ES2318778T3 - Pieza de micromecanica reforzada. - Google Patents

Pieza de micromecanica reforzada. Download PDF

Info

Publication number
ES2318778T3
ES2318778T3 ES06776066T ES06776066T ES2318778T3 ES 2318778 T3 ES2318778 T3 ES 2318778T3 ES 06776066 T ES06776066 T ES 06776066T ES 06776066 T ES06776066 T ES 06776066T ES 2318778 T3 ES2318778 T3 ES 2318778T3
Authority
ES
Spain
Prior art keywords
silicon
piece
silicon dioxide
parts
coating
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
ES06776066T
Other languages
English (en)
Inventor
Marc Lippuner
Lionel Paratte
Thierry Conus
Rene Rappo
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
ETA SA Manufacture Horlogere Suisse
Original Assignee
ETA SA Manufacture Horlogere Suisse
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Family has litigation
First worldwide family litigation filed litigation Critical https://patents.darts-ip.com/?family=36997239&utm_source=google_patent&utm_medium=platform_link&utm_campaign=public_patent_search&patent=ES2318778(T3) "Global patent litigation dataset” by Darts-ip is licensed under a Creative Commons Attribution 4.0 International License.
Application filed by ETA SA Manufacture Horlogere Suisse filed Critical ETA SA Manufacture Horlogere Suisse
Application granted granted Critical
Publication of ES2318778T3 publication Critical patent/ES2318778T3/es
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G04HOROLOGY
    • G04DAPPARATUS OR TOOLS SPECIALLY DESIGNED FOR MAKING OR MAINTAINING CLOCKS OR WATCHES
    • G04D3/00Watchmakers' or watch-repairers' machines or tools for working materials
    • G04D3/0074Watchmakers' or watch-repairers' machines or tools for working materials for treatment of the material, e.g. surface treatment
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B81MICROSTRUCTURAL TECHNOLOGY
    • B81CPROCESSES OR APPARATUS SPECIALLY ADAPTED FOR THE MANUFACTURE OR TREATMENT OF MICROSTRUCTURAL DEVICES OR SYSTEMS
    • B81C1/00Manufacture or treatment of devices or systems in or on a substrate
    • B81C1/00642Manufacture or treatment of devices or systems in or on a substrate for improving the physical properties of a device
    • B81C1/0065Mechanical properties
    • B81C1/00682Treatments for improving mechanical properties, not provided for in B81C1/00658 - B81C1/0065
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C30CRYSTAL GROWTH
    • C30BSINGLE-CRYSTAL GROWTH; UNIDIRECTIONAL SOLIDIFICATION OF EUTECTIC MATERIAL OR UNIDIRECTIONAL DEMIXING OF EUTECTOID MATERIAL; REFINING BY ZONE-MELTING OF MATERIAL; PRODUCTION OF A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; SINGLE CRYSTALS OR HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; AFTER-TREATMENT OF SINGLE CRYSTALS OR A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; APPARATUS THEREFOR
    • C30B29/00Single crystals or homogeneous polycrystalline material with defined structure characterised by the material or by their shape
    • C30B29/02Elements
    • C30B29/06Silicon
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C30CRYSTAL GROWTH
    • C30BSINGLE-CRYSTAL GROWTH; UNIDIRECTIONAL SOLIDIFICATION OF EUTECTIC MATERIAL OR UNIDIRECTIONAL DEMIXING OF EUTECTOID MATERIAL; REFINING BY ZONE-MELTING OF MATERIAL; PRODUCTION OF A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; SINGLE CRYSTALS OR HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; AFTER-TREATMENT OF SINGLE CRYSTALS OR A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; APPARATUS THEREFOR
    • C30B33/00After-treatment of single crystals or homogeneous polycrystalline material with defined structure
    • C30B33/005Oxydation
    • GPHYSICS
    • G04HOROLOGY
    • G04BMECHANICALLY-DRIVEN CLOCKS OR WATCHES; MECHANICAL PARTS OF CLOCKS OR WATCHES IN GENERAL; TIME PIECES USING THE POSITION OF THE SUN, MOON OR STARS
    • G04B13/00Gearwork
    • G04B13/02Wheels; Pinions; Spindles; Pivots
    • GPHYSICS
    • G04HOROLOGY
    • G04BMECHANICALLY-DRIVEN CLOCKS OR WATCHES; MECHANICAL PARTS OF CLOCKS OR WATCHES IN GENERAL; TIME PIECES USING THE POSITION OF THE SUN, MOON OR STARS
    • G04B13/00Gearwork
    • G04B13/02Wheels; Pinions; Spindles; Pivots
    • G04B13/021Wheels; Pinions; Spindles; Pivots elastic fitting with a spindle, axis or shaft
    • G04B13/022Wheels; Pinions; Spindles; Pivots elastic fitting with a spindle, axis or shaft with parts made of hard material, e.g. silicon, diamond, sapphire, quartz and the like
    • GPHYSICS
    • G04HOROLOGY
    • G04BMECHANICALLY-DRIVEN CLOCKS OR WATCHES; MECHANICAL PARTS OF CLOCKS OR WATCHES IN GENERAL; TIME PIECES USING THE POSITION OF THE SUN, MOON OR STARS
    • G04B15/00Escapements
    • G04B15/14Component parts or constructional details, e.g. construction of the lever or the escape wheel
    • GPHYSICS
    • G04HOROLOGY
    • G04BMECHANICALLY-DRIVEN CLOCKS OR WATCHES; MECHANICAL PARTS OF CLOCKS OR WATCHES IN GENERAL; TIME PIECES USING THE POSITION OF THE SUN, MOON OR STARS
    • G04B17/00Mechanisms for stabilising frequency
    • G04B17/04Oscillators acting by spring tension
    • G04B17/06Oscillators with hairsprings, e.g. balance
    • G04B17/066Manufacture of the spiral spring
    • GPHYSICS
    • G04HOROLOGY
    • G04DAPPARATUS OR TOOLS SPECIALLY DESIGNED FOR MAKING OR MAINTAINING CLOCKS OR WATCHES
    • G04D3/00Watchmakers' or watch-repairers' machines or tools for working materials
    • G04D3/0069Watchmakers' or watch-repairers' machines or tools for working materials for working with non-mechanical means, e.g. chemical, electrochemical, metallising, vapourising; with electron beams, laser beams

