CN102627310A - 铈氧化物粒子的液体悬浮液和粉末、其制备方法及其在抛光中的用途 - Google Patents
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Abstract
本发明涉及铈氧化物粒子的悬浮液,其中该粒子(二级粒子)具有不超过200纳米的平均尺寸,所述二级粒子由平均尺寸不超过100纳米且标准偏差值不超过所述平均尺寸值的30%的初级粒子构成。这种悬浮液由包含铈IV或过氧化氢的铈III盐溶液制成,使该溶液在硝酸根离子存在下在惰性气氛中与碱接触;将由此获得的介质在惰性气氛中热处理,然后酸化和洗涤。通过该悬浮液的干燥和煅烧获得粉末。该悬浮液和粉末可用于抛光。
Description
本申请是申请日为2007年10月4日、申请号为200780037633.8的中国专利申请“铈氧化物粒子的液体悬浮液和粉末、其制备方法及其在抛光中的用途”的分案申请。
技术领域
本发明涉及铈氧化物粒子的液体悬浮液和粉末、其制备方法及其特别在抛光中的用途。
背景技术
电子工业的发展要求越来越多地使用用于抛光各种部件如介电化合物或盘片的组合物。这些组合物是悬浮液形式且它们必须符合一些特征。例如,它们必须提供高的材料去除率,这反映它们的研磨能力。它们还必须具有尽可能低的缺陷性(défectivité);术语“缺陷性”特别是指用该组合物处理后的基底表现出的划痕率。
出于稳定性和易用性原因,这些悬浮液必须由亚微米尺度,即通常小于300纳米的粒子构成。此外,太细的粒子在这些悬浮液中的存在降低了它们的研磨能力。此外,太大的粒子会造成缺陷性提高。因此需要其中的粒子是单分散的悬浮液。还应该指出,为了获得最佳性能,这种单分散性应该既适用于初级粒子,又适用于二级粒子,即由初级粒子构成的聚集体。
因此要理解的是,这些悬浮液的开发是复杂的问题。
发明内容
本发明的目的是提供符合上述条件的悬浮液,即其中的粒子是单分散的悬浮液。
以此为目的,本发明的悬浮液是铈氧化物粒子在液相中的悬浮液,且其特征在于,这些粒子(二级粒子)具有最多200纳米的平均尺寸, 这些二级粒子由平均尺寸值最多100纳米且标准偏差为所述平均尺寸值的最多30%的初级粒子构成。
附图说明
在阅读下列说明书、旨在举例说明的各种具体但非限制性实施例以及附图后,本发明的其它特征、细节和优点将更完全地呈现,在附图中:
-图1是通过本发明的产品的透射电子显微术获得的照片;
-图2是通过本发明的另一产品的透射电子显微术获得的照片;
-图3是通过本发明的第三产品的透射电子显微术获得的照片。
具体实施方式
对于说明书的剩余部分,术语“铈氧化物粒子的悬浮液”是指由稳定分散在液相中的基于该氧化物的亚微米尺度固体细粒子构成的体系,所述粒子也可以任选含有残留量的键合或吸附离子,如硝酸根或铵离子。
对于说明书的剩余部分,术语“比表面积”是指根据标准ASTM D3663-78通过氮吸附法测得的B.E.T.比表面积,该标准根据期刊“The Journal of the American Chemical Society(美国化学会杂志),60,309(1938)”中所述的BRUNAUER-EMMETT-TELLER法建立。
悬浮液的粒子基于通常是结晶二氧化铈的铈氧化物。
构成本发明的悬浮液并具有最多200纳米平均尺寸的粒子在说明书剩余部分中被称作“二级粒子”。这些粒子是由随后被称作“初级粒子”的其它更细的粒子聚集而成的聚集体。
根据本发明的一个重要特征,这些初级粒子是细的和单分散的。这是因为它们具有最多100纳米的平均尺寸和这些初级粒子平均尺寸值的最多30%的标准偏差。
初级粒子的平均尺寸值通过X射线衍射(DRX)技术测定。通过DRX测得的值对应于基于两个最强衍射线的幅宽和使用Scherrer模型计算出的相干范围的尺寸。这种值也可以通过测量BET比表面积来确定。
本发明中提到的标准偏差具有一般数学含义,其是方差的平方根并且其通过下式表示:
n是该测量中计入考虑的粒子数,
xi是粒子i的尺寸,
使用通过透射电子显微术(MET)获得的照片测量n个不同粒子的尺寸。
这种标准偏差可以优选为初级粒子的平均尺寸值的最多20%,更特别最多15%,再更特别最多10%。
初级粒子可以更特别具有表现出最多80纳米,更特别最多60纳米的平均值的尺寸。
