JP2000021696A - レーザマーキング装置及びそれを用いたレーザマーキング方法 - Google Patents

レーザマーキング装置及びそれを用いたレーザマーキング方法

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JP2000021696A
JP2000021696A JP10188712A JP18871298A JP2000021696A JP 2000021696 A JP2000021696 A JP 2000021696A JP 10188712 A JP10188712 A JP 10188712A JP 18871298 A JP18871298 A JP 18871298A JP 2000021696 A JP2000021696 A JP 2000021696A
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Yukinori Matsumura
幸紀 松村
Teiichiro Chiba
貞一郎 千葉
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Komatsu Ltd
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Abstract

(57)【要約】 （修正有） 【課題】微小ドット間の融合なく高精度に刻印でき、刻
印パターンの視認性良いレーザマーキング装置・方法。 【解決手段】液晶がマトリックス状に配され、照射領域
に透過可能な所要の表示パターン５が駆動表示される液
晶表示装置の各液晶を制御装置により駆動して所要のパ
ターンを表示し、レーザビームにより被マーキング物品
４の表面に刻印パターンを刻印するレーザマーキング装
置において、制御装置は液晶を、１個跳び以上で、互い
が重畳しない少なくとも２つの異なるパターンＡ、Ｂに
分離駆動する手段を有し、各分離パターンに対応する液
晶を独立して分離駆動し、被マーキング物品の同一刻印
面に順次刻印し、最終的な所要の刻印パターンを合成し
て刻印する。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の技術分野】本発明はレーザマーキング装置及
びそれを用いたレーザマーキング方法に係わり、特に、
狭小領域に製品管理用或いは各種セキュリティ用等のた
め、微小ドット状に刻印される刻印パターンを隣接する
ドット間の融合なく高精度に刻印することができると共
に、刻印パターンの光学的な視認性を向上させたレーザ
マーキング装置及びそれを用いたレーザマーキング方法
に関する。
【０００２】
【従来の技術】例えば、半導体の製造工程にあっては、
この半導体の各製造工程ごとに多様で且つ厳密な製造条
件を設定する必要があり、製品或いは各種セキュリティ
等を管理するために、半導体ウェハの一部表面には、数
字、文字或いは記号等からなる情報用の刻印パターンが
マトリックス状にドット表示されている。
【０００３】最近の半導体製品等ワークの小型化に伴っ
て、半導体ウェハにおける刻印（マーキング）領域は極
めて狭い領域に限られ、マーキングする刻印パターンに
あっては、微小で且つ高精度のものが要求されている。
【０００４】このマーキングは、図５乃至図７に示すよ
うに、通常、連続パルスレーザビームを光学系を介して
被マーキング物品としての半導体ウェハ４の一部表面に
照射することによりなされる。図５に示すように、レー
ザマーキング装置１は、パターン表示装置としての液晶
マスク２の照射領域にレーザ発振器３からのレーザビー
ムを一括照射又はラスタ走査させて照射し、液晶マスク
２の照射領域に駆動表示された所要の表示パターン５を
透過するレーザビームにより、レンズユニット６を介し
て半導体ウェハ４の表面に所要の刻印パターンを刻印す
るものである。
【０００５】制御装置８は、レーザ発振器３、液晶マス
ク２、液晶マスク２の透過ビームをドット単位で半導体
ウェハ４の表面に結像させるレンズユニット６、半導体
ウェハ４を搬送する搬送装置７、図示しない光学系素子
等の動作を制御する。
【０００６】制御装置８は、図示しないコンピュータシ
ステムの主プログラムの指令に従って、これらの装置
２、３、７等に制御信号を出力するようになっている。
【０００７】前記液晶マスク２の照射領域には、パター
ン表示駆動体としての液晶がマトリックス状に配列さ
れ、透過又は非透過可能な所要の表示パターン５が駆動
表示される。この制御装置８に基づいて液晶マスク２の
各液晶単位で任意の液晶を駆動制御することにより、所
要のパターンが駆動表示される。液晶マスク２は、電圧
無印加の液晶は光反射状態になり、電圧印加の液晶は光
透過状態になる透過型液晶装置である。この透過型液晶
装置としてのマスク２は、所定ドット数からなるドット
マトリックス状に配された液晶で構成されている。所要
の表示パターン５は図示しないコンピュータシステムに
よって選択される。この選択は外部操作によって行うこ
ともできる。
【０００８】液晶マスク２は広く知られているように所
要の表示パターン５に対応して各液晶単位で光透過部分
及び光非透過部分を駆動表示することが可能であり、こ
の液晶マスク２は、複数の平行電極線が液晶の表裏面間
で互いに交差するように設けられ、各要素電極に刻印パ
ターンに応じた電圧を印加するようになっている。レー
ザビームは同パターン照射領域内の光透過可能な状態に
ある各液晶部分を透過する。これにより、所要の刻印パ
ターンが被マーキング物品４の表面に形成される。
【０００９】半導体ウェハ４の表面に刻印される所要の
刻印パターンは、例えば、「０」を光反射部分（無刻印
部分）、「１」を光透過部分（刻印部分）として変換し
たドット情報として、制御装置８のメモリ内の所定のア
ドレス群内に記憶されている。この制御装置８は、図示
しないマイクロコンピュータの主プログラムの指令に基
づいて所要のドット情報を処理するようになっている。
これにより、所定の電圧が液晶マスク２の所望の電圧印
加部に印加され、所要の表示パターン５が液晶マスク２
にドット表示される。図８に示すように、ここでは、パ
ターン表示駆動体の照射領域は無刻印部分１６と刻印部
分１７のように１マーク当り（３〜７）ドット×（６又
は７）ドットのドットマトリックス状の液晶で構成され
ている。この液晶マスク２の表示パターン５は制御装置
