DE60111283T2 - Verfahren zum Nachfüllen von Entwickler in einem automatischen Entwicklungsgerät - Google Patents

Verfahren zum Nachfüllen von Entwickler in einem automatischen Entwicklungsgerät Download PDF

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DE60111283T2
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Hiroyuki 2-chome Sasayama
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    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/26—Processing photosensitive materials; Apparatus therefor
    • G03F7/30—Imagewise removal using liquid means
    • G03F7/3042—Imagewise removal using liquid means from printing plates transported horizontally through the processing stations
    • G03F7/3071—Process control means, e.g. for replenishing

Description

  • Hintergrund der Erfindung
  • 1. Gebiet der Erfindung
  • Die vorliegende Erfindung betrifft ein Verfahren zur Auffrischung eines Auffrischers für den Entwickler für automatische Entwicklungsvorrichtungen, und insbesondere ein solches Verfahren, dass die Fluktuation der Entwicklerempfindlichkeit infolge von Änderungen der Entwicklungsbedingungen minimiert wird.
  • 2. Beschreibung des verwandten Standes der Technik
  • Im allgemeinen wird als ein repräsentatives Verfahren zur Kontrolle der Entwicklerempfindlichkeit in einer automatischen Entwicklungsvorrichtung für fotoempfindliche lithografische Druckplatten ein Verfahren zur Auffrischung eines Auffrischers für Entwickler (nachfolgend einfach als "Auffrischer" bezeichnet) mit der Zeit und Verarbeitung angewandt, das den Auffrischer mit der Zeit in einem Entwicklertank auffrischt, in dem ein Entwickler aufbewahrt wird, die Plattenfläche der verarbeiteten Platten misst und eine Menge des Auffrischers auffrischt, die dem gemessenen Wert entspricht (nachfolgend als "Auffrischungsverfahren auf Basis der Plattenfläche" bezeichnet).
  • Das Auffrischungsverfahren auf Basis der Plattenfläche erfordert eine Vorrichtung für die Messung einer Plattenfläche der lithografischen Platte in einem Entwicklerteil der automatischen Entwicklungsvorrichtung, was zur Folge hat, dass der Aufbau der Entwicklungsvorrichtung kompliziert und teuer ist.
  • Ferner ist es schwierig zu beurteilen, ob eine einzelne Oberfläche oder beide Oberflächen der lithografischen Platte verarbeitet werden (nachfolgend als "Einzeloberfläche/Doppeloberfläche" bezeichnet) und die Art der Platte (es ist zu berücksichtigen, dass es unterschiedliche Arten von Platten gibt, die sich in der als Schicht aufgebrachten Menge der fotoempfindliche Schicht unterscheiden). Somit gibt es in dem Fall, dass die geeignete Auffrischermenge sich abhängig von der Plattenfläche ändert, der Einzeloberfläche/Doppeloberfläche und der Art der Platte ein Problem, das es schwierig macht, den Auffrischer geeignet aufzufrischen.
  • Andererseits wird in JP-A-64-21451 (die hierin verwendete Bezeichnung "JP-A" bezeichnet eine japanische ungeprüfte Patentveröffentlichung) ein herkömmliches Verfahren zur Auffrischung des Auffrischers für eine automatische Entwicklungsvorrichtung für fotoempfindliche lithografische Druckplatten offenbart, welches die elektrische Leitfähigkeit des Entwicklers misst, den gemessen Wert mit dem berechneten Wert vergleicht, der experimentell für die optimale Empfindlichkeit bestimmt wurde, und den Auffrischer in dem Fall auffrischt, dass der gemessene Wert kleiner ist als der berechnete Wert. (Nachfolgend wird dieses Verfahren als "Auffrischungsverfahren auf Basis der Leitfähigkeit" bezeichnet.)
  • Das Auffrischungsverfahren auf Basis der Leitfähigkeit kann die geeignete Menge des Auffrischers auffrischen und kann die Entwicklerempfindlichkeit geeignet halten, selbst mit den Änderungen der Plattenfläche, der Einzeloberfläche/Doppeloberfläche oder dem Typ der zu verarbeitenden lithografischen Platte.
  • Es ist jedoch anzumerken, dass die Entwicklerleitfähigkeit beeinträchtigt wird (sich erhöht) durch natürliche Verdampfung von Wasser aus dem Entwickler. Entsprechend ändert sich eine geeignete Auffrischungsmenge des Auffrischers, wenn die natürliche Verdampfung von Wasser gefördert wird durch die Wirkung der installierten Bedingungen der automatischen Entwicklungsvorrichtung oder dergleichen.
  • Das zuvor erwähnte Auffrischungsverfahren auf Basis der Leitfähigkeit kann die Änderungen der geeigneten Auffrischungsmenge des Auffrischers infolge der natürlichen Verdampfung von Wasser nicht handhaben. Folglich wird, wenn sich die natürliche Verdampfung von Wasser erhöht, die geeignete Auffrischung nicht realisiert, was dazu führt, dass die Entwicklerempfindlichkeit nicht geeignet beibehalten wird.
  • Darüber hinaus unterscheidet sich die elektrische Leitfähigkeit des Entwicklers, der erschöpft ist durch in der abgelaufenen Zeit absorbiertes Kohlendioxid, von derjenigen des Entwicklers, der durch Plattenverarbeitung erschöpft ist, wenn die Empfindlichkeit der zwei wieder auf ihre richtigen Werte wiederhergestellt werden. Beispielsweise zeigt ein Verarbeitungsmittel vom Silicat-Typ 65 mS/cm, wenn es von der CO2-Ermüdung wiederhergestellt wird, im Gegensatz zu 55 mS/cm, wenn es von der Plattenverarbeitung wiederhergestellt wird, und ein Verarbeitungsmittel vom Nicht-Silicat-Typ zeigt 56 mS/cm, wenn es von der CO2-Ermüdung wiederhergestellt wird, im Gegensatz zu 39 mS/cm, wenn es von der Plattenverarbeitung wiederhergestellt wird. Wenn die Verarbeitungsfrequenz, z.B. die verarbeitete Menge pro Tag, sich ändert, neigt die elektrische Leitfähigkeit für ihre optimale Empfindlichkeit folglich zur Verschiebung von dem Referenzleitfähigkeitswert, der vorher festgelegt wurde, und so wird es unmöglich, die Entwicklerempfindlichkeit geeignet aufrechtzuerhalten.
  • Zusammenfassung der Erfindung
  • Indem die oben beschriebenen Situationen berücksichtigt werden, ist es das erfindungsgemäße Ziel, ein Verfahren zur Auffrischung des Auffrischers für automatische Entwicklungsvorrichtungen zur Verfügung zu stellen, das die Fluktuation der Entwicklungsempfindlichkeit bei Änderungen der Entwicklungsbedingungen minimiert, während eine wirtschaftliche und einfache Entwicklungseinheit der automatischen Entwicklungsvorrichtung verwendet wird, und hierdurch eine stabile Entwicklung durchgeführt wird.
  • Der Zweck der vorliegenden Erfindung kann erreicht werden mit den folgenden Verfahren.
    • (1) Ein Verfahren zur Auffrischung von Entwicklungsflüssigkeit in einer automatischen Entwicklungsvorrichtung für fotoempfindliche Materialien, das die folgenden Schritte umfasst: a) Auffrischen der Entwicklerflüssigkeit auf Basis einer ersten vorgegebenen (vorherbestimmten) Auffrischungsbedingung zur Kompensation der Verringerung der Entwicklungsaktivität der Entwicklungsflüssigkeit mit der Zeit durch deren Reaktion mit atmosphärischem Kohlendioxid; b) Auffrischen der Entwicklungsflüssigkeit auf Basis einer zweiten vorgegebenen (vorherbestimmten) Auffrischungsbedingung zur Kompensation der Verringerung der Aktivität der Entwicklungsflüssigkeit, die durch die Verarbeitung des fotoempfindlichen Materials hervorgerufen wird; c) Messen der elektrischen Leitfähigkeit der aufgefrischten Entwicklungsflüssigkeit; d) Berechnen des Auffrischerersetzungsverhältnisses, das das Ausmaß wiedergibt, in dem die Entwicklungsflüssigkeit durch mindestens eines, ausgewählt aus der Auffrischflüssigkeit und einem Verdünnungsmittel zur Verringerung der elektrischen Leitfähigkeit der Entwicklungsflüssigkeit ersetzt wird; und e) Zuführen eines Verdünnungsmittels zur Entwicklungsflüssigkeit, bis die elektrische Leitfähigkeit der Entwicklungsflüssigkeit unter einen Zielwert der elektrischen Leitfähigkeit fällt, der berechnet wird aus dem Auffrischerersetzungsverhältnis, wenn der gemessene Wert der elektrischen Leitfähigkeit des Entwicklers den Zielwert der elektrischen Leitfähigkeit übersteigt.
    • (2) Ein Verfahren gemäß (1), in dem der Zielwert der elektrischen Leitfähigkeit berechnet wird aus dem Auffrischerersetzungsverhältnis und entweder: a) einem Verdünnungsverhältnis, das die Summe des Volumens des Verdünnungsmittels, das zum Verdünnen der Auffrischflüssigkeit verwendet wird, und des Volumens des Verdünnungsmittels, das zur Verringerung der elektrischen Leitfähigkeit der Entwicklungsflüssigkeit in den Entwicklertank zugeführt wird, in Bezug auf das Volumen der Auffrischflüssigkeit; oder b) einem Verhältnis der vollständigen Menge der Auffrischflüssigkeit, die zur Kompensation der Verringerung der Entwicklungsaktivität der Entwicklungsflüssigkeit infolge ihrer Reaktion mit atmosphärischem Kohlendioxid im Laufe der Zeit in den Entwicklertank zugeführt wird, in Bezug auf das Produkt des Auffrischerersetzungsverhältnisses und des Volumens des Entwicklers.
  • Erfindungsgemäß bezeichnet der "Auffrischer für den Entwickler" eine Verarbeitungslösung, die als Auffrischer zugegeben werden soll, um konstante Entwicklungseigenschaften aufrechtzuerhalten. Der Auffrischer für den Entwickler schließt eine Lösung, die reguliert ist durch Verdünnen eines unverdünnten Auffrischers mit einem Verdünnungsmittel, wie Wasser, oder einen Auffrischer, der so wie er ist ohne Verdünnung verwendet werden kann, ein. Darüber hinaus kann in einem Auffrischungsverfahren der Auffrischer, der reguliert ist durch die vorherige Verdünnung des unverdünnten Auffrischers, in den Entwicklertank als Auffrischer zugeführt werden, oder der unverdünnte Auffrischer und das Verdünnungsmittel können dem Entwicklertank direkt als Auffrischer zugeführt werden. Darüber hinaus wird, wenn der unverdünnte Auffrischer und das Verdünnungsmittel verwendet werden, die vollständige Menge des Auffrischers erhalten durch die Summe des unverdünnten Auffrischers und des Verdünnungsmittels.
  • In der vorliegenden Erfindung kann die elektrische Leitfähigkeit des Entwicklers mit jedem in der Technik bekannten Gerät gemessen werden, eingeschlossen ein Wechselstrom-Leitfähigkeitsmessgerät, ein Wechselstrom-Brückenmessgerät und andere Typen von Leitfähigkeitsmessgeräten.
  • Zusätzlich ist es, obwohl eine optimale Bedingung eines gemessenen Stromstärkewerts und einer Oszillationsfrequenz oder dergleichen des Messgeräts abhängt von den Zusammensetzungen des Entwicklers und dergleichen, jedoch im Hinblick auf den Schutz der Vorrichtung und der Verhinderung der Elektrolyse des wässrigen Entwicklers, bevorzugt, dass die Stromstärkewerte in gewissem Ausmaß niedrig sind, d.h. von mehreren hundert mA bis zu mehreren μA.
  • Ferner ist es im Hinblick auf die elektrostatische Kapazitätskomponente des Entwicklers bevorzugt, dass die Frequenz von mehreren hundert Hz bis zu mehreren hundert kHz ist.
  • Die elektrische Leitfähigkeit des Elektrolyte enthaltenden Entwicklers hängt von der Temperatur der wässrigen Lösung ab, und die elektrische Leitfähigkeit nimmt mit steigender Temperatur ab. Folglich ist es mehr bevorzugt, die elektrische Leitfähigkeit mit einer Messvorrichtung zu bestimmen, die mit einem Temperatursensor und einem Temperaturkompensationskreis ausgestattet ist. Ferner kann der Regler für die Auffrischung die Temperatur kompensieren durch Umwandlung eines tatsächlich gemessenen Widerstandswerts der Flüssigkeit und der Temperatur der Flüssigkeit in die elektrische Leitfähigkeit bei der vorgegebenen Temperatur.
  • Der Sensor des Wechselstrom-Leitfähigkeitsmessgeräts, des Wechselstrom-Brückenmessgeräts oder anderer Typen von Leitfähigkeitsmessgeräten kann an beliebiger Stelle platziert werden, wo der Sensor zum Zeitpunkt der Messung in den Entwickler eingetaucht werden kann und den Wechselstrom-Leitfähigkeitswert des Entwicklers messen kann. Vorzugsweise kann der Sensor im Inneren des Entwicklerumlaufsystems der automatischen Entwicklungsvorrichtung angebracht sein, insbesondere im Entwicklertank oder im Umlaufrohr.
  • Als Detektionsvorrichtung kann eine gut bekannte Messzelle, die aus Platin, Edelstahl oder dergleichen hergestellte Elektroden enthält, verwendet werden.
  • Als nächstes wird eine Beschreibung eines Entwicklers und eines Auffrischers gegeben, die für die vorliegende Erfindung verwendbar sind.
  • 1. Entwickler
  • Alkalimittel
  • Der erfindungsgemäß verwendete Entwickler und der Auffrischer ist wässrige alkalische Lösung mit pH 9,0 bis 13,5 und mehr bevorzugt pH 10,0 bis 13,3.
  • Herkömmlich bekannte wässrige alkalische Lösungen können als ein solcher Entwickler oder Auffrischer verwendet werden. Beispielsweise können anorganische basische Materialien, wie Natrium- oder Kaliumsilikat, Trinatrium, Trikalium- oder Triammoniumphosphat, Dinatrium, Dikalium- oder Diammoniumhydrogenphosphat, Natrium-, Kalium- oder Ammoniumbicarbonat, Natrium-, Kalium- oder Ammoniumcarbonat, Natrium-Kalium- oder -Ammoniumbicarbonat, Natrium-, Kalium- oder Ammoniumborat, Natrium-, Kalium-, Ammonium- oder Lithiumhydroxid usw. und organische, wie Monomethylamin, Dimethylamin, Trimethylamin, Monoethylamin, Diethylamin, Triethylamin, Monoisopropylamin, Diisopropylamin, Triisopropylamin, n-Butylamin, Monoethanolamin, Diethanolamin, Triethanolamin, Monoisopropanolamin, Diisopropanolamin, Ethylenimin, Ethylendiamin, Pyridin, usw. verwendet werden.
  • Von diesen Alkalimitteln sind bevorzugte Natrium- und Kaliumsilikat, weil die Änderung des Verhältnisses von Siliziumdioxid SiO2 zu alkalischem Metalloxid M2O, die beide diese Salze bilden, sowie auch die Konzentration, den pH sowie auch die Entwicklungsaktivität kontrollieren kann. Im allgemeinen wird die Silikatzusammensetzung angegeben durch das molare Verhältnis von SiO2 zu M2O ([SiO2]/[M2O]). Beispielsweise wird eine wässrige Lösung von Kaliumsilikat mit einem molaren Verhältnis von SiO2 zu M2O von 0,5 bis 2,0 (d.h. [SiO2]/[M2O] = 0,5 bis 2,0), wobei der Gehalt an SiO2 in dieser Lösung 1 bis 4 Gew.% ist, erfindungsgemäß bevorzugt verwendet.
  • Darüber hinaus schließen stärker bevorzugte, für den alkalischen Entwickler verwendete Alkalimittel solche ein, die für Pufferlösungen verwendet werden und ein Paar von schwacher Säure und schwacher Base enthalten. Als schwache Säuren, die für solche Pufferlösungen verwendet werden, sind diejenigen mit einer Säuredissoziationskonstante (pKa) von 10,0 bis 13,3, mehr bevorzugt 11,0 bis 13,1 geeignet. Beispielsweise kann bevorzugt Sulfosalicylsäure, deren dritte Dissoziationskonstante 11,7 ist, bevorzugt verwendet werden. Somit können mehrwertige Säuren, von denen mindestens eine Dissoziationskonstante in dem zuvor angegebenen Bereich liegt, für die vorliegende Erfindung anwendbar sein.