此外,初级粒子的这些平均尺寸可以为至少10纳米,特别是至少20纳米,更特别至少30纳米。根据具体实施方案,这些平均尺寸因此可以为10纳米至100纳米,20纳米至80纳米,20纳米至30纳米和30纳米至60纳米。
如上所述,这些初级粒子形成聚集体,它们由此构成二级粒子。这些二级粒子可以更特别具有最多150纳米,更特别最多120纳米,再更特别最多100纳米的平均尺寸。
此外,根据本发明的另一有利特征,这些二级粒子本身也是单分散的。这是因为它们可以具有最多0.5的分散指数。该指数可以特别为最多0.4,更特别最多0.3,再更特别最多0.2。
对于与二级粒子有关的所有描述,平均尺寸和分散指数是通过使用激光粒度计实施激光衍射技术而得的值(质量分布)。
术语“分散指数”是指下列比率:
σ/m=(d90-d10)/2d50
其中:
-d90是指这样的粒子尺寸或直径:90%的粒子具有小于d90的直径;
-d10是指这样的粒子尺寸或直径:10%的粒子具有小于d10的直径;
-d50是粒子的平均尺寸或直径。
本发明的悬浮液的液相可以为不同类型。
其首先可以是水。
其也可以是水/水混溶性溶剂的混合物。作为这种类型的溶剂的实例,可以提到醇如甲醇或乙醇,二元醇如乙二醇,二元醇的乙酸酯衍生物,如乙二醇单乙酸酯,或多元醇。
最后,该液相可以由有机溶剂构成。
作为有机溶剂的实例,可以提到脂族烃如己烷、庚烷、辛烷、壬烷,惰性脂环族烃如环己烷、环戊烷、环庚烷,芳烃如苯、甲苯、乙苯、二甲苯,液体环烷。同样合适的是Isopar或Solvesso型(EXXON公司的注册商标)石油馏分,特别是基本含有甲基乙基苯和三甲基苯的混合物的Solvesso 100,含有烷基苯,特别是二甲基苯和四甲基苯的混合物的Solvesso 150,和基本含有C-11和C-12异链烷烃和环烷烃的Isopar。也可提到的其它类型的石油馏分包括来自Petrolink公司的 型或来自Total公司的 型的那些。
也可以使用氯化烃如氯苯或二氯苯、氯甲苯作为有机溶剂。可以考虑脂族和脂环族醚和酮,例如二异丙基醚、二丁基醚、甲乙酮、甲基异丁基酮、二异丁基酮、异亚丙基丙酮。
可以使用酯,如由酸与C1至C8醇的反应生成的那些,特别是仲醇如异丙醇的棕榈酸酯。例如,可以提到乙酸丁酯。
当然,该液相可以基于两种或更多种上述类型的烃或化合物的混合物。
本发明的悬浮液具有可以在宽限度内变化并且可以例如为按质量计最多40%,特别是最多25%至30%氧化物的总氧化物含量,即铈氧化物含量。
同样,这些悬浮液的pH值可以处于宽范围内。因此,由下述制备方法生成的悬浮液的pH值通常为2至6,更特别为2至5,该悬浮液 在此pH范围内在下文给出的意义内保持稳定。但是,可以在这些pH值范围内或超过5或6的值,以已知方式,通过向该悬浮液中加入如阴离子型或两性的聚合物或分子之类的化合物来改进稳定性。作为这种类型的化合物,可以提到通过使至少一种选自烯键式不饱和的直链或支化、脂族、环状或芳族单羧酸或多羧酸或酸酐的单体聚合而得的那些化合物。作为实例,可以列举聚丙烯酸或柠檬酸。
最后,要指出的是,本发明的悬浮液是稳定的。这是指在几天,例如至少8天之内在这些悬浮液上没有观察到沉降饼的形成。此外,如果形成沉降饼,其可以通过简单搅拌再悬浮。
现在描述本发明悬浮液的制备方法。
根据第一实施方案,可以通过包含下列步骤的方法制备本发明的悬浮液:
-(a)制备还包含铈IV的铈III盐溶液;
-(b)使该溶液与碱在惰性气氛下接触,由此获得沉淀物;
-(c)在惰性气氛下对前一步骤中获得的介质施以热处理,步骤(a)、(b)或(c)的至少之一在硝酸根离子存在下进行;
-(d)相继但以任何次序进行由此获得的介质的酸化和洗涤,由此获得悬浮液。
上述方法的第一步骤(a)因此在于制备起始溶液,其是铈III盐溶液。
作为铈III盐,更特别可以使用铈III的硝酸盐、氯化物、硫酸盐或碳酸盐,以及这些盐的混合物,如混合硝酸盐/氯化物。
以已知方式,这种起始溶液应该具有适合使铈完全溶解存在的酸度。
该起始溶液还包含铈IV。该铈IV由盐提供。这可以例如是硝酸铈IV。
通常,铈IV的量使得起始溶液中(CeIV/CeIII)摩尔比为1/5000至1/50,更特别为1/2000至1/50。
步骤(a)制备的起始溶液可以通过用惰性气体鼓泡来预先脱气。 对于本说明书,术语“惰性气体”或“惰性气氛”是指不含氧的气氛或气体,该气体可以例如是氮气或氩气。