８の指令によって、表示パターン５の表示に合せてレー
ザ発信器３からのレーザビームを一括照射又はラスタ走
査させることにより、図９に示すように、半導体ウェハ
４の表面に所要の刻印パターン１８を刻印させる。
【００１０】図６に示すように、レーザマーキング装置
９は所謂ＤＭＤ（ＤｉｇｉｔａｌＭｉｃｒｏｍｉｒｒｏ
ｒ Ｄｅｖｉｃｅ）のようなマルチミラーモジュールを
用いたもので、このマルチミラーを駆動制御するもので
ある。図７に示されたレーザマーキング装置１１は音響
光学素子１２を偏向素子として用いたもので、素子を駆
動制御するものである。マルチミラーモジュール１０及
び音響光学素子１２の照射領域には、所要の表示パター
ンが駆動制御される。この表示パターンに合せて、ウェ
ハ４の表面には、レーザ発振器３からのレーザビームの
照射による所要の刻印パターンが刻印される。
【００１１】これらは、図５と同様にマイクロコンピュ
ータ（図示しない）の主プログラムの指令に従った制御
装置（図示しない）により制御され、この制御装置は、
所要のパターン表示駆動体の照射領域における刻印部分
と無刻印部分として変換したドット情報に基づいて各装
置の動作を実行するようになっている。このドット情報
に基づいて、マルチミラーモジュール１０及び音響光学
素子１２は一種のパターン表示装置として機能する。図
５〜図７に示された各レーザマーキング装置１、９、１
１のレーザ光路上には、回折現象を利用する光学部材、
反射現象を利用する光学部材、或いは屈折現象を利用す
る光学部材等が配置できる。なお、図６において、１３
はレーザ吸収板、１４はミラーであり、図７において、
１５はｆ−θレンズである。
【００１２】レーザ光による一般的なレーザマーキング
装置としては、例えば、特開平２−２０５２８１号公報
に示されているように、比較的小さいエネルギーのパル
スレーザ光を同一ポイントに重複して照射するものがあ
る。このマーキング方式は１回目のレーザパルス照射を
１ＫＨZ 以下の周波数とし、続いて照射されるレーザパ
ルスの周波数を２〜５ＫＨZ の高繰り返し周波数とし
て、０．５〜１．０μｍ或いは１．０〜１．５μｍの深
さのドットを形成している。従来のこの種のドットマー
キング方式によれば、先ず半導体ウェハに印字するため
の文字入力、マーキングパターンが入力部で設定され
る。マーカーコントローラは、設定されたマーキングパ
ターンに従って所定の深さをもつドットをウェハにマー
キングするため、光学系素子を制御し、１個のドットに
対して１回のＱスイッチパルスでマーキングする。又、
特開平９−２０６９６５号公報に示されているように、
マトリックス状に二次元的に配列された多数の可動ミラ
ーをパターン指示部の電気信号に基づいてミラー制御部
により制御し、レーザ光を被マーキング物品の表面に照
射するレーザマーク装置がある。
【００１３】ところで、この従来のマーキング方式によ
ってドットマーキングがなされた半導体ウェハは、ドッ
トによる刻印（マーキング）パターンを読み取ることに
よって生産管理等の情報が各ウェハ毎に管理される。こ
のドットによるマーキングパターンは、例えば、特開平
２−２９９２１６号公報に示されているように、Ｈｅ−
Ｎｅレーザのレーザ光の照射による反射率の変化、或い
は通常のレーザ光の熱波の振動の変化として読み取ら
れ、その読み取られた情報に基づいて、以降の製造工程
における各種の製造条件が設定される。従って、この読
み取りが正確になされず、誤った情報として読み取る場
合には、全てが不良品となる。その読み取り不良の原因
はドットマーキングによる刻印パターンのドットピッチ
の不鮮明さに基づいている。この不鮮明さの１つの要因
としては、刻印パターン全体の形状が歪んでいるためで
ある。レーザ光の縮小像が半導体ウェハ表面の照射ポイ
ントに照射されて形成されるドットは、ドットの中心部
に大きなエネルギーをもっており、溶融状態にあるドッ
トに隣り合う次の加工対象のドットが照射されると、周
辺への強力な熱伝導による熱エネルギーによって、互い
に強い熱拡散の影響を受ける。これによって、各ドット
間の隙間は融合し、つながり合ってしまう。従って、各
ドット間がこの熱エネルギーの拡散によって互いに融合
するのを回避する必要がある。
【００１４】半導体ウェハにおけるマーキングでは、１
文字の領域を２００ミクロン以内に収め、ドットのピッ
チを２０ミクロン以下に収めようとする場合には、１文
字を構成するドット数は最小限に抑えられている。この
マーキングは、極めて狭い領域に微小のドットパターン
をマトリックス状に配列した構成になっているため、刻
印パターンを形成するドット間やその周辺が加熱されや
すく、熱拡散しやすい状態にある。従って、各ドット内
又は周壁部の熱が散逸しにくい状態では、熱伝導による
熱エネルギー拡散の影響を強く受ける。これにより、各
ドットからの加熱、溶融が相乗的に拡散される。熱拡散
の影響を受けるマーキングは、特に、少なくともレーザ
パルスの周期（Ｑｓｗ周波数）が約１００ｋＨｚ以上
で、ドット間の最小隙間が１ドットサイズの約１／５以
下の場合に生じやすい。
【００１５】
【発明が解決しようとする課題】上述のように、形成さ
れるドットは中心部に大きなエネルギーをもっているた
め、形成されるドットの周壁への熱伝導により、隣り合
うドット間の隙間が溶融してドット間が融合しやすい。
このため、溶融除去されたドットに潜熱（融解熱、蒸発
熱）が残存している状態で次の加工対象となる隣り合う
ドットが溶融除去されると、各ドットからの強力な熱伝
導による熱エネルギーによって、各ドットからの加熱、
溶融が相乗的に拡散される。従って、図１０に示すよう
に、隣り合うドット１８間やその周辺部は互いに融合さ
れ、いびつに変形した形状になるという不具合、この熱
伝導によって効率的な溶融加工ができないという不具合
がある。そして、形成させるドットの周辺部等が熱伝導
によって互いに融合された場合には、前述の読み取りが
正確になされず、ドットの有無の読み取り不能や読み取
り誤認が生じる。例えば、図１０（ｄ）に示すように、
外周の略Ｌ字部分の外枠を認識することができるかもし
れないが、その対向辺のドット列は認識できないため、
ドットの位置及びドットパターンの向き等を認識するこ
とができない。従って、読み取られた情報に基づき、以
降の製造工程における各種の製造条件や品質等に大きな
影響を与える。
【００１６】一方、比較的小さなエネルギーのレーザビ
ーム照射によって、半導体ウェハの表面をスポット状に
