JP3263517B2 - 液晶マスクマーカの駆動方法 - Google Patents
液晶マスクマーカの駆動方法Info
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Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、液晶マスクマーカの駆
動方法に関する。
動方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】液晶マスクマーカは、ワークに刻印すべ
きパターン情報が与えられる液晶マスクへレーザ光を照
射し、その透過光をワーク面に照射することにより、該
ワーク面に画像を刻印するものである。そしてこの液晶
マスクマーカは、例えば拡大されたレーザ光を画像へ一
括照射する一括照射式と、細いレーザ光をＸＹ偏向器で
偏向しつつ画像へラスタ照射するラスタ照射式とに大別
される。両者に長短はあるが、概して、ラスタ照射式は
一括照射式と比べ、構造や制御プログラムは多少複雑と
なるが、小さなレーザ光強度でよく、このため、レーザ
発振器の小形化やこれに伴う高安全性から将来の主流と
考えられている。
きパターン情報が与えられる液晶マスクへレーザ光を照
射し、その透過光をワーク面に照射することにより、該
ワーク面に画像を刻印するものである。そしてこの液晶
マスクマーカは、例えば拡大されたレーザ光を画像へ一
括照射する一括照射式と、細いレーザ光をＸＹ偏向器で
偏向しつつ画像へラスタ照射するラスタ照射式とに大別
される。両者に長短はあるが、概して、ラスタ照射式は
一括照射式と比べ、構造や制御プログラムは多少複雑と
なるが、小さなレーザ光強度でよく、このため、レーザ
発振器の小形化やこれに伴う高安全性から将来の主流と
考えられている。
【０００３】これら液晶マスクマーカの制御法として、
特開昭６４−１１０８８号公報に示す技術がある。これ
は、液晶マスクへ画像表示用電圧を印加すると、該画像
が所定のコントラストに達する（以下、「画像立ち上げ
完了」とする）までに多少時間を要し、この間にレーザ
光を該画像へ照射すると、刻印精度が低下することに着
目し、レーザ発振器のレーザ発振時期を液晶マスクへの
画像表示用電圧印加時期よりも遅延させるという技術で
ある。
特開昭６４−１１０８８号公報に示す技術がある。これ
は、液晶マスクへ画像表示用電圧を印加すると、該画像
が所定のコントラストに達する（以下、「画像立ち上げ
完了」とする）までに多少時間を要し、この間にレーザ
光を該画像へ照射すると、刻印精度が低下することに着
目し、レーザ発振器のレーザ発振時期を液晶マスクへの
画像表示用電圧印加時期よりも遅延させるという技術で
ある。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】ところで近時、例えば
ＩＣ基板への製造番号や絵柄等の刻印に見られるよう
に、量産品を高速かつ高精度で刻印できる液晶マスクマ
ーカが要望されている。ところが上記従来の液晶マスク
マーカの制御法では、上述の通り、刻印精度は向上する
が、液晶マスクでの画像立ち上げ完了まではレーザ光を
発振しないため、刻印速度の向上には寄与しないという
不都合がある。
ＩＣ基板への製造番号や絵柄等の刻印に見られるよう
に、量産品を高速かつ高精度で刻印できる液晶マスクマ
ーカが要望されている。ところが上記従来の液晶マスク
マーカの制御法では、上述の通り、刻印精度は向上する
が、液晶マスクでの画像立ち上げ完了まではレーザ光を
発振しないため、刻印速度の向上には寄与しないという
不都合がある。
【０００５】本発明は、上記従来技術の問題点に着目
し、刻印精度を維持しつつ刻印速度を高めることができ
る液晶マスクマーカの駆動方法を提供することを目的と
する。
し、刻印精度を維持しつつ刻印速度を高めることができ
る液晶マスクマーカの駆動方法を提供することを目的と
する。
【０００６】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、本発明に係わる液晶マスクマーカの駆動方法は、レ
ーザ光をワークに刻印すべきパターン情報が与えられる
液晶マスクへ照射し、その透過光をワーク面に照射する
ことにより、該ワーク面に前記画像を刻印する液晶マス
クマーカにおいて、前記液晶マスクでの画像立ち上げに
際し、前記レーザ光を、画像立ち上げ完了前に液晶マス
クの光不透過面、非液晶面のような光を透さない部分へ
照射させることを特徴としている。
め、本発明に係わる液晶マスクマーカの駆動方法は、レ
ーザ光をワークに刻印すべきパターン情報が与えられる
液晶マスクへ照射し、その透過光をワーク面に照射する
ことにより、該ワーク面に前記画像を刻印する液晶マス
クマーカにおいて、前記液晶マスクでの画像立ち上げに
際し、前記レーザ光を、画像立ち上げ完了前に液晶マス
クの光不透過面、非液晶面のような光を透さない部分へ
照射させることを特徴としている。
