FI103674B - A method of electrochemically depositing a surface of a machine part - Google Patents
A method of electrochemically depositing a surface of a machine part Download PDFInfo
- Publication number
- FI103674B FI103674B FI952774A FI952774A FI103674B FI 103674 B FI103674 B FI 103674B FI 952774 A FI952774 A FI 952774A FI 952774 A FI952774 A FI 952774A FI 103674 B FI103674 B FI 103674B
- Authority
- FI
- Finland
- Prior art keywords
- current density
- current
- structural
- seconds
- coating
- Prior art date
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D5/00—Electroplating characterised by the process; Pretreatment or after-treatment of workpieces
- C25D5/60—Electroplating characterised by the structure or texture of the layers
- C25D5/625—Discontinuous layers, e.g. microcracked layers
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B08—CLEANING
- B08B—CLEANING IN GENERAL; PREVENTION OF FOULING IN GENERAL
- B08B17/00—Methods preventing fouling
- B08B17/02—Preventing deposition of fouling or of dust
- B08B17/06—Preventing deposition of fouling or of dust by giving articles subject to fouling a special shape or arrangement
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B08—CLEANING
- B08B—CLEANING IN GENERAL; PREVENTION OF FOULING IN GENERAL
- B08B17/00—Methods preventing fouling
- B08B17/02—Preventing deposition of fouling or of dust
- B08B17/06—Preventing deposition of fouling or of dust by giving articles subject to fouling a special shape or arrangement
- B08B17/065—Preventing deposition of fouling or of dust by giving articles subject to fouling a special shape or arrangement the surface having a microscopic surface pattern to achieve the same effect as a lotus flower
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D5/00—Electroplating characterised by the process; Pretreatment or after-treatment of workpieces
- C25D5/18—Electroplating using modulated, pulsed or reversing current
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D5/00—Electroplating characterised by the process; Pretreatment or after-treatment of workpieces
- C25D5/60—Electroplating characterised by the structure or texture of the layers
- C25D5/605—Surface topography of the layers, e.g. rough, dendritic or nodular layers
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D5/00—Electroplating characterised by the process; Pretreatment or after-treatment of workpieces
- C25D5/627—Electroplating characterised by the visual appearance of the layers, e.g. colour, brightness or mat appearance
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Electrochemistry (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Electroplating Methods And Accessories (AREA)
- Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
- Electroplating And Plating Baths Therefor (AREA)
Description
103674103674
Menetelmä pinnoituksen tekemiseksi sähkökemiallisesti koneenosan pinnalleA method of electrochemically depositing a surface of a machine part
Keksinnön kohteena on sähkökemiallisen (galvaanisen) pinnoitteen tuottaminen 5 saksalaisen, asiakirjanumerolla DE-42 11 881.6-24 merkityn hakemuksen mukaisella menetelmällä.The present invention relates to the production of an electrochemical (galvanic) coating by a process according to German patent application DE-42 11 881.6-24.
Tällaisia pinnoiterakenteita tuotetaan enemmän tai vähemmän hyvin kemiallisilla syövytysprosesseilla pinnoituksen yhteydessä tai mekaanisilla työstömenetelmillä 10 kuten hiomalla tai hiekkapuhaltamalla. Näin tehtyyn pintaan lisätään sen jälkeen kovakromikerros. Nämä erilaiset, tuotannon kannalta välttämättömät työvaiheet ovat paljon kustannuksia vaativia ja ne vaativat myös monimutkaisen menetelmäteknii-kan. Kustannukset määräytyvät olennaisilta osiltaan rakenteen tuottamisen vaatimien mekaanisten tai kemiallisten työstö vaiheiden perusteella.Such coating structures are more or less well produced by chemical etching processes during coating or by mechanical machining methods 10 such as grinding or sandblasting. A hard chromium layer is then added to the surface thus made. These various production steps, which are essential for production, are costly and also require complex process technology. The costs are essentially determined by the mechanical or chemical machining steps required to produce the structure.
1515
Metallikerrosten rakenteen teon alueella käytetään myös paljon aikaa vaativia ja , r. vain erittäin vaikeasti hallittavissa olevia dispersioerotusmenetelmiä, joissa määrätty pintarakenne saadaan aikaan orgaanisilla tai epäorgaanisilla vierailla aineilla, jotka otetaan esimerkiksi kromikerrokseen mukaan ja/tai jotka estävät kromikerroksen ’ 20 kasvun erotustapahtuman aikana siten, että syntyy karkeita pintoja. Vieraat aineet '· · toimivat elektrolyytissä hajottajana.In the area of fabricating metal layers, time-consuming and, r. only very difficult to control dispersion separation processes, in which a given surface structure is obtained by organic or inorganic foreign substances which are incorporated, for example, into the chromium layer and / or which prevent the chromium layer from growing during the separation process to produce coarse surfaces. Foreign substances act as disintegrators in the electrolyte.
* · # • · « : DE-33 07 748 koskee menettelyä sähkökemialliseksi pinnoittamiseksi, jossa käyte tään ytimenmuodostukseen pulssimuotoista virtaa. Jos käytetään sopivaa sähkövir-25 ran tiheyttä, syntyvät ytimet muodostavat havumaisen rakenteen. Tällä tavalla voi tuottaa yhdellä työvaiheella karkeita, havumaisesti rakentuneita pintoja. Sähkövirran . *. tiheydellä tarkoitetaan sähkövirran keskitiheyttä katodin pinnalla.DE-33 07 748 relates to a process for electrochemical coating using pulsed current for nucleation. If a suitable electric current density is used, the resulting nuclei form a coniferous structure. In this way, rough, coniferous surfaces can be produced in a single operation. Electrical current. *. density means the average density of the electric current at the cathode surface.
* » i • · · ·♦» » • · ♦ • f *·;·' Keksinnön tehtävänä on ollut luoda parannettu menetelmä rakenteellisten metalli- 30 kerrosten sähkökemialliseksi tekemiseksi ja pohjaksi mekaaniselle tai kemialliselle jälkikäsittelylle, joka olisi tuotettavissa monenlaisilla rakennemetallikerroksilla, sekä • · laitteisto tämän menetelmän toteuttamiseksi.It has been an object of the invention to provide an improved process for electrochemically fabricating structural metal layers and as a basis for mechanical or chemical post-treatment that can be produced by a variety of structural metal layers, as well as. apparatus for carrying out this method.
Tämä tehtävä on ratkaistu patenttivaatimusten esittämien tunnusomaisten piirteiden 35 mukaisesti.This object is solved according to the characterizing features 35 of the claims.
