ES2628504T3 - Suspensión líquida de partículas de óxido de cerio y su procedimiento de preparación - Google Patents

Suspensión líquida de partículas de óxido de cerio y su procedimiento de preparación Download PDF

Info

Publication number
ES2628504T3
ES2628504T3 ES07820926.9T ES07820926T ES2628504T3 ES 2628504 T3 ES2628504 T3 ES 2628504T3 ES 07820926 T ES07820926 T ES 07820926T ES 2628504 T3 ES2628504 T3 ES 2628504T3
Authority
ES
Spain
Prior art keywords
suspension
particles
maximum
cerium
solution
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
ES07820926.9T
Other languages
English (en)
Inventor
Guillaume Criniere
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Rhodia Operations SAS
Original Assignee
Rhodia Operations SAS
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Rhodia Operations SAS filed Critical Rhodia Operations SAS
Application granted granted Critical
Publication of ES2628504T3 publication Critical patent/ES2628504T3/es
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C01—INORGANIC CHEMISTRY
    • C01F—COMPOUNDS OF THE METALS BERYLLIUM, MAGNESIUM, ALUMINIUM, CALCIUM, STRONTIUM, BARIUM, RADIUM, THORIUM, OR OF THE RARE-EARTH METALS
    • C01F17/00—Compounds of rare earth metals
    • C01F17/20—Compounds containing only rare earth metals as the metal element
    • C01F17/206—Compounds containing only rare earth metals as the metal element oxide or hydroxide being the only anion
    • C01F17/224—Oxides or hydroxides of lanthanides
    • C01F17/235—Cerium oxides or hydroxides
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09K—MATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
    • C09K3/00—Materials not provided for elsewhere
    • C09K3/14—Anti-slip materials; Abrasives
    • C09K3/1454—Abrasive powders, suspensions and pastes for polishing
    • C09K3/1463—Aqueous liquid suspensions
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B82—NANOTECHNOLOGY
    • B82Y—SPECIFIC USES OR APPLICATIONS OF NANOSTRUCTURES; MEASUREMENT OR ANALYSIS OF NANOSTRUCTURES; MANUFACTURE OR TREATMENT OF NANOSTRUCTURES
    • B82Y30/00—Nanotechnology for materials or surface science, e.g. nanocomposites
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09G—POLISHING COMPOSITIONS; SKI WAXES
    • C09G1/00—Polishing compositions
    • C09G1/02—Polishing compositions containing abrasives or grinding agents
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09K—MATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
    • C09K3/00—Materials not provided for elsewhere
    • C09K3/14—Anti-slip materials; Abrasives
    • C09K3/1436—Composite particles, e.g. coated particles
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C01—INORGANIC CHEMISTRY
    • C01P—INDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
    • C01P2002/00—Crystal-structural characteristics
    • C01P2002/70—Crystal-structural characteristics defined by measured X-ray, neutron or electron diffraction data
    • C01P2002/72—Crystal-structural characteristics defined by measured X-ray, neutron or electron diffraction data by d-values or two theta-values, e.g. as X-ray diagram
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C01—INORGANIC CHEMISTRY
    • C01P—INDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
    • C01P2004/00—Particle morphology
    • C01P2004/01—Particle morphology depicted by an image
    • C01P2004/04—Particle morphology depicted by an image obtained by TEM, STEM, STM or AFM
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C01—INORGANIC CHEMISTRY
    • C01P—INDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
    • C01P2004/00—Particle morphology
    • C01P2004/50—Agglomerated particles
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C01—INORGANIC CHEMISTRY
    • C01P—INDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
    • C01P2004/00—Particle morphology
    • C01P2004/51—Particles with a specific particle size distribution
    • C01P2004/52—Particles with a specific particle size distribution highly monodisperse size distribution
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C01—INORGANIC CHEMISTRY
    • C01P—INDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
    • C01P2004/00—Particle morphology
    • C01P2004/60—Particles characterised by their size
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C01—INORGANIC CHEMISTRY
    • C01P—INDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
    • C01P2004/00—Particle morphology
    • C01P2004/60—Particles characterised by their size
    • C01P2004/62—Submicrometer sized, i.e. from 0.1-1 micrometer
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C01—INORGANIC CHEMISTRY
    • C01P—INDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
    • C01P2004/00—Particle morphology
    • C01P2004/60—Particles characterised by their size
    • C01P2004/64—Nanometer sized, i.e. from 1-100 nanometer
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C01—INORGANIC CHEMISTRY
    • C01P—INDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
    • C01P2006/00—Physical properties of inorganic compounds
    • C01P2006/12—Surface area

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Nanotechnology (AREA)
  • Composite Materials (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Geology (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • Compounds Of Alkaline-Earth Elements, Aluminum Or Rare-Earth Metals (AREA)
  • Catalysts (AREA)
  • Mechanical Treatment Of Semiconductor (AREA)

Abstract

Suspensión de partículas de óxido de cerio en una fase líquida, caracterizada por que estas partículas (partículas secundarias) presentan un tamaño medio de como máximo 200 nm, estando estas partículas secundarias constituidas de partículas primarias cuyos tamaños presentan un valor medio de como máximo 100 nm con una desviación estándar cuyo valor es de como máximo el 30% del valor de dicho tamaño medio.