【０００７】
【作用】上記発明は、液晶を昇温させると該液晶の光透
過率の上昇速度が速くなること、即ち、画像立ち上げ時
間が短くなることを利用したものである。そして、この
液晶の昇温を促すものとして、画像立ち上げ完了前に該
レーザ光を液晶マスクの光不透過面、液晶マスクに設け
たレーザ光吸収体、又は液晶マスクの液晶面へ照射する
こととしたものである。
過率の上昇速度が速くなること、即ち、画像立ち上げ時
間が短くなることを利用したものである。そして、この
液晶の昇温を促すものとして、画像立ち上げ完了前に該
レーザ光を液晶マスクの光不透過面、液晶マスクに設け
たレーザ光吸収体、又は液晶マスクの液晶面へ照射する
こととしたものである。
【０００８】上記発明は、一括照射式とラスタ照射式と
のいずれの液晶マスクマーカへも適用できる。即ち、液
晶マスクでの画像立ち上げに際し、レーザ光を、画像立
ち上げ完了までは液晶マスクの光不透過面、液晶マスク
に設けたレーザ光吸収体、又は液晶マスクの液晶面へ照
射する。尚、「液晶マスクの光不透過面」とは「液晶面
の光不透過面」及び液晶マスクの外枠等の「液晶マスク
の非液晶面」を指す。
のいずれの液晶マスクマーカへも適用できる。即ち、液
晶マスクでの画像立ち上げに際し、レーザ光を、画像立
ち上げ完了までは液晶マスクの光不透過面、液晶マスク
に設けたレーザ光吸収体、又は液晶マスクの液晶面へ照
射する。尚、「液晶マスクの光不透過面」とは「液晶面
の光不透過面」及び液晶マスクの外枠等の「液晶マスク
の非液晶面」を指す。
【０００９】
【実施例】本発明の最も好適な実施例を以下説明する。
第１実施例は、図１のラスタ照射式液晶マスクマーカに
対して構成してある。先ず同図を参照し、全体の外観構
成を説明する。
第１実施例は、図１のラスタ照射式液晶マスクマーカに
対して構成してある。先ず同図を参照し、全体の外観構
成を説明する。
【００１０】Ｑスイッチ付きＹＡＧレーザ発振器１から
のレーザ光Ｌ１はビームエキスパンダ５でスキャンミラ
ー６Ｙへと集光される。そしてここで反射し、レンズ７
でポリゴンミラー６Ｘへと集光される。ここでさらに反
射し、液晶マスク８の液晶面８２へと照射される。以上
において、ポリゴンミラー６Ｘは定速回転しており、レ
ーザ光Ｌ１を液晶面８２でＸ方向（「行」方向）で行き
来させる。液晶面８２でのＹ方向への改行は、スキャン
ミラー６Ｙの微動角の回動によって達成される。このよ
うに、レーザ光Ｌ１を液晶面８２でＸＹ方向に順序よく
照射するのがラスタ照射である。尚、本例では、上記ラ
スタ照射用偏向器を第１偏向器と呼ぶこととする。次
に、液晶面８２を透過したレーザ光Ｌ２は、レンズ９で
スキャンミラー１０へと集光される。ここでさらに反射
し、レンズ１１でレンズ１２へと集光され、このレンズ
１２でさらに偏向され、ワークフィーダ１５上のワーク
面１３へと照射される。前記液晶面８２には画像が表示
されており、透過レーザ光Ｌ２はこの画像情報を含んで
いるため、ワーク面１３に該画像が刻印される。以上に
おいて、スキャンミラー１０とレンズ１２とは第２偏向
器を構成し、レーザ光Ｌ２の最適照射領域を決定してい
る。
のレーザ光Ｌ１はビームエキスパンダ５でスキャンミラ
ー６Ｙへと集光される。そしてここで反射し、レンズ７
でポリゴンミラー６Ｘへと集光される。ここでさらに反
射し、液晶マスク８の液晶面８２へと照射される。以上
において、ポリゴンミラー６Ｘは定速回転しており、レ
ーザ光Ｌ１を液晶面８２でＸ方向（「行」方向）で行き
来させる。液晶面８２でのＹ方向への改行は、スキャン
ミラー６Ｙの微動角の回動によって達成される。このよ
うに、レーザ光Ｌ１を液晶面８２でＸＹ方向に順序よく
照射するのがラスタ照射である。尚、本例では、上記ラ
スタ照射用偏向器を第１偏向器と呼ぶこととする。次
に、液晶面８２を透過したレーザ光Ｌ２は、レンズ９で
スキャンミラー１０へと集光される。ここでさらに反射
し、レンズ１１でレンズ１２へと集光され、このレンズ
１２でさらに偏向され、ワークフィーダ１５上のワーク
面１３へと照射される。前記液晶面８２には画像が表示
されており、透過レーザ光Ｌ２はこの画像情報を含んで
いるため、ワーク面１３に該画像が刻印される。以上に
おいて、スキャンミラー１０とレンズ１２とは第２偏向
器を構成し、レーザ光Ｌ２の最適照射領域を決定してい
る。
【００１１】ここで上記各駆動系の制御手段なる制御器
１７の構成を説明する。制御器１７には信号線Ｓ１〜Ｓ
８、Ｓ１１が接続され、上記各駆動系間の同期制御を行
っている。信号線Ｓ１は第１偏向器のスキャンミラー６
Ｙの駆動系と接続され、その改行及び原点復帰（後述す
る加熱目標線への復帰）のための駆動及び停止信号の出
力する。信号線Ｓ２は位置センサ１６と接続され、検出
したワークの位置信号を入力する。信号線Ｓ３はワーク
フィーダ駆動モータ１４と接続され、その駆動及び停止
信号を出力する。信号線Ｓ４は第２偏向器のレンズ１２
の駆動系と接続され、その駆動及び停止信号を出力す
