FI103674B - Förfarande för elektrokemisk ytbeläggning av en maskindel - Google Patents
Förfarande för elektrokemisk ytbeläggning av en maskindel Download PDFInfo
- Publication number
- FI103674B FI103674B FI952774A FI952774A FI103674B FI 103674 B FI103674 B FI 103674B FI 952774 A FI952774 A FI 952774A FI 952774 A FI952774 A FI 952774A FI 103674 B FI103674 B FI 103674B
- Authority
- FI
- Finland
- Prior art keywords
- current density
- current
- structural
- seconds
- coating
- Prior art date
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D5/00—Electroplating characterised by the process; Pretreatment or after-treatment of workpieces
- C25D5/60—Electroplating characterised by the structure or texture of the layers
- C25D5/625—Discontinuous layers, e.g. microcracked layers
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B08—CLEANING
- B08B—CLEANING IN GENERAL; PREVENTION OF FOULING IN GENERAL
- B08B17/00—Methods preventing fouling
- B08B17/02—Preventing deposition of fouling or of dust
- B08B17/06—Preventing deposition of fouling or of dust by giving articles subject to fouling a special shape or arrangement
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B08—CLEANING
- B08B—CLEANING IN GENERAL; PREVENTION OF FOULING IN GENERAL
- B08B17/00—Methods preventing fouling
- B08B17/02—Preventing deposition of fouling or of dust
- B08B17/06—Preventing deposition of fouling or of dust by giving articles subject to fouling a special shape or arrangement
- B08B17/065—Preventing deposition of fouling or of dust by giving articles subject to fouling a special shape or arrangement the surface having a microscopic surface pattern to achieve the same effect as a lotus flower
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D5/00—Electroplating characterised by the process; Pretreatment or after-treatment of workpieces
- C25D5/18—Electroplating using modulated, pulsed or reversing current
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D5/00—Electroplating characterised by the process; Pretreatment or after-treatment of workpieces
- C25D5/60—Electroplating characterised by the structure or texture of the layers
- C25D5/605—Surface topography of the layers, e.g. rough, dendritic or nodular layers
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D5/00—Electroplating characterised by the process; Pretreatment or after-treatment of workpieces
- C25D5/627—Electroplating characterised by the visual appearance of the layers, e.g. colour, brightness or mat appearance
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Electrochemistry (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Electroplating Methods And Accessories (AREA)
- Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
- Electroplating And Plating Baths Therefor (AREA)
Claims (12)
1. Förfarande för elektrokemisk (galvanisk) ytbeläggning av en maskindel med j· 30 likströmsbeläggning, varvid atminstone under begynnelseimpulsen i elspänningen ! V och/eller elströmmen kämor av fallningsmaterial bildas pk ytan som skall beläggas och varvid man vidare med atminstone en efterimpuls ästadkommer tillväxt hos : . . kämoma av fallningsmaterial genom att utfälla mera fällningsmaterial, känneteck- ; nat av att under skedet för bildande av kämor ökas elspänningen och/eller elström- 35 men i flera skeden med intervaller mellan 0,1 och 30 sekunder och att ändringama i strömtätheten i skedena är mellan 1 och 6 mA/cm2. 103674
2. Förfarande enligt patentkrav 1, kännetecknat av att skedena vart och ett inne-fattar en pä forhand definierbar ändring av strömtätheten mellan 1 och 6 mA/cm2 per skede frän begynnelsevärdet tili den strukturella strömtätheten (14, 24, 25), varvid perioden (28) mellan tvä ökningar av strömtätheten är ca 0,1-30 sekunder, 5 och badet utsätts för ett sä stort antal skeden att en strukturbeläggning produceras som bestär av ett skikt av enskilda eller sammanhäfitade, ungefär sfäriska eller barrformade partiklar pä fbremälets yta, och därefter används under en pä förhand definierbar ramparbetsperiod (12, 16) i kämomas tillväxtskede en procesström vars strömtäthet är i intervallen 80-120 % av strukturströmtätheten. 10
3. Förfarande enligt patentkrav 1 eller 2, kännetecknat av att de enskilda skedena varar i ca 7 sekunder.
4. Förfarande enligt ätminstone nägot av patentkraven 1-3, kännetecknat av att 15 strömtätheten ökas i 10-240 skeden.
5. Förfarande enligt ätminstone nägot av patentkraven 1-4, kännetecknat av att strukturströmtätheten (14, 24, 25) är i intervallen 30-180 mA/cm2. 20 6. Förfarande enligt ätminstone nägot av patentkraven 1-5, kännetecknat av att ramparbetsperioden (12, 16) är 1-600 sekunder, företrädesvis ca 30 sekunder.