该方法的第二步骤(b)在于使起始溶液与碱反应。
可以特别使用氢氧化物型产品作为碱。可以提到碱金属或碱土金属氢氧化物和氨。也可以使用仲胺、叔胺或季胺。但是,胺和氨可以是优选的,因为它们降低了被碱金属阳离子或碱土金属阳离子污染的危险。
该碱也可以通过用惰性气体鼓泡来预先脱气。
为了进行该方法的第二步骤的反应,可以以任何引入反应物的次序进行接触。但是,优选将起始溶液引入含碱的介质中。
该第二步骤应该在封闭反应器或半封闭反应器中在用惰性气体吹扫的情况下在惰性气氛下进行。通常在搅拌反应器中进行该接触。
最后,该第二步骤通常在环境温度(20-25℃)或最多50℃的温度下进行。
该方法的第三步骤(c)是在前一步骤获得的反应介质的热处理。
这种处理在于加热该介质并使其保持在通常最多95℃,更特别60℃至95℃的温度下。
这种处理的持续时间可以为几分钟至几小时。
这种处理也在惰性气氛下进行,关于第二步骤的这种气氛的描述同样适用于此。同样,在搅拌反应器中进行处理。
根据本发明的方法的特征,步骤(a)、(b)或(c)的至少之一应该在硝酸根离子存在下进行。通常,通过添加硝酸,更特别在步骤(a)中,在铈III溶液制备过程中提供硝酸根离子。
以NO3 -/Ce3+摩尔比表示的硝酸根离子的量通常为1/3至5。
该方法的最后步骤,即步骤(d),实际上包括两个可以以任何次序进行的相继操作。这些操作一方面是酸化,另一方面是洗涤。
下面针对酸化然后洗涤的情况,更具体描述这些操作。
通常在步骤(c)结束后获得的介质冷却后,通过添加酸进行酸化。
可以使用任何无机或有机酸。更特别使用硝酸。
添加的酸的量使得酸化后的介质的pH值为2至5。
这种操作可以在空气中进行;在该方法的这一阶段中,不再必须在惰性气氛下操作。
在酸化之后洗涤,其目的是从悬浮液中除去可溶物质,基本是盐。
洗涤可以在进行或不进行固/液分离的情况下以各种方式进行。
其因此可以通过从液相中分离固体粒子,例如通过正面过滤(filtration frontale)、沉降或离心进行。所得固体随后再悬浮在水性相中。该方法也可以通过切向过滤进行。
如果必要,可以任选重复这种洗涤,例如直至获得悬浮液的给定电导率,该电导率衡量该悬浮液中存在的杂质含量。
如上所述,与刚刚描述的相比,可以颠倒操作次序。由此,在步骤(c)结束后,并通常在所得介质冷却后,则可以以上述方式进行洗涤。在洗涤结束后,随后进行所得介质的酸化。
在刚描述的步骤后,可以在已知类型的解聚装置如超声处理装置、双冲击喷射处理装置或湿研磨装置中处理所得悬浮液。
在步骤(d)结束后获得本发明的悬浮液。
在部分或完全在非水有机溶剂介质中的悬浮液的情况下,这种悬浮液可以以本身已知的方式由通过刚刚描述的方法获得的水性悬浮液,通过与该有机溶剂接触来制备。
在此阶段,可以有利地向该有机相中加入促进剂,其作用是加速粒子从水性相转移到有机相中并改进所得有机悬浮液的稳定性。
作为促进剂,可以使用包含醇官能团的化合物,特别是具有6至12个碳原子的直链或支化脂族醇。作为具体实例,可以提到2-乙基己醇、癸醇、十二烷醇或它们的混合物。
该接触可以在环境温度,例如大约20℃,以及在更高温度,例如60℃至150℃下进行。
根据有机溶剂的性质,例如通过蒸馏、通过沉降或通过离心进行水性相与有机相之间的分离。
现在描述该方法的第二实施方案。
该第二实施方案与第一实施方案的不同之处仅在于第一步骤。
这个第一步骤在于制备还包含过氧化氢的铈III盐溶液。
上文关于铈III盐的种类所述的内容同样适用于此。
H2O2溶液的量使得该铈盐溶液中的(H2O2/CeIII)摩尔比为1/10000至1/100,更特别为1/4000至1/100。
根据该第二实施方案的方法的其余部分如上文对第一实施方案所述进行,即第一步骤的溶液与碱在惰性气氛下接触,在惰性气氛下进行热处理,并将由此获得的介质酸化和洗涤(步骤(b)、(c)和(d),如上所述,且在步骤(a)、(b)或(c)的至少一个中存在硝酸根离子)。因此,上文关于所有这些后继步骤和关于该方法的第一实施方案所述的内容在此同样适用于该第二实施方案。
本发明还涉及铈氧化物粒子的可再分散粉末。该粉末的特征在于,在引入液相中并在液相中再分散后,其产生如上所述根据本发明的悬浮液。通过该粉末在液相中的简单搅拌进行再分散。