る。信号線Ｓ５は第２偏向器のスキャンミラー１０の駆
動系と接続され、その駆動及び停止信号を出力する。信
号線Ｓ６は液晶マスク８の駆動素子と接続され、その画
像の表示及び消去又は切替え電圧を制御する。信号線Ｓ
７は第１偏向器のポリゴンミラー６Ｘの駆動系と接続さ
れ、その回転及び停止信号を出力する。信号線Ｓ８は外
部端末機１８との各種指令の入出力線である。信号線Ｓ
１１はレーザ発振器１と接続され、レーザ発停信号やＱ
スイッチ駆動信号を出力する。
１７の構成を説明する。制御器１７には信号線Ｓ１〜Ｓ
８、Ｓ１１が接続され、上記各駆動系間の同期制御を行
っている。信号線Ｓ１は第１偏向器のスキャンミラー６
Ｙの駆動系と接続され、その改行及び原点復帰（後述す
る加熱目標線への復帰）のための駆動及び停止信号の出
力する。信号線Ｓ２は位置センサ１６と接続され、検出
したワークの位置信号を入力する。信号線Ｓ３はワーク
フィーダ駆動モータ１４と接続され、その駆動及び停止
信号を出力する。信号線Ｓ４は第２偏向器のレンズ１２
の駆動系と接続され、その駆動及び停止信号を出力す
る。信号線Ｓ５は第２偏向器のスキャンミラー１０の駆
動系と接続され、その駆動及び停止信号を出力する。信
号線Ｓ６は液晶マスク８の駆動素子と接続され、その画
像の表示及び消去又は切替え電圧を制御する。信号線Ｓ
７は第１偏向器のポリゴンミラー６Ｘの駆動系と接続さ
れ、その回転及び停止信号を出力する。信号線Ｓ８は外
部端末機１８との各種指令の入出力線である。信号線Ｓ
１１はレーザ発振器１と接続され、レーザ発停信号やＱ
スイッチ駆動信号を出力する。
【００１２】即ち、上記液晶マスクマーカは、ＸＹ偏向
器なる第１偏向器でレーザ光Ｌ１を液晶マスク８の液晶
面８２の画像へラスタ照射し、その透過光Ｌ２をワーク
面１３に照射することにより、該ワーク面１３に前記画
像を刻印するラスタ照射式液晶マスクマーカとなってい
る。
器なる第１偏向器でレーザ光Ｌ１を液晶マスク８の液晶
面８２の画像へラスタ照射し、その透過光Ｌ２をワーク
面１３に照射することにより、該ワーク面１３に前記画
像を刻印するラスタ照射式液晶マスクマーカとなってい
る。
【００１３】かかるラスタ照射式液晶マスクマーカにお
いて、制御器１７は、殊にレーザ発振器１と、第１偏向
器６Ｘ、６Ｙ、液晶マスク８と、第２偏向器とに対し、
図７に示すタイミング制御を行っている。
いて、制御器１７は、殊にレーザ発振器１と、第１偏向
器６Ｘ、６Ｙ、液晶マスク８と、第２偏向器とに対し、
図７に示すタイミング制御を行っている。
【００１４】同図（ａ）は第１偏向器のスキャンミラー
６Ｙの駆動電流Ｉの発停タイミング、（ｂ）はレーザ発
振器１のレーザ光Ｌ１の発停タイミング、（ｃ）は液晶
マスク８への画像表示電圧Ｖの印加タイミング、（ｄ）
は画像の光透過率Ｐの変化状況、（ｅ）は後述する図６
の各表示分割画像を示す図である。
６Ｙの駆動電流Ｉの発停タイミング、（ｂ）はレーザ発
振器１のレーザ光Ｌ１の発停タイミング、（ｃ）は液晶
マスク８への画像表示電圧Ｖの印加タイミング、（ｄ）
は画像の光透過率Ｐの変化状況、（ｅ）は後述する図６
の各表示分割画像を示す図である。
【００１５】図２を予め説明しておく。同図は液晶マス
ク８の正面図である。符号Ｐ１、Ｐ２、Ｐ３は、レーザ
光Ｌ１１の液晶マスク８での照射目標面（以下、加熱目
標線とする）である。前記レーザ光Ｌ１１は、図１に示
すように、刻印用レーザ光Ｌ１２でラスタ照射を開始す
る前（即ち、画像立ち上げ完了前）に予め液晶マスク８
の光不透過面へ照射されるレーザ光である。説明を元に
戻すと、前記加熱目標線Ｐ１、Ｐ２、Ｐ３は、液晶マス
ク８の光不透過面に予め各画像毎に定められた領域であ
る。詳しくは、加熱目標線Ｐ１、Ｐ３は液晶マスク８の
非液晶面なる外枠面に設けられる。他方加熱目標線Ｐ２
は液晶マスク８の液晶面８２内に設けられる。
ク８の正面図である。符号Ｐ１、Ｐ２、Ｐ３は、レーザ
光Ｌ１１の液晶マスク８での照射目標面（以下、加熱目
標線とする）である。前記レーザ光Ｌ１１は、図１に示
すように、刻印用レーザ光Ｌ１２でラスタ照射を開始す
る前（即ち、画像立ち上げ完了前）に予め液晶マスク８
の光不透過面へ照射されるレーザ光である。説明を元に
戻すと、前記加熱目標線Ｐ１、Ｐ２、Ｐ３は、液晶マス
ク８の光不透過面に予め各画像毎に定められた領域であ
る。詳しくは、加熱目標線Ｐ１、Ｐ３は液晶マスク８の
非液晶面なる外枠面に設けられる。他方加熱目標線Ｐ２
は液晶マスク８の液晶面８２内に設けられる。
【００１６】例えば図６に示すように、原画像を予め４
分割（イ）〜（ニ）して各画像データを制御器１７に記
憶する。制御器１７は、図７（ｅ）に示すように、各画
像（イ）〜（ニ）をこの順序で液晶マスク８に表示する
ものとする。尚、制御器１７は、第２偏向器を駆動する
ことにより、各画像（イ）〜（ニ）をワーク面１３で原
画像へと合成刻印させる。
分割（イ）〜（ニ）して各画像データを制御器１７に記
憶する。制御器１７は、図７（ｅ）に示すように、各画
