと触媒量の塩化白金酸６水和物を加え
８０℃にて１３時間重合させた。溶媒を減圧留去し、シ
リカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製し目的と
する上記共重合比の共重合体１１．１ｇを得た。（収率
９３％） 物性値を表１に示す。共重合比はＮＭＲチャートより求
めた。その結果を表５に示す。
８．６ｇ及び合成例１３に記した方法で得た非光学活性
モノマーｃ１．８ｇをトルエン５０ｍｌに溶解させ系を
アルゴン置換した。１，１，３，３−テトラメチルジシ
ロキサン１．５ｇと触媒量の塩化白金酸６水和物を加え
８０℃にて１３時間重合させた。溶媒を減圧留去し、シ
リカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製し目的と
する上記共重合比の共重合体１１．１ｇを得た。（収率
９３％） 物性値を表１に示す。共重合比はＮＭＲチャートより求
めた。その結果を表５に示す。
【０１０５】実施例５
【化４１】
【０１０６】共重合体の合成 合成例６に記した方法により得た光学活性モノマーＡ
４．０ｇ及び合成例１４に記した方法で得た非光学活性
モノマーｄ０．８６ｇをトルエン３０ｍｌに溶解させ系
をアルゴン置換した。１，１，３，３−テトラメチルジ
シロキサン０．７０ｇと触媒量の塩化白金酸６水和物を
加え８０℃にて１８時間重合させた。溶媒を減圧留去
し、シリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製し
目的とする上記共重合比の共重合体４．４ｇを得た。
（収率７９％） 物性値を表１に示す。得られた共重合体のＮＭＲチャー
トを図４に示す。
４．０ｇ及び合成例１４に記した方法で得た非光学活性
モノマーｄ０．８６ｇをトルエン３０ｍｌに溶解させ系
をアルゴン置換した。１，１，３，３−テトラメチルジ
シロキサン０．７０ｇと触媒量の塩化白金酸６水和物を
加え８０℃にて１８時間重合させた。溶媒を減圧留去
し、シリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製し
目的とする上記共重合比の共重合体４．４ｇを得た。
（収率７９％） 物性値を表１に示す。得られた共重合体のＮＭＲチャー
トを図４に示す。
【０１０７】実施例６〜９
【化４２】
【０１０８】共重合体の合成 光学活性モノマーＡ、非光学活性モノマーｄの比率を下
記表２のように変え、実施例５と同様に共重合を行っ
た。
記表２のように変え、実施例５と同様に共重合を行っ
た。
【表２】
【０１０９】物性値を表１に示す。ＮＭＲチャートから
求めた実施例６の共重合体のＸは０．８９、実施例７の
共重合体のＸは０．６０、実施例８の共重合体のＸは
０．４１、実施例９の共重合体のＸは０．２であった。
実施例９で得られた共重合体のＮＭＲチャートを図５に
示す。
求めた実施例６の共重合体のＸは０．８９、実施例７の
共重合体のＸは０．６０、実施例８の共重合体のＸは
０．４１、実施例９の共重合体のＸは０．２であった。
実施例９で得られた共重合体のＮＭＲチャートを図５に
示す。
【０１１０】実施例１０
【化４３】
【０１１１】共重合体の合成 合成例６に記した方法により得た光学活性モノマーＡ
２．２ｇ及び合成例１５に記した方法で得た非光学活性
モノマーｅ０．５０ｇをトルエン３０ｍｌに溶解させ系
をアルゴン置換した。１，１，３，３−テトラメチルジ
シロキサン０．３９ｇを加え、触媒量の塩化白金酸６水
和物を加え８０℃にて９時間重合させた。溶媒を減圧留
去し、シリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製
し目的とする上記共重合比の共重合体２．６ｇを得た。
（収率８４％） 物性値を表１に示す。共重合比はＮＭＲチャートより求
めた。結果を表５に示す。
２．２ｇ及び合成例１５に記した方法で得た非光学活性
モノマーｅ０．５０ｇをトルエン３０ｍｌに溶解させ系
をアルゴン置換した。１，１，３，３−テトラメチルジ
シロキサン０．３９ｇを加え、触媒量の塩化白金酸６水
和物を加え８０℃にて９時間重合させた。溶媒を減圧留
去し、シリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製
し目的とする上記共重合比の共重合体２．６ｇを得た。
（収率８４％） 物性値を表１に示す。共重合比はＮＭＲチャートより求
めた。結果を表５に示す。
【０１１２】実施例１１
【化４４】
【０１１３】共重合体の合成 合成例６に記した方法により得た光学活性モノマーＡ
２．４ｇ及び合成例１６に記した方法で得た非光学活性
モノマーｆ０．５４ｇをトルエン２０ｍｌに溶解させ系
をアルゴン置換した。１，１，３，３−テトラメチルジ
シロキサン０．４２ｇと触媒量の塩化白金酸６水和物を
加え８０℃にて１６時間重合させた。溶媒を減圧留去
し、シリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製し
目的とする上記共重合比の共重合体２．５ｇを得た。
（収率７４％） 物性値を表１に示す。共重合比はＮＭＲチャートより求
めた。結果を表５に示す。
２．４ｇ及び合成例１６に記した方法で得た非光学活性
モノマーｆ０．５４ｇをトルエン２０ｍｌに溶解させ系
をアルゴン置換した。１，１，３，３−テトラメチルジ
シロキサン０．４２ｇと触媒量の塩化白金酸６水和物を
加え８０℃にて１６時間重合させた。溶媒を減圧留去
し、シリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製し
目的とする上記共重合比の共重合体２．５ｇを得た。
（収率７４％） 物性値を表１に示す。共重合比はＮＭＲチャートより求
めた。結果を表５に示す。
【０１１４】実施例１２
【化４５】
【０１１５】共重合体の合成 合成例６に記した方法により得た光学活性モノマーＡ
２．４ｇ及び合成例１７に記した方法で得た非光学活性
モノマーｇ０．５１ｇをトルエン２０ｍｌに溶解させ系
をアルゴン置換した。１，１，３，３−テトラメチルジ
シロキサン０．４２ｇと触媒量の塩化白金酸６水和物を
加え８０℃にて１６時間重合させた。溶媒を減圧留去
し、シリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製し
目的とする上記共重合比の共重合体２．９ｇを得た。
（収率８６％） 物性値を表１に示す。共重合比はＮＭＲチャートより求
めた。結果を表５に示す。