溶融除去して、半導体ウェハの極めて狭い領域に微小の
ドットパターンを刻印することも考えられるが、このよ
うにすると、ドット形状が不安定化するうえに、ドット
パターンの刻印速度が遅くなり、製品の歩留まりが悪
い。また、形成されるドットが完全に冷却される所定の
時間を待機して、次の加工対象となるドットを半導体ウ
ェハの表面にスポット状に溶融除去することも考えられ
るが、このようにすると、形成されるドットから次の加
工対象となるドットを即時に刻印できない。このため、
ドットパターンを刻印する時間がかかり、生産効率が悪
い。しかしながら、前述の特開平２−２０５２８１号公
報や特開平９−２０６９６５号公報等では、これらの技
術的課題に関して何ら言及されていない。従って、これ
らの公報に開示されたレーザマーキングは、極めて狭い
領域に微小の刻印パターン全体を熱伝導の影響をうける
ことなく形成することを意図していないことは明らかで
ある。
【００１７】本発明は、かかる従来の課題を解消すべく
なされたものであり、その具体的な目的は、格別に冷却
時間を経ることなく、隣接するドット間において融合す
ることなく、正確に且つ高精度に刻印することができる
と共に、ドットの有無の読み取り不能や誤認がなく、光
学的に視認性の優れた刻印パターンを形成することがで
きるレーザマーキング装置及びそれを用いたレーザマー
キング方法を提供することにある。
【００１８】
【課題を解決するための手段及び作用効果】前記目的
は、本件請求項１に係る発明の構成をなすパターン表示
駆動体がマトリックス状に配され、その照射領域に透過
又は反射可能な所要の表示パターンが駆動表示されるパ
ターン表示装置、及びパターン表示駆動体を駆動して所
要のパターンを表示する制御装置を備え、前記パターン
表示装置の照射領域にレーザ発振器からのレーザビーム
を照射し、該照射領域に表示された所要のパターンを透
過又は反射するレーザビームにより、光学系を介して被
マーキング物品の表面に所要の刻印パターンを刻印する
レーザマーキング装置であって、前記制御装置は、マト
リックス状に配されたパターン表示駆動体を、１個跳び
以上で、且つ互いが重畳しない少なくとも２つの異なる
パターンＡ及びＢに分離駆動して駆動表示するパターン
分離駆動手段を有してなり、パターン分離駆動手段によ
り少なくとも２つの各分離パターンＡ及びＢに対応する
パターン表示駆動体を独立して分離駆動して、被マーキ
ング物品の同一刻印面に順次刻印し、最終的な所要の刻
印パターンを合成することを特徴とするレーザマーキン
グ装置により達成される。
【００１９】かかる構成に基づき、はじめにドット間隔
のあいた一の分離パターンＡを刻印したのち、同一の刻
印領域に同じくドット間隔があき前記一の分離パターン
Ａとは重畳しない他の分離パターンＢを刻印し、これを
他の分離パターンに対しても順次行うことにより、最終
的な所定のパターンを刻印するため、極めて狭い領域で
あっても熱伝導の影響を受けることなく、微小なドット
マークの集合体である刻印パターンを高精度に刻印する
ことができると共に、格別の冷却時間をとることもな
く、所望のエネルギーをもつレーザビームによる刻印が
可能であるため、結果的に刻印時間を短縮できる。更
に、光学的な視認性も高くなって、ドットの有無の読み
込みが確実になされるようになる。
【００２０】ここで、本発明における加工対象としての
被マーキング物品は、半導体ウェハ、液晶基板等のガラ
ス基板、ベアチップ等の電極（パッド）、ＩＣ表面、各
種セラミック製品、さらにはＩＣのリード部等がある。
【００２１】請求項２に係る発明は、例えば、制御装置
に書き込まれた各種データの指令に基づいて各液晶単位
で任意に光の透過・非透過を駆動制御できるパターン表
示駆動体としての液晶が、マトリックス状に配列された
透過型液晶装置としての液晶マスクを採用する。また、
例えばフライアイレンズやバイナリーオプティクス、シ
リンドリカルレンズを使用したマスク面上を一括して照
射する方式や、ポリゴンミラー、ミラースキャナなどの
アクチュエータによりミラー駆動してマスク面上をビー
ム操作する方式を備えたビームホモジナイザを採用する
ことができる。
【００２２】請求項３及び請求項４に係る発明にあって
は、前記液晶マスクに代えてマルチミラーモジュールや
音響光学素子を採用することがあることを規定してい
る。
【００２３】そして、請求項５に係る発明にあっては、
制御装置が、刻印すべき前記所要の表示パターンと少な
くとも２つの異なる各分離パターンＡ及びＢとを個別に
記憶する記憶部を有しており、少なくとも２つの異なる
各分離パターンＡ及びＢを独立して記憶部から読み出
し、パターン分離駆動手段により、該独立して読み出し
た各分離パターンＡ及びＢに対応するパターン表示駆動
体を順次分離駆動するものである。
【００２４】そして、請求項８に係る発明のごとく、前
記制御装置が、少なくとも２つの異なる各分離パターン
Ａ及びＢと刻印すべき所要の表示パターンとをそれぞれ
比較して、合致するパターン表示駆動体をそれぞれ抽出
し、少なくとも２つの異なる新たな変換パターンＣ及び
Ｄに変換するパターン変換手段を有することのあること
を規定している。
【００２５】更に、少なくとも異なる分離パターンＡ、
Ｂの代表的な分離手法として、請求項６に係る発明のご
とく、マトリックス状に配されたドット状の表示駆動体
による少なくとも異なる分離パターンＡ、Ｂは、表示駆
動体の配列にあって行列間において１個跳びで、且つ互
いが重畳しない２つの異なる分離パターンでもある。し
かして、ドットのピッチ中心間距離がより狭まったドッ
トパターン、又はドットを斜め方向に配列させたドット
パターンでは、熱伝導の影響を強く受けやすく上述の視
認性を著しく低下させる場合がある。そこで、請求項７
に記載しているとおり、マトリックス状に配されたドッ
ト状の表示駆動体による少なくとも異なる分離パターン
Ａ、Ｂが、表示駆動体の配列にあって行列間において３
個跳びで、且つ互いが重畳しない４つの異なる分離パタ
ーンＡ′、Ａ′′、Ｂ′、Ｂ′′とするものである。こ
のように、所要の表示パターンを複数のモードに自由に
選択することができる。
【００２６】本発明のレーザマーキング方法は、以上の
レーザマーキング装置を使って実施される。その代表的
な方法が、請求項９に係る発明であり、多数のドット状
マークからなる所要の刻印パターンを、少なくとも２つ
の異なるパターンＡ及びＢに分離すること、パターン分
