JP2000131816A - 濃縮補充液自動希釈装置及び方法並びに液面管理装置 - Google Patents

濃縮補充液自動希釈装置及び方法並びに液面管理装置

Info

Publication number
JP2000131816A
JP2000131816A JP11161316A JP16131699A JP2000131816A JP 2000131816 A JP2000131816 A JP 2000131816A JP 11161316 A JP11161316 A JP 11161316A JP 16131699 A JP16131699 A JP 16131699A JP 2000131816 A JP2000131816 A JP 2000131816A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
liquid level
replenisher
level
concentrated
detecting
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP11161316A
Other languages
English (en)
Inventor
Takashi Ogiso
孝 小木曽
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujifilm Holdings Corp
Original Assignee
Fuji Photo Film Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Fuji Photo Film Co Ltd filed Critical Fuji Photo Film Co Ltd
Priority to JP11161316A priority Critical patent/JP2000131816A/ja
Priority to US09/376,341 priority patent/US6193424B1/en
Publication of JP2000131816A publication Critical patent/JP2000131816A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03DAPPARATUS FOR PROCESSING EXPOSED PHOTOGRAPHIC MATERIALS; ACCESSORIES THEREFOR
    • G03D3/00Liquid processing apparatus involving immersion; Washing apparatus involving immersion
    • G03D3/02Details of liquid circulation
    • G03D3/06Liquid supply; Liquid circulation outside tanks
    • G03D3/065Liquid supply; Liquid circulation outside tanks replenishment or recovery apparatus