这种粉末可以由本发明的悬浮液通过干燥和然后在可以为例如最多300℃,特别是100至200℃的温度下煅烧可以为几分钟至几小时的持续时间来获得。
本发明还涉及用于抛光的悬浮液,包括如上所述的悬浮液或通过上述方法获得的悬浮液,或在本发明的粉末再分散后获得的悬浮液。这种悬浮液可用于抛光玻璃,例如在晶质玻璃器皿、镜子、平板玻璃、电视屏幕、眼镜工业中,或用于抛光陶瓷或玻璃质类型的其它材料。这种悬浮液也可以特别用于电子工业中的CMP型抛光并因此用于抛光微处理器构造中所包含的金属基底,以及用于抛光这些同样微处理器的绝缘层,本发明的悬浮液特别适合所述层的抛光。这些层通常由二氧化硅(掺杂二氧化硅、多孔二氧化硅)制成。
通常,这类悬浮液除了具有研磨性质的化合物如铈氧化物粒子外,还包含添加剂,如分散剂或氧化剂。
作为本发明悬浮液的其它用途,可以提到催化,特别是用于汽车后燃烧,在这种情况下,该悬浮液用于制备催化剂。也可以利用该悬 浮液的抗紫外性质,例如用于制备聚合物薄膜(例如丙烯酸类或聚碳酸酯型)、油漆、纸或化妆品组合物,特别是制备防紫外线霜。
现在给出实施例。
实施例1
通过添加380.8克2.88M硝酸三价铈溶液、163.0毫克110V H2O2溶液和877.9克去离子水(eau permutée),制备硝酸铈稀溶液。将具有1/450的H2O2/Ce摩尔比的该溶液装入半封闭容器,然后在剧烈搅拌和氮气鼓泡下脱气2小时。
通过添加839.5克去离子水和233.2克28%氨溶液,制备氨水稀溶液。将该溶液装入半封闭2升夹套反应器,然后施以搅拌(在300转/分钟下的带有四个倾斜桨的搅拌器)和氮气鼓泡2小时。
然后将该稀硝酸铈溶液在环境温度下在相同的搅拌和在氮气吹扫下经30分钟添加到稀氨溶液中。
然后在大约3/4小时内将反应混合物温度升至80℃,然后再在相同的搅拌和在氮气吹扫下在此温度下保持4小时。
在这种热处理后,使反应混合物冷却,然后通过添加68%硝酸酸化至pH2。停止氮气吹扫并最后通过离心、离心水的清除和滤饼再悬浮在去离子水中来洗涤该悬浮液。进行多个离心洗涤周期直至获得小于0.5mS/cm的电导率。
将最终获得的悬浮液调节至以CeO2计10重量%。
通过MET观察该悬浮液。清楚观察到,初级粒子实际上单分散并具有以大约35纳米为中心的尺寸。在代表该悬浮液的大约150个粒子的照片(图1)中,统计和测量各粒子,由此获得33纳米的平均尺寸,标准偏差为3.9纳米,即平均尺寸值的12%。
将一部分悬浮液在烘箱中在200℃下干燥,这能够获得用于DRX分析的CeO2粉末。该粉末的X射线衍射图具有结晶CeO2信号(ASTM34-394卡片(fiche))。通过应用Scherrer模型,由位于2θ=28.6°、47.5°和56.4°的衍射峰的半高宽计算出的相干区域的平均尺寸为 40纳米。通过氮吸附测得的BET比表面积为23.5平米/克,这得出35纳米的初级粒子平均尺寸。
采用1.7的值作为CeO2在水中的光学指数,使用Horiba LA910型激光粒度计测量二级粒子的尺寸。中值尺寸d50为102纳米。基于分别为81、102和128纳米的d10、d50和d90值计算出的分散指数σ/m为0.23。
实施例2
通过添加6.4千克2.88M硝酸三价铈溶液(d=1.715)、1.0千克68%HNO3溶液、4.8千克去离子水和8.87克1.39M硝酸四价铈(d=1.440),制备稀硝酸铈溶液。将具有1/1250的Ce4+/Ce总量摩尔比的该溶液装入半封闭容器,然后在剧烈搅拌和氮气鼓泡下脱气2小时。
通过添加22.6千克去离子水和4.6千克28%氨溶液,制备稀氨溶液。将该溶液装入半封闭40升夹套反应器,然后施以搅拌(在400转/分钟下的带有四个倾斜桨的搅拌器)和氮气鼓泡2小时。
然后将该稀硝酸铈溶液在环境温度下在相同的搅拌和在氮气吹扫下经30分钟添加到稀氨溶液中。
然后在大约3/4小时内将反应混合物温度升至83℃,然后再在相同的搅拌和在氮气吹扫下在此温度下保持4小时。
在这种热处理后,使反应混合物冷却,然后通过添加68%硝酸酸化至pH2。停止氮气吹扫并最后通过离心、离心水的清除和滤饼再悬浮在去离子水中来洗涤该悬浮液。进行多个离心洗涤周期直至获得最终调节至以CeO2计10重量%并具有3.2的pH值和0.38mS/cm的离子电导率的悬浮液。