2 1036742 103674
Rakennekerros tehdään suoraan galvaanisesti pinnoitettavaan kohteeseen. Sen pinnan on oltava tätä varten sähköäjohtava, yleensä hiottuja tasaisen pinnan rakennekerrosta varten tarjoava. Ennen tätä pinnoitusprosessia kohde puhdistetaan tavanomaisten galvanointiteknisten sääntöjen mukaisesti ja siitä poistetaan rasva. Se 5 upotetaan katodina galvaaniseen kylpyyn, jossa on myös anodi. Anodin ja katodin välinen etäisyys valitaan useimmiten alueelta 1 ja 40 cm välillä. Elektrolyyttinä käytetään mieluiten kromielektrolyyttiä, etenkin rikkihappokromielektrolyyttiä, se-kahappokromielektrolyyttiä tai lejeerinkielektrolyyttiä.The structural layer is applied directly to the object to be galvanically coated. For this purpose, its surface must be electrically conductive, generally providing a smooth surface for the structural layer. Prior to this coating process, the target is cleaned and degreased according to standard galvanizing techniques. It is immersed as a cathode in a galvanic bath which also has an anode. The distance between the anode and the cathode is usually selected between 1 and 40 cm. The electrolyte is preferably a chromium electrolyte, in particular a sulfuric acid chromium electrolyte, a sulfuric acid chromium electrolyte or an alloy tongue electrolyte.
10 Anodin ja katodin väliin voi järjestää prosessijännitteen ja sähkövirta vaikuttaa katodina käytetyn pinnoitettavan kohteen materiaalilla pinnoitukseen. Keksinnön mukaan ehdotetaan, että ytimien muodostamiseksi käytetään positiivisia virtahyppyjä. Rakenteen tuottamisprosessi käsittää ytimien muodostamisvaiheen ja ytimen kasvuvaiheen. Seuraavaksi ytimen muodostamisvaiheessa prosessin jännitettä ja prosessi- 15 virtaa nostetaan useina vaiheina, kussakin tapauksessa ennalta määritettävissä olevalla muutoksella l:stä 6:teen mA/cm2 vaihetta kohden alkuarvosta rakennevirtati-heyteen. Alkuarvo on 0 mA/cm2, joka voi kuitenkin olla myös korkeampi, jos ytimien muodostamisvaihe seuraa heti sitä edeltävää galvaanista prosessivaihetta eikä 1 virtaa päästetä tällä välin laskemaan nollaan. Kahden virran tiheyden korotuksen vä- ] 20 linen aika on noin 0,1 ja 30 sekunnin välillä. Jokaisen virtahypyn avulla muodoste- . taan uusia ytimiä. Vastakohtana pulssivirtapinnoitukseen, prosessivirta ei palaa jo- ;; ' kaisen positiivisen hypyn jälkeen takaisin nollaan, vaan se kohoaa jokaisella virta- ;, hypyllä edelleen eteenpäin. Siten pystytään erottamaan varsinkin pyöreämmiksi ja Γ il i ' " tasaisemmiksi muodostuneet ytimet tai kohteessa olevat kappaleet paremmin kuin \ : 25 mitä olisi mahdollista tunnetulla pulssivirtamenetelmällä. Virtavaiheet kohdistetaan ·.· · sellaisena lukumääränä kylpyyn, että yksittäisistä tai toisiinsa tarttuneista, suunnil- leen kuulan muotoisista tai havunmuotoisista kappaleista koostuva rakennekerros on saatu aikaan kohteen pintaan.10 Process voltage can be provided between the anode and the cathode, and the current applied to the material to be coated as the cathode can be affected by electrical current. According to the invention, it is proposed that positive current hops are used to form the cores. The process of producing the structure comprises a nucleation step and a nucleation growth step. Next, in the core formation step, the process voltage and process current are increased in several steps, each with a predetermined change from 1 to 6 mA / cm 2 per step, from the initial value to the structural current. The initial value is 0 mA / cm 2, but may also be higher if the nucleation step immediately follows the preceding galvanic process step and no current is allowed to fall to zero in the meantime. The time between the two current density increments is between about 0.1 and 30 seconds. With each jump, you can create. new kernels. In contrast to pulse current plating, the process current does not return; after a positive jump back to zero, but it increases with each current jump. In this way, it is possible to distinguish kernels or objects in particular that are more rounded and flatter than the \: 25 that would be possible with the known pulse flow method. or a structural layer consisting of conical pieces is provided on the surface of the object.
• · · • « « • · · 30 On edullista pyrkiä ytimen muodostusvaiheessa 4-10 pm välillä olevaan rakenneker-^ rospaksuuteen. Tähän tarvitaan yleensä käyttöä 10 ja 240 virtavaiheen välillä ja i varsin hyviin tuloksiin päästään 50-60 vaiheella.It is advantageous to aim for a structural layer thickness in the core formation step of between 4 and 10 µm. Usually this requires operation between 10 and 240 current phases and I get quite good results in 50-60 phases.
I i · r : . Viimeisen virtavaiheen päättymisen jälkeen saavutettu virran tiheys on rakennevir- -- 1·. ; 35 tatiheys. Kun tämä rakennevirtatiheys on saavutettu, ytimien muodostusvaihe, var sinainen rakenteen muodostaminen, on suureksi osaksi päättynyt. Syntyvän rakenteen koostuminen on riippuvainen useista parametreistä, ennen muuta valitusta ra- Λ fl 103674 3 kennevirtatiheydestä, virtavaiheiden lukumäärästä, suuruudesta ja ajallisesta välistä, kylvyn lämpötilasta ja käytetystä elektrolyytistä. Virtatiheyden muutos vaihetta kohden, sekä myös kahden virtatiheyden kohottamisen välinen aika, on muutettavissa ytimienmuodostusvaiheen aikana. Virran luonteen mukaan voi tuottaa erilaisia 5 pintarakenteita, joille on pääasiallisesti tunnusomaista erilainen kuviosyvyys. Ihanteelliset menetelmän parametrit saadaan yksinkertaisesti selville kokeilemalla. Sääntönä voi sanoa, että kylvyn korkeammalla lämpötilalla ja elektrolyytin suuremmalla happopitoisuudella voi käyttää myös suurempaa rakennevirtatiheyttä.I i · r :. The current density achieved after the end of the last current phase is the structural current - 1 ·. ; 35 density. When this structural current density is reached, the core formation step, the actual structure formation, is largely completed. The composition of the resulting structure is dependent on a number of parameters, in particular the selected circuit current density, the number, magnitude and time interval of the current phases, the bath temperature and the electrolyte used. The change in current density per phase, as well as the time between two current density increases, can be varied during the nucleation phase. Depending on the nature of the current, different surface structures can be produced which are essentially characterized by different pattern depths. Simply experiment with the ideal process parameters. As a rule, at higher bath temperatures and higher acid content in the electrolyte, higher structural current densities can also be used.