２．４ｇ及び合成例１７に記した方法で得た非光学活性
モノマーｇ０．５１ｇをトルエン２０ｍｌに溶解させ系
をアルゴン置換した。１，１，３，３−テトラメチルジ
シロキサン０．４２ｇと触媒量の塩化白金酸６水和物を
加え８０℃にて１６時間重合させた。溶媒を減圧留去
し、シリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製し
目的とする上記共重合比の共重合体２．９ｇを得た。
（収率８６％） 物性値を表１に示す。共重合比はＮＭＲチャートより求
めた。結果を表５に示す。
【０１１６】実施例１３
【化４６】
【０１１７】共重合体の合成 合成例６に記した方法により得た光学活性モノマーＡ
２．３ｇ及び合成例１８に記した方法で得た非光学活性
モノマーｈ０．５０ｇをトルエン３０ｍｌに溶解させ系
をアルゴン置換した。１，１，３，３−テトラメチルジ
シロキサン０．４０ｇと触媒量の塩化白金酸６水和物を
加え８０℃にて９時間重合させた。溶媒を減圧留去し、
シリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製し目的
とする上記共重合比の共重合体２．８ｇを得た。（収率
８８％） 物性値を表１に示す。得られた共重合体のＮＭＲチャー
トを図６に示す。
２．３ｇ及び合成例１８に記した方法で得た非光学活性
モノマーｈ０．５０ｇをトルエン３０ｍｌに溶解させ系
をアルゴン置換した。１，１，３，３−テトラメチルジ
シロキサン０．４０ｇと触媒量の塩化白金酸６水和物を
加え８０℃にて９時間重合させた。溶媒を減圧留去し、
シリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製し目的
とする上記共重合比の共重合体２．８ｇを得た。（収率
８８％） 物性値を表１に示す。得られた共重合体のＮＭＲチャー
トを図６に示す。
【０１１８】実施例１４
【化４７】
【０１１９】共重合体の合成 合成例６に記した方法により得た光学活性モノマーＡ
２．４ｇ及び合成例１９に記した方法で得た非光学活性
モノマーｉ０．５４ｇをトルエン２０ｍｌに溶解させ系
をアルゴン置換した。１，１，３，３−テトラメチルジ
シロキサン０．４２ｇと触媒量の塩化白金酸６水和物を
加え８５℃にて９時間重合させた。溶媒を減圧留去し、
シリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製し目的
とする上記共重合比の共重合体２．５ｇを得た。（収率
７４％） 物性値を表１に示す。共重合比はＮＭＲチャートより求
めた。結果を表５に示す。
２．４ｇ及び合成例１９に記した方法で得た非光学活性
モノマーｉ０．５４ｇをトルエン２０ｍｌに溶解させ系
をアルゴン置換した。１，１，３，３−テトラメチルジ
シロキサン０．４２ｇと触媒量の塩化白金酸６水和物を
加え８５℃にて９時間重合させた。溶媒を減圧留去し、
シリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製し目的
とする上記共重合比の共重合体２．５ｇを得た。（収率
７４％） 物性値を表１に示す。共重合比はＮＭＲチャートより求
めた。結果を表５に示す。
【０１２０】実施例１５
【化４８】
【０１２１】共重合体の合成 合成例６に記した方法により得た光学活性モノマーＡ
０．７５ｇ及び合成例２０に記した方法で得た非光学活
性モノマーｊ０．１７ｇをトルエン８ｍｌに溶解させ系
をアルゴン置換した。１，１，３，３−テトラメチルジ
シロキサン０．１３ｇと触媒量の塩化白金酸６水和物を
加え８５℃にて９時間重合させた。溶媒を減圧留去し、
シリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製し目的
とする上記共重合比の共重合体０．７８ｇを得た。（収
率７４％） 物性値を表１に示す。得られた共重合体のＮＭＲチャー
トを図７に示す。
０．７５ｇ及び合成例２０に記した方法で得た非光学活
性モノマーｊ０．１７ｇをトルエン８ｍｌに溶解させ系
をアルゴン置換した。１，１，３，３−テトラメチルジ
シロキサン０．１３ｇと触媒量の塩化白金酸６水和物を
加え８５℃にて９時間重合させた。溶媒を減圧留去し、
シリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製し目的
とする上記共重合比の共重合体０．７８ｇを得た。（収
率７４％） 物性値を表１に示す。得られた共重合体のＮＭＲチャー
トを図７に示す。
【０１２２】実施例１６
【化４９】
【０１２３】共重合体の合成 合成例６に記した方法により得た光学活性モノマーＡ
１．９ｇ及び合成例１４に記した方法で得た非光学活性
モノマーｄ０．４０ｇをトルエン３０ｍｌに溶解させ系
をアルゴン置換した。１，１，３，３，５，５−ヘキサ
メチルトリシロキサン０．５０ｇと触媒量の塩化白金酸
６水和物を加え８０℃にて９時間重合させた。溶媒を減
圧留去し、シリカゲルカラムクロマトグラフィーにより
精製し上記共重合比の目的とする共重合体２．６ｇを得
た。（収率９３％）物性値を表１に示す。得られた共重
合体のＮＭＲチャートを図８に示す。
１．９ｇ及び合成例１４に記した方法で得た非光学活性
モノマーｄ０．４０ｇをトルエン３０ｍｌに溶解させ系
をアルゴン置換した。１，１，３，３，５，５−ヘキサ
メチルトリシロキサン０．５０ｇと触媒量の塩化白金酸
６水和物を加え８０℃にて９時間重合させた。溶媒を減
圧留去し、シリカゲルカラムクロマトグラフィーにより
精製し上記共重合比の目的とする共重合体２．６ｇを得
た。（収率９３％）物性値を表１に示す。得られた共重
合体のＮＭＲチャートを図８に示す。
【０１２４】実施例１７
【化５０】
【０１２５】共重合体の合成 合成例６に記した方法により得た光学活性モノマーＡ
１．９ｇ及び合成例１４に記した方法で得た非光学活性
モノマーｄ０．４０ｇをトルエン３０ｍｌに溶解させ系
をアルゴン置換した。α，ω−ハイドロジェンオリゴジ
メチルシロキサン（重量平均分子量７３０）１．２ｇと
触媒量の塩化白金酸６水和物を加え８０℃にて８時間重
合させた。溶媒を減圧留去し、シリカゲルカラムクロマ
トグラフィーにより精製し目的とする共重合体２．９ｇ
を得た。（収率８３％） 物性値を表１に示す。得られた共重合体のＮＭＲチャー
トを図９に示す。
１．９ｇ及び合成例１４に記した方法で得た非光学活性
モノマーｄ０．４０ｇをトルエン３０ｍｌに溶解させ系
をアルゴン置換した。α，ω−ハイドロジェンオリゴジ