通过MET观察该悬浮液。注意到,初级粒子实际上单分散并具有以大约60纳米为中心的尺寸。在代表该悬浮液的几百个粒子的照片(图2)中,统计和测量各粒子,由此获得65纳米的平均尺寸,标准偏差为5.8纳米,即平均尺寸值的9%。
将一部分悬浮液在烘箱中在200℃下干燥,这能够获得用于DRX 分析的CeO2粉末。该粉末的X射线衍射图具有结晶CeO2信号(ASTM34-394卡片)。通过应用Scherrer模型,由位于2θ=28.6°、47.5°和56.4°的衍射峰的半高宽计算出的相干区域的平均尺寸为70纳米。通过氮吸附测得的BET比表面积为13.0平米/克,这得出64纳米的初级粒子平均尺寸。
采用1.7的值作为CeO2在水中的光学指数,使用Horiba LA910型激光粒度计测量二级粒子的尺寸。中值尺寸d50为112纳米。基于分别为84、112和157纳米的d10、d50和d90值计算出的分散指数σ/m为0.32。
实施例3
根据与实施例2中相同的方法制备铈氧化物悬浮液,但稀硝酸铈溶液中的Ce4+/Ce总量摩尔比为1/1000而非1/1250。
该悬浮液的特征在于以CeO2计的浓度为10重量%,pH值为3.5且离子电导率为0.18mS/cm。通过应用Scherrer模型,基于位于2θ=28.6°、47.5°和56.4°的衍射峰的半高宽计算出的相干区域的平均尺寸为54纳米。通过氮吸附测得的BET比表面积为19.0平米/克,这得出44纳米的初级粒子平均尺寸。采用1.7的值作为CeO2在水中的光学指数,使用Horiba LA910型激光粒度计测量二级粒子的尺寸。中值尺寸d50为110纳米。由分别为85、110和147纳米的d10、d50和d90值计算出的分散指数σ/m为0.28。
将该悬浮液在100℃下干燥过夜,然后在200℃下干燥4小时,这能够获得粉末。
将该粉末再分散在去离子水中。由此获得的悬浮液的特征在于以CeO2计的浓度为10重量%,pH值为3.5且离子电导率为0.21mS/cm。采用1.7的值作为CeO2在水中的光学指数,使用Horiba LA910型激光尺寸计测量二级粒子的尺寸。中值尺寸d50为93纳米。由分别为76、93和116纳米的d10、d50和d90值计算出的分散指数σ/m为0.21。
实施例4
通过添加13.84千克2.88M硝酸三价铈溶液(d=1.715)、2.45千克60%HNO3溶液和16.4克1.35M硝酸四价铈(d=1.43),制备硝酸铈溶液。将具有1/1500的Ce4+/Ce总量摩尔比的该溶液装入半封闭容器,然后在剧烈搅拌和氮气鼓泡下脱气。
通过添加79.82千克去离子水和9.25千克25.7%氨溶液,制备稀氨溶液。将该溶液装入半封闭100升夹套反应器,然后施以搅拌(在130转/分钟下的叶轮型搅拌器)和氮气鼓泡。
然后将该硝酸铈溶液在环境温度下在相同的搅拌和在氮气吹扫下经30分钟添加到稀氨溶液中。
然后在大约1小时内将反应混合物温度升至80℃,然后再在相同的搅拌和在氮气吹扫下在此温度下保持4小时。
在这种热处理后,使反应混合物冷却,然后通过添加68%硝酸酸化至pH2。停止氮气吹扫并最后通过离心、离心水的清除和滤饼再悬浮在去离子水中来洗涤该悬浮液的一部分。进行多个离心洗涤周期直至获得最终调节至以CeO2计10重量%并具有4.8的pH值和0.1mS/cm的离子电导率的悬浮液3.0千克。将一部分悬浮液(在添加聚丙烯酸(PAA)之前)在烘箱中在200℃下干燥,这能够获得CeO2粉末。通过氮吸附测得的BET比表面积为13.8平米/克,这得出60纳米的初级粒子平均尺寸。
将该悬浮液在15分钟内在剧烈搅拌下添加到预先通过在去离子水中稀释6克PAA粉末而制成的3.0千克分子量Mw=1800克/摩尔的PAA溶液中。在附加搅拌15分钟后,将该反应混合物离心并除去上清液。将所得滤饼再悬浮到去离子水中并通过添加28%氨溶液来升高pH值以获得pH值为8.0的以CeO2计10重量%的CeO2悬浮液。
通过MET观察该悬浮液。注意到,初级粒子实际上单分散并具有以大约60纳米为中心的尺寸。在代表该悬浮液的大约150个粒子的照片(图3)中,统计和测量各粒子,由此获得66纳米的平均尺寸,标准偏差为9.2纳米,其是平均尺寸值的14%。
