JP2000010311A - 電子写真感光体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 繰り返し使用によっても帯電電位と残留
電位の安定性に優れた電子写真感光体を提供する。 【解決手段】 Ｘ線回折ピークを示さない非結晶性のオ
キシチタニウムフタロシアニンをメチルイソブチルケト
ンにより処理して得たＣｕ−Ｋα特性Ｘ線（波長１．５
４Å）を用いたＸ線回折スペクトルにおいて、ブラッグ
角２θの明瞭なピークが少なくとも２７．２±０．２゜
にある顔料を分散することにより得られるブラッグ角２
θが２６．２±０．２゜に吸収をもつオキシチタニウム
フタロシアニン顔料を電荷発生材として用いた電子写真
感光体である。又、電荷発生層用バインダに水酸基のモ
ル比率が３０％以下のブチラール樹脂を使用したもので
ある。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、電子写真感光体に
関し、詳しくは、繰り返し使用によっても感光体の帯電
電位と残留電位の安定性に優れた電子写真感光体に関す
る。

【０００２】

【従来の技術】近年、電子写真方式を用いた情報処理シ
ステム機の発展は目覚ましいものがある。特に情報をデ
ジタル信号に変換して光によって情報記録を行う光プリ
ンターは、そのプリント品質、信頼性において向上が著
しい。このデジタル記録技術はプリンターのみならず通
常の複写機にも応用され所謂デジタル複写機が開発され
ている。又、従来からあるアナログ複写にこのデジタル
記録技術を搭載した複写機は、種々様々な情報処理機能
が付加されるため今後その需要性が益々高まっていくと
予想される。

【０００３】光プリンターの光源としては現在のところ
小型で安価で信頼性の高い半導体レーザー（ＬＤ）や発
光ダイオード（ＬＥＤ）が多く使われている。現在よく
使われているＬＥＤの発光波長は６６０ｎｍであり、Ｌ
Ｄの発光波長域は近赤外光領域にある。このため可視光
領域から近赤外光領域に高い感度を有する電子写真感光
体の開発が望まれている。

【０００４】電子写真感光体の感光波長域は感光体に使
用される電荷発生物質の感光波長域によってほぼ決まっ
てしまう。そのため従来から各種アゾ顔料、多環キノン
系顔料、三方晶形セレン、各種フタロシアニン顔料等多
くの電荷発生物質が開発されている。それらの内、オキ
シチタニウムフタロシアニン（ＴｉＯＰｃと略記され
る）は６００〜８００ｎｍの長波長光に対して高感度を
示すため、光源がＬＥＤやＬＤである電子写真プリンタ
ーやデジタル複写機用の感光体用材料として極めて重要
かつ有用である。

【０００５】一方、カールソンプロセスおよび類似プロ
セスにおいて繰り返し使用される電子写真感光体の条件
としては、感度、受容電位、電位保持性、電位安定性、
残留電位、分光特性に代表される静電特性が優れている
ことが要求される。一般にくり返し使用による帯電性の
低下と残留電位の上昇が、感光体の寿命特性を支配する
ことが多くの感光体で経験的に知られており、オキシチ
タニウムフタロシアニンもこの例外ではない。したがっ
て、オキシチタニウムフタロシアニンを用いた感光体の
繰り返し使用による安定性は未だ充分とはいえず、その
技術の完成が熱望されていた。

【０００６】ＴｉＯＰｃの合成法や電子写真特性に関す
る文献としては、例えば特開昭５７−１４８７４５号公
報、特開昭５９−３６２５４号公報、特開昭５９−４４
０５４号公報、特開昭５９−３１９６５号公報、特開昭
６１−２３９２４８号公報、特開昭６２−６７０９４号
公報などが挙げられる。しかしながら、これらの方法に
おいても帯電性、感度、残留電位等からみて充分な特性
のものは得られていない。

【０００７】

【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、高感
度でかつ繰り返し使用によっても帯電性の低下を生じな
い安定な電子写真感光体を提供することにある。