メチルシロキサン（重量平均分子量７３０）１．２ｇと
触媒量の塩化白金酸６水和物を加え８０℃にて８時間重
合させた。溶媒を減圧留去し、シリカゲルカラムクロマ
トグラフィーにより精製し目的とする共重合体２．９ｇ
を得た。（収率８３％） 物性値を表１に示す。得られた共重合体のＮＭＲチャー
トを図９に示す。
【０１２６】実施例１８
【化５１】
【０１２７】共重合体の合成 合成例６に記した方法により得た光学活性モノマーＡ
１．９ｇ及び合成例１４に記した方法で得た非光学活性
モノマーｄ０．４０ｇをトルエン３０ｍｌに溶解させ系
をアルゴン置換した。α，ω−ハイドロジェンオリゴジ
メチルシロキサン（重量平均分子量１４２０）２．４ｇ
と触媒量の塩化白金酸６水和物を加え８０℃にて１２時
間重合させた。溶媒を減圧留去し、シリカゲルカラムク
ロマトグラフィーにより精製し目的とする上記共重合比
の共重合体３．８ｇを得た。（収率８１％） 物性値を表１に示す。共重合比はＮＭＲチャートより求
めた。結果を表５に示す。
１．９ｇ及び合成例１４に記した方法で得た非光学活性
モノマーｄ０．４０ｇをトルエン３０ｍｌに溶解させ系
をアルゴン置換した。α，ω−ハイドロジェンオリゴジ
メチルシロキサン（重量平均分子量１４２０）２．４ｇ
と触媒量の塩化白金酸６水和物を加え８０℃にて１２時
間重合させた。溶媒を減圧留去し、シリカゲルカラムク
ロマトグラフィーにより精製し目的とする上記共重合比
の共重合体３．８ｇを得た。（収率８１％） 物性値を表１に示す。共重合比はＮＭＲチャートより求
めた。結果を表５に示す。
【０１２８】実施例１９
【化５２】
【０１２９】共重合体の合成 合成例７に記した方法により得た光学活性モノマーＢ
２．５ｇ及び合成例１４に記した方法で得た非光学活性
モノマーｄ０．５０ｇをトルエン３０ｍｌに溶解させ系
をアルゴン置換した。１，１，３，３−テトラメチルジ
シロキサン０．４１ｇと触媒量の塩化白金酸６水和物を
加え８０℃にて１８時間重合させた。溶媒を減圧留去
し、シリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製し
目的とする上記共重合比の共重合体２．９ｇを得た。
（収率８５％） 物性値を表１に示す。共重合比はＮＭＲチャートより求
めた。結果を表５に示す。
２．５ｇ及び合成例１４に記した方法で得た非光学活性
モノマーｄ０．５０ｇをトルエン３０ｍｌに溶解させ系
をアルゴン置換した。１，１，３，３−テトラメチルジ
シロキサン０．４１ｇと触媒量の塩化白金酸６水和物を
加え８０℃にて１８時間重合させた。溶媒を減圧留去
し、シリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製し
目的とする上記共重合比の共重合体２．９ｇを得た。
（収率８５％） 物性値を表１に示す。共重合比はＮＭＲチャートより求
めた。結果を表５に示す。
【０１３０】実施例２０
【化５３】
【０１３１】共重合体の合成 合成例７に記した方法により得た光学活性モノマーＢ
１．３ｇ及び合成例１４に記した方法で得た非光学活性
モノマーｄ０．７０ｇをトルエン３０ｍｌに溶解させ系
をアルゴン置換した。１，１，３，３−テトラメチルジ
シロキサン０．２８ｇと触媒量の塩化白金酸６水和物を
加え８０℃にて１１時間重合させた。溶媒を減圧留去
し、シリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製し
目的とする上記共重合比の共重合体１．９ｇを得た。
（収率８３％） 物性値を表１に示す。得られた共重合体のＮＭＲチャー
トを図１０に示す。
１．３ｇ及び合成例１４に記した方法で得た非光学活性
モノマーｄ０．７０ｇをトルエン３０ｍｌに溶解させ系
をアルゴン置換した。１，１，３，３−テトラメチルジ
シロキサン０．２８ｇと触媒量の塩化白金酸６水和物を
加え８０℃にて１１時間重合させた。溶媒を減圧留去
し、シリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製し
目的とする上記共重合比の共重合体１．９ｇを得た。
（収率８３％） 物性値を表１に示す。得られた共重合体のＮＭＲチャー
トを図１０に示す。
【０１３２】実施例２１
【化５４】
【０１３３】共重合体の合成 合成例７に記した方法により得た光学活性モノマーＢ
２．０ｇ及び合成例１５に記した方法で得た非光学活性
モノマーｅ１．１ｇをトルエン４０ｍｌに溶解させ系を
アルゴン置換した。１，１，３，３−テトラメチルジシ
ロキサン０．４４ｇと触媒量の塩化白金酸６水和物を加
え８０℃にて８時間重合させた。溶媒を減圧留去し、シ
リカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製し目的と
する上記共重合比の共重合体２．７ｇを得た。（収率７
９％） 物性値を表１に示す。得られた共重合体のＮＭＲチャー
トを図１１に示す。
２．０ｇ及び合成例１５に記した方法で得た非光学活性
モノマーｅ１．１ｇをトルエン４０ｍｌに溶解させ系を
アルゴン置換した。１，１，３，３−テトラメチルジシ
ロキサン０．４４ｇと触媒量の塩化白金酸６水和物を加
え８０℃にて８時間重合させた。溶媒を減圧留去し、シ
リカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製し目的と
する上記共重合比の共重合体２．７ｇを得た。（収率７
９％） 物性値を表１に示す。得られた共重合体のＮＭＲチャー
トを図１１に示す。
【０１３４】実施例２２
【化５５】
【０１３５】共重合体の合成 合成例８に記した方法により得た光学活性モノマーＣ
２．０ｇ及び合成例２１に記した方法で得た非光学活性
モノマーｋ０．４３ｇをトルエン２０ｍｌに溶解させ系
をアルゴン置換した。１，１，３，３−テトラメチルジ
シロキサン０．３４ｇと触媒量の塩化白金酸６水和物を
加え８５℃にて９時間重合させた。溶媒を減圧留去し、
シリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製し目的
とする上記共重合比の共重合体２．３ｇを得た。（収率
８３％） 物性値を表１に示す。得られた共重合体のＮＭＲチャー
トを図１２に示す。
２．０ｇ及び合成例２１に記した方法で得た非光学活性
モノマーｋ０．４３ｇをトルエン２０ｍｌに溶解させ系
をアルゴン置換した。１，１，３，３−テトラメチルジ
シロキサン０．３４ｇと触媒量の塩化白金酸６水和物を