7. Förfarande enligt ätminstone nägot av patentkraven 1-6, kännetecknat av att procesströmmen sänks tili ett slutvärde (26) efter ramparbetsperioden. . . 25 • · ·
8. Förfarande enligt patentkrav 7, kännetecknat av att procesströmmen efter • · · '* ' ramparbetsperioden sänks stegvis tili ett slutvärde med en respektive pä forhand defmierad ändring, som är -1 - -8 mA/cm2 per skede. • · · • · « • « « • ·« v ; 30 9. Förfarande för ytbeläggning avytan av ett elektriskt ledande föremäl, känne- :v. tecknat av att förfarandet upprepas i enlighet med förfarandet enligt patentkrav 7 eller 8 i skedesekvenser frän tvä tili tjugo gänger, varvid slutvärdet av respektive fö- I I ' i' regäende skedesekvens motsvarar begynnelsevärdet av följande skedesekvens. ','·! 35 10. Förfarande enligt patentkrav 9, kännetecknat av att slutvärdena (26) är olika Stora. 103674
11. Förfarande enligt ätminstone nägot av patentkraven 1-10, kännetecknat av att före produktionen av strukturen används en likströmspuls (8, 18) vars strömtäthet är 15-60 mA/cm2 för att producera en likströmsbottenbeläggning.
12. Tillämpning av ätminstone ett förfarande enligt nägot av patentkraven 1-11, kännetecknad av att det tillämpas - för att producera ytstrukturen pä en cylinder för smörjmedelsställen som tar emot smörjmedel, - för att reglera reflektionsgraden hos ytan av definierade optiska, medicinska appa-10 rater samt för funktionella och dekorativa ändamäl inom möbel- och sjukhusmate- rielindustrin, - för att producera en yta med en bestämd grovhet inom den grafiska industrin, - för att producera strukturytor pä verktyg. 15 • · • t · · · · * # · · IM • · I • · I • _ · · · • * ? • · « • Ml I I I • · 9 m • • · • · « • · I I
4. I II I I I — · I III 4 « I * i » I * · M · · < IL. i n T‘ · a
Applications Claiming Priority (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE4334122 | 1993-10-07 | ||
| DE4334122A DE4334122C2 (de) | 1992-04-09 | 1993-10-07 | Verfahren zum elektrochemischen Aufbringen einer Oberflächenbeschichtung und Anwendung des Verfahrens |
| EP9403314 | 1994-10-01 | ||
| PCT/EP1994/003314 WO1995009938A1 (de) | 1993-10-07 | 1994-10-01 | Verfahren zum galvanischen aufbringen einer oberflächenbeschichtung |
Publications (4)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| FI952774A FI952774A (sv) | 1995-06-06 |
| FI952774A0 FI952774A0 (sv) | 1995-06-06 |
| FI103674B1 FI103674B1 (sv) | 1999-08-13 |
| FI103674B true FI103674B (sv) | 1999-08-13 |
Family
ID=6499571
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| FI952774A FI103674B (sv) | 1993-10-07 | 1995-06-06 | Förfarande för elektrokemisk ytbeläggning av en maskindel |
Country Status (17)
| Country | Link |
|---|---|
| EP (1) | EP0722515B1 (sv) |
| JP (1) | JP3293828B2 (sv) |
| KR (1) | KR100332077B1 (sv) |
| CN (1) | CN1044395C (sv) |
| AU (1) | AU7784794A (sv) |
| BR (1) | BR9405631A (sv) |
| CA (1) | CA2172613C (sv) |
| CH (1) | CH690273A5 (sv) |
| CZ (1) | CZ286909B6 (sv) |
| DE (1) | DE59405190D1 (sv) |
| ES (1) | ES2114703T3 (sv) |
| FI (1) | FI103674B (sv) |
| GR (1) | GR3026689T3 (sv) |
| PL (1) | PL177073B1 (sv) |
| SI (1) | SI9420006B (sv) |
| SK (1) | SK281999B6 (sv) |
| WO (1) | WO1995009938A1 (sv) |
Families Citing this family (16)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE19828545C1 (de) * | 1998-06-26 | 1999-08-12 | Cromotec Oberflaechentechnik G | Galvanisches Bad, Verfahren zur Erzeugung strukturierter Hartchromschichten und Verwendung |