Description

5
10
15
20
25
30
35
40
45
50
55
60
65
DESCRIPCION
Suspension ffquida de parffculas de oxido de cerio y su procedimiento de preparacion
La presente invencion se refiere a una suspension ffquida de parffculas de oxido de cerio, a un procedimiento de preparacion de esta y a su utilizacion en el pulido en particular.
El desarrollo de la industria de la electronica necesita la utilizacion cada vez mas importante de composiciones para el pulido de diversas piezas como los discos o los componentes dielectricos. Estas composiciones se presentan en forma de suspensiones y deben responder a un cierto numero de caractensticas. Por ejemplo, deben ofrecer un alto grado de eliminacion de material que traduce su capacidad abrasiva. Deben tambien presentar una defectuosidad lo mas baja posible, se entiende por defectuosidad en particular la cantidad de aranazos que presenta el sustrato una vez tratado por la composicion.
Por razones de estabilidad y de facilidad de uso, estas suspensiones deben estar constituidas de parffculas de dimension submicronica, es decir generalmente inferior a 300 nm. Ademas, la presencia de parffculas demasiado finas en estas suspensiones disminuye sus capacidades abrasivas. Por otro lado, unas parffculas demasiado gruesas pueden contribuir a un aumento de la defectuosidad. Por lo tanto, se necesitan suspensiones cuyas parffculas sean monodispersas. Ademas, se debe senalar que para obtener unos rendimientos optimos, esta monodispersabilidad debe aplicarse al mismo tiempo a las parffculas primarias y a las parffculas secundarias, es decir a los agregados constituidos por las parffculas primarias.
Se comprende por lo tanto que la realizacion de estas suspensiones es un problema complejo.
Los documentos EP 1201725 y EP 0947469 describen una composicion abrasiva a base de oxido de cerio, pero no describen la mejora de la monodispersabilidad de las parffculas primarias. El documento EP 0875547 describe una suspension de oxido de cerio, pero no menciona la obtencion de parffculas primarias de tamano conveniente y monodispersas. El documento US 5,466,428 no describe tampoco unas parffculas primarias monodispersas.
El objeto de la invencion es proporcionar unas suspensiones que respondan a las condiciones descritas anteriormente, es decir unas suspensiones cuyas parffculas sean monodispersas.
Con este objetivo, la suspension de la invencion es una suspension de parffculas de oxido de cerio en una fase lfquida, y esta caracterizada por que estas parffculas (parffculas secundarias) presentan un tamano medio de como maximo 200 nm, estando estas parffculas secundarias constituidas de parffculas primarias cuyos tamanos presentan un valor medio de como maximo 100 nm con una desviacion estandar cuyo valor es de como maximo el 30% del valor de dicho tamano medio.
Otras caractensticas, detalles y ventajas de la invencion apareceran aun mas completamente a partir de la lectura de la descripcion siguiente, de los diversos ejemplos concretos, pero no limitativos, destinados a ilustrar asf los dibujos anexos, en los que:
- la figura 1 es una fotograffa obtenida por microscopfa de transmision electronica de un producto segun la invencion;
- la figura 2 es una fotograffa obtenida por microscopfa de transmision electronica de otro producto segun la invencion;
- la figura 3 es una fotograffa obtenida por microscopfa de transmision electronica de un tercer producto segun la invencion.
En lo que sigue de la descripcion, la expresion “suspension de parffculas de oxido de cerio” designa un sistema constituido de finas parffculas solidas de dimension submicronica a base de este oxido, dispersas de manera estable en una fase ffquida, pudiendo dichas parffculas eventualmente, ademas, contener unas cantidades residuales de iones unidos o adsorbidos tales como, por ejemplo, unos nitratos o unos amonios.
Todavfa en lo que sigue de la descripcion, se entiende por superficie espedfica, la superficie espedfica B.E.T. determinada por adsorcion de nitrogeno conforme a la norma ASTM D 3663-78 establecida a partir del metodo BRUNAUER - EMMETT- TELLER descrita en el periodico "The Journal of the American Chemical Society, 60, 309 (1938)".
Las parffculas de la suspension son a base de oxido de cerio, que es generalmente un oxido cerico cristalizado.
Las parffculas que constituyen la suspension de la invencion y que presentan un tamano medio de como maximo 200 nm se denominan en lo que sigue de la descripcion “parffculas secundarias”. Estas parffculas son unos agregados de otras parffculas mas finas, agregadas, denominadas en lo sucesivo “parffculas primarias”.
5
10
15
20
25
30
35
40
45
50
55
60
Segun una caractenstica importante de la invencion, estas partmulas primarias son finas y monodispersas. Presentan en efecto un tamano medio de como maximo 100 nm con una desviacion estandar cuyo valor es de como maximo el 30% del valor del tamano medio de estas partmulas primarias.
El valor medio del tamano de las partmulas primarias se determina por la tecnica de difraccion de los rayos X (DRX). El valor medido en DRX corresponde al tamano del dominio coherente calculado a partir del ancho de las dos lmeas de difraccion mas intensas y utilizando el modelo de Sherrer. Este valor se puede tambien determinar mediante la medicion de la superficie BET.
La desviacion estandar mencionada en la presente invencion tiene el sentido habitual matematico, se trata de la rafz cuadrada de la variancia y se expresa por la formula:
imagen1
siendo n el numero de partmulas tenidas en cuenta en la medicion, siendo Xi el tamano de una partmula i
siendo X el valor medio del tamano de las particulas x>)
La medicion del tamano de las n diferentes particulas se realiza a partir de una imagen obtenida por microscopfa electronica de transmision (MET).
Esta desviacion estandar puede ser preferentemente de como maximo un 20%, mas particularmente de como maximo un 15% y aun mas particularmente de como maximo un 10% del valor del tamano medio de las particulas primarias.
Las particulas primarias pueden mas particularmente tener unos tamanos que presentan un valor medio de como maximo 80 nm, aun mas particularmente de como maximo 60 nm.
Estos tamanos de particulas primarias pueden, por otra parte, ser de al menos 10 nm, en particular de al menos 20 nm y mas particularmente de al menos 30 nm. Segun unos modos de reaizacion particulares, estos tamanos medios pueden asf estar comprendidos entre 10 nm y 100 nm, 20 nm y 80 nm, 20 nm y 30 nm y 30 nm y 60 nm.
Como se ha indicado anteriormente, estas particulas primarias forman unos agregados que constituyen asf las particulas secundarias. Estas particulas secundarias pueden tener mas particularmente un tamano medio de oomo maximo 150 nm, mas particularmente de como maximo 120 nm y aun mas particularmente de como maximo 100 nm.
Por otro lado, segun otra caractenstica ventajosa de la invencion, estas particulas secundarias son tambien monodispersas. Pueden presentar en efecto un mdice de dispersion de como maximo 0,5. Este mdice puede ser en particular de como maximo 0,4, mas particularmente de como maximo 0,3 y aun mas particularmente de como maximo 0,2.
Para el conjunto de la descripcion que se refiere a las particulas secundarias, el tamano medio y el mdice de dispersion son los valores obtenidos utilizando la tecnica de difraccion laser utilizando un granulometro laser (distribucion en masa).
Se entiende por mdice de dispersion, la relacion: cr/nn = (d90-d10)/2d50 en la que:
- dg0 es el tamano o el diametro de las partmulas para el cual el 90% de las particulas tienen un diametro inferiora
d90;
- d™ es el tamano o el diametro de las partmulas para el cual el 10% de las particulas tienen un diametro inferior a
d-ig;
- d50 es el tamano o el diametro medio de las partmulas.
5
10
15
20
25
30
35
40
45
50
55
60
65