離駆動手段により、異なる分離パターンＡ及びＢの一つ
に対応するパターン表示駆動体を駆動表示すること、次
いで、パターン分離駆動手段の駆動を切り替えて、他の
分離パターンＡ及びＢの一つに対応するパターン表示駆
動体を駆動表示すること、及び独立して駆動表示するこ
とにより、被マーキング物品の同一刻印面に分離パター
ンＡ、Ｂを順次刻印して、最終的な所要の刻印パターン
を合成することを含んでいることを特徴としている。
【００２７】そうして、請求項１３に記載しているとお
り、刻印すべき所要の表示パターンと各分離パターンＡ
及びＢとを個別に記憶部に記憶すること、異なる各分離
パターンＡ又はＢを独立して記憶部から読み出し、パタ
ーン分離駆動手段により、読み出した各分離パターンＡ
及びＢに対応するパターン表示駆動体をそれぞれ順次分
離駆動する。
【００２８】そうして、請求項１４に記載しているとお
り、パターン分離駆動手段による少なくとも２つの異な
る分離パターンＡ及びＢに対応するパターン表示駆動体
の分離駆動は、マトリックス状に配されたパターン表示
駆動体の駆動表示を、行列間において１個跳びで、且つ
互いが重畳しない２つの異なる分離パターンＡ及びＢに
対応して順次分離駆動する。
【００２９】そうして、請求項１５に記載しているとお
り、パターン分離駆動手段による少なくとも２つの異な
る分離パターンＡ及びＢに対応するパターン表紙駆動体
の分離駆動は、マトリックス状に配されたパターン表示
駆動体を、行列間において３個跳びで、且つ互いが重畳
しない４つの異なる分離パターンＡ′、Ａ″、Ｂ′、
Ｂ″に対応して順次分離駆動する。
【００３０】更には、請求項１６の発明のごとく、請求
項８に記載された前記パターン変換手段により、更に少
なくとも２つの異なる各分離パターンＡ及びＢと刻印す
べき所要の表示パターンとをそれぞれ比較して、合致す
るパターン表示駆動体をそれぞれ抽出し、少なくとも２
つの異なる新たな変換パターンＣ及びＤに変換するこ
と、及びパターン分離駆動手段により変換パターンＣ及
びＤに対応するパターン表示駆動体を独立して分離駆動
することを含んでいる。
【００３１】請求項１０及び１１に記載された発明にあ
っては、レーザビームを一括照射又はレーザビームを走
査させて照射する方式が採用される。一括照射による場
合には、刻印パターンを分割して液晶マスク上にパター
ン表示させることが望ましい。そこで、請求項１２に係
る発明では、所要の表示パターンを複数の分割パターン
に分割し、該各分割パターンごとに、パターン表示駆動
体の駆動表示を、１個跳び以上で、且つ互いが重畳しな
い少なくとも２つの異なるパターンＡ及びＢに対応して
順次分離駆動する方法が採用される。
【００３２】
【発明の実施形態】以下、本発明の好適な実施の形態を
添付図面に基づいて具体的に説明する。本発明は、図５
〜図７に示された一般のレーザマーキング装置に適用さ
れる。
【００３３】従って、本発明の構成は図５に示された一
般のレーザマーキング装置を参照しながら、本発明の好
適な実施の形態を図１〜図４に基づいて説明する。な
お、これらの図にあって上記従来技術と同様の部材に関
しては、図５〜図１０に付した符号と同一の符号を付し
ている。
【００３４】図５に示すように、本発明のレーザマーキ
ング装置１は、ＹＡＧレーザ発振器３を光源として、搬
送装置７により搬送される被マーキング物品４の表面に
文字、記号、数字等の連続した所要の刻印パターンを刻
印するためのもので、このレーザ発振器３からのレーザ
ビームは、例えば図示せぬコリメータレンズ及びポリゴ
ンミラー等の光学部品を介して、刻印すべき所要の表示
パターンが駆動表示されるパターン表示装置としての液
晶マスク２の照射領域に照射される。刻印すべき所要の
表示パターンは少なくとも２つの異なる分離パターン
Ａ、Ｂに分離され、この２つの異なる分離パターンＡ、
Ｂが液晶マスク２に独立して順次駆動表示されるように
なっている。液晶マスク２を透過したレーザビームは、
ドット単位で結像させるレンズユニット６を介して、被
マーキング物品４の同一表面に順次照射される。そし
て、少なくとも２つの各分離パターンに対応する所要の
刻印パターンが被マーキング物品４の同一表面に合成さ
れるようになっている。
【００３５】これらの作動にあたっては、図示しないコ
ンピュータシステムの主プログラムの指令に従った制御
装置８によって、レーザ発振器３のレーザ発振が制御さ
れると共に、そのレーザ照射が図示せぬ光学部品及びレ
ンズユニット６により駆動制御される。そして、この制
御装置８は、透過可能なパターン表示駆動体としての液
晶及び少なくとも２つの各パターンの駆動表示を駆動制
御すると共に、搬送装置７等を駆動制御する。この液晶
マスク２の照射領域には、液晶がマトリックス状に配列
され、制御装置８の指令に基づいて液晶マスク２の各液
晶単位で任意の液晶が駆動表示されるようになってい
る。液晶マスク２は、各液晶単位の各要素電極に所要の
表示パターンに応じた電圧を印加する構成になってい
る。
【００３６】図１を参照すると、本発明のレーザマーキ
ング装置における所要の表示パターンを形成する形成過
程と所要の表示パターンに対応して刻印パターンを刻印
する刻印過程とが模式的に示されている。図１（ａ）に
おいて、５は刻印すべき所要の表示パターンである。こ
の表示パターン５は、無刻印（非透過）部分１６と刻印
（透過）部分１７とからなり、ここでは、１マーク当り
３ドット×６ドットのドットマトリックス状のパターン
で構成されている。
【００３７】制御装置８は、マトリックス状に配列され
た液晶の駆動表示を、１個跳び以上で、互いが重畳しな
い少なくとも２つの異なる各分離パターンに分離駆動す
るパターン分離駆動手段を有しており、図１（ｂ）に示
すように、刻印すべき所要の表示パターン５は、制御装
置８のパターン分離駆動手段によって異なる分離パター
ンＡ及びＢに分離駆動される。この２つの異なる分離パ
ターンＡ及びＢは刻印すべき所要の表示パターン５の照
射領域３１を刻印する部分１７と刻印しない部分１６と
に交互にマトリックス状に分離されたもので、この分離
パターンＡ及びＢの一方の分離パターンＡ又はＢを反転
させたものである。刻印すべき所要の表示パターン５、
少なくとも２つの異なる各分離パターンＡ及びＢは
「０」を光反射部分（無刻印部分）、「１」を光透過部
分（刻印部分）として変換したドット情報として、記憶