10 Tämä rakennevirtatiheys on säännön mukaan kaksin-kolminkertainen verrattuna tavallisessa tasavirtapinnoituksessa käytettyyn virtatiheyteen. Tasavirtapinnoituksessa toimitaan virtatiheysalueella 15-60 mA/cm2. Virtatiheyden arvo on tällöin riippuvainen elektrolyytistä ja kylvyn lämpötilasta. Rakennepinnoituksessa alueen 30 - 180 mA/cm2 virtatiheydet ovat mahdollisia.10 This structural current density is, as a rule, two to three times the current density used in conventional DC plating. DC coating operates in the current density range of 15-60 mA / cm2. The value of the current density is then dependent on the electrolyte and the bath temperature. Current densities of 30 to 180 mA / cm2 are possible in structural coating.
1515
Sen jälkeen seuraa ytimien kasvuvaihe. Tällöin käytetään ennalta määritettävissä olevan ramppityöajan aikana prosessivirtaa, jonka virtatiheys on 80-120 % raken-nevirtatiheydestä. Ramppityöajan aikana virtaa jokseenkin tasainen virta, joka johtaa kohteeseen tehdyn rakenteen kasvamiseen. Ramppityöajan keston mukaan tämä ra- 20 kennekerros voi saada enemmän tai vähemmän voimakkaan leiman. Kasvu päättyy . tällöin rakennekerroksen korkeimmissa pisteissä nopeammin kuin syvissä pisteissä ;;" ytimenmuodostusvaiheessa pintaan tulleissa osissa. Täten seuraa ensin ytimien kas- I · ; " vuvaiheen aikana pinnan karkeuden lisääntyminen. Ramppityöaika on useimmiten : ' alueella 1-600 sekuntia, mieluiten noin 30 sekuntia.This is followed by the growth of the nuclei. In this case, a process current with a current density of 80-120% of the structural current density is used during a predetermined ramp time. During ramp operation, a relatively steady current flows, leading to an increase in the structure of the object. Depending on the duration of the ramp time, this structural layer may receive a more or less intense stamp. Growth ends. then, at the highest points of the structural layer faster than at the deeper points ;; The ramp time is most often in the range of 1-600 seconds, preferably about 30 seconds.
25 * :,· · Ramppityöajan kuluttua prosessivirta lasketaan päätearvoonsa, usein nollaan. Tämä prosessivirran loppuarvoon laskeminen on tehtävissä yhtenä hyppäyksenäkin, mutta se on mahdollista myös portaittaisella laskemisella. Tässäkin saavutettiin hyviä tu- loksia vaiheittaisella prosessivirran muuttamisella. Virtavaiheet ovat tällöin mielui-« · · * 30 ten alueella -1 - -8 mA/cm2 vaihetta ja aika virtavaiheiden välillä valitaan mieluiten alueelta 0,1-1 sekuntia.25 *:, · · After the ramp time, the process current is reduced to its end value, often to zero. This process stream computation can be done in a single jump, but it is also possible with stepwise computation. Here, too, good results were achieved by the stepwise change of the process stream. The current phases are then preferably in the range of -1 · -8 mA / cm 2 and the time between the current phases is preferably selected in the range of 0.1 to 1 second.
• · · • « « • · • * : „. ' Edellä selitettiin kolmea menettelyvaihetta: asteittainen prosessivirran kohottaminen : .·. ytimenmuodostusvaiheen aikana rakennevirtatiheyden saavuttamiseen saakka, pro- : 35 sessivirran pitäminen rakennevirtatiheyden alueella ramppityöajan aikana (ytimien kasvatusvaihe) ja lopuksi prosessivirran pudottaminen päätearvoon. Nämä menette-lyvaiheet muodostavat rakenteen tuottamisvaihesarjan. Ne ovat toistettavissa vaihe- 4 103674 sarjana. Tämä on edullista etenkin silloin, kun toivotaan pinnan voimakasta raken-teenmuodostusta. Tällöin edellisen vaihesarjan päätarvo vastaa seuraavan vaihesar-jan aloitusarvoa. Toistojen lukumäärä riippuu halutusta pintarakenteesta. Hyviä tuloksia saavutettiin toistoilla, jotka vaihtelivat kahden kerran ja 20 kerran välillä.• · · • «« • · • *: „. 'Three procedural steps have been explained above: the gradual increase of the process stream:. during the nucleation step until reaching the structural current density, keeping the process current in the structural current density region during the ramp operating time (nucleation step) and finally dropping the process current to the terminal value. These procedural steps form a series of steps for producing the structure. They are reproducible in step 4 103674 series. This is advantageous especially when a strong surface structure is desired. In this case, the main value of the previous phase sequence corresponds to the starting value of the next phase sequence. The number of repetitions depends on the surface texture desired. Good results were obtained with repetitions ranging from two to 20 times.
5 Yksittäisten vaihesarjojen päätearvot voivat olla suuruudeltaan erilaisia.5 The end values of individual phase series may be of different magnitudes.
On edullista upottaa pinnoitettava esine jo pienen ajan, mielellään jo minuutin, kuluttua prosessin alkamisesta, kylpyyn. Tämä odotusaika palvelee ennen kaikkea lämpötilan tasautumista, toisin sanoen perusraaka-aine saavuttaa suunnilleen elekt-10 rolyytin lämpötilan.It is advantageous to immerse the object to be coated in the bath for a short time, preferably one minute after the process has started. This waiting time serves above all temperature equilibrium, i.e., the base raw material reaches approximately electrolyte temperature.
Hyviin tuloksiin päästään, jos ennen rakennekerroksen tekemistä tehdään normaa-likromauksella tavanomaisin edellytyksin ensin tasavirtaperuskerros. Tähän päästään siten, että pinnoituksen aluksi käytetään peruspulssia (jännite- tai virta-pulssia).Good results can be obtained if, before the structural layer is applied, first a dc base layer under normal conditions is first applied. This is achieved by applying a basic pulse (voltage or current pulse) at the start of the coating.
15 Silloin käytetään virtatiheyttä 15-60 mA/cm2, mikä vastaa tavanomaisessa kromauk-sessa tavallisia virta-arvoja. Tämä peruspulssi kestää noin 600 sekuntia. Jotta voitaisiin poistaa ennakkokäsittelyn tasavirran pitoisuusmuutokset vaiheiden rajakerroksessa ennen rakenteen tekemistä, on edullista, jos peruspulssin jälkeen ja ennen rakenteen tuottamista prosessiin liitetään noin 60 sekunnin täysin virraton väliaika.A current density of 15-60 mA / cm2 is then used, which corresponds to the current values commonly used in conventional chromium plating. This basic pulse lasts approximately 600 seconds. In order to eliminate the pretreatment dc concentration changes in the phase boundary before the structure is made, it is advantageous to add a fully uninterrupted Interval after the base pulse and before the structure is produced.