像（イ）〜（ニ）をこの順序で液晶マスク８に表示する
ものとする。尚、制御器１７は、第２偏向器を駆動する
ことにより、各画像（イ）〜（ニ）をワーク面１３で原
画像へと合成刻印させる。
【００１７】そこで制御器１７は、先ず、図７（ａ）に
示すように、第１偏向器のスキャンミラー６Ｙを、レー
ザ光Ｌ１１が図２の加熱目標線Ｐ２へ照射されるよう
に、駆動させる。次に図７（ｂ）に示すように、Ｑスイ
ッチでレーザ発振器１をパルス発振させると、第１偏向
器のポリゴンミラー６Ｘの回転により、レーザ光Ｌ１１
は加熱目標線Ｐ２内をＸ方向に行き来しつつ照射され
る。少なくともこの照射は図７（ｃ）のΔｔに見られる
ように、レーザ光Ｌ１１が光学系の駆動により、加熱目
標線への照射位置に設定されたのち、画像表示用電圧Ｖ
を印加する前に行われる。図３は、前記照射時の液晶マ
スク８の熱状態を拡大して示したものである。レーザ光
Ｌ１１が液晶マスク８に照射されると、液晶電極８１が
レーザ光Ｌ１１の一部を吸収して発熱する。ここで発し
た熱が液晶電極８１を伝わり、液晶マスク８に拡散し
（図４）、これにより、液晶が昇温する。そのとき、図
７（ｃ）に示すように、液晶マスク８に画像（イ）の表
示用電圧Ｖを印加する（即ち、画像の立ち上げを開始す
る）。そして、図７（ｄ）に示すように、画像（イ）の
立ち上げが完了したとき、第１偏向器６Ｘ、６Ｙでレー
ザ光Ｌ１２を第１照射線からラスタ照射し、ワーク面１
３に該画像（イ）を刻印させる。
示すように、第１偏向器のスキャンミラー６Ｙを、レー
ザ光Ｌ１１が図２の加熱目標線Ｐ２へ照射されるよう
に、駆動させる。次に図７（ｂ）に示すように、Ｑスイ
ッチでレーザ発振器１をパルス発振させると、第１偏向
器のポリゴンミラー６Ｘの回転により、レーザ光Ｌ１１
は加熱目標線Ｐ２内をＸ方向に行き来しつつ照射され
る。少なくともこの照射は図７（ｃ）のΔｔに見られる
ように、レーザ光Ｌ１１が光学系の駆動により、加熱目
標線への照射位置に設定されたのち、画像表示用電圧Ｖ
を印加する前に行われる。図３は、前記照射時の液晶マ
スク８の熱状態を拡大して示したものである。レーザ光
Ｌ１１が液晶マスク８に照射されると、液晶電極８１が
レーザ光Ｌ１１の一部を吸収して発熱する。ここで発し
た熱が液晶電極８１を伝わり、液晶マスク８に拡散し
（図４）、これにより、液晶が昇温する。そのとき、図
７（ｃ）に示すように、液晶マスク８に画像（イ）の表
示用電圧Ｖを印加する（即ち、画像の立ち上げを開始す
る）。そして、図７（ｄ）に示すように、画像（イ）の
立ち上げが完了したとき、第１偏向器６Ｘ、６Ｙでレー
ザ光Ｌ１２を第１照射線からラスタ照射し、ワーク面１
３に該画像（イ）を刻印させる。
【００１８】尚、上記「第１照射線」とは、「ある画像
においてＹ方向で最初の透過部を含む行」と定義してお
く。例えば、図２に示す通り、画像（イ）の光透過部
（図示の黒塗り部）の頂点を含む行であって、この行か
らＹ方向（下方）へ該画像（イ）用ラスタ照射を始める
ものとする。従って、加熱目標線Ｐ２は、図２に示すよ
うに、前記第１照射線より図示上方位置に設定されてい
る。この加熱目標線Ｐ２は、画像（イ）から見て、画像
立ち上げ完了の前後に係わらず、本来的に光が不透過で
あるから、前記のように予めレーザ光Ｌ１１を照射して
いても、ワーク面１３上の刻印に影響を与えないからで
ある。尚、上記第１偏向器によれば、このような液晶面
８２における途中行からのラスタ照射は容易にできるこ
とである。そしてかかる制御も制御器１７が行う。
においてＹ方向で最初の透過部を含む行」と定義してお
く。例えば、図２に示す通り、画像（イ）の光透過部
（図示の黒塗り部）の頂点を含む行であって、この行か
らＹ方向（下方）へ該画像（イ）用ラスタ照射を始める
ものとする。従って、加熱目標線Ｐ２は、図２に示すよ
うに、前記第１照射線より図示上方位置に設定されてい
る。この加熱目標線Ｐ２は、画像（イ）から見て、画像
立ち上げ完了の前後に係わらず、本来的に光が不透過で
あるから、前記のように予めレーザ光Ｌ１１を照射して
いても、ワーク面１３上の刻印に影響を与えないからで
ある。尚、上記第１偏向器によれば、このような液晶面
８２における途中行からのラスタ照射は容易にできるこ
とである。そしてかかる制御も制御器１７が行う。
【００１９】ワーク面１３への前記画像（イ）の刻印が
完了すると、制御器１７は、上述の通り、次画像（ロ）
の刻印領域へ透過レーザ光Ｌ２が指向するように、第２
偏向器を駆動させる。制御器１７は、その後、次画像
（ロ）を液晶面８２に表示させることになる。この次画
像（ロ）は、図６及び図７（ｅ）に示す通り、前画像
（イ）と異なり、液晶面８２の第１走査線にも透過部が
存在する画像である。従って、制御器１７は、図７
（ａ）に示す第１偏向器のスキャンミラー６Ｙを、レー
ザ光Ｌ１１が図２の加熱目標線Ｐ１へ照射させるよう
に、駆動させる。さらなる次画像（ハ）の加熱目標線Ｐ
１も、該画像（ハ）が前記画像（ロ）と同様形式である