采用1.7的值作为CeO2在水中的光学指数,使用Horiba LA910型激光粒度计测量二级粒子的尺寸。中值尺寸d50为97纳米。由分别为80、97和115纳米的d10、d50和d90值计算出的分散指数σ/m为0.18。
对比实施例5
通过添加830.9克2.88M硝酸三价铈溶液(d=1.715)和129.5克68%HNO3溶液,制备硝酸铈溶液。因此该溶液既不含H2O2也不含Ce4+。将该溶液装入半封闭容器,然后在剧烈搅拌和氮气鼓泡下脱气。
通过添加4950.2克去离子水和423.9克28%氨溶液,制备稀氨溶液。将该溶液装入半封闭6升夹套反应器,然后在剧烈搅拌和氮气鼓泡下脱气。
然后将该硝酸铈溶液在环境温度下在搅拌和在氮气吹扫下经30分钟添加到稀氨溶液中。
然后在大约3/4小时内将反应混合物温度升至80℃,然后再在氮气吹扫下在此温度下保持4小时。
在这种热处理后,使反应混合物冷却,然后通过添加68%硝酸酸化至pH 2。停止氮气吹扫。注意到,所得溶液是透明的,这表明合成未启动并且没有获得本发明的悬浮液。
Claims (19)
1.铈氧化物粒子在液相中的悬浮液,其特征在于,这些粒子(二级粒子)具有最多200纳米的平均尺寸,这些二级粒子由平均尺寸值最多100纳米且标准偏差为所述平均尺寸值的最多30%的初级粒子构成。
2.根据权利要求1的悬浮液,其特征在于,初级粒子具有表现出上述平均尺寸值的最多20%,更特别最多15%的标准偏差的尺寸。
3.根据权利要求2的悬浮液,其特征在于,初级粒子具有表现出上述平均尺寸值的最多10%的标准偏差的尺寸。
4.根据前述权利要求之一的悬浮液,其特征在于,初级粒子具有表现出最多80纳米,更特别最多60纳米的平均值的尺寸。
5.根据权利要求4的悬浮液,其特征在于初级粒子具有表现出至少30纳米的平均值的尺寸。
6.根据前述权利要求之一的悬浮液,其特征在于,二级粒子具有最多0.5的分散指数。
7.根据权利要求6的悬浮液,其特征在于二级粒子具有最多0.4,更特别最多0.3的分散指数。
8.根据前述权利要求之一的悬浮液,其特征在于,二级粒子具有最多150纳米,更特别最多100纳米的平均尺寸。
9.根据前述权利要求之一的悬浮液,其特征在于,该液相是水。
10.根据权利要求1至8之一的悬浮液,其特征在于,该液相是有机溶剂。
11.制备根据权利要求1至9之一的悬浮液的方法,其特征在于该方法包括下列步骤:
-(a)制备还包含铈IV的铈III盐溶液;
-(b)使该溶液与碱在惰性气氛下接触,由此获得沉淀物;
-(c)在惰性气氛下对前一步骤中获得的介质施以热处理,步骤(a)、(b)或(c)的至少之一在硝酸根离子存在下进行;
-(d)相继但以任何次序进行由此获得的介质的酸化和洗涤,由此获得悬浮液。
12.根据权利要求11的方法,其特征在于步骤(a)的铈III盐溶液以1/5000至1/50,更特别1/2000至1/50的铈IV/铈III摩尔比含有铈IV。
13.根据权利要求11或12的方法,其特征在于在步骤(a)、(b)或(c)的至少之一的实施过程中以NO3 -/Ce3+摩尔比表示的硝酸根离子含量为1/3至5。
14.制备根据权利要求1至9之一的悬浮液的方法,其特征在于该方法包括下列步骤:
-(a)制备还包含过氧化氢的铈III盐溶液;
-(b)使该溶液与碱在惰性气氛下接触,由此获得沉淀物;
-(c)在惰性气氛下对前一步骤中获得的介质施以热处理,步骤(a)、(b)或(c)的至少之一在硝酸根离子存在下进行;
-(d)相继但以任何次序进行由此获得的介质的酸化和洗涤,由此获得悬浮液。
15.根据权利要求14的方法,其特征在于第一步骤的溶液以1/10000至1/100,更特别1/4000至1/100的H2O2/铈III摩尔比含有过氧化氢。
16.根据权利要求11至15之一的方法,其特征在于该热处理在最多95℃的温度下进行。
17.制备根据权利要求10的悬浮液的方法,其特征在于使根据权利要求1至9之一的悬浮液或通过根据权利要求11至16之一的方法获得的悬浮液与有机溶剂接触。
18.铈氧化物粒子的可再分散粉末,其特征在于,在液相中再分散后,其产生根据权利要求1至10之一的悬浮液。
19.用于抛光的悬浮液,其特征在于其包含根据权利要求1至10之一的悬浮液、或通过根据权利要求11至17之一的方法获得的悬浮液、或通过将根据权利要求18的粉末在液相中再分散而得的悬浮液。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
