JP2000105478A - 電子写真感光体、プロセスカ―トリッジ及び電子写真装置 - Google Patents
電子写真感光体、プロセスカ―トリッジ及び電子写真装置Info
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Abstract
性を有し、かつフォトメモリーが小さく繰り返し使用時
の電位変動の小さい電子写真感光体を提供し、実用的で
安定した高画質な出力画像が得られるプロセスカートリ
ッジ及び電子写真装置を提供する。 【解決手段】 380〜500nmの波長を有する半導
体レーザー光を照射され、支持体上に感光層を有し、感
光層が式(1)で示されるアゾ顔料を含有する電子写真
感光体、プロセスカートリッジ及び電子写真装置。 【化1】 (式中、Arは直接あるいは結合基を介して結合しても
よい、置換もしくは無置換の芳香族炭化水素環基または
複素環基を表し、Cpはフェノール性水酸基を有するカ
プラー残基を表し、nは1〜3の整数を表す。−N=N
−Cpが同一ベンゼン環に複数個結合することはない)
Description
プロセスカートリッジ及び電子写真装置に関し、詳しく
は画像の高解像度化が可能な短波長の半導体レーザーに
適した電子写真感光体、プロセスカートリッジ及び電子
写真装置に関する。
れるレーザーを光源として使用している電子写真装置に
おいて使用されているレーザーは、800nm付近ある
いは680nm付近に発振波長を有する半導体レーザー
が主流である。近年、出力画像の高画質化のニーズの高
まりから、高解像度化に向けた様々なアプローチがなさ
れている。レーザーの波長もこの高解像度化に深く関わ
っており、特開平9−240051号公報にも記載され
ているように、レーザーの発振波長が短くなるほど、レ
ーザーのスポット径を小さくすることが可能となり、高
解像度の潜像形成が可能となる。
かの手法が挙げられる。一つは、非線形光学材料を利用
し、第2高調波発生(SHG)を用いてレーザー光の波
長を2分の1にするものである(特開平9−27524
2号公報、特開平9−189930号公報、特開平5−
313033号公報など)。この系は、一次光源とし
て、既に技術が確立し高出力可能なGaAs系半導体レ
ーザーやYAGレーザーを使用することができるため、
長寿命化や大出力化が可能である。
るもので、SHG利用のデバイスと比べ、装置の小型化
が可能である。ZnSe系半導体レーザー(特開平7−
321409号公報、特開平6−334272号公報な
ど)や、GaN系半導体レーザー(特開平8−8844
1号公報、特開平7−335975号公報など)が、そ
の発光効率の高さから、以前から多くの研究の対象とな
っている。
成長条件及び電極などの最適化が難しく、結晶中の欠陥
などにより、実用化に必須である室温での長時間発振が
困難であった。
97年10月には日亜化学工業から、GaN系半導体レ
ーザーで1150時間連続発振(50℃条件)が報告さ
れるなど、実用化が目前に迫っている状態である。
1号公報には、400〜500nmのレーザーに適した
感光体として、α型チタニルフタロシアニンを用いた単
層ないしは電荷発生層を最表面層とした積層感光体が開
示されているが、本発明者らの検討によれば、この材料
を用いた場合、感度が悪い上に、特に400nm付近の
光に対するメモリーが非常に大きいため、繰り返し使用
した際の感光体の電位変動が大きいという問題があるこ
とが分かった。
長域でも高い感度特性を有し、かつ光メモリーが小さく
繰り返し使用時の電位変動の小さい電子写真感光体及び
これを有するプロセスカートリッジを提供し、またこの
感光体と短波長レーザーを使用することによって、実用
的で安定して高画質な出力画像が得られる電子写真装置
を提供することにある。
上に感光層を有する電子写真感光体において、該電子写
真感光体が380〜500nmの波長を有する半導体レ
ーザー光を照射され、かつ、該感光層が下記式(1)で
示されるアゾ顔料を含有する電子写真感光体が提供され
る。
てもよい、置換もしくは無置換の芳香族炭化水素環基ま
たは複素環基を表し、Cpは下記式(2)、(3)、
(4)または(5)で示されるカプラー残基を表し、n
は1〜3の整数を表す。ただし、−N=N−Cpが同一
ベンゼン環に複数個結合することはない。)
素環を形成するのに必要な残基を表し、R1及びR2は水
素原子、置換もしくは無置換のアルキル基、置換もしく
は無置換のアリール基または置換もしくは無置換の複素
環基を表す。また、R1とR2は式中の窒素原子を介して
環状アミノ基を形成してもよい。Z1は酸素原子または
硫黄原子を表し、m1は0または1を表す。)
素環基または置換もしくは無置換の2価の含窒素複素環
基を表す。)
ルボキシル基、アルコキシカルボニル基、カルバモイル
基またはニトロ基を表し、R4は置換もしくは無置換の
アルキル基または置換もしくは無置換のアリール基を表