| US6478943B1 (en) | 2000-06-01 | 2002-11-12 | Roll Surface Technologies, Inc. | Method of manufacture of electrochemically textured surface having controlled peak characteristics |
| CA2450283C (en) * | 2001-07-05 | 2008-10-28 | Roll Surface Technologies, Inc. | Electrochemically textured surface having controlled peak characteristics and the method of manufacture |
| DE10255853A1 (de) | 2002-11-29 | 2004-06-17 | Federal-Mogul Burscheid Gmbh | Herstellung strukturierter Hartchromschichten |
| DE10302107A1 (de) * | 2003-01-21 | 2004-07-29 | Fuchs Technology Ag | Zylinderoberfläche |
| DE102004019370B3 (de) | 2004-04-21 | 2005-09-01 | Federal-Mogul Burscheid Gmbh | Herstellung einer strukturierten Hartchromschicht und Herstellung einer Beschichtung |
| DE102008017270B3 (de) | 2008-04-04 | 2009-06-04 | Federal-Mogul Burscheid Gmbh | Strukturierte Chrom-Feststoffpartikel-Schicht und Verfahren zu deren Herstellung sowie beschichtetes Maschinenelement |
| AT506076B1 (de) * | 2008-06-03 | 2009-06-15 | Vassilios Dipl Ing Polydoros | Verfahren zur herstellung von nanostrukturierten chromschichten auf einem substrat |
| EP2149447A1 (de) | 2008-07-29 | 2010-02-03 | Alcan Technology & Management Ltd. | Verfahren zur Herstellung einer Materialbahn mit Oberflächenstruktur |
| CN102877098B (zh) * | 2012-10-29 | 2015-06-17 | 东莞市若美电子科技有限公司 | 一种多波段输出的脉冲电镀方法 |
| EP3000918B1 (de) * | 2014-09-24 | 2018-10-24 | topocrom systems AG | Verfahren zum galvanischen aufbringen einer oberflächenbeschichtung |
| CN105734631B (zh) * | 2014-12-10 | 2019-03-19 | 上海宝钢工业技术服务有限公司 | 冷轧轧辊毛化处理的电镀方法 |
| CN108350594B (zh) | 2015-11-05 | 2020-09-11 | 托普克莱姆系统公司 | 用于电化学施加表面涂层的方法和装置 |
| CN110117802B (zh) * | 2019-05-06 | 2020-05-22 | 浙江大学 | 一种多级三维微观结构的制备方法 |
| CN111962120A (zh) * | 2020-08-18 | 2020-11-20 | 重庆佰鸿机械设备有限公司 | 一种管件内壁表面处理工艺 |
| EP4012074A1 (de) | 2020-12-14 | 2022-06-15 | topocrom systems AG | Oberflächenbeschichtung und verfahren zu ihrer herstellung |
Family Cites Families (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DD134785A1 (de) * | 1978-01-25 | 1979-03-21 | Hans Skilandat | Verfahren zur elektrolytischen erzeugung eines kupfernen haftbelages auf kupferfolie |
| US4468293A (en) * | 1982-03-05 | 1984-08-28 | Olin Corporation | Electrochemical treatment of copper for improving its bond strength |
| US5185073A (en) * | 1988-06-21 | 1993-02-09 | International Business Machines Corporation | Method of fabricating nendritic materials |
| DE4211881C2 (de) * | 1992-04-09 | 1994-07-28 | Wmv Ag | Verfahren zum elektrochemischen Aufbringen einer strukturierten Oberflächenbeschichtung |
-
1994
- 1994-10-01 JP JP51061895A patent/JP3293828B2/ja not_active Expired - Lifetime
- 1994-10-01 PL PL94309286A patent/PL177073B1/pl not_active IP Right Cessation
- 1994-10-01 KR KR1019950702238A patent/KR100332077B1/ko active IP Right Grant
- 1994-10-01 CZ CZ19951447A patent/CZ286909B6/cs not_active IP Right Cessation
- 1994-10-01 EP EP94928407A patent/EP0722515B1/de not_active Expired - Lifetime
- 1994-10-01 AU AU77847/94A patent/AU7784794A/en not_active Abandoned
- 1994-10-01 SI SI9420006A patent/SI9420006B/sl not_active IP Right Cessation
- 1994-10-01 ES ES94928407T patent/ES2114703T3/es not_active Expired - Lifetime
- 1994-10-01 DE DE59405190T patent/DE59405190D1/de not_active Expired - Lifetime
- 1994-10-01 CH CH01713/95A patent/CH690273A5/de not_active IP Right Cessation
- 1994-10-01 CA CA002172613A patent/CA2172613C/en not_active Expired - Fee Related
- 1994-10-01 SK SK861-95A patent/SK281999B6/sk unknown
- 1994-10-01 CN CN94190766A patent/CN1044395C/zh not_active Expired - Lifetime