ことから、非液晶面なる外枠面に設けられる。そして最
後の画像（ニ）の加熱目標線Ｐ２は、該画像（ニ）が前
記画像（イ）と同様形式であることから、前記画像
（イ）の加熱目標線Ｐ２と同様、液晶面８２内の画像の
光不透過面に設定される。尚、ラスタ走査が液晶面８２
の下から上に向かって行われる場合には、加熱目標線Ｐ
３又はＰ２を画像の下に持ってきてもよい。
完了すると、制御器１７は、上述の通り、次画像（ロ）
の刻印領域へ透過レーザ光Ｌ２が指向するように、第２
偏向器を駆動させる。制御器１７は、その後、次画像
（ロ）を液晶面８２に表示させることになる。この次画
像（ロ）は、図６及び図７（ｅ）に示す通り、前画像
（イ）と異なり、液晶面８２の第１走査線にも透過部が
存在する画像である。従って、制御器１７は、図７
（ａ）に示す第１偏向器のスキャンミラー６Ｙを、レー
ザ光Ｌ１１が図２の加熱目標線Ｐ１へ照射させるよう
に、駆動させる。さらなる次画像（ハ）の加熱目標線Ｐ
１も、該画像（ハ）が前記画像（ロ）と同様形式である
ことから、非液晶面なる外枠面に設けられる。そして最
後の画像（ニ）の加熱目標線Ｐ２は、該画像（ニ）が前
記画像（イ）と同様形式であることから、前記画像
（イ）の加熱目標線Ｐ２と同様、液晶面８２内の画像の
光不透過面に設定される。尚、ラスタ走査が液晶面８２
の下から上に向かって行われる場合には、加熱目標線Ｐ
３又はＰ２を画像の下に持ってきてもよい。
【００２０】上記第１実施例の作用及び効果を説明す
る。上記第１実施例によれば、画像立ち上げ完了前にレ
ーザ光を液晶マスクの光不透過面へラスタ照射している
ため、液晶が昇温する。これを図８に示す。同図は、横
軸に時間ｔを、縦軸に光透過率Ｐ（即ち、画像立ち上げ
完了状況）を示し、立上がり曲線Ｑは従来技術、立上が
り曲線Ｑ１は上記実施例である。同図の立上がり曲線Ｑ
１と立上がり曲線Ｑとから分かる通り、実施例は従来技
術と比べ、画像立ち上がり時間が大幅に短縮されてい
る。具体的には、従来、約３０ミリ秒程度要した画像立
ち上げ時間が、上記実施例によれば、約５〜６ミリ秒程
度短縮している。
る。上記第１実施例によれば、画像立ち上げ完了前にレ
ーザ光を液晶マスクの光不透過面へラスタ照射している
ため、液晶が昇温する。これを図８に示す。同図は、横
軸に時間ｔを、縦軸に光透過率Ｐ（即ち、画像立ち上げ
完了状況）を示し、立上がり曲線Ｑは従来技術、立上が
り曲線Ｑ１は上記実施例である。同図の立上がり曲線Ｑ
１と立上がり曲線Ｑとから分かる通り、実施例は従来技
術と比べ、画像立ち上がり時間が大幅に短縮されてい
る。具体的には、従来、約３０ミリ秒程度要した画像立
ち上げ時間が、上記実施例によれば、約５〜６ミリ秒程
度短縮している。
【００２１】他の実施例を以下項目列挙する。 （１）上記第１実施例における画像（ロ）及び（ハ）で
はレーザ光Ｌ１１を液晶マスク８の外枠面への直接照射
したが、同位置に液晶電極８１以外のレーザ光Ｌ１１に
より発熱する物体を設け、これにレーザ光Ｌ１１を照射
してもよい。図５はその実施例を示したものである。レ
ーザ光Ｌ１１が例えば上から下へ走査される場合、液晶
面８２の真上にレーザ光吸収体８３を設ける。このレー
ザ光吸収体８３は、例えば液晶電極８１と同じ材質（Ｉ
ＴＯ）、アルミニウム、インジウム又はロジウム等のレ
ーザ光Ｌ１１を吸収する材質又はこれらと他の材料との
混合物からなり、液晶マスク８の表面に貼付又はガラス
とガラスとの間に挟んで設ける。本実施例によれば、発
熱がさらに高まることになるため、液晶はより一層昇温
される。
はレーザ光Ｌ１１を液晶マスク８の外枠面への直接照射
したが、同位置に液晶電極８１以外のレーザ光Ｌ１１に
より発熱する物体を設け、これにレーザ光Ｌ１１を照射
してもよい。図５はその実施例を示したものである。レ
ーザ光Ｌ１１が例えば上から下へ走査される場合、液晶
面８２の真上にレーザ光吸収体８３を設ける。このレー
ザ光吸収体８３は、例えば液晶電極８１と同じ材質（Ｉ
ＴＯ）、アルミニウム、インジウム又はロジウム等のレ
ーザ光Ｌ１１を吸収する材質又はこれらと他の材料との
混合物からなり、液晶マスク８の表面に貼付又はガラス
とガラスとの間に挟んで設ける。本実施例によれば、発
熱がさらに高まることになるため、液晶はより一層昇温
される。
【００２２】 （２）上記第１実施例では、その加熱目標線を、画像
（イ）及び（ニ）ではＰ２（画像の光不透過面）、他方
画像（ロ）及び（ハ）ではＰ１（液晶マスクの光不透過
面である非液晶面）としたが、このように画像毎に変更
するのではなく、総てＰ１としてもよい。また仮に総て
の画像が上記画像（イ）及び（ニ）の形式の場合は、Ｐ
１又はＰ２の何方か一方に統一してもよい。但しこの場
合、Ｐ２とする方が熱伝導効率から見て有利である。 （２−１）上記実施例では、レーザ光Ｌ１１は表示部近
傍を照射することになっているが、液晶表示電圧がＯＦ
Ｆのときは、液晶表示部を直接照射してもよい。 （２−２）複数ワークの連続刻印を実施するときは、各