20 ,:, Tätä menetelmää käytetään monella tekniikan alueella rakenneosien erikoisten pin- !!" taominaisuuksien aikaansaamiseen. Rakenneosien pinnoituksien tekeminen käyttä- ;, mällä galvaanista prosessia on tunnettua. Pinnoitetun työkappaleen pintarakenteelle '( '' asetetaan usein määrättyjä vaatimuksia. Esimerkiksi sylinterien liukupinnoissa tulee '. 25 olla määrättyjä voiteluaineiden varastopaikkoja voiteluaineiden vastaanottamiseksi * : ja lääketieteellisissä tai optisissa laitteissa tulee olla pinta, jolla on alhaiset heijas- I · · · v ’ tusominaisuudet. Määritetyt heijastusasteet ovat myös vaatimuksena toiminnallisissa t ja koristekäytöissä huonekalu- ja lääkintäkalustoteollisuudessa. Graafisessa teolli- :*·*: suudessa tarvitaan painokoneisiin kosteudenpoistolieriöitä, joissa on erityinen "kar- | 30 kea" pinta. Muotoilutekniikassa rakennekromattuja työkaluja voidaan käyttää anta maan työkappaleelle rakenteellinen pinta. Esimerkiksi peltipinta voidaan muokata • · · : ·’ rakenteellisesti rakennekromatuilla teloilla ajamalla se niiden läpi.This method is used in many fields of technology to provide special surface properties of components. Coating of components using a galvanic process is known. The surface structure of a coated workpiece '(' 'is often subject to certain requirements. For example, the sliding surfaces of cylinders become' .25 have designated lubricant storage locations for receiving lubricants *: and medical or optical devices shall have a surface with low reflectance I · · · v '. * · *: Printing machines require dehumidification cylinders with a special "rough" surface. In design technology, structural chromed tools can be used to give the workpiece a structural surface. the surface can be modified with structural chromed rolls by passing it through them.
· » • · • f; Laite selitetyn menettelyn toteuttamiseksi koostuu galvaanisesta kylvystä, joka sisäl- i : 35 tää metallipitoisuuden sisältävän elektrolyyttisen kylpyliuoksen. Parhaana elektro lyyttinä pidetään kromielektrolyyttiä, varsinkin rikkihappokromielektrolyyttiä, se-kahappokromielektrolyyttiä tai lejeerinkielektrolyyttiä. Parhaana pidetyssä elektro- 103674 5 lyytissä on 180-300 gramman pitoisuus kromihappoa Cr03 litraa kohden. Tämän lisäksi siihen voi lisätä vieraita lisäaineita, kuten esim. rikkihappoa H2S04, fluorive-tyhappoa H2F2, piifluorivetyhappoa H2SiF6 ja näiden sekoituksia. Parhaana pidetty elektrolyytti sisältää 1-3,5 grammaa rikkihappoa H2S04 litraa kohden. Galvaaninen 5 kylpy lämmitetään normaalisti ja elektrolyytin lämpötila on mieluiten 30-55°C.· »• · • f; The apparatus for carrying out the procedure described consists of a galvanic bath containing: a metal electrolytic bath solution. The preferred electrolyte is considered to be chromium electrolyte, especially sulfuric acid chromium electrolyte, succinic chromium electrolyte or alloy electrolyte. The preferred electro-103674 5 lits has a concentration of 180-300 grams of Cr3O3 per liter of chromic acid. In addition, foreign additives such as sulfuric acid H2SO4, hydrofluoric acid H2F2, hydrofluoric acid H2SiF6 and mixtures thereof may be added thereto. The preferred electrolyte contains 1-3.5 grams of sulfuric acid per liter of H2SO4. The galvanic bath is heated normally and the electrolyte temperature is preferably 30-55 ° C.
Elektrolyyttiseen kylpyliuokseen on upotettu yksi anodi ja yksi katodi, jolloin pinnoitettava kohde muodostaa katodin tai on ainakin katodin osa. Käytettäessä kromi-elektrolyyttiä pidetään parhaana anodimateriaalina platinoitua platinaa tai PbSn7:ää. 10 Anodi ja katodi ovat liitettyinä laitteeseen prosessivirran syöttämistä varten. Pro-sessivirta on kohotettavissa useina vaiheina aina ennalta määrätyllä virtatiheyden muutoksella, joka on 1-6 mA/cm2 vaihetta kohden, aloitusarvosta rakennevirtatihey-teen. Virran kohottamisten ajallinen väli on säädettävissä välille 0,1 ja 30 sekuntia. Rakenne virtatiheyden saavuttamisen jälkeen on käytettävissä ennalta säädettävää 15 ramppityöaikaa varten prosessivirta, jonka virtatiheys on alueella 80-120 rakenne-virtatiheydestä. Tasaisen pinnoituksen aikaansaamiseksi laitteen voi varustaa pyö-rimisvedolla kohteen jatkuvaksi pyörittämiseksi. Anodin ja pinnoitettavan kohteen välinen etäisyys valitaan alueelta 1-40 cm, mieluiten se on 25 cm.One anode and one cathode are immersed in the electrolytic bath solution, whereby the object to be coated forms a cathode or is at least part of the cathode. When using chromium electrolyte, platinum-plated platinum or PbSn7 is preferred as the anode material. 10 The anode and cathode are connected to the device for supplying a process current. The process current can be increased in several steps, always with a predetermined current density change of 1-6 mA / cm2 per phase, from the initial value to the structural current density. The time interval between power ups is adjustable between 0.1 and 30 seconds. Once the structure has been reached, a process stream with a current density within the range of 80-120 of the structure current is available for a pre-adjustable 15 ramp time. To achieve a uniform coating, the device may be provided with a rotary drive to continuously rotate the object. The distance between the anode and the object to be coated is selected from 1 to 40 cm, preferably 25 cm.
20 Keksintöä selitetään yksityiskohtaisesti seuraavin toteutusmuotoesimerkein viittaa-.;. maila oheisiin piirroksiin, joissa: I f kuvio 1 esittää kaaviomaisesti laitetta rakennekerrosten galvaaniseksi pinnoitta- : ‘ miseksi; :.'': 25 kuvio 2 esittää graafisesti ajallisen virtatiheyskulun rakennekerrosta tuotettaessa; i : kuvio 3 esittää valokuvaa mittakaavassa 200:1 kohteen pintarakenteesta, joka on · · v · tehty kuvion 2 kuvaaman menettelytapavaihesarjan mukaisesti; kuvio 4 esittää valokuvaa mittakaavassa 500:1 kuvion 3 esittämästä pintaraken-:T: teestä ja 30 kuvio 5 esittää graafisesti rakennekerroksen tuottamisen ajallista virtatiheysvaihe-jaksoa; 9 9 9 • ·* kuvio 6 esittää graafisesti rakennekerroksen tuottamisen ajallista virtatiheysvaihe- jaksoa ja ; :: kuvio 7 esittää graafisesti rakennekerroksen tuottamisen ajallista virtatiheysvaihe- : 35 jaksoa.The invention will be explained in detail by the following embodiments, which refer to. Fig. 1 schematically illustrates a device for galvanically coating structural layers; Figure 2 graphically illustrates the time course of current density density when fabricating a structural layer; Fig. 3 is a photograph of a 200: 1 scale surface structure of a subject, · · v ·, made according to the sequence of procedures described in Fig. 2; Fig. 4 is a photograph of a 500: 1 scale of the surface structure of Fig. 3 and Fig. 5 is a graphical representation of the temporal current density period of the structural layer; 9 9 9 · · * FIG. 6 graphically illustrates a temporal current density cycle period of producing a structural layer and; Fig. 7 graphically illustrates the time course of the current layer density generation of the structural layer: 35.