  • Geeignete schwache Säuren können aus denen ausgewählt sein, die beschrieben sind in "Ionization constants of organic acids in aqueous solution" (Pergamon Press) usw., die beispielsweise Alkohole, wie 2,2,3,3-Tetrafluorpropanol-1 (pKa = 12,74), Trifluorethanol (12,37), Trichlorethanol (12,24) usw., Aldehyde, wie Pyridin-2-aldehyd (12,68), Pyridin-4-aldehyd (12,05) usw., Saccharide, wie Sorbit (13,0), Saccharose (12,7), 2-Deoxyribose (12,61), 2-Deoxyglukose (12,51), Glukose (12,46), Galaktose (12,35), Arabinose (12,34), Xylose (12,29), Fruktose (12,27), Ribose (12,22), Mannose (12,08), L-Ascorbinsäure (11,34) usw., Verbindungen mit einer oder mehreren phenolischen Hydroxygruppen, wie Salicylsäure (13,0), 3-Hydroxy-2-naphthoesäure (12,84), Katechol (12,6), Gallussäure (12,4), Sulfosalicylsäure (11,7), 3,4-Dihydroxybenzolsulfonsäure (12,2), 3,4-Dihydroxybenzoesäure (11,94), 1,2,4-Trihydroxybenzol (11,82), Hydrochinon (11,56), Pyrogallol (11,34), Resorcinol (11,27), usw., Oxime, wie 2-Butanonoxim (12,45), Acetoxim (12,42), 1,2-Cycloheptandiondioxim (12,3), 2-Hydroxybenzaldehydoxim (12,10), Dimethylglyoxim (11,9), Ethandiamiddioxim (11,37), Acetophenonoxim (11,35) usw., Aminosäuren, wie 2-Chinolon (11,76), 2-Pyridon (11,65), 4-Chinolon (11,28), 4-Pyridon (11,12), 5-Aminovalerinsäure (10,77), 2-Mercaptochinolin (10,25), 3-Aminopropionsäure (10,24) usw., Nukleinsäure-verwandte Verbindungen, wie Fluoruracil (13,0), Guanosin (12,6), Uridin (12,6), Adenosin (12,56), Inosin (12,5), Guanin (12,3), Cytisin (12,2), Cytosin (12,2), Hypoxanthin (12,1), Xanthin (11,9) usw., andere schwache Säuren, wie Diethylaminomethylphosphonsäure (12,32), 1-Amino-3,3,3-trifluorbenzoesäure (12,29), Isopropylidendiphosphonsäure (12,10), 1,1-Ethylidendiphosphonsäure (11,54), 1,1-Ethylidendiphosphonsäure-1-hydroxy (11,52), Benzimidazol (12,86), Thiobenzamid (12,8), Pycolinthioamid (12,55), Barbitursäure (12,5) usw. einschließen.
  • Starke Basen, die mit den zuvor genannten schwachen Säuren kombiniert werden können, schließen Natrium-, Ammonium-, Kalium- oder Lithiumhydroxid ein.
  • Jede dieser Basen kann allein oder in Kombination miteinander verwendet werden.
  • Von den zuvor erwähnten alkalischen Pufferagentien sind bevorzugte die Kombinationen von einem Vertreter von Sulfosalicylsäure, Salicylsäure, Saccharose oder Sorbit mit Natrium- oder Kaliumhydroxid. Mehr bevorzugte Kombinationen umfassen Sorbit und Kalium- oder Natriumhydroxid.
  • Diese Alkalimittel werden in solcher Weise verwendet, dass sie vorzugsweise pH-Werte realisieren durch Kontrolle ihrer Konzentrationen sowie auch Kombinationen.
  • Tensid
  • In dem erfindungsgemäß verwendeten Entwickler und Auffrischer können unterschiedliche Tenside enthalten sein, um die Entwicklung zu fördern, Entwicklungsschaum (development scum) zu dispergieren oder die Farbaufnahmefähigkeit des Bildbereichs der Druckplatte zu verstärken. Bevorzugte Tenside schließen anionische, kationische, nichtionische oder amphotere Verbindungen ein.
  • Bevorzugte Beispiele solcher Tenside schließen nichtionische ein, wie Polyoxyethylenalkylether, Polyoxyethylenalkylphenylether, Polyoxyethylenpolystyrylphenylether, Polyoxyethylenpolyoxypropylenalkylether, Fettsäurepartialester von Glycerin, Fettsäurepartialester von Sorbitan, Fettsäurepartialester von Pentaerythritol, Monofettsäureester von Propylenglykol, Fettsäurepartialester von Saccharose, Fettsäurepartialester von Polyoxyethylensorbaten, Fettsäurepartialester von Polyoxyethylensorbit, Fettsäureester von Polyethylenglykol, Fettsäurepartialester von Polyglycerin, Castoröl mit hinzugefügtem Polyoxyethylen, Fettsäurepartialester von Polyoxyethylenglycerin, Fettsäure-Diethanolamide, N,N-Bis-2-hydroxyalkylamine, Polyoxyethylenalkylamine, Fettsäureester von Triethanolamin, Trialkylaminoxid usw.; anionische Tenside, wie die Salze der folgenden Säuren; Fettsäure, Abietinsäure, Hydroxyalkansulfonsäure, Alkansulfonsäure, Dialkylsulfobernsteinsäureester, gerad- und verzweigtkettige Alkylbenzolsulfonsäure, Alkylnaphthalinsulfonsäure oder Alkylphenoxypolyoxyethylen-Propylsulfonsäure, Polyoxyethylenalkylsulfophenylethersalz, Natriumsalz von N-Methyl-N-oleyltaurin, bi-Natriumsalz von N-Alkylsulfobernsteinsäuremonoamid, Salze von Petroleumsulfonsäure, sulfonierter Talg, Sulfatsalze von Fettsäurealkylester, Alkylsulfatsalze, Polyoxyethylenalkylether-Sulfatsalze, Sulfatsalze von Fettsäuremonoglycerid, Polyoxyethylenalkylphenylsulfat, Polyoxyethylenstyrylphenylether-Sulfatsalze, Alkylphosphatsalze, Polyoxyethylenalkyletherphosphatsalze, Polyoxyethylenalkylphenyletherphosphatesalze, teilweise verseifte Styrol/Maleinsäureanhydrid-Copolymere, teilweise verseifte Olefin/Maleinsäureanhydrid-Copolymere, Formaldehyd-Kondensationsprodukte von Naphthalinsulfonsäuresalz usw.; kationische Tenside, wie quaternäres Ammonium, z.B. Alkylaminsalze, Tetrabutylammoniumbromid usw., Polyoxyethylenalkylaminsalze, Polyethylenpolyamin-Derivate usw.; amphotere Tenside, wie Carboxybetaine, Aminocarbonsäuren, Sulfobetaine, Aminosulfonsäureester, Imidazoline usw. Von den oben beschriebenen Tensiden ist die "Polyoxyethylen"-Gruppe ersetzbar durch "Polyoxyalkylen", eingeschlossen "Polyoxymethylen", "Polyoxypropylen", "Polyoxybutylen" usw. und diejenigen mit den ersetzten Gruppen können ebenso in den Bereich der Erfindung eingeschlossen sein.
  • Mehr bevorzugte Tenside sind fluorhaltige Tenside, die in ihrer Molekularstruktur eine Perfluoralkylgruppe einschließen können. Solche Tenside schließen anionische ein, wie Perfluoralkylcarbonsäuresalze, Perfluoralkylsulfonsäuresalze, Perfluoralkylphosphorsäureester usw., amphotere, wie Perfluoralkylbetain usw., kationische, wie Perfluoralkyltrimethylammnoniumsalze usw., nichtionische, wie Perfluoralkylaminoxide, Perfluoralkylethylenoxid-Addukte, Oligomere mit Perfluoralkylgruppen und hydrophilen Gruppen, Oligomere mit Perfluoralkylgruppen und oleophilen Gruppen, Oligomere mit Perfluoralkylgruppen, hydrophilen und oleophilen Gruppen, Urethane mit Perfluoralkylgruppen und oleophilen Gruppen usw.
  • Die oben beschriebenen Tenside können einzeln oder in Kombination von zwei oder mehr Arten von ihnen im Konzentrationsbereich von 0,001 bis 10 Gew.% oder in einem mehr bevorzugten Bereich von 0,01 bis 5 Gew.% des Entwicklers verwendet werden.
  • Entwicklungsstabilisierungsmittel
  • Unterschiedliche Entwicklungsstabilisierungsmittel können in den erfindungsgemäßen Entwickler und Auffrischer eingearbeitet werden, einschließlich Polyethylenglykol-Addukte von Saccharosealkohol, die offenbart sind in JP-A-6-282079, Tetraalkylammoniumsalze wie Tetrabutylammoniumhydroxid usw., Phosphoniumsalze, wie Tetrabutylphosphoniumbromid usw. und Iodoniumsalze, wie Diphenyliodoniumchlorid usw.
  • Darüber hinaus können die anionischen oder die amphoteren Tenside, die in JP-A-55-51324 offenbart sind, die in JP-A-55-95946 offenbarten wasserlöslichen kationischen Polymere und die in JP-A-56-142528 offenbarten amphoteren Polymerelektrolate verwendet werden.
  • Ferner organische Borverbindungen mit hinzugefügtem Alkylenglykol, die offenbart sind in JP-A-59-84241, wasserlösliche Tenside, die den Polyoxyethylen/Polyoxypropylen-Block-Typ umfassen, offenbart in JP-A-60-111246, mit Polyoxyethylen·Polyoxypropylen substituierte Alkylendiamine, offenbart in JP-A-60-129750, Polyethylenglykol mit einem gewichtsmittleren Molekulargewicht von nicht weniger als 300, offenbart in JP-A-61-215554, fluorhaltige Tenside mit einer kationischen Gruppe, offenbart in JP-A-63-175858, die wasserlöslichen Verbindungen mit hinzugefügtem Ethylenoxid, die erhalten werden durch Zugabe von 4 oder mehr Mol Ethylenoxid zu Säuren oder Alkoholen, offenbart in JP-A-2-39157, wasserlösliche Polyalkylen-Verbindungen, usw.
  • Organisches Lösungsmittel
  • Falls erforderlich, können organische Lösungsmittel zum erfindungsgemäßen Entwickler und Auffrischer hinzugefügt werden. Geeignete organische Lösungsmittel sollten eine Löslichkeit in Wasser von 10 Gew.% oder weniger, mehr bevorzugt 5 Gew.% oder weniger haben. Beispiele solcher Lösungsmittel schließen 1- und 2-Phenylethanol, 3-Phenyl-1-propanol, 4-Phenyl-1-butanol, 4-Phenyl-2-butanol, 2-Phenyl-1-butanol, 2-Phenoxyethanol, 2-Benzyloxyethanol, o-Methoxybenzylalkohol, m-Methoxybenzylalkohol, p-Methoxybenzylalkohol, Benzylalkohol, Cyclohexanol, 2-, 3- und 4-Methylcyclohexanol, N-Phenylethanolamin, N-Phenyldiethanolamin, usw. ein. Ein geeigneter Bereich für den Gehalt an solchen organischen Lösungsmitteln ist 0,1 bis 5 Gew.% der Gesamtmenge der Arbeitslösung. Der Gehalt hat eine enge Beziehung zur Menge des verwendeten Tensids; mit Zunahme an organischem Lösungsmittel sollte vorzugsweise die Menge Tensid erhöht werden. Wenn nur eine geringe Menge Tensid in Gegenwart einer großen Menge organischen Lösungsmittels verwendet wird, löst sich das organische Lösungsmittel manchmal nicht vollständig in der Zusammensetzung auf und stellt so kein gewünschtes Niveau an Entwicklungsvermögen sicher.
  • Reduktionsmittel
  • Die erfindungsgemäßen Entwickler- und Auffrischer-Zusammensetzungen können weiter Reduktionsmittel enthalten, um zu verhindern, dass lithografische Druckplatten Flecken bilden (staining). Reduktionsmittel sind besonders wirksam für die Entwicklung negativ arbeitender fotoempfindlicher lithografischer Druckplatten, die fotoempfindliche Diazoniumsalzverbindungen enthalten. Besonders bevorzugte organische Reduktionsmittel schließen Phenolverbindungen, wie Thiosalicylsäure, Hydrochinon, Methol-(N-methylaminophenol), Methoxychinon, Resorzin, 2-Methylresorzin usw., Aminverbindungen, wie Phenylendiamin, Phenylhydrazin usw. ein. Besonders bevorzugte anorganische Reduktionsmittel schließen die Natrium-, Kalium- und Ammoniumsalze anorganischer Säuren, wie schwefelige, hydrogenschwefelige, phosphorige, monohydrogenphosphorige, dihydrogenphosphorige, Thioschwefel-, dithionige Säure usw. ein. Von diesen Reduktionsmitteln sind die am meisten bevorzugte Sulfitsalze. Der bevorzugte Bereich für den Gehalt an dem Reduktionsmittel ist 0,05 bis 5 Gew.% des Arbeitsentwicklers.
  • Organische Carbonsäure
  • Die erfindungsgemäßen Entwickler- und Auffrischer-Zusammensetzungen können ferner organische Carbonsäuren enthalten. Bevorzugte Säuren sind aliphatische und aromatische Carbonsäuren mit 6 bis 20 Kohlenstoffatomen. Bevorzugte aliphatische Säuren schließen Capron-, Önanth-, Capryl-, Laurin-, Myristin-, Palmitin-, Stearinsäuren usw. ein, wobei besondere geeignete C8-12-Alkansäuren sind. Ungesättigte Fettsäuren, die Doppelbindungen in ihrer Kohlenstoff kette enthalten, können verwendet werden. Verzweigtkettige Fettsäuren können ebenso verwendet werden.
  • Geeignete aromatische Carbonsäuren sind diejenigen, welche einen Benzolring, Naphthalinring, Anthracenring, substituiert mit einer Carboxylgruppe, enthalten, und Beispiele sind o-Chlorbenzoesäure, p-Chlorbenzoesäure, o-Hydroxybenzoesäure, p-Hydroxybenzoesäure, o-Aminobenzoesäure, p-Aminobenzoesäure, 2,4-Dihydroxybenzoesäure, 2,5-Dihydroxybenzoesäure, 2,6-Dihydroxybenzoesäure, 2,3-Dihydroxybenzoesäure, 3,5-Dihydroxybenzoesäure, Gallussäure, 1-Hydroxy-2-naphthoesäure, 3-Hydroxy-2-naphthoesäure, 2-Hydroxy-1-naphthoesäure, 1- und 2-Naphthoesäure usw. Von diesen ist Hydroxynaphthoesäure eine der am besten geeigneten aromatischen Säuren.
  • Die oben beschriebenen aliphatischen und aromatischen Carbonsäuren können bevorzugt in Form von Natrium-, Kalium- oder Ammoniumsalz verwendet werden, um eine hohe Löslichkeit in Wasser sicherzustellen. Es gibt keine besondere Beschränkung hinsichtlich des Gehalts an organischer Carbonsäure in der erfindungsgemäßen Entwicklerzusammensetzung, jedoch können allgemein Anteile unter 0,1 Gew.% keinen ausreichenden Effekt ausüben; andererseits ist, wenn der Säuregehalt 10 Gew.% übersteigt, der Effekt gesättigt und neigt dazu, die Lösung anderer Additive zu behindern. Entsprechend liegt der praktische Bereich zwischen 0,1 und 10% und mehr bevorzugt 0,5 und 4 Gew.% des Arbeitsentwicklers.
