FI76647C - Foerfarande och anordning foer behandling av bildenligt exponerade straolningskaensliga skivor. - Google Patents

Description

1 76647

Menetelmä ja laite kuvanmukaisesti valotettujen, säteilylle herkkien levyjen käsittelemiseksi

Esillä oleva keksintö kohdistuu säteilylle herkkien levyjen käsittelemiseen, jotka levyt käsittävät substraatilla olevan säteilylle herkän päällysteen.

Kyseisiä säteilylle herkkiä levyjä käytetään valmistettaessa esimerkiksi painolevyjä, erityisesti litografissa painolevyjä, painettuja piirejä ja integroituja piirejä. Litografisten pai-nolevyjen valmistuksessa käytetyt säteilylle herkät laitteet käsittävät tavallisesti metallisen tukilevyn, joka on mekaanisesti tai kemiallisesti käsitelty niin, että sillä on sopiva hydrofiilinen pinta, jonka päällä säteilylle herkkä päällyste on. Käytössä laite valotetaan kuvanmukaisesti aktiinisäteilyl-lä käyttäen sopivan kohteen joko negatiivista tai positiivista kuultokuvaa. Aktiinisäteily vaikuttaa siten, että se muuttaa säteilylle herkän päällysteen liukoisuutta. Kuvanmukaises-ti valotettu laite käsitellään sen jälkeen. Käsittelyvaiheessa saatetaan kuvanmukaisesti valotettu laite kosketukseen kehitteen kanssa päällysteen ei-toivottujen alueiden valikoivaksi poistamiseksi tukilevystä, jolloin jää jäljelle kuva, joka koostuu tukilevylle jäljelle jääneestä päällysteestä. Muun tyyppi-pisiä painolevyjä ja painettuja ja integroituja piirejä valmistetaan samalla tavalla. Kehitysvaiheen jälkeen laite pestään ja litografisen levyn tapauksessa käsitellään viimeistelijäl-lä/tihentäjällä <finisher/densitiser), jonka pääasiallinen tarkoitus on suojata ja/tai saattaa ei-kuva-alueet hydrofiilieiksi.

Tarkka käsittelyrutiini ja käytettävät käsittelyliuokset riippuvat käsiteltävän säteilylle herkän päällysteen liukoisuudesta ja kemiallisista ominaisuuksista. Vaikka käsittely voidaan tehdä manuaalisesti, suoritetaan se yhä kasvavassa määrin automaattisissa käsittelylaitteissa.

On olemassa kolme nestetyyppiä, joita tavallisesti käytetään subtraktiivisen päällysteen kehittämiseksi, nimittäin emäksi- 2 76647 eet kehitteet, kehiteliuokaet ja kehitteen veeiliuokeet. Emäksisiä kehitteitä käytetään poeitiivieeeti toimiviin päällye-teieiin, jotka perustuvat kinonidiatsideihin, ja ne koostuvat sopivan emäksen, esimerkiksi silikaatin, fosfaatin tai hydroksidin vesiliuoksesta. Kehiteliuoksia käytetään negatiivisesti toimiviin päällysteisiin, jotka perustuvat valolle herkkiin aineisiin, esimerkiksi polyvinyylikinnamaattiin, ja jotka käsittävät sopivan liuottimen, esimerkiksi glykolieetterin tai butyrolaktonin, pinta-aktiivisen aineen ja mahdollisesti mi-neraalihapon. Kehitteen vesiliuoksia käytetään negatiivisesti toimiviin päällysteisiin, jotka perustuvat diatsoharteiin ja käsittävät pinta-aktiivisen aineen vesiliuoksen.

Käsiteltäessä valotettuja säteilylle herkkiä levyjä kehitenes-teellä on ongelmana se, että kehiteneste huonontuu käytössä vähitellen, kunnes se ei enää pysty riittävästi poistamaan päällystettä tukialustalta. Tämä huonontuminen on progressiivista ja siksi voi litografisen painolevyn tapauksessa kehittyminen tapahtua epätäydellisestä paljon ennen kuin kehite on täysin loppuun kulunut.

Samaten käsiteltäessä valotettua laitetta viimeiste 1ijä1lä/ti-hentäjällä pyrkii viimeistelijän/tihentäjän viskositeetti kasvamaan ajan mukana haihtumisen vuoksi. On kuitenkin tärkeää, että viimeistelijän/tihentäjän viskositeetti on oikea. Jos se on liian ohut, se ei tihennä kuvattomia alueita riittävästi ja jos se on liian paksu, se pyrkii leviämään levylle epätasaisesti, mikä saattaa aiheuttaa kuva-alueiden tukkoutumista.

Nyt on havaittu, että kuvanmukaisesti valotettujen säteilylle herkkien levyjen käsittelynesteiden, kuten kehitenesteiden ja viimeistelijä/tihentäjänesteiden tehokkuutta voidaan valvoa niiden sähkönjohtavuusominaisuuksia mittaamalla.