加え８５℃にて９時間重合させた。溶媒を減圧留去し、
シリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製し目的
とする上記共重合比の共重合体２．３ｇを得た。（収率
８３％） 物性値を表１に示す。得られた共重合体のＮＭＲチャー
トを図１２に示す。
【０１３６】実施例２３
【化５６】
【０１３７】共重合体の合成 合成例８に記した方法により得た光学活性モノマーＣ
２．０ｇ及び合成例２１に記した方法で得た非光学活性
モノマーｋ０．４３ｇをトルエン２０ｍｌに溶解させ系
をアルゴン置換した。１，１，３，３，５，５−ヘキサ
メチルトリシロキサン０．５３ｇと触媒量の塩化白金酸
６水和物を加え８５℃にて１１時間重合させた。溶媒を
減圧留去し、シリカゲルカラムクロマトグラフィーによ
り精製し上記共重合比の目的とする共重合体２．７ｇを
得た。（収率９１％） 物性値を表１に示す。得られた共重合体のＮＭＲチャー
トを図１３に示す。
２．０ｇ及び合成例２１に記した方法で得た非光学活性
モノマーｋ０．４３ｇをトルエン２０ｍｌに溶解させ系
をアルゴン置換した。１，１，３，３，５，５−ヘキサ
メチルトリシロキサン０．５３ｇと触媒量の塩化白金酸
６水和物を加え８５℃にて１１時間重合させた。溶媒を
減圧留去し、シリカゲルカラムクロマトグラフィーによ
り精製し上記共重合比の目的とする共重合体２．７ｇを
得た。（収率９１％） 物性値を表１に示す。得られた共重合体のＮＭＲチャー
トを図１３に示す。
【０１３８】実施例２４
【化５７】
【０１３９】共重合体の合成 合成例８に記した方法により得た光学活性モノマーＣ
０．９１ｇ及び合成例２１に記した方法で得た非光学活
性モノマーｋ０．２０ｇをトルエン１０ｍｌに溶解させ
系をアルゴン置換した。１，１，３，３，５，５，７，
７−オクタメチルテトラシロキサン０．４０ｇと触媒量
の塩化白金酸６水和物を加え８５℃にて８時間重合させ
た。溶媒を減圧留去し、シリカゲルカラムクロマトグラ
フィーにより精製し目的とする上記共重合比の共重合体
０．９６ｇを得た。（収率６４％） 物性値を表１に示す。得られた共重合体のＮＭＲチャー
トを図１４に示す。
０．９１ｇ及び合成例２１に記した方法で得た非光学活
性モノマーｋ０．２０ｇをトルエン１０ｍｌに溶解させ
系をアルゴン置換した。１，１，３，３，５，５，７，
７−オクタメチルテトラシロキサン０．４０ｇと触媒量
の塩化白金酸６水和物を加え８５℃にて８時間重合させ
た。溶媒を減圧留去し、シリカゲルカラムクロマトグラ
フィーにより精製し目的とする上記共重合比の共重合体
０．９６ｇを得た。（収率６４％） 物性値を表１に示す。得られた共重合体のＮＭＲチャー
トを図１４に示す。
【０１４０】実施例２５
【化５８】
【０１４１】共重合体の合成 合成例８に記した方法により得た光学活性モノマーＣ
０．６５ｇ及び合成２１に記した方法で得た非光学活性
モノマーｋ０．３７ｇをトルエン１０ｍｌに溶解させ系
をアルゴン置換した。１，１，３，３，５，５，７，７
−オクタメチルテトラシロキサン０．３８ｇと触媒量の
塩化白金酸６水和物を加え８５℃にて１４時間重合させ
た。溶媒を減圧留去し、シリカゲルカラムクロマトグラ
フィーにより精製し目的とする上記共重合比の共重合体
１．１ｇを得た。（収率７９％） 物性値を表１に示す。得られた共重合体のＮＭＲチャー
トを図１５に示す。
０．６５ｇ及び合成２１に記した方法で得た非光学活性
モノマーｋ０．３７ｇをトルエン１０ｍｌに溶解させ系
をアルゴン置換した。１，１，３，３，５，５，７，７
−オクタメチルテトラシロキサン０．３８ｇと触媒量の
塩化白金酸６水和物を加え８５℃にて１４時間重合させ
た。溶媒を減圧留去し、シリカゲルカラムクロマトグラ
フィーにより精製し目的とする上記共重合比の共重合体
１．１ｇを得た。（収率７９％） 物性値を表１に示す。得られた共重合体のＮＭＲチャー
トを図１５に示す。
【０１４２】実施例２６
【化５９】
【０１４３】共重合体の合成 合成例８に記した方法により得た光学活性モノマーＣ
０．９１ｇ及び合成例２１に記した方法で得た非光学活
性モノマーｋ０．２０ｇをトルエン１０ｍｌに溶解させ
系をアルゴン置換した。α，ω−ハイドロジェンオリゴ
ジメチルシロキサン（重量平均分子量６７０）０．５８
ｇと触媒量の塩化白金酸６水和物を加え８５℃にて１３
時間重合させた。溶媒を減圧留去し、シリカゲルカラム
クロマトグラフィーにより精製し目的とする上記共重合
比の共重合体１．５ｇを得た。（収率９１％） 物性値を表１に示す。得られた共重合体のＮＭＲチャー
トを図１６に示す。
０．９１ｇ及び合成例２１に記した方法で得た非光学活
性モノマーｋ０．２０ｇをトルエン１０ｍｌに溶解させ
系をアルゴン置換した。α，ω−ハイドロジェンオリゴ
ジメチルシロキサン（重量平均分子量６７０）０．５８
ｇと触媒量の塩化白金酸６水和物を加え８５℃にて１３
時間重合させた。溶媒を減圧留去し、シリカゲルカラム
クロマトグラフィーにより精製し目的とする上記共重合
比の共重合体１．５ｇを得た。（収率９１％） 物性値を表１に示す。得られた共重合体のＮＭＲチャー
トを図１６に示す。
【０１４４】実施例２７
【化６０】
【０１４５】共重合体の合成 合成例８に記した方法により得た光学活性モノマーＣ
２．０ｇ及び合成例２１に記した方法で得た非光学活性
モノマーｋ０．４３ｇをトルエン２０ｍｌに溶解させ系
をアルゴン置換した。α，ω−ハイドロジェンオリゴジ
メチルシロキサン（重量平均分子量７３０）１．３ｇと
触媒量の塩化白金酸６水和物を加え８５℃にて９時間重
合させた。溶媒を減圧留去し、シリカゲルカラムクロマ
トグラフィーにより精製し目的とする上記共重合比の共
重合体３．２ｇを得た。（収率８６％） 物性値を表１に示す。得られた共重合体のＮＭＲチャー
トを図１７に示す。
２．０ｇ及び合成例２１に記した方法で得た非光学活性
モノマーｋ０．４３ｇをトルエン２０ｍｌに溶解させ系
をアルゴン置換した。α，ω−ハイドロジェンオリゴジ
メチルシロキサン（重量平均分子量７３０）１．３ｇと
触媒量の塩化白金酸６水和物を加え８５℃にて９時間重
合させた。溶媒を減圧留去し、シリカゲルカラムクロマ
トグラフィーにより精製し目的とする上記共重合比の共
重合体３．２ｇを得た。（収率８６％） 物性値を表１に示す。得られた共重合体のＮＭＲチャー
トを図１７に示す。
【０１４６】実施例２８
【化６１】
【０１４７】共重合体の合成 合成例９に記した方法により得た光学活性モノマーＤ
０．９３ｇ及び合成例２１に記した方法で得た非光学活