【０００８】

【課題を解決するための手段】本発明者らは、鋭意検討
の結果、本発明を完成するに至った。

【０００９】すなわち、本発明は、強いＸ線回折ピーク
を示さない非結晶性のオキシチタニウムフタロシアニン
をメチルイソブチルケトンにより処理して得たＣｕ−Ｋ
α特性Ｘ線（波長１．５４Å）を用いたＸ線回折スペク
トルにおいて、ブラッグ角２θの明瞭なピークが少なく
とも２７．２±０．２゜にある顔料を分散することによ
り得られるブラッグ角２θが２６．２±０．２゜に吸収
をもつオキシチタニウムフタロシアニン顔料を電荷発生
材として用いた電子写真感光体である。そして、又、電
荷発生層用バインダに水酸基のモル比率が３０％以下の
ブチラール樹脂を使用した電子写真感光体である。

【００１０】本発明で用いられる、オキシチタニウムフ
タロシアニン顔料の基本構造は次の一般式（Ｉ）で表わ
される。

【００１１】

【化１】

【００１２】（式中、Ｘ₁、Ｘ₂、Ｘ₃、Ｘ₄は各々独立に
各種ハロゲン原子を表し、ｎ、ｍ、ｌ、ｋは各々独立的
に０〜４の数字を表す） 合成原料によってはハロゲンの入らない方法もあり本特
許はどちらでも可能である。

【００１３】また、ここでいう非結晶性とは例えば硫酸
ペースト処理後のようなＸ線回折スペクトルにおいて明
瞭な回折ピークを示さないものをいう。

【００１４】本発明におけるオキシチタニウムフタロシ
アニンは通常のオキシチタニウムフタロシアニンの合成
方法により得られる。また特定の強いＸ線回折ピークを
示さない非結晶性のオキシチタニウムフタロシアニンは
合成洗浄後の顔料を硫酸に溶解後に水中に滴下するよく
知られた硫酸処理によって得られる。

【００１５】以下、本発明を図面に沿って説明する。

【００１６】図１は、本発明に用いられる電子写真感光
体の構成例を示す断面図であり、電荷発生材料を主成分
とする電荷発生層３５と、電荷輸送材料を主成分とする
電荷輸送層３７とが積層された構成をとっている。

【００１７】導電性支持体３１としては、体積抵抗１０
¹⁰Ω・ｃｍ以下の導電性を示すもの、例えば、アルミニ
ウム、ニッケル、クロム、ニクロム、銅、金、銀、白金
などの金属、酸化スズ、酸化インジウムなどの金属酸化
物を、蒸着またはスパッタリングにより、フィルム状も
しくは円筒状のプラスチック、紙に被覆したもの、ある
いは、アルミニウム、アルミニウム合金、ニッケル、ス
テンレスなどの板およびそれらを、押し出し、引き抜き
などの工法で素管化後、切削、超仕上げ、研摩などの表
面処理した管などを使用することができる。また、特開
昭５２−３６０１６号公報に開示されたエンドレスニッ
ケルベルト、エンドレスステンレスベルトも導電性支持
体３１として用いることができる。

【００１８】この他、上記支持体上に導電性粉体を適当
な結着樹脂に分散して塗工したものも、本発明の導電性
支持体３１として用いることができる。この導電性粉体
としては、カーボンブラック、アセチレンブラック、ま
たアルミニウム、ニッケル、鉄、ニクロム、銅、亜鉛、
銀などの金属粉、あるいは導電性酸化スズ、ＩＴＯなど
の金属酸化物粉体などが挙げられる。また、同時に用い
られる結着樹脂には、ポリスチレン、スチレン−アクリ
ロニトリル共重合体、スチレン−ブタジエン共重合体、
スチレン−無水マレイン酸共重合体、ポリエステル、ポ
リ塩化ビニル、塩化ビニル、塩化ビニル−酢酸ビニル共
重合体、ポリ酢酸ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリア
リレート樹脂、フェノキシ樹脂、ポリカーボネート、酢
酸セルロース樹脂、エチルセルロース樹脂、ポリビニル
ブチラール、ポリビニルホルマール、ポリビニルトルエ
ン、ポリ−Ｎ−ビニルカルバゾール、アクリル樹脂、シ
リコーン樹脂、エポキシ樹脂、メラミン樹脂、ウレタン
樹脂、フェノール樹脂、アルキッド樹脂などの熱可塑
性、熱硬化性樹脂または光硬化性樹脂が挙げられる。こ
のような導電性層は、これらの導電性粉体と結着樹脂を
適当な溶剤、例えば、ＴＨＦ、ＭＤＣ、ＭＥＫ、トルエ
ンなどに分散して塗布することにより設けることができ
る。