Keksinnön erään näkökohdan mukaisesti aikaansaadaan menetelmä useiden kuvanmukaisesti valotettujen säteilyle herkkien levyjen käsittelemiseksi, joka menetelmä käsittää seuraavat vaiheet: <i> laitteiden saattaminen oikeassa järjestyksessä kosii 3 76647 ketukseen kehiteneeteen kanssa; <ii) käsittelynesteen sähkönjohtavuuden valvonta laitteiden käsittelyn aikana; (iii) käsittelyolosuhteiden muuttaminen sähkönjohtavuuden muutoksista riippuen.

Keksinnön erään toisen näkökohdan mukaisesti aikaansaadaan laitteisto kuvanmukaisesti valotettujen säteilylle herkkien laitteiden käsittelemiseksi, joka laitteisto käsittää: (i) kä- sittelynesteen säiliön; (ii) laitteen laitteiden liikuttamiseksi laitteiston kautta kulkevaa reittiä pitkin niin, että ne joutuvat kosketuksiin käeittelynesteen kanssa; (iii> laitteen käsittslynesteen sähkönjohtavuuden mittaamiseksi ja antosig-naalin tuottamiseksi mainitusta johtavuudesta riippuen; ja (iv) laitteen käsittelyolosuhteiden muuttamiseksi mainitusta antosignaalista riippuen.

Keksinnön oleelliset tunnusmerkit käyvät ilmi oheisista patenttivaatimuksista .

Käsittelyolosuhteita voidaan muuttaa esimerkiksi muuttamalla laitteiden käsittelyastetta ja/tai muuttamalla käsittelynes-teen lämpötilaa, ja/tai tuorestamalla tai vaihtamalla tai muulla tavoin muuttamalla käsittelynesteen koostumusta. Siten käsittelyolosuhteita voidaan muuttaa muuttamalla laitteen kä-sittelynesteellä tapahtuvaa käsittelyaikaa, ja/tai muuttamalla käsittelynesteen lämpötilaa ja/tai lisäämällä tuorestetta tai muuta nestettä käsittelynesteeseen.

Eräässä keksinnön mukaisen laitteen suoritusmuodossa, joka on erityisen sopiva käytettäessä käsittelynesteenä kehitenes-tettä, käytetään mainittua antosignaalia ohjaamaan moottoria laitteen siirtolaitteen käyttämiseksi. Tällä tavoin riippuu laitteen oloaika laitteistossa antosignaalista, eli johtavuudesta, ja siten kehiteneeteen aktiivisuudesta. Siten laitteen käsittelyastetta muutetaan kehiteneeteen johtavuuden funktiona. Lisäksi tai vaihtoehtoisesti voidaan laitteen kä-sittelyastetta muuttaa käyttämällä antosignaalia ohjaamaan moottoria, joka käyttää telaa, joka on järjestetty agitoi-maan laitteeseen kosketuksessa olevaa kehitenestettä niin, 4 76647 että telan pyörimisnopeus riippuu antosignaalista, eli kehitteen aktiivisuudesta.

Edelleen eräässä suoritusmuodossa laitteisto sisältää lämmitys- ja jäähdytysyksikön käsittelynesteen lämpötilan muuttamiseksi antosignaalista riippuen.

Edelleen eräässä suoritusmuodossa laitteisto sisältää käsittelynesteen tuorestetta sisältävän säiliön, tuoresteen ollessa samaa, eri tai väkevöitetympää liuosta, tuoresteen virtausta laittteistossa olevan käsittelynesteen pääosaan ohjattaessa antosignaalin mukaisesti esimerkiksi solenoidiventtii-lin avulla.

Jos käsittelynesteellä ei ole riittävän suurta johtavuutta voidaan liuosta ionisoivaa litografisesti inerttiä ainetta, esimerkiksi kaliumnitraattia lisätä siihen.

Keksinnön täydellisemmäksi ymmärtämiseksi ja sen käytännön toteuttamisen esittämiseksi viitataan seuraavaan esimerkkiin ja mukana seuraaviin piirustuksiin, joissa: kuvio 1 esittää esillä olevan keksinnön mukaista laitteistoa kaaviomaisesti; kuvio 2 esittää kuvion 1 laitteiston ohjauspiiriä lohkokaaviona; kuvio 3 esittää kuviossa 2 esitetyn ohjauspiirin osan piiri-kaaviota; ja kuvio 4 esittää esillä olevan keksinnön mukaisen toisen laitteiston kaaviopiirrosta.