性モノマーｋ０．２０ｇをトルエン１０ｍｌに溶解させ
系をアルゴン置換した。１，１，３，３，５，５，７，
７−オクタメチルテトラシロキサン０．４０ｇと触媒量
の塩化白金酸６水和物を加え８５℃にて８時間重合させ
た。溶媒を減圧留去し、シリカゲルカラムクロマトグラ
フィーにより精製し目的とする上記共重合比の共重合体
１．２ｇを得た。（収率７８％） 物性値を表１に示す。得られた共重合体のＮＭＲチャー
トを図１８に示す。
０．９３ｇ及び合成例２１に記した方法で得た非光学活
性モノマーｋ０．２０ｇをトルエン１０ｍｌに溶解させ
系をアルゴン置換した。１，１，３，３，５，５，７，
７−オクタメチルテトラシロキサン０．４０ｇと触媒量
の塩化白金酸６水和物を加え８５℃にて８時間重合させ
た。溶媒を減圧留去し、シリカゲルカラムクロマトグラ
フィーにより精製し目的とする上記共重合比の共重合体
１．２ｇを得た。（収率７８％） 物性値を表１に示す。得られた共重合体のＮＭＲチャー
トを図１８に示す。
【０１４８】実施例２９〜３１
【化６２】
【０１４９】共重合体の合成 光学活性モノマーＤ、非光学活性モノマーｋの比率を下
記表３のように変え、実施例２８と同様に共重合を行な
い、上記繰り返し単位からなる共重合体を得た。
記表３のように変え、実施例２８と同様に共重合を行な
い、上記繰り返し単位からなる共重合体を得た。
【０１５０】
【表３】
【０１５１】物性値を表１に示す。実施例２９で得られ
た共重合体のＮＭＲチャートを図１９に、実施例３０で
得られた共重合体のＮＭＲチャートを図２０に、実施例
３１で得られた共重合体のＮＭＲチャートを図２１に示
す。
た共重合体のＮＭＲチャートを図１９に、実施例３０で
得られた共重合体のＮＭＲチャートを図２０に、実施例
３１で得られた共重合体のＮＭＲチャートを図２１に示
す。
【０１５２】実施例３２
【化６３】
【０１５３】共重合体の合成 合成例９に記した方法により得た光学活性モノマーＤ
０．９３ｇ及び合成例２１に記した方法で得た非光学活
性モノマーｋ０．２０ｇをトルエン１０ｍｌに溶解させ
系をアルゴン置換した。α，ω−ハイドロジェンオリゴ
ジメチルシロキサン（重量平均分子量６７０）０．５８
ｇと触媒量の塩化白金酸６水和物を加え８５℃にて１２
時間重合させた。溶媒を減圧留去し、シリカゲルカラム
クロマトグラフィーにより精製し目的とする上記共重合
比の共重合体１．４ｇを得た。（収率８２％） 物性値を表１に示す。得られた共重合体のＮＭＲチャー
トを図２２に示す。
０．９３ｇ及び合成例２１に記した方法で得た非光学活
性モノマーｋ０．２０ｇをトルエン１０ｍｌに溶解させ
系をアルゴン置換した。α，ω−ハイドロジェンオリゴ
ジメチルシロキサン（重量平均分子量６７０）０．５８
ｇと触媒量の塩化白金酸６水和物を加え８５℃にて１２
時間重合させた。溶媒を減圧留去し、シリカゲルカラム
クロマトグラフィーにより精製し目的とする上記共重合
比の共重合体１．４ｇを得た。（収率８２％） 物性値を表１に示す。得られた共重合体のＮＭＲチャー
トを図２２に示す。
【０１５４】実施例３３，３４
【化６４】
【０１５５】共重合体の合成 光学活性モノマーＤ、非光学活性モノマーｋの比率を下
記表４のように変え、実施例３２と同様に共重合を行っ
た。
記表４のように変え、実施例３２と同様に共重合を行っ
た。
【０１５６】
【表４】
【０１５７】物性値を表１に示す。実施例３３で得られ
た共重合体のＮＭＲチャートを図２３に、実施例３４で
得られた共重合体のＮＭＲチャートを図２４に示す。
た共重合体のＮＭＲチャートを図２３に、実施例３４で
得られた共重合体のＮＭＲチャートを図２４に示す。
【０１５８】実施例３５
【化６５】
【０１５９】共重合体の合成 合成例１０に記した方法により得た光学活性モノマーＥ
０．８６ｇ及び合成例２１に記した方法で得た非光学活
性モノマーｋ０．１８ｇをトルエン１０ｍｌに溶解させ
系をアルゴン置換した。α，ω−ハイドロジェンオリゴ
ジメチルシロキサン（重量平均分子量６７０）０．５２
ｇと触媒量の塩化白金酸６水和物を加え８５℃にて１４
時間重合させた。溶媒を減圧留去し、シリカゲルカラム
クロマトグラフィーにより精製し目的とする上記共重合
比の共重合体１．５ｇを得た。（収率９６％） 物性値を表１に示す。得られた共重合体のＮＭＲチャー
トを図２５に示す。
０．８６ｇ及び合成例２１に記した方法で得た非光学活
性モノマーｋ０．１８ｇをトルエン１０ｍｌに溶解させ
系をアルゴン置換した。α，ω−ハイドロジェンオリゴ
ジメチルシロキサン（重量平均分子量６７０）０．５２
ｇと触媒量の塩化白金酸６水和物を加え８５℃にて１４
時間重合させた。溶媒を減圧留去し、シリカゲルカラム
クロマトグラフィーにより精製し目的とする上記共重合
比の共重合体１．５ｇを得た。（収率９６％） 物性値を表１に示す。得られた共重合体のＮＭＲチャー
トを図２５に示す。
【０１６０】
【表１】
【０１６１】相転移温度は偏光顕微鏡観察により決定し
た。応答時間は室温、セル厚２μｍ、電圧２０Ｖ印加し
たときの値。相転移温度及び応答時間の測定方法は実施
例３６と同じ。Ｍｗは重量平均分子量を表し、ＧＰＣ測
定によるＰＳ（ポリスチレン）換算値。
た。応答時間は室温、セル厚２μｍ、電圧２０Ｖ印加し
たときの値。相転移温度及び応答時間の測定方法は実施
例３６と同じ。Ｍｗは重量平均分子量を表し、ＧＰＣ測
定によるＰＳ（ポリスチレン）換算値。
【０１６２】
【表５】
【０１６３】実施例３６ 実施例３で得られた高分子化合物とチッソ石油化学
（株）製の低分子強誘電性液晶ＣＳ−１０１５を重量比
８：２の割合で混合し、組成物を得た。 ＣＳ１０１５ ｇｌａｓｓ───Ｓｃ*───ＳA───Ｎ*───Ｉｓｏ の相転移 -17℃ 57.6℃ 67.9℃ 78.1℃
（株）製の低分子強誘電性液晶ＣＳ−１０１５を重量比
８：２の割合で混合し、組成物を得た。 ＣＳ１０１５ ｇｌａｓｓ───Ｓｃ*───ＳA───Ｎ*───Ｉｓｏ の相転移 -17℃ 57.6℃ 67.9℃ 78.1℃
【０１６４】混合方法 実施例３の高分子化合物４０ｍｇとＣＳ−１０１５ １
０ｍｇを計りとり、溶媒（ジクロロメタン）５ｃｃに溶
解し、お互によく攪拌した後、約１００℃で溶媒を蒸発
させた。上記組成物をＩＴＯ電極付ガラス基板（電極面
積０．２ｃｍ2、ＩＴＯの厚さ１０００オングストロー
ム）に狭持し、偏光顕微鏡下（倍率４００倍）で観察
し、相の同定を行った。（セル厚、３μｍ）必要に応じ
て上下電極間に±１０Ｖの電圧を印加した。