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Photographic Processing Devices Using Wet Methods (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】濃縮補充液を精度よくかつ簡単に希釈すること
ができ、処理剤キットから各種の濃縮補充液を同時に供
給して希釈するシステムにおいて、処理槽に供給される
補充液に含まれる薬品成分の量を理想値にする。 【解決手段】補充タンク80に設けた液面検出器によっ
て補充タンク80内の補充液P1Rが下限レベルL1に
達したことが検出されると、補充剤キット100から種
類の異なる所定量の濃縮補充液をそれぞれ補充タンク8
0、82、84に供給する。また、補充タンク86内の
水PSRを、洗浄ポンプ122、洗浄弁120等を介し
て補充タンク80、82、84を供給し、濃縮補充液を
希釈する。ここで、補充タンク80、82、84にそれ
ぞれ供給される水PSRは、各補充タンクに設けられた
液面検出器によって補充タンク80、82、84内の補
充液P1R、P2RA、P2RBが上限レベルH1、H
2、H3に達したことが検出されると、その供給が停止
される。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は濃縮補充液自動希釈
装置及び方法並びに液面管理装置に係り、特に濃縮補充
液を希釈液によって希釈して所望の補充液を生成する濃
縮補充液自動希釈装置及び方法と、その補充液等の液面
を管理する液面管理装置に関する。
【0002】
【従来の技術】従来より、写真感材処理装置において、
濃縮補充液を補充容器内で希釈して補充液を生成し、こ
れを処理槽に供給するようにしたものは各種提案されて
いる(特開平10−115903号公報参照)。この濃
縮補充液は、製造工場においてボトル等に入れられる
が、その濃縮補充液の容量は高精度に管理されている。
そのため、濃縮補充液を希釈して適正な補充液を生成す
るためには、写真感材処理装置において希釈液の容量を
高精度に管理することが要求される。
【0003】そこで、従来の装置では、濃縮補充液を希
釈する希釈液の容量をフィードバック制御等を用いて精
密に制御していた。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、希釈液
の容量をフィードバック制御等を用いて精密に制御する
場合には制御が煩雑であり、システムが高価になるとい
う問題がある。また、写真感材処理装置に必要な各種の
濃縮補充液(濃縮現像液、濃縮定着液等)を満たした複
数のボトルを有する処理剤キットを使用し、各濃縮補充
液を同時に供給するシステムでは、各補充液が同時に使
い終わることが必要であるが、同時に使い終わるように
制御するのは難しいという問題がある。
【0005】尚、各補充液が同時に使い終わらない場合
には、特定の補充容器が空になったタイミングに合わせ
て他の補充容器の補充液を捨てる等の方法も考えられる
が、近年の低廃液化に伴い補充液の廃液は好ましくな
い。本発明の目的は、濃縮補充液を精度よくかつ簡単に
希釈することができ、また、処理剤キットから各種の濃
縮補充液を同時に供給して希釈するシステムにおいて、
処理槽に供給される補充液に含まれる薬品成分の量を理
想値にすることができる濃縮補充液自動希釈装置及び方
法を提供することにある。
【0006】本発明の他の目的は、液面検出器が故障し
た場合に暴走しないようにすることができる液面管理装
置を提供することにある。
【0007】
【課題を解決する為の手段】前記目的を達成するため
に、本願請求項1に係る発明は、所定量の濃縮補充液を
容器に供給するとともに、該容器に希釈液を供給して補
充液を生成し、該補充液を感光材料の処理槽に供給する
感材処理システムにおいて、所定量の濃縮補充液を容器
に供給するとともに、該容器に希釈液を供給して補充液
を生成し、該補充液を感光材料の処理槽に供給する感材
処理システムにおいて、前記容器内の補充液の液面が下
限レベルに達したことを検出する第1の液面検出手段
と、前記容器内の補充液の液面が上限レベルに達したこ
とを検出する第2の液面検出手段と、前記第1の液面検
出手段による液面検出に基づいて前記濃縮補充液及び希
釈液を前記容器に供給し、前記第2の液面検出手段によ
る液面検出に基づいて前記希釈液の供給を停止する手段
と、を備えたことを特徴としている。即ち、容器内の補
充液の液面が下限レベルに達すると、所定量の濃縮補充
液が容器に供給される。一方、希釈液は、所定量の濃縮
補充液が容器に供給された後も供給され、容器内の補充
液の液面が上限レベルに達すると、その希釈液の供給が
停止される。これにより、所定量の濃縮補充液に対して
適正容量の希釈液を供給することができる。
【0008】本願請求項2に係る発明は、種類の異なる
所定量の濃縮補充液をそれぞれ複数の容器に供給すると
ともに、各容器に希釈液を供給してそれぞれ種類の異な
る補充液を生成し、各補充液を感光材料の対応する処理
槽に供給する感材処理システムにおいて、種類の異なる
所定量の濃縮補充液をそれぞれ複数の容器に供給すると
ともに、各容器に希釈液を供給してそれぞれ種類の異な
る補充液を生成し、各補充液を感光材料の対応する処理
槽に供給する感材処理システムにおいて、前記複数の容
器のうちの少なくとも1つの容器に設けられ、該容器内
の補充液の液面が下限レベルに達したことを検出する第
1の液面検出手段と、前記複数の容器にそれぞれ設けら
れ、該容器内の補充液の液面が上限レベルに達したこと
を検出する第2の液面検出手段と、前記第1の液面検出
手段による液面検出に基づいて前記濃縮補充液及び希釈
液を各容器に供給し、前記第2の液面検出手段による液
面検出に基づいて前記希釈液の供給を停止する手段と、
を備えたことを特徴としている。
【0009】前記第1の液面検出手段によって液面が下
限レベルに達成したことが検出された容器の補充液は、
上記と同様に生成される。一方、複数の容器のうちの他
の容器の補充液は、その残量にかかわらず前記特定の容
器の補充液の生成に同期して生成される。即ち、特定の
容器の補充液が下限レベルになった段階で、全ての容器
に対して濃縮補充液及び希釈液の供給を開始する。各容
器の補充液は、独立した補充ポンプによって各処理槽に
供給されるため、補充量にバラツキが生じる。従って、
上記補充液の生成に際し、補充量の少なかった容器(従
って、残量が多い容器)では、濃い補充液が生成され、
補充量の多かった容器(従って、残量の少ない容器)で
は、薄い補充液が生成される。
【0010】しかしながら、補充液の生成に際し、補充
量の少なかった補充液は濃い補充液として生成され、補
充量の多かった補充液は薄い補充液として生成されるこ
とになり、結果的に処理槽に供給される補充液に含まれ
る薬品成分の量は理想値に収束する。本願請求項3に示
すように、前記濃縮補充液及び希釈液を前記容器に供給
するタイミングは、前記第1の液面検出手段による液面
検出時点又は該液面検出時点から所定のウエイト時間後
であり、前記希釈液の供給を停止するタイミングは、前