ワークの刻印と刻印との間に、次ワークの刻印パターン
の液晶コントラストの立ち上がりを良くするために本発
明を利用することができる。
（イ）及び（ニ）ではＰ２（画像の光不透過面）、他方
画像（ロ）及び（ハ）ではＰ１（液晶マスクの光不透過
面である非液晶面）としたが、このように画像毎に変更
するのではなく、総てＰ１としてもよい。また仮に総て
の画像が上記画像（イ）及び（ニ）の形式の場合は、Ｐ
１又はＰ２の何方か一方に統一してもよい。但しこの場
合、Ｐ２とする方が熱伝導効率から見て有利である。 （２−１）上記実施例では、レーザ光Ｌ１１は表示部近
傍を照射することになっているが、液晶表示電圧がＯＦ
Ｆのときは、液晶表示部を直接照射してもよい。 （２−２）複数ワークの連続刻印を実施するときは、各
ワークの刻印と刻印との間に、次ワークの刻印パターン
の液晶コントラストの立ち上がりを良くするために本発
明を利用することができる。
【００２３】（３）液晶マスクマーカは上記ラスタ照射
式に限る必要はなく、一括照射式でもよい。この場合に
は、液晶マスク８に刻印情報を表示させる前に、一括照
射を一度行って液晶を昇温させた後、刻印情報で表示さ
せ、再度一括照射を行えばよい。
式に限る必要はなく、一括照射式でもよい。この場合に
は、液晶マスク８に刻印情報を表示させる前に、一括照
射を一度行って液晶を昇温させた後、刻印情報で表示さ
せ、再度一括照射を行えばよい。
【００２４】（４）画像の早期立ち上げは、画像立ち上
げ時の一定時間のみ、該画像用印加電圧をより高めるこ
とによっても達成できる。そこで、この画像用印加電圧
制御を上記実施例と組み合わせて実施してもよく、この
ようにすることにより、より効果的な画像の早期立ち上
げを達成することができる。
げ時の一定時間のみ、該画像用印加電圧をより高めるこ
とによっても達成できる。そこで、この画像用印加電圧
制御を上記実施例と組み合わせて実施してもよく、この
ようにすることにより、より効果的な画像の早期立ち上
げを達成することができる。
【００２５】
【発明の効果】以上説明したように、本発明に係わる液
晶マスクマーカの駆動方法は、液晶が昇温すると画像立
ち上がり時間が短縮されることに着目し、画像立ち上げ
に際し、画像立ち上げ完了前に液晶マスクの光不透過
面、液晶マスクに設けたレーザ光吸収体、又は液晶マス
クの液晶面へレーザ光を照射するようにした。これによ
り液晶が昇温し、この昇温によって画像立ち上げ時間の
短縮を図ることができる。また、画像立ち上げ後、刻印
用のレーザ光を発振させるため、刻印精度を高く維持す
ることができる。また従来行われていたヒータ等による
余熱が不要となるため、装置の信頼性及びメインテナン
ス性が向上する。
晶マスクマーカの駆動方法は、液晶が昇温すると画像立
ち上がり時間が短縮されることに着目し、画像立ち上げ
に際し、画像立ち上げ完了前に液晶マスクの光不透過
面、液晶マスクに設けたレーザ光吸収体、又は液晶マス
クの液晶面へレーザ光を照射するようにした。これによ
り液晶が昇温し、この昇温によって画像立ち上げ時間の
短縮を図ることができる。また、画像立ち上げ後、刻印
用のレーザ光を発振させるため、刻印精度を高く維持す
ることができる。また従来行われていたヒータ等による
余熱が不要となるため、装置の信頼性及びメインテナン
ス性が向上する。
【図１】実施例なるラスタ照射式液晶マスクマーカの全
体構成図である。
体構成図である。
【図２】実施例における液晶マスクの正面図である。
【図３】液晶マスクの部分拡大図である。
【図４】液晶電極の部分拡大図である。
【図５】他の実施例における液晶マスクの正面図であ
る。
る。
【図６】実施例を説明するための４分割画像例である
【図７】実施例における制御器の駆動系への駆動タイミ
ングチャートであり、（ａ）は第１偏向器のスキャンミ
ラーの駆動タイミングチャート、（ｂ）はレーザ光の発
振タイミングチャート、（ｃ）は液晶マスクへの画像表
示電圧の印加タイミングチャート、（ｄ）は画像の立ち
上がりチャート、（ｄ）は表示画像図である。
ングチャートであり、（ａ）は第１偏向器のスキャンミ
ラーの駆動タイミングチャート、（ｂ）はレーザ光の発
振タイミングチャート、（ｃ）は液晶マスクへの画像表
示電圧の印加タイミングチャート、（ｄ）は画像の立ち
上がりチャート、（ｄ）は表示画像図である。
【図８】画像立ち上げ状況の説明図である。
１・・・・レーザ発振器 ６・・・・ＸＹ偏向器 ８・・・・液晶マスク ８１・・・・液晶電極 ８２・・・・画像（液晶面） ８３・・・・レーザ光吸収体 １３・・・・ワーク表面 １７・・・・制御器 Ｌ１・・・・レーザ光 Ｌ２・・・・透過レーザ光 Ｐ１、Ｐ３・・・・非液晶面の加熱目標線 Ｐ２・・・・画像内の加熱目標線
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭56−38888（ＪＰ，Ａ) 特開 昭64−11088（ＪＰ，Ａ) 特開 平６−142951（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) B23K 26/06 B23K 26/00 G02F 1/13 G09G 3/36