０ｍｇを計りとり、溶媒（ジクロロメタン）５ｃｃに溶
解し、お互によく攪拌した後、約１００℃で溶媒を蒸発
させた。上記組成物をＩＴＯ電極付ガラス基板（電極面
積０．２ｃｍ2、ＩＴＯの厚さ１０００オングストロー
ム）に狭持し、偏光顕微鏡下（倍率４００倍）で観察
し、相の同定を行った。（セル厚、３μｍ）必要に応じ
て上下電極間に±１０Ｖの電圧を印加した。
【０１６５】
【０１６６】液晶状態では分散系特有の島状構造は観察
されず一様に液晶相となっており相溶系になっているこ
とが、確認できた。続いて上記セルに８５℃において上
下基板間に剪断応力を数回かけて（剪断法による配向）
液晶を配向させた。これに２５℃において±３０Ｖの矩
形波状電圧を２５℃で印加し、応答時間を測定したとこ
ろ１．５ｍｓであった。
されず一様に液晶相となっており相溶系になっているこ
とが、確認できた。続いて上記セルに８５℃において上
下基板間に剪断応力を数回かけて（剪断法による配向）
液晶を配向させた。これに２５℃において±３０Ｖの矩
形波状電圧を２５℃で印加し、応答時間を測定したとこ
ろ１．５ｍｓであった。
【０１６７】実施例３７ 実施例１８で得られた高分子化合物と下記液晶Ｐ１００
８（みどり化学（株）製）を重量比８：２の割合で混合
した。
８（みどり化学（株）製）を重量比８：２の割合で混合
した。
【０１６８】
【化６６】
【０１６９】 混合方法は実施例３６と同じ。 相転移、応答時間の測定方法、条件は実施例３６と同
じ。（但し配向温度は７８℃。）
じ。（但し配向温度は７８℃。）
【０１７０】液晶状態では分散系特有の島状構造は観察
されずに一様に液晶相となっており相溶系となっている
ことが、確認できた。
されずに一様に液晶相となっており相溶系となっている
ことが、確認できた。
【０１７１】また、実施例１８の高分子化合物は、単独
では液晶状態にならないが、低分子スメクチック液晶
（非カイラル）Ｐ１００８を添加することにより、液晶
相（強誘電相）を発現し、液晶光学素子として使用可能
な、一様に液晶相となる強誘電性液晶組成物を得ること
ができた。
では液晶状態にならないが、低分子スメクチック液晶
（非カイラル）Ｐ１００８を添加することにより、液晶
相（強誘電相）を発現し、液晶光学素子として使用可能
な、一様に液晶相となる強誘電性液晶組成物を得ること
ができた。
【０１７２】実施例３８ 実施例２７の高分子化合物と実施例３７で用いたＰ１０
０８を重量比８：２の割合で混合した。 ２５℃での応答時間８５０μｓ 混合方法、測定法、条件は実施例３６と同じ。（但し配
向温度は７８℃。）
０８を重量比８：２の割合で混合した。 ２５℃での応答時間８５０μｓ 混合方法、測定法、条件は実施例３６と同じ。（但し配
向温度は７８℃。）
【０１７３】実施例３９ 実施例２８で得られた高分子化合物と下記低分子強誘電
性液晶（一般に公知であり常法により合成した。）
性液晶（一般に公知であり常法により合成した。）
【化６７】 相転移 Ｃｒｙｓｔ────Ｓｘ*────Ｓｃ*────ＳA────Ｉｓｏ 45℃ 53℃ 107℃ 132℃ （Ｓｘ*はＳｃ*相より高次のスメクチック相） を表６のような割合で混合した。混合方法は実施例３６
に同じ。
に同じ。
【０１７４】
【表６】 相転移、応答時間の測定方法は実施例３６と同じ。 但し配向温度、８：２のもの９６℃、６：４のもの１０
６℃。
６℃。
【０１７５】実施例４０ 実施例３７と同じ組成の液晶組成物を用いて液晶光学素
子を作製した。上記組成物を２０重量％のトルエン溶液
とし、ＩＴＯ電極付きのポリエーテルスルホン（ＰＥ
Ｓ）基板の電極面上にマイクログラビアコーターを用い
て厚み３μｍに製膜した。溶媒乾燥後、直ちに何も塗布
していない同種の基板を液晶層と電極面が接するように
ラミネートし、配向処理前の未配向素子原反（幅１５０
ｍｍ、長さ３ｍ）を作製した。次いで、図２６に示すよ
うな４本の加熱ロール群からなる配向装置を用いて、上
記の未配向素子４の曲げ配向処理を行った。各加熱ロー
ル３は直径８０ｍｍのクロムメッキを施した鉄製であ
り、幅３００ｍｍのものを用いた。表面温度はＴ1＝８
７℃、Ｔ2＝８３℃、Ｔ3＝７７℃、Ｔ4＝７５℃にコン
トロールし、ライン速度はｖ＝８ｍ／分とした。この配
向装置によって未配向素子４の液晶は曲げ変形による剪
断を与えられながら等方相から液晶相へ冷却され、最終
的に基板長手方向と垂直な方向に一軸水平配向し、配向
済素子５が得られた。
子を作製した。上記組成物を２０重量％のトルエン溶液
とし、ＩＴＯ電極付きのポリエーテルスルホン（ＰＥ
Ｓ）基板の電極面上にマイクログラビアコーターを用い
て厚み３μｍに製膜した。溶媒乾燥後、直ちに何も塗布
していない同種の基板を液晶層と電極面が接するように
ラミネートし、配向処理前の未配向素子原反（幅１５０
ｍｍ、長さ３ｍ）を作製した。次いで、図２６に示すよ
うな４本の加熱ロール群からなる配向装置を用いて、上
記の未配向素子４の曲げ配向処理を行った。各加熱ロー
ル３は直径８０ｍｍのクロムメッキを施した鉄製であ
り、幅３００ｍｍのものを用いた。表面温度はＴ1＝８
７℃、Ｔ2＝８３℃、Ｔ3＝７７℃、Ｔ4＝７５℃にコン
トロールし、ライン速度はｖ＝８ｍ／分とした。この配
向装置によって未配向素子４の液晶は曲げ変形による剪
断を与えられながら等方相から液晶相へ冷却され、最終
的に基板長手方向と垂直な方向に一軸水平配向し、配向
済素子５が得られた。
【０１７６】上記素子の上下に偏光板を、偏光軸が互に
直交するように配し、電極間に±２０Ｖの電圧を印加
し、コントラスト比を測定したところ２５であり良好な
コントラストが得られた。よってこの組成物は上記のよ
うな簡便な方法を用いて液晶光学素子を連続生産するた
めに好適であることが実証された。
直交するように配し、電極間に±２０Ｖの電圧を印加
し、コントラスト比を測定したところ２５であり良好な
コントラストが得られた。よってこの組成物は上記のよ
うな簡便な方法を用いて液晶光学素子を連続生産するた
めに好適であることが実証された。
【０１７７】
【発明の効果】本発明により配向制御が容易で、配向性
に優れている上に、強誘電性を示し、外的因子に対する
応答が速く、かつ大画面、屈曲画面の表示素子として有
利に使用できる液晶組成物が得られた。また、本発明に
より上記液晶組成物の素材として好適に使用できる低分
子液晶化合物と相溶系となり、相分離しない高分子化合
物が得られた。
に優れている上に、強誘電性を示し、外的因子に対する