記第2の液面検出手段による液面検出時点又は該液面検
出時点から所定のウエイト時間後である。また、本願請
求項4に示すように同一容器内の前記第1の液面検出手
段及び第2の液面検出手段は、1つの液面検出装置から
構成されている。この液面検出装置は、本願請求項5に
示すように絶縁被覆された電線材の金属部分の一部を露
出させて電極とし、感光材料の処理液から電極を保護す
るための導電性樹脂によって前記電極を含む電線材をコ
ーティングして導電性樹脂電極を構成し、前記導電性樹
脂電極に流れる電流に基づいて前記処理液の下限レベル
及び上限レベルを検出する。
【0011】本願請求項6に係る濃縮補充液自動希釈方
法は、容器に貯留されている感光材料の補充液の液面が
下限レベルに達したことを検出するステップと、前記下
限レベルの液面が検出されると、濃縮補充液カートリッ
ジから所定量の濃縮補充液を前記容器に供給するステッ
プと、前記下限レベルの液面が検出されると、希釈液を
前記容器に供給するステップと、前記容器内の補充液の
液面が上限レベルに達したことを検出するステップと、
前記上限レベルの液面が検出されると、前記希釈液の供
給を停止するステップと、を含むことを特徴としてい
る。
【0012】本願請求項7に係る濃縮補充液自動希釈方
法は、容器に貯留されている感光材料の補充液の液面が
下限レベルに達したことを検出するステップと、前記下
限レベルの液面が検出されると、希釈液を前記容器に供
給するステップと、前記容器内の前記希釈液の上限レベ
ルの液面を検出するステップと、前記上限レベルの液面
が検出されると、前記希釈液の供給を停止するステップ
と、前記希釈液の供給を停止したのち、濃縮補充液カー
トリッジから所定量の濃縮補充液を前記容器に供給する
ステップと、を含むことを特徴としている。
【0013】本願請求項8に係る濃縮補充液自動希釈方
法は、それぞれ種類の異なる感光材料の補充液が貯留さ
れている複数の容器のうちの少なくとも1つの容器内の
補充液の液面が下限レベルに達したことを検出するステ
ップと、前記下限レベルの液面が検出されると、濃縮補
充液カートリッジからそれぞれ種類の異なる所定量の濃
縮補充液を前記複数の容器に供給するステップと、前記
下限レベルの液面が検出されると、希釈液をそれぞれ前
記複数の容器に供給するステップと、各容器内の補充液
の液面がそれぞれ上限レベルに達したことを検出するス
テップと、前記上限レベルの液面が検出されると、該上
限レベルの液面が検出された容器への希釈液の供給を停
止するステップと、を含むことを特徴としている。
【0014】本願請求項9に係る濃縮補充液自動希釈方
法は、それぞれ種類の異なる感光材料の補充液が貯留さ
れている複数の容器のうちの少なくとも1つの容器内の
補充液の液面が下限レベルに達したことを検出するステ
ップと、前記下限レベルの液面が検出されると、希釈液
を前記複数の容器にそれぞれ供給するステップと、前記
容器内の前記希釈液の上限レベルの液面を検出するステ
ップと、前記上限レベルの液面が検出されると、前記希
釈液の供給を停止するステップと、前記希釈液の供給を
停止したのち、濃縮補充液カートリッジからそれぞれ種
類の異なる所定量の濃縮補充液を前記複数の容器に供給
するステップと、を含むことを特徴としている。
【0015】前記補充液の液面が下限レベルに達したこ
とを検出するステップは、本願請求項10に示すように
前記複数の補充液のうち最も希釈の精度が要求される補
充液の液面の下限レベルのみを検出することを特徴とし
ている。また、前記補充液の液面が下限レベルに達した
ことを検出するステップは、本願請求項11に示すよう
に前記複数の容器内の補充液の液面のうち最初に下限レ
ベルに達した時点を検出することを特徴としている。
【0016】前記希釈液の前記容器への供給は、本願請
求項12に示すように前記所定量の濃縮補充液の供給が
完了した後に開始することを特徴としている。また、前
記希釈液の前記容器への供給の他の態様は、本願請求項
13に示すように前記所定量の濃縮補充液の供給を開始
してから完了する間に要する時間よりも前記希釈液の供
給を開始してから完了するまでに要する時間が長い場合
には、前記濃縮補充液の供給を同時に開始することを特
徴としている。更に、前記希釈液の前記容器への供給の
更に他の態様は、本願請求項14に示すように一定量の
希釈液を供給したのち停止し、その後、前記所定量の濃
縮補充液が完了したのち、前記希釈液の供給を再開する
ことを特徴としている。
【0017】本願請求項15に係る発明は、液面検出手
段を用いて液面を制御する液面制御装置において、前記
液面検出手段とは異なる位置に予備の液面検出手段を設
け、前記液面検出手段の故障時に前記予備の液面検出手
段によって液面の制御を可能にしたことを特徴としてい
る。前記予備の液面検出手段は、本願請求項16に示す
ように複数の容器の共通のオーバーフローが流れ込む部
分に設けられ、前記複数の容器のうちの少なくとも1つ
の液面検出手段が故障したことを検知することを特徴と
している。即ち、1つの予備の液面検出手段を、複数の
容器の液面検出手段の故障の検知に利用することができ
る。
【0018】
【発明の実施の形態】以下添付図面に従って本発明に係
る濃縮補充液自動希釈装置及び方法並びに液面管理装置
の好ましい実施の形態について詳説する。図1は本発明
が適用された感光材料処理装置10の外観を示す斜視図
であり、図2は前記感光材料処理装置10の内部構造図
である。
【0019】図2に示すように、感光材料処理装置10
は、プリンタ部を構成する写真焼付部12、及びプロセ
ッサ部66等から構成される。前記写真焼付部12に
は、感光材料としての印画紙14が収容されたペーパマ
ガジン16が装填されている。このペーパマガジン16
の図2上左上方には駆動ローラ18、及び一対のニップ
ローラ20、20が設けられており、前記ペーパマガジ
ン16に収容された印画紙14は、前記駆動ローラ18
と一対のニップローラ20、20とに挟持されて写真焼
付部12に向けて送り出される。
【0020】前記駆動ローラ18の図2上右側方には、
カッタ22が配置されている。このカッタ22は上下一
対の刃を有し、これらの刃の間に前記印画紙14が挿通
されている。また、前記一対の刃は、モータ24によっ
て相対的に近づく方向、及び離れる方向に駆動される。
これにより、一対の刃をモータ24によって相対的に近
づく方向に駆動すると、前記印画紙14が一対の刃によ
って切断される。
【0021】前記カッタ22の図2上右側方には、上面
が水平方向に沿うように形成された支持台26が設置さ
れている。この支持台26と前記カッタ22との間に
は、無端ベルト28が巻き掛けられる巻掛ローラ30
と、この巻掛ローラ30との間で無端ベルト28を挟持
するニップローラ32が配設されている。前記無端ベル
ト28には、その全域にわたって多数の小孔(図示せ
ず)が形成されており、また、無端ベルト28の一部が
載置される支持台26の上面にも多数の小孔(図示せ
ず)が形成されている。前記支持台26の内部は空洞状
に形成され、支持台26の下部には、一対のダクト34
(一方のみ図示)を介してファンボックス36に接続さ
れている。したがって、ファンボックス36のファン3