【００１９】さらに、適当な円筒基体上にポリ塩化ビニ
ル、ポリプロピレン、ポリエステル、ポリスチレン、ポ
リ塩化ビニリデン、ポリエチレン、塩化ゴム、テフロン
などの素材に前記導電性粉体を含有させた熱収縮チュー
ブによって導電性層を設けてなるものも、本発明の導電
性支持体３１として良好に用いることができる。

【００２０】次に感光層について説明する。

【００２１】電荷発生層３５は、電荷発生材料として請
求項の顔料を主成分とする層である。

【００２２】電荷発生層３５は、前記顔料を必要に応じ
てバインダー樹脂とともに適当な溶剤中にボールミル、
アトライター、サンドミル、超音波などを用いて分散
し、これを導電性支持体上に塗布し、乾燥することによ
り形成される。

【００２３】電荷発生層用バインダに水酸基のモル比率
が３０％以下のブチラール樹脂を使用した電子写真感光
体が電気特性が良好であった。結着樹脂の量は、電荷発
生物質１００重量部に対し０〜５００重量部、好ましく
は１０〜３００重量部が適当である。

【００２４】電荷発生層３５には、上記の顔料の他にそ
の他の電荷発生材料を併用することも可能であり、その
代表として、モノアゾ顔料、ジスアゾ顔料、トリスアゾ
顔料、ペリレン系顔料、ペリノン系顔料、キナクリドン
系顔料、キノン系縮合多環化合物、スクアリック酸系染
料、フタロシアニン系顔料、ナフタロシアニン系顔料、
アズレニウム塩系染料等が挙げられ用いられる。

【００２５】ここで用いられる溶剤としては、イソプロ
パノール、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキ
サノン、テトラヒドロフラン、ジオキサン、エチルセル
ソルブ、酢酸エチル、酢酸メチル、ジクロロメタン、ジ
クロロエタン、モノクロロベンゼン、シクロヘキサン、
トルエン、キシレン、リグロイン等が挙げられる。塗布
液の塗工法としては、浸漬塗工法、スプレーコート、ビ
ートコート、ノズルコート、スピナーコート、リングコ
ート等の方法を用いることができる。

【００２６】電荷発生層３５の膜厚は、０．０１〜５μ
ｍ程度が適当であり、好ましくは０．１〜２μｍであ
る。

【００２７】電荷輸送層３７は、電荷輸送物質および結
着樹脂を適当な溶剤に溶解ないし分散し、これを電荷発
生層上に塗布、乾燥することにより形成できる。また、
必要により可塑剤、レベリング剤、酸化防止剤等を添加
することもできる。

【００２８】電荷輸送物質には、正孔輸送物質と電子輸
送物質とがある。電荷輸送物質としては、例えばクロル
アニル、ブロムアニル、テトラシアノエチレン、テトラ
シアノキノジメタン、２，４，７−トリニトロ−９−フ
ルオレノン、２，４，５，７−テトラニトロ−９−フル
オレノン、２，４，５，７−テトラニトロキサントン、
２，４，８−トリニトロチオキサントン、２，６，８−
トリニトロ−４Ｈ−インデノ［１，２−ｂ］チオフェン
−４−オン、１，３，７−トリニトロジベンゾチオフェ
ン−５，５−ジオキサイド、ベンゾキノン誘導体等の電
子受容性物質が挙げられる。

【００２９】正孔輸送物質としては、ポリ−Ｎ−ビニル
カルバゾールおよびその誘導体、ポリ−γ−カルバゾリ
ルエチルグルタメート及びその誘導体、ピレン−ホルム
アルデヒド縮合体およびその誘導体、ポリビニルピレ
ン、ポリビニルフェナントレン、ポリシラン、オキサゾ
ール誘導体、オキサジアゾール誘導体、イミダゾール誘
導体、モノアリールアミン誘導体、ジアリールアミン誘
導体、トリアリールアミン誘導体、スチルベン誘導体、
α−フェニルスチルベン誘導体、ベンジジン誘導体、ジ
アリールメタン誘導体、トリアリールメタン誘導体、９
−スチリルアントラセン誘導体、ピラゾリン誘導体、ジ
ビニルベンゼン誘導体、ヒドラゾン誘導体、インデン誘
導体、ブタジエン誘導体、ピレン誘導体等、ビススチル
ベン誘導体、エナミン誘導体等その他公知の材料が挙げ
られる。これらの電荷輸送物質は単独、または２種以上
混合して用いられる。