Kuvioon 1 viitaten käsittää laitteisto kehitenestettä sisältävän altaan 1, kumilla päällystettyjen syöttötelojen parin 2 ja 2a, kumilla päällystettyjen poistotelojen parin 3 ja 3a, ja muuttuvanopeuksisen tasavirtasähkömoottorin 4, joka on kytketty pyörittämään telaa 2. Telaa 2a pyörittää sen kosketus rullaan 2. (Rullia 3, 3a voidaan myös pyörittää moottorilla 4

II

5 76647 niin haluttaessa). Johtavuuden mittauskenno 5 on asennettu altaaseen 1 niin, että se on kehitenesteessä. Säiliö la on kehitteen tuoresteen säilyttämiseksi asetettu altaan 1 yläpuolelle. Lämmitys/jäähdytysyksikköä 8 voidaan myös käyttää.

Viitaten kuvioon 2 käsittää sähköinen ohjauspiiri integroituna piirinä rakennetun jännitteen säätimen muodossa olevan vakiojännitelähteen 9, johtavuuden mittauskennoon liittyvän jännitteenmuuttimen 10 sekä tasavirtatyristorisäätimen muodossa olevan servolaitteen 11, jonka anto suorittaa ohjaustoiminnan.

Kuten on esitetty kuviossa 3 syötetään lähteestä 9 saatava säädetty jännite johtavuuden mittauskennon 12 kautta tasavir-tavahvistimiin 13 ja 14. Kehitteen johtavuuden muutos aikaansaa muutoksen vahvistimen 13 ottojännitteessä. Vahvistimen 14 anto on kytketty servolaitteeseen 11. Muuttuvaa vastusta 15 käytetään muuttamaan vahvistimen 13 vahvistusta.

Käytössä tavanmukaisesti valotettuja säteilylle herkkiä laitteita syötetään perätysten syötteteloihin 2 ja·2a, jotka liikuttavat laitetta edelleen reittiä 6 pitkin laitteiston läpi ja sen jälkeen laitteistosta ulos poistotelojen 3 ja 3a kautta. Reitin 6 kauttakulun aikana laitteet on upotettu kehitteeseen altaassa 1, jolloin kuvanmukaisesti valotettujen laitteiden säteilylle herkän päällysteen liukenevimmat alueet poistuvat valikoituvasti. Kehitteen johtavuudesta riippuvaa servolaitteesta saatavaa antosignaalia voidaan käyttää muuttamaan moottorin 4 nopeutta, muuttamaan kehitteen lämpötilaa lämmitys/jäähdytysyksikköön vaikuttamalla ja/tai ohjaamaan tuorestesäiliön säätöventtiiliä Ib.

Ilmeistä on, että yhdentyyppisen kehitenesteen johtavuuspara-metrit eivät välttämättä ole samoja kuin toisen tyyppisen kehitenesteen johtavuusparämetrit.

Mittausalueen sopiva muutos voidaan aikaansaada säätämällä potent icmetriä. 15.

6 76647

Viitaten kuvioon 4 sisältää laitteisto parin kumilla päällystettyjä syöttöteloja 20 ja 20a, parin kumilla päällystettyjä poistoteloja 30 ja 30a, ja muuttuvanopeuksisen tasavirta-sähkömoottorin 40 telojen 20 ja 20a käyttämiseksi. Laitteisto sisältää erillisen säiliön 21 kehitenestettä varten ja pumpun 25 kehitenesteen jakamiseksi suihkutustankoon 26, joka sijaitsee nukkakankaalla päällystettyjen agitointitelo-jen 23 ja 23a parin välillä, joita teloja ohjaa erillinen muuttuvanopeuksinen moottori 24. Tasomainen elin 22 sijaitsee telojen 23 ja 23a ja tangon 26 alapuolella ja talteenotto-astia 27 palauttaa käsittelynesteen säiliöön 21. Varastointi-säiliö 21a on kehitteen tuorestinta varten. Lämmitys/'jäähdy-tysyksikkö 29 sijaitsee säiliössä 21.

Laitteisto sisältää johtavuuden mittauskennon 28, joka on samanlainen kuin kuvion 1 laitteistossa ja se sijaitsee edullisesti säiliössä 21, kuten on esitetty. Laitteisto sisältää myös kuvioissa 2 ja 3 esitettyä tyyppiä olevan sähköisen ohjauspiirin ja piirin servolaittesta saatava anto syötetään moottoriin 40 ja/tai moottoriin 24, ja/tai lämmitys/jäähdy-tysyksikköön 29, ja/tai säiliössä 21a olevaan säätöventtiiliin 21b. Käytössä kuvanmukaisesti valotettu säteilylle herkeä laite syötetään kuvapuoli ylöspäin reittiä pitkin, joka kulkee syöttötelojen 20 ja 20a välistä, telojen 23 ja 23a ja elimen 22 välistä ja edelleen poistotelojen 30 ja 30a välistä. Laitteen valotettu säteilylle herkkä päällyste saatetaan kosketuksiin kehitenesteen kanssa telojen 23 ja 23a avulla ja kehitys suoritetaan yhdistetyllä hankaus- ja liuotustoi-minnalla.