6 1036746 103674
Kuviossa 1 on kaaviomainen esitys laitteesta rakennekerroksen galvaanista tekemistä varten. Elektrolyysinesteellä 1 täytetty säiliö muodostaa galvaanisen kylvyn. Galvaaniseen kylpyyn on upotettu pinnoitettava kohde 2 ja anodi 3. Pinnoitettava kohde muodostaa katodin 2. Anodi ja katodi ovat kiinni ohjattavassa sähköenergialähteessä 5 4. Energialähde voi olla virta- tai jännitelähde. Koska, mitä tulee sähköisiin vaiku tuksiin, virta tai virtatiheys katodissa vaikuttaa pinnoitukseen, prosessia voi ohjata tarkkaan virtalähteellä. Jännitelähteen käytön etuna on lisäksi vähäisempi sähkökyt-kentätarve. Niin kauan kun muut parametrit, kuten esim. kylvyn lämpötila ja elektrolyytin pitoisuus, eivät sanottavasti muutu, prosessia voidaan ohjata hyvin myös 10 jännitelähteellä.Figure 1 is a schematic representation of a device for making a structural layer of galvanic layer. The container filled with electrolytic fluid 1 forms a galvanic bath. The plated object 2 and the anode 3 are immersed in the galvanic bath. The plated object forms the cathode 2. The anode and the cathode are connected to a controllable electrical energy source 5 4. The energy source may be a current or voltage source. Because, with respect to electrical effects, the current or current density at the cathode affects the coating, the process can be precisely controlled by a power source. In addition, the advantage of using a voltage source is the reduced need for electric switching. As long as other parameters, such as bath temperature and electrolyte concentration, do not substantially change, the process can also be well controlled with 10 voltage sources.
Sähköenergialähdettä 4 ohjataan ohjelmoidulla ohjauslaitteella 5. Ohjauslaitteella voi syöttää haluttuja ajallisia jännite- tai virtajaksoja, jotka siirtyvät sen jälkeen automaattisesti energialähteen 4 kautta elektrodeihin.The electrical power source 4 is controlled by a programmed control unit 5. The control unit can supply the desired time voltage or current cycles, which are then automatically transmitted through the energy source 4 to the electrodes.
1515
Kuvio 2 esittää graafisesti prosessin virtatiheyden ajallista kulkua rakennekerrosta tuotettaessa. Kuvion 2 vaakasuora akseli on aika-akseli, pystyakselilla y esitetään virtatiheys. Tällöin kysymyksessä on toteutusmuotoesimerkki mahdollista menetelmän kulkua varten, jota selitetään seuraavassa yksityiskohtaisesti. Kuviot 3 ja 4 20 esittävät valokuvina tällä menetelmällä tuotettua rakennekerrosta.Figure 2 graphically illustrates the time course of process current density when producing a structural layer. The horizontal axis of Figure 2 is a time axis, the vertical axis y shows the current density. This is an exemplary embodiment for a possible method flow, which will be explained in detail below. Figures 3 and 4 show photographs of the structural layer produced by this method.
1 ' ' ' ' : -. Galvaanisena kylpynä käytetään rikkihappokromielektrolyyttiä, jossa on 200 gram maa kromihappoa Cr03 litraa kohden ja 2 grammaa rikkihappoa H2S04 litraa kohden. Pinnoitettava työkappale on pyörimissuunnassa symmetrinen rakenneosa, joka / . 25 on painoteollisuuden kosteudenpoistolieriö. Rakennekromausta varten sopivan läh- · · töpinnan luomiseksi teräksestä St52 tehty lieriö hienohiotaan ensin karkeussyvyy-' teen Rz < 3 mm. Sen jälkeen tehdään galvanointitekniikan yleisten edellytysten mu kaisesti 30 mm paksu nikkelikerros ja sen päälle 10 mm paksu halkeilematon kromi-t.i : kerros. Näin valmistelteltua työkappaletta pyöritetään galvaanisessa kylvyssä mah- | 30 dollisimman tasaisen kerrostuman aikaansaamiseksi. Työkappale muodostaa kato- din, anodina käytetään platinoitua titaania tai PbSn7:ää. Anodin ja katodin välinen • · elektrodien etäisyys säädetään 25 mm:iin.1 '' '': -. The galvanic bath uses a sulfuric acid chromium electrolyte containing 200 grams of earth per liter of Cr03 and 2 grams of sulfuric acid per liter of H2SO4. The workpiece to be coated is a symmetrical component in the direction of rotation, which /. 25 is the dehumidification cylinder in the printing industry. To create a suitable starting surface for structural chromium plating, the steel St52 cylinder is first finely ground to a roughness depth R 2 <3 mm. Thereafter, a 30 mm thick nickel layer is applied in accordance with the general conditions of electroplating and a 10 mm thick non-cracked chromium-t.i. The workpiece thus prepared is rotated in a galvanic bath For a more even deposit of $ 30. The workpiece forms a cathode, platinum-titanium or PbSn7 is used as the anode. The distance between the anode and the cathode • · is adjusted to 25 mm.
i i : ’: Ensimmäisen prosessivaiheen 7 aikana prosessivirta on kytkettynä pois. Tämän vai- i 35 heen tarkoituksena on työkappaleen sopeuttaminen galvaaniseen kylpyyn. Sen aika na työkappaleen lämpötila muuttuu samaksi kuin galvaanisen kylvyn lämpötila. _ Noin minuutin kuluttua kytketään tasavirta anodin ja katodin välille. Se pidetään 103674 7 kytkettynä vaiheen 8 ajan, joka kestää noin 600 sekuntia. Tällöin työkappaleeseen tehdään kromitasavirtapohjapinnoite. Käytetty virtatiheys on sama kuin yleensä normaalikromauksissa, tässä 20 mA/cm2. Tasavirtapohjapinnoitteen tekemisen jälkeen seuraa toinen vaihe 9 ilman virtaa.i i: ': During the first process step 7, the process power is off. The purpose of this step 35 is to adapt the workpiece to the galvanic bath. During this time, the temperature of the workpiece becomes the same as that of the galvanic bath. After about one minute, direct current is applied between the anode and the cathode. It is kept on 103674 7 for a duration of step 8 which lasts approximately 600 seconds. In this case, the workpiece is coated with a chrome dc base coating. The current density used is the same as usual for normal chromes, here 20 mA / cm2. After applying the DC floor coating, a second step 9 without power follows.