La fase ftquida de las suspensiones segun la invencion puede ser de diferente naturaleza. Puede ser en primer lugar agua. Puede tambien ser una mezcla agua/disolvente miscible en agua. Se puede citar como ejemplo de disolvente de este tipo, los alcoholes como el metanol o el etanol, los glicoles como el etilenglicol, los derivados acetatos de glicoles como el monoacetato de etilenglicol o los polioles. La fase ftquida puede finalmente estar constituida por un disolvente organico. Como ejemplo de disolvente organico, se pueden citar los hidrocarburos alifaticos como el hexano, el heptano, el octano, el nonano, los hidrocarburos cicloalifaticos inertes tales como el ciclohexano, el ciclopentano, el cicloheptano, los hidrocarburos aromaticos tales como el benceno, el tolueno, el etilbenceno, los xilenos, los naftenos ftquidos. Tambien son convenientes tambien las fracciones de petroleo de tipo Isopar o Solvesso (marcas depositadas por la comparfta EXXON), en particular Solvesso 100 que contiene esencialmente una mezcla de metiletil- y trimetil-benceno, el Solvesso 150 que contiene una mezcla de alcoilbencenos en particular de dimetilbenceno y de tetrametilbenceno y el Isopar que contiene esencialmente unos hidrocarburos iso- y ciclo- parafmicos de C-11 y C-12. Se pueden citar tambien, como otros cortes petroftferos, los de tipo Petrolink® de la comparMa Petrolink o de tipo Isane® de la comparMa Total.
Se pueden utilizar tambien como disolvente organico unos hidrocarburos clorados tales como el cloro- o el dicloro- benceno, el clorotolueno. Tambien se pueden considerar los eteres asf como las cetonas alifaticas y cicloalifaticas, como por ejemplo el eter de diisopropilo, el eter de dibutilo, la metiletilcetona, la metilisobutilcetona, la diisobutilcetona, el oxido de mesitilo.
Se pueden utilizar unos esteres, como los procedentes de la reaccion de acidos con unos alcoholes de C1 a C8 y en particular los palmitatos de alcoholes secundarios tal como el isopropanol. A tftulo de ejemplo, se puede mencionar el acetato de butilo.
Por supuesto, la fase ftquida puede ser a base de una mezcla de dos o varios hidrocarburos o compuestos del tipo descrito anteriormente.
Las suspensiones de la invencion presentan un contenido global en oxido, es decir en oxido de cerio, que puede variar en amplios ftmites y que puede ser por ejemplo de como maximo un 40%, en particular de como maximo del 25% al 30% en masa de oxido.
Asimismo, el pH de estas suspensiones puede estar comprendido en un amplio intervalo. Asf, el pH de las suspensiones procedentes de los procedimientos de preparacion que se describiran mas adelante esta generalmente comprendido entre 2 y 6, mas particularmente entre 2 y 5, permaneciendo las suspensiones estables, en el sentido dado a continuacion, en este intervalo de pH. Sin embargo, la estabilidad puede ser mejorada o bien en el interior de estos intervalos de pH, o bien mas alla del valor de 5 o de 6 de manera conocida, por adicion a la suspension de compuestos como unos poftmeros o moleculas anionicos o zwiterionicos. Como compuestos de este tipo, se pueden citar los obtenidos por la polimerizacion de al menos un monomero seleccionado entre las entidades siguientes: un acido o un anhftdrido monocarboxftico o policarboxflico, lineal o ramificado, alifatico, cfclico o aromatico, de insaturacion etilenica. A tftulo de ejemplo, se puede citar el acido poliacnlico o el acido cftrico.
Se senala finalmente que las suspensiones de la invencion son estables. Se entiende asf que no se observa sobre estas suspensiones formacion alguna de una torta de decantacion antes de varios dfas, por ejemplo al menos 8 dfas. Ademas, la torta de decantacion, si se forma, puede ser resuspendida por simple agitacion.
Se va a describir ahora el procedimiento de preparacion de las suspensiones de la invencion. La suspension de la invencion puede ser preparada mediante un procedimiento que comprende las etapas siguientes:
- (a) se prepara una solucion de una sal de cerio III que comprende ademas cerio IV;
- (b) se pone en contacto bajo atmosfera inerte esta solucion con una base mediante la cual se obtiene un precipitado;
- (c) se somete el medio obtenido en la etapa anterior a un tratamiento termico bajo atmosfera inerte, llevandose a cabo al menos una de las etapas (a), (b) o (c) en presencia de iones nitratos;
- (d) se efectua sucesivamente, pero en un orden cualquiera, una acidificacion y un lavado del medio asf obtenido, por lo cual se obtiene la suspension.
La primera etapa (a) del procedimiento anterior consiste por lo tanto en preparar una solucion de partida que es una solucion de una sal de cerio III. Como sales de cerio III, se puede utilizar mas particularmente el nitrato, el cloruro, el sulfato o el carbonato de cerio III asf como mezclas de estas sales como mezclas nitrato/cloruro. De manera conocida esta solucion inicial debe presentar la acidez conveniente para que el cerio este totalmente presente en solucion.
La solucion de partida comprende ademas cerio IV. El cerio IV se aporta por una sal. Puede ser, por ejemplo, el
5
10
15
20
25
30
35
40
45
50
55
60
65
nitrato de cerio IV. Generalmente, la cantidad de cerio IV es tal que la relacion molar (CeIV/CeIII) en la solucion de partida este comprendida entre 1/5.000 y 1/50, mas particularmente entre 1/2.000 y 1/50.
La solucion inicial preparada en la etapa (a) puede ser previamente desgasificada por burbujeo de gas inerte. Por “gas inerte” o “atmosfera inerte” se entiende, para la presente descripcion, una atmosfera o un gas libre de oxfgeno, pudiendo el gas ser, por ejemplo, el nitrogeno o el argon.
La segunda etapa (b) del procedimiento consiste en hacer reaccionar la solucion de partida con una base.
Como base, se pueden utilizar en particular los productos de tipo hidroxido. Se pueden citar los hidroxidos de alcalinos o de alcalinoterreos y el amoniaco. Se pueden utilizar tambien las aminas secundarias, terciarias o cuaternarias. Sin embargo, las aminas y el amoniaco pueden ser preferidos, en la medida en la que disminuyen los riesgos de contaminacion por los cationes alcalinos o alcalinoterreos. La base puede tambien ser previamente desgasificada por burbujeo de un gas inerte.
Para llevar a cabo la reaccion de la segunda etapa del procedimiento, la puesta en contacto puede realizarse en un orden cualquiera de introduccion de los reactivos. Sin embargo, es preferible introducir la solucion inicial en un medio que contenga la base. Esta segunda etapa debe ser llevada a cabo bajo atmosfera inerte, o bien en un reactor cerrado, o bien en un reactor semi-cerrado con barrido por el gas inerte. La puesta en contacto se lleva a cabo generalmente en un reactor agitado. Finalmente, esta segunda etapa se efectua generalmente a temperatura ambiente (20°C-25°C) o a una temperatura de como maximo 50°C.
La tercera etapa (c) del procedimiento es un tratamiento termico del medio de reaccion obtenido al final de la etapa anterior. Este tratamiento consiste en calentar el medio y en mantenerlo a una temperatura que es generalmente de como maximo 95°C y mas particularmente comprendido entre 60°C y 95°C.
La duracion de este tratamiento puede estar comprendida entre algunos minutos y algunas horas. Este tratamiento se efectua tambien bajo atmosfera inerte, aplicandose tambien aqu lo que se ha descrito a proposito de esta atmosfera para la segunda etapa. Asimismo, el tratamiento se lleva a cabo en un reactor agitado.
Segun una caractenstica del procedimiento de la invencion, al menos una de las etapas (a), (b) o (c) debe ser llevada a cabo en presencia de iones nitratos. Generalmente, los iones nitratos se aportan por adicion de acido mtrico, mas particularmente en la etapa (a), durante la preparacion de la solucion de cerio III. La cantidad de iones nitratos, expresada con la relacion molar NO3-/Ce3+ esta generalmente comprendida entre 1/3 y 5.
La ultima etapa del procedimiento, etapa (d) comprende en realidad dos operaciones sucesivas que pueden efectuarse en un orden cualquiera. Estas operaciones son, por un lado, una acidificacion y, por otro lado un lavado.
Se describira a continuacion mas precisamente estas operaciones en el caso de una cadena de acidificacion y despues de lavado. La acidificacion tiene lugar generalmente despues del enfriamiento del medio obtenido al final de la etapa (c) por adicion de un acido. Se puede utilizar cualquier acido mineral u organico. Se utiliza mas particularmente el acido mtrico. La cantidad de acido anadida es tal que el pH del medio, despues de la acidificacion, este comprendida entre 2 y 5.
Esta operacion puede ser llevada a cabo en aire, no es necesario trabajar mas bajo atmosfera inerte en esta etapa del procedimiento. La acidificacion esta seguida de un lavado que tiene como objetivo eliminar de la suspension las especies solubles, esencialmente unas sales.
El lavado puede llevarse a cabo de diferentes maneras con o sin separacion solido/lfquido. Se puede asf efectuar separando las partfculas solidas de la fase lfquida, por ejemplo por filtracion frontal, decantacion o centrifugacion. El solido obtenido se resuspende despues en una fase acuosa. Se puede asimismo proceder por filtracion tangencial. Este lavado puede ser eventualmente renovado, si es necesario, por ejemplo hasta la obtencion de una conductividad dada de la suspension, midiendo la conductividad el porcentaje de impurezas presentes en esta suspension.
Como se ha indicado anteriormente, el orden de las operaciones puede ser invertido con respecto a lo que se acaba de describir. Asf, al final de la etapa (c) y tambien generalmente despues del enfriamiento del medio obtenido, se puede entonces proceder a un lavado de la manera descrita anteriormente. Al final del lavado, se efectua despues la acidificacion del medio obtenido.
Al final de las etapas que se acaban de describir, es posible tratar la suspension obtenida en un aparato de desaglomeracion de tipo conocido, por ejemplo, un aparato de tratamiento por ultrasonidos, de tratamiento por chorro de doble impacto o un aparato de trituracion humeda.
Se obtiene al final de la etapa (d) una suspension segun la invencion.
5
10
15
20
25
30
35
40
45
50
55
60
65
En el caso de una suspension parcial o totalmente en medio disolvente organico diferente del agua, esta suspension puede prepararse de manera conocida en sf a partir de una suspension acuosa tal como se obtiene mediante el procedimiento que se acaba de describir y por puesta en contacto con el disolvente organico.
En esta etapa, puede ser ventajoso anadir en la fase organica un agente promotor cuya funcion es acelerar la transferencia de las partfculas de la fase acuosa a la fase organica y mejorar la estabilidad de las suspensiones organicas obtenidas.
A tftulo de agente promotor, se pueden utilizar los compuestos con funcion alcohol y muy particularmente unos alcoholes alifaticos lineales o ramificados que tienen de 6 a 12 atomos de carbono. Como ejemplos espedficos, se pueden citar el etil-2-hexanol, el decanol, el dodecanol o sus mezclas.
La puesta en contacto puede llevarse a cabo a temperatura ambiente, por ejemplo aproximadamente 20°C, pero tambien a una temperatura mas elevada, por ejemplo en un intervalo que va de 60°C a 150°C.
La separacion entre las fases acuosa y organica se lleva a cabo por ejemplo por destilacion, por decantacion o centrifugacion en funcion de la naturaleza del disolvente organico.
A partir de la suspension segun la invencion, es posible obtener un polvo redispersable de partfculas de oxido de cerio por secado y despues calcinacion a una temperatura que puede ser, por ejemplo, de como maximo 300°C y en particular comprendida entre 100°C y 200°C, sobre una duracion que puede variar entre algunos minutos y algunas horas. Este polvo tiene como caractenstica el hecho de que despues de la introduccion en una fase lfquida y redispersion en una fase lfquida conduce a una suspension segun la invencion, tal como se ha descrito anteriormente. La redispersion se realiza por simple agitacion del polvo en la fase lfquida.
El polvo se obtiene por lo tanto a partir de una suspension segun la invencion, por secado y despues calcinacion a una temperatura que puede ser, por ejemplo, de como maximo 300°C, y en particular comprendida entre 100°C y 200°C, en una duracion que puede variar entre algunos minutos y algunas horas.
La invencion se refiere tambien a una suspension para el pulido que comprende o bien una suspension tal como se ha descrito anteriormente, o bien una suspension tal como se obtuvo mediante los procedimientos descritos anteriormente. Esta suspension se puede utilizar para el pulido de vidrio, por ejemplo en la industria de la vidriena, de la cristalena, del vidrio plano, de las pantallas de television, de gafas o tambien para el pulido de materias ceramicas u otros materiales de tipo vftreo. Esta suspension se puede utilizar tambien muy particularmente para el pulido de tipo CMP en la industria de la electronica y por lo tanto para el pulido de los sustratos metalicos que entran en la constitucion de los microprocesadores pero tambien para el pulido de las capas aislantes de estos mismos procesadores, estando la suspension de la invencion particularmente adaptada para el pulido de estas. Estas capas son generalmente de sflice (sflice dopada, sflice porosa).
Generalmente, tales suspensiones comprenden, ademas del compuesto con propiedad abrasiva como las partfculas de oxido de cerio, unos aditivos como un dispersante o un oxidante.
Como otras aplicaciones de las suspensiones de la invencion, puede citarse la catalisis, en particular para postcombustion automovil, en este caso, las suspensiones son utilizadas en la preparacion de catalizadores. Las suspensiones pueden tambien ser utilizadas por sus propiedades anti-UV, por ejemplo en la preparacion de pelfculas de polfmeros (del tipo acnlico o policarbonato por ejemplo), de pinturas, de papeles o de composiciones cosmeticas, en particular en la preparacion de cremas anti-UV.
Se daran ahora unos ejemplos.
Ejemplo 1 comparativo
Se prepara una solucion de nitrato de cerio diluida mediante adicion de 380,8 g de una solucion de nitrato de cerio trivalente 2,88 M, de 163,0 mg de una solucion de H2O2 110V y de 877,9 g de agua permutada. Esta solucion, de relacion molar H2O2/Ce de 1/450, se carga en un deposito semi-cerrado, despues desgasificado bajo agitacion vigorosa y bajo burbujeo de nitrogeno durante 2 horas.
Se prepara una solucion de amoniaco diluida mediante adicion de 839,5 g de agua permutada y de una solucion de 233,2 g de amoniaco al 28%. Esta solucion se carga en un reactor de doble camisa de 2l semi-cerrado, despues se pone bajo agitacion (agitador de cuatro palas inclinadas a 300 rpm), y bajo burbujeo de nitrogeno durante 2 horas.
La solucion de nitrato de cerio diluida se anade despues a temperatura ambiente en la solucion de amoniaco diluida en 30 minutos, bajo la misma agitacion y bajo barrido de nitrogeno.
La mezcla de reaccion se aumenta despues de temperatura a 80°C en % de hora aproximadamente, despues se mantiene a esta temperatura durante 4h todavfa bajo la misma agitacion y bajo barrido de nitrogeno.
5
10
15
20
25
30
35
40
45
50
55
60
65
Al final de este tratamiento termico, la mezcla de reaccion se deja enfriar y despues se acidifica a pH de 2 por adicion de acido mtrico al 68%. El barrido de nitrogeno se detiene y la suspension finalmente se lava por centrifugacion, eliminacion de las aguas de centrifugacion y resuspension de la torta en el agua permutada. Despues, se efectuan varios ciclos de lavado por centrifugacion hasta la obtencion de una conductividad inferior a 0,5 mS/cm.
La suspension finalmente obtenida se ajusta al 10% en peso de CeO2.
La suspension se observa en MET. Se constata bien que las partmulas primarias son muy monodispersas y de tamano centrado alrededor de 35 nm. En una foto de aproximadamente 150 partmulas (figura 1) representativas de la suspension, se contabilizan y se miden cada una de las partmulas, por lo que se obtiene un tamano medio de 33 nm con una desviacion estandar de 3,9 nm, es decir un 12% del valor del tamano medio.
Una parte de la suspension se seca en horno a 200°C, lo que permite la obtencion de un polvo de CeO2 para el analisis DRX. El difractograma X de este polvo tiene la firma de CeO2 cristalizado (ficha ASTm 34-394). El tamano medio de la zona de coherencia calculada a partir del ancho a media altura de los picos de difraccion situados a 20 = 28,6°, 47,5° y 56,4° por aplicacion del modelo de Scherrer da 40 nm. La superficie espedfica BET determinada por adsorcion de nitrogeno es de 23,5 m2/g, lo que da un tamano medio de las partmulas primarias de 35 nm.
El tamano de las partmulas secundarias se mide a partir de un granulometro laser de tipo Horiba LA910 considerando un valor del mdice optico de CeO2 en agua de 1,7. El tamano mediano d50 es de 102 nm. El mdice de dispersion a/m calculado a partir de los valores d-10 d50 y dg0, respectivamente de 81, 102 y 128 nm es de 0,23.
Ejemplo 2
Una solucion de nitrato de cerio diluida se prepara por adicion de 6,4 kg de una solucion de nitrato de cerio trivalente 2,88 M (d=1,715), de 1,0 kg de una solucion de HNO3 al 68%, del 4,8 kg de agua permutada y de 8,87 g de nitrato de cerio tetravalente 1,39 M (d=1,440). Esta solucion, de relacion molar Ce'4+/Cet0tal de 1/1250, se carga en un deposito semi-cerrado y despues se desgasifica bajo vigorosa agitacion y burbujeo de nitrogeno durante 2 horas.
Se prepara una solucion de amoniaco diluida por adicion de 22,6 kg de agua permutada y de una solucion de 4,6 kg de amoniaco al 28%. Esta solucion se carga en un reactor de doble envoltura de 40 l semi-cerrado, despues se pone bajo agitacion (agitador de cuatro palas inclinadas a 400 rpm) y bajo burbujeo de nitrogeno durante 2 horas.
La solucion de nitrato de cerio diluida se anade despues a temperatura ambiente en la solucion de amoniaco diluida en 30 minutos, bajo la misma agitacion y bajo barrido de nitrogeno.
La mezcla de reaccion se aumenta despues de temperatura a 83°C en % de hora aproximadamente, despues se mantiene a esta temperatura durante 4h todavfa bajo la misma agitacion y bajo barrido de nitrogeno.
Al final de este tratamiento termico, la mezcla de reaccion se deja enfriar y despues se acidifica a pH de 2 por adicion de acido mtrico al 68%. El barrido de nitrogeno se detiene y la suspension finalmente se lava por centrifugacion, eliminacion de las aguas de centrifugacion y resuspension de la torta en el agua permutada. Despues, se efectuan varios ciclos de lavado por centrifugacion hasta la obtencion de una suspension finalmente ajustada al 10% en peso en CeO2 que tiene un pH de 3,2 y una conductividad ionica de 0,38 mS/cm.
La suspension se observa en MET. Se constata que las partmulas primarias son muy monodispersas y de tamano centrado alrededor de 60 nm. En una fotograffa de varios centenares de partmulas (figura 2) representativas de la suspension, se calcula y se miden cada una de las partmulas, por lo que se obtiene un tamano medio de 65 nm con una desviacion estandar de 5,8 nm es decir un 9% del valor del tamano medio.
Una parte de la suspension se seca en estufa a 200°C, lo que permite la obtencion de un polvo de CeO2 para el analisis DRX. El difractograma X de este polvo tiene la firma de CeO2 cristalizado (ficha ASTm 34-394). El tamano medio de la zona de coherencia calculada a partir del ancho a media altura de los picos de difraccion situados a 20 = 28,6°, 47,5° y 56,4° por aplicacion del modelo de Scherrer da 70 nm. La superficie espedfica BET determinada por adsorcion de nitrogeno es de 13,0 m2/g, lo que da un tamano medio de las partmulas primarias de 64 nm.
El tamano de las partmulas secundarias se mide a partir de un granulometro laser de tipo Horiba LA910 considerando un valor del mdice optico de CeO2 en agua de 1,7. El tamano mediano d50 es de 112 nm. El mdice de dispersion a/m calculado a partir de los valores d-10, d50 y d90, respectivamente de 84, 112 y 157 nm es de 0,32.
Ejemplo 3
Una solucion de oxido de cerio se prepara segun el mismo procedimiento que en el ejemplo 2, pero con una relacion molar Ce4+/Cetotal en la solucion de nitrato de cerio diluida de 1/1000 en lugar de 1/1250.
5
10
15
20
25
30
35
40
45
50
55
60
65
La suspension se caracteriza por una concentracion del 10% en peso de CeO2 que tiene un pH de 3,5 y una conductividad ionica de 0,18 mS/cm. El tamano medio de la zona de coherencia calculada a partir del ancho a media altura de los picos de difraccion situados a 20 = 28,6°, 47,5° y 56,4° por aplicacion del modelo de Scherrer da 54 nm. La superficie espedfica BET determinada por adsorcion de nitrogeno es de 19,0 m2/g, lo que da un tamano medio de las partmulas primarias de 44 nm. El tamano de las partmulas secundarias se mide a partir de un granulometro laser de tipo Horiba LA910 considerando un valor del mdice optico de CeO2 en agua de 1,7. El tamano mediano d50 es de 110 nm. El mdice de dispersion a/m calculado a partir de los valores d-10 d50 y dg0, respectivamente de 85, 110 y 147 nm es de 0,28.
La suspension se seca durante 1 noche a 100°C despues durante 4 horas a 200°C, lo que permite la obtencion de un polvo.
Este polvo se redispersa en el agua permutada. La suspension asf obtenida se caracteriza por una concentracion del 10% en peso de CeO2, un pH de 3,5 y una conductividad ionica de 0,21 mS/cm. El tamano de las partmulas secundarias se mide a partir de un granulometro laser de tipo Horiba LA910 considerando un valor del mdice optico de CeO2 en agua de 1,7. El tamano mediano d50 es de 93 nm. El mdice de dispersion a/m calculado a partir de los valores d™ d50 y dg0, respectivamente de 76, 93 y 116 nm es de 0,21.
Ejemplo 4
Se prepara una solucion de nitrato de cerio diluida mediante la adicion de 13,84 kg de una solucion de nitrato de cerio trivalente 2,88 M (d=1,715), de 2,45 kg de una solucion de HNO3 al 60%, de 16,4 kg de nitrato de cerio trivalente 1,35 M (d=1,43). Esta solucion, de relacion molar Ce4+/Cet0tal de 1/1500, se carga en un deposito semi- cerrado y despues se desgasifica bajo agitacion vigorosa y burbujeo de nitrogeno.
Se prepara una solucion de amoniaco diluida por adicion de 79,82 kg de agua permutada y de una solucion de 9,25 kg de amoniaco al 25,7%. Esta solucion se carga en un reactor de doble envoltura de 100 l semi-cerrado, despues se pone bajo agitacion (agitador de cuatro palas inclinadas a 130 rpm) y bajo burbujeo de nitrogeno.
La solucion de nitrato de cerio se anade despues a temperatura ambiente en la solucion de amoniaco diluida en 30 minutos, bajo la misma agitacion y bajo barrido de nitrogeno.
La mezcla de reaccion se aumenta despues de temperatura a 80°C en 1 hora aproximadamente, despues se mantiene a esta temperatura durante 4h todavfa bajo la misma agitacion y bajo barrido de nitrogeno.
Al final de este tratamiento termico, la mezcla de reaccion se deja enfriar y despues se acidifica a pH de 2 por adicion de acido mtrico al 68%. El barrido de nitrogeno se detiene y la suspension finalmente se lava por centrifugacion, eliminacion de las aguas de centrifugacion y resuspension de la torta en el agua permutada. Despues, se efectuan varios ciclos de lavado por centrifugacion hasta la obtencion de 3,0 kg de una suspension ajustada al 10% en peso en CeO2 que tiene un pH de 4,8 y una conductividad ionica de 0,1 mS/cm. Una parte de la suspension (antes de la adicion de acido poliacnlico (PAA)) se seca en estufa a 200°C, lo que permite la obtencion de un polvo de CeO2. La superficie espedfica BET determinada por adsorcion de nitrogeno es de 13,8 m2/g, lo que da un tamano medio de las partmulas primarias de 60 nm.
Esta suspension se anade en 15 minutos, bajo agitacion vigorosa en 3,0 kg de una solucion de PAA de masa molar Mw=1800 g/mol, previamente preparada por dilucion en agua permutada de 6 g de polvo de PAA. Despues de 15 minutos de agitacion suplementaria, la mezcla de reaccion se centrifuga y el sobrenadante se elimina. La torta asf obtenida se resuspende en el agua permutada y se aumenta de pH por adicion de una solucion de amoniaco al 28%, lo que conduce a una suspension de CeO2 al 10% en peso en CeO2 que tiene un pH de 8,0.
La suspension se observa en MET. Se constata que las partmulas primarias son muy monodispersas y de tamano centrado alrededor de 60 nm. En una fotograffa de aproximadamente 150 partmulas (figura 3) representativas de la suspension, se calcula y se miden cada una de las partmulas, por lo que se obtiene un tamano medio de 66 nm con una desviacion estandar de 9,2 nm, lo que representa el 14% del valor del tamano medio.
El tamano de las partmulas secundarias se mide a partir de un granulometro laser de tipo Horiba LA910 considerando un valor del mdice optico de CeO2 en agua de 1,7. El tamano mediano d50 es de 97 nm. El mdice de dispersion a/m calculado a partir de los valores d™, d50 y d90, respectivamente de 80, 97 y 115 nm es de 0,18.
Ejemplo 5 comparativo
Una solucion de nitrato de cerio se prepara por adicion de 830,9 g de una solucion de nitrato de cerio trivalente 2,88 M (d=1,715), y de 129,5 g de una solucion de HNO3 68%. Esta solucion no contiene por lo tanto ni H2O2, ni Ce+4. Se carga en un deposito semi-cerrado y despues se desgasifica bajo agitacion vigorosa y burbujeo de nitrogeno.
Se prepara una solucion de amoniaco diluida por adicion de 4950,2 g de agua permutada y de 423,9 g de una solucion de amoniaco al 28%. Esta solucion se carga en un reactor de doble envoltura de 6 l semi-cerrado, despues se desgasifica bajo agitacion vigorosa y bajo burbujeo de nitrogeno.
5 La solucion de nitrato de cerio se anade despues a temperatura ambiente en la solucion de amoniaco diluida en 30 minutos, bajo agitacion y bajo barrido de nitrogeno.
La mezcla de reaccion se aumenta despues de temperatura a 80°C en % de horas aproximadamente, despues se mantiene a esta temperatura durante 4h todav^a bajo barrido de nitrogeno.
10
Al final de este tratamiento termico, la mezcla de reaccion se deja enfriar y despues se acidifica a pH de 2 por adicion de acido mtrico al 68%. El barrido de nitrogeno se detiene. Se observa que la solucion obtenida es transparente, lo que muestra que la smtesis no ha empezado y no se ha obtenido la suspension segun la invencion.
15

Claims (15)

  1. 5
    10
    15
    20
    25
    30
    35
    40
    45
    50
    55
    60
    REIVINDICACIONES
    1. Suspension de partmulas de oxido de cerio en una fase Ifquida, caracterizada por que estas partmulas (partmulas secundarias) presentan un tamano medio de como maximo 200 nm, estando estas partmulas secundarias constituidas de partmulas primarias cuyos tamanos presentan un valor medio de como maximo 100 nm con una desviacion estandar cuyo valor es de como maximo el 30% del valor de dicho tamano medio.
  2. 2. Suspension segun la reivindicacion 1, caracterizada por que las partmulas primarias tienen unos tamanos que presentan una desviacion estandar de como maximo un 20%, mas particularmente de como maximo un 15% del valor del tamano medio antes citado.
  3. 3. Suspension segun la reivindicacion 2, caracterizada por que las partmulas primarias tienen unos tamanos que presentan una desviacion estandar de como maximo un 10% del valor del tamano medio antes citado.
  4. 4. Suspension segun una de las reivindicaciones anteriores, caracterizada por que las partmulas primarias tienen unos tamanos que presentan un valor medio de como maximo 80 nm, mas particularmente de como maximo 60 nm.
  5. 5. Suspension segun la reivindicacion 4, caracterizada por que las partmulas primarias tienen un tamano que presenta un valor medio de al menos 30 nm.
  6. 6. Suspension segun una de las reivindicaciones anteriores, caracterizada por que las partmulas secundarias presentan un mdice de dispersion de como maximo 0,5.
  7. 7. Suspension segun la reivindicacion 6, caracterizada por que las partmulas secundarias presentan un mdice de dispersion de como maximo 0,4, mas particularmente de como maximo 0,3.
  8. 8. Suspension segun la reivindicacion 7, caracterizada por que las partmulas secundarias presentan un mdice de dispersion de como maximo 0,2.
  9. 9. Suspension segun una de las reivindicaciones anteriores, caracterizada por que las partmulas secundarias tienen un tamano medio de como maximo 150 nm, mas particularmente de como maximo 100 nm.
  10. 10. Suspension segun una de las reivindicaciones anteriores, caracterizada por que las partmulas primarias presentan un tamano medio de al menos 10 nm, mas particularmente de al menos 20 nm.
  11. 11. Procedimiento de preparacion de una suspension segun una de las reivindicaciones 1 a 9, caracterizado por que comprende las etapas siguientes:
    - (a) se prepara una solucion de una sal de cerio III que comprende ademas cerio IV;
    - (b) se pone en contacto, bajo atmosfera inerte, esta solucion con una base, por lo que se obtiene un precipitado;
    - (c) se somete el medio obtenido en la etapa anterior a un tratamiento termico bajo atmosfera inerte, estando al menos una de las etapas (a), (b) o (c) llevada a cabo en presencia de iones nitratos;
    - (d) se efectua sucesivamente, pero en cualquier orden, una acidificacion y un lavado del medio asf obtenido, por lo que se obtiene la suspension.
  12. 12. Procedimiento segun la reivindicacion 11, caracterizado por que la solucion de una sal de cerio III de la etapa (a) contiene cerio IV en una proporcion molar cerio IV/cerio III comprendida entre 1/5000 y 1/50, mas particularmente entre 1/2000 y 1/50.
  13. 13. Procedimiento segun la reivindicacion 11 o 12, caracterizado por que el contenido en iones nitratos durante la realizacion, una al menos de las etapas (a), (b) o (c) expresada por la relacion molar NO3-/Ce3+ esta comprendida entre 1/3 y 5.
  14. 14. Procedimiento segun una de las reivindicaciones 11 a 13, caracterizado por que se efectua el tratamiento termico a una temperatura de como maximo 95°C.
  15. 15. Suspension para el pulido, caracterizada por que comprende una suspension segun una de las reivindicaciones 1 a 10, o una suspension tal como se obtiene mediante el procedimiento segun una de las reivindicaciones 11 a 14.
ES07820926.9T 2006-10-09 2007-10-04 Suspensión líquida de partículas de óxido de cerio y su procedimiento de preparación Active ES2628504T3 (es)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
FR0608838A FR2906800B1 (fr) 2006-10-09 2006-10-09 Suspension liquide et poudre de particules d'oxyde de cerium, procedes de preparation de celles-ci et utilisation dans le polissage
FR0608838 2006-10-09
PCT/EP2007/060549 WO2008043703A2 (fr) 2006-10-09 2007-10-04 Suspension liquide et poudre de particules d'oxyde de cerium, procedes de preparation de celles-ci et utilisation dans le polissage