Laitteen käsittelyastetta (eli laitteistossa oloaikaa ja/~ai määrää, jolla telan 23 avulla kehiteneste agitoidaan kosketuksiin laitteen kanssa) ja/tai kehitenesteen voimakkuutta ohjataan riippuen kehitenesteen johtavuuden muutoksesta käsittelyn aikana.

Seuraavat esimerkit selvittävät keksintöä.

Il 7 76647

Esimerkki 1

Kuviossa 1 esitetyn tyyppinen käsittelijä täytetään kehite-nesteellä, joka koostuu vesiliuoksesta, joka sisältää nat-riummetasilikaattia, dinatriumfosfaattia ja pinta-aktiivista ainetta lämpötilassa 22°C.

Useita positiivitoimisia painolevyjä, joista kukin koostui rakeisesta ja anodisoidusta alumiinisubstraatista, joxa oli päällystetty naftokinonidiatsidisulfonihapon esterin ja no-volakkahartsin sekoituksella, valotettiin ultraviolettivalolla jatkuvasävyisen porraskiilan ja Fogran tarkkuusmittaus-nauhan PMS1 alla.

Levyt kuljetettiin käsittelijän läpi. Johtavuutta valvottiin käyttäen johtavuusmittaria, jonka koko asteikon poikkeama oli 60 000 ^uS/cm. Porraskiilan ja PMS1:n lukemat merkittiin kullekin johtavuuden 1000 ^.uS:n johtavuuden laskulle.

Tulokset olivat seuraavat:

Johtavuus Porraskiila PMS1

(yUS/cm) kirkas/muuttumaton A B

50 000 3/9 8 8 49 000 3/9 8 8 48 000 3/9 8 8 47 000 3/9 3 8 46 000 3/8 8 8 45 000 3/7 10 8 44 000 2/7 10 6 43 000 2/6 10 6 42 000 2/6 10 6 Käsittelijä täytettiin uudelleen tuoreella kehitteellä ja levyjä käsiteltiin edelleen kunnes johtavuus oli laskenut 45 000 yUSriin. Kehitettä kuumennettiin sen jälkeen kunnes johtavuus oli jälleen 50 000 ^.uS. Toinen levy käsiteltiin ja tuloksena oli porraskiilan ja PMS1:n vastaavat lukemat 3/9 ja 8,8.

8 76647

Kehite jäähdytettiin lämpötilaan 22°C (johtavuus 45 000 ,uS). Lisää levyjä käsiteltiin jatkuvasti pienemmällä nopeudella kunnes saatiin lukemat 3/9 ja 8,3. Havaittiin/ että levylle täytyi antaa 50 % pidempi kehitysaika.

Lopuksi lisättiin kehitteen tuoreste käsittelijään johtavuuden saamiseksi takaisin 50 000 yUS:iin, minkä jälkeen käsittelijän kautta kulkenut levy antoi jälleen lukemat 3/9 ja 8,3.

Esimerkki 2

Esimerkki 1 toistettiin sillä poikkeuksella, että kehite koostui vesiliuoksesta, joka sisälsi natriumhydroksidia ja pinta-aktiivista ainetta. Lähtöjohtavuus oli 60 000 ^uS/cm ja antoi tuloksena porraskiilan ja PMS1:n lukemat vastaavasti 3/9 ja 8,8. TenoKkaasti loppuunkäytetyn kehitteen johtavuus oli 50 000 .uS/cm (porraskiila 3/7 ja PMS1 10,8) . Kehitettä lämmitettiin kunnes johtavuus olx 60 000 ^uS/cm, joka säilytti porraskiilan ja PI4S1 :n lukemat.

Jäähdytettäessä kehitettä kunnes johtavuus oli 50 000 .uS/cm täytyi levylle antaa 45 % suurempi kehitysaika oikeiden lukemisen saamiseksi.

Levy,joka kehitettiin kehitteellä, joka oli tuorestettu jälleen 60 000 yuSriin antoi samat lukemat 3/9 ja 8,8.

Esimerkki 3

Useita levyjä valotettiin ja kehitettiin brittiläisessä patenttijulkaisussa GE 1 591 988 esitetyn esimerkin 1 mukaisesti niin kutsuttujen "screenless"- tai jatkuvasävylevy-jen tuottamiseksi. Kehitteen johtavuus oli alunperin 32 000 yUS/cm ja aluksi kehitetyllä levyllä oli l,65:n luokkaa oleva tiheysalue. Kun useita levyjä oli käsitelty oli johtavuus laskenut 25 000 ^uS/cm:iin ja aikaansaatu tiheysalue oli vain 1,3.