部（図示しない）の所定のアドレス群に記憶される。こ
の刻印すべき所要の表示パターン５、少なくとも２つの
異なる各分離パターンＡ及びＢは図示せぬマイクロコン
ピュータにより選択される。この選択は外部操作によっ
て行うこともできる。
【００３８】制御装置８は、少なくとも２つの異なる分
離パターンＡ及びＢと刻印すべき所要の表示パターン５
とをそれぞれ比較して、合致する液晶１７をそれぞれ抽
出し、少なくとも２つの新たな変換パターンＣ及びＤに
変換するパターン変換手段を有している。図１（ｃ）に
示すように、先ず、分離パターンＡと刻印すべき所要の
表示パターン５とが独立して記憶部（図示しない）から
読み出され、パターン変換手段よって、分離パターンＡ
と刻印すべき所要の表示パターン５とを比較して、合致
する６つの液晶１７が抽出され、３つの液晶が不一致部
分１９としてマスクされる。そして、分離パターンＡは
新たな変換パターンＣに変換される。
【００３９】次いで、分離パターンＢが記憶部（図示し
ない）から独立して読み出される。
【００４０】パターン変換手段よって、分離パターンＢ
と刻印すべき所要の表示パターン５とを比較して、合致
する４つの液晶１７が抽出され、５つの不一致部分１９
がマスクされる。そして、分離パターンＢは新たな変換
パターンＤに変換される。この変換パターンＣは被マー
キング物品４の表面に刻印すべき表示パターン５と分離
パターンＡとの論理積の関係となり、変換パターンＤは
被マーキング物品４の表面に刻印すべき表示パターン５
と分離パターンＢと論理積の関係となっている。変換し
た２つの異なる各変換パターンＣ及びＤは、記憶部（図
示しない）に新たに記憶される。
【００４１】制御装置８は、２つの異なる各変換パター
ンＣ及びＤを独立して記憶部（図示しない）から読み出
し、パターン分離駆動手段により、独立して読み出した
各パターンをそれぞれ順次分離駆動するようになってい
る。図１（ｄ）に示すように、先ず、パターン分離駆動
手段により、変換パターンＣに対応するパターン表示駆
動体を独立して駆動表示する。各要素電極に変換パター
ンＣに応じた電圧が液晶マスク２の所望の電圧印加部に
印加される。そして、液晶マスク２の照射領域にドット
表示された変換パターンＣはレーザ発振器３からのレー
ザビームが照射され、そのレーザビームにより、変換パ
ターンＣに対応するパターン表示駆動体の駆動表示に合
せて一方の刻印パターン１８が被マーキング物品４の刻
印面に刻印される。
【００４２】次いで、パターン分離駆動手段の駆動を切
り替えて、他の変換パターンＤに対応するパターン表示
駆動体を独立して順次分離駆動する。各要素電極に変換
パターンＣに応じた電圧が液晶マスク２の所望の電圧印
加部に印加される。そして、液晶マスク２の同じ照射領
域に切替え表示された変換パターンＤはレーザ発振器３
からのレーザビームが照射され、そのレーザビームによ
り、変換パターンＤに対応するパターン表示駆動体の駆
動表示に合せて他方の刻印パターン１８が被マーキング
物品４の同一刻印面（表面）に順次刻印される。このよ
うに、独立して順次駆動表示することにより、変換パタ
ーンＣと変換パターンＤとから合成された最終的な所要
の刻印パターンが被マーキング物品の同一刻印面に順次
刻印され、最終的な所要の刻印パターンが刻印される。
従って、例えば図１（ａ）のように、極めて狭い領域で
あっても隣り合うドットマーク同士が熱伝導の影響を受
けることなく、微小なドットマークの集合体である刻印
パターンを高精度に刻印することができると共に、格別
の冷却時間をとることもなく、所望のエネルギーをもつ
レーザビームによる刻印が可能であるため、結果的に刻
印時間を短縮できる。
【００４３】更に、例えば図１０に示す従来の刻印パタ
ーンの形状と異なり、光学的な視認性も高くなって、ド
ットの有無の読み込みが確実になされるようになる。な
お、上述の実施例では、パターン変換手段により変換さ
れた変換パターンＣ及びＤに対応する液晶を用いて、被
マーキング物品４の同一刻印面に順次刻印する場合を説
明したが、パターン分離駆動手段により分離駆動された
上記の少なくとも２つの各分離パターンＡ、Ｂに対応す
る液晶を用いて、被マーキング物品４の同一刻印面に順
次刻印する場合には、パターン分離駆動手段により順次
分離駆動される少なくとも２つの異なる各分離パターン
Ａ、Ｂを独立して順次駆動表示し、被マーキング物品４
の同一刻印面に順次刻印して、最終的な所要の刻印パタ
ーンを合成することができる。
【００４４】図２を参照すると、本発明のレーザマーキ
ング装置における刻印すべき所要の表示パターンに従っ
て形成される刻印パターンの処理手順を示すフローチャ
ートが示されている。処理は、ブロック２０において開
始し、先ず、被マーキング物品４の表面（同一刻印面）
に刻印されるべき表示パターン５（全体パターン５）、
各分離パターンＡ及びＢは図示せぬマイクロコンピュー
タにより選択される。この選択は外部操作によって行う
こともできる。ブロック２１において、この全体パター
ン５、各分離パターンＡ及びＢは、制御装置８の内部メ
モリにストアされる。
【００４５】次に、ブロック２２において、一方の分離
パターンＡと刻印すべき所要の表示パターン５とを制御
装置８の内部メモリから独立して読み出し、分離パター
ンＡと所要の表示パターン５とが比較される。そして、
液晶マスク２に刻印すべき所要の表示パターン５に基づ
いて、分離パターンＡが新たな変換パターンＣに変換さ
れる。そして、この新たな変換パターンＣは制御装置８
の内部メモリにストアされる。更に、処理はブロック２
３に移行される。ブロック２３において、他方の分離パ
ターンＢと刻印すべき所要の表示パターン５とを制御装
置８の内部メモリから独立して読み出し、分離パターン
Ｂと所要の表示パターン５とが比較される。そして、刻
印すべき所要の表示パターン５に基づいて、分離パター
ンＢが新たな変換パターンＤに変換される。そして、こ
の新たな変換パターンＤは制御装置８の内部メモリにス
トアされる。
【００４６】次に、ブロック２４において、制御装置８
の指令に基づいて被マーキング物品４は搬送装置７によ
り搬送され、マーキング位置にセットされる。そして、
図示せぬ偏向ミラーや移動レンズ等の光学系素子等が制
御装置８により位置決め制御される。
【００４７】次に、ブロック２５において、制御装置８
の内部メモリから独立して読み出した変換パターンＣは
液晶マスク２の照射領域に独立して駆動表示（ドット表
示）され、処理はブロック２６に移行する。ブロック２
６において、液晶マスク２の照射領域に対してレーザビ
ームが一括照射又は走査されて照射される。そして、レ
ーザビームにより被マーキング物品４の表面には、一方
の変換パターンＣが刻印され、処理はブロック２７に移
る。ブロック２７において、被マーキング物品４の加工
部分の温度が下がる所定の時間待機する。所定時間経過
後、処理はブロック２８に進む。
【００４８】ブロック２８において、制御装置８の内部
メモリから独立して読み出した他方の変換パターンＤは
液晶マスク２の同一照射領域に独立してドット表示さ
れ、処理はブロック２９に移行する。ブロック２９にお
いて、液晶マスク２の照射領域に対してレーザビームが
一括照射又は走査されて照射される。そして、レーザビ
ームにより被マーキング物品４の表面には、分離パター
ンＤが刻印される。これにより、変換パターンＣと変換
パターンＤとを順次刻印した最終的な所要の刻印パター
ンが被マーキング物品４の同一刻印面に合成されて刻印
される。こうして、処理はブロック３０において終了す
る。なお、上述の処理では、刻印されるべき変換パター
ンＣ及びＤに対応する液晶を用いて刻印する場合を説明
したが、分離パターンＡ及びＢを用いて刻印する場合に
は、処理はブロック２０において開始し、ブロック２１
からブロック２４に移行し、ブロック２４からブロック
２９を経て、ブロック３０において終了する。
【００４９】図３は本発明のレーザマーキング装置にお
ける所要の表示パターンを形成する形成過程と所要の表
示パターンに対応して刻印パターンを刻印する刻印過程
との他の一例を模式的に示し、図１と同様にドット情報
を図案化したものである。図３（ａ）に示すように、刻
印すべき所要の表示パターン５は、無刻印部分１６と刻
印部分１７からなり、ここでは、１マーク当り７ドット
×７ドットのドットマトリックス状のパターンで構成さ
れている。図３（ｂ）に示すように、２つの分離パター
ンＡ及びＢは全体パターン５の照射領域３１を刻印する
部分１７と刻印しない部分１６とに交互にマトリックス
状に分離されたもので、互いの刻印部分１７が重畳しな
い異なるパターンになっている。
【００５０】この刻印すべき所要の表示パターン５、少
なくとも２つの異なる各分離パターンＡ及びＢは図示せ
ぬマイクロコンピュータにより選択される。この選択は
外部操作によって行うこともできる。この刻印すべき所
要の表示パターン５、２つの異なる各分離パターンＡ及
び分離パターンＢは記憶部（図示しない）の所定のアド
レス群に記憶される。
【００５１】図３（ｃ）に示すように、制御装置８のパ
ターン分離駆動手段によって、少なくとも２つの異なる
分離パターンＡ及びＢと刻印すべき所要の表示パターン
５とがそれぞれ比較される。そして、合致する液晶１７
がそれぞれ抽出され、２つの分離パターンＡ及びＢは少
なくとも２つの新たな変換パターンＣ及びＤに変換され
る。即ち、図３（ｄ）に示すように、先ず、パターン分
離駆動手段により、変換パターンＣに対応するパターン
表示駆動体が独立して駆動表示される。そして、液晶マ
スク２の照射領域にドット表示されたパターン表示駆動
体は、制御装置８からの制御信号に基づいてレーザ発振
器３からのレーザビームを照射され、そのレーザビーム
により、変換パターンＣに対応するパターン表示駆動体
の駆動表示に合せて一方の刻印パターン１８が被マーキ
ング物品４の刻印面に刻印される。
【００５２】次いで、パターン分離駆動手段の駆動を切
り替えて、他の変換パターンＤに対応するパターン表示
駆動体が独立して順次駆動表示される。そして、ドット
表示されたにパターン表示駆動体は制御装置８からの制
御信号に基づいてレーザ発振器３からのレーザビームを
照射され、そのレーザビームにより、変換パターンＤに
対応するパターン表示駆動体の駆動表示に合せて他方の
刻印パターン１８が被マーキング物品４の同一刻印面
（表面）に順次刻印される。このように、独立して順次
駆動表示することにより、変換パターンＣと変換パター
ンＤとからなる最終的な所要の刻印パターンが被マーキ
ング物品の同一刻印面に順次刻印され、最終的な所要の
刻印パターンが合成される。処理は、図１の刻印すべき
所要の表示パターン５と同様に実行される。図２に示す
ように、ブロック２０において開始し、ブロック２１か
らブロック２９を経て、ブロック３０において終了す
る。
【００５３】図４は本発明のレーザマーキング装置にお
ける刻印されるべき所要の表示パターンに基づいて分離
された分離パターンの他の一例を模式的に示している。
ドットのピッチ中心間距離が狭まったドットパターン、
又はドットを斜め方向に配列させたドットパターンで
は、熱伝導の影響を強く受けやすく上述の視認性を著し
く低下させる場合がある。そこで、４つの異なる分離パ
ターンＡ′、Ａ″、Ｂ′、Ｂ″は、無刻印部分１６と刻
印部分１７からなり、ここでは、１マーク当り７ドット
×７ドットのドットマトリックス状のパターンになって
いる。この４つの異なる分離パターンＡ′、Ａ″、
Ｂ′、Ｂ″は、制御装置８の記憶部（図示しない）に個
別に記憶されるものである。
【００５４】分離パターンＡ′、Ａ″は図３に示した分
離パターンＡを細分類したもので、分離パターンＡ′
は、透過部分１７をａ、ｃ、ｅ、ｇの各行において１個
跳びに配列して、ｂ、ｄ、ｆの各行及びロ、ニ、ヘの各
列を非透過領域１６としてマスクしたものである。分離
パターンＡ″は透過部分１７をｂ、ｄ、ｆの各行におい
て１個跳びに、且つ分離パターンＡ′に重畳しないパタ
ーンで配列して、ａ、ｃ、ｅ、ｇの各行及びイ、ハ、
ホ、トの各列を非透過領域１６としてマスクしたもので
ある。分離パターンＢ′、Ｂ″は図３に示した分離パタ
ーンＢを細分類したものである。分離パターンＢ′は透
過部分１７をａ、ｃ、ｅ、ｇの各行において１個跳び
に、且つ分離パターンＡ′に重畳しないパターンで配列
して、ａ、ｃ、ｅ、ｇの各行及びイ、ハ、ホ、トの各列
を非透過領域１６としてマスクしたもので、そして、分
離パターンＢ″は透過部分１７をｂ、ｄ、ｆの各行にお
いて１個跳びに、且つ分離パターンＡ″に重畳しないパ
ターンで配列して、ａ、ｃ、ｅ、ｇの各行及びロ、ニ、
ヘの各列を非透過領域１６としてマスクしたものであ
る。
【００５５】このように、被マーキング物品４の表面に
刻印するために、刻印すべき所望の表示パターン５の光
透過又は光非透過の照射領域を複数のモードに自由に選
択することができる。処理は、図２に示すように、ブロ
ック２０において開始し、先ずブロック２１を経てから
ブロック２２及び２３において分離パターン数分を繰り
返して実行し、処理はブロック２４に移行する。次にブ
ロック２４を経てからブロック２５〜２９において分離
パターン数分を繰り返して実行し、ブロック３０におい
て終了する。
【００５６】また、液晶マスクに１回で照射する領域
は、ドット数で５×１０〜１０×１０個であり、これを
レーザ光をもって一括照射するが、かかるドット数では
必要とする全てのドットマーク数を満足し得ないことが
多いため、所要サイズの複数の表示パターンを数区画に
分割して、各分割パターンごとに、液晶マスクの駆動表
示を、１個跳び以上で、且つ互いが重畳しない少なくと
も２つの異なるパターンＡ及びＢに順次分離駆動し、全
体の刻印パターンを被マーキング物品の表面に順次形成
することができる。処理は、図２に示すように、ブロッ
ク２０において開始し、先ずブロック２１を経てからブ
ロック２２及び２３において分割パターンごとに繰り返
して実行し、処理はブロック２４に移行する。
【００５７】次にブロック２４を経てからブロック２５
〜２９において分割パターンごとに繰り返して実行し、
ブロック３０において終了する。
【００５８】また、パターン表示装置としての透過型液
晶装置に基づいて説明したが、パターン表示装置として
のマルチミラーモジュール、音響光学素子を用いること
もできる。そして又、光学部品としては、例えばフライ
アイレンズやバイナリーオプティクス、シリンドリカル
レンズを使用して、そのマスク面上に一括照射するか或
いはポリゴンミラーやミラースキャナなどのアクチュエ
ータによるミラー駆動によってマスク面上を走査させる
方式を用いることもできる。そして又、本発明における
加工対象としての被マーキング物品は、半導体ウェハ、
液晶基板等のガラス基板、ベアチップ等の電極（パッ
ド）、ＩＣ表面、各種セラミック製品、更にはＩＣのリ
ード部等がある。
【００５９】以上の説明からも明らかなように、本発明
に係るレーザマーキング装置及び方法によれば、はじめ
にドット間隔のあいた一の分離パターンＡを刻印したの
ち、同じくドット間隔があき前記一の分離パターンＡと
は重畳しない他の分離パターンＢを刻印し、これを他の
分離パターンに対しても順次行うことにより、最終的な
所定のパターンを刻印するため、極めて狭い領域であっ
ても熱伝導の影響を受けることなく、微小なドットマー
クの集合体である刻印パターンを高精度に刻印すること
ができると共に、格別の冷却時間をとることもなく、所
望のエネルギーをもつレーザビームによる刻印が可能で
あるため、結果的に刻印時間を短縮できる。更に、光学
的な視認性も高くなって、ドットの有無の読み込みが確
実になされるようになる。なお、本発明は上記実施例に
限定されるものではなく、それらの実施例から当業者が
容易に変更可能な技術的な範囲をも当然に包含するもの
である。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明のレーザマーキング装置における所要の
表示パターンを形成する形成過程と所要の表示パターン
に対応して刻印パターンを刻印する刻印過程とを模式的
に示す説明図である。
【図２】本発明のレーザマーキング装置における刻印さ
れるべき所要の表示パターンに従って形成される刻印パ
ターンの処理手順を示すフローチャートである。
【図３】本発明のレーザマーキング装置における所要の
表示パターンを形成する形成過程と所要の表示パターン
に対応して刻印パターンを刻印する刻印過程との他の一
例を模式的に示す説明図である。
【図４】本発明のレーザマーキング装置における刻印さ
れるべき所要の表示パターンに基づいて分離された分離
パターンの他の一例を模式的に示す説明図である。
【図５】レーザ光による一般的なドットマーキング装置
の一例を示す概略構成図である。
【図６】レーザ光による一般的なドットマーキング装置
の一例を示す概略構成図である。
【図７】レーザ光による一般的なドットマーキング装置
の一例を示す概略構成図である。
【図８】従来のレーザマーキング装置における液晶マス
クに形成される表示パターンの形状例を示す説明図であ
る。
【図９】従来のレーザマーキング装置における液晶マス
クの表示パターンに合せて形成された刻印パターンを示
す説明図である。
【図１０】従来のレーザマーキング装置における刻印さ
れるべき所要の表示パターンに従って形成される刻印パ
ターンの不良形状例を示す説明図である。
【符号の説明】
１，９，１１ レーザマーキング装置 ２，１０，１２ パターン表示装置 ３ レーザ発振器 ４ 被マーキング物品 ５ 所要の表示パターン ６ レンズ ７ 搬送装置 ８ 制御装置 １３ レーザ吸収板 １４ ミラー １５ ｆ−θレンズ １６ 光非透過部分 １７ 光透過部分 １８ ドットマーク １９ 不一致部分 ３１ 照射領域
フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｂ４１Ｍ 5/26 Ｂ４１Ｍ 5/26 Ｑ

Claims (16)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 パターン表示駆動体がマトリックス状に
    配され、その照射領域に透過又は反射可能な所要の表示
    パターンが駆動表示されるパターン表示装置、及び前記
    パターン表示駆動体を駆動して所要のパターンを表示す
    る制御装置を備え、前記パターン表示装置の照射領域に
    レーザ発振器からのレーザビームを照射し、該照射領域
    に表示された所要のパターンを透過又は反射するレーザ
    ビームにより、光学系を介して被マーキング物品の表面
    に所要の刻印パターンを刻印するレーザマーキング装置
    であって、 前記制御装置は、マトリックス状に配された前記パター
    ン表示駆動体を、１個跳び以上で、且つ互いが重畳しな
    い少なくとも２つの異なるパターンＡ及びＢに分離駆動
    して駆動表示するパターン分離駆動手段を有してなり、 前記パターン分離駆動手段により少なくとも２つの各分
    離パターンＡ及びＢに対応する前記パターン表示駆動体
    を独立して分離駆動して、前記被マーキング物品の同一
    刻印面に順次刻印し、最終的な前記所要の刻印パターン
    を合成することを特徴とするレーザマーキング装置。