応答が速く、かつ大画面、屈曲画面の表示素子として有
利に使用できる液晶組成物が得られた。また、本発明に
より上記液晶組成物の素材として好適に使用できる低分
子液晶化合物と相溶系となり、相分離しない高分子化合
物が得られた。
【図１】 液晶組成物の混合状態を示す模式的説明図。
【図２】 実施例１で得られた共重合体のＮＭＲチャー
ト。
ト。
【図３】 実施例２で得られた共重合体のＮＭＲチャー
ト。
ト。
【図４】 実施例５で得られた共重合体のＮＭＲチャー
ト。
ト。
【図５】 実施例９で得られた共重合体のＮＭＲチャー
ト。
ト。
【図６】 実施例１３で得られた共重合体のＮＭＲチャ
ート。
ート。
【図７】 実施例１５で得られた共重合体のＮＭＲチャ
ート。
ート。
【図８】 実施例１６で得られた共重合体のＮＭＲチャ
ート。
ート。
【図９】 実施例１７で得られた共重合体のＮＭＲチャ
ート。
ート。
【図１０】 実施例２０で得られた共重合体のＮＭＲチ
ャート。
ャート。
【図１１】 実施例２１で得られた共重合体のＮＭＲチ
ャート。
ャート。
【図１２】 実施例２２で得られた共重合体のＮＭＲチ
ャート。
ャート。
【図１３】 実施例２３で得られた共重合体のＮＭＲチ
ャート。
ャート。
【図１４】 実施例２４で得られた共重合体のＮＭＲチ
ャート。
ャート。
【図１５】 実施例２５で得られた共重合体のＮＭＲチ
ャート。
ャート。
【図１６】 実施例２６で得られた共重合体のＮＭＲチ
ャート。
ャート。
【図１７】 実施例２７で得られた共重合体のＮＭＲチ
ャート。
ャート。
【図１８】 実施例２８で得られた共重合体のＮＭＲチ
ャート。
ャート。
【図１９】 実施例２９で得られた共重合体のＮＭＲチ
ャート。
ャート。
【図２０】 実施例３０で得られた共重合体のＮＭＲチ
ャート。
ャート。
【図２１】 実施例３１で得られた共重合体のＮＭＲチ
ャート。
ャート。
【図２２】 実施例３２で得られた共重合体のＮＭＲチ
ャート。
ャート。
【図２３】 実施例３３で得られた共重合体のＮＭＲチ
ャート。
ャート。
【図２４】 実施例３４で得られた共重合体のＮＭＲチ
ャート。
ャート。
【図２５】 実施例３５で得られた共重合体のＮＭＲチ
ャート。
ャート。
【図２６】 液晶素子の製造方法を示す説明図。
１ 高分子化合物 ２ 低分子のスメクチック液晶化合物 ３ 加熱ロール ４ 未配向素子 ５ 配向済素子
フロントページの続き (56)参考文献 特開 平５−156025（ＪＰ，Ａ) 特開 平４−268389（ＪＰ，Ａ) 特開 平４−314784（ＪＰ，Ａ) 特開 平５−202358（ＪＰ，Ａ) 特開 平４−320218（ＪＰ，Ａ) 特開 平５−132558（ＪＰ，Ａ) 特開 平２−180845（ＪＰ，Ａ) 国際公開92／1731（ＷＯ，Ａ１) (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) C08G 77/00 - 77/62 C08L 83/00 - 83/16 C09K 19/38 - 19/40 G02F 1/13 500 ＣＡ（ＳＴＮ) ＲＥＧＩＳＴＲＹ（ＳＴＮ)
Claims (3)
- 【請求項１】 下記の一般式で表わされる繰り返し単位
［Ｉ］及び［ＩＩ］からなり、重量平均分子量が１，０
００〜１，０００，０００であり、繰り返し単位［Ｉ］
と［ＩＩ］の割合がモル比（［Ｉ］：［ＩＩ］）で９
５：５〜５：９５である新規な高分子化合物。 【化１】 （式中、ｒ、ｕ、ｐ及びｓは２〜５の整数を表わし、ｑ
は０〜２０の数を表わし、ｍは８〜１２の整数を表わ
し、ｎは６〜１５の整数を表わし、ａは１〜８の整数を
表わし、ｂは５〜１５の整数を表わし、ＹはＯ又はＣＯ
Ｏを表わし、ＺはＯ又は単結合を表わし、＊は不斉炭素
を表わす。） - 【請求項２】 請求項１記載の高分子化合物と低分子の
スメクチック液晶化合物からなり、高分子化合物の分率
が５〜９９重量％である強誘電性液晶組成物。 - 【請求項３】 低分子のスメクチック液晶化合物が強誘
電性液晶化合物である請求項２記載の強誘電性液晶組成
物。
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP35444391A JP3246935B2 (ja) | 1991-12-20 | 1991-12-20 | 新規な高分子化合物及びそれを用いた強誘電性液晶組成物 |
| US07/992,050 US5264517A (en) | 1991-12-20 | 1992-12-17 | High polymer and ferroelectric liquid crystal composition utilizing same |
| EP19920121497 EP0548808A3 (en) | 1991-12-20 | 1992-12-17 | High polymer and ferroelectric liquid crystal composition utilizing same |
| US08/082,381 US5336435A (en) | 1991-12-20 | 1993-06-28 | High polymer and ferroelectric liquid crystal composition utilizing same |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP35444391A JP3246935B2 (ja) | 1991-12-20 | 1991-12-20 | 新規な高分子化合物及びそれを用いた強誘電性液晶組成物 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05170912A JPH05170912A (ja) | 1993-07-09 |
| JP3246935B2 true JP3246935B2 (ja) | 2002-01-15 |
Family
ID=18437603
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP35444391A Expired - Fee Related JP3246935B2 (ja) | 1991-12-20 | 1991-12-20 | 新規な高分子化合物及びそれを用いた強誘電性液晶組成物 |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