8を駆動して支持台26内のエアを吸引すると、印画紙
14が無端ベルト28を介して支持台26の上面に吸着
保持される。
【0022】前記支持台26上を移動する無端ベルト2
8の上方には、イーゼル装置40が設けられている。こ
のイーゼル装置40の上方には、光を拡散する拡散ボッ
クス41が設置されている。前記拡散ボックス41は図
1、図2に示すように感光材料処理装置10の外枠を構
成するケーシング10Aの上部に設置され、そして、こ
れに隣接してCCフイルタ42が設置されている。この
CCフイルタ42は、光路へ挿入される移動可能なC、
M、Yの3組のフイルタから構成されている。また、C
Cフイルタ42に隣接して光源44が設けられている。
したがって、光源44から照射された光線は、CCフイ
ルタ42を通過した後、拡散ボックス41によって拡散
される。そして、前記光線は、拡散ボックス41内の反
射ミラー46で反射されて真下に送られる。これによ
り、拡散ボックス41の下方に設置されたネガキャリア
48上のネガフイルム50が前記光線に照射される。
【0023】前記写真焼付部12内には、ガイドレール
52に支持された支持板54が水平方向(紙面に対して
直交する方向)に移動可能に設置されている。この支持
板54には、前述した光線の光軸線55上にそれぞれ配
置されるように、プリズム56、及びズームレンズ58
が取り付けられている。したがって、前記ネガフイルム
50を透過して露光光線となった光線は、プリズム56
を通過した後、拡大倍率を変更可能なズームレンズ58
を通過して、イーゼル装置40の下方に位置する印画紙
14に照射される。これにより、印画紙14にネガフイ
ルム50の画像が結像されて画像が印画紙14に焼き付
けられる。
【0024】また、写真焼付部12内には、ネガフイル
ム50の濃度を測定する濃度測定器60が配置されてい
る。この濃度測定器60は、図示しないコントローラに
接続されており、測定されたデータ及びオペレータがキ
ー入力したデータに基づいて、焼付露光時の露光補正値
が設定される。更に、前記ズームレンズ58とイーゼル
装置40の間の光路には、ブラックシャッタ62が設け
られ、このブラックシャッタ62によって焼付露光時間
が調整される。
【0025】以上のような構造の写真焼付部12で画像
の焼付露光が終了した印画紙14は、支持台26の後段
に設置されたローラ群64の複数のローラによって現
像、定着、水洗、及び乾燥の各処理を行うプロセッサ部
66に向けて搬送される。前記プロセッサ部66には、
処理槽としての現像槽68、定着槽70、及び水洗槽7
2が配置され、現像槽68には現像液、定着槽70には
定着液、そして、水洗槽72には水がそれぞれ貯留され
ている。したがって、焼付露光が終了した印画紙14
は、現像槽68の通過中に現像液によって現像処理さ
れ、そして、定着槽70の通過中に定着液によって定着
処理され、そして、水洗槽72の通過中に水によって水
洗処理される。
【0026】水洗処理された印画紙14は、水洗槽72
の上方に位置する乾燥部74に搬送され、乾燥部74を
通過中に熱風によって乾燥される。乾燥された印画紙1
4は、複数のローラ対76に挟持されて感光材料処理装
置10の外部に排出され、図示しないトレイに1枚ずつ
積み重ねられる。以上が、前記感光材料処理装置10に
よる印画紙14の処理の流れである。
【0027】図3には、現像槽68、定着槽70及び水
洗槽72にそれぞれ現像液の補充液P1R、定着液の補
充液P2RA、P2RB、及び水PSRを補充するため
の補充液の経路、及び補充液P1R、P2RA、P2R
Bを生成するための希釈装置等が示されている。同図に
示すように、補充液P1R、P2RA、P2RB、及び
水PSRは、4本の補充タンク80、82、84、86
に貯留されている。これらの補充タンク80、82、8
4、86に貯留された補充液P1R、P2RA、P2R
B、及び水PSRは、それぞれ独立に設けられた補充ポ
ンプ(例えば、ベローズポンプ)90、92、94、9
6を駆動することにより現像槽68、定着槽70及び水
洗槽72に供給される。尚、補充液P2RA、P2RB
は、混合されて定着槽70に供給される。
【0028】上記補充タンク80、82、84内の補充
液P1R、P2RA、P2RBが不足すると、それぞれ
濃縮補充液を希釈液(この実施の形態では補充タンク8
6内の水PSR)によって希釈して各処理液P1R、P
2RA、P2RBを自動生成する。即ち、補充部98に
は、予め補充剤キット100がセットされている。この
補充剤キット100は、補充液P1R、P2RA、P2
RBの各濃縮補充液が、それぞれ所定量貯留された3本
のボトル102、104、106がケースに収納されて
構成されている。尚、ボトル102、104、106の
開口は、所定の力で押されると開栓できるシール材で塞
がれている。
【0029】一方、補充部98には、各ボトル102、
104、106の開口に対向する位置にノズル108、
110、112が配設されており、前記補充剤キット1
00を上下動させる開栓駆動モータ113によって補充
剤キット100を下降させると、前記ノズル108、1
10、112によって各ボトル102、104、106
は自動開栓される。各ボトル102、104、106が
自動開栓されると、各ボトル102、104、106内
の濃縮補充液は、それぞれ配管114、116、118
を介して補充タンク80、82、84に供給される。
【0030】各ノズル108、110、112は、洗浄
弁120及び洗浄ポンプ122を介して水PSRを貯留
する補充タンク86に接続されており、洗浄弁120の
流路の切り替え動作及び開閉動作に基づいて水PSRを
噴射する。この水PSRの噴射によってボトル102、
104、106内が洗浄される。また、各ノズル10
8、110、112からは、ボトル102、104、1
06内の洗浄後も水PSRが噴射され、これにより各補
充タンク80、82、84内に供給された濃縮補充液が
希釈される。尚、上記洗浄動作及び希釈動作の詳細につ
いては後述する。
【0031】さて、補充タンク80には、補充液P1R
の下限レベルL1及び上限レベルH1を検出する2つの
液面検出器が設けられ、補充タンク82、84には補充
液P2RA、P2RBの各上限レベルH2、H3を検出
する液面検出器がそれぞれ設けられ、補充タンク86に
は水PSRの下限レベルL4及び上限レベルH4を検出
する2つの液面検出器が設けられている。
【0032】また、故障等によって補充タンク80、8
2、84、86等から溢れた液は、液受け皿124の共
通のオーバーフローが流れ込む部分124Aに貯留され
るが、この部分124Aにも液面レベルL5を検出する
液面検出器が設けられている。補充タンク80、82、
84に設けられた各液面検出器は、処理液との接触非接
触に基づいて液面を検出する電極スイッチであり、他の
液面検出器はフロートスイッチである。
【0033】図4は上記電極スイッチの実施の形態を示
す図であり、特に検出部としての導電性樹脂電極130
が示されている。この導電性樹脂電極130は、同軸ケ
ーブル132上で第1の電極134と第2の電極136
とを露出させ、これらを導電性樹脂138でコーティン
グして構成されている。即ち、同軸ケーブル132は、