- 1994-10-01 BR BR9405631-5A patent/BR9405631A/pt not_active IP Right Cessation
- 1994-10-01 WO PCT/EP1994/003314 patent/WO1995009938A1/de active IP Right Grant
-
1995
- 1995-06-06 FI FI952774A patent/FI103674B/sv active
-
1998
- 1998-04-21 GR GR980400886T patent/GR3026689T3/el unknown
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH09503550A (ja) | 1997-04-08 |
| WO1995009938A1 (de) | 1995-04-13 |
| CZ286909B6 (en) | 2000-08-16 |
| CN1115583A (zh) | 1996-01-24 |
| SI9420006A (en) | 1995-12-31 |
| AU7784794A (en) | 1995-05-01 |
| EP0722515B1 (de) | 1998-01-28 |
| CN1044395C (zh) | 1999-07-28 |
| FI103674B1 (sv) | 1999-08-13 |
| CA2172613C (en) | 2003-06-17 |
| CA2172613A1 (en) | 1995-04-13 |
| SI9420006B (sl) | 2002-02-28 |
| EP0722515A1 (de) | 1996-07-24 |
| SK86195A3 (en) | 1996-03-06 |
| BR9405631A (pt) | 1999-09-08 |
| FI952774A (sv) | 1995-06-06 |
| ES2114703T3 (es) | 1998-06-01 |
| KR100332077B1 (ko) | 2002-10-31 |
| CZ144795A3 (en) | 1996-07-17 |
| FI952774A0 (sv) | 1995-06-06 |
| SK281999B6 (sk) | 2001-10-08 |
| PL309286A1 (en) | 1995-10-02 |
| DE59405190D1 (de) | 1998-03-05 |
| GR3026689T3 (en) | 1998-07-31 |
| CH690273A5 (de) | 2000-06-30 |
| JP3293828B2 (ja) | 2002-06-17 |
| PL177073B1 (pl) | 1999-09-30 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| FI103674B (sv) | Förfarande för elektrokemisk ytbeläggning av en maskindel | |
| Tench et al. | Considerations in electrodeposition of compositionally modulated alloys | |
| CN102517617A (zh) | 表面粗化铜板的装置、以及表面粗化铜板 | |
| US20120181179A1 (en) | Method of electrochemical machining | |
| US6379523B1 (en) | Method of treating surface of aluminum blank | |
| CN101260555B (zh) | 在铜及其合金表面等离子体液相电解沉积陶瓷膜的方法 | |
| CN107511546A (zh) | 微细电解线切割加工间隙电沉积辅助测量方法 | |
| US6319385B1 (en) | Process for electrochemically applying a surface coating | |
| CN103849916B (zh) | 一种微弧氧化法制备钛合金表面高光洁度陶瓷耐磨层的方法及微弧氧化溶液 | |
| CN105839169A (zh) | 材料的电沉积高通量制备设备与方法 | |
| CN104846408A (zh) | 一种在铜基体上镀致密的铼薄膜的镀液配方及电镀方法 | |
| Asoh et al. | Design of Multiphase Metal Balls via Maskless Localized Anodization Based on Bipolar Electrochemistry | |
| US4046643A (en) | Production of multi-metal particles for powder metallurgy alloys | |
| Yang et al. | Localized Ni deposition improved by saccharin sodium in the intermittent MAGE process | |
| ITTO20070704A1 (it) | Sistema e metodo di placcatura di leghe metalliche mediante tecnologia galvanica | |
| CN104388992A (zh) | 离子液体体系中共沉积Al-Zn合金镀层的方法 | |
| CN205529136U (zh) | 一种铝合金金相样品电解抛光及阳极覆膜装置 | |
| CA3041288A1 (en) | Method of plating a metallic substrate to achieve a desired surface coarseness | |
| JP2012527524A (ja) | 薄層の制御された電解処理のための方法および装置 | |
| US20130240373A1 (en) | Process for removing a coating from workpieces | |
| EP3652759A1 (en) | Magnets comprising a coating including an aluminum layer | |
| RU2773545C1 (ru) | Способ плазменно-электрохимического формирования наноструктурированного хромового гладкого покрытия | |
| RU2775013C1 (ru) | Способ плазменно-электрохимического формирования наноструктурированного хромового покрытия и устройство для реализации способа | |
| RU2771409C1 (ru) | Способ плазменно-электрохимического формирования наноструктурированного хромового покрытия и устройство для реализации способа | |
| Babaei et al. | The Influence of Effective Parameters on Optimizing the Electrochemical Deposition Rate of Au-Cu Alloy with High Thicknesses for the Production of Hallow Gold-Jewelry Artifacts with Pulsed Current (PC) on A Silver Substrate |