11 9 76647

Kehitteen kuumentaminen kunnes johtavuus oli jälleen 32 000 yUS/cm palautti tiheysalueen arvoon 1,65. Jäähdytetty kehite (johtavuus 25 000 ^uS/cm) vaati 55 % suuremman ylimääräisen kehitysajan. Tiheysalue 1,65 voitiin jälleen saavuttaa tuo-restamalla kehite takaisin johtavuusarvoon 32 000 ^uS/cm.

Esimerkki 4

Kuviossa 4 esitetyn tyyppisen käsittelijän säiliö täytettiin kehitteen vesiliuoksella, joka koostui vesiliuoksesta, joka sisälsi pinta-aktiivista ainetta, natriumbentsoaattia ja natriumoktanoaattia. Tuoreen kehitteen johtavuus oli 24 500 ,uS/cm. Valottamat tornia levyjä, joilla oli diatsohartsipääl-lyste, kuljetettiin käsittelijän läpi ja johtavuutta valvottiin jatkuvasti kunnes levyt osoittivat merkKejä painovärin vaahtoamisesta. Kehitteen johtavuus oli silloin 15 200 ^uS/cm. Lisää levyjä Käsiteltiin jatkuvasti hitaammalla nopeudella ja havaittiin, että puhtaiden levyjen tuottamiseksi täytyi antaa 35 % pitempi kehitysaika.

Esimerkki 5 Tämä esimerkki käsittelee kehiteliuoksia, jotka pilaantuvat pääasiassa ilmakehän sisältämän veden aiheuttamasta kontaminaatiosta .

Saman tyyppinen kuin kuviossa 4 käytetty käsittelijä täytettiin kehitteellä, joka koostui 2-metoksyylietyyliasetaatista, pinta-aktiivisesta aineesta ja fosforihaposta. Kehitteen johtavuus oli 14,1 .uS/cm. Kontaminaation simuloimiseksi lisättiin vettä 0,5 %:n määrissä ja johtavuutta valvottiin kuljetettaessa käsittelijän kautta valottamattomia levyjä, joilla oli polyvinyylikinnamaattiin perustuva päällyste. Vesipitoisuuden ollessa 6 % oli johtavuus 46,5 ^uS/cm ja levyt osoittivat merkkejä vaahtoamisesta. Seuraavat levyt käsiteltiin jatkuvasti hitaammalla nopeudella ja havaittiin, että puhtaiden levyjen tuottamiseksi täytyi käyttää 40 % pidempää kehitysaikaa.

10 76647

Esimerkki 6 Tärkkelystä ja pinta-aktiivista ainetta sisältävään vesi-liuokseen pohjautuviin negatiivitoimisiin levyihin sopivia viimeistelijänesteiden näytteitä tehtiin normaaliväkevänä, 20 % ja 50 % yliväkevänä ja 50 % ja 75 % aliväkevänä. Näytteiden johtavuus lämpötilassa 22°C oli seuraava: 50 % yliväkevä 7500 yUS/'cm 20 % yliväkevä 6500 yUS/cm normaali 5600 yUS/cm 50 % aliväkevä 3500 yuS/cm 75 % aliväkevä 2300 yUS/cm Näytteitä käytettiin käsittelemään valotettuja ja kehitettyjä negatiivitoimisia levyjä. Levyissä, jotka käsiteltiin yliväkevällä liuoksella, esiintyi pyrkimys kuva-alueiden tuk-koontumiseen ja aliväkevällä liuoksella käsitellyissä levyissä esiintyi ei-kuva-alueiden vaahtoamispyrkimys. Valvomalla johtavuutta ja muuttamalla vastaavasti viimeistelijänesteen konsentraatiota voitiin saavuttaa tyydyttävä levyjen käsittely.

Esimerkki 7

Esimerkki 6 toistettiin käyttäen viimeistelijänäytteitä, jotka käsittivät arabikumin vesiliuoksen. Johtavuus oli kuitenkin liian pieni ollakseen merkittävä. Kuhunkin näytteeseen lisättiin 0,2 paino-% kaliumnitraattia. Johtavuuslukemat olivat seuraavat: 50 % yliväkevä 6000 yUS/cm 20 % yliväkevä 5000 yUS/cm normaali 4400 yUS/cm 50 % aliväkevä 3500 yUS/cm 75 % aliväkevä 3 000 .uS/'cm / Näytteitä käytettiin käsittelemään esimerkissä 1 kehitettyjä levyjä. Yliväkevillä liuoksilla käsitellyissä levyissä esiintyi jälleen pyrkimys tukkoontumiseen ja aliväkevillä liuoksilla käsitellyissä levyissä esiintyi pyrkimys vaahtoamiseen.

Il 11 76647

Esimerkki 8

Esimerkki 6 toistettiin käyttäen viimeistelijänäytteitä, jotka oli suunniteltu suojaamaan litografisen levyn ei-kuva-alueita kuvan kovetusprosessin aikana, viimeistelijän käsittäessä natriumdodekyloidun oksidibentseenidisulfonaatin ja natriumsitraatin vesiliuoksen.