芯線132Aと、芯線132Aを被覆する絶縁体132
Bと、絶縁体132Bを被覆する金属網状のシールド線
132Cと、シールド線132Cを被覆する絶縁体13
2Dとから構成されており、この同軸ケーブル132の
先端の芯線132Aを露出させてこれを第1の電極13
4とし、この第1の電極134から所定の距離離間した
位置にシールド線132Cを露出させこれを第2の電極
136としている。そして、これらの第1の電極13
4、第2の電極136を含む同軸ケーブル132全体を
導電性樹脂138でコーティングして構成されている。
【0034】導電性樹脂138としては、電線に使用さ
れる素材であれば如何なるものでもよいが、感材の処理
液から電極を保護するものとしては、カーボンが混入さ
れたテフロン(ポリフッ化エチレン系繊維)が好まし
い。なお、導電性樹脂138の厚さは、0.2mm程度
であり、第1の電極134と第2の電極136との間に
おいて、適宜の電気抵抗を有する。
【0035】この導電性樹脂電極130は、図示しない
検出回路に接続されるが、このとき、芯線132A側は
アースに接続され、シールド線132C側に液面検出用
の基準電源が接続される。上記構成の電極スイッチによ
る液面の検出動作について説明する。いま、処理液の液
面が、第1の電極134以下の場合には、第1の電極1
34と第2の電極136との間の電気抵抗は、電極間の
導電性樹脂138のみであり、比較的大きな電気抵抗を
有しているため、電極間には微小電流しか流れない。
【0036】その後、処理液の液面が上昇して第1の電
極134よりも高くなると、感材の処理液は比較的良好
な導電性を有しているため、電流は、第1の電極134
と第2の電極136との間の導電性樹脂138のうちの
処理液に浸っている部分を経由せずに主として処理液中
を流れる。即ち、処理液の液面が徐々に上昇すると、第
1の電極134と第2の電極136との間の電気抵抗が
徐々に低下し、電極間を流れる電流が徐々に大きくな
る。そして、処理液の液面が第2の電極136に達する
と、第1の電極134と第2の電極136との間の電気
抵抗が最小になり、電極間を流れる電流が最大になる。
従って、検出回路により第1の電極134と第2の電極
136との間を流れる電流を検出し、その電流の大きさ
に基づいて処理液の液面レベルを検知することができ
る。
【0037】図5は本発明に係る濃縮補充液自動希釈装
置の実施の形態を示すブロック図である。同図に示すよ
うに、この濃縮補充液自動希釈装置は、主として開栓駆
動モータ113、洗浄弁120、洗浄ポンプ122、液
面検出器150、152、154、156、及び中央処
理装置(CPU)158等から構成されている。
【0038】前記液面検出器150及び152は、それ
ぞれ補充タンク80内の補充液P1Rの液面の下限レベ
ルL1及び上限レベルH1を検出するもので、下限レベ
ルL1又は上限レベルH1を検出すると、これらの検出
信号をCPU158に出力する。同様に、液面検出器1
54は、補充タンク82内の補充液P2RAの液面の上
限レベルH2を検出するもので、上限レベルH2を検出
すると、検出信号をCPU158に出力し、液面検出器
156は、補充タンク84内の補充液P2RBの液面の
上限レベルH3を検出するもので、上限レベルH3を検
出すると、検出信号をCPU158に出力する。
【0039】CPU158は、濃縮補充液自動希釈装置
を統括制御するもので、上記液面検出器150、15
2、154、156からの検出出力に基づいてドライバ
160、162、164を介して開栓駆動モータ11
3、洗浄弁120、及び洗浄ポンプ122を制御する。
次に、補充液P1R、P2RA、P2RBを自動生成す
るCPU158の動作について、図6に示すフローチャ
ート及び図7に示す各補充タンク内の補充液の状態を示
す図を参照しながら説明する。尚、この動作には、ボト
ルの洗浄動作及び濃縮補充液の希釈動作が含まれる。
【0040】図7(A)は補充タンク80に設けられた
液面検出器150が、補充液P1Rの下限レベルL1を
検出したときの各補充タンク80、82、84の補充液
P1R、P2RA、P2RBの状態を示している。この
例では、補充タンク82の補充液P2RAの補充量が多
く、補充タンク84の補充液P2RBの補充量が少ない
場合に関して示している。即ち、印画紙14の現像のた
めに消費される現像液は、約45ml/m2 であり、定
着のために消費される定着液は、約35ml/m2 であ
り、印画紙14が所定量処理されると、補充ポンプ9
0、92、94を駆動して補充液P1R及びP2RA、
P2RBが現像槽68及び定着槽70に供給される。と
ころで、上記補充ポンプ90、92、94は、50ml
/30秒のものが使用されるが、各補充ポンプ90、9
2、94の吐出量には誤差があるため、図7(A)に示
したように補充量に誤差が生じる。即ち、補充タンク8
0に設けられた液面検出器150が、補充液P1Rの下
限レベルL1を検出したときに、補充液P2RA、補充
液P2RBの残量が基準の残量と異なることになる。
【0041】さて、図6のフローチャートにおいて、補
充タンク80に設けられた液面検出器150が補充液P
1Rの下限レベルL1を検出すると(ステップS1
0)、CPU158はドライバ160を介して開栓駆動
モータ113を駆動し、図3で説明したように補充剤キ
ット100内の各ボトル102、104、106を自動
開栓する(ステップS12)。これにより、各ボトル1
02、104、106内の濃縮補充液は補充タンク8
0、82、84に供給される(図7(B)参照)。
【0042】次に、各濃縮補充液の供給が完了したか否
かを判別する(ステップS14)。この判別は、ボトル
開栓から所定時間経過したか否かによって行う。各濃縮
補充液の供給が完了すると、まず、ボトル102の洗浄
及び濃縮補充液P1Rの希釈を行う。即ち、洗浄ポンプ
122からノズル108に水PSRが供給されるように
洗浄弁120を切り替え駆動する(ステップS16)。
続いて、ボトル102の洗浄を行う(ステップS1
8)。このボトル102の洗浄は、ノズル108から水
PSRを1秒噴射し、続いて1秒停止し、これを10回
繰り返して行われる。
【0043】洗浄動作が終了すると、補充タンク80に
設けられた液面検出器152が、補充液P1Rの液面が
上限レベルH1に達したことを検出するまで、ノズル1
08から水PSRを連続噴射する(ステップS20、S
22)。これにより、濃縮補充液P1Rの希釈が行われ
る。尚、洗浄に使用した水PSRも希釈水の一部として
使用されていることは言うまでもない。
【0044】ボトル102の洗浄及び濃縮補充液P1R
の希釈が終了すると、同様にしてボトル104の洗浄及
び濃縮補充液P2RAの希釈を行う。即ち、洗浄ポンプ
122からノズル110に水PSRが供給されるように
洗浄弁120を切り替え駆動し(ステップS24)、ボ
トル104の洗浄を行う(ステップS26)。この洗浄
動作が終了すると、補充タンク82に設けられた液面検
出器154が、補充液P2RAの液面が上限レベルH2
に達したことを検出するまで、ノズル110から水PS
Rを連続噴射する(ステップS28、S30)。これに
より、濃縮補充液P2RAの希釈が行われる。