【００３０】結着樹脂としては、ポリスチレン、スチレ
ン−アクリロニトリル共重合体、スチレン−ブタジエン
共重合体、スチレン−無水マレイン酸共重合体、ポリエ
ステル、ポリ塩化ビニル、塩化ビニル−酢酸ビニル共重
合体、ポリ酢酸ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリアレ
ート、フェノキシ樹脂、ポリカーボネート、酢酸セルロ
ース樹脂、エチルセルロール樹脂、ポリビニルブチラー
ル、ポリビニルホルマール、ポリビニルトルエン、ポリ
−Ｎ−ビニルカルバゾール、アクリル樹脂、シリコーン
樹脂、エポキシ樹脂、メラミン樹脂、ウレタン樹脂、フ
ェノール樹脂、アルキッド樹脂等の熱可塑性または熱硬
化性樹脂が挙げられる。

【００３１】電荷輸送物質の量は結着樹脂１００重量部
に対し、２０〜３００重量部、好ましくは４０〜１５０
重量部が適当である。また、電荷輸送層の膜厚は５〜１
００μｍ程度とすることが好ましい。ここで用いられる
溶剤としては、テトラヒドロフラン、ジオキサン、トル
エン、ジクロロメタン、モノクロロベンゼン、ジクロロ
エタン、シクロヘキサノン、メチルエチルケトン、アセ
トンなどが用いられる。

【００３２】本発明において電荷輸送層３７中に可塑剤
やレベリング剤を添加してもよい。可塑剤としては、ジ
ブチルフタレート、ジオクチルフタレートなど一般の樹
脂の可塑剤として使用されているものがそのまま使用で
き、その使用量は、結着樹脂に対して０〜３０重量％程
度が適当である。レベリング剤としては、ジメチルシリ
コーンオイル、メチルフェニルシリコーンオイルなどの
シリコーンオイル類や、側鎖にパーフルオロアルキル基
を有するポリマーあるいは、オリゴマーが使用され、そ
の使用量は結着樹脂に対して、０〜１重量％が適当であ
る。

【００３３】本発明の電子写真感光体には、導電性支持
体３１と感光層との間に下引き層を設けることができ
る。下引き層は一般には樹脂を主成分とするが、これら
の樹脂はその上に感光層を溶剤で塗布することを考える
と、一般の有機溶剤に対して耐溶剤性の高い樹脂である
ことが望ましい。このような樹脂としては、ポリビニル
アルコール、カゼイン、ポリアクリル酸ナトリウム等の
水溶性樹脂、共重合ナイロン、メトキシメチル化ナイロ
ン等のアルコール可溶性樹脂、ポリウレタン、メラミン
樹脂、フェノール樹脂、アルキッド−メラミン樹脂、エ
ポキシ樹脂等、三次元網目構造を形成する硬化型樹脂等
が挙げられる。また、下引き層にはモアレ防止、残留電
位の低減等のために酸化チタン、シリカ、アルミナ、酸
化ジルコニウム、酸化スズ、酸化インジウム等で例示で
きる金属酸化物の微粉末顔料を加えてもよい。

【００３４】これらの下引き層は前述の感光層の如く適
当な溶媒、塗工法を用いて形成することができる。更に
本発明の下引き層として、シランカップリング剤、チタ
ンカップリング剤、クロムカップリング剤等を使用する
こともできる。この他、本発明の下引き層には、Ａｌ₂
Ｏ₃を陽極酸化にて設けたものや、ポリパラキシリレン
（パリレン）等の有機物やＳｉＯ₂、ＳｎＯ₂、Ｔｉ
Ｏ₂、ＩＴＯ、ＣｅＯ₂等の無機物を真空薄膜作成法にて
設けたものも良好に使用できる。このほかにも公知のも
のを用いることができる。下引き層の膜厚は０〜５μｍ
が適当である。