Claims (3)
- 【請求項１】 レーザ光をワークに刻印すべきパターン
情報が与えられる液晶マスクへ照射し、その透過光をワ
ーク面に照射することにより、該ワーク面に前記画像を
刻印する液晶マスクマーカにおいて、前記液晶マスクで
の画像立ち上げに際し、前記レーザ光を、画像立ち上げ
完了前に液晶マスクの光不透過面へ照射させることを特
徴とする液晶マスクマーカの駆動方法。 - 【請求項２】 レーザ光をワークに刻印すべきパターン
情報が与えられる液晶マスクへ照射し、その透過光をワ
ーク面に照射することにより、該ワーク面に前記画像を
刻印する液晶マスクマーカにおいて、前記液晶マスクで
の画像立ち上げに際し、前記レーザ光を、画像立ち上げ
完了前に液晶マスクに設けたレーザ光吸収体へ照射させ
ることを特徴とする液晶マスクマーカの駆動方法。 - 【請求項３】 レーザ光をワークに刻印すべきパターン
情報が与えられる液晶マスクへ照射し、その透過光をワ
ーク面に照射することにより、該ワーク面に前記画像を
刻印する液晶マスクマーカにおいて、前記液晶マスクで
の画像立ち上げに際し、前記レーザ光を、画像立ち上げ
完了前に液晶マスクの液晶面へ照射させることを特徴と
する液晶マスクマーカの駆動方法。
Priority Applications (5)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP03422994A JP3263517B2 (ja) | 1994-02-08 | 1994-02-08 | 液晶マスクマーカの駆動方法 |
| KR1019960704054A KR970700563A (ko) | 1994-02-08 | 1995-02-06 | 액정마스크마커의 구동방법(method of driving liquid crystal mask marker) |
| PCT/JP1995/000150 WO1995021718A1 (fr) | 1994-02-08 | 1995-02-06 | Procede de pilotage pour afficheur par panneau a cristaux liquides |
| US08/687,472 US5734145A (en) | 1994-02-08 | 1995-02-06 | Laser marking method using laser heated liquid crystal mask |
| EP95907838A EP0744239A4 (en) | 1994-02-08 | 1995-02-06 | DRIVING METHOD FOR A LIQUID CRYSTAL PANEL DISPLAY |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP03422994A JP3263517B2 (ja) | 1994-02-08 | 1994-02-08 | 液晶マスクマーカの駆動方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07214364A JPH07214364A (ja) | 1995-08-15 |
| JP3263517B2 true JP3263517B2 (ja) | 2002-03-04 |
Family
ID=12408324
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP03422994A Expired - Fee Related JP3263517B2 (ja) | 1994-02-08 | 1994-02-08 | 液晶マスクマーカの駆動方法 |
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| Country | Link |
|---|---|
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| EP (1) | EP0744239A4 (ja) |
| JP (1) | JP3263517B2 (ja) |
| KR (1) | KR970700563A (ja) |
| WO (1) | WO1995021718A1 (ja) |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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| JPH09277069A (ja) * | 1996-04-12 | 1997-10-28 | Komatsu Ltd | 液晶マスク、液晶式レーザマーカ及びそれを用いた刻印方法 |