し、R5はハロゲン原子、置換もしくは無置換のアルキ
ル基、置換もしくは無置換のアルコキシ基、シアノ基ま
たはニトロ基を表し、lは0〜2の整数を表し、l=2
の時、R5は相異なる基であってもよい。)
アルキル基、置換もしくは無置換のアリール基または置
換もしくは無置換の複素環基を表す。また、R6とR7は
式中の窒素原子を介して環状アミノ基を形成してもよ
い。Z2は酸素原子または硫黄原子を表し、m2は0また
は1を表す。)
するプロセスカートリッジである。
光光源として短波長半導体レーザーを有する電子写真装
置である。
細に説明する。
タレン、フルオレン、フェナンスレン、アントラセン及
びピレンなどの芳香族炭化水素環、フラン、チオフェ
ン、ピリジン、インドール、ベンゾチアゾール、カルバ
ゾール、アクリドン、ジベンゾチオフェン、ベンゾオキ
サゾール、オキサジアゾール及びチアゾールなどの複素
環、更に上記芳香族炭化水素環または複素環を直接ある
いは芳香族性基または非芳香族性基で結合したもの、例
えば、ビフェニル、ビナフチル、ジフェニルアミン、ト
リフェニルアミン、N−メチルジフェニルアミン、フル
オレノン、フェナンスレンキノン、アントラキノン、ベ
ンズアンスロン、ターフェニル、ジフェニルオキサジア
ゾール、スチルベン、ジスチリルベンゼン、アゾベンゼ
ン、アゾキシベンゼン、フェニルベンズオキサゾール、
ジフェニルメタン、ジフェニルスルホン、ジフェニルエ
ーテル、ベンゾフェノン、テトラフェニル−p−フェニ
レンジアミン、テトラフェニルベンジジン、N−フェニ
ル−2−ピリジルアミン及びN,N−ジフェニル−2−
ピリジルアミンなどの基が挙げられる。
は、メチル、エチル、プロピル及びブチルなどのアルキ
ル基、メトキシ、エトキシ及びプロポキシなどのアルコ
キシ基、フッ素原子、塩素原子及び臭素原子などのハロ
ゲン原子、ジメチルアミノ及びジエチルアミノなどのジ
アルキルアミノ基、水酸基、ニトロ基、シアノ基及びハ
ロメチル基などが挙げられる。
ては、メチル、エチル及びプロピルなどの基、アリール
基としてはフェニル、ナフチル及びアンスリルなどの
基、複素環基としてはピリジル、チエニル、カルバゾリ
ル、ベンゾイミダゾリル及びベンゾチアゾリルなどの
基、窒素原子を環内に含む環状アミノ基としてはピロー
ル、ピロリン、ピロリジン、ピロリドン、インドール、
インドリン、カルバゾール、イミダゾール、ピラゾー
ル、ピリゾリン、オキサジン及びフェノキサジンなどが
挙げられる。
は、メチル、エチル、プロピル及びブチルなどのアルキ
ル基、メトキシ、エトキシ及びプロポキシなどのアルコ
キシ基、フッ素原子、塩素原子及び臭素原子などのハロ
ゲン原子、ジメチルアミノ及びジエチルアミノなどのジ
アルキルアミノ基、フェニルカルバモイル基、ニトロ
基、シアノ基及びトリフルオロメチルなどのハロメチル
基などが挙げられる。
原子であり、他方が置換基を有してもよいフェニル基の
場合が感度上好ましく、更にフェニル基の置換基は、ア
ルキル基、ハロゲン原子及びフェニルカルバモイル基が
好ましい。なお、このフェニルカルバモイル基のフェニ
ル基は前述のような置換基を更に有していてもよい。
基及び含窒素複素環基としては、o−フェニレン、o−
ナフチレン、ペリナフチレン、1,2−アンスリル、
3,4−ピラゾールジイル、2,3−ピリジンジイル、
4,5−ピリジンジイル、6,7−イミダゾールジイル
及び6,7−キノリンジイルなどの2価の基が挙げられ
る。
ル、エチル、プロピル及びブチルなどのアルキル基、メ
トキシ、エトキシ及びプロポキシなどのアルコキシ基、
フッ素原子、塩素原子及び臭素原子などのハロゲン原
子、ジメチルアミノ及びジエチルアミノなどのジアルキ
ルアミノ基、水酸基、ニトロ基、シアノ基及びハロメチ
ル基などが挙げられる。
原子としては、塩素及び臭素など、アルコキシカルボニ
ル基としては、メトキシカルボニル基及びエトキシカル
ボニル基など、カルバモイル基としては、カルバモイル
基及びフェニルカルバモイル基など、アルキル基として
は、メチル基、エチル基及びプロピル基など、アルコキ
シ基としては、メトキシ基及びエトキシ基など、アリー
ル基としては、フェニル基、ナフチル基及びアンスリル
基などが挙げられる。
は、メチル、エチル、プロピル及びブチルなどのアルキ
ル基、メトキシ、エトキシ及びプロポキシなどのアルコ
キシ基、フッ素原子、塩素原子及び臭素原子などのハロ
ゲン原子、ジメチルアミノ及びジエチルアミノなどのジ
アルキルアミノ基、水酸基、ニトロ基、シアノ基及びハ
ロメチル基などが挙げられる。
ては、メチル、エチル及びプロピルなどの基、アリール
基としてはフェニル、ナフチル及びアンスリルなどの
基、複素環基としてはピリジル、チエニル、カルバゾリ
ル、ベンゾイミダゾリル及びベンゾチアゾリルなどの
基、窒素原子を環内に含む環状アミノ基としてはピロー
ル、ピロリン、ピロリジン、ピロリドン、インドール、