  • Antiseptisches Mittel
  • Antiseptische Mittel können zum Entwickler, dem Waschwasser oder der Endbehandlungsflüssigkeit zugegeben werden. Bekannte antiseptische Mittel für Gewebe, Holzverarbeitung, Nahrungsmittel, Kosmetika, Agrochemikalien usw. können verwendet werden. Beispiele schließen quaternäre Ammoniumsalze, einwertige, zweiwertige oder mehrwertige Phenolderivate, Imidazolderivate, Pyrazolopyrimidinderivate, einwertige Naphthol-, Carbonat-, Sulfonderivate, organische Zinnverbindung, Cyclopentanderivate, Phenylderivate, Phenoletherderivate, Phenolesterderivate, Hydroxylaminderivate, Nitrilderivate; Naphthaline, Pyrrolderivate, Chinolinderivate, Benzothiazolderivate, sekundäre Amine, 1,3,5-Triazinderivate, Thiadiazolderivate, Anilidderivate, Pyrrolderivate, Halogenderivate, zweiwertige Alkoholderivate, Dithiole, Cyansäurederivate, Thiocarbamidderivate, Diaminderivate, Isothiazolderivate, einwertige Alkohole, gesättigte Aldehyde, ungesättigte Monocarbonsäuren, gesättigte und ungesättigte Ether, Lactone, Aminosäurederivate, Hydantoine, Cyanursäurederivate, Guanidinderivate, Pyridinderivate, gesättigte Monocarbonsäuren, Benzolcarbonsäurederivate, Hydroxycarbonsäurederivate, Biphenyl, Hydroxamsäurederivate, aromatische Alkohole, Halogenphenolderivate, Benzolcarbonsäurederivate, Mercaptocarbonsäurederivate, quaternäre Ammoniumsalzderivate, Triphenylmethanderivate, Hinokitiol, Furan- und Benzofuranderivate, Acridinderivate, Isochinolinderivate, Arsinderivate, Thiocarbamidsäurederivate, Phosphorsäureester, halogenierte Benzolderivate, Chinonderivate, Benzolsulfonsäurederivate, Monoaminderivate, organische Phosphorsäureester, Piperadinderivate, Phenazinderivate, Pyrimidinderivate, Thiophanatderivate, Imidazolinderivate, Isoxazolderivate, Ammoniumsalzderivate usw. ein. Besonders geeignete antiseptische Mittel sind die Salze von Pyridinthiol-1-oxid, Salicylsäure und ihre Salze, 1,3,5-Trishydroxyethylhexahydro-S-triazin, 1,3,5-Trishydroxymethylhexahydro-S-triazin, 1,2-Benzisothiazolin-3-on, 5-Chlor-2-methyl-4-isothiazolin-3-on und 2-Brom-2-nitro-1,3-propandiol. Der Zusatzlevel dieser antiseptischen Mittel wird so bestimmt, dass die antiseptischen Mittel in einer dauerhaften und wirksamen Weise gegen Bakterien, Schimmel, Hefepilze usw. wirken, abhängig von der Art der Bakterien usw. Ein bevorzugter Bereich ist gewöhnlich 0,01 bis 4 Gew.%. Allgemein werden bevorzugt kombinierte zwei oder mehr Arten von antiseptischen Mitteln gemeinsam verwendet, um den Entwickler von unterschiedlichen Arten von Bakterien, Schimmel usw. zu schützen.
  • Weitere Bestandteile
  • Die erfindungsgemäß verwendeten Entwickler- und Auffrischer-Zusammensetzungen können ferner weitere Bestandteile enthalten, wie Antischaummittel (anti-forming agent), Wasserenthärter usw., je nach Bedarf. Enthärter für hartes Wasser schließen beispielsweise Polyphosphorsäure und ihr Natrium-, Kalium- oder Ammoniumsalz, Amino-Polycarbonsäure wie Ethylendiamintetraessigsäure, Diethylentriaminpentaessigsäure, Triethylentetraminhexaessigsäure, Hydroxyethylethylendiamintriessigsäure, Nitrilotriessigsäure, 1,2-Diaminocyclohexantetraessigsäure, 1,3-Diamino-2-propanoltetraessigsäure usw., Natrium-, Kalium- oder Ammoniumsalze der oben beschriebenen Amino-Polycarbonsäuren,Aminotri(methylenphosphonsäure), Ethylendiamin-tetra(methylenphosphonsäure), Diethylentriaminpenta(methylenphosphonsäure), Triethylentetraminhexa(methylenphosphonsäure), Hydroxyethylethylen-diamintri(methylenphosphonsäure) und 1-Hydroxyethan-1,1-diphosphonsäure und Natrium-, Kalium- oder Ammoniumsalze der oben erwähnten Phosphonsäuren ein.
  • Ein bevorzugter Bereich für die Konzentration eines solchen Enthärters hängt von seiner Chelatbildungsfähigkeit ab, sowie auch der Härte des betreffenden Wassers; allgemein gesagt wird, bezogen auf den Arbeitsentwickler, 0,01 bis 5 Gew.% und mehr bevorzugt 0,01 bis 0,5 Gew.% empfohlen. Niedrige Konzentrationsniveaus als der beschriebene Bereich zeigen keinen ausreichenden Enthärtungseffekt; andererseits neigt ein höheres Zusatzniveau dazu, nachteilige Effekte auf entwickelte Bilder, wie Dichteabfall usw. zu haben.
  • Der verbleibende Teil des Entwicklers und des Auffrischers besteht aus Wasser, dem unterschiedliche, im Fachgebiet bekannte Additive zugesetzt werden können.
  • Im Hinblick auf den Transport nehmen der erfindungsgemäße Entwickler und Auffrischer eine kondensierte Form ein, in der sie eine erhöhte Konzentration von Bestandteilen aufweisen, die bei der Verwendung mit Wasser verdünnt werden muss. Der Kondensationsgrad wird so festgelegt, dass er weder Phasentrennung noch Abscheidung der Bestandteile verursacht. Die Temperatur des Entwicklers sollte bei 15 bis 40°C und mehr bevorzugt 20 bis 35°C gehalten werden. Die Entwicklungszeit ist vorzugsweise 5 bis 60 Sekunden und mehr bevorzugt 7 bis 40 Sekunden.
  • Das erfindungsgemäße Verfahren kann nicht nur auf die oben zitierten Entwickler angewandt werden, sondern auch auf diejenigen, die beschrieben sind in EP 0836120 A1 , EP 0908785 A , EP 0908306 A , EP 0914941 A1 , JP-A-11-327163 und JP-A-11-327160 und der japanischen Patentanmeldung Nr. 2000-255670.
  • Als nächstes werden erfindungsgemäß verwendete fotoempfindliche lithografische Druckplatten beschrieben.
  • Ein Typ positiv arbeitendes Bildaufzeichnungsmaterial wird in JP-A-7-285275, JP-A-11-119419 und der japanischen Patentanmeldung 11-182751 vorgeschlagen, in dem das Material mittels einer Infrarot-Laserbelichtung Bilder aufzeichnen kann. Das fotoempfindliche Material besteht aus einem Bindemittel, wie Kresolharz, einer Substanz, die durch Lichtabsorption Wärme erzeugt, und einer weiteren Substanz, die thermisch zersetzbar ist, wie Chinondiazid, und die im wesentlichen verhindert, dass sich das Bindemittel im Entwickler auflöst, wenn es nicht zersetzt ist. In einem solchen positiv arbeitenden Material erzeugt in belichteten Bereichen die Substanz, die durch Lichtabsorption Wärme erzeugt, Wärme und verursacht so, dass sich die belichteten Flächen auflösen.
  • Darüber hinaus offenbart JP-A-7-20625, JP-A-11-218903, die Japanischen Patentanmeldungen Nrn. 11-308286 und 11-332936 einen Typ von negativ arbeitendem Bildaufzeichnungsmaterial, das eine Verbindung, die bei Zersetzung durch Licht oder Wärme Säure erzeugt, ein Vernetzungsmittel, das durch Gegenwart von Säure arbeitet, mindestens eine Art alkalilösliches Harz und ein Infrarotlicht absorbierendes Mittel enthält. In einem solchen negativ arbeitenden Bildaufzeichnungsmaterial erzeugt in belichteten Bereichen die Substanz durch Lichtabsorption Wärme, die obige Verbindung erzeugt dadurch, dass sie durch die Wärme zersetzt wird, Säure, und die so gebildete Säure fördert die Vernetzung des alkalilöslichen Harzes mit dem Vernetzungsmittel und führt so eine Bildaufzeichnung durch.
  • Die vorliegende Erfindung kann solche Bildaufzeichnungsmaterialien, wie oben beschrieben, als lithografische Druckplatte verwenden. Um lithografische Druckplatten zu bilden, wird die Bildaufzeichnung durch eine Infrarot-Laser-Belichtung auf lithografischen Druckplatten durchgeführt die, wenn erforderlich, der Wärmebehandlung unterzogen werden, und dann einer Durchführung einer Entwicklungsbehandlung.
  • Die vorliegende Erfindung ist auch anwendbar auf die Verarbeitung der fotoempfindlichen lithografischen Druckplatten auf Basis der Fotopolymer-Zusammensetzungen, die offenbart sind in der japanischen Patentanmeldung Hei.10-251521, JP-A-2000-39724 und der japanischen Patentanmeldung 2000-276811. Die fotoempfindlichen lithografischen Druckplatten auf Basis der Fotopolymer-Zusammensetzungen bestehen auf einem Substrat, das eine Aluminiumplatte ist, welche einer hydrophilen Behandlung unterzogen wird, einer fotopolymerisierbaren Schicht, die eine Verbindung mit einer ethylenischen Doppelbindung, die zur Additionspolymerisation fähig ist, und ein Polymer mit einer vernetzbaren Gruppe in seiner Seitenkette enthält. Erfindungsgemäß wird ein solcher Typ lithografischer Druckplatte mit Laserlicht bildweise belichtet und dann entwickelt.
  • Die vorliegende Erfindung ist auch anwendbar auf die Verarbeitung der positiv arbeitenden fotoempfindlichen lithografischen Druckplatten, die offenbart sind in JP-A-9-274324, JP-A-2000-231188 und der japanischen Patentanmeldung Nr. 2000-13656, die in der herkömmlichen Technik in verbreiteter Verwendung waren. Dieser Typ lithografischer Druckplatte besteht aus einer Aluminiumplatte als Trägerkörper, auf der eine fotoempfindliche Schicht, die eine o-Chinondiazidverbindung enthält, vorgesehen ist. O-Chinondiazidverbindungen werden bekanntermaßen durch UV-Belichtung in Carbonsäuren überführt, und so kann die Schicht mit einer wässrigen alkalischen Lösung entwickelt werden, um eine Entfernung der belichteten Bereiche der fotoempfindlichen Schicht zu verursachen, wodurch die Oberfläche des Trägerkörpers exponiert wird. Die exponierte Trägeroberfläche des Aluminiumträgerkörpers, die hydrophil ist an den exponierten (Nichtbildbereich) Bereichen hält Wasser durch die Entwicklung und stößt im Drucker Farbe auf Ölbasis ab. Andererseits nehmen die Bildbereiche, wo die fotoempfindliche Schicht verbleibt, Farbe auf Ölbasis auf und stoßen Wasser ab. Gewöhnlich wird in die fotoempfindliche Schicht solcher lithografischer Platten vom positiv arbeitenden Typ ein Kresol-Novolak-Harz als Binder für die o-Chinondiazidverbindung eingearbeitet. Das erfindungsgemäße Verfahren ist anwendbar auf die Verarbeitung der negativ arbeitenden fotoempfindlichen lithografischen Platte, die offenbart ist in JP-A-7-295212 und der japanischen Patentanmeldung Nr. 2000-103135.
  • Kurze Beschreibung der Zeichnungen
  • 1 ist eine Ansicht, die einen Aufbau einer automatischen Entwicklungsvorrichtung zeigt;
  • 2 ist ein Ablaufdiagramm für die Auffrischung des Auffrischers für die Entwicklungseinheit in der automatischen Entwicklungsvorrichtung; und
  • 3 ist eine Ansicht, die den Aufbau einer weiteren automatischen Entwicklungsvorrichtung zeigt.
  • Ausführliche Beschreibung der bevorzugten Ausführungsformen
  • Eine Beschreibung einiger automatischer Entwicklungsvorrichtungen aus der Praxis, die in den erfindungsgemäßen Verfahren verwendet werden können, wird unter Bezugnahme auf die Figuren gegeben.
  • Wie in 1 gezeigt ist, schließt eine automatische Entwicklungsvorrichtung 2 eine Entwicklungseinheit 6 ein, die fotoempfindliche lithografische Druckplatten (nachfolgend als "PS-Platten" bezeichnet) 4 entwickelt, eine Endbehandlungseinheit 8, die zuerst den an die entwickelte PS-Platte 4 haftenden Entwickler abwäscht und die dann eine Gummilösung darauf als Schicht aufbringt, sowie eine Trocknungseinheit 10, welche die mit der Gummilösung beschichtete PS-Platte trocknet.
  • Wenn eine PS-Platte 4 verarbeitet wird, die vor Entwicklung ein Vorheizen erfordert, kann eine Vorheizeinheit (in 1 nicht gezeigt) vorgesehen sein. Die Vorheizeinheit ist an der vorgeschalteten Seite der Entwicklungseinheit 6 entlang der Transportrichtung angeordnet und hat die Funktion, die Oberflächentemperatur der PS-Platte 4 während eines vorgegebenen Zeitraums, während die PS-Platte 4 transportiert wird, aufrechtzuerhalten. Die PS-Platte 4, die in die Vorheizeinheit eingesetzt ist, wird automatisch zusammen mit der Anwendung von Wärme zum nächsten Verarbeitungsschritt transportiert.
  • Ferner kann die Entwicklungsvorrichtung 2 eine Vorwascheinheit (in 1 nicht gezeigt) einschließen. Die Vorwascheinheit ist an der vorgeschalteten Seite der Entwicklungseinheit 6 und an der nachgeschalteten Seite der Vorheizeinheit entlang der Transportrichtung angeordnet. Die Vorwascheinheit hat die Funktion, die Oberfläche der PS-Platte 4 zu waschen und abzukühlen, indem mit Wasser gewaschen wird, während die PS-Platte 4 transportiert wird. Die in die Vorwascheinheit eingesetzte PS-Platte 4 wird zur Entwicklungseinheit 6 transportiert, die den nächsten Verarbeitungsschritt durchführt.
  • Ein Einlassport 14 ist in einer Seitenwand 12 der automatischen Entwicklungsvorrichtung 2 ausgebildet und die durch den Einlassport 14 hineingeführte PS-Platte 4 wird durch Transportrollen 16 zur Entwicklungseinheit 6 geführt. Am Einlassport 14 ist eine Gummilamelle 18 vorgesehen, welche den Einlassport 14 verschließt, außer wenn eine PS-Platte 4 eingeführt wird.
  • In einem Entwicklertank 20 der Entwicklungseinheit 6 sind Transportrollen 22, Bürstenrollen 24 und Abpressrollen 26 in dieser Reihenfolge von der vorgeschalteten Seite in Transportrichtung angebracht, und Unterstützungsrollen 28 sind ebenso zwischen den erstgenannten drei Rollen in geeigneter Weise angeordnet. Die PS-Platte 4 wird in die Entwicklerlösung eingetaucht und durch sie entwickelt, während sie durch die Transportrolle 22 transportiert wird.
  • Die an die Entwicklungseinheit 6 angrenzende Endbehandlungseinheit 8 schließt eine erste Endbehandlungseinheit 8a und eine zweite Endbehandlungseinheit 8b ein. Jede dieser Endbehandlungseinheiten 8a, 8b ist mit Transportrollen 30a, 30b, die die PS-Platte 4 transportieren, Düsen 34a, 34b, welche die in dem Endbehandlungstank 32a, 32b aufbewahrte Gummilösung auf die PS-Platte 4 sprühen, ausgestattet. Die PS-Platte 4 wird nach der Entwicklung mit den Düsen 34a, 34b mit der Gummilösung beschichtet, während sie durch die Transportrollen 30a, 30b transportiert wird. Man lässt die in dem zweiten Endbehandlungstank 32b der zweiten Endbehandlungseinheit 8b, die an der nachgeschalteten Seite lokalisiert ist, aufbewahrte Gummilösung überströmen und führt sie so dem ersten Endbehandlungstank 32a der ersten Endbehandlungseinheit 8a zu. Anstelle dieses Aufbaus kann die Gummilösung aus dem zweiten Endbehandlungstank 32b unter Verwendung einer Pumpe oder dergleichen dem ersten Endbehandlungstank 32a zugeführt werden.