FR0608838A FR2906800B1 (fr) | 2006-10-09 | 2006-10-09 | Suspension liquide et poudre de particules d'oxyde de cerium, procedes de preparation de celles-ci et utilisation dans le polissage |
FR0608838 | 2006-10-09 | ||
CN200780037633.8A CN101522567B (zh) | 2006-10-09 | 2007-10-04 | 铈氧化物粒子的液体悬浮液和粉末、其制备方法及其在抛光中的用途 |
Related Parent Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CN200780037633.8A Division CN101522567B (zh) | 2006-10-09 | 2007-10-04 | 铈氧化物粒子的液体悬浮液和粉末、其制备方法及其在抛光中的用途 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CN102627310A true CN102627310A (zh) | 2012-08-08 |
CN102627310B CN102627310B (zh) | 2017-06-20 |
Family
ID=38158014
Family Applications (2)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CN201210075352.4A Active CN102627310B (zh) | 2006-10-09 | 2007-10-04 | 铈氧化物粒子的液体悬浮液和粉末、其制备方法及其在抛光中的用途 |
CN200780037633.8A Active CN101522567B (zh) | 2006-10-09 | 2007-10-04 | 铈氧化物粒子的液体悬浮液和粉末、其制备方法及其在抛光中的用途 |
Family Applications After (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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CN200780037633.8A Active CN101522567B (zh) | 2006-10-09 | 2007-10-04 | 铈氧化物粒子的液体悬浮液和粉末、其制备方法及其在抛光中的用途 |
Country Status (9)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US8317888B2 (zh) |
EP (1) | EP2081871B1 (zh) |
JP (1) | JP5586229B2 (zh) |
KR (4) | KR101475174B1 (zh) |
CN (2) | CN102627310B (zh) |
ES (1) | ES2628504T3 (zh) |
FR (1) | FR2906800B1 (zh) |
TW (1) | TWI367863B (zh) |
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- 2006-10-09 FR FR0608838A patent/FR2906800B1/fr not_active Expired - Fee Related
-
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- 2007-10-04 CN CN201210075352.4A patent/CN102627310B/zh active Active
- 2007-10-04 KR KR1020137032326A patent/KR101475174B1/ko active IP Right Grant