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| EP (1) | EP0548808A3 (ja) |
| JP (1) | JP3246935B2 (ja) |
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| JP3246935B2 (ja) * | 1991-12-20 | 2002-01-15 | 出光興産株式会社 | 新規な高分子化合物及びそれを用いた強誘電性液晶組成物 |
| EP0578135A3 (en) * | 1992-07-08 | 1994-09-28 | Idemitsu Kosan Co | High polymer, ferro-electric liquid-crystalline composition containing the high polymer and raw material of the high polymer |
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| US5495037A (en) * | 1994-09-09 | 1996-02-27 | National Science Council | Liquid crystalline polymer having a polysiloxane backbone |
| TWI297089B (en) * | 2002-11-25 | 2008-05-21 | Sipix Imaging Inc | A composition for the preparation of microcups used in a liquid crystal display, a liquid crystal display comprising two or more layers of microcup array and process for its manufacture |
| US8023071B2 (en) * | 2002-11-25 | 2011-09-20 | Sipix Imaging, Inc. | Transmissive or reflective liquid crystal display |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4864033A (en) * | 1985-11-27 | 1989-09-05 | Brigham Young University | Novel liquid crystalline compounds and polymers |
| US5138010A (en) * | 1990-06-25 | 1992-08-11 | University Of Colorado Foundation, Inc. | Fast switching polysiloxane ferroelectric liquid crystals |
| DE4023028A1 (de) * | 1990-07-20 | 1992-01-23 | Hoechst Ag | Ferroelektrische fluessigkristalline si-enthaltende copolymere, ein verfahren zu ihrer herstellung, mischungen dieser copolymere mit niedermolekularen fluessigkristallen und die verwendung in elektrooptischen bauteilen |
| EP0493601B1 (en) * | 1990-07-24 | 1996-03-20 | Idemitsu Kosan Company Limited | Liquid-crystal copolymer, production thereof, diene compound used in said production, and production of said compound |
| US5316693A (en) * | 1991-04-18 | 1994-05-31 | Idemitsu Kosan Co., Ltd. | Liquid crystal composition and information display apparatus using the liquid crystal composition |
| JP3246935B2 (ja) * | 1991-12-20 | 2002-01-15 | 出光興産株式会社 | 新規な高分子化合物及びそれを用いた強誘電性液晶組成物 |
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- 1991-12-20 JP JP35444391A patent/JP3246935B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
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- 1992-12-17 EP EP19920121497 patent/EP0548808A3/en not_active Ceased
- 1992-12-17 US US07/992,050 patent/US5264517A/en not_active Expired - Lifetime
-
1993
- 1993-06-28 US US08/082,381 patent/US5336435A/en not_active Expired - Fee Related
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| Publication number | Publication date |
|---|---|
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| US5264517A (en) | 1993-11-23 |
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| EP0548808A3 (en) | 1993-09-29 |
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