【0045】ボトル104の洗浄及び濃縮補充液P2R
Aの希釈が終了すると、同様にしてボトル106の洗浄
及び濃縮補充液P2RBの希釈を行う。即ち、洗浄ポン
プ122からノズル112に水PSRが供給されるよう
に洗浄弁120を切り替え駆動し(ステップS32)、
ボトル106の洗浄を行う(ステップS34)。この洗
浄動作が終了すると、補充タンク84に設けられた液面
検出器156が、補充液P2RBの液面が上限レベルH
3に達したことを検出するまで、ノズル112から水P
SRを連続噴射する(ステップS36、S38)。これ
により、濃縮補充液P2RBの希釈が行われる。
【0046】上記のように、濃縮補充液P2RAの希釈
終了時点は、補充タンク82に設けた液面検出器154
が補充液P2RAの液面が上限レベルH2に達したこと
を検出したときであり、濃縮補充液P2RBの希釈終了
時点は、補充タンク84に設けた液面検出器156が補
充液P2RBの液面が上限レベルH3に達したことを検
出したときである(図7(C)参照)。
【0047】尚、この実施の形態では、希釈開始時点
は、液面検出器150が補充液P1Rの下限レベルL1
を検出した時点としたが、これに限らず、下限レベルL
1を検出した時点から所定のウエイト時間経過後でもよ
い。また、各補充液の希釈完了時点は、液面検出器15
2、154、156が各補充液の液面が上限レベルH
1、H2、H3に達したことを検出した時点に限らず、
上限レベルH1、H2、H3に達したことを検出した時
点から所定のウエイト時間経過後でもよい。
【0048】図7(D)は補充液P1R、P2RA、P
2RBが自然攪拌又は強制攪拌された状態を示す。同図
(D)に示すように補充量が多い補充タンク82では、
理想濃度よりも薄い補充液P2RAが生成され、補充量
が少ない補充タンク84では、理想濃度よりも濃い補充
液P2RBが生成される。図7(E)は上記のようにし
て生成された補充液P1R、P2RA、P2RBが、再
び現像槽68及び定着槽70に供給され、補充タンク8
0に設けられた液面検出器150が補充液P1Rの下限
レベルL1を検出した状態を示している。即ち、図7
(A)と同じ状態を示している。
【0049】図7(D)と図7(E)との比較からも明
らかなように、薄い補充液P2RAは補充量が多くな
り、濃い補充液P2RBは補充量が少なくなる。従っ
て、結果的に定着槽70に供給される補充液に含まれる
薬品成分の量は理想値に収束する。尚、図3において、
補充タンク86に設けた液面検出器によって水PSRの
下限レベルL4が検出されると、ホッパー88から水が
補充タンク86に供給され、その後、水PSRの上限レ
ベルH4が検出されると、水の供給を停止する。
【0050】また、液受け皿124に設けた液面検出器
により、共通のオーバーフローが流れ込む部分124A
の液面レベルL5が検出されると、各補充タンクへの液
の供給を停止するとともに、各補充タンクの上限レベル
を検出する液面検出器が故障したものと判断し、その故
障の警告表示等を行う。これにより、例えば濃縮補充液
の薄め過ぎを未然に防止することができる。尚、この実
施の形態では、液受け皿124に液面検出器を設けるよ
うにしたが、各補充タンクごとに前記上限レベルH1〜
H4よりも僅かに高い液面を検出する予備の液面検出器
を設けるようにしてもよい。
【0051】更に、この実施の形態では、補充タンク8
0には、補充液P1Rの下限レベルL1及び上限レベル
H1を検出する2つの液面検出器が設けられているが、
1つの液面検出器によって下限レベルL1及び上限レベ
ルH1を検出するようにしてもよい。即ち、図4に示し
た電極スイッチによれば、液位に応じた電気信号が得ら
れるため、適宜の閾値を設定することにより、複数の液
面レベルを検知することができる。
【0052】また、この実施の形態では、補充液P1
R、P2RA、P2RBを順番に自動生成するようにし
たが、同時に希釈するように希釈装置を構成してもよい
し、容器洗浄と希釈とを別の手段で行うようにしてもよ
い。更に、この実施の形態では、補充液P1R、P2R
A、P2RBのうち最も希釈の精度が要求される補充液
P1Rの液面の下限レベルのみを検出するようにした
が、これに限らず、全ての補充液の液面の下限レベルを
それぞれ検出できるようにし、補充液P1R、P2R
A、P2RBのうちのいずれかの液面が下限レベルに達
した時点を希釈開始時点にしてもよい。
【0053】更にまた、この実施の形態では、濃縮補充
液の供給が完了してから希釈液の供給を開始するように
したが、これに限らず、濃縮補充液の供給を開始してか
ら完了する間に要する時間よりも希釈液の供給を開始し
てから完了するまでに要する時間が長い場合には、濃縮
補充液の供給と希釈液の供給とを同時に開始するように
してもよい。また、所望の補充液を自動希釈する際に、
最初に一定量の希釈液を供給し、その後、所定量の濃縮
補充液が完了したのち、希釈液の供給を再開するように
してもよい。
【0054】また、補充液の種類はこの実施の形態に限
定されない。更に、補充液は、複数の濃縮補充液を混合
したものを希釈して生成してもよい。更にまた、濃縮補
充液が収納されている容器はボトルに限らず、要は予め
所定量の濃縮補充液を収納する濃縮補充液カートリッジ
であれば、如何なるものでもよい。
【0055】
【発明の効果】以上説明したように本発明によれば、濃
縮補充液を精度よくかつ簡単に希釈することができ、ま
た、処理剤キットから各種の濃縮補充液を同時に供給し
て希釈するシステムにおいて、簡単な制御により処理槽
に供給される補充液に含まれる薬品成分の量を理想値に
することができる。更に、予備の液面検出器を設けたこ
とにより、正規の液面検出器が故障した場合にタンクか
ら液が大幅に溢れるような不具合を解消することができ
る。
【図面の簡単な説明】
【図1】図1は本発明が適用された感光材料処理装置の
外観を示す斜視図である。
【図2】図2は図1に示した感光材料処理装置の内部構
造図である。
【図3】図3は各処理槽にそれぞれ補充液を補充するた
めの補充液の経路及び補充液を生成するための自動希釈
装置を示す図である。
【図4】図4は補充タンク内の補充液の液面検出器とし
て使用される電極スイッチの要部断面図である。
【図5】図5は本発明に係る濃縮補充液自動希釈装置の
実施の形態を示すブロック図である。
【図6】図6は本発明に係る濃縮補充液自動希釈方法を
示すフローチャートである。
【図7】図7は各補充液を自動生成する処理等を説明す
るために使用した図である。
【符号の説明】
10…感光材料処理装置、12…写真焼付部、14…印
画紙、66…プロセッサ部、68…現像槽、68A、6
8B…配管、70…定着槽、72…水洗槽、80、8
2、84、86…補充タンク、90、92、94、96
…補充ポンプ、100…補充剤キット、102、10
4、106…ボトル、108、110、112…ノズ
ル、120…洗浄弁、122…洗浄ポンプ、124…液
受け皿、130…電極スイッチの導電性樹脂電極、15
0、152、154、156…液面検出器、158…中
央処理装置(CPU)、P1R、P2RA、P2RB…
補充液、PSR…水、L1、L4…下限レベル、H1〜
H4…上限レベル

Claims (16)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 所定量の濃縮補充液を容器に供給すると
    ともに、該容器に希釈液を供給して補充液を生成し、該
    補充液を感光材料の処理槽に供給する感材処理システム
    において、 前記容器内の補充液の液面が下限レベルに達したことを
    検出する第1の液面検出手段と、 前記容器内の補充液の液面が上限レベルに達したことを
    検出する第2の液面検出手段と、 前記第1の液面検出手段による液面検出に基づいて前記
    濃縮補充液及び希釈液を前記容器に供給し、前記第2の
    液面検出手段による液面検出に基づいて前記希釈液の供
    給を停止する手段と、 を備えたことを特徴とする濃縮補充液自動希釈装置。
  2. 【請求項2】 種類の異なる所定量の濃縮補充液をそれ
    ぞれ複数の容器に供給するとともに、各容器に希釈液を
    供給してそれぞれ種類の異なる補充液を生成し、各補充
    液を感光材料の対応する処理槽に供給する感材処理シス
    テムにおいて、 前記複数の容器のうちの少なくとも1つの容器に設けら
    れ、該容器内の補充液の液面が下限レベルに達したこと
    を検出する第1の液面検出手段と、 前記複数の容器にそれぞれ設けられ、該容器内の補充液
    の液面が上限レベルに達したことを検出する第2の液面
    検出手段と、 前記第1の液面検出手段による液面検出に基づいて前記
    濃縮補充液及び希釈液を各容器に供給し、前記第2の液
    面検出手段による液面検出に基づいて前記希釈液の供給
    を停止する手段と、 を備えたことを特徴とする濃縮補充液自動希釈装置。
  3. 【請求項3】 前記濃縮補充液及び希釈液を前記容器に
    供給するタイミングは、前記第1の液面検出手段による
    液面検出時点又は該液面検出時点から所定のウエイト時
    間後であり、前記希釈液の供給を停止するタイミング
    は、前記第2の液面検出手段による液面検出時点又は該
    液面検出時点から所定のウエイト時間後である請求項1
    又は2の濃縮補充液自動希釈装置。
  4. 【請求項4】 同一容器内の前記第1の液面検出手段及
    び第2の液面検出手段は、1つの液面検出装置から構成
    されていることを特徴とする請求項1、2又は3の濃縮
    補充液自動希釈装置。
  5. 【請求項5】 前記液面検出装置は、絶縁被覆された電
    線材の金属部分の一部を露出させて電極とし、感光材料
    の処理液から電極を保護するための導電性樹脂によって
    前記電極を含む電線材をコーティングして導電性樹脂電
    極を構成し、前記導電性樹脂電極に流れる電流に基づい
    て前記処理液の液面の下限レベル及び上限レベルを検出
    することを特徴とする請求項4の濃縮補充液自動希釈装
    置。
  6. 【請求項6】 容器に貯留されている感光材料の補充液
    の液面が下限レベルに達したことを検出するステップ
    と、 前記下限レベルの液面が検出されると、濃縮補充液カー
    トリッジから所定量の濃縮補充液を前記容器に供給する
    ステップと、 前記下限レベルの液面が検出されると、希釈液を前記容
    器に供給するステップと、 前記容器内の補充液の液面が上限レベルに達したことを
    検出するステップと、 前記上限レベルの液面が検出されると、前記希釈液の供
    給を停止するステップと、 を含むことを特徴とする濃縮補充液自動希釈方法。
  7. 【請求項7】 容器に貯留されている感光材料の補充液
    の液面が下限レベルに達したことを検出するステップ
    と、 前記下限レベルの液面が検出されると、希釈液を前記容
    器に供給するステップと、 前記容器内の前記希釈液の上限レベルの液面を検出する
    ステップと、 前記上限レベルの液面が検出されると、前記希釈液の供
    給を停止するステップと、 前記希釈液の供給を停止したのち、濃縮補充液カートリ
    ッジから所定量の濃縮補充液を前記容器に供給するステ
    ップと、 を含むことを特徴とする濃縮補充液自動希釈方法。
  8. 【請求項8】 それぞれ種類の異なる感光材料の補充液
    が貯留されている複数の容器のうちの少なくとも1つの
    容器内の補充液の液面が下限レベルに達したことを検出
    するステップと、 前記下限レベルの液面が検出されると、濃縮補充液カー
    トリッジからそれぞれ種類の異なる所定量の濃縮補充液
    を前記複数の容器に供給するステップと、 前記下限レベルの液面が検出されると、希釈液をそれぞ
    れ前記複数の容器に供給するステップと、 各容器内の補充液の液面がそれぞれ上限レベルに達した
    ことを検出するステップと、 前記上限レベルの液面が検出されると、該上限レベルの
    液面が検出された容器への希釈液の供給を停止するステ
    ップと、 を含むことを特徴とする濃縮補充液自動希釈方法。
  9. 【請求項9】 それぞれ種類の異なる感光材料の補充液
    が貯留されている複数の容器のうちの少なくとも1つの
    容器内の補充液の液面が下限レベルに達したことを検出
    するステップと、 前記下限レベルの液面が検出されると、希釈液を前記複
    数の容器にそれぞれ供給するステップと、 前記容器内の前記希釈液の上限レベルの液面を検出する
    ステップと、 前記上限レベルの液面が検出されると、前記希釈液の供
    給を停止するステップと、 前記希釈液の供給を停止したのち、濃縮補充液カートリ
    ッジからそれぞれ種類の異なる所定量の濃縮補充液を前
    記複数の容器に供給するステップと、 を含むことを特徴とする濃縮補充液自動希釈方法。
  10. 【請求項10】 前記補充液の液面が下限レベルに達し
    たことを検出するステップは、前記複数の補充液のうち
    最も希釈の精度が要求される補充液の液面の下限レベル
    のみを検出することを特徴とする請求項8又は9の濃縮
    補充液自動希釈方法。
  11. 【請求項11】 前記補充液の液面が下限レベルに達し
    たことを検出するステップは、前記複数の容器内の補充
    液の液面のうち最初に下限レベルに達した時点を検出す
    ることを特徴とする請求項8又は9の濃縮補充液自動希
    釈方法。
  12. 【請求項12】 前記希釈液の前記容器への供給は、前
    記所定量の濃縮補充液の供給が完了した後に開始するこ
    とを特徴とする請求項6又は8の濃縮補充液自動希釈方
    法。
  13. 【請求項13】 前記所定量の濃縮補充液の供給を開始
    してから完了する間に要する時間よりも前記希釈液の供
    給を開始してから完了するまでに要する時間が長い場合
    には、前記濃縮補充液及び希釈液の供給を同時に開始す
    ることを特徴とする請求項6又は8の濃縮補充液自動希
    釈方法。
  14. 【請求項14】 前記希釈液の前記容器への供給は、一
    定量の希釈液を供給したのち停止し、その後、前記所定
    量の濃縮補充液が完了したのち、前記希釈液の供給を再
    開することを特徴とする請求項6又は8の濃縮補充液自
    動希釈方法。
  15. 【請求項15】 液面検出手段を用いて液面を制御する
    液面制御装置において、前記液面検出手段とは異なる位
    置に予備の液面検出手段を設け、前記液面検出手段の故
    障時に前記予備の液面検出手段によって液面の制御を可
    能にしたことを特徴とする液面管理装置。
  16. 【請求項16】 前記予備の液面検出手段は、複数の容
    器の共通のオーバーフローが流れ込む部分に設けられ、
    前記複数の容器のうちの少なくとも1つの液面検出手段
    が故障したことを検知することを特徴とする請求項15
    の液面管理装置。
JP11161316A 1998-08-19 1999-06-08 濃縮補充液自動希釈装置及び方法並びに液面管理装置 Pending JP2000131816A (ja)