- 2007-10-04 JP JP2009531812A patent/JP5586229B2/ja active Active
- 2007-10-04 KR KR1020137009798A patent/KR20130045954A/ko not_active Application Discontinuation
- 2007-10-04 ES ES07820926.9T patent/ES2628504T3/es active Active
- 2007-10-04 US US12/444,746 patent/US8317888B2/en active Active
- 2007-10-04 CN CN200780037633.8A patent/CN101522567B/zh active Active
- 2007-10-04 KR KR1020127002406A patent/KR20120030575A/ko not_active Application Discontinuation
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- 2007-10-04 KR KR1020097007237A patent/KR101139110B1/ko active IP Right Grant
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CN115403063A (zh) * | 2022-09-30 | 2022-11-29 | 深圳市聚芯半导体材料有限公司 | 一种二氧化铈颗粒及其制备方法和应用 |
CN115403063B (zh) * | 2022-09-30 | 2024-08-06 | 深圳市聚芯半导体材料有限公司 | 一种二氧化铈颗粒及其制备方法和应用 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN101522567A (zh) | 2009-09-02 |
EP2081871B1 (fr) | 2017-05-03 |
FR2906800B1 (fr) | 2008-11-28 |
US20100072417A1 (en) | 2010-03-25 |
KR20130045954A (ko) | 2013-05-06 |
US8317888B2 (en) | 2012-11-27 |
KR101475174B1 (ko) | 2014-12-22 |
EP2081871A2 (fr) | 2009-07-29 |
CN102627310B (zh) | 2017-06-20 |
JP2010505735A (ja) | 2010-02-25 |
TWI367863B (en) | 2012-07-11 |
KR101139110B1 (ko) | 2012-07-05 |
KR20130140228A (ko) | 2013-12-23 |
CN101522567B (zh) | 2014-06-04 |
FR2906800A1 (fr) | 2008-04-11 |
JP5586229B2 (ja) | 2014-09-10 |
TW200831412A (en) | 2008-08-01 |
WO2008043703A2 (fr) | 2008-04-17 |
KR20090064566A (ko) | 2009-06-19 |
WO2008043703A3 (fr) | 2008-08-14 |
ES2628504T3 (es) | 2017-08-03 |
KR20120030575A (ko) | 2012-03-28 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
C06 | Publication | ||
PB01 | Publication | ||
C10 | Entry into substantive examination | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
GR01 | Patent grant | ||
GR01 | Patent grant |