Publications (1)

Publication Number Publication Date
ES2628504T3 true ES2628504T3 (es) 2017-08-03

Family

ID=38158014

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
ES07820926.9T Active ES2628504T3 (es) 2006-10-09 2007-10-04 Suspensión líquida de partículas de óxido de cerio y su procedimiento de preparación

Country Status (9)

Country Link
US (1) US8317888B2 (es)
EP (1) EP2081871B1 (es)
JP (1) JP5586229B2 (es)
KR (4) KR20120030575A (es)
CN (2) CN102627310B (es)
ES (1) ES2628504T3 (es)
FR (1) FR2906800B1 (es)
TW (1) TWI367863B (es)
WO (1) WO2008043703A2 (es)

Families Citing this family (38)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2009077412A2 (en) * 2007-12-14 2009-06-25 Akzo Nobel N.V. Aqueous slurry comprising inorganic oxygen-containing particulates
CN101977873A (zh) 2008-02-12 2011-02-16 圣戈本陶瓷及塑料股份有限公司 二氧化铈及其形成方法
FR2935145B1 (fr) * 2008-08-22 2010-09-03 Rhodia Operations Suspension liquide et poudre de particules d'oxyde de cerium, procedes de preparation de celles-ci et utlisation dans le polissage
JP5499556B2 (ja) * 2008-11-11 2014-05-21 日立化成株式会社 スラリ及び研磨液セット並びにこれらから得られるｃｍｐ研磨液を用いた基板の研磨方法及び基板
JP5317118B2 (ja) * 2009-07-29 2013-10-16 花王株式会社 ポリフェノールの定量法
KR101075966B1 (ko) * 2010-03-09 2011-10-21 주식회사 엘지화학 결정성 산화세륨 및 이의 제조 방법
KR20130136593A (ko) 2010-03-12 2013-12-12 히타치가세이가부시끼가이샤 슬러리, 연마액 세트, 연마액 및 이것들을 이용한 기판의 연마 방법
CN103497732B (zh) 2010-11-22 2016-08-10 日立化成株式会社 悬浮液、研磨液套剂、研磨液、基板的研磨方法及基板
KR101886892B1 (ko) 2010-11-22 2018-08-08 히타치가세이가부시끼가이샤 슬러리, 연마액 세트, 연마액, 기판의 연마 방법 및 기판
SG10201606827RA (en) 2012-02-21 2016-10-28 Hitachi Chemical Co Ltd Polishing agent, polishing agent set, and substrate polishing method
KR102004570B1 (ko) 2012-02-21 2019-07-26 히타치가세이가부시끼가이샤 연마제, 연마제 세트 및 기체의 연마 방법
KR102034331B1 (ko) 2012-05-22 2019-10-18 히타치가세이가부시끼가이샤 슬러리, 연마액 세트, 연마액, 기체의 연마 방법 및 기체
SG11201407031VA (en) * 2012-05-22 2014-12-30 Hitachi Chemical Co Ltd Slurry, polishing-solution set, polishing solution, substrate polishing method, and substrate
SG11201407087XA (en) 2012-05-22 2014-12-30 Hitachi Chemical Co Ltd Slurry, polishing-solution set, polishing solution, substrate polishing method, and substrate
JP5943074B2 (ja) * 2012-05-22 2016-06-29 日立化成株式会社 スラリー、研磨液セット、研磨液及び基体の研磨方法
WO2015091495A1 (en) 2013-12-16 2015-06-25 Rhodia Operations Liquid suspension of cerium oxide particles
RU2563015C2 (ru) * 2014-01-30 2015-09-10 Общество с ограниченной ответственностью "Научно-производственная компания "Русредмет"(ООО НПК"Русредмет") Способ выделения церия из нитратных растворов, содержащих сумму редкоземельных элементов
JP6169120B2 (ja) * 2014-03-13 2017-07-26 第一稀元素化学工業株式会社 セリウム含有溶液及びその製造方法
TWI635905B (zh) 2014-06-24 2018-09-21 羅地亞經營管理公司 金屬摻雜氧化鈰組合物
KR101773543B1 (ko) 2015-06-30 2017-09-01 유비머트리얼즈주식회사 연마 입자, 연마 슬러리 및 연마 입자의 제조 방법
CN108025276A (zh) 2015-09-23 2018-05-11 罗地亚经营管理公司 疏水改性的氧化铈颗粒及其用途
FR3041528A1 (fr) 2015-09-25 2017-03-31 Rhodia Operations Composition cosmetique photoprotectrice
FR3047736A1 (fr) * 2016-02-17 2017-08-18 Rhodia Operations Composition de peinture formulee en phase aqueuse
FR3047737A1 (fr) * 2016-02-17 2017-08-18 Rhodia Operations Composition fluide pour proteger le bois
JP2017228576A (ja) * 2016-06-20 2017-12-28 日立化成株式会社 研磨液及び研磨方法
KR20190089945A (ko) 2016-12-02 2019-07-31 로디아 오퍼레이션스 산화세륨의 현탁액
JP6827318B2 (ja) * 2016-12-28 2021-02-10 花王株式会社 酸化セリウム砥粒
JP7326166B2 (ja) 2017-06-15 2023-08-15 ローディア オペレーションズ セリウム系粒子
FR3074162A1 (fr) 2017-11-24 2019-05-31 Rhodia Operations Particules d'oxyde de cerium / silice
US11814547B2 (en) 2018-09-28 2023-11-14 Kao Corporation Polishing liquid composition for silicon oxide film
KR102282872B1 (ko) * 2019-11-11 2021-07-28 주식회사 켐톤 세륨 산화물 입자의 제조방법, 연마입자 및 이를 포함하는 연마용 슬러리 조성물
EP4065658A1 (en) 2019-11-26 2022-10-05 Rhodia Operations Liquid dispersion and powder of cerium based core-shell particles, process for producing the same and uses thereof in polishing
WO2021105174A1 (en) * 2019-11-26 2021-06-03 Rhodia Operations Cerium based particles, process for producing the same and uses thereof in polishing
CN114671451A (zh) * 2020-12-25 2022-06-28 安集微电子（上海）有限公司 一种氧化铈的合成方法及其使用方法
JP2024511723A (ja) 2021-03-12 2024-03-15 ローディア オペレーションズ 酸化セリウム粒子、その製造プロセス及びその化学機械研磨における使用
KR20230154254A (ko) 2021-03-12 2023-11-07 로디아 오퍼레이션스 산화세륨 입자, 이의 제조 공정 및 화학적 기계적 폴리싱에서의 이의 용도
EP4341358A1 (en) 2021-05-17 2024-03-27 Rhodia Operations Liquid dispersion and powder of cerium based core-shell particles, process for producing the same and uses thereof in polishing
CN115403063B (zh) * 2022-09-30 2024-08-06 深圳市聚芯半导体材料有限公司 一种二氧化铈颗粒及其制备方法和应用

Family Cites Families (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
FR2617153B1 (fr) * 1987-06-26 1991-04-05 Rhone Poulenc Chimie Procede d'obtention d'un oxyde cerique et oxyde cerique a nouvelles caracteristiques morphologiques
JP2746861B2 (ja) * 1995-11-20 1998-05-06 三井金属鉱業株式会社 酸化セリウム超微粒子の製造方法
US5962343A (en) * 1996-07-30 1999-10-05 Nissan Chemical Industries, Ltd. Process for producing crystalline ceric oxide particles and abrasive
US6045716A (en) * 1997-03-12 2000-04-04 Strasbaugh Chemical mechanical polishing apparatus and method
TW365563B (en) * 1997-04-28 1999-08-01 Seimi Chem Kk Polishing agent for semiconductor and method for its production
GB9903519D0 (en) * 1999-02-16 1999-04-07 Europ Economic Community Precipitation process
WO2001000744A1 (fr) * 1999-06-28 2001-01-04 Nissan Chemical Industries, Ltd. Compose abrasif pour plateau en verre de disque dur
JP4544379B2 (ja) * 1999-06-28 2010-09-15 日産化学工業株式会社 ガラス製ハードディスク用研磨剤
JP2003257910A (ja) * 2001-12-28 2003-09-12 Fujikoshi Mach Corp 基板における銅層の研磨方法
US7431758B2 (en) * 2002-10-28 2008-10-07 Nissan Chemical Industries, Ltd. Cerium oxide particles and production method therefor
DE10251029A1 (de) * 2002-11-02 2004-05-19 Degussa Ag Pyrogen hergestelltes Ceroxid
US8685123B2 (en) * 2005-10-14 2014-04-01 Saint-Gobain Ceramics & Plastics, Inc. Abrasive particulate material, and method of planarizing a workpiece using the abrasive particulate material

Also Published As

Publication number Publication date
JP2010505735A (ja) 2010-02-25
KR20120030575A (ko) 2012-03-28
CN101522567B (zh) 2014-06-04
US8317888B2 (en) 2012-11-27
KR101139110B1 (ko) 2012-07-05
FR2906800A1 (fr) 2008-04-11
KR101475174B1 (ko) 2014-12-22
TWI367863B (en) 2012-07-11
EP2081871A2 (fr) 2009-07-29
FR2906800B1 (fr) 2008-11-28
JP5586229B2 (ja) 2014-09-10
US20100072417A1 (en) 2010-03-25
KR20090064566A (ko) 2009-06-19
CN101522567A (zh) 2009-09-02
CN102627310B (zh) 2017-06-20
CN102627310A (zh) 2012-08-08
WO2008043703A2 (fr) 2008-04-17
KR20130140228A (ko) 2013-12-23
KR20130045954A (ko) 2013-05-06
EP2081871B1 (fr) 2017-05-03
TW200831412A (en) 2008-08-01
WO2008043703A3 (fr) 2008-08-14

Similar Documents

Publication Publication Date Title
ES2628504T3 (es) Suspensión líquida de partículas de óxido de cerio y su procedimiento de preparación
KR101273790B1 (ko) 세륨 옥시드 입자의 액체 현탁액 및 분말, 이의 제조 방법 및 연마에서의 이의 용도
US11028288B2 (en) Liquid suspension of cerium oxide particles
KR102350893B1 (ko) 금속 도핑된 세륨 산화물 조성물
JP4917098B2 (ja) 炭酸セリウム粉末及び製法、これから製造された酸化セリウム粉末及び製法、これを含むｃｍｐスラリー
US20150160379A1 (en) Nanometric tin-containing metal oxide particle and dispersion, and preparation method and application thereof
JP6214412B2 (ja) コアシェル型酸化物微粒子の分散液、その製造方法、およびその用途
JP2022534203A (ja) 表面突起が形成された球状無機粒子及びその製造方法
JP3950691B2 (ja) セリウムｉｉｉを含有するセリウム化合物のコロイド分散液、その製造法及びその使用
JP6257243B2 (ja) 希土類チタン酸塩粉末及びその製造方法並びにそれを含む分散液
US20240158250A1 (en) Cerium oxide particles, making process thereof and use thereof in chemical mechanical polishing
JP2023083524A (ja) 複合酸化物粉末の製造方法