Johtavuuslukemat olivat seuraavat: 50 % yliväkevä 57 000 .uS/cm 20 % yliväkevä 55 500 ^uS/cm normaali 52 000 yUS/cm 50 % aliväkevä 41 500 ^uS/cm 75 % aliväkevä 37 200 -uS/cm Näytteitä käytettiin esimerkissä 1 käytetyn tyyppisten levyjen käsittelemiseksi ja käsiteltyjä levyjä pidettiin lämpötilassa 220°C 10 min. Havaittiin, että yliväkevien näytteiden käytöllä ei ollut mitään havaittavaa vaikutusta, mutta aliväkevät näytteet eivät onnistuneet suojaamaan ei-kuva-alueita, jotka vaahtoontuivat pahasti.

Claims (9)

12 76647

1. Menetelmä useiden kuvanmukaisesti valotettujen säteilylle herkkien levyjen käsittelemiseksi, jotka kaikki käsittävät kuvanmukaisesti valotetulla säteilylle herkällä päällysteellä varustetun substraatin, joka menetelmä käsittää <i) levyjen saattamisen kosketuksiin, vuorollaan, annetuissa käsittelyolosuhteissa, kehitenesteen kanssa ei-toivotun päällysteen selektiiviseksi poistamiseksi substraatilta, jonka kehitenesteen tehokkuus tähän tarkoitukseen huononee ja sähkönjohtavuus muuttuu käsiteltävien levyjen määrän kasvaessa, tunnettu siitä, että (ii) kehitenesteen sähkönjohtavuutta valvotaan levyjen käsittelyn aikana ja (iii> muutetaan aikaa, jonka levyt ovat kosketuksissa kehitenesteen kanssa sähkönjohtavuuden muutoksista riippuvaisesti siten, että kehitenesteen tehokkuus säilyy levyjen käsittelyn aikana.

2. Förfarande enligt patentkrav 1, kännetecknat av att framkallningevätekan innehäller ett litografiekt inert ämne, eom jonieerar vätekan för att oka den elektrieka ledningeför-mägan.

2. Patenttivaatimuksen 1 mukainen menetelmä, tunnettu siitä, että kehiteneste sisältää litografieeeti inerttiä ainetta, joka ionisoi liuosta sähkönjohtavuuden lisäämiseksi.

3· Förfarande enligt patentkrav 1 eller 2, kännetecknat av att det ytterligare omfattar ett eteg, väri mera väteka tilleätte tili framkallningeväteka beroende pä förändringar med den elektrieka ledningeförmägan.

3. Patenttivaatimuksen 1 tai 2 mukainen menetelmä, tunnettu siitä, että se lisäksi käsittää vaiheen, jossa lisätään lisää nestettä kehitenesteeseen sähkönjohtavuuden muutoksista riippuvaisesti.

4. Förfarande för behandling av flera bildenligt expo- nerade etr&lningekäneliga ekivor, vilka alla omfattar ett eubetrat föreett med en bildenligt exponerad eträlningekäne lig belaggning, vilket förfarande omfattar (i) bringande av ekivorna i kontakt, var ein tur, under givna behandlingeförhäl-landen, med en framkallningeväteka för eelektiv avlägening av den icke-önekade beläggningen frän eubetratet, vilken fram-kallningevätekae effektivitet för denna aveikt föreämrae och 16 76647 elektrieka ledningeförmäga förändrae när mängden av behandlade ekivor okaa, kännetecknat av att (ii) den elektrieka led-* ningeförmägan av framkallningevätekan kontrollerae under be-handling av ekivorna och <iii) den grad, med vilken framkallningevätekan omröre i kontakt med ekivorna, förändrae beroende pä förändringar med den elektrieka ledningeförmägan eä, att framkallningevätekane effektivitet bibehäller eig under eki-vornae behandling.

4. Menetelmä useiden kuvanmukaisesti valotettujen säteilylle herkkien levyjen käsittelemiseksi, jotka kaikki käsittävät kuvanmukaisesti valotetulla säteilylle herkällä päällysteellä varustetun substraatin, joka menetelmä käsittää (i> levyjen saattamisen kosketuksiin, vuorollaan, annetuissa käsittelyolosuhteissa, kehitenesteen kanssa ei-toivotun päällysteen selektiiviseksi poistamiseksi substraatilta, jonka kehitenesteen tehokkuus tähän tarkoitukseen huononee ja sähkönjohtavuus muuttuu käsiteltävien levyjen määrän kasvaessa, tunnettu siitä, että (ii) kehitenesteen sähkönjohtavuutta valvotaan levyjen käsittelyn aikana ja (lii) muutetaan astet- II 13 76647 ta, jolla kehitenestettä sekoitetaan kosketuksissa levyjen kanssa sähkönjohtavuuden muutoksista riippuvaisesti siten, että kehitenesteen tehokkuus säilyy levyjen käsittelyn aikana.