  • Die an die Endbehandlungseinheit 8 angrenzende Trocknungseinheit 10 ist ausgestattet mit einer Führungsrolle 36 und einem Paar Rollen 38 mit Spießen in dieser Reihenfolge von der vorgeschalteten Seite in Transportrichtung. In der Trocknungseinheit 10 ist eine Trocknungsvorrichtung, wie beispielsweise eine Einheit zur Zufuhr warmer Luft, eine Heizeinheit usw. vorgesehen, die in der Figur nicht gezeigt ist. In der Trocknungseinheit 10 gibt es einen Auslassport 40, durch welchen die getrocknete PS-Platte 4 aus der Vorrichtung hinausgeführt wird. Ferner ist eine Klappe 44 in einem Durchgang 46 zwischen der Trocknungseinheit 10 und der Endbehandlungseinheit 8 vorgesehen, und die Klappe 44 hält den Durchgang 46 verschlossen, außer wenn sich die PS-Platte 4 entlang des Durchgangs 46 bewegt.
  • Die in einem Gummmilösungstank 56 aufbewahrte Gummilösung wird mit einer Pumpe 77 dem zweiten Endbehandlungstank 32b zugeführt, und ein Verdünnungsmittel (Wasser) 57, das aufbewahrt wird in einem Lagerungstank 53 für ein Verdünnungsmittel für die Auffrischung wird ebenso mit einer Zufuhrpumpe 78 für ein Verdünnungsmittel für die Auffrischung eingespeist. Hier ist die Auffrischungsmenge der Gummilösung zu derjenigen des Verdünnungsmittels 1 : 1. Zusammen mit einer solchen Auffrischung wird die aus dem ersten Endbehandlungstank 32a überfließende Abfallösung in dem Abfalltank 54 gesammelt, genauso wie die Entwicklerabfallösung.
  • In einem Entwicklertank 20 ist eine kastenförmige Abschirmungsabdeckung 60 integral mit den Tankwänden vorgesehen. Die Bodenwand der Abschirmungsabdeckung 60 ist so strukturiert, dass sie mehrere kurvenförmige Vertiefungen hat, um die oberen Umfangsflächen der Rollen 22, 24 und 28 nicht zu berühren.
  • Weil die Abschirmungsabdeckung 60 kastenförmig ist, wird ein luftdichter Raum oberhalb des Entwicklertanks 20 ausgebildet und so ist die Menge Luft in der Entwicklungseinheit 6 minimiert. Ferner wird dank der Gegenwart der Abschirmungsabdeckung 60 die Fläche des Entwicklers, die direkt in Kontakt mit Luft steht, so klein wie möglich gemacht.
  • In der zuvor beschriebenen automatischen Entwicklungsvorrichtung 2 sind mehrere Gummilamellen 62 an geeigneten Stellen auf solche Weise vorgesehen, dass ein im wesentlichen luftdichter Raum ausgebildet wird zwischen der Entwicklungseinheit 6 zur zweiten Endbehandlungseinheit 8b, indem verhindert wird, dass die Außenatmosphäre nach innen gelangt. Der Raum zwischen der Entwicklungseinheit 6 und der ersten Endbehandlungseinheit 8a ist ebenso durch die Gummilamelle 62 luftdicht ausgebildet, um zu verhindern, dass die Luft im ersten Endbehandler 8a in die Entwicklungseinheit 6 fließt. So ist die Entwicklungseinheit 6 im wesentlichen luftdicht, außer in der Periode des Durchtritts der PS-Platte 4 durch den Einlassport, während der Luft in geringem Maße eintritt.
  • Nunmehr wird die Entwicklungseinheit 6 ausführlicher beschrieben. An den Entwicklungstank 20 ist ein Umlaufrohr 80 für den Entwickler angeschlossen, in das eine Entwicklerumlaufpumpe 71, ein Leitfähigkeitssensor 73 und ein Filter (nicht gezeigt) eingebaut sind.
  • Die Entwicklerumlaufpumpe 71 saugt den Entwickler im Tank 20 durch das am Boden des Tanks 20 vorgesehene Loch in das Rohr 80, bringt den Entwickler in Zirkulation und gibt den Entwickler zurück in den Tank 20. Der Filter filtert den durch das Rohr 80 fließenden Entwickler. Der Leitfähigkeitssensor 73 misst die Leitfähigkeit des durch das Rohr 80 tretenden Entwicklers.
  • Darüber hinaus ist die Entwicklungseinheit 6 mit einer Auffrischungsvorrichtung ausgestattet, die Auffrischungsrohre 90 und 91, einen mit dem Auffrischungsrohr 90 verbundenen Tank 55 zur Aufbewahrung von unverdünntem Auffrischer, eine Zufuhrpumpe 74 für unverdünnten Auffrischer, die in das Auffrischungsrohr 90 eingebaut ist, den mit dem Auffrischungsrohr 91 verbundenen Tank 53 zur Aufbewahrung von Verdünnungsmittel für die Auffrischung, und ein in das Auffrischungsrohr 91 eingebautes Zufuhrrohr 76 für ein Verdünnungsmittel für die Auffrischung umfasst. Die Entwicklungsabfallösung, die aus dem Entwicklungstank 20 überläuft, wird im Abfalltank 54 gesammelt.
  • Im einzelnen ist in der Nähe des Entwicklungstanks 20 das Paar von Rohren 90 und 91 vorgesehen, welche den durch Verdünnung des unverdünnten Auffrischers 58 mit dem Verdünnungsmittel für die Auffrischung 57 erhaltenen Auffrischer zuführen. Das Auffrischungsrohr 90 für den unverdünnten Auffrischer 58 ist mit dem Tank 55 zur Aufbewahrung von unverdünnten Auffrischer verbunden (unten links in 1). Die Pumpe 74 zur Zufuhr von unverdünntem Auffrischer ist in das Rohr 90 eingebaut und führt den unverdünnten Auffrischer 58 aus dem Tank 55 für die Aufbewahrung von unverdünntem Auffrischer dem Entwicklertank 20 zu.
  • Das Auffrischungsrohr 91 für das Verdünnungsmittel für die Auffrischung 57 ist mit dem Tank 53 für die Aufbewahrung von Verdünnungsmittel verbunden (unten Mitte in 1). Die Pumpe 76 für die Zufuhr von Verdünnungsmittel ist in das Auffrischungsrohr 91 eingebaut und führt das Verdünnungsmittel für die Auffrischung (Wasser) 57 aus dem Tank 53 für die Aufbewahrung des Verdünnungsmittels dem Entwicklertank 20 zu. In anderen Worten bilden das Auffrischungsrohr 91, die Pumpe 76 für die Zufuhr von Verdünnungsmittel für die Auffrischung und der Tank 53 für die Aufbewahrung von Verdünnungsmittel ein Verdünnungsmittel-Zufuhrsystem.
  • Die Pumpe 74 für die Zufuhr von unverdünntem Auffrischer und die Pumpe 76 für die Zufuhr von Verdünnungsmittel für die Auffrischung sind geregelt durch einen regelnden ROM 51, der eine Einheit für die Speicherung einer Bedingung ist, und einen Regler 50, der eine Zeitmessungsvorrichtung 52 umfasst, wobei die Erstere 74 geregelt ist auf Basis von Signalen aus einem Plattendetektor 27 und einer Zeitmessungsvorrichtung 52, während die Letztere 76 geregelt ist auf Basis von Signalen aus dem Plattendetektor 27, der Zeitmessungsvorrichtung 52 und dem Leitfähigkeitssensor 73.
  • Der Regler 50 regelt die Pumpe 74 zur Zufuhr des unverdünnten Auffrischers und die Pumpe 76 zur Zufuhr von Verdünnungsmittel auf Basis der Signale von dem Plattendetektor 27, der beurteilen kann, ob eine Platte verarbeitet wird oder nicht und der die Fläche usw. der transportierten Platte messen kann, und führt die Auffrischung durch unter Bezug auf die Auffrischungsbedingungen, die gemäß den tatsächlichen Betriebsbedingungen der automatischen Entwicklungsvorrichtung 2 festgelegt wurden und in der regelnden ROM 51 gespeichert sind. So liefert als Beispiel der Regler 50 die Menge an Auffrischer für den Entwickler (die Summe des unverdünnten Auffrischers 58 und des Verdünnungsmittels für die Auffrischung 57), die der Auffrischungsbedingung entspricht, aus dem Tank 55 zur Aufbewahrung des unverdünnten Auffrischers und dem Tank 53 für die Aufbewahrung von Verdünnungsmittel für die Auffrischung nach der Verarbeitung jeder Platte. Alternativ kann die Auffrischung durchgeführt werden nach der Verarbeitung einer festen Zahl mehrerer Platten, nicht jeder Platte.
  • Ferner führt der Regler 50 die Auffrischung durch, wenn die Zeitmessungsvorrichtung 52 den Ablauf einer vorgegebenen Zeit feststellt, unter Bezugnahme auf die Auffrischungsbedingungen, die gemäß den tatsächlichen Betriebsbedingungen der automatischen Entwicklungsvorrichtungen 2 festgelegt sind. Der Regler 50 liefert die Menge an Auffrischer für den Entwickler (die Summe des unverdünnten Auffrischers 58 und des Verdünnungsmittels für die Auffrischung 57), die der Auffrischungsbedingung entspricht, die im regelnden ROM 51 gespeichert ist, aus dem Tank 55 für die Aufbewahrung von unverdünntem Auffrischer und dem Tank 53 zur Aufbewahrung des Verdünnungsmittels und bewältigt so den Effekt des Zeitablaufs.
  • Ferner führt, wenn die Leitfähigkeit des aufgefrischten Entwicklers, die gemessen wurde durch den Sensor 73, den Zielwert übersteigt (entsprechend dem wünschenswerten Zustand des Entwicklers), der aus dem Ersetzungsverhältnis des Auffrischers, usw., berechnet wurde, der Regler 50 das Verdünnungsmittel für die Auffrischung 57 dem Entwicklertank 20 aus dem Tank 53 zur Aufbewahrung des Verdünnungsmittels zu.
  • Als nächstes wird ein Arbeitsablauf der vorliegenden Ausführungsform beschrieben.
  • Während des Betriebs der automatischen Entwicklungsvorrichtung 2 sind die Pumpe 74 für die Zufuhr von unverdünntem Auffrischer und die Pumpe 76 für die Zufuhr des Verdünnungsmittels für die Auffrischung geregelt durch Regler 50 auf Basis der Signale aus der Zeitmessungsvorrichtung 52 und dem Plattendetektor 27 in Bezug auf die vorgegebenen Auffrischungsbedingungen, abhängig von den tatsächlichen Betriebsbedingungen, wodurch der Auffrischer dem Entwicklertank 20 durch die zwei Pumpen zugeführt wird, um die Effekte des Zeitablaufs sowie auch der Verarbeitung zu kompensieren.
  • Darüber hinaus wird durch Kontrolle der Pumpe 76 zur Zufuhr des Verdünnungsmittels durch den Regler 50 auf Basis der Signale aus dem Leitfähigkeitssensor 73 das Verdünnungsmittel in den Entwicklertank 20 aus dem Tank 53 für die Aufbewahrung des Verdünnungsmittels aufgefrischt, bis die Leitfähigkeit des mit dem Auffrischer aufgefrischten Entwicklers kleiner wird als der vorgegebene Zielwert.
  • Nunmehr wird eine Regelung des Reglers 50 unter Bezugnahme auf 2 beschrieben.
  • Zuerst wird in Schritt S1 die Zugabe des Auffrischers durchgeführt mit einem Zeitablauf und bei jeder Verarbeitung unter einer vorgegebenen Bedingung auf Basis der Auffrischungsbedingungen (gespeichert im regelnden ROM 51), die abhängig von den tatsächlichen Betriebsbedingungen der automatischen Entwicklungsvorrichtung 2 vorgegeben sind.
  • Dann wird in Schritt S2 der Zielwert der Leitfähigkeit berechnet aus dem Ersetzungsverhältnis des Entwicklers, das definiert ist durch ein Verhältnis, in dem der eingeführte Entwickler am Beginn der Entwicklungsverarbeitung ersetzt wird durch den Auffrischer und/oder das Verdünnungsmittel, das als Auffrischer zugegeben wird, um die Leitfähigkeit des Entwicklers zu verringern.
  • Die mathematischen Formeln für die Berechnung des Zielwerts der Leitfähigkeit sind wie folgt. Unter Verwendung unterschiedlicher, wie folgt definierter Werte;
    • Vt:
    Volumen des im Entwicklertank vorliegenden Entwicklers,
    Vwi:
    Volumen des Verdünnungsmittels zur Verdünnung des Auffrischers, das als Auffrischer zugegeben wird, um die durch Alterung und/oder durch Plattenverarbeitung verursachte Ermüdung zu kompensieren und/oder das Volumen des Verdünnungsmittels, das als Auffrischer zugegeben wird, um die Leitfähigkeit des Entwicklers zu verringern,
    Vhi:
    Volumen des unverdünnten Auffrischers, der als Auffrischer zugegeben wird, um die durch Alterung und/oder durch Plattenverarbeitung verursachte Ermüdung zu kompensieren,
    Vhc:
    Volumen des Auffrischers, der hinzugefügt wird, um die durch Alterung verursachte Ermüdung zu kompensieren,
    Vhd:
    Volumen des Auffrischers, der als Auffrischer zugegeben wird, um die durch Plattenverarbeitung verursachte Ermüdung zu kompensieren,
    Xn:
    Ersetzungsverhältnis des Auffrischers,
    Zn:
    Auffrischer-Verdünnungsverhältnis, welches ein Verhältnis ist, in dem das Verdünnungsmittel für die Auffrischung und/oder das Verdünnungsmittel, das als Auffrischer zugegeben wird, um die Leitfähigkeit des Entwicklers zu verringern, in im Entwickler vorliegenden Auffrischer eingeschlossen ist,
    Fn:
    Alterungs-Auffrischer-Verhältnis, das ein Verhältnis des Auffrischers ist, der als Auffrischer zugegeben wird, um die durch Alterung verursachte Ermüdung zu kompensieren, zum Auffrischer, der im Entwickler vorliegt,
    D:
    Zielwert der Leitfähigkeit, und
    C1, C2, C3, C4, C5, C6, C7, C8 und C9:
    experimentell bestimmte Konstanten, die sich eignen für den Entwickler (Verarbeitungslösung) und die Vorrichtung, ist: Xn = (Vt·Xn–1 + Vhi + Vwi)/(Vt + Vhi + Vwi) Zn = [Vt·Xn·Zn–1 + Vwi·(Zn–1 + 1)]/[Vt·Xn + Vhi·(Zn–1 + 1)] D = (1 – Xn)·C3 + Xn·[[1 – (C5 + C4/Zn + 1))]·C6 + [C5 + C4/(Zn + 1)]C9]oder Fn = [Vt·Xn·[C2 + C1/(Zn + 1)]·Fn–1 + Vhc]/[Vt·Xn·[C2 + C1/(Zn + 1)] + Vhc + Vhd] D = (1 – Xn)·C3 + Xn·[[1 – (C5 + C4/(Zn + 1))]C6 + (C5 + C4/(Zn + 1))·[(1 – Fn)·C7 + Fn·C8]].
  • In Schritt S3 misst der Leitfähigkeitssensor 73 die Leitfähigkeit des Entwicklers nach Ablauf einer fixen Zeit.
  • In Schritt S4 wird der Zielwert der Leitfähigkeit, der in S2 erhalten wurde, mit dem in S4 erhaltenen gemessenen Wert der Leitfähigkeit verglichen.
  • Wenn in S4 der gemessene Wert den Zielwert übersteigt, wird in Schritt S5 eine notwendige Menge Verdünnungsmittel als Auffrischer zum Entwickler gegeben und dann kehrt der Betrieb zu S1 zurück.
  • Wenn andererseits der gemessene Wert unterhalb des Zielwerts in S4 ist, kehrt der Betrieb zu S1 zurück, ohne das Verdünnungsmittel als Auffrischer zum Entwickler zu geben.
  • Als nächstes wird eine zweite erfindungsgemäße Ausführungsform erläutert. 3 zeigt den Aufbau der automatischen Entwicklungsvorrichtung der zweiten erfindungsgemäßen Ausführungsform.
  • In einer erfindungsgemäßen automatischen Entwicklungsvorrichtung 100 sind Verarbeitungseinheiten in ihrem Inneren mit äußeren Frontplatten 114 abgedeckt. Im Inneren der äußeren Frontplatten 114 sind eine Entwicklungseinheit 122, die einen Entwicklertank 118 für die Entwicklung einer PS-Platte 112 und ein Überlaufrohr 120, das den aus dem Entwicklertank 118 übergelaufenen Entwickler sammelt, eine Wasserwascheinheit 124, die den an die PS-Platte 112 haftenden Entwickler abwäscht und eine Endbehandlungseinheit 126, welche die gewaschene PS-Platte 112 durch Beschichten einer Gummilösung desensibilisiert, angeordnet. Die Wascheinheit 124 hat einen Waschwassertank 128 und die Endbehandlungseinheit 126 hat einen Gummmilösungstank 130.
  • In der äußeren Frontplatte 114 sind ein schlitzförmiger Einlassport 202 und ein schlitzförmiger Auslassport 204 vorgesehen. An der Oberseite der Frontplatte 114 ist ein Einlassport 250 für den Wiedereintritt (Nebeneinlassport) für die Einführung der PS-Platte 112 zwischen der Entwicklungseinheit 122 und der Wascheinheit 124 vorgesehen. Dieser Nebeneinlassport 250 wird verwendet, um eine andere Verarbeitung als die Entwicklung auf der PS-Platte 112 durchzuführen.
  • Im Nebeneinlassport 250 befindet sich eine Lamelle 252, deren Führungskante in Kontakt mit der äußeren Frontplatte 114 ist, die als Führungsträgeroberfläche für den Nebeneinlassport 250 dient. Auf der anderen Seite ist der Basisteil der Lamelle 252 durch einen Zwischenhalter 254 an der Rückseite der äußeren Frontplatte 114 befestigt. Durch einen solchen Aufbau wird der Nebeneinlassport 250 durch die Lamelle 252 gewöhnlich in einem geschlossenen Zustand gehalten.
  • Die Trocknungseinheit (nicht gezeigt) trocknet die PS-Platte 112 durch Blasen warmer Luft auf ihre beiden Seiten, während die von der Endbehandlungseinheit 126 stammende PS-Platte 112 durch mehrere Rollen (nicht gezeigt) transportiert wird.
  • Ein Paar Transportrollen 132 sind an der Einführungsseite der PS-Platte 112 zum Entwicklertank 118 in der Entwicklungseinheit 122 vorgesehen. Die PS-Platte 112 wird von dem Einlassport 202 zwischen dem Paar Transportrollen 132 eingeführt.
  • Eine Gummilamelle 206 ist an der nachgeschalteten Seite der und nahe zur Transportrolle 132 vorgesehen. Die Eintrittskante der Lamelle 206 ist in Kontakt mit der Seitenwand des Entwicklertanks 118 der Entwicklungseinheit 122, und ihr Basisteil ist durch eine Halterung 256 an der äußeren Frontplatte 114 befestigt. Die Halterung 256 schließt einen festen Teil 256A und einen beweglichen Teil 256B, der mit einer Flügelmutter 258 an dem festen Teil befestigt ist, ein, und die Lamelle 206 ist an dem beweglichen Teil 256B befestigt. Somit ist die Lamelle 206 so konstruiert, dass ihre Eintrittskante von der Seitenwand des Entwicklertanks 118 getrennt werden kann, indem der bewegliche Teil 256B bei losgedrehter Flügelmutter 258 relativ zum festen Teil 256A bewegt wird.
  • Ferner ist in der Nachbarschaft des Einlassports 102 ein Plattendetektor 208 angebracht, der detektiert, ob die PS-Platte 112 passiert oder nicht und der auch die Fläche der Platte messen kann usw.
  • Der Entwicklertank 118 hat die Querschnittsform eines im wesentlichen umgedrehten Berges, die Oberseite des Tanks 118 ist offen und der Mittelteil seines Bodens steht nach unten vor. Der Tank 118 hat eine Pumpe 260, die den Entwickler in den Tank 118 saugt und ihn aus den Sprührohren 144 und 272, die später beschrieben werden, herausbläst, wodurch der im Entwicklertank 118 aufbewahrte Entwickler in Zirkulation versetzt wird. Während der Zirkulation tritt der fließende Entwickler durch einen Leitfähigkeitssensor 262, der die Leitfähigkeit des Entwicklers misst. Ferner wird der unverdünnte Auffrischer aus einem Tank 266 für die Aufbewahrung von unverdünntem Auffrischer mittels einer Pumpe 264 dem Entwicklertank 118 zugeführt. Wie später beschrieben wird, wird auch Verdünnungswasser aus dem Wassertank 128 mittels einer Pumpe 286 dem Entwicklertank 118 zugeführt.
  • Die Pumpen 264 und 286 werden beide durch den Regler 50 geregelt, der den regelnden ROM 51, der eine Einheit zur Speicherung einer Bedingung ist, und eine Zeitmessungsvorrichtung 52 umfasst, wobei die Erstere 264 geregelt wird auf Basis von Signalen aus dem Plattendetektor 208 und der Zeitmessungsvorrichtung 52, während die Letztere 286 geregelt wird auf Basis von Signalen aus dem Plattendetektor 208, der Zeitmessungsvorrichtung 52 und dem Leitfähigkeitssensor 262. Ausführliche Beschreibungen der Betriebsweise und Wirkung des Reglers, die denen in der ersten Ausführungsform ähnlich sind, sind weggelassen.
  • Im Entwicklertank 118 sind an der vorgeschalteten Seite eine Führungsplatte 268 und an der nachgeschalteten Seite mehrere Führungsrollen 134 und eine Rotationsbürstenrolle 270 angeordnet. Diese Führungsrollen 134 und Rotationsbürstenrolle 270 sind über dem Paar Seitenwänden des Tanks 118 drehbar überbrückt.
  • Eine Führungsrolle 136 mit relativ großem Durchmesser ist über der Führungsplatte 268 angeordnet und Rotationsbürstenrollen 138 und 270 und Führungsrolle 140 sind oberhalb der Führungsrolle 134 angeordnet. Im Mittelteil des Tanks 118 ist ein Paar Abpressrollen 142 vorgesehen, das die Oberfläche der PS-Platte 112 abpresst.
  • Das Überlaufrohr 120 ist an der am meisten abströmseitigen Seite des Tanks 118 angeordnet. Das Überlaufrohr 120 führt den Entwickler zu einem Abfalltank 284, wenn die Flüssigkeitsoberfläche des Entwicklers ein vorgegebenes Niveau übersteigt.
  • Eine Flüssigkeitsabdeckung ist an der Oberfläche des Entwicklers in dem Entwicklertank 118 angebracht. Die Flüssigkeitsabdeckung 150 hat einen bogenförmigen vorstehenden Teil, der zur Bürstenrolle 138 und der Führungsrolle 140, benachbart zur Rolle 138 korrespondiert. Die Abdeckung 150 steht in Kontakt mit der Flüssigkeitsoberfläche des Entwicklers, um zu verhindern, dass der Entwickler in direktem Kontakt mit Luft steht und wird an seinen beiden Enden entlang der Transportrichtung der PS-Platte 112 durch die Seitenwände (nicht gezeigt) in solcher Weise gleitfähig gehalten, dass eine vertikale Bewegung der Abdeckung je nach Änderungen des Niveaus der Flüssigkeitsoberfläche ermöglicht wird.
  • Das abströmseitige Ende der Flüssigkeitsabdeckung 150 entlang der Transportrichtung ist in Kontakt mit der Eintrittskante einer Lamelle 274, die mittels einer Halterung 276 an der äußeren Frontplatte 114 befestigt ist. Mit der so aufgebauten Lamelle 274 wird die am abströmseitigen Ende der Flüssigkeitsabdeckung 150 in Transportrichtung exponierte Flüssigkeitsoberfläche des Entwicklers von dem oberen Teil der Flüssigkeitsabdeckung 150 abgetrennt. Ferner wird durch die Lamelle 206 in Nachbarschaft des Einlassports 202 der obere Raum der Flüssigkeitsabdeckung 150 perfekt von der äußeren Atmosphäre abgetrennt und so die Verdampfung des Entwicklers verhindert. Es ist anzumerken, dass jedes Seitenende der Lamelle 206 in dichtem Kontakt mit der Seitenwand des Entwicklertanks 118 steht.
  • An der am meisten abströmseitigen Seite des Entwicklertanks 118 ist ein Paar Rollen 154 angeordnet, das die PS-Platte 112 hält und transportiert, während gleichzeitig der Entwickler von der Oberfläche der PS-Platte 112 abgepresst wird.
  • Die automatische Entwicklungsvorrichtung 100 hat den Wasserwaschtank 128 der Wasserwascheinheit 124 an der nachgestalteten Seite der Entwicklungseinheit 122. Über dem Wasserwaschtank 128 sind zwei Paare Transportrollen 152 und 153 platziert.
  • Der Waschwassertank 128 bewahrt Waschwasser auf, das zur Entfernung des Entwicklers von der PS-Platte 112, die aus dem Entwicklertank 118 zugeführt wird, verwendet wird. Ein Sprührohr 156 ist an der vorgeschalteten Seite der oberen Transportrolle 153 und oberhalb des Transportweges angeordnet. Die äußere Oberfläche des Rohrs 156 hat mehrere Auslasslöcher, die mit dem Inneren des Rohrs 156 kommunizieren. Das Waschwasser, das von der Pumpe 280 aus dem Tank 278 gefördert wird, wird aus dem Sprührohr 156 auf die obere Rolle der Transportrollen 153 getropft. Mit der Rotation der oberen Rolle 153 verteilt sich das Waschwasser ohne weiteres auf der Oberfläche der Platte 112 und reinigt sie so wirksam.
  • Der untere Teil der unteren Transportrolle 152 oder 153 taucht in das Waschwasser ein, das in einer Wanne 162 aufbewahrt wird. Die untere Rolle zieht das Waschwasser nach oben und reinigt so die Rückseite der Platte 112 und verhindert das Austrocknen der oberen Rolle 152 oder 153.
  • Das seitlich entlang der Vorderseite der Platte 112 ausgebreitete Waschwasser fällt von beiden Seitenrändern der PS-Platte 112 in die Wanne 162 und das aus der Wanne 162 nach oben geschaufelte Waschwasser wäscht die Rückseite der PS-Platte 112. Das aus der Wanne 162 überlaufende Wasser wird zum Wasserwaschtank 128 geführt, in dem ein Überlaufrohr 282 angebracht ist, um das Waschwasser des Volumens, welches das vorgegebene Flüssigkeitsniveau übersteigt, zum Abfalltank 284 zu führen.
  • Der Waschwassertank 128 und der Entwicklertank 118 sind miteinander durch eine Pumpe 286 verbunden, die das Waschwasser im Waschwassertank 128 zum Entwicklertank 118 als Verdünnungsmittel für die Zufuhr des Auffrischers zum Entwicklertank 118 leiten kann.
  • Oberhalb des Gummmilösungstanks 130 der Endbehandlungseinheit 126 ist ein Paar Transportrollen 178 vorgesehen. Die mit der Transportrolle 153 zugeführte PS-Platte 112 wird zu den Transportrollen 178 geführt.
  • An der Anströmseite der Transportrollen 178 sind ein Sprührohr 182 oberhalb des Transportweges und ein weiteres Sprührohr 288 unterhalb des Transportweges angeordnet. Jedes Sprührohr sprüht die mit einer Pumpe 292 aus einem Gummmilösungstank 290 nach oben geschöpfte Gummilösung auf die Vorder- oder Rückseite der PS-Platte 112.
  • Zusammen mit dem Transport der PS-Platte 112 quetschen die Transportrollen 178 die Gummilösung, die mit Sprührohr 182 für die Desensibilisierung der Oberfläche der PS-Platte 112 aufgesprüht wurde, ab. Die von der Oberfläche der PS-Platte 112 abgepresste Gummilösung wird im Gummilösungstank 130 gesammelt. Die Gummilösung im Tank 130 wird durch die Pumpe 294 zirkuliert. Der Gummmilösungstank 130 ist mit einem Überlaufrohr 296 ausgestattet, das dazu dient, die Gummilösung des Volumens, das das vorgegebene Flüssigkeitsniveau übersteigt, im Abfalltank 284 zu sammeln.
  • Der untere Teil der unteren Transportrolle 178 taucht in die im Gummmilösungstank 130 aufbewahrte Gummilösung ein und die untere Transportrolle 178 schaufelt die Gummilösung nach oben, um die Rückseite der PS-Platte 112 zur Desensibilisierung zu beschichten. Die durch die untere Transportrolle 178 getragene Gummilösung wird auch auf die obere Transportrolle 178 transferiert und verhindert so das Austrocknen der oberen Rolle 178 und ebenso die Abscheidung der Lösungsbestandteile auf der Oberfläche der oberen Rolle 178.
  • Die PS-Platte 112, die der Behandlung in der Endbehandlungseinheit 126 unterzogen wurde, wird durch den Auslassport 204 eines Gehäuses 200 zur Trocknungseinheit (nicht gezeigt) geführt.
  • Ein Deckelkörper 210, der als Klappe dient, ist am Auslassport 204 vorgesehen. Der Deckelkörper ist durch eine Drehachse 212 gelagert, die sich mit einem Antriebsmittel, wie beispielsweise einer Spule (nicht gezeigt) drehen kann.
  • Die Drehachse 212 dreht sich gemäß dem Signal aus dem Plattendetektor 208, der in der Nähe des Einlassports 202 lokalisiert ist, um den Durchtritt der PS-Platte 112 zu detektieren. Im einzelnen wird der Deckelkörper 210 in einer im wesentlichen horizontalen Position gehalten (geöffneter Zustand des Auslassports 204) während des Zeitraums, dass die PS-Platte 112 durch den Plattendetektionssensor 208 detektiert wird, und für einen vorgegebenen Zeitraum nach der Detektion der PS-Platte 112, und der Deckelkörper 210 wird in einer vertikalen Position gehalten (geschlossener Zustand des Auslassports 204) während der Zeit außerhalb eines solchen Zeitraums.
  • Nachfolgend wird die Betriebsweise dieser Ausführungsform beschrieben. Als erstes werden Verarbeitungstanks, wie der Entwicklertank 118, der Waschwassertank 128, der Gummmilösungstank 130 usw. mit dem Gehäuse 200 abgedeckt, das die äußere Frontplatte 114 und den Hauptkasten 108 usw. umfasst. In dem Fall, dass keine PS-Platte 112 in der automatischen Entwicklungsvorrichtung 100 verarbeitet wird, ist der Einlassport 202 verschlossen, da die Lamelle 206 in Kontakt mit der Seitenwand des Entwicklertanks 118 steht. Andererseits ist der Auslassport 204 ebenso geschlossen mit dem Deckelkörper 210 in vertikaler Position, weil der Sensor 208 die PS-Platte 112 nicht detektiert. Darüber hinaus ist der Nebeneinlassport 250 ebenso durch die Lamelle 252 geschlossen und der Raum oberhalb der Flüssigkeitsoberflächenabdeckung 150 der Entwicklungseinheit 122 ist ebenso durch die Lamellen 206 und 276 geschlossen. So sind der Entwickler im Entwicklertank 118, das Waschwasser in der Waschwassereinheit 124 und die Gummilösung in der Endbehandlungseinheit 126 gut geschützt von der äußeren Atmosphäre und im wesentlichen keine Verschlechterung der Verarbeitungslösungen infolge von CO2 findet statt. Weil die Abnahme des Entwicklungsvermögens, die verursacht wird durch die Alterungsermüdung, in der Ausführungsform minimiert ist, kann die Auffrischungsmenge des unverdünnten Auffrischers in der Entwicklungseinheit 122 drastisch verringert werden. Insbesondere ist die Flüssigkeitsoberfläche des Entwicklers im Entwicklertank 118 durch die Flüssigkeitsoberflächenabdeckung 150 abgedeckt; der Effekt, dass der Entwickler vor dem Kontakt mit der äußeren Atmosphäre geschützt wird, ist deutlich.
  • Um den Kontakt des Entwicklers mit der äußeren Atmosphäre zu minimieren ist es bevorzugt, die Öffnungsperiode des Deckelkörpers 210 so kurz wie möglich zu machen. So ist es bevorzugt, den Deckelkörper 210 zu schließen, außer während des Durchtritts der PS-Platte 112.
  • Da die Regelung durch den Regler 50 in ähnlicher Weise durchgeführt wird, wie in der ersten Ausführungsform unter Bezugnahme auf 2 beschrieben wurde, wird die Beschreibung der Regelung weggelassen.
  • Beispiel
  • Als nächstes wurde mit dem in den vorhergehenden Ausführungsformen beschriebenen Auffrischungsverfahren und einem herkömmlichen Auffrischungsverfahren ein Experiment zur Messung des Schwankungsbereichs des pH (Empfindlichkeit) des Entwicklers durchgeführt.
  • Beispiel 1
  • Verarbeitung mit einem Entwickler auf Silikatbasis
  • (1) Typ der zu verarbeitenden lithografischen Druckplatte:
    • VS (eine positiv arbeitende PS-Platte von Fuji Photo Film Co., Ltd.)
  • (2) Entwickler:
    • DP-7, ein Entwickler des gewöhnlichen Typs für negativ/positiv arbeitende PS-Platten von Fuji Photo Film Co., Ltd. (Verdünnungsverhältnis = 1 : 8).
  • (3) Auffrischer:
    • DP-7RW, ein Auffrischer des gewöhnlichen Typs für negativ/positiv arbeitende PS-Platten von Fuji Photo Film Co., Ltd. (Verdünnungsverhältnis = 1 : 6).
  • (4) Entwicklertankvolumen:
    • 20.000 ml.
  • (5) Fläche der zu verarbeitenden PS-Platten:
    • 0,2 m2 : 0,8 m2 = 2 : 5, 0,6 m2/Platte durchschnittlich mit Maximum von 0,8 m2/Platte.
  • (6) Verarbeitungsmenge:
    • 106 m2/Tag durchschnittlich.
  • (7) Tagtägliche Verarbeitungsmenge:
  • Siehe Tabelle 1.
  • Figure 00410001
  • Tabelle 2 zeigt die experimentellen Resultate.
  • Tabelle 2
    Figure 00420001
  • Wie aus Tabelle 2 zu sehen ist, ist das Auffrischungsverfahren von Beispiel 1 fast äquivalent zum herkömmlichen Auffrischungsverfahren auf Basis der Leitfähigkeit, jedoch weitaus besser als das herkömmliche Auffrischungsverfahren auf Basis der Plattenfläche. Ferner wurde mit dem in Beispiel 1 beschriebenen Auffrischungsverfahren und dem herkömmlichen Auffrischungsverfahren auf Basis der Leitfähigkeit der Schwankungsbereich des pH (Empfindlichkeit) des Entwicklers, der durch die natürliche Verdampfung von Wasser im Entwickler verursacht ist, experimentell berechnet.
  • Die experimentelle Bedingung wurde so eingestellt, dass Wasser im Entwickler natürlicherweise mit 30 ml/Stunde verdampft.
  • Tabelle 2 zeigt, dass das Auffrischungsverfahren von Beispiel 1 den Maximalbereich der pH-Schwankung weit besser unterdrücken kann als das herkömmliche Auffrischungsverfahren auf Basis der Leitfähigkeit. Der Grund ist wie folgt. Weil in Beispiel 1 das Verdünnungsmittel auf Basis der detektierten elektrischen Leitfähigkeit des Entwicklers aufgefrischt wird, kann, selbst wenn ein anormaler Anstieg der Leitfähigkeit durch Wasserverdampfung verursacht wird, die Schwankung der Empfindlichkeit verringert werden durch Kompensation des durch die natürliche Verdampfung zu niedrig liegenden Verdünnungsmittels. Auf der anderen Seite stoppt das herkömmliche Auffrischungsverfahren auf Basis der Leitfähigkeit die Auffrischung des Auffrischers als Ergebnis einer falschen Einschätzung, dass die Empfindlichkeit hoch ist, wenn der anormale Anstieg der Leitfähigkeit durch Wasserverdampfung verursacht wird. Eine solche Gegenmaßnahme führt zu einer Verringerung der Empfindlichkeit.
  • Beispiel 2
  • Verarbeitung mit einem Entwickler vom Nicht-Silikat-Typ
  • Herstellung einer positiv arbeitenden fotoempfindlichen lithografischen Druckplatte
  • Die Oberfläche einer 0,24 mm dicken JIS A1050 Aluminiumplatte wurde gekörnt unter Verwendung einer Nylonbürste und einer Wassersuspension von Bimsstein und dann mit Wasser gespült. Die Platte wurde dann für die Ätzung in eine 10% wässrige NaOH-Lösung für 60 Sekunden bei 70°C eingetaucht. Nach Abspülen mit fließendem Wasser wurde die geätzte Platte mit einer 20% wässrigen Salpetersäure neutralisiert, gefolgt vom Abspülen mit Wasser. Die Platte wurde dann einer elektrolytischen Aufrauungsbehandlung unterzogen unter Verwendung eines Wechselstroms mit sinusförmiger Wellenform mit VA = 12,7 V und Hindurchleiten einer kathodischen elektrischen Größe von 260 Coulomb/dm2 in einer 1% wässrigen Salpetersäure. Die Oberflächenrauhigkeit wurde bestimmt zu 0,55 μm in Einheiten von Ra. Ferner wurde die Platte für die Desmutierung für 2 min bei 55°C in eine 30% wässrige Schwefelsäure eingetaucht, dann der anodischen Oxidation mit einer Stromdichte von 14 A/dm2 unterzogen, um einen 2,5 g/m2 anodischen Oxidfilm zu bilden, gefolgt vom Spülen mit Wasser. Die resultierende Platte wird aus Substrat [A] bezeichnet.
  • Substrat [A] wurde bei 20°C für 10 Sekunden mit einer 0,1 Gew.%igen wässrigen Lösung von Natriumsilikat behandelt und so Substrat [B] erhalten.
  • Das so erhaltene Substrat [B] wurde mit der organischen Mischung der folgenden Formulierung beschichtet und bei 100°C für 10 Sekunden getrocknet, um eine organische Zwischenschicht mit der nachstehend gezeigten Beschichtungsdichte zu bilden. Beschichtungsformulierung für eine organische Zwischenschicht und ihre Beschichtungsmenge nach dem Trocknen:
    Figure 00440001
    • Zahlenmittleres Molekulargewicht (Mn) = 2.100
  • Eine fotoempfindliche Schicht wurde auf Substrat [B] ausgebildet durch Beschichten einer fotoempfindlichen Lösung [A]. Die Beschichtungsmenge der Schicht auf Trockenbasis war 1,15 g/m2. Schließlich wurde, um die Vakuum-Kontaktzeit bei der Belichtung zu verkürzen, eine Mattschicht ausgebildet gemäß dem in JP-A-61-28986 offenbarten Verfahren, um eine fotoempfindliche lithografische Druckplatte zu Verfügung zu stellen.
  • Fotoempfindliche Lösung A
    Figure 00450001
  • Anderes Harz als Novolak
    Figure 00450002
  • Anmerkung: Die Zahlen geben das Polymerisationsverhältnis in mol% an.
  • Figure 00460001
  • Strukturformel (A)
    Figure 00460002
  • Fluorhaltige polymere Verbindungen
    Figure 00470001
  • Anmerkung: Die Zahlen geben das Copolymerisationsverhältnis in mol% an.
  • Entwickler und Auffrischer
  • Ausgangsentwickler (die Arbeitslösung, hergestellt durch Verdünnen des folgenden mit dem 9fachen an Wasser)
    Figure 00480001
  • Auffrischer (die folgende Zusammensetzung wurde für die Verwendung mit dem 7,5fachen an Wasser verdünnt)
    Figure 00480002
  • Zwei-Schritt-Endbehandlungsflüssigkeit
  • Die folgende Zwei-Schritt-Endbehandlungsflüssigkeit wurde zweimal mit Wasser verdünnt.
  • Figure 00480003
  • Copolymer A
    Figure 00490001
  • Die weiteren Bedingungen sind denen in Beispiel 1 gemeinsam. Tabelle 3 zeigt die experimentellen Resultate.
  • Tabelle 3
    Figure 00490002
  • Wie aus Tabelle 3 zu sehen ist, ist das Auffrischer-Zuführungsverfahren von Beispiel 2 fast äquivalent zum herkömmlichen Auffrischungsverfahren auf Basis der Leitfähigkeit, jedoch weit besser als das Auffrischungsverfahren auf Basis der Plattenfläche im Hinblick auf den Maximalbereich der pH-Schwankung.
  • Beispiele 3 bis 10
  • Im folgenden wird das Herstellungsverfahren für Entwickler A bis D und Auffrischer A bis D, die in Beispielen 3 bis 10 und Vergleichsbeispielen 1 bis 9 verwendet werden, beschrieben.
  • Entwickler A
  • Entwickler DP-7, ein Produkt von Fuji Photo Film Co., Ltd., wurde im Verhältnis von 1/9 verdünnt.
  • Entwickler B
  • Eine wässrige Lösung, die die folgenden Bestandteile enthält, wurde in einer solchen Menge hergestellt, dass der Entwicklertank gefüllt werden konnte.
  • Figure 00500001
  • Entwickler C
  • Entwickler DP-4, ein Produkt von Fuji Photo Film Co., Ltd., wurde im Verhältnis von 1/8 verdünnt.
  • Entwickler D
  • Entwickler LP-D, ein Produkt von Fuji Photo Film Co., Ltd., wurde im Verhältnis von 1/10 verdünnt.
  • Entwickler E
  • Die folgende Zusammensetzung wurde als Entwickler E zubereitet.
  • Figure 00510001
  • Auffrischer A
  • Entwickler-Auffrischer DP-7RW, ein Produkt von Fuji Photo Film Co., Ltd., wurde verwendet.
  • Auffrischer B
  • Die folgende Zusammensetzung wurde als Auffrischer B zubereitet. Eine wässrige Lösung, die die folgenden Bestandteile enthält, wurde in solcher Menge hergestellt, dass der Entwicklertank gefüllt werden konnte.
  • Figure 00510002
  • Auffrischer C
  • Entwickler-Auffrischer DP-4 R, ein Produkt von Fuji Photo Film Co., Ltd., wurde verwendet.
  • Auffrischer D
  • Entwickler-Auffrischer LP-DR, ein Produkt von Fuji Photo Film Co., Ltd., wurde verwendet.
  • Auffrischer E
  • Die folgende Zusammensetzung wurde als Auffrischer E zubereitet.
  • Figure 00520001
  • Die in Beispielen 3 bis 10 und Vergleichsbeispielen 1 bis 9 verwendeten fotoempfindlichen Druckplatten A bis J werden im Hinblick auf ihre Herstellungsverfahren, Verarbeitungen vor der Entwicklung und Belichtungsbedingungen beschrieben.
  • Fotoempfindliche Druckplatte A
  • Eine fotoempfindliche Druckplatte A wurde gemäß Beispiel 1 der JP-A-2000-231188 hergestellt.
  • Die Platte wurde für eine Minute mit einem Drucker FT26V2UPNS, ein Produkt von Nuarc Co., Ltd. in den USA, ausgestattet mit einer 2 kW Metallhalogenidlampe als Lichtquelle bildbelichtet.
  • Die Entwicklergeschwindigkeit wurde mit einem Stufenkeil(ein Produkt von Fuji Photo Film mit 0,15 Stufendifferenz der Dichte) Bild, das erhalten wurde unter denselben Belichtungsbedingungen wie oben beschrieben, bewertet.
  • Fotoempfindliche Druckplatte B
  • Platte B wurde gemäß Beispiel 1 der JP-A-7-295212 hergestellt. Die Platte wurde mit 50 Counts mit einem Drucker FT26V2UPNS, ein Produkt von Nuarc Co., Ltd. in den USA, ausgestattet mit einer 2 kW Metallhalogenidlampe als Lichtquelle bildbelichtet.
  • Die Entwicklergeschwindigkeit wurde mit einem Stufenkeil(ein Produkt von Fuji Photo Film mit einer 0,15 Stufendifferenz der Dichte) Bild, das erhalten wurde mit denselben Belichtungsbedingungen wie oben beschrieben, bewertet.
  • Fotoempfindliche Druckplatte C
  • Synthesebeispiel 1
  • Verbindung (a) (25,6 g) als erste Polymerisationskomponente, Verbindung (b) (26,4 g) als zweite Komponente, 20,4 g Laurylmethacrylat als dritte Komponente und Dimethylacetamid (160 g) wurden in einen 500 ml Dreihalskolben gegeben. Der Kolben wurde mit Stickstoff gefüllt und der Inhalt unter Rühren auf 65°C erwärmt. 2,2'-Azobis-(2,4-dimethylvaleronitril) (2,30 g) wurde unter Rühren hinzugefügt. Die Temperatur des Inhalts stieg innerhalb von 4 Stunden auf 75°C an. Der Inhalt wurde für eine weitere Stunde bei dieser Temperatur gehalten. Nach Beendigung der Reaktion wurde der Inhalt auf Raumtemperatur abgekühlt und dann in 400 ml Wasser gegossen. Das abgetrennte feste Produkt wurde filtriert und getrocknet.
  • Die fluorierte aliphatische Gruppen enthaltende Verbindung P-2 wurde so mit einer Ausbeute von 68,4 g erhalten. GPC-Analyse bewies, dass das feste Produkt ein Polymer mit einem gewichtsmittleren Molekulargewicht von etwa 30.000 ist.
  • Verbindung (a) in Synthesebeispiel 1
    Figure 00540001
  • Verbindung (b) in Synthesebeispiel 1
    Figure 00540002
  • Synthesebeispiel 2
  • Die fluorierte aliphatische Gruppen enthaltende Verbindung P-15 (gewichtsmittleres Molekulargewicht = 25.000) wurde ähnlich zu Synthesebeispiel 1 hergestellt, außer dass Komponenten (1), (2) und (3) geändert wurden.
  • Eine JIS A 1050 Aluminiumplatte mit einer Dicke von 0,24 mm und einer Breite von 1.030 mm wurde kontinuierlich verarbeitet wie folgt.
    • (a) Die Oberfläche der Aluminiumplatte wurde mechanisch gekörnt mit rotierenden Nylonbürstenrollen unter kontinuierlicher Zufuhr eines Polierschlamms, der ein Poliermittel (Bimsstein) mit einer spezifischen Dichte von 1,12, dispergiert in Wasser, umfasste, auf die Plattenoberfläche. Die durchschnittliche Partikelgröße des Poliermittels war 40 bis 45 μm bei einer Maximalgröße von 200 μm. Die Nylonbürste bestand aus 6.10 Nylon, die Haarlänge war 50 mm und der Haardurchmesser 0,3 mm. Die Haare wurden in Vertiefungen eingesetzt, die dicht auf der Oberfläche eines Edelstahlrohrs mit 300 mm Durchmesser ausgebildet waren. Drei rotierende Bürsten wurden verwendet. Zwei Stützrollen mit 200 mm Durchmesser, die unterhalb der Bürste lagen, waren 300 mm voneinander getrennt. Die Bürstenrolle wurde auf die Aluminiumplatte gepresst, bis die Last des Bürstenrotationsmotors sich um 7 kw gegenüber der Last vergrößerte, bevor die Bürste in Kontakt mit der Platte gebracht wurde. Man ließ die Bürste bei 200 U/min in derselben Richtung rotieren, wie diejenige des Plattenvorschubs.
    • (b) Die Aluminiumplatte wurde der Ätzung durch Aufsprühen einer wässrigen Lösung, die 2,6 Gew.% Natriumhydroxid und 6,5 Gew.% Aluminiumionen enthielt, bei 70°C unterzogen, bis die Platte um 13 g/m2 aufgelöst war. Dann wurde die geätzte Platte mit Sprühwasser gespült.
    • (c) Als nächstes wurde Desmutierungsbehandlung durchgeführt durch Aufsprühen einer wässrigen 1 Gew.%igen Salpetersäurelösung, die 0,5 Gew.% Aluminiumionen enthielt, bei 30°C, gefolgt vom Spülen mit Wasserspray. Die für die Desmutierung verwendete Salpetersäurelösung war überschüssig und resultierte aus elektrochemischer Körnung mit Wechselstrom.