Priority Applications (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP11161316A JP2000131816A (ja) 1998-08-19 1999-06-08 濃縮補充液自動希釈装置及び方法並びに液面管理装置
US09/376,341 US6193424B1 (en) 1998-08-19 1999-08-18 Apparatus and method for automatically diluting concentrated replenishers and liquid level control apparatus

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP10-233239 1998-08-19
JP23323998 1998-08-19
JP11161316A JP2000131816A (ja) 1998-08-19 1999-06-08 濃縮補充液自動希釈装置及び方法並びに液面管理装置

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2000131816A true JP2000131816A (ja) 2000-05-12

Family

ID=26487490

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP11161316A Pending JP2000131816A (ja) 1998-08-19 1999-06-08 濃縮補充液自動希釈装置及び方法並びに液面管理装置

Country Status (2)

Country Link
US (1) US6193424B1 (ja)
JP (1) JP2000131816A (ja)

Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE10162748A1 (de) * 2001-12-20 2003-07-17 Agfa Gevaert Ag Gebinde für Verarbeitungschemikalien
US7014373B2 (en) * 2003-11-25 2006-03-21 Eastman Kodak Company Photographic processing arrangement and a processing solution supply cartridge for the processing arrangement
CN112941957A (zh) * 2020-10-12 2021-06-11 郭金武 一种自动控制浸渍量的碳纸连续生产方法

Family Cites Families (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4027534A (en) * 1976-01-05 1977-06-07 Gustav F. Gerdts Kg Electrode device for monitoring liquid levels
US4165186A (en) * 1976-11-15 1979-08-21 Lyle J. Bricker Photographic chemical mixing system
US4151854A (en) * 1977-08-25 1979-05-01 Inland Newspaper Machinery Corporation Method and apparatus for mixing and supplying fountain solution to printing presses
US5353085A (en) * 1991-12-28 1994-10-04 Konica Corporation Automatic processor for processing silver halide photographic light-sensitive material
FR2694396B1 (fr) * 1992-07-30 1994-09-30 Guillemot Gilbert Dispositif de détection de deux niveaux d'un liquide.
DE4445152A1 (de) * 1994-12-17 1996-06-20 Kodak Ag Vorrichtung zur Entleerung und Innenreinigung fotografischer Chemikalienbehälter in eine Mischkammer
US5797057A (en) * 1996-03-25 1998-08-18 Noritsu Koki Co., Ltd. Method of water replenishment for an automatic developing apparatus and device therefor
US5930550A (en) * 1996-10-09 1999-07-27 Fuji Photo Film Co., Ltd. Processing agent introducing apparatus
JPH10115903A (ja) 1996-10-09 1998-05-06 Fuji Photo Film Co Ltd 処理剤補給装置

Also Published As

Publication number Publication date
US6193424B1 (en) 2001-02-27

Similar Documents

Publication Publication Date Title
EP0851301B1 (en) Developing liquid supplying device
JP2000131816A (ja) 濃縮補充液自動希釈装置及び方法並びに液面管理装置
JP2000047358A (ja) 感光材料処理装置
US5614979A (en) Replenishing device and method of detecting failures produced therein
JPH10115904A (ja) 処理剤補給装置
JP2000002579A (ja) 感光材料処理装置の液面検出装置
JP3566421B2 (ja) 感光材料処理装置
JPH10115903A (ja) 処理剤補給装置
JP3838398B2 (ja) 液面検出装置及び感光材料処理装置
JP2000066354A (ja) 感光材料処理装置の処理液補充タンク
JP4090573B2 (ja) 感光材料処理液補充装置
JP2000003003A (ja) 感光材料処理装置用槽
JP3321307B2 (ja) 廃剤貯留装置及び廃剤貯留装置の廃剤容量検出方法
JP4359403B2 (ja) 処理液の調整方法及び感光材料処理装置
JP3545509B2 (ja) 感光材料処理装置
JPH1039480A (ja) 補充液補充方法及び感光材料処理装置
JP2000066351A (ja) 循環ポンプの制御方法及び装置
JP3349266B2 (ja) 感光材料処理装置
JPH10198000A (ja) 写真処理剤用容器及び写真処理剤供給方法
JPH10197999A (ja) 写真処理剤用容器
JP3511424B2 (ja) 感光材料処理装置
JPH04260037A (ja) 写真感光材料の処理装置
JPH11194466A (ja) 写真材料を処理する方法及び装置
JPH09304904A (ja) 補充装置
JPH0862816A (ja) 感光材料処理方法及び装置