【００３５】本発明の電子写真感光体には、感光層保護
の目的で、保護層が感光層の上に設けられることもあ
る。保護層に使用される材料としてはＡＢＳ樹脂、ＡＣ
Ｓ樹脂、オレフィン−ビニルモノマー共重合体、塩素化
ポリエーテル、アリル樹脂、フェノール樹脂、ポリアセ
タール、ポリアミド、ポリアミドイミド、ポリアクリレ
ート、ポリアクリルスルホン、ポリブチレン、ポリブチ
レンテレフタレート、ポリカーボネート、ポリエーテル
スルホン、ポリエチレン、ポリエチレンテレフタレー
ト、ポリイミド、アクリル樹脂、ポリメチルペンテン、
ポリプロピレン、ポリフェニレンオキシド、ポリスルホ
ン、ポリスチレン、ＡＳ樹脂、ブタジエン−スチレン共
重合体、ポリウレタン、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニ
リデン、エポキシ樹脂等の樹脂が挙げられる。保護層に
はその他、耐摩耗性を向上する目的でポリテトラフルオ
ロエチレンのようなフッ素樹脂、シリコーン樹脂、及び
これらの樹脂に酸化チタン、酸化錫、チタン酸カリウム
等の無機材料を分散したもの等を添加することができ
る。保護層の形成法としては通常の塗布法が採用され
る。なお保護層の厚さは０．１〜１０μｍ程度が適当で
ある。また、以上のほかに真空薄膜作成法にて形成した
ａ−Ｃ、ａ−ＳｉＣなど公知の材料を保護層として用い
ることができる。

【００３６】本発明においては感光層と保護層との間に
中間層を設けることも可能である。中間層には、一般に
バインダー樹脂を主成分として用いる。これら樹脂とし
ては、ポリアミド、アルコール可溶性ナイロン、水溶性
ポリビニルブチラール、ポリビニルブチラール、ポリビ
ニルアルコールなどが挙げられる。中間層の形成法とし
ては、前述のごとく通常の塗布法が採用される。なお、
中間層の厚さは０．０５〜２μｍ程度が適当である。

【００３７】

【発明の実施の形態】以下、本発明を実施例を挙げて説
明するが、本発明が実施例により制約を受けるものでは
ない。なお、部はすべて重量部である。

【００３８】まず、実施例に用いるオキシチタニウムフ
タロシアニン顔料の具体的な製造例を述べる。

【００３９】（製造例１）フタロジニトリル２０部と１
−オクタノール２４部、チタニルテトラブトキシド１５
部、尿素５部を撹拌混合し１５０℃まで昇温し、反応物
をメタノール、トルエン、水で繰り返し洗浄した。得ら
れた熱水洗浄処理した粗オキシチタニウムフタロシアニ
ン顔料のうち６部を９６％硫酸１００ｇに３〜５℃下撹
拌、溶解し、濾過した。得られた硫酸溶液を氷水３．５
リットル中に撹拌しながら滴下し、析出した結晶を濾
過、ついで洗浄液が中性になるまで水洗を繰り返し、オ
キシチタニウムフタロシアニン顔料のウェットケーキを
得た。

【００４０】このウェットケーキ６．２５部（固形分量
８％）にメチルイソブチルケトン１３部を添加し、８時
間撹拌した。その後メタノール４７部を添加して濾過分
離し乾燥した。この際のＸ線回折スペクトルを図２に示
す。

【００４１】実施例１ アルミドラム上に下記組成の下引き層塗工液、電荷発生
層塗工液、および電荷輸送層塗工液を、順次塗布・乾燥
し、積層感光体を作製した。

【００４２】◎下引き層塗工液 二酸化チタン粉末 １５部 アルキドメラミン樹脂 ３部 ２−ブタノン １５０部 ◎電荷発生層塗工液 前記製造例１の加熱ＴｉＯＰｃ顔料粉末 １８部 メチルエチルケトン ３６０部 これを２ｍｍジルコニアビーズで２０時間分散した後、
４重量％ポリビニルブチラール（積水化学製エスレック
ＢＭ−Ｓ：水酸基モル比率２６％以下）の メチルエチルケトン溶液 ３００部 メチルエチルケトン ３２２部 を加えてさらに２時間分散し電荷発生層塗工液を作成し
た。この際のＣＧＬ液の厚膜乾燥品のＸＤスペクトルを
図３に示す。