    • (d) Eine elektrochemische Körnung wurde in kontinuierlicher Weise unter Verwendung von 60 Hz Wechselspannung durchgeführt. Die wässrige elektrolytische Lösung enthielt 1 Gew.% Salpetersäure, 0,5 Gew.% Aluminiumionen und 0,007 Gew.% Ammoniumion und blieb bei 50°C. TP, die Zeit für den Strom, um von Null die Spitze zu erreichen, war 2 ms und die Wellenform der Wechselstromquelle war trapezoidförmig mit einer relativen Einschaltdauer (duty ratio) von 1 : 1. Eine Kohlenstoffgegenelektrode und eine aus Ferrit hergestellte Nebenelektrode wurden verwendet. Zwei Elektrolysegefäße wurden verwendet. Der Spitzenstrom war 30 A/dm2, während die gesamte elektrische Größe 180 C/dm2 war, wenn die Aluminiumplatte als Anode wirkte. Zur Nebenanode wurden 5% des Quellenstroms abgeteilt. Nach einer solchen Körnung wurde die Platte mit Wasserspray gespült.
    • (e) Die Platte wurde geätzt durch Aufsprühen einer wässrigen Lösung, die 26 Gew.% Natriumhydroxid und 6,5 Gew.% Aluminiumionen enthielt, bei 70°C, bis die Platte um 1,3 g/m2 aufgelöst war. Durch diese Ätzungsoperation wurde der Schmutz (smut), der sich während der vorhergehenden elektrochemischen Körnung gebildet hatte und der hauptsächlich aus Aluminiumhydroxid bestand, entfernt und der Kantenteil der Vertiefung wurde durch Auflösen glatt gemacht. Dann wurde die geätzte Platte mit Wasserspray gespült.
    • (f) Eine weitere Desmutierungsbehandlung wurde auf der Platte durchgeführt, indem wässrige 25 Gew.%ige Schwefelsäurelösung, die 0,5 Gew.% Aluminiumionen enthielt, bei 60°C aufgesprüht wurde. Dann wurde die Platte mit Wasserspray gespült.
    • (g) Unter Verwendung einer anodischen Oxidationsvorrichtung für die Zwei-Schritt-Elektrolyse, in der die ersten und zweiten Elektrolyseteile 6 m lang, die ersten und zweiten Stromzuführungsteile 3 m lang und die ersten und zweiten Stromzuführungselektroden 2,4 m lang waren, wurde anodische Oxidation an der Platte durchgeführt, wobei die Elektrolyseteile mit wässriger 100 g/l Schwefelsäure, die 0,5 Gew.% Aluminiumionen enthielt, eine Dichte von 1,1 g/cm3 sowie eine Leitfähigkeit von 0,39 S/cm aufwies und bei 50°C gehalten wurde, beschickt wurden. Nach der Elektrolyse wurde die Platte mit Spülwasser besprüht. Die letztendliche Menge an anodischem Oxidfilm war 2,4 g/m2.
    • (h) Die so gekörnte und anodisierte Platte wurde für 10 Sekunden bei 20°C in eine wässrige 0,1 Gew.%igen Natriumsilikatlösung eingetaucht, dann mit Sprühwasser gespült und getrocknet. Nach der Behandlung und dem Spülen wurde die Platte jeweils zwischen Andruckwalzen hinzugeführt, um Flüssigkeit abzupressen.
  • Die Rückseite der Platte wurde mit der folgenden verdünnten Sol-Gel-transformierenden Mischung mit einem Beschichtungsstab aufgebracht und bei 100°C für 1 min getrocknet. Das Beschichtungsgewicht dieser Rückseitenbeschichtung war 60 mg/m2 auf Trockenbasis.
  • Sol-Gel-transformierende Mischung:
    Figure 00570001
  • Das Rühren der Mischung der obigen Bestandteile verursachte eine Temperaturerhöhung in etwa 35 min. Nach Beendigung der Reaktion bei 40-minütigem Rühren wurde das folgende Verdünnungsmittel hinzugefügt, um die Rückseitenbeschichtungslösung herzustellen.
  • Verdünnungsmittel:
    Figure 00570002
  • Dann wurde die Vorderseite der Platte mit einer organischen Zwischenschicht mit einem Beschichtungsgewicht von 7 mg/m2 nach Trocknen versehen, indem die folgende Zusammensetzung mit einem Beschichtungsstab aufgebracht und bei 100°C für 10 Sekunden getrocknet wurde.
  • Beschichtungszusammensetzung für die organische Zwischenschicht:
    Figure 00580001
  • Verbindung A
    Figure 00580002
  • Anmerkung: Die Zahlen geben das Copolymerisationsverhältnis in mol% an.
  • Auf der organischen Zwischenschicht der Platte wurde eine fotoempfindliche Beschichtungslösung der folgenden Zusammensetzung mit einem Beschichtungsstab aufgebracht. Nach Trocknen bei 100°C für 60 Sekunden betrug das Beschichtungsgewicht 1,15 g/m2.
  • Fotoempfindliche Beschichtungslösung 1:
    Figure 00590001
  • Nicht-Novolak-Harz:
    Figure 00600001
  • Anmerkung: Die Zahlen geben das Copolymerisationsverhältnis in mol% an.
  • Farbstoff (I)
    Figure 00600002
  • Eine Mattschicht wurde auf der Oberfläche der so gebildeten fotoempfindlichen Schicht ausgebildet, indem eine Mattschicht bildende Harzlösung wie folgt aufgesprüht wurde.
  • Eine 12%ige wässrige Lösung von Methylmethacrylat/Ethylacrylat/Acrylsäure-Copolymer (Gewichtsverhältnis des anfänglich eingesetzten Monomers = 65 : 20 : 15), von dem ein Teil zum Natriumsalz (in einigen Fällen Kalium- oder Ammoniumsalz) überführt worden war, wurde hergestellt. Diese Mattschicht bildende Lösung wurde mit einer elektrostatischen Rotationsbeschichtungsmaschine zur Ausbildung eines Nebels unter den folgenden Bedingungen aufgesprüht.
  • Figure 00610001
  • Die beschichtete Oberfläche wurde durch Aufsprühen von Wasserdampf 1,5 Sekunden nach der Beschichtung angefeuchtet und dann getrocknet durch Blasen eines warmen Luftstroms von 60°C 10% relative Feuchtigkeit für 5 Sekunden, beginnend 3 Sekunden nach der Befeuchtung. Das Beschichtungsgewicht der Mattschicht war 130 mg/m2.
  • Die fertige fotoempfindliche Platte wurde für 1 Minute mit einem Drucker FT26V2UPNS, ein Produkt von Nuarc Co., Ltd. in den USA, ausgestattet mit einer 2 kW Metallhalogenidlampe als Lichtquelle mit einem Bild belichtet.
  • Die Entwicklergeschwindigkeit wurde mit einem Stufenkeil(ein Produkt von Fuji Photo Film mit 0,15 Stufendifferenz der Dichte) Bild, das erhalten wurde unter denselben Belichtungsbedingungen wie oben beschrieben, bewertet.
  • Fotoempfindliche Druckplatte D
  • Die Oberfläche einer Aluminiumplatte vom 1S-Typ mit 0,24 mm Dicke wurde mit Nylonbürsten und einer wässrigen Suspension von 400 mesh Bimsstein gekörnt und mit Wasser gespült. Dann wurde die Platte zur Ätzung für 60 Sekunden in ein bei 70°C gehaltenes wässriges 20% Natriumhydroxid eingetaucht und mit fließendem Wasser gespült. Nach Neutralisierung mit 20 Salpetersäure wurde die Platte elektrolytisch gekörnt unter Verwendung eines sinusförmigen Wechselstroms von VA = 12,7 V und VC = 9,1 V in 1% wässriger Salpetersäure. Die elektrische Größe der Anode war 170 Coulomb/dm2. Dann wurde die Platte zur Ätzung bei 45°C für 15 Sekunden in 25% wässriges Natriumhydroxid eingetaucht, und dann für die Desmutierung bei 55°C für 2 Minuten in 30%ige wässrige Schwefelsäure eingetaucht. Ferner wurde die Platte in 7% wässriger Schwefelsäure anodisiert und so 1,8 g/m2 Aluminiumoxid gebildet. Schließlich wurde durch Eintauchen in 3% wässriges Natriumsilikat bei 70°C für 1 Minute, Waschen mit Wasser und Trocknen, die Aluminiumplatte mit einer hydrophilen Oberfläche erhalten.
  • Auf der hydrophilen Oberfläche der so hergestellten Aluminiumplatte wurde die folgende fotoempfindliche Beschichtungslösung (A) mit einem Beschichtungsstab aufgebracht und bei 80°C für 30 Sekunden getrocknet. Das Beschichtungsgewicht war 0,1 g/m2 auf Trockenbasis.
  • Fotoempfindliche Beschichtungslösung (A)
    Figure 00620001
  • Eine weitere fotoempfindliche Beschichtungslösung (C) wie folgt, wurde auf der getrockneten fotoempfindlichen Schicht mit einem Beschichtungsstab aufgebracht und bei 100°C für 1 Minute getrocknet. Das Beschichtungsgewicht der fotoempfindlichen Komponente, eingeschlossen diejenige der Lösung (A) betrug 1,0 g/m2 auf Trockenbasis.
  • Fotoempfindliche Beschichtungslösung (C)
    Figure 00630001
  • Die fertige fotoempfindliche Platte erhielt eine 200 Count-Bildbelichtung für 1 Minute mit einem Drucker FT26V2UPNS, ein Produkt von Nuarc Co., Ltd. in den USA, ausgestattet mit einer 2 kW Metallhalogenidlampe als Lichtquelle.
  • Die Entwicklergeschwindigkeit wurde bewertet mit einem Stufenkeil- (ein Produkt von Fuji Photo Film mit 0,15 Stufendifferenz der Dichte) Bild, das unter denselben Belichtungsbedingungen erhalten worden war, wie zuvor beschrieben.
  • Fotoempfindliche Druckplatte E
  • Eine fotoempfindliche Druckplatte E wurde gemäß Beispiel 1 der JP-A-11-119419 hergestellt.
  • Die Platte wurde einer Bildbelichtung mit einem Luxcel Platesetter 9000CTP, einem Produkt von Fuji Photo Film Co., Ltd. mit einem Bild belichtet. Die Ausgangsleistung war 216 mW und die Trommel rotierte bei 1.000 U/min mit einer Bildauflösung von 2.438 dpi. Der Bildbereich nahm 20% des gesamten Bildbereichs ein.
  • Die Entwicklergeschwindigkeit wurde bewertet, indem eine Fläche der Platte sensitometrisch gestufte Belichtungen unter Verwendung eines Originalmusters, installiert im Luxcel Platesetter 9000CTP, erhielt. Die gestuften Belichtungen reichten von 27 mW (13,5 mJ/cm2) bis 270 mW (135 mJ/cm2) mit einem festen Intervall von 13,5 mW (13,5 mJ/cm2). In anderen Worten bestanden diese gestuften Belichtungen aus 10, 15, ----- 90, 95 und 100% der Maximalenergie an der Plattenoberfläche und somit reichte die Energiedifferenz zum angrenzenden Bildbereich von 5 bis 50%.
  • Fotoempfindliche Druckplatte F
  • Eine fotoempfindliche Druckplatte F wurde gemäß Beispiel 1 der JP-A-2000-284474 hergestellt.
  • Fotoempfindliche Druckplatte G
  • Herstellung des Plattensubstrats
  • JISA1050 Aluminiumlegierung, enthaltend 99,5% oder mehr Aluminium, 0,30% Eisen, 0,10% Silizium, 0,02% Titan und 0,013% Kupfer wurde geschmolzen, aufreinigt und gegossen. Die Reinigungsbehandlung bestand aus der Entgasung nicht notwendiger gasförmiger Bestandteile, wie Wasserstoff, und Filtration durch einen keramischen Röhrenfilter. Das Gleichspannungsgießverfahren wurde für das Gießen verwendet. Nach 10 mm tiefem Schälen der Oberfläche wurde ein 500 mm dicker verfestigter Gussblock der Homogenisierungsbehandlung bei 550°C für 10 Stunden unterzogen, um zu verhindern, dass die intermetallische Verbindung zu grob wird. Dann wurde der Block bei 400°C warmgewalzt, zwischenzeitlich in einem kontinuierlichen Temperofen bei 500°C für 60 Sekunden getempert und dann zu einer 30 mm dicken Aluminiumlegierungsbahn kaltgewalzt. Durch Kontrolle der Oberflächenrauhigkeit der kalten Walze wurde die mittlere Rauhigkeit um die durchschnittliche Mittellinien-Rauhigkeit Ra herum zu 0,2 μm einreguliert. Die Bahn wurde ferner mit einem Spannungsnivellierer ("tension leveler") bearbeitet, um ihre Flachheit zu verbessern.
  • Als nächstes wurde die Bahnoberfläche behandelt, um ein gewünschtes Substrat für die lithografische Druckplatte herzustellen.
  • Zuerst wurde das auf der Oberfläche der Aluminiumlegierungsplatte verbliebene Walzfett entfernt durch Entfettungsbehandlung mit bei 50°C gehaltenem 10% wässrigem Natriumaluminat für 30 Sekunden. Dann wurde Neutralisation mit 30% wässriger Schwefelsäure bei 50°C für 30 Sekunden durchgeführt, gefolgt von einer Schmutz (smut) – Entfernungsbehandlung.
  • Dann wurde das sogenannte Körnen (graining), was eine kontrollierte Aufrauung der Substratoberfläche bedeutet, durchgeführt, um eine feste Bindung einer fotoempfindlichen Schicht an das Substrat zu erzielen und ebenso, um den Nicht-Bildbereichen Wasseraufnahmevermögen zu verleihen. Die Aluminiumlegierungsbahn wurde in einer wässrigen Lösung transportiert, die 1% Salpetersäure und 0,5 Aluminiumnitrat, gehalten bei 45°C, enthielt, unter Anwendung eines Wechselstroms mit einer Stromdichte von 20 A/dm2 und einer 1 : 1 relativen Einschaltdauer aus einer Zelle zur indirekten Elektrizitätszufuhr, bis die elektrische Größe der Anode 240 C/dm2 erreichte. Ferner wurde die Bahn mit 10 wässrigem Natriumaluminat bei 50°C für 30 Sekunden geätzt, dann mit 30% wässriger Schwefelsäure bei 50°C für 30 Sekunden neutralisiert und der Schmutzentfernungsbehandlung unterzogen.
  • Um die Abriebfestigkeit sowie auch die chemische Widerstandsfähigkeit und das Wasseraufnahmevermögen der Oberfläche zu verbessern, wurde ein Oxidfilm durch Anodisierung gebildet, wie folgt. Die Aluminiumbahn wurde durch eine Elektrolytlösung geführt, die 20% wässrige, bei 35°C gehaltene Schwefelsäure enthielt, unter Anwendung eines Gleichstroms von 14 A/dm2 aus einer Zelle zur indirekten Elektrizitätszufuhr, um so einen anodischen Oxidfilm von 2,5 g/m2 auszubilden.
  • Um ein ausreichendes Niveau von hydrophiler Eigenschaft als Nicht-Bildbereich der lithografischen Druckplatte sicherzustellen, wurde die Bahn der Silikatbehandlung unterworfen. Die Bahn wurde durch eine bei 70°C gehaltene 1,5%ige wässrige Lösung von Nr. 3 Natriumsilikat (d.h. Natriumdisilikat) auf solche Weise geführt, dass die Platte für 15 Sekunden in Kontakt mit der Lösung war, gefolgt vom Spülen mit Wasser. Die anhaftende Menge Silizium erwies sich als 10 mg/m2. Der Ra-Wert (Mittellinien- Oberflächenrauhigkeit) des so hergestellten Substrats war 0,25 μm.
  • Unterbeschichtung
  • Das Aluminiumsubstrat wurde mit der folgenden Unterbeschichtungslösung mittels eines Drahtstabs beschichtet und in einem Heißluft-Trocknungsapparat bei 90°C für 30 Sekunden getrocknet. Das Beschichtungsgewicht war 10 mg/m2 auf Trockenbasis.
  • Unterschichtungslösung
    Figure 00670001
  • Fotoempfindliche Schicht
  • Eine Beschichtungslösung [P] für die fotoempfindliche Schicht mit der folgenden Zusammensetzung wurde hergestellt, welche mit einem Drahtstab auf die oben beschriebene unterbeschichtete Aluminiumbahn beschichtet wurde. Die resultierende fotoempfindliche Platte wurde bei 115°C für 45 Sekunden in einem Heißluft-Trocknungsapparat getrocknet. Das Beschichtungsgewicht dieser Lösung reichte von 1,2 bis 1,3 g/m2.