55
Sen jälkeen alkaa varsinainen rakenteen tuottaminen. Vaiheiden 10 ja 11 aikana kohotetaan virtatiheyttä vaiheittain rakennevirtatiheyteen 14. Vaiheiden ominaistietoja (virtavaiheiden korkeus ja kahden virtavaiheen välinen aika) vaihdellaan tällöin kohottamisen aikana. Ensimmäisen vaiheen 10 aikana virtaa kohotetaan 16 vaiheessa 10 40 mA/cm2:iin. Se vastaa virtatiheyden 2,5 mA/cm2 muutosta vaihetta kohden. Aika 28 virtavaiheiden välissä on 5 sekuntia. Sen jälkeen virtatiheyttä kohotetaan vaiheen 11 aikana 62 jatkovaiheessa rakennevirtatiheyteen, joka on 100 mA/cm2, kahden virtavaiheen välisen ajan ollessa 6 sekuntia (kuvion 2 kaaviossa esitetty virtatiheyden kulku ei ole oikeassa mittakaavassa, sama koskee kuvioissa 5 ja 6 esitettyjä 15 kaavioita).After that, the actual production of the structure begins. During steps 10 and 11, the current density is gradually increased to the structural current density 14. The characteristic information of the stages (the height of the current phases and the time between the two current phases) are then varied during the rise. During the first step 10, the current is increased in step 16 to 40 mA / cm 2. This corresponds to a change in current density of 2.5 mA / cm2 per phase. The time 28 between the power phases is 5 seconds. Thereafter, the current density is increased during step 11 to a structural current density of 100 mA / cm 2 in step 62, with a time interval of 6 seconds between the two current phases (the current flow shown in FIG. 2 is not scaled, the same applies to FIG. 5).
Sen jälkeen kun rakennevirtatiheys on saavutettu, tätä virtatiheyttä pidetään yllä ramppityöajan 12 aikana. Tällöin virtaava tasavirta johtaa vaiheissa 10 ja 11 tuotetun rakennekerroksen kasvamiseen. Ramppityöajan kesto on 60 sekuntia. Sen jäl-20 keen virtatiheyttä lasketaan jälleen portaittain, 22 vaiheessa, päätearvoon 0 mA/cm2. Kahden virtavaiheen välinen aika on tällöin 4 sekuntia.Once the structural current density has been reached, this current density is maintained during ramp time 12. The flowing direct current then results in an increase in the structural layer produced in steps 10 and 11. The ramp time is 60 seconds. Thereafter, the current density is again reduced in steps, in 22 steps, to a terminal value of 0 mA / cm 2. The time between two current phases is then 4 seconds.
Käyttöteknisistä syistä kosteudenpoistolieriön tapauksessa siihen tehdään keksinnön mukaisen menetelmän mukaisesti valmistetun kromirakennekerroksen jälkeen vielä , . 25 4-8 mm paksu mikrohalkeillut kromipinnoite. Tämä tapahtuu galvanointitekniikassa • · · :·|/ tavanomaisten tasavirtaedellytysten mukaisesti eikä sitä selitetä lähemmin tässä yh- *·' ’ teydessä.For operational reasons, in the case of a dehumidifying cylinder, it is further subjected to a chromium layer after the process according to the invention,. 25 4-8 mm thick micro-cracked chromium plating. This is done by galvanizing technology under normal DC conditions and is not explained further in this connection.
t 4 m · Kuviot 3 ja 4 esittävät mikroskooppikuvia kromirakennekerroksesta, joka on tuotettu . :T: 30 kuvion 2 yhteydessä selitetyn menetelmän mukaisesti. Rakennekerros koostuu pää- ..\e asiassa jokseenkin kuulan muotoisista, yksittäisistä ja osittain myös toistensa päällä • · olevista osista. Esitetyssä rakennekerroksessa pinnan karkeus Rz on 8 mm 25 % '; · kantavalla osalla. "Kantava osa" määritellään myös normin DIN 4762 mukaan "ma· :.j : teriaaliosaksi".t 4 m · Figures 3 and 4 show microscopic images of a chromium structural layer produced. : T: 30 according to the method described in connection with Figure 2. The structural layer consists mainly of ball-shaped, individual and partly overlapping parts. In the shown structural layer, the surface roughness Rz is 8 mm 25% '; · Bearing part. The "bearing part" is also defined in DIN 4762 as "ma ·: .j: material part".
3535
Kuvio 5 esittää virtatiheyden ajallisen kulun erään toisen rakennepinnoituksen menetelmän vaiheiden yhteydessä. Prosessin vaiheet 7, 8 ja 9 selitettiin jo kuvion 2 8 103674 yhteydessä. Sen jälkeen seuraavassa vaiheessa 15 virtatiheys kohotetaan 110 samanlaisena askeleena rakennevirtatiheyteen 100 mA/cm2. Aika virtavaiheiden välillä on 10 sekuntia. Ramppityöajan, joka on 16-60 sekuntia, virtatiheys lasketaan tällä kertaa 22 samanlaisena portaana 0 mA/cm2 päätearvoon. Aika kahden virtavaiheen vä-5 Iillä on 4 sekuntia. Siihen liittyen, lyhyen virrattoman hetken jälkeen, toistetaan koko vaiheista 15, 16 ja 17 muodostuva prosessivaihesarja.Figure 5 shows the time course of the current density in connection with the steps of another structural coating method. The process steps 7, 8 and 9 were already explained in connection with Fig. 2 8 103674. Subsequently, in the next step 15, the current density is increased by 110 similar steps to a structural current density of 100 mA / cm 2. The time between power phases is 10 seconds. The current density of the ramp operating time, which is 16-60 seconds, is calculated this time in 22 similar steps to 0 mA / cm2. Time two-phase color 5 has 4 seconds. In this connection, after a short, uninterrupted moment, the entire process step sequence consisting of steps 15, 16 and 17 is repeated.
Kuvio 6 esittää vielä yhden menetelmävaihesarjan virtatiheyden ajallisen kulun. Työkappaleen galvaaniseen kylpyyn sopeutumisen muodostaman odotusvaiheen 7 10 jälkeen seuraa tasavirtapulssi 18, joka vastaa omalla tavallaan kuvion 2 tasa-virtapulssia 8. Sen jälkeen seuraa suoraan ytimenmuodostusvaihe 19, jossa virtati-heyttä kohotetaan asteittain rakennevirtatiheyteen 24. Virtatiheyttä pidetään sen jälkeen ramppityöajan 20 aikana rakennevirtatiheydessä, samalla kun vaihe 21 laskee sen portaittaisessa muodossa päätearvoon 26. Lyhyen odotusajan 22 jälkeen seuraa 15 uudelleen ytimenmuodostusvaihe 23 virtatiheyden asteittaisella kohottamisella uuteen rakennevirtatiheyteen 25 saakka. Tällöin ytimenmuodostusvaiheen 23 aloitus-virtatiheys on sama kuin päätearvo 26, johon virtatiheys laskettiin edellisen raken-teenmuodostuksen vaihesaijan lopussa. Virtatiheyttä pidetään sen jälkeen ramppityöajan 27 aikana jälleen rakennevirtatiheydessä 25 ja sen jälkeen se lasketaan hyp-20 päyksenä uuteen päätearvoon 0 mA/cm2.Figure 6 illustrates the time course of another current of the method series. After the waiting step 7 10 for the workpiece adaptation to the bath follows a DC pulse 18 which in its own way corresponds to the DC pulse 8 of Figure 2. when step 21 drops it stepwise to endpoint 26. After a short wait 22, step 15 is followed by a rebuild step 23 with a gradual increase in current density to a new structural current density 25. In this case, the start current density of the nucleation step 23 is the same as the end value 26, to which the current density was calculated at the end of the last structuring phase. The current density is then maintained again during the ramp working time 27 at the structural current density 25 and then calculated as a hyp-20 at the new end value of 0 mA / cm 2.