5. Förfarande för behandling av flera bildenligt expo-nerade eträlningekäneliga ekivor, vilka alla omfattar ett eubetrat föreett med en bildenligt exponerad eträlningekänelig beläggning, vilket förfarande omfattar <i) bringande av ekivorna i kontakt, var ein tur, under givna behandlingeförhäl-landen, med en framkallningeväteka för eelektiv avlägening av icke-önekade beläggningen frän eubetratet, vilken framkall-ningevätekas effektivitet för denna aveikt föreämrae och elektrieka ledningeförmäga förändrae när mängden av behandlade ekivorna ökae, kännetecknat av att <ii) den elektrieka ledningef örmägan av framkallningevätekan kontrollerae under behandling av ekivorna och (iii) framkallningevätekae tempera-tur förändrae beroende pä förändringar med den elektrieka ledningeförmägan eä, att framkallningevätekane effektivitet bibehäller eig under ekivornae behandling.

5. Menetelmä useiden kuvanmukaisesti valotettujen säteilylle herkkien levyjen käsittelemiseksi, jotka kaikki käsittävät kuvanmukaisesti valotetulla säteilylle herkällä päällysteellä varustetun substraatin, joka menetelmä käsittää (i) levyjen saattamisen kosketuksiin, vuorollaan, annetuissa käsittelyolosuhteissa, kehitenesteen kanssa ei-toivotun päällysteen selektiiviseksi poistamiseksi substraatilta, jonka kehitenesteen tehokkuus tähän tarkoitukseen huononee ja sähkönjohtavuus muuttuu käsiteltävien levyjen määrän kasvaessa, tunnettu siitä, että (ii) kehitenesteen sähkönjohtavuutta valvotaan levyjen käsittelyn aikana ja (iii) muutetaan kehi-tenesteen lämpötilaa sähkönjohtavuuden muutoksista riippuvaisesti siten, että kehitenesteen tehokkuus säilyy levyjen käsittelyn aikana.

6. Anordning för eubetraktiv framkallning av bildenligt exponerade eträlningekäneliga ekivor med förfarandet enligt patentkrav 1, vilken anordning omfattar (i) en behällare <1, 21) för framkallningeväteka, (ii) medel <2, 2a, 3, 3a> för förekjutning av ekivorna länge en rutt (6) genom anordningen eä, att de är i kontakt med framkallningevätekan, och (iii) en anordning (5, 28) för mätning av framkallningevätekane elektrieka ledningeförmäga och för aletring av en avgivningeeignal beroende pä nämnda ledningeförmäga, kännetecknad av att anordningen innehäller (iv) en motor (4, 40) med varvtale regiering för drivande av de ekivorna rörande medlen, vilken II i7 76647 motor reglerae med n&mnda avgivningeeignal eA , att den tide-period, som ekivorna är i kontakt med framkallningavätakan är beroende pA den elektrietieka ledningeförmAgan.

6. Laitteisto kuvanmukaisesti valotettujen säteilylle herkkien levyjen eubtraktiivieeen kehittämiseen patenttivaatimuksen 1 mukaisella menetelmällä, joka laitteisto käsittää (i) säiliön (1, 21) kehitenestettä varten, (ii) välineet <2, 2a, 3, 3a> levyjen liikuttamiseksi reittiä (6) pitkin laitteiston läpi niin, että ne ovat kosketuksissa kehitenesteen kanssa, ja (iii) laitteen (5, 28) kehitenesteen sähkönjohtavuuden mittaamiseksi ja antosignaalin tuottamiseksi mainitusta johtavuudesta riippuvaisesti, tunnettu siitä, että laitteistossa on <iv) muuttuvanopeuksinen moottori <4, 40) levyjä liikuttavien välineiden käyttämiseksi, jota moottoria säädetään mainitulla antosignaalilla siten, että aikajakso, jonka levyt ovat kosketuksissa kehitenesteen kanssa, on riippuvainen sähkönjohtavuudesta.

7. Anordning enligt patentkrav 6, kannetecknad av att nämnda anordning ytterligare innehAller en behAllare (la, 21a) för lagring av den extra väteka, vilken behAllare har en ven-til (lb, 21b) för inmatning av den extra vätekan in i behAl-laren (1, 21), varvid nämnda avgivningeeignal etyr ventilen (lb, 21b) eA, att den extra vätekan tilleätte i den i behAl-laren (1, 21) varande framkallningevätekan beroende pA led-ningef örmAgan.