【００４３】◎電荷輸送層塗工液 ポリカーボネート（ポリカＺ） １０部 下記構造式の電荷輸送物質 ７部 塩化メチレン ８３部 メチルフェニルシリコンオイル ０．００２部

【００４４】

【化２】

【００４５】比較例１ 製造例１において結晶変換溶媒をメチルイソブチルケト
ンの代わりにテトラヒドロフランとした以外は実施例１
と同様にして顔料を作成し感光体を作成した。 比較例２ 実施例１において電荷発生層に使用するバインダーをＢ
Ｍ−Ｓの代わりに水酸基のモル％が３３±３％であるＢ
Ｘ−１（積水化学製 商品名エスレックＢＸ−１）とし
た以外は実施例１と同様に感光体を作成した。

【００４６】比較例３ 実施例１において電荷発生層に使用するバインダーをＢ
Ｍ−Ｓの代わりに水酸基のモル％がおよそ４３％である
ＸＹＨＬ（ユニオンカーバイド社製 商品名ＸＹＨＬ）
とした以外は実施例１と同様に感光体を作成した。

【００４７】次にこうして得られた積層型電子写真感光
体の可視域での感度を調べるためこの感光体に自社製の
静電特性評価機を用いて暗所で約−５．２ｋＶのコロナ
放電を２０秒間行って帯電させた後の電位Ｖｍ（Ｖ）を
測定し、さらに２０秒間暗所にて放置したのち表面電位
Ｖ₀（Ｖ）を測定した。ついでタングステンランプを感
光体表面で１７．９ｌｕｘとなる光量で照射し−８００
ボルトからの電位が１／２になるまでの露光量Ｅ１／２
（Ｌｕｘｓｅｃ）を算出した。

【００４８】また露光後３０秒後の残留電位Ｖ₃₀（Ｖ）
を調べた。また８００Ｖでの感光体抵抗も測定した。ま
た−３５μＡの電流で８００Ｖとなるような光量で６０
分間疲労後の結果も示した。その結果を表１に示す。

【００４９】

【表１】

【００５０】表のように比較例１では感度が低かった。
比較例２、３では暗減衰率が大きく画像上クロポチが発
生し易かった。

【００５１】

【発明の効果】本発明によれば高感度でかつ繰り返し使
用によっても帯電性の低下を生じない安定な電子写真感
光体が得られる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明に用いられる電子写真感光体の構成例を
示す断面図である。

【図２】実施例に用いるオキシチタニウムフタロシアニ
ン顔料のＸ線回折スペクトル図を示す。

【図３】実施例のＣＧＬ液の厚膜乾燥品のＸＤスペクト
ル図を示す。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 島田 知幸 東京都大田区中馬込１丁目３番６号 株式 会社リコー内 (72)発明者 田元 望 東京都大田区中馬込１丁目３番６号 株式 会社リコー内 (72)発明者 新美 達也 東京都大田区中馬込１丁目３番６号 株式 会社リコー内 (72)発明者 梅田 実 東京都大田区中馬込１丁目３番６号 株式 会社リコー内 Ｆターム(参考） 2H068 AA13 AA19 BA39 BB16 BB54 FA12 FA13

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 強いＸ線回折ピークを示さない非結晶性
   のオキシチタニウムフタロシアニンをメチルイソブチル
   ケトンにより処理して得たＣｕ−Ｋα特性Ｘ線（波長
   １．５４Å）を用いたＸ線回折スペクトルにおいて、ブ
   ラッグ角２θの明瞭なピークが少なくとも２７．２±
   ０．２゜にある顔料を分散することにより得られるブラ
   ッグ角２θが２６．２±０．２゜に吸収をもつオキシチ
   タニウムフタロシアニン顔料を電荷発生材として用いた
   電子写真感光体。
2. 【請求項２】 電荷発生層用バインダに水酸基のモル比
   率が３０％以下のブチラール樹脂を使用した電子写真感
   光体。