  2. 【請求項２】 前記パターン表示装置は透過型液晶装置
    であることを特徴とす請求項１記載のレーザマーキング
    装置。
  3. 【請求項３】 前記パターン表示装置はマルチミラーモ
    ジュールであることを特徴とする請求項１記載のレーザ
    マーキング装置。
  4. 【請求項４】 前記パターン表示装置は音響光学素子で
    あることを特徴とする請求項１記載のレーザマーキング
    装置。
  5. 【請求項５】 前記制御装置が、刻印すべき前記所要の
    表示パターンと少なくとも２つの異なる前記各分離パタ
    ーンＡ及びＢとを個別に記憶する記憶部を有してなり、 少なくとも２つの異なる前記各分離パターンＡ及びＢを
    独立して前記記憶部から読み出し、前記パターン分離駆
    動手段により、該独立して読み出した前記各分離パター
    ンＡ及びＢに対応する前記パターン表示駆動体を順次分
    離駆動することを特徴とする請求項１乃至４いずれかに
    記載のレーザマーキング装置。
  6. 【請求項６】 マトリックス状に配されたドット状の上
    記表示駆動体による少なくとも異なる前記分離パターン
    Ａ、Ｂは、前記表示駆動体の配列にあって行列間におい
    て１個跳びで、且つ互いが重畳しない２つの異なる分離
    パターンであることを特徴とする請求項１又は５記載の
    レーザマーキング装置。
  7. 【請求項７】 マトリックス状に配されたドット状の上
    記表示駆動体による少なくとも異なる前記分離パターン
    Ａ、Ｂが、前記表示駆動体の配列にあって行列間におい
    て３個跳びで、且つ互いが重畳しない４つの異なる分離
    パターンＡ′、Ａ′′、Ｂ′、Ｂ′′であることを特徴
    とする請求項１又は５記載のレーザマーキング装置。
  8. 【請求項８】 更に前記制御装置が、少なくとも２つの
    異なる前記各分離パターンＡ及びＢと刻印すべき前記所
    要の表示パターンとをそれぞれ比較して、合致するパタ
    ーン表示駆動体をそれぞれ抽出し、少なくとも２つの異
    なる新たな変換パターンＣ及びＤに変換するパターン変
    換手段を有してなることを特徴とする請求項１、５乃至
    ７のいずれかに記載のレーザマーキング装置。
  9. 【請求項９】 請求項１記載の装置を用い、被マーキン
    グ物品の表面に所要の刻印パターンを刻印するレーザマ
    ーキング方法であって、 多数のドット状マークからなる前記所要の刻印パターン
    を、少なくとも２つの異なるパターンＡ及びＢに分離す
    ること、 前記パターン分離駆動手段により、前記異なる分離パタ
    ーンＡ及びＢの一つに対応する前記パターン表示駆動体
    を駆動表示すること、 次いで、前記パターン分離駆動手段の駆動を切り替え
    て、他の分離パターンＡ及びＢの一つに対応する前記パ
    ターン表示駆動体を駆動表示すること、及び前記独立し
    て駆動表示することにより、被マーキング物品の同一刻
    印面に前記分離パターンＡ、Ｂを順次刻印して、最終的
    な前記所要の刻印パターンを合成すること、を含んでな
    ることを特徴とするレーザマーキング方法。
  10. 【請求項１０】 前記パターン表示装置の照射領域に対
    してレーザビームを一括照射することを特徴とする請求
    項９記載のレーザマーキング方法。
  11. 【請求項１１】 前記パターン表示装置の照射領域に対
    してレーザビームを走査させて照射することを特徴とす
    る請求項９記載のレーザマーキング方法。
  12. 【請求項１２】 前記所要の表示パターンを複数の分割
    パターンに分割し、該各分割パターンごとに、前記パタ
    ーン表示駆動体の駆動表示を、１個跳び以上で、且つ互
    いが重畳しない少なくとも２つの異なるパターンＡ及び
    Ｂに順次分離駆動することを特徴とする請求項９乃至１
    １のいずれかに記載のレーザマーキング方法。
  13. 【請求項１３】 刻印すべき前記所要の表示パターンと
    前記各分離パターンＡ及びＢとを個別に前記記憶部に記
    憶すること、 異なる前記各分離パターンＡ又はＢを独立して前記記憶
    部から読み出し、前記パターン分離駆動手段により、読
    み出した前記各分離パターンＡ及びＢに対応するパター
    ン表示駆動体をそれぞれ順次分離駆動すること、を特徴
    とする請求項９乃至１２のいずれかに記載のレーザマー
    キング方法。
  14. 【請求項１４】 前記パターン分離駆動手段による少な
    くとも２つの異なる前記分離パターンＡ及びＢに対応す
    る前記パターン表示駆動体の分離駆動は、マトリックス
    状に配された前記パターン表示駆動体の駆動表示を、行
    列間において１個跳びで、且つ互いが重畳しない２つの
    異なる分離パターンＡ及びＢに対応して順次分離駆動す
    ることを特徴とする請求項９、１２、１３のいずれかに
    記載のレーザマーキング方法。
  15. 【請求項１５】 前記パターン分離駆動手段による少な
    くとも２つの異なる前記分離パターンＡ及びＢに対応す
    る前記パターン表紙駆動体の分離駆動は、マトリックス
    状に配された前記パターン表示駆動体を、行列間におい
    て３個跳びで、且つ互いが重畳しない４つの異なる分離
    パターンＡ′、Ａ′′、Ｂ′、Ｂ′′に対応して順次分
    離駆動することを特徴とする請求項９、１２、１３のい
    ずれかに記載のレーザマーキング方法。
  16. 【請求項１６】 請求項８に記載された前記パターン変
    換手段により、更に少なくとも２つの異なる前記各分離
    パターンＡ及びＢと刻印すべき前記所要の表示パターン
    とをそれぞれ比較して、合致するパターン表示駆動体を
    それぞれ抽出し、少なくとも２つの異なる新たな変換パ
    ターンＣ及びＤに変換すること、及び前記パターン分離
    駆動手段により前記変換パターンＣ及びＤに対応するパ
    ターン表示駆動体を独立して分離駆動することを含んで
    なることを特徴とする請求項９、１２乃至１５のいずれ
    かに記載のレーザマーキング方法。
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