j Kuvio 7 esittää menetelmän kulun toisen vaihtoehdon virtatiheyden ajallisen kulun, j Menetelmän vaiheet 7-9 selitettiin jo kuvion 2 yhteydessä. Prosessivirta kohotetaan | sen jälkeen vaiheen 29 aikana portaittain rakennevirtatiheyteen 30. Sen jälkeen j ; . 25 käytetään ramppityöaikana 32 prosessivirtaa, jonka viitatiheysarvo on 80 % rakensi/ nevirtatiheydestä 30. Näiden väliin jätetään virraton lepoaika 31. Ramppityöajan 32 ! · » · ' kuluttua loppuun prosessivirta lasketaan vaiheen 33 aikana päätearvoonsa. Tämä päätearvo toimii aloitusarvona toista rakenteentuottovaihesarjaa varten, joka alkaa • · · v : vaiheen 35 portaittaisella virran kohotuksella. Sen jälkeen kun uusi rakennevirtati- : 30 heys 36 on saavutettu, kohdistettava prosessivirta on ramppityöajan 38 aikana virta- •v. tiheydeltään 120 % rakennevirtatiheydestä 36. Väliin jätetään jälleen virraton lepo- aika 37.Figure 7 shows the time course of the current density of another alternative to the method flow, j Method steps 7-9 were already explained in connection with Figure 2. The process stream is increased then, in step 29, stepwise to the structural current density 30. Thereafter j; . 25 is used during ramp duty 32 process currents with a reference density value of 80% of build / current density 30. Between these is left an unstoppable rest time 31. Ramp duty time 32! After the completion of the process, the process current is reduced to its end value during step 33. This endpoint serves as the starting value for the second set of structural yield steps that begin with • · · v: step 35 incremental current boost. After the new structural current stream 30 has been reached, the process flow to be applied is current during ramp working time 38. with a density of 120% of the structural current density 36. Again, a powerless rest time 37 is omitted.
I II I
Claims (12)
Applications Claiming Priority (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE4334122 | 1993-10-07 | ||
DE4334122A DE4334122C2 (en) | 1992-04-09 | 1993-10-07 | Process for electrochemically applying a surface coating and application of the process |
EP9403314 | 1994-10-01 | ||
PCT/EP1994/003314 WO1995009938A1 (en) | 1993-10-07 | 1994-10-01 | Process for the galvanic application of a surface coating |
Publications (4)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
FI952774A0 FI952774A0 (en) | 1995-06-06 |
FI952774A FI952774A (en) | 1995-06-06 |
FI103674B true FI103674B (en) | 1999-08-13 |
FI103674B1 FI103674B1 (en) | 1999-08-13 |
Family
ID=6499571
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
FI952774A FI103674B1 (en) | 1993-10-07 | 1995-06-06 | A method of electrochemically depositing a surface of a machine part |
Country Status (17)
Country | Link |
---|---|
EP (1) | EP0722515B1 (en) |
JP (1) | JP3293828B2 (en) |
KR (1) | KR100332077B1 (en) |
CN (1) | CN1044395C (en) |
AU (1) | AU7784794A (en) |
BR (1) | BR9405631A (en) |
CA (1) | CA2172613C (en) |
CH (1) | CH690273A5 (en) |
CZ (1) | CZ286909B6 (en) |
DE (1) | DE59405190D1 (en) |
ES (1) | ES2114703T3 (en) |
FI (1) | FI103674B1 (en) |
GR (1) | GR3026689T3 (en) |
PL (1) | PL177073B1 (en) |
SI (1) | SI9420006B (en) |
SK (1) | SK281999B6 (en) |
WO (1) | WO1995009938A1 (en) |
Families Citing this family (16)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE19828545C1 (en) | 1998-06-26 | 1999-08-12 | Cromotec Oberflaechentechnik G | Galvanic bath for forming a hard chromium layer on machine parts |
US6478943B1 (en) | 2000-06-01 | 2002-11-12 | Roll Surface Technologies, Inc. | Method of manufacture of electrochemically textured surface having controlled peak characteristics |
WO2003004732A1 (en) * | 2001-07-05 | 2003-01-16 | Roll Surface Technologies, Inc. | Electrochemically textured surface having controlled peak characteristics and the method of manufacture |
DE10255853A1 (en) | 2002-11-29 | 2004-06-17 | Federal-Mogul Burscheid Gmbh | Manufacture of structured hard chrome layers |
DE10302107A1 (en) | 2003-01-21 | 2004-07-29 | Fuchs Technology Ag | cylinder surface |
DE102004019370B3 (en) | 2004-04-21 | 2005-09-01 | Federal-Mogul Burscheid Gmbh | Production of optionally coated structurized hard chrome layer, used e.g. for decoration, protection or functional coating on printing roller or stamping, embossing or deep drawing tool uses aliphatic sulfonic acid in acid plating bath |
DE102008017270B3 (en) | 2008-04-04 | 2009-06-04 | Federal-Mogul Burscheid Gmbh | Structured chromium solid particle layer and method for its production and coated machine element |
AT506076B1 (en) * | 2008-06-03 | 2009-06-15 | Vassilios Dipl Ing Polydoros | METHOD FOR PRODUCING NANOSTRUCTURED CHROMIUM LAYERS ON A SUBSTRATE |
EP2149447A1 (en) | 2008-07-29 | 2010-02-03 | Alcan Technology & Management Ltd. | Method for producing a sheet of material with surface structure |
CN102877098B (en) * | 2012-10-29 | 2015-06-17 | 东莞市若美电子科技有限公司 | Multi-waveband output pulse plating method |
EP3000918B1 (en) | 2014-09-24 | 2018-10-24 | topocrom systems AG | Method and device for the galvanic application of a surface coating |
CN105734631B (en) * | 2014-12-10 | 2019-03-19 | 上海宝钢工业技术服务有限公司 | The electro-plating method of roll for cold rolling frosting treatment |
WO2017076456A1 (en) * | 2015-11-05 | 2017-05-11 | Topocrom Systems Ag | Method and device for the galvanic application of a surface coating |
CN110117802B (en) * | 2019-05-06 | 2020-05-22 | 浙江大学 | Preparation method of multistage three-dimensional microstructure |
CN111962120A (en) * | 2020-08-18 | 2020-11-20 | 重庆佰鸿机械设备有限公司 | Pipe fitting inner wall surface treatment process |
EP4012074A1 (en) | 2020-12-14 | 2022-06-15 | topocrom systems AG | Surface coating and method for the production thereof |
Family Cites Families (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DD134785A1 (en) * | 1978-01-25 | 1979-03-21 | Hans Skilandat | METHOD FOR THE ELECTROLYTIC PRODUCTION OF A COPPER SHELF ON COPPER FOIL |
US4468293A (en) * | 1982-03-05 | 1984-08-28 | Olin Corporation | Electrochemical treatment of copper for improving its bond strength |
US5185073A (en) * | 1988-06-21 | 1993-02-09 | International Business Machines Corporation | Method of fabricating nendritic materials |
DE4211881C2 (en) * | 1992-04-09 | 1994-07-28 | Wmv Ag | Process for the electrochemical application of a structured surface coating |
-
1994
- 1994-10-01 CZ CZ19951447A patent/CZ286909B6/en not_active IP Right Cessation
- 1994-10-01 CH CH01713/95A patent/CH690273A5/en not_active IP Right Cessation
- 1994-10-01 AU AU77847/94A patent/AU7784794A/en not_active Abandoned
- 1994-10-01 DE DE59405190T patent/DE59405190D1/en not_active Expired - Lifetime
- 1994-10-01 ES ES94928407T patent/ES2114703T3/en not_active Expired - Lifetime
- 1994-10-01 JP JP51061895A patent/JP3293828B2/en not_active Expired - Lifetime
- 1994-10-01 PL PL94309286A patent/PL177073B1/en not_active IP Right Cessation
- 1994-10-01 CN CN94190766A patent/CN1044395C/en not_active Expired - Lifetime
- 1994-10-01 SK SK861-95A patent/SK281999B6/en unknown
- 1994-10-01 KR KR1019950702238A patent/KR100332077B1/en active IP Right Grant
- 1994-10-01 SI SI9420006A patent/SI9420006B/en not_active IP Right Cessation
- 1994-10-01 CA CA002172613A patent/CA2172613C/en not_active Expired - Fee Related
- 1994-10-01 EP EP94928407A patent/EP0722515B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1994-10-01 WO PCT/EP1994/003314 patent/WO1995009938A1/en active IP Right Grant
- 1994-10-01 BR BR9405631-5A patent/BR9405631A/en not_active IP Right Cessation
-
1995
- 1995-06-06 FI FI952774A patent/FI103674B1/en active
-
1998
- 1998-04-21 GR GR980400886T patent/GR3026689T3/en unknown
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
BR9405631A (en) | 1999-09-08 |
SI9420006B (en) | 2002-02-28 |
CN1115583A (en) | 1996-01-24 |
JPH09503550A (en) | 1997-04-08 |
SK281999B6 (en) | 2001-10-08 |
EP0722515B1 (en) | 1998-01-28 |
FI952774A0 (en) | 1995-06-06 |
SI9420006A (en) | 1995-12-31 |
SK86195A3 (en) | 1996-03-06 |
AU7784794A (en) | 1995-05-01 |
ES2114703T3 (en) | 1998-06-01 |
CH690273A5 (en) | 2000-06-30 |
CN1044395C (en) | 1999-07-28 |
CZ286909B6 (en) | 2000-08-16 |
WO1995009938A1 (en) | 1995-04-13 |
FI952774A (en) | 1995-06-06 |
FI103674B1 (en) | 1999-08-13 |
PL309286A1 (en) | 1995-10-02 |
CZ144795A3 (en) | 1996-07-17 |
EP0722515A1 (en) | 1996-07-24 |
CA2172613A1 (en) | 1995-04-13 |
JP3293828B2 (en) | 2002-06-17 |
KR100332077B1 (en) | 2002-10-31 |
GR3026689T3 (en) | 1998-07-31 |
PL177073B1 (en) | 1999-09-30 |
CA2172613C (en) | 2003-06-17 |
DE59405190D1 (en) | 1998-03-05 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
FI103674B (en) | A method of electrochemically depositing a surface of a machine part | |
CN102517617B (en) | Device for surface roughening copper plate, and surface roughened copper plate | |
Tench et al. | Considerations in electrodeposition of compositionally modulated alloys | |
KR20080015820A (en) | Method for producing alloy deposits and controlling the nanostructure thereof using negative current pulsing electro-deposition, and articles incorporating such deposits | |
US20120181179A1 (en) | Method of electrochemical machining | |
US6379523B1 (en) | Method of treating surface of aluminum blank | |
CN101260555B (en) | Plasma liquid phase electrolysis method for ceramic film deposited on surface of copper and alloy thereof | |
CN208829786U (en) | A kind of electroplanting device | |
CN107511546A (en) | Wire electrochemical micro-machining gap electro-deposition auxiliary measuring method | |
CN103849916B (en) | A kind of micro-arc oxidation prepares method and the microarc oxidation solution of titanium alloy surface best bright finish ceramic wearing coat | |
CN105839169A (en) | Electro-deposition high-throughput preparation device and method for materials | |
CN104846408A (en) | Plating solution formula and electroplating method for plating compact rhenium film on copper substrate | |
US4046643A (en) | Production of multi-metal particles for powder metallurgy alloys | |
Yang et al. | Localized Ni deposition improved by saccharin sodium in the intermittent MAGE process | |
ITTO20070704A1 (en) | SYSTEM AND METHOD OF PLATING METAL ALLOYS BY GALVANIC TECHNOLOGY | |
CN104388992A (en) | Method for co-deposition of Al-Zn alloy coating in ionic liquid system | |
JP2012527524A (en) | Method and apparatus for controlled electrolysis of thin layers | |
US20130240373A1 (en) | Process for removing a coating from workpieces | |
EP3652759A1 (en) | Magnets comprising a coating including an aluminum layer | |
RU2773545C1 (en) | Method for plasma-electrochemical formation of nanostructured chrome smooth coating | |
RU2775013C1 (en) | Method for plasma-electrochemical formation of nanostructured chromium coating and device for implementing the method | |
RU2771409C1 (en) | Method for plasma-electrochemical formation of nanostructured chromium coating and device for implementing the method | |
Babaei et al. | The Influence of Effective Parameters on Optimizing the Electrochemical Deposition Rate of Au-Cu Alloy with High Thicknesses for the Production of Hallow Gold-Jewelry Artifacts with Pulsed Current (PC) on A Silver Substrate | |
KR900003960B1 (en) | Manufacture of electrically insulated conductor | |
Buhlert | Electropolishing and electrochemical structuring of titanium |