  • Beschichtungslösung [P] für die fotoempfindliche Schicht
    Figure 00680001
  • Die Platte wurde einer Bildbelichtung mit einem Platesetter mit dem Namen Trendsetter 3244 VFS, einem Produkt von Creo, ausgestattet mit einem wassergekühlten 40 W IR-Halbleiterlaser, unterzogen. Die Ausgangsleistung war 9 W und die äußere Trommel rotierte mit 210 U/min und die Plattenoberflächenenergie betrug 100 mJ/cm2 mit 2.400 dpi Bildauflösung.
  • Fotoempfindliche Druckplatte H
  • Eine fotoempfindliche Druckplatte H wurde gemäß Beispiel 1 von JP-A-2000-039724 hergestellt.
  • Die Platte wurde einer Bildbelichtung mit einem Gutenberg-Platesetter, einem Produkt von Heidelberg mit 180° Scanning-Belichtungswinkel unterzogen. Die Energiedichte an der Plattenoberfläche war 0,2 mJ/m2 und die Bildauflösung 2.400 dpi. Nach der Belichtung wurde die Platte für 1 Minute auf 100°C erhitzt.
  • Die Entwicklergeschwindigkeit wurde bewertet mit einem Stück der Platte, das durch einen Stufenkeil- (Dichteschritt war 0,15) Film, der in Kontakt mit der Platte stand, belichtet wurde.
  • Fotoempfindliche Druckplatte I
  • Die fotoempfindliche Druckplatte I wurde gemäß dem in JP-A-11-352691 beschriebenen Beispiel 15 hergestellt.
  • Die Platte erhielt eine Bildbelichtung mit einem Scanning-Belichtungssystem, mit einem eingebauten 75 mW luftgekühlten Argon-Laser als Lichtquelle, wodurch die Belichtungsenergiedichte auf der Plattenoberfläche 0,20 mJ/m2 war. Nach der Belichtung wurde ein Nachheizen bei 100°C für 1 Minute durchgeführt.
  • Die Entwicklergeschwindigkeit wurde mit einem Stück der Platte bewertet, das durch ein Step Tablet (ein Produkt von Fuji Photo Film Co., Ltd.), in dem sich die Transmissions-Lichtintensität für jeden Schritt um einen Faktor von 1/1,4 verringerte, kontaktbelichtet wurde. Die Belichtungsbedingungen waren wie folgt:
    Plattenoberflächenbelichtung = 0,0132 mV/cm2 und
    Belichtungszeit = 30 Sekunden.
  • Fotoempfindliche Druckplatte J
  • Substrat
  • Substrat: anodisiertes Aluminiumsubstrat
  • Die Oberfläche einer 0,30 mm dicken Aluminiumplatte vom Typ 1S wurde mit Nr. 8 Nylonbürsten und einer wässrigen Suspension von 800 mesh Bimsstein gekörnt und mit fließendem Wasser abgespült. Dann wurde die Platte für die Ätzung für 60 Sekunden in ein bei 70°C gehaltenes wässriges 10% Natriumhydroxid eingetaucht und mit fließendem Wasser abgespült. Nach Neutralisation mit 20% Salpetersäure wurde die Platte mit Wasser abgespült. Die Platte wurde ferner elektrolytisch gekörnt unter Verwendung eines sinusförmigen Wechselstroms von 12,7 V VA in 1%iger wässriger Schwefelsäure. Die elektrische Größe der Anode war 300 Coulomb/dm2. Der Ra-Wert des Substrats, der die Mittellinienoberflächenrauhigkeit wiedergibt, betrug 0,45 μm. Dann wurde die Platte für die Desmutierung für 2 Minuten bei 55°C in 30%ige wässrige Schwefelsäure eingetaucht. Ferner wurde die Platte in bei 33°C gehaltener 20% wässriger Schwefelsäure anodisiert mit einer oberhalb der gekörnten Oberfläche angeordneten Kathode mit einer Stromdichte von 5 A/dm2 für 50 Sekunden, um eine Dicke des anodischen Oxidfilms von 2,7 g/m2 zu erzeugen.
  • Eine Unterbeschichtungslösung der folgenden Zusammensetzung wurde auf die endbehandelte Oberfläche aufgebracht, um ein Beschichtungsgewicht von P von etwa 0,05 g/m2 zu ergeben.
  • Unterbeschichtungslösung
    Figure 00710001
  • Fotoempfindliches Material
  • Die Oberfläche des unterbeschichteten Substrats wurde mit einer fotopolymerisierbaren Zusammensetzung mit einem Beschichtungsgewicht von 1,5 g/m2 auf Trockenbasis versehen und bei 100°C für 1 Minute getrocknet.
  • Auf der fotoempfindlichen Schicht wurde 3% wässrige Lösung von Polyvinylalkohol, der einen Verseifungsgrad von 98% und einen Polymerisationsgrad von 500 besaß, als Schicht aufgebracht, so dass das Beschichtungsgewicht 2,5 g/m2 auf Trockenbasis war. Durch Trocknen der Beschichtungsschicht bei 120°C für 3 Minuten wurde eine fotoempfindliche Druckplatte erhalten.
  • Lösung für die fotoempfindliche Beschichtung (fotopolymerisierbare Zusammensetzung)
    Figure 00720001
  • Die chemischen Strukturen der ethylenisch ungesättigten Verbindung (A), des organischen linearen Polymers (B), des Sensibilisators (C), des Fotoinitiators (D) und des Additivs (S) sind nachstehend gezeigt.
  • Figure 00720002
  • Figure 00730001
  • Die Platte wurde einer Bildbelichtung mit einem 100 mW FD.YAG-Laser (Wellenlänge = 532 nm), eingebaut in Plate Jet 4, ein Produkt von CSI Inc., unterzogen. Die Bildauflösung war 4.000 dpi. Nach der Belichtung wurde die Platte bei 100°C für 1 Minute nachgeheizt.
  • Die Entwicklergeschwindigkeit wurde mit einem Stück der Platte bewertet, das durch einen Stufenkeil- (Dichteschritt war 0,15) Film kontaktbelichtet wurde.
  • Fotoempfindliche Druckplatte K
  • Die Oberfläche einer 0,30 mm dicken Aluminiumplatte vom Typ 1S wurde mit Nylonbürsten Nr. 8 und einer wässrigen Suspension von 800 mesh Bimsstein gekörnt und unter fließendem Wasser abgespült. Dann wurde die Platte für die Ätzung für 60 Sekunden in ein bei 70°C gehaltenes wässriges 10% Natriumhydroxid eingetaucht und mit fließendem Wasser abgespült. Nach Neutralisation mit 20% Salpetersäure wurde die Platte mit Wasser gespült. Die Platte wurde ferner unter Verwendung eines sinusförmigen Wechselstroms von 12,7 V VA in 1% wässriger Schwefelsäure elektrolytisch gekörnt. Die elektrische Größe der Anode war 300 Coulomb/dm2. Der Ra-Wert des Substrats, welcher die Mittellinien-Oberflächenrauhigkeit wiedergibt, war 0,45.m. Dann wurde die Platte zur Desmutierung für 2 Minuten bei 55°C in 30% wässrige Schwefelsäure eingetaucht. Ferner wurde die Platte anodisiert in einer bei 33°C gehaltenen wässrigen Schwefelsäure mit einer oberhalb der gekörnten Oberfläche angeordneten Kathode mit einer Stromdichte von 5 A/dm2 für 50 Sekunden, um die Dicke des anodischen Oxidfilms von 2,7 g/m2 zu erzeugen.
  • Auf die Oberfläche der so verarbeiteten Aluminiumplatte wurde die Hochgeschwindigkeits-fotopolymerisierbare Zusammensetzung 1 der folgenden Zusammensetzung als Beschichtung aufgebracht, um ein Beschichtungsgewicht von 1,5 g/m2 zu ergeben, und bei 100°C für 1 Minute getrocknet.
  • Fotopolymerisierbare Zusammensetzung 1
    Figure 00740001
  • Figure 00750001
  • Auf der fotoempfindlichen Schicht wurde 3% wässrige Lösung von Polyvinylalkohol, der einen Verseifungsgrad von 98% und einen Polymerisationsgrad von 500 besaß, auf solche Weise als Schicht aufgebracht, dass das Beschichtungsgewicht 2,5 g/m2 auf Trockenbasis war. Durch Trocknen der Beschichtungsschicht bei 120°C für 3 Minuten wurde eine fotoempfindliche Druckplatte erhalten.
  • Die Platte wurde einer Bildbelichtung mit einem 100 mW FD-YAG (Wellenlänge = 532 nm), der eingebaut war in Plate Jet 4, ein Produkt von CSI Inc., unterzogen. Die Bildauflösung war 4.000 dpi und die Belichtung an der Plattenoberfläche war 100 J/cm2. Nach der Belichtung wurde die Platte bei 100°C für 1 Minute geheizt.
  • Die Entwicklergeschwindigkeit wurde bewertet mit einem Stück der Platte, das durch einen Stufenkeil- (Dichteschritt war 0,15) Film kontaktbelichtet wurde.
  • Beispiele 3 bis 10
  • Durch Anwendung des erfindungsgemäßen Auffrischungsverfahrens wurden die fotoempfindlichen Platten in den Tabelle 4 bis 6 kontinuierlich mit den Entwicklern und den Auffrischern unter den Verarbeitungsbedingungen, die alle in derselben Tabelle aufgelistet sind, verarbeitet, und die Geschwindigkeit sowie auch die Stabilität des Entwicklers wurde bewertet. Die Resultate sind in Tabelle 7 gezeigt.
  • Vergleichsbeispiele 1 bis 8
  • Die Geschwindigkeit sowie auch die Stabilität des Entwicklers wurde bewertet für die Auffrischungsverfahren, welche die Leitfähigkeit des Entwicklers weder detektieren, noch sich auf sie beziehen, die jedoch Auffrischung durchführen auf Basis der verarbeiteten Menge und der vergangenen (Betriebs-/Stillegungs-) Zeit. Die fotoempfindlichen Platten in den Tabellen 4 bis 6 wurden kontinuierlich mit den Entwicklern und den Auffrischern unter den Verarbeitungsbedingungen, die alle in derselben Tabelle aufgelistet sind, verarbeitet. Die Resultate sind in Tabelle 7 gezeigt.
  • Vergleichsbeispiel 9
  • Die Geschwindigkeit sowie auch die Stabilität des Entwicklers wurde für das Auffrischungsverfahren bewertet, das offenbart ist in JP-A-64-21451 und nur Auffrischer zugibt, wenn die Entwicklerleitfähigkeit unter einen Zielwert fällt. Die fotoempfindlichen Platten in den Tabellen 4 bis 6 wurden kontinuierlich mit den Entwicklern und den Auffrischern unter den Verarbeitungsbedingungen, die alle in derselben Tabelle aufgelistet sind, verarbeitet. Tabelle 7 zeigt die Resultate.
  • Figure 00780001
  • Figure 00790001
  • Figure 00800001
  • Tabelle 7
    Figure 00810001
  • Beschreibung der Zeichen
    Figure 00810002
  • Erfindungsgemäß wird ein in einem Entwicklertank aufbewahrter Entwickler mit einem Auffrischer aufgefrischt, um die Verringerung der Entwicklungsaktivität zu kompensieren, die verursacht ist durch den Zeitablauf sowie auch die Plattenverarbeitung, auf Basis von vorgegebenen Auffrischungsbedingungen des Entwicklers, um zu der tatsächlichen Betriebsbedingung der automatischen Entwicklungsvorrichtung zu passen, und darüber hinaus wird in dem Fall, dass der gemessene Wert der elektrischen Leitfähigkeit des aufgefrischten Entwicklers den vorgegebenen Zielwert überschreitet, das Verdünnungsmittel als Auffrischer zum Entwickler gegeben, bis der gemessene Wert niedriger wird als der Zielwert.
  • Entsprechend wird die Schwankung der Entwicklerempfindlichkeit, die verursacht ist durch die Änderungen der Entwicklungsbedingungen, minimiert, während eine Entwicklungseinheit einer automatischen Entwicklungsvorrichtung mit einem wirtschaftlichen und einfachen Aufbau verwendet wird. Folglich wird ein stabiler Entwicklungsbetrieb durchgeführt mit Ausstattung geringer Größe und geringen Kosten.
  • Ferner wird der Zielwert der elektrischen Leitfähigkeit berechnet aus dem Auffrischerersetzungsverhältnis und entweder einem Verdünnungsverhältnis der Summe des Verdünnungsmittels und des Verdünnungsmittels, das zur Verringerung der elektrischen Leitfähigkeit des Entwicklers im Entwicklertank, relativ zum Auffrischer, als Auffrischer zugegeben wird oder dem Verhältnis der vollständigen Menge des Auffrischers für die Alterung relativ zum Produkt des Auffrischerersetzungsverhältnisses mit der Menge des Entwicklers. So wird die Entwicklungsempfindlichkeit immer stabil aufrechterhalten, indem der richtige Zielwert der Leitfähigkeit selbst unter Variation der Verarbeitungsfrequenz erhalten wird.
  • Außerdem ist mindestens einer vom Entwicklertank und der automatischen Entwicklungsvorrichtung aufgebaut, um Belüftung zu unterdrücken, so dass die CO2-Konzentration der Luft in direktem Kontakt mit dem Entwickler im Entwicklertank unterhalb 300 ppm gehalten wird. So kann die Schwankung der Auffrischungsmenge für die Alterung auf Basis von Änderungen der äußeren Peripherie eingeschränkt werden.

Claims (2)

  1. Verfahren zur Auffrischung von Entwicklungsflüssigkeit in einer automatischen Entwicklungsvorrichtung für fotoempfindliche Materialien, das folgende Schritte umfasst: (a) Auffrischen der Entwicklungsflüssigkeit auf Basis einer ersten vorherbestimmten Auffrischungsbedingung zur Kompensation der Verringerung der Entwicklungsaktivität der Entwicklungsflüssigkeit im Laufe der Zeit durch deren Reaktion mit atmosphärischem Kohlendioxid; (b) Auffrischen der Entwicklungsflüssigkeit auf Basis einer zweiten vorherbestimmten Auffrischungsbedingung zur Kompensation der Verringerung der Aktivität der Entwicklungsflüssigkeit, die durch Verarbeitung des fotoempfindlichen Materials hervorgerufen wird; (c) Messen der elektrischen Leitfähigkeit der aufgefrischten Entwicklungsflüssigkeit; (d) Berechnen des Auffrischerersetzungsverhältnisses, das das Ausmass wiedergibt, in dem die Entwicklungsflüssigkeit durch mindestens eines, ausgewählt aus der Auffrischflüssigkeit und Verdünnungsmittel, zur Verringerung der elektrischen Leitfähigkeit der Entwicklungsflüssigkeit ersetzt wird; und (e) Zuführen eines Verdünnungsmittels in die Entwicklungsflüssigkeit, bis die elektrische Leitfähigkeit der Entwicklungsflüssigkeit unter einen Zielwert der elektrischen Leitfähigkeit fällt, der berechnet wird aus dem Auffrischerersetzungsverhältnis, wenn der gemessene Wert der elektrischen Leitfähigkeit des Entwicklers den Zielwert der elektrischen Leitfähigkeit übersteigt.
  2. Verfahren gemäss Anspruch 1, worin der Zielwert der elektrischen Leitfähigkeit berechnet wird aus dem Auffrischerersetzungsverhältis und entweder (a) einem Verdünnungsverhältnis, das die Summe des Volumens des Verdünnungsmittels, das zum Verdünnen der Auffrischflüssigkeit verwendet wird, und des Volumens des Verdünnungsmittels, das zur Verringerung der elektrischen Leitfähigkeit der Entwicklungsflüssigkeit in den Entwicklertank zugeführt wird, in Bezug auf das Volumen der Auffrischflüssigkeit; oder (b) einem Verhältnis der vollständigen Menge der Auffrischflüssigkeit, die zur Kompensation der Verringerung der Entwicklungsaktivität der Entwicklungsflüssigkeit aufgrund ihrer Reaktion mit atmosphärischem Kohlendioxid im Laufe der Zeit in den Entwicklungstank zugeführt wird, in Bezug auf das Produkt des Auffrischerersetzungsverhältnisses und des Volumens des Entwicklers.
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