インドリン、カルバゾール、イミダゾール、ピラゾー
ル、ピリゾリン、オキサジン及びフェノキサジンなどが
挙げられる。
は、メチル、エチル、プロピル及びブチルなどのアルキ
ル基、メトキシ、エトキシ及びプロポキシなどのアルコ
キシ基、フッ素原子、塩素原子及び臭素原子などのハロ
ゲン原子、ジメチルアミノ及びジエチルアミノなどのジ
アルキルアミノ基、水酸基、ニトロ基、シアノ基及びハ
ロメチル基などが挙げられる。
原子であり、他方が置換基を有してもよいフェニル基の
場合が感度上好ましく、更にフェニル基の置換基は、ア
ルキル基、ハロゲン原子及びフェニルカルバモイル基が
好ましい。なお、このフェニルカルバモイル基のフェニ
ル基は前述のような置換基を更に有していてもよい。
好ましい化合物例を列挙する。構造式は、式(1)のA
r、Cpに相当する部分のみを記載した。なお、nが2
または3の場合でCpが相異なる場合はCp1、Cp2
及びCp3としてその構造を示した。
13、2−15、2−16、2−25、2−28、3−
16、3−17及び4−4が好ましく、特には、2−1
3、3−16及び3−17が好ましく、更には感度の安
定性の点で3−16及び3−17が好ましい。
しく説明する。
図3に示されるような公知のいかなる構成であってもさ
しつかえないが、図1の構成であることが好ましい。図
中、aは支持体、bは感光層、cは電荷発生層、dは電
荷輸送層、eは電荷発生材料(式(1)で示されるアゾ
顔料)を示す。特開平9−240051号公報には、図
1のような支持体上に電荷発生層と電荷輸送層をこの順
に積層した感光体では、400〜500nmの光は電荷
輸送材料に吸収され、電荷発生層まで光が届かないた
め、原理上感度を示さないとあるが、必ずしもそのよう
なことはなく、電荷輸送層に使用される電荷輸送材料と
してレーザーの発振波長に透過性のある電荷輸送材料を
用いれば、上記構成の電子写真感光体でも十分な感度が
得られ使用可能である。
とを積層した機能分離型感光体について、その作成方法
を述べる。
(1)で示されるアゾ顔料を適当な溶剤中でバインダー
樹脂と共に分散した液を支持体上に公知の方法によって
塗布し乾燥することによって形成される。その膜厚は、
5μm以下であることが好ましく、特には0.1〜1μ
mであることが好ましい。
な絶縁性樹脂あるいは有機光導電性ポリマーから選択さ
れるが、ポリビニルブチラール、ポリビニルベンザー
ル、ポリアリレート、ポリカーボネート、ポリエステ
ル、フェノキシ樹脂、セルロース系樹脂、アクリル樹脂
及びポリウレタンなどが好ましく、これらの樹脂は置換
基を有してもよく、置換基としてはハロゲン原子、アル
キル基、アルコキシ基、ニトロ基、シアノ基及びトリフ
ルオロメチル基などが好ましい。また、バインダー樹脂
の使用量は、電荷発生層全重量に対し、好ましくは80
重量%以下、より好ましくは40重量%以下である。
解し、後述の電荷輸送層や下引き層を溶解しないものか
ら選択することが好ましい。具体的には、テトラヒドロ
フラン及び1,4−ジオキサンなどのエーテル類、シク
ロヘキサノン及びメチルエチルケトンなどのケトン類、
N,N−ジメチルホルムアミドなどのアミン類、酢酸メ
チル及び酢酸エチルなどのエステル類、トルエン、キシ
レン及びクロロベンゼンなどの芳香族類、メタノール、
エタノール及び2−プロパノールなどのアルコール類、
クロロホルム、塩化メチレン、ジクロロエチレン、四塩
化炭素及びトリクロロエチレンなどの脂肪族ハロゲン化
炭化水素類などが挙げられる。
積層され、電界の存在下にて電荷発生層から電荷キャリ
アを受け取り、これを輸送する機能を有している。電荷
輸送層は、電荷輸送材料を必要に応じて適当なバインダ
ー樹脂と共に溶剤中に溶解した塗布液を塗布することに
よって形成される。その膜厚は、5〜40μmであるこ
とが好ましく、特には15〜30μmであること好まし
い。
送性材料があり、電子輸送性材料としては、例えば、
2,4,7−トリニトロフルオレノン、2,4,5,7
−テトラニトロフルオレノン、クロラニル及びテトラシ
アノキノジメタンなどの電子吸引性材料やこれらの電子
吸引性材料を高分子化したものなどが挙げられる。
びアントラセンなどの多環芳香族化合物、カルバゾール
系、インドール系、オキサゾール系、チアゾール系、オ
キサジアゾール系、ピラゾール系、ピラゾリン系、チア
ジアゾール系及びトリアゾール系化合物などの複素環化
合物、ヒドラゾン系化合物、スチリル系化合物、ベンジ
ジン系化合物、トリアリールメタン系化合物及びトリフ
ェニルアミン系化合物、あるいはこれらの化合物からな
る基を主鎖又は側鎖に有するポリマー(例えば、ポリ−
N−ビニルカルバゾール及びポリビニルアントラセンな
ど)が挙げられる。
2種以上組み合わせて用いることができる。電荷輸送材
料が成膜性を有していない時には、適当なバインダー樹
脂を用いることができる。具体的には、アクリル樹脂、
ポリアリレート、ポリカーボネート、ポリエステル、ポ
リスチレン、アクリロニトリル−スチレンコポリマー、
ポリアクリルアミド、ポリアミド、塩素化ゴムなどの絶
縁性樹脂あるいはポリ−N−ビニルカルバゾール及びポ
リビニルアントラセンなどの有機光導電性ポリマーなど
が挙げられる。
用する場合は、前述の通り使用する半導体レーザーの発
振波長に対して透過性のある電荷輸送材料やバインダー
樹脂を選択する必要がある。
えば、アルミニウム、アルミニウム合金、銅、亜鉛、ス
テンレス、バナジウム、モリブデン、クロム、チタン、
ニッケル、インジウム、金や白金などが挙げられる。ま
た、これらの金属または合金を真空蒸着法によって被膜
形成したプラスチック(例えば、ポリエチレン、ポリプ
ロピレン、ポリ塩化ビニル、ポリエチレンテレフタレー
ト及びアクリル樹脂など)や導電性粒子(例えば、カー
ボンブラック及び銀粒子など)を適当なバインダー樹脂
と共に上記のようなプラスチック、金属または合金上に
被覆した支持体あるいは導電性粒子をプラスチックや紙
に含浸させた支持体などを用いることができる。形状と
しては、ドラム状、シート状及びベルト状などが挙げら
れる。
にバリヤー機能と接着機能を有する下引き層を設けるこ
ともできる。
的悪影響から保護することなどを目的として、保護層を
設けることもできる。
や紫外線吸収剤などの添加剤を使用してもさしつかえな
い。
て380〜500nmの発振波長を有する半導体レーザ
ーを有していればよく、他の構成は特に制限されるもの
ではない。また、半導体レーザーも発振波長が上記の範
囲内であれば、他の構成は特に限定されるものではな
い。なお、本発明においては、半導体レーザーの発振波
長が400〜450nmであることが、電子写真特性の
点で好ましい。
段、転写手段及びクリーニング手段も特に限定されるも
のではない。
ロセスカートリッジを有する電子写真装置の概略構成を
示す。
写真感光体であり、軸2を中心に矢印方向に所定の周速
度で回転駆動される。感光体1は、回転過程において、
一次帯電手段3によりその周面に正または負の所定電位
の均一帯電を受け、次いで、380〜500nmに発振
波長を有する半導体レーザーを用いた露光手段(不図
示)からの露光光4を受ける。こうして感光体1の周面
に静電潜像が順次形成されていく。
によりトナー現像され、現像されたトナー現像像は、不
図示の給紙部から感光体1と転写手段6との間に感光体
1の回転と同期して取り出されて給紙された転写材7
に、転写手段6により順次転写されていく。
分離されて像定着手段8へ導入されて像定着を受けるこ
とにより複写物(コピー)として装置外へプリントアウ
トされる。
グ手段9によって転写残りトナーの除去を受けて清浄面
化され、更に前露光手段(不図示)からの前露光光10
により除電処理された後、繰り返し画像形成に使用され
る。なお、図においては、一次帯電手段3が帯電ローラ
ーを用いた接触帯電手段であるので、前露光は必ずしも
必要ではない。
1、一次帯電手段3、現像手段5及びクリーニング手段
9などの構成要素のうち、複数のものをプロセスカート
リッジとして一体に結合して構成し、このプロセスカー
トリッジを複写機やレーザービームプリンターなどの電
子写真装置本体に対して着脱自在の構成してもよい。例
えば、一次帯電手段3、現像手段5及びクリーニング手
段9の少なくとも一つを感光体1と共に一体に支持して
カートリッジ化して、装置本体のレール12などの案内
手段を用いて装置本体に着脱可能なプロセスカートリッ
ジ11とすることができる。
明する。なお実施例中の「部」は重量部を示す。
1)アルミニウム支持体上にメトキシメチル化ナイロン
(重量平均分子量32000)5gとアルコール可溶性
共重合ナイロン(重量平均分子量29000)10gを
メタノール95gに溶解した液をマイヤーバーで塗布
し、乾燥することによって、膜厚が1μmの下引き層を
形成した。
gをシクロヘキサノン95gにブチラール樹脂(ブチラ
ール化度63モル%、重量平均分子量35000)2g
を溶かした溶液に加え、サンドミルを用いて20時間分
散した。この分散液を下引き層上にマイヤーバーで塗布
し、乾燥することによって、膜厚が0.2μmの電荷発
生層を形成した。
料5g
5gをモノクロロベンゼン40gに溶解した溶液を電荷
発生層上にマイヤーバーで塗布し、乾燥することによっ
て、膜厚が25μmの電荷輸送層を形成した。
を、静電複写紙試験装置(川口電機製:EPA−810
0)を用いて、以下のように評価した。
00Vになるようにコロナ帯電器で帯電し、次いでモノ
クロメータで分離した400nmの単色光で露光し、表
面電位が−350Vまで減衰するのに必要な光量を測定
し、感度(E1/2)を求めた。同様にして、450n
m、500nmの単色光における感度を測定した。
d)及び初期明部電位(Vl)をそれぞれ−700V、
−200V付近に設定し、400nmの単色光を用いて
帯電、露光を3000回繰り返し、Vd、Vlの変動量
(ΔVd、ΔVl)を測定した。
Vd、400nmの単色光での初期Vlをそれぞれ−7
00V、−200V付近に設定した。次に、電子写真感
光体の一部に光強度20μW/cm2の400nmの単
色光を15分間照射した後、再度電子写真感光体のV
d、Vlを測定し、フォトメモリーとして非照射部と照
射部のVdの差(ΔVdPM)及び非照射部と照射部のV
lの差(ΔVlPM)を測定した。
ニルフタロシアニンに代えた以外は、実施例1−1と同
様にして電子写真感光体を作成し、評価した。
メモリーにおけるマイナス記号は電位の絶対値の低下を
表し、プラス記号は電位の絶対値の上昇を表す。
−2)電荷輸送材料を下記化合物に代えた以外は、実施
例1−1〜1−10及び比較例1−1と同様にして電子
写真感光体を作成し、評価を行った。これらの結果を表
1−2に示す。
−3)電荷発生層と電荷輸送層の上下関係を逆にした以
外は、実施例1−1〜1−10及び比較例1−1と同様
にして電子写真感光体を作成し、実施例1−1と同様に
して初期の感度を測定した。ただし電荷輸送材料は下記
構造式の化合物に代え、帯電極性はプラスとした。これ
らの結果を表1−3に示す。
光体は、比較例の感光体に比べ短波長レーザーの発振波
長領域での感度が非常に優れている上、短波長光に対す
るフォトメモリーが小さく、繰り返し使用時の電位や感
度の安定性に優れていることがわかる。
アンチモンを含有する酸化スズで被覆した酸化チタン粉
体50部、レゾール型フェノール樹脂25部、メチルセ
ロソルブ20部、メタノール5部及びシリコーンオイル
(ポリジメチルシロキサンポリオキシアルキレン共重合
体、平均分子量3000)0.002部をφ1mmガラ
スビーズを用いたサンドミル装置で2時間分散して導電
層用塗料を調製した。この塗料をアルミニウムシリンダ
ー上に浸漬塗布し、140℃で30分間乾燥することに
よって、膜厚が20μmの導電層を形成した。
共重合体樹脂5部をメタノール70部/ブタノール25
部の混合溶媒に溶解した。この溶液を導電層上に浸漬塗
布し、乾燥することによって、膜厚が0.8μmの下引
き層を設けた。
リビニルブチラール樹脂(商品名:エスレックBM−
S、積水化学社製)5部をシクロヘキサノン100部に
溶解した液に添加し、φ1mmのガラスビーズを用いた
サンドミル装置で20時間分散し、更に100部のメチ
ルエチルケトンを加えて、希釈した。この液を下引き層
上に浸漬塗布し、100℃で10分間乾燥することによ
って、膜厚が0.2μmの電荷発生層を形成した。
9部とビスフェノールZ型ポリカーボネート樹脂(数平
均分子量20000)10部をモノクロルベンゼン60
部に溶解した。この溶液を電荷発生層上に浸漬塗布し、
110℃の温度で1時間乾燥することによって、膜厚が
20μmの電荷輸送層を形成し、実施例1−31〜1−
36の電子写真感光体を作成した。
を、パルス変調装置を搭載しているキヤノン製プリンタ
ーLBP−2000改造機(光源として日立金属株式会
社製全固体青色SHGレーザーICD−430/発振波
長430nmを搭載。また、反転現像系で600dpi
相当の画像入力に対応できる帯電−露光−現像−転写−
クリーニングからなるカールソン方式の電子写真システ
ムに改造)に装着した。暗部電位Vd=−650V、明
部電位Vl=−200Vに設定し、1ドット1スペース
の画像と文字(5ポイント)画像の出力を行い、得られ
た画像を目視により評価した。結果を表1−4に示す。
チタニルフタロシアニンを用いた以外は、実施例1−3
1と同様にして電子写真感光体を作成した。得られた電
子写真感光体について、評価機の光源を発振波長780
nmのGaAs系半導体レーザーに代えた以外は、実施
例1−31と同様にして画像評価を行った。結果を表1
−4に示す。
は、ドットの再現性や文字の再現性に優れ、高解像度の
出力画像が得られることがわかる。
表2−1に記載した電荷発生材料に代えた以外は、実施
例1−1と同様にして電子写真感光体を作成し、評価し
た。これらの結果を表2−1に示す。
を実施例1−11で用いたものに代えた以外は、実施例
2−1〜2−7と同様にして電子写真感光体を作成し、
評価した。これらの結果を表2−2に示す。
と電荷輸送層の上下関係を逆にした以外は、実施例2−
1〜2−7と同様にして電子写真感光体を作成し、実施
例2−1と同様にして初期の感度を測定した。ただし電
荷輸送材料は実施例1−21で用いたものに代え、帯電
極性はプラスとした。これらの結果を表2−3に示す。
光体は、比較例の感光体に比べ短波長レーザーの発振波
長領域での感度が非常に優れている上、短波長光に対す
るフォトメモリーが小さく、繰り返し使用時の電位や感
度の安定性に優れていることがわかる。
料を表2−4に記載した電荷発生材料に代えた以外は、
実施例1−31と同様にして電子写真感光体を作成し、
評価した。これらの結果を表2−4に示す。
は、ドットの再現性や文字の再現性に優れ、高解像度の
出力画像が得られることがわかる。
1)電荷発生材料を表3−1に記載した電荷発生材料に
代え、電荷発生層の膜厚を0.25μmにした以外は、
実施例1−1と同様にして電子写真感光体を作成し、評
価した。結果を表3−1に示す。
表4−1に記載した電荷発生材料に代えた以外は、実施
例3−1と同様にして電子写真感光体を作成し、評価し
た。結果を表4−1に示す。
2)電荷輸送材料を実施例1−11で用いたものに代え
た以外は、実施例3−1〜3−4及び比較例3−1と同
様にして電子写真感光体を作成し、評価した。これらの
結果を表3−2に示す。
3)電荷発生層と電荷輸送層の上下関係を逆にした以外
は、実施例3−1〜3−4及び比較例3−1と同様にし
て電子写真感光体を作成し、実施例3−1と同様にして
初期の感度を測定した。ただし電荷輸送材料は実施例1
−21で用いたものに代え、帯電極性はプラスとした。
これらの結果を表3−3に示す。
電荷輸送層の上下関係を逆にした以外は、実施例4−1
〜4−5と同様にして電子写真感光体を作成し、実施例
4−1と同様にして初期の感度を測定した。ただし電荷
輸送材料は実施例1−21で用いたものに代え、帯電極
性はプラスとした。これらの結果を表4−2に示す。
光体は、比較例の感光体に比べ短波長レーザーの発振波
長領域での感度が非常に優れている上、短波長光に対す
るフォトメモリーが小さく、繰り返し使用時の電位や感
度の安定性に優れていることがわかる。
合物4−4のアゾ顔料に代えた以外は、実施例1−31
と同様にして電子写真感光体を作成し、評価した。結果
を表3−4に示す。
チタニルフタロシアニンを用いた以外は、実施例3−1
3と同様にして電子写真感光体を作成した。得られた電
子写真感光体について、評価機の光源を発振波長780
nmのGaAs系半導体レーザーに代えた以外は、実施
例3−13と同様にして画像評価を行った。結果を表3
−4に示す。
料を表4−3に記載のものに代えた以外は、実施例1−
31と同様にして電子写真感光体を作成し、評価した。
その結果を表4−3に示す。
は、ドットの再現性や文字の再現性に優れ、高解像度の
出力画像が得られることがわかる。
材料を用いることにより、380〜500nm付近の短
波長の半導体レーザーの発振波長領域において、優れた
感度特性と、フォトメモリーが小さく繰り返し特性の良
好な電子写真感光体が提供され、またこの電子写真感光
体と上記半導体レーザーの組み合わせることにより、高
解像度の画像形成が可能で繰り返し使用にも安定して使
用しうるプロセスカートリッジ及び電子写真装置が提供
される。
上に電荷輸送層)の例を示す断面図である。
上に電荷発生層)の例を示す断面図である。
面図である。
トリッジを有する電子写真装置の概略構成の例を示す図
である。
Claims (45)
- 【請求項1】 支持体上に感光層を有する電子写真感光
体において、該電子写真感光体が380〜500nmの
波長を有する半導体レーザー光を照射され、かつ該感光
層が下記式(1)で示されるアゾ顔料を含有することを
特徴とする電子写真感光体。 【化1】 (式中、Arは直接あるいは結合基を介して結合してい
てもよい、置換もしくは無置換の芳香族炭化水素環基ま
たは複素環基を表し、Cpは下記式(2)、(3)、
(4)または(5)で示されるカプラー残基を表し、n
は1〜3の整数を表す。ただし、−N=N−Cpが同一
ベンゼン環に複数個結合することはない。) 【化2】 (式中、Xはベンゼン環と縮合して多環芳香環または複
素環を形成するのに必要な残基を表し、R1及びR2は水
素原子、置換もしくは無置換のアルキル基、置換もしく
は無置換のアリール基または置換もしくは無置換の複素
環基を表す。また、R1とR2は式中の窒素原子を介して
環状アミノ基を形成してもよい。Z1は酸素原子または
硫黄原子を表し、m1は0または1を表す。) 【化3】 (式中、Yは置換もしくは無置換の2価の芳香族炭化水
素環基または置換もしくは無置換の2価の含窒素複素環
基を表す。) 【化4】 (式中、R3は水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、カ
ルボキシル基、アルコキシカルボニル基、カルバモイル
基またはニトロ基を表し、R4は置換もしくは無置換の
アルキル基または置換もしくは無置換のアリール基を表
し、R5はハロゲン原子、置換もしくは無置換のアルキ
ル基、置換もしくは無置換のアルコキシ基、シアノ基ま
たはニトロ基を表し、lは0〜2の整数を表し、l=2
の時、R5は相異なる基であってもよい。) 【化5】 (式中、R6及びR7は水素原子、置換もしくは無置換の
アルキル基、置換もしくは無置換のアリール基または置
換もしくは無置換の複素環基を表す。また、R6とR7は
式中の窒素原子を介して環状アミノ基を形成してもよ
い。Z2は酸素原子または硫黄原子を表し、m2は0また
は1を表す。) - 【請求項2】 Cpが式(2)で示されるカプラー残基
である請求項1に記載の電子写真感光体。 - 【請求項3】 Cpが式(3)で示されるカプラー残基
である請求項1に記載の電子写真感光体。 - 【請求項4】 Cpが式(4)で示されるカプラー残基
である請求項1に記載の電子写真感光体。 - 【請求項5】 Cpが式(5)で示されるカプラー残基
である請求項1に記載の電子写真感光体。 - 【請求項6】 アゾ顔料が下記式で示される請求項1ま
たは2に記載の電子写真感光体。 【化6】 - 【請求項7】 アゾ顔料が下記式で示される請求項1ま
たは2に記載の電子写真感光体。 【化7】 - 【請求項8】 アゾ顔料が下記式で示される請求項1ま
たは2に記載の電子写真感光体。 【化8】 - 【請求項9】 アゾ顔料が下記式で示される請求項1ま
たは2に記載の電子写真感光体。 【化9】 - 【請求項10】 アゾ顔料が下記式で示される請求項1
または2に記載の電子写真感光体。 【化10】 - 【請求項11】 アゾ顔料が下記式で示される請求項1
または2に記載の電子写真感光体。 【化11】 - 【請求項12】 アゾ顔料が下記式で示される請求項1
または3に記載の電子写真感光体。 【化12】 - 【請求項13】 アゾ顔料が下記式で示される請求項1
または3に記載の電子写真感光体。 【化13】 - 【請求項14】 アゾ顔料が下記式で示される請求項1
または4に記載の電子写真感光体。 【化14】 - 【請求項15】 半導体レーザー光が有する波長が40
0〜450nmである請求項1〜14のいずれかに記載
の電子写真感光体。 - 【請求項16】 電子写真感光体、及び帯電手段、現像
手段及びクリーニング手段から選択される少なくとも一
つの手段を一体に支持し、電子写真装置本体に着脱自在
であるプロセスカートリッジにおいて、該電子写真感光
体は支持体上に感光層を有し、380〜500nmの波
長を有する半導体レーザー光を照射され、該感光層が下
記式(1)で示されるアゾ顔料を含有することを特徴と
するプロセスカートリッジ。 【化15】 (式中、Arは直接あるいは結合基を介して結合してい
てもよい、置換もしくは無置換の芳香族炭化水素環基ま
たは複素環基を表し、Cpは下記式(2)、(3)、
(4)または(5)で示されるカプラー残基を表し、n
は1〜3の整数を表す。ただし、−N=N−Cpが同一
ベンゼン環に複数個結合することはない。) 【化16】 (式中、Xはベンゼン環と縮合して多環芳香環または複
素環を形成するのに必要な残基を表し、R1及びR2は水
素原子、置換もしくは無置換のアルキル基、置換もしく
は無置換のアリール基または置換もしくは無置換の複素
環基を表す。また、R1とR2は式中の窒素原子を介して
環状アミノ基を形成してもよい。Z1は酸素原子または
硫黄原子を表し、m1は0または1を表す。) 【化17】 (式中、Yは置換もしくは無置換の2価の芳香族炭化水
素環基または置換もしくは無置換の2価の含窒素複素環
基を表す。) 【化18】 (式中、R3は水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、カ
ルボキシル基、アルコキシカルボニル基、カルバモイル
基またはニトロ基を表し、R4は置換もしくは無置換の
アルキル基または置換もしくは無置換のアリール基を表
し、R5はハロゲン原子、置換もしくは無置換のアルキ
ル基、置換もしくは無置換のアルコキシ基、シアノ基ま
たはニトロ基を表し、lは0〜2の整数を表し、l=2
の時、R5は相異なる基であってもよい。) 【化19】 (式中、R6及びR7は水素原子、置換もしくは無置換の
アルキル基、置換もしくは無置換のアリール基または置
換もしくは無置換の複素環基を表す。また、R6とR7は
式中の窒素原子を介して環状アミノ基を形成してもよ
い。Z2は酸素原子または硫黄原子を表し、m2は0また
は1を表す。) - 【請求項17】 Cpが式(2)で示されるカプラー残
基である請求項16に記載のプロセスカートリッジ。 - 【請求項18】 Cpが式(3)で示されるカプラー残
基である請求項16に記載のプロセスカートリッジ。 - 【請求項19】 Cpが式(4)で示されるカプラー残
基である請求項16に記載のプロセスカートリッジ。 - 【請求項20】 Cpが式(5)で示されるカプラー残
基である請求項16に記載のプロセスカートリッジ。 - 【請求項21】 アゾ顔料が下記式で示される請求項1
6または17に記載のプロセスカートリッジ。 【化20】 - 【請求項22】 アゾ顔料が下記式で示される請求項1
6または17に記載のプロセスカートリッジ。 【化21】 - 【請求項23】 アゾ顔料が下記式で示される請求項1
6または17に記載のプロセスカートリッジ。 【化22】 - 【請求項24】 アゾ顔料が下記式で示される請求項1
6または17に記載のプロセスカートリッジ。 【化23】 - 【請求項25】 アゾ顔料が下記式で示される請求項1
6または17に記載のプロセスカートリッジ。 【化24】 - 【請求項26】 アゾ顔料が下記式で示される請求項1
6または17に記載のプロセスカートリッジ。 【化25】 - 【請求項27】 アゾ顔料が下記式で示される請求項1
6または18に記載のプロセスカートリッジ。 【化26】 - 【請求項28】 アゾ顔料が下記式で示される請求項1
6または18に記載のプロセスカートリッジ。 【化27】 - 【請求項29】 アゾ顔料が下記式で示される請求項1
6または19に記載のプロセスカートリッジ。 【化28】 - 【請求項30】 半導体レーザー光が有する波長が40
0〜450nmである請求項16〜29のいずれかに記
載のプロセスカートリッジ。 - 【請求項31】 電子写真感光体、帯電手段、露光手
段、現像手段及び転写手段を有する電子写真装置におい
て、該露光手段が露光光源として380〜500nmの
発振波長を有する半導体レーザーを有し、該電子写真感
光体が支持体上に感光層を有し、該感光層が下記式
(1)で示されるアゾ顔料を含有することを特徴とする
電子写真装置。 【化29】 (式中、Arは直接あるいは結合基を介して結合してい
てもよい、置換もしくは無置換の芳香族炭化水素環基ま
たは複素環基を表し、Cpは下記式(2)、(3)、
(4)または(5)で示されるカプラー残基を表し、n
は1〜3の整数を表す。ただし、−N=N−Cpが同一
ベンゼン環に複数個結合することはない。) 【化30】 (式中、Xはベンゼン環と縮合して多環芳香環または複
素環を形成するのに必要な残基を表し、R1及びR2は水
素原子、置換もしくは無置換のアルキル基、置換もしく
は無置換のアリール基または置換もしくは無置換の複素
環基を表す。また、R1とR2は式中の窒素原子を介して
環状アミノ基を形成してもよい。Z1は酸素原子または
硫黄原子を表し、m1は0または1を表す。) 【化31】 (式中、Yは置換もしくは無置換の2価の芳香族炭化水
素環基または置換もしくは無置換の2価の含窒素複素環
基を表す。) 【化32】 (式中、R3は水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、カ
ルボキシル基、アルコキシカルボニル基、カルバモイル
基またはニトロ基を表し、R4は置換もしくは無置換の
アルキル基または置換もしくは無置換のアリール基を表
し、R5はハロゲン原子、置換もしくは無置換のアルキ
ル基、置換もしくは無置換のアルコキシ基、シアノ基ま
たはニトロ基を表し、lは0〜2の整数を表し、l=2
の時、R5は相異なる基であってもよい。) 【化33】 (式中、R6及びR7は水素原子、置換もしくは無置換の
アルキル基、置換もしくは無置換のアリール基または置
換もしくは無置換の複素環基を表す。また、R6とR7は
式中の窒素原子を介して環状アミノ基を形成してもよ
い。Z2は酸素原子または硫黄原子を表し、m2は0また
は1を表す。) - 【請求項32】 Cpが式(2)で示されるカプラー残
基である請求項31に記載の電子写真装置。 - 【請求項33】 Cpが式(3)で示されるカプラー残
基である請求項31に記載の電子写真装置。 - 【請求項34】 Cpが式(4)で示されるカプラー残
基である請求項31に記載の電子写真装置。 - 【請求項35】 Cpが式(5)で示されるカプラー残
基である請求項31に記載の電子写真装置。 - 【請求項36】 アゾ顔料が下記式で示される請求項3
1または32に記載の電子写真装置。 【化34】 - 【請求項37】 アゾ顔料が下記式で示される請求項3
1または32に記載の電子写真装置。 【化35】 - 【請求項38】 アゾ顔料が下記式で示される請求項3
1または32に記載の電子写真装置。 【化36】 - 【請求項39】 アゾ顔料が下記式で示される請求項3
1または32に記載の電子写真装置。 【化37】 - 【請求項40】 アゾ顔料が下記式で示される請求項3
1または32に記載の電子写真装置。 【化38】 - 【請求項41】 アゾ顔料が下記式で示される請求項3
1または32に記載の電子写真装置。 【化39】 - 【請求項42】 アゾ顔料が下記式で示される請求項3
1または33に記載の電子写真装置。 【化40】 - 【請求項43】 アゾ顔料が下記式で示される請求項3
1または33に記載の電子写真装置。 【化41】 - 【請求項44】 アゾ顔料が下記式で示される請求項3
1または34に記載の電子写真装置。 【化42】 - 【請求項45】 半導体レーザーの発振波長が400〜
450nmである請求項31〜44のいずれかに記載の
電子写真装置。
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