| JPH10156561A (ja) * | 1996-11-29 | 1998-06-16 | Komatsu Ltd | レーザマーキング方法および装置および液晶素子の駆動方法 |
| DE10119456C1 (de) * | 2001-04-20 | 2003-05-08 | Siemens Ag | Beschriftungsverfahren für ein elektrisches Gerät |
| CN101228530A (zh) * | 2005-07-21 | 2008-07-23 | 皇家飞利浦电子股份有限公司 | 用于便携式电子设备的软件控制机械锁 |
| US10350705B2 (en) | 2014-07-01 | 2019-07-16 | Qiova | Micromachining method for patterning a material |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4093355A (en) * | 1977-02-04 | 1978-06-06 | General Motors Corporation | Symmetrical internal heater for liquid crystal display |
| JPS5887535A (ja) * | 1981-11-20 | 1983-05-25 | Sony Corp | 液晶表示装置 |
| US4734558A (en) * | 1983-05-16 | 1988-03-29 | Nec Corporation | Laser machining apparatus with controllable mask |
| JPS62206528A (ja) * | 1986-03-07 | 1987-09-11 | Nec Corp | 液晶ライトバルブ書込み方式 |
| GB2188748B (en) * | 1986-04-05 | 1989-12-13 | Stc Plc | Semiconductor device manufacture |
| US4818835A (en) * | 1987-03-02 | 1989-04-04 | Hitachi, Ltd. | Laser marker and method of laser marking |
| JP2602266B2 (ja) * | 1987-03-02 | 1997-04-23 | 株式会社日立製作所 | レーザマーカ及びそれを利用したレーザ発振器 |
| JP2633954B2 (ja) * | 1989-04-10 | 1997-07-23 | 株式会社日立製作所 | 液晶式マーキング方法及びその装置 |
| JPH03248784A (ja) * | 1990-02-28 | 1991-11-06 | Hitachi Ltd | レーザマーキングシステム |
| TW225050B (ja) * | 1990-11-30 | 1994-06-11 | Hitachi Ltd | |
| JP2701183B2 (ja) * | 1991-08-09 | 1998-01-21 | 株式会社小松製作所 | 液晶マスク式レーザマーカ |
-
1994
- 1994-02-08 JP JP03422994A patent/JP3263517B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
1995
- 1995-02-06 US US08/687,472 patent/US5734145A/en not_active Expired - Fee Related
- 1995-02-06 EP EP95907838A patent/EP0744239A4/en not_active Withdrawn
- 1995-02-06 KR KR1019960704054A patent/KR970700563A/ko not_active Application Discontinuation
- 1995-02-06 WO PCT/JP1995/000150 patent/WO1995021718A1/ja not_active Application Discontinuation
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| WO1995021718A1 (fr) | 1995-08-17 |
| KR970700563A (ko) | 1997-02-12 |
| US5734145A (en) | 1998-03-31 |
| EP0744239A1 (en) | 1996-11-27 |
| JPH07214364A (ja) | 1995-08-15 |
| EP0744239A4 (en) | 1997-12-10 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |