RU2773545C1 - Способ плазменно-электрохимического формирования наноструктурированного хромового гладкого покрытия - Google Patents
Способ плазменно-электрохимического формирования наноструктурированного хромового гладкого покрытия Download PDFInfo
- Publication number
- RU2773545C1 RU2773545C1 RU2021131623A RU2021131623A RU2773545C1 RU 2773545 C1 RU2773545 C1 RU 2773545C1 RU 2021131623 A RU2021131623 A RU 2021131623A RU 2021131623 A RU2021131623 A RU 2021131623A RU 2773545 C1 RU2773545 C1 RU 2773545C1
- Authority
- RU
- Russia
- Prior art keywords
- chromium
- cathode
- plasma
- coating
- anode
- Prior art date
Links
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims abstract description 111
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 title claims abstract description 60
- 238000000576 coating method Methods 0.000 title claims abstract description 60
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 title claims description 15
- 238000005755 formation reaction Methods 0.000 title claims description 15
- 239000011651 chromium Substances 0.000 claims abstract description 107
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 102
- 238000007747 plating Methods 0.000 claims abstract description 46
- 239000003792 electrolyte Substances 0.000 claims abstract description 34
- 210000002381 Plasma Anatomy 0.000 claims abstract description 33
- 230000001939 inductive effect Effects 0.000 claims abstract description 13
- 230000001965 increased Effects 0.000 claims abstract description 9
- 238000001020 plasma etching Methods 0.000 claims abstract description 9
- 239000008151 electrolyte solution Substances 0.000 claims abstract description 4
- 238000007654 immersion Methods 0.000 claims abstract description 4
- 238000002485 combustion reaction Methods 0.000 claims description 6
- 230000000694 effects Effects 0.000 abstract description 7
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 abstract description 6
- 238000009713 electroplating Methods 0.000 abstract description 3
- 238000011089 mechanical engineering Methods 0.000 abstract description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 abstract 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 30
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 22
- WGLPBDUCMAPZCE-UHFFFAOYSA-N trioxochromium Chemical compound O=[Cr](=O)=O WGLPBDUCMAPZCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 10
- 230000003746 surface roughness Effects 0.000 description 10
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 7
- 238000004070 electrodeposition Methods 0.000 description 7
- 238000004090 dissolution Methods 0.000 description 6
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 6
- 239000000463 material Substances 0.000 description 6
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 6
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 6
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 6
- 239000002103 nanocoating Substances 0.000 description 6
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- GEIAQOFPUVMAGM-UHFFFAOYSA-N oxozirconium Chemical compound [Zr]=O GEIAQOFPUVMAGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 5
- UBXAKNTVXQMEAG-UHFFFAOYSA-L Strontium sulfate Chemical compound [Sr+2].[O-]S([O-])(=O)=O UBXAKNTVXQMEAG-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 4
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 4
- 238000002848 electrochemical method Methods 0.000 description 4
- 238000009499 grossing Methods 0.000 description 4
- 239000011148 porous material Substances 0.000 description 4
- WCUXLLCKKVVCTQ-UHFFFAOYSA-M potassium chloride Chemical compound [Cl-].[K+] WCUXLLCKKVVCTQ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 4
- 230000001105 regulatory Effects 0.000 description 4
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 4
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 3
- GRWVQDDAKZFPFI-UHFFFAOYSA-H chromium(III) sulfate Chemical compound [Cr+3].[Cr+3].[O-]S([O-])(=O)=O.[O-]S([O-])(=O)=O.[O-]S([O-])(=O)=O GRWVQDDAKZFPFI-UHFFFAOYSA-H 0.000 description 3
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 3
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 3
- 230000001681 protective Effects 0.000 description 3
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 3
- PUZPDOWCWNUUKD-UHFFFAOYSA-M sodium fluoride Chemical compound [F-].[Na+] PUZPDOWCWNUUKD-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 3
- REHXRBDMVPYGJX-UHFFFAOYSA-H Sodium hexafluoroaluminate Chemical compound [Na+].[Na+].[Na+].F[Al-3](F)(F)(F)(F)F REHXRBDMVPYGJX-UHFFFAOYSA-H 0.000 description 2
- CMZUMMUJMWNLFH-UHFFFAOYSA-N Sodium metavanadate Chemical compound [Na+].[O-][V](=O)=O CMZUMMUJMWNLFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- TVXXNOYZHKPKGW-UHFFFAOYSA-N Sodium molybdate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-][Mo]([O-])(=O)=O TVXXNOYZHKPKGW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229960004319 Trichloroacetic Acid Drugs 0.000 description 2
- YNJBWRMUSHSURL-UHFFFAOYSA-N Trichloroacetic acid Chemical compound OC(=O)C(Cl)(Cl)Cl YNJBWRMUSHSURL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000003990 capacitor Substances 0.000 description 2
- 229910001610 cryolite Inorganic materials 0.000 description 2
- NUYGZETUIUXJCO-UHFFFAOYSA-N dipotassium;dioxido(dioxo)molybdenum Chemical compound [K+].[K+].[O-][Mo]([O-])(=O)=O NUYGZETUIUXJCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000003628 erosive Effects 0.000 description 2
- 238000000227 grinding Methods 0.000 description 2
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 2
- 238000011068 load Methods 0.000 description 2
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 2
- 125000000896 monocarboxylic acid group Chemical group 0.000 description 2
- 238000005498 polishing Methods 0.000 description 2
- BQFYGYJPBUKISI-UHFFFAOYSA-N potassium;oxido(dioxo)vanadium Chemical compound [K+].[O-][V](=O)=O BQFYGYJPBUKISI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 101710010431 shlA Proteins 0.000 description 2
- 235000013024 sodium fluoride Nutrition 0.000 description 2
- 239000011775 sodium fluoride Substances 0.000 description 2
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 2
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000003438 strontium compounds Chemical class 0.000 description 2
- 239000010963 304 stainless steel Substances 0.000 description 1
- DIZPMCHEQGEION-UHFFFAOYSA-H Aluminium sulfate Chemical compound [Al+3].[Al+3].[O-]S([O-])(=O)=O.[O-]S([O-])(=O)=O.[O-]S([O-])(=O)=O DIZPMCHEQGEION-UHFFFAOYSA-H 0.000 description 1
- BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-L Carbonate dianion Chemical compound [O-]C([O-])=O BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229910000599 Cr alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000019749 Dry matter Nutrition 0.000 description 1
- 210000004080 Milk Anatomy 0.000 description 1
- 229910000589 SAE 304 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 229940039790 Sodium Oxalate Drugs 0.000 description 1
- PZAGQUOSOTUKEC-UHFFFAOYSA-N acetic acid;sulfuric acid Chemical compound CC(O)=O.OS(O)(=O)=O PZAGQUOSOTUKEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminum Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940010048 aluminum sulfate Drugs 0.000 description 1
- ZEMWIYASLJTEHQ-UHFFFAOYSA-J aluminum;sodium;disulfate;dodecahydrate Chemical compound O.O.O.O.O.O.O.O.O.O.O.O.[Na+].[Al+3].[O-]S([O-])(=O)=O.[O-]S([O-])(=O)=O ZEMWIYASLJTEHQ-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
- 238000007743 anodising Methods 0.000 description 1
- 125000004429 atoms Chemical group 0.000 description 1
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- ZCDOYSPFYFSLEW-UHFFFAOYSA-N chromate(2-) Chemical compound [O-][Cr]([O-])(=O)=O ZCDOYSPFYFSLEW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000788 chromium alloy Substances 0.000 description 1
- VBVRWWZABFQIAA-UHFFFAOYSA-H chromium(3+);trisulfite Chemical compound [Cr+3].[Cr+3].[O-]S([O-])=O.[O-]S([O-])=O.[O-]S([O-])=O VBVRWWZABFQIAA-UHFFFAOYSA-H 0.000 description 1
- 229910000424 chromium(II) oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 1
- 239000012141 concentrate Substances 0.000 description 1
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 1
- 238000010276 construction Methods 0.000 description 1
- 238000010924 continuous production Methods 0.000 description 1
- 238000005336 cracking Methods 0.000 description 1
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 1
- 238000005137 deposition process Methods 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 1
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 1
- 230000005518 electrochemistry Effects 0.000 description 1
- 238000005868 electrolysis reaction Methods 0.000 description 1
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 1
- 229910002804 graphite Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010439 graphite Substances 0.000 description 1
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 1
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-M hydroxyl anion Chemical compound [OH-] XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 1
- 238000009776 industrial production Methods 0.000 description 1
- 238000009434 installation Methods 0.000 description 1
- 239000000314 lubricant Substances 0.000 description 1
- 238000003754 machining Methods 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 238000001465 metallisation Methods 0.000 description 1
- 239000008267 milk Substances 0.000 description 1
- 235000013336 milk Nutrition 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- PMZURENOXWZQFD-UHFFFAOYSA-L na2so4 Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]S([O-])(=O)=O PMZURENOXWZQFD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000002105 nanoparticle Substances 0.000 description 1
- 230000001264 neutralization Effects 0.000 description 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- 238000010791 quenching Methods 0.000 description 1
- 229960000414 sodium fluoride Drugs 0.000 description 1
- 229910052938 sodium sulfate Inorganic materials 0.000 description 1
- 229960003010 sodium sulfate Drugs 0.000 description 1
- 235000011152 sodium sulphate Nutrition 0.000 description 1
- 230000001988 toxicity Effects 0.000 description 1
- 231100000419 toxicity Toxicity 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001928 zirconium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
Images
Abstract
Изобретение относится к области гальванотехники, в частности, для получения наноструктурированного хромового гладкого покрытия, и может быть использовано в машиностроении, приборостроении и других областях техники. Способ заключается в том, что на первом этапе проводят гальваническое осаждение хрома с одновременным горением одиночных микроразрядов на поверхности покрытия, для чего катод, представляющий собой хромируемое изделие, помещают в электролитическую ванну с электролитом хромирования в стационарном состоянии, далее в ванну с раствором электролита параллельно катоду помещают анод и проводят обработку при плотности тока 100-200 А/дм2 и напряжении 60-80 В для образования на поверхности катода слоя хрома нужной толщины, при этом выдерживают одинаковую глубину погружения анода и катода в электролит, на втором этапе проводят воздействие плазменным травлением, для чего меняют полярности анода и катода и хромируемое изделие становится анодом, в электрическую цепь включают емкостной индукционный фильтр, повышают напряжение до 350-400 В, в результате чего происходит горение газового разряда в паровоздушной оболочке, охватывающей всю поверхность изделия, при этом емкостной индукционный фильтр обеспечивает регулируемую сглаженную форму напряжения в виде постоянного, не снижаемого до нуля, что дает возможность равномерного воздействия плазмы на хромированную поверхность изделия. Технический результат: получение наноструктурированного гладкого хромового покрытия. 2 пр., 2 ил.
Description
Предлагаемое изобретение относится к получению наноструктурированного хромового покрытия и может быть использовано в машиностроении, приборостроении и других областях техники.
Далее в тексте заявителем приведены термины, которые необходимы для облегчения однозначного понимания сущности заявленных материалов и исключения противоречий и/или спорных трактовок при выполнении экспертизы по существу.
Наноструктурированные покрытия - это термобарьерные, износостойкие, коррозионностойкие покрытия, предназначенные для восстановления и продления сроков работы оборудования нефтегазовой, авиационной, атомной, машиностроительной, металлургической, строительной и др. отраслей промышленности [https://neftegaz.ru/tech-library/tekhnologii/141456-nanostrukturirovannye-pokrytiya/].
Емкостный индукционный фильтр - это устройство для уменьшения переменных составляющих (пульсаций) выпрямленного напряжения, состоящее из дросселя и из емкостных элементов - конденсаторов. Дроссель представляет собой обычную катушку, характеризующуюся определенной индуктивностью. Сглаживающее действие фильтра основано на возникновении в дросселе ЭДС самоиндукции, препятствующей изменению выпрямленного тока. Сглаживающие фильтры включаются между выпрямителем и нагрузкой для уменьшения переменных составляющих (пульсаций) выпрямленного напряжения. Он обеспечивает регулируемую сглаженную форму напряжения - постоянное напряжение, не снижаемое до нуля [https://www.electronicsblog.ru/].
Сглаживающий фильтр - это устройство, предназначенное для уменьшения пульсаций выпрямленного напряжения. Принцип работы: во время действия полуволны напряжения происходит заряд реактивных элементов (конденсатора, дросселя) от источника - диодного выпрямителя, и их разряд на нагрузку во время отсутствия, либо малого по амплитуде напряжения [https://emkelektron.webnode.com/news/sglazhivajushchije-filtry/].
Сглаженная форма напряжения - постоянное напряжение, не снижаемое до нуля (Фиг.1, нижний график).
Пульсирующая форма напряжения - переменное напряжение за счет пульсирующих токов, которые имеют неизменное направление, но меняют свое значение, могут быть различными. Иногда значение тока изменяется от наибольшего значения до наименьшего, не равного нулю. В других случаях ток уменьшается до нуля. Если цепь постоянного тока прерывается с некоторой частотой, то в течение некоторых промежутков времени ток в цепи отсутствует (Фиг. 1, верхний график) [http://electricalschool.info/].
Электрохимическое осаждение или гальваническое осаждение - это процесс покрытия металлов пленкой, получаемой в результате электролиза раствора, содержащего ионы необходимых примесей, например, хрома, никеля, меди и др. Аппаратура для проведения процесса состоит из анода и катода, погруженных в соответствующий электролит. Металл осаждается на катоде [http://metallicheckiy-portal.ru/articles/zashita_ot_korrozii_metalla/elektroximicheskaa_zashita/elektroximicheskoe_pokritie _i_osajdenie_metallov/1#:~:text=Электрохимическое%20осаждение%20металлов%20относится% 20к,использования%20легко%20видоизменяемых%20методов%20осаждения].
Хромирование - это процесс осаждения на поверхность детали слоя хрома из электролита под действием электрического тока в процессе электрохимического (гальванического) осаждения. Слой хрома может наноситься для декоративных целей, для обеспечения защиты от коррозии или для увеличения твердости поверхности [Ю.М. Лахтин, В.П. Леонтьева. Материаловедение. - М.: Машиностроение, 1990].
Хромовое покрытие - это покрытие, получаемое в процессе хромирования.
Плазма - это частично или полностью ионизированный газ, образованный из нейтральных атомов (или молекул) и заряженных частиц (ионов и электронов). Чтобы система с заряженными частицами стала плазмой, им требуется расположиться на минимальном расстоянии друг от друга и взаимодействовать между собой. Из-за постоянного движения частиц плазма становится отличным проводником электрического тока. А используя магнитные поля, можно сконцентрировать ее в струю и контролировать дальнейшее движение [https://ru.wikipedia.org/wiki/Плазма].
Воздействие плазмой - это процесс низкотемпературной газовой (плазменной) обработки материалов под воздействием электрического разряда при температурах от 45 градусов Цельсия до 105 градусов Кельвина.
Газовый разряд - это все явления и процессы, связанные с протеканием электрического тока через газ.
Хромирование стальных изделий - это технологическая операция на промышленных производствах. Хромовые покрытия обеспечивают изделиям красивый внешний вид и защиту материала от воздействия окружающей среды, в частности от коррозии, а также применяется при восстановлении изношенных деталей. Чаще всего хромирование проводят электрохимическим методом - металл осаждается в гальванических ваннах под действием электрического тока.
Толщина гальванического хромового покрытия устанавливается в зависимости от его назначения и условий эксплуатации. Толщина слоя, предназначенного для восстановления изношенных размеров, может достигать 500 мкм. Защитно-декоративные слои, нанесенные на детали из меди и сплавов на ее основе по толщине, составляют около 6,0-9,0 мкм, а на никелевом подслое - 0,5-1,5 мкм. Если необходимо повысить износостойкость штампов, пресс-форм и т.п., то толщина хромового слоя может колебаться в пределах от 9 до 60 мкм.
Гальванические хромовые покрытия используются [https://magnetline.ru/raznoe/chto-takoe-hromirovannoe-pokrytie.html]:
- при изготовлении отражателей, зеркал, прожекторов и т.д., поскольку покрытие обладает высокими отражающими свойствами, которые уступают только алюминию и серебру, но эти свойства более стабильны в силу хорошей устойчивости хрома к окислению;
- в защитно-декоративных целях, поскольку с подслоем никеля и меди хромовое покрытие отлично защищает от коррозии сталь и придает изделию привлекательный внешний вид. Так, защитно-декоративное гальваническое хромирование используют для формирования слоев на некоторых деталях автомобилей, приборах, мотоциклах, велосипедах и т.д.;
- для восстановления размеров, например, путем наращивания хромового слоя на изношенной поверхности термообработанных валов и втулок, что позволяет продлить срок эксплуатации изделий и восстановить первоначальные размеры;
- для увеличения износостойкости ответственных деталей.
Толщина хромового покрытия зависит от назначения изделий и может находиться в диапазоне от 5 до 350 мкм и более - до 500 мкм.
Так, твердое хромирование с наименьшим разбросом толщин требуется на штоках цилиндров, поршневых кольцах, гильзах и других цилиндрических поверхностях [http://spg-kompozit.ru/services/galvanicheskoe-khromirovanie/#:~:text=Толщина%20хромового%20покрытия%20в%20зависимости,гильзах%20 и%20других%20цилиндрических%20поверхностях].
Электрохимическое нанесение металлов обычно является наиболее применяемым способом как по материальным затратам, так и по качеству получаемых покрытий в сравнении, например, с погружением в расплавленный металл.
Однако электрохимический (гальванический) способ не лишен недостатков. К ним можно отнести снижение механических характеристик изделия в процессе нанесения металла. Особенно сильно это затрагивает процесс хромирования, так как выход металла по току (ВТ) лежит в диапазоне от 8 до 13%, а остальная электрическая энергия затрачивается на выделение джоулева тепла (омические потери) и главным образом на выделение водорода.
Кроме того, электрохимический способ хромирования не позволяет наносить покрытие с высокой степенью гладкости, за счет неравномерного распределения хрома. Сам процесс хромирования занимает продолжительное время, что снижает производительность труда и эффективность производства в целом.
На дату подачу заявки в мире актуален вопрос повышения степени гладкости поверхности хромирования и сокращение времени процесса хромирования.
На поверхности хромовых покрытий (кроме «молочных») в процессе их нанесения формируются поры и трещины, которые значительно снижают их защитные свойства. Кроме того, хромированную деталь подвергают дополнительной анодной обработке в том же электролите, в котором наносилось покрытие. Это проводится с целью расширения пор в покрытии. В большие поры заходят и удерживаются смазочные материалы. При катодной плотности тока 40-60 А/дм2 и температуре 325–331 K получается наиболее развитая сетка каналов и пор на поверхности хромированной детали. Анодная обработка проводится в течение 10 - 12 минут [https://magnetline.ru/raznoe/chto-takoe-hromirovannoe-pokrytie.html].
Заявленный способ обеспечивает возможность повышения эффективности получения наноструктурированного хромового покрытия за счет сокращения времени самого процесса гальванического покрытия, так как осаждение состоит из двух основных процессов - электрохимического осаждения хрома и горения газового разряда в паровоздушной оболочке, охватывающую поверхность изделия, которые протекают попеременно. При этом заявленный способ позволяет обеспечить равномерное хромирование поверхности изделия, снижая возможность образования трещин, так как процесс плазменно-электрохимического хромирования происходит при непрерывном чередовании электрохимического воздействия на поверхность изделия, а затем - воздействия плазмы. Обеспечиваются колебания температуры в таких пределах, которые позволяют сохранять воздействие плазмы непрерывно, чередуясь с процессом электрохимического хромирования.
Выявленные заявителем из исследованного уровня техники технические решения, представленные далее, не решают эти проблемы в полной мере.
Известен способ электролитического хромирования, в котором используется электролит по патенту RU № 2409707 «Электролит хромирования» [1]. Технической задачей известного изобретения является разработка электролита хромирования, обеспечивающего получение беспористых, износостойких покрытий не склонных к растрескиванию с высоким сопротивлением коррозии. Сущностью известного изобретения является электролит хромирования, содержащий хром сернокислый или хромокалиевые квасцы, натрий щавелевокислый, натрий сернокислый, натрий фтористый, алюминий сернокислый, отличающийся тем, что он дополнительно содержит наноразмерные частицы оксида циркония, молибдат натрия или калия и ванадат натрия или калия при следующем соотношении компонентов, г/л: Cr2(SO4)3·6Н2O или KCr(SO4)2 50-350 Na2C2O4 20-30 Na2SO4 60-70 NaF 25-30 Al2(SO4)3·18H2O 90-110 наночастицы ZrO2 1-20 молибдат натрия или калия 3,0-40 ванадат натрия или калия 0,5-20. Наноразмерные частицы ZrO2 имеют дисперсность 5-250 нм и удельной поверхностью 20-200 м2 на 1 г сухого вещества. Шероховатость поверхности при хромировании в предлагаемом электролите не изменялась при толщинах до 45 мкм, следовательно, не требовалось последующего шлифования поверхности стальной детали. Таким образом, известное техническое решение основано на получении хромовых покрытий в электролите на основе хромового ангидрида, серной кислоты и искусственного технического криолита.
Недостатком известного технического решения является то, что скорость электролитического хромирования (осаждения) достигает величины 2,2 мкм/мин, он более длителен по сравнению с заявленным техническим решением и не позволяет обеспечить равномерное хромирование изделия в более короткие временные сроки. В связи с этим известное изобретение не обеспечивает эффективность процесса электролитического хромирования, так как требует большого временного интервала процесса хромирования изделий и одновременно не позволяет обеспечить равномерное и качественное хромирование изделия.
Известен способ электролитического хромирования по патенту RU № 2125125 «Способ электролитического хромирования» [2]. Технической задачей известного изобретения является снижение концентрации хромового ангидрида, что снижает токсичность электролита. Сущностью является способ получения хромовых покрытий, включающий хромирование в электролите на основе хромового ангидрида, серной кислоты и трихлоруксусной кислоты, отличающийся тем, что хромирование осуществляют при концентрации хромового ангидрида 60-120 г/л, массовом соотношении хромового ангидрида к серной кислоте 100:1 и концентрации трихлоруксусной кислоты 0,5-0,9 г/л. Процесс хромирования по известному способу осуществляется при плотностях тока 30-60 А/дм2, температуре 48-60°С. Выход хрома по току 12-16%. Толщина покрытия до 100-150 мкм.
Недостатками известного технического решения является то, что оно не обеспечивает эффективность процесса электролитического хромирования, так как не позволяет обеспечить высокую равномерность хромового покрытия.
Известен способ электролитического хромирования по патенту RU № 2125126 «Способ электролитического хромирования в низкоконцентрированном электролите» [3], сущностью является способ электролитического хромирования в электролите, содержащем 70-120 г/л хромового ангидрида, сульфат стронция, соединение стронция, выбранное из группы, состоящей из оксида, гидроксида, карбоната или хромата, вводимое для уменьшения растворимости сульфата стронция, и искусственный технический криолит, отличающийся тем, что концентрацию вводимого соединения стронция определяют из соотношения по массе Sr2+CrO3=250-270 с последующим пересчетом на формулу этого соединения.
Недостатками известного технического решения является то, что скорость нанесения покрытий из трехвалентного хрома и хромовых сплавов мала и толщину покрытий трудно увеличить по сравнению с заявленным техническим решением. Кроме того, известное техническое решение не позволяет равномерно обеспечивать хромирование поверхности изделия и в связи с этим не обеспечивает эффективность процесса электролитического хромирования.
Наиболее близким по существу к заявленному техническому решению, выбранным заявителем в качестве прототипа, является источник «Свойства нанокристаллических покрытий Cr, полученных катодной плазмой электролитического осаждения из электролита трехвалентного хрома» [Properties of nanocrystalline Cr coatings prepared by cathode plasma electrolytic deposition from trivalent chromium electrolyte Cheng Quan, Yedong He / Beijing Key Laboratory for Corrosion, Erosion and Surface Technology, University of Science and Technology Beijing, 100083 Beijing, China] [4]. Сущностью прототипа является способ получения высококачественных покрытий хрома с новыми свойствами из электролита на основе сульфата трехвалентного хрома с помощью катодной плазменной электрохимии (путем электролитического осаждения катодной плазмы). Покрытие наносится из сульфита трехвалентного хрома. Процесс получения хромовых покрытий обеспечивается следующим образом: в качестве анода был использован графит высокой чистоты с нижними отверстиями, в качестве катода был использован образец, подготовленной обычной механической обработкой из нержавеющей стали 304 размером 12 мм (длина) × 10 мм (ширина) × 2 мм (толщина) после шлифовки до зернистости 2000 и очистке в эталоне. Расстояние между анодом и катодом - около 6-8 мм. Образец может перемещаться либо вертикально, либо горизонтально или вращаться трехмерным приводом для обеспечения процесса хромирования изделий с большими площадями и (или) различным формами. Для поддержания постоянной температуры электролита использовалась термостатическая водяная баня. Вакуумный насос использовался для рециркуляции электролита. Для перемешивания использовалась мешалка. Для приготовления покрытия использовался источник питания постоянного тока с широким диапазоном напряжения.
Кратко сущностью прототипа является то, что электролитом заливают поверхность изделия полностью, затем увеличивают напряжение, используя переменный ток после двух-полупериодного выпрямления, за счет чего на поверхности образца появляются микродуги. В процессе электрохимического осаждения напряжение регулируют в небольших диапазонах и гасят до нуля, обеспечивая при этом явление микродугового разряда на поверхности катода от начала до конца. Покрытия наносят из сульфата трехвалентного хрома. Толщина покрытия оценивается примерно в 30 мкм.
Недостатками прототипа является:
1 - получение шероховатого, не идеально гладкого покрытия, что значительно снижает его качество, так как процесс электрохимического осаждения осуществляется с применением переменного тока после двух полупериодного выпрямления, при этом получают пульсирующую форму напряжения, что дает колебание величины напряжения и снижение его до нуля. В прототипе происходит одновременно процесс осаждения и горения (плавления) за счет образования микродуг, которые плавят поверхность изделия и создают наноструктурированное покрытие, однако при использовании переменного тока воздействие микродуг на поверхность изделия получается точечным. При этом получают наноструктурированное, но шероховатое покрытие, так как микродуги отдельно горят на поверхности, а так как дуга - это плавление, то получается большая шероховатость;
2 - худший внешний вид изделия по сравнению с заявленным техническим решением благодаря видимым шероховатостям поверхности покрытия;
3 - более продолжительный по времени процесс по сравнению с заявленным техническим решением, так как из-за точечного воздействия микродуг на поверхность изделия в электролите процесс осаждения протекает более длительно, примерно 2,2 мкм/мин, что также снижает эффективность применения прототипа по назначению.
Целью и техническим результатом заявленного технического решения является разработка способа и устройства для реализации способа, устраняющих недостатки прототипа, а именно, позволяющих достигнуть:
1 - уменьшения шероховатости поверхности покрытия за счет того, что разряды горят не отдельно на поверхности, где формируются покрытия, а на всей поверхности, так как используется сглаженное напряжение за счет крепления к источнику питания емкостного индукционного фильтра;
2 - улучшения внешнего вида изделия, благодаря предлагаемому способу воздействия плазмы, по которому происходит равномерное наноструктурированное плавление, дефекты на поверхности изделия устраняются, зерна измельчаются, а механические и электрохимические свойства улучшаются;
3 - сокращения времени процесса плазменно-электрохимического формирования наноструктурированных хромовых покрытий за счет непрерывного процесса, состоящего попеременно из электрохимического и плазменного воздействия.
Сущностью заявленного технического решения является способ плазменно-электрохимического формирования наноструктурированного хромового покрытия, заключающийся в том, что на первом этапе проводят гальваническое осаждение хрома и одновременное горение одиночных микроразрядов на поверхности гальванического покрытия, для чего катод, представляющий собой хромируемое изделие, помещают в электролитическую ванну с известным составом электролита, находящемся в стационарном состоянии, при этом используют составы электролита, которые применяются при получении хромовых покрытий, далее в электролитическую ванну с раствором электролита параллельно катоду помещают анод, на средних значениях плотностей тока 100-200 А/дм2 и напряжении 60-80 В; проводят обработку током для образования на поверхности катода слоя хрома нужной толщины, при этом выдерживают одинаковую глубину погружения анода и хромируемого изделия - катода в электролитическую ванну; на втором этапе проводят воздействие плазменным травлением, для чего меняют полярности анода и катода, хромируемое изделие становится анодом, в электрическую цепь включают емкостной индукционный фильтр, повышают напряжение с классических значений электрохимического осаждения хрома до значений 350-400 В, в результате чего происходит горение газового разряда в паровоздушной оболочке, охватывающей всю поверхность хромируемого изделия, при этом включенный в электрическую цепь емкостной индукционный фильтр обеспечивает регулируемую сглаженную форму напряжения - постоянное напряжение, не снижаемое до нуля, что дает возможность равномерного воздействия плазмы на хромированную поверхность изделия, происходит выравнивание поверхности, путем плазменного травления неровностей; при этом плазменная оболочка и горение разряда обеспечивает формирование, под воздействием плазмы, наноструктурированного хромового покрытия с низкой шероховатостью.
Заявленное техническое решение иллюстрируется Фиг.1 - Фиг. 2.
На Фиг.1 представлены графики стандартных форм напряжения:
- сглаженная форма напряжения (нижний график);
- пульсирующая форма напряжения (верхний график).
На Фиг.2 представлено:
2а - общая схема установки для осуществления заявленного способа;
2б - схема системы электрического питания.
Позиции на Фиг. обозначают:
1 - система электрического питания;
2 - электролитическая ванна;
3 - электродная система;
4 - осциллограф;
5 - добавочное сопротивление;
6 - вольтметр (например, цифровое универсальное измерительное устройство MMH-930);
7 - амперметр (например, цифровое универсальное измерительное устройство APPA 109N);
8 - термопары;
9, 10, 11, 12 - диоды CL 246 12 -10/8;
13 - емкостный индукционный фильтр;
14 - катод;
15 - анод;
16 - электролит;
17 - лабораторный автотрансформатор (например, регулировочного типа 1М).
Далее заявителем приведено описание заявленного технического решения.
Плазменно-электрохимический способ формирования наноструктурированного хромового гладкого покрытия осуществляется посредством специально разработанного устройства для осуществления плазменно-электрохимический способа формирования наноструктурированного хромового гладкого покрытия, где контролируется расстояние между анодом и раствором электролита (Фиг.2).
Заявленное устройство (Фиг.2а) представляет собой электродную систему (3), включающую катод (14), анод (15), погруженные в электролит (16), которые размещены в электролитической ванне (2). Работа электродной системы (3) обеспечивается следующими элементами: системой электрического питания (1); осциллографом (4), добавочным сопротивлением (5); вольтметром (6), амперметром (7) и термопарами (8).
С помощью осциллографа (4) контролируется форма подаваемого напряжения и электрического тока.
С помощью вольтметра (6) и амперметра (7) измеряется напряжение и электрический ток разряда.
Например, измерение напряжения и тока разряда возможно осуществлять с помощью двух цифровых универсальных измерительных устройств MMH-930 (6) и APPA 109N (7), относительная погрешность измерения составляет 0,8%.
Плазма образуется на электродах, в зависимости от этапа.
Система электрического питания (1) на Фиг.2а состоит из диодного моста - совокупности диодов (9, 10, 11, 12), емкостного индукционного фильтра (13) и представляет собой высоковольтный источник постоянного тока для создания и поддержания горения электрического разряда с плавным регулированием выходного напряжения в диапазоне от 0-3 кВ и тока 0-10 А. Более подробно система электрического питания представлена на Фиг.2б. Система электрического питания (Фиг.2б) обеспечивает подачу регулируемого выпрямленного напряжения различной формы, состоит из диодного моста (диоды СД 246▼12-10/8) (9-12) и лабораторного автотрансформатора регулировочного типа 1М с диапазоном напряжения от 1 до 250В (17). К источнику питания, в зависимости от условий эксперимента, подключается сглаживающий емкостной фильтр (С=1560 мкФ) (13).
Поставленные цели и заявленный технический результат достигается разработкой заявленного способа, состоящего из двух основных последовательных этапов (процессов):
- на первом этапе проводят электрохимическое гальваническое осаждение хрома и одновременное горение одиночных микроразрядов на поверхности гальванического покрытия для получения требуемой толщины хромового покрытия;
- на втором этапе проводят воздействие на хромовое покрытие плазмой в паровоздушной оболочке, для чего меняют полярность прикладываемого напряжения на анодную и под воздействием электрического разряда создается парогазовая (плазменная) оболочка, при этом происходит плазменное и электролитное растворение (полирование) неровных выступов поверхности, вследствие чего происходит формирование гладкого хромового покрытия. Далее разряд гасят.
В результате получают гладкое наноструктурированное хромовое покрытие, имеющую меньшую шероховатость поверхности по сравнению с прототипом.
Толщина покрытия составляет до 100-150 мкм.
Микротвердость покрытий составляет 900-1000 кг/мм2.
Гладкость наноструктурированного хромового покрытия, то есть уменьшение шероховатости поверхности покрытия достигается за счет того, что на втором этапе проводят воздействие на хромовое покрытие плазмой в паровоздушной оболочке, для чего меняют полярность прикладываемого напряжения на анодную и под воздействием электрического разряда создается парогазовая (плазменная) оболочка, при этом происходит плазменное и электролитное растворение (полирование) неровных выступов поверхности, вследствие чего происходит формирование гладкого хромового покрытия. на всей поверхности изделия, так как в заявленном способе на втором этапе используется сглаженное напряжение за счет крепления к источнику питания емкостного индукционного фильтра.
Емкостной индукционный фильтр обеспечивает регулируемую сглаженную форму напряжения - постоянное напряжение, не снижаемое до нуля.
В заявленном техническом решении процесс плазменно-электрохимического хромирования происходит при последовательном электрохимическом воздействии, совмещенном с воздействием горением одиночных микроразрядов на поверхность изделия, а затем - воздействие плазмы в паровоздушной оболочке.
Плазма образуется на электроде, имеющем меньшую площадь - это катод (отрицательный электрод).
Первый этап - электрохимическое воздействие и горение одиночных микроразрядов начинается при малых напряжениях, например, 60 В, и средних значениях плотностей тока 100-200 А/дм2.
Затем проводят второй, завершающий этап - меняют полярность прикладываемого напряжения и повышают напряжение с обычных значений электрохимического осаждения хрома, например, с 60 В, до значений 350-400 В, при этом происходит горение разряда (растворение и травление неровностей хромового покрытия) и образование паровоздушной оболочки.
Под воздействием плазмы одиночных микроразрядов происходит формирование наноструктурированного хромового покрытия.
Тем самым достигают заявленный технический результат - получение наноструктурированного гладкого хромового покрытия.
При этом в заявленном способе сначала покрытие наносят на требуемую толщину электрохимическим способом и горением одиночных микроразрядов, затем производится смена полярности хромируемого изделия с катода на анод и происходит горение разряда с образованием парогазовой оболочки на 350-400 В (плазменное травление неровностей хромового покрытия) затем разряд гасят, что в конечном итоге обеспечивает получение гладкого наноструктурированного покрытия.
Тем самым получают наноструктурированное покрытие с шероховатостью поверхности менее 0,5 мкм. Шероховатость поверхности измеряли профилометром модели 283 по ГОСТ 19300-86.
Благодаря заявленному способу воздействия плазмы происходит равномерное формирование наноструктурированного покрытия при хромировании, дефекты на поверхности изделия устраняются, зерна измельчаются, а механические и электрохимические свойства улучшаются. Это означает, что заявленное техническое решение является эффективным способом получения высококачественных хромовых покрытий с низкой шероховатостью.
Заявленный способ применим для всех известных составов электролитов, которые применяются при получении хромовых покрытий.
Далее заявителем приведены примеры осуществления заявленного способа.
Пример 1. Получение наноструктурированного хромового покрытия, например, при начальном напряжении на электродах 60 В и плотности тока 100 А/дм2.
В качестве хромируемого изделия берут, например, образец плоской пластины, изготовленной из нержавеющей стали 12Х18Н9Т, размерами 10 мм × 10 мм × 3 мм и помещают в электролитическую ванну, содержащую, например, электролит состава Cr2SO4⋅6H2O - 20 г/л, H2SO4 - 40 г/л, NH4COOH - 40-50 г/л, NH4Br - 10 г/л, KCl - 60 г/л, H3BO4 -40 г/л, Na2SO4 -50 г/л, NH4Cl - 75 г/л. К пластине подключают отрицательный электрод. В начальный момент времени прикладывают напряжение 60 В и плотность тока 100 А/дм2, выдерживают 900 секунд, за это время происходит электрохимическое осаждение хромового покрытия, совмещенное с воздействием горения одиночных микроразрядов. Затем производят смену полярности с отрицательного (катодного) на положительное (анодное) значение напряжения и на 901 секунде запускают горение разряда, для чего резко повышают напряжение до значений 350 В (растворение и плазменное травление неровностей хромового покрытия). На 921 секунде горение разряда прекращается. Общее время формирования покрытия в среднем занимает 921 секунду. Скорость осаждения слоя хрома неравномерная и варьируется от 0,03 до 0,06 мм/ч.
В данных условиях формирования наноструктурированного покрытия минимальная толщина получаемого покрытия составляет 15 мкм. Внешне покрытие гладкое и серебряный цвет. Шероховатость поверхности измеряли профилометром модели 283 по ГОСТ 19300-86 - получено 0,4 мкм.
Пример 2. Получение наноструктурированного хромового покрытия, например, при напряжении на электродах 80 В и плотности тока 200 А/дм2.
В качестве хромируемого изделия берут, например, образец плоской пластины, изготовленной из нержавеющей стали 12Х18Н9Т, размерами 10 мм × 10 мм × 3 мм и помещают в электролитическую ванну, содержащую, например, электролит состава Cr2SO4⋅6H2O - 20 г/л, H2SO4 - 40 г/л, NH4COOH - 40-50 г/л, NH4Br - 10 г/л, KCl - 60 г/л, H3BO4 - 40 г/л, Na2SO4 - 50 г/л, NH4Cl - 75 г/л. К пластине подключают отрицательный электрод. В начальный момент времени прикладывают напряжение 80 В и плотность тока 200 А/дм2, выдерживают 900 секунд, за это время происходит электрохимическое осаждение хромового покрытия совмещенное, с воздействием горения одиночных микроразрядов. Затем производят смену полярности с отрицательного (катодного) на положительное (анодное) значение напряжения и на 901 секунде запускают горение разряда, для чего резко повышают напряжение до значений 400 В (растворение и плазменное травление неровностей хромового покрытия). На 921 секунде горение разряда прекращается. Общее время формирования покрытия в среднем занимает 921 секунду. Скорость осаждения слоя хрома неравномерная и варьируется от 0,03 до 0,06 мм/ч.
В данных условиях формирования наноструктурированного покрытия минимальная толщина получаемого покрытия составляет 15 мкм. Внешне покрытие гладкое, имеет низкую шероховатость и серебряный цвет. Шероховатость поверхности измеряли профилометром модели 283 по ГОСТ 19300-86 - получено 0,3 мкм.
Таким образом, из описанного выше можно сделать вывод, что заявителем достигнуты поставленные цели и заявленный технический результат, а именно разработан способ, устраняющие недостатки прототипа, а именно, позволяющие достигнуть скорости осаждения слоя хрома 0,03 - 0,06 мм/ч. При этом достигнуто:
1 - уменьшение шероховатости поверхности покрытия за счет того, что на завершающей стадии происходит равномерное плазменное травление и растворение неровностей поверхности покрытия в паровоздушной оболочке при анодной поляризации изделия, так как используется сглаженное напряжение за счет крепления к источнику питания емкостного индукционного фильтра;
2 - улучшение внешнего вида изделия, благодаря предлагаемому способу воздействия плазмы, по которому происходит равномерное полирование и травление поверхности, а механические и электрохимические свойства улучшаются.
Заявленное техническое решение соответствует условию патентоспособности «новизна», предъявляемому к изобретениям, так как из исследованного заявителем уровня техники не выявлена совокупность признаков, приведенная в независимом пункте формулы изобретения.
Заявленное техническое решение соответствует условию патентоспособности «изобретательский уровень», предъявляемому к изобретениям, так как из исследованного заявителем уровня техники не выявлена совокупность приведенных в независимом пункте формулы изобретения признаков и совокупность полученных технических результатов.
Заявленное техническое решение соответствует условию патентоспособности «промышленная применимость», предъявляемому к изобретениям, так как заявленное техническое решение возможно реализовать в промышленности посредством применения известных из уровня техники материалов, оборудование и технологий.
Источники информации
1. Патент 2409707, кл. С25D 15/00, Электролит хромирования / Жирнов Александр Дмитриевич. - заявка №2009139784/02, 2009.10.28, заявл. 2009.10.28, опубл. 2011.01.20.
2. Патент 2125125, кл. С25D 3/04, Способ электрохимического хромирования / Малинин Владимир Федорович. - заявка № 97121625/02, 1997.12.24, заявл. 1997.12.24, опубл. 1999.01.20.
3. Патент 2125126, кл. С25D 3/04, Способ электрохимического хромирования в низкоконцентрированном электролите / Малинин Владимир Федорович. - заявка № 98102322/02, 1998.01.27, заявл. 1998.01.27, опубл. 1999.01.20.
4. Properties of nanocrystalline Cr coatings prepared by cathode plasma electrolytic deposition from trivalent chromium electrolyte Cheng Quan, Yedong He / Beijing Key Laboratory for Corrosion, Erosion and Surface Technology, University of Science and Technology Beijing, 100083 Beijing, China.
Claims (1)
- Способ плазменно-электрохимического формирования наноструктурированного хромового покрытия, заключающийся в том, что на первом этапе проводят гальваническое осаждение хрома с одновременным горением одиночных микроразрядов на поверхности гальванического покрытия, для чего катод, представляющий собой хромируемое изделие, помещают в электролитическую ванну с электролитом хромирования, находящемся в стационарном состоянии, далее в электролитическую ванну с раствором электролита параллельно катоду помещают анод и проводят обработку при плотности тока 100-200 А/дм2 и напряжении 60-80 В для образования на поверхности катода слоя хрома нужной толщины, при этом выдерживают одинаковую глубину погружения анода и хромируемого изделия катода в электролитическую ванну, на втором этапе проводят воздействие плазменным травлением, для чего меняют полярности анода и катода и хромируемое изделие становится анодом, в электрическую цепь включают емкостной индукционный фильтр, повышают напряжение до значений 350-400 В, в результате чего происходит горение газового разряда в паровоздушной оболочке, охватывающей всю поверхность хромированного изделия, при этом включенный в электрическую цепь емкостной индукционный фильтр обеспечивает регулируемую сглаженную форму напряжения в виде постоянного напряжения, не снижаемого до нуля, что дает возможность равномерного воздействия плазмы на хромированную поверхность изделия, причем выравнивание поверхности происходит путем плазменного травления неровностей, при этом плазменная оболочка и горение разряда обеспечивают формирование под воздействием плазмы наноструктурированного хромового покрытия с низкой шероховатостью.
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| RU2773545C1 true RU2773545C1 (ru) | 2022-06-06 |
Family
ID=
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| SU1785294A1 (ru) * | 1990-04-28 | 1996-01-27 | Липецкий политехнический институт | Электролит для плазменно-электролитного нанесения хромоникелевого покрытия |
| RU2125125C1 (ru) * | 1997-12-24 | 1999-01-20 | Малинин Владимир Федорович | Способ электролитического хромирования |
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| SU1785294A1 (ru) * | 1990-04-28 | 1996-01-27 | Липецкий политехнический институт | Электролит для плазменно-электролитного нанесения хромоникелевого покрытия |
| RU2125125C1 (ru) * | 1997-12-24 | 1999-01-20 | Малинин Владимир Федорович | Способ электролитического хромирования |
Non-Patent Citations (1)
| Title |
|---|
| Cheng Quan, Yedong He. Properties of nanocrystalline Cr coatings prepared by cathode plasma electrolytic deposition from trivalent chromium electrolyte. Surface & Coatings Technology 269 (2015), pp 319-323. * |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| Matykina et al. | Recent advances in energy efficient PEO processing of aluminium alloys | |
| US5616229A (en) | Process for coating metals | |
| US9677187B2 (en) | Non-metallic coating and method of its production | |
| Cai et al. | Electrochemical performance of microarc oxidation films formed on AZ91D magnesium alloy in silicate and phosphate electrolytes | |
| CN101187049A (zh) | 稀土镁合金微弧氧化绿色陶瓷膜制备方法 | |
| RU2124588C1 (ru) | Способ микроплазменного оксидирования вентильных металлов и их сплавов и устройство для его осуществления | |
| US20120181179A1 (en) | Method of electrochemical machining | |
| CN106637354A (zh) | 一种铍及铍铝合金表面微弧氧化膜层制备方法 | |
| Lv et al. | Effect of different electrolytes in micro-arc oxidation on corrosion and tribological performance of 7075 aluminum alloy | |
| Belozerov et al. | The influence of the conditions of microplasma processing (microarc oxidation in anode-cathode regime) of aluminum alloys on their phase composition | |
| Belozerov et al. | Effect of electrolysis regimes on the structure and properties of coatings on aluminum alloys formed by anode-cathode micro arc oxidation | |
| KR100695999B1 (ko) | 고주파펄스를 이용한 금속재의 아노다이징 공정 | |
| US6893551B2 (en) | Process for forming coatings on metallic bodies and an apparatus for carrying out the process | |
| RU2773545C1 (ru) | Способ плазменно-электрохимического формирования наноструктурированного хромового гладкого покрытия | |
| RU2771409C1 (ru) | Способ плазменно-электрохимического формирования наноструктурированного хромового покрытия и устройство для реализации способа | |
| RU2775013C1 (ru) | Способ плазменно-электрохимического формирования наноструктурированного хромового покрытия и устройство для реализации способа | |
| Xia et al. | Investigation of the scanning microarc oxidation process | |
| WO2017070780A1 (en) | Electrolytic process and apparatus for the surface treatment of non-ferrous metals | |
| Yerokhin et al. | Anodising of light alloys | |
| CN107345309B (zh) | 一种高硅铝合金等离子体电解氧化陶瓷涂层制备方法 | |
| RU2194804C2 (ru) | Способ получения защитных покрытий на поверхности металлов и сплавов | |
| CN100467676C (zh) | 等离子体电解氧化制备陶瓷氧化膜的方法及其制品 | |
| CN104032349B (zh) | 一种在铝表面制备高纯度刚玉涂层的方法 | |
| TWI835152B (zh) | 不銹鋼表面製備陶瓷膜的製作方法 | |
| Kumar et al. | Study of electro chemical machining etching effect on surface roughness and variation with chemical etching process |