7. Patenttivaatimuksen 6 mukainen laitteisto, tunnettu siitä, että mainittu laite sisältää vielä säiliön (la, 21a) 14 7 664 7 ylimääräisen nesteen varastoimiseksi, jossa säiliössä on venttiili <lb, 21b) ylimääräisen nesteen syöttämiseksi säiliöön (1, 21), mainitun antosignaalin ohjatessa venttiiliä <lb, 21b) niin, että ylimääräinen neste lisätään säiliössä Cl, 21. olevaan kasittelynesteeseen johtavuudesta riippuvaisesti. Θ. Laitteisto kuvanmukaisesti valotettujen säteilylle herkkien levyjen subtraktiiviseen kehittämiseen patenttivaatimuksen 4 mukaisella menetelmällä, joka laitteisto käsittää (i) säiliön <1, 21) kehiteneetettä varten, <ii) välineet, <2, 2a, 3, 3a) levyjen liikuttamiseksi reittiä (6) pitkin laitteiston läpi niin, että ne ovat kosketuksissa kehitenesteen kanssa, ja (iii) laitteen (5, 2Θ) kehitenesteen sähkönjohtavuuden mittaamiseksi ja antosignaalin tuottamiseksi mainitusta johtavuudesa riippuvaisesti, tunnettu siitä, että laitteistossa on <iv) muuttuvanopeuksinen moottori (24) sekoitus-telan <23, 23a) käyttämiseksi levyjen kanssa kosketuksissa olevan kehitenesteen sekoittamiseksi, muuttuvanopeuksista moottoria säädettäessä mainitulla antosign&alilla siten, että se aste, jolla levyjen kanssa kosketuksissa olevaa kehiteneetettä sekoitetaan, on riippuvainen johtavuudesta.

9. Laitteisto kuvanmukaisesti valotettujen säteilylle herkkien levyjen eubtraktiiviseen kehittämiseen patenttivaatimuksen 5 mukaisella menetelmällä, joka laitteisto käsittää Ci) säiliön <1, 21) kehiteneetettä varten, <ii) välineet, <2, 2a, 3, 3a) levyjen liikuttamiseksi reittiä (6) pitkin laitteiston läpi niin, että ne ovat kosketuksissa kehitenesteen kanssa, ja Ciii) laitteen <5, 2Θ) kehitenesteen sähkönjohtavuuden mittaamiseksi ja antosignaalin tuottamiseksi mainitusta johtavuudesa riippuvaisesti, tunnettu siitä, että laitteistossa on (iv) kehitenesteeseen upotettu yksikkö (Θ, 29) kehitenesteen lämpötilan muuttamiseksi, mainitun yksikön ollessa säädettävissä mainitulla antosignaali1la siten, että kehitenesteen lämpötila on riippuvainen johtavuudesta. Il 15 76647 1* Förfarande för behandling av flera bildenligt expo- nerade eträlningekäneliga ekivor, vilka alla omfattar ett eubetrat föreett med en bildenligt exponerad eträlningekänelig belaggning, vilket förfarande omfattar <i) bringande av eki-vorna i kontakt, var ein tur, under givna behandlingeförhäl-landen, med en framkallningeväteka för selektiv avlägening av den icke-önekade beläggningen f rän eubetratet, vilken fram-kallningevätekae effektivitet för denna avsikt föreämrae och elektrieka ledningeförmäga förändrae när mängden av behandlade ekivor ökae, kännetecknat av att <ii) den elektrieka led-ningeförmägan av framka1lningevatekan kontrollerae under behandling av ekivorna och (iii) den tid, eom ekivorna är i kontakt med framkallningevätekan, förändrae beroende pä för-ändringar med den elektrieka ledningeförmägan eä, att framkal lningevätekane effektivitet bibehäller eig under ekivornae behandling.

8. Anordning för eubtraktiv framkallning av bildenligt exponerade etrAlningekäneliga ekivor med förfarandet enligt patentkrav 4, vilken anordning omfattar (i) en behAllare (1, 21) för framkallningeväteka, (ii) medel (2, 2a, 3, 3a) för förekjutning av ekivorna länge en rutt (6) genom anordningen eA, att de är i kontakt med framkallningevätekan, och (iii) en anordning (5, 28) för mätning av framka1lningsvätakana elekt-rieka ledningeförmAga och för aletring av en avgivningeeignal beroende pA nämnda ledningeförmAga, kännetecknad av att anordningen innehAller (iv) en motor (24) med varvtale regle-ring för drivande av en blandningerulle (23, 23a) för omrör-ning av framkallningevätekan i kontakt med ekivorna, varvid motorn med varvtale regiering reglerae med nämnda avgivningeeignal eA, att den grad, med vilken den i kontakt med ekivorna varande framkallningavätakan omröre, är beroende pA ledninge- f örmAgan.

9. Anordning för eubtraktiv framkallning av bildenligt exponerade etrAlningekäneliga ekivor med förfarandet enligt patentkrav 5, vilken anordning omfattar (i) en behAllare (1, 21) för framkallningeväteka, (ii) medel (2, 2a, 3, 3a) för förekjutning av ekivorna länge en rutt (6) genom anordningen eA, att de är i kontakt med framkallningevätekan, och (iii) en