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Plasma & Fusion (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Micromachines (AREA)
  • Materials For Medical Uses (AREA)
  • Reinforced Plastic Materials (AREA)
  • Silicon Compounds (AREA)

Abstract

Procedimiento de fabricación de una pieza de silicio reforzado elegida entre el conjunto constituido por ruedas dentadas, ruedas de escape, áncoras, piezas pivotadas y piezas pasivas, dicho procedimiento comprende, en el orden, las etapas que consisten en: - micromecanizar la pieza, o un lote de piezas en una plaqueta de silicio, - efectuar, sobre toda la superficie de la pieza, en una o varias etapas, el depósito de dióxido de silicio, efectuándose el depósito por oxidación térmica a una temperatura comprendida entre 900ºC y 1200ºC de la superficie de la pieza durante un tiempo suficiente para obtener un espesor de dióxido de silicio al menos cinco veces superior al espesor de un dióxido de silicio nativo.

Description

Pieza de micromecánica reforzada.
Campo técnico
La presente invención se refiere a una pieza de micromecánica realizada con silicio, y habiendo experimentado un tratamiento que le confiere unas propiedades mecánicas acrecentadas. Se trata por ejemplo, pero de manera no limitativa, de una pieza de micromecánica de un movimiento relojero mecánico es decir sea de una pieza que tenga un papel activo por ejemplo para transmitir y/o transformar una energía con el fin de activar unas agujas para dar una indicación horaria en una esfera, sea de una pieza "pasiva" permitiendo por ejemplo posicionar unos móviles.
Segundo plano tecnológico
El silicio es un material cada vez más utilizado en la fabricación de piezas mecánicas y especialmente de piezas de micromecánica, que se trate de piezas "cautivas", es decir que quedan ligadas a un sustrato sobre el cual han sido mecanizadas, o piezas "libres" tales como piezas formando parte de la cadena cinemática de un movimiento relojero.
Con relación a los metales o aleaciones utilizados clásicamente para fabricar piezas de micromecánica, tales como ruedas dentadas, piezas articuladas, o resortes, el silicio presenta la ventaja de tener una densidad 3 a 4 veces menor y por consiguiente presentar una inercia muy reducida, y ser insensible a los campos magnéticos. Estas ventajas son particularmente interesantes en el campo relojero, tanto en lo que se refiere al isocronismo como a la duración de funcionamiento cuando la fuente de energía está constituida por un resorte.
El silicio tiene sin embargo, con razón, la reputación de ser sensible a los choques, que pueden ser necesarios durante el ensamblaje, inevitables durante el funcionamiento, o fortuitos por ejemplo cuando el usuario da un golpe o deja caer su reloj de pulsera.
El documento de patente EP 1.422.436 A1 describe una espiral de silicio formada por una barra en espiral revestida sobre toda su superficie de una capa de óxido de silicio amorfo. Según este documento, el primer coeficiente térmico del modulo de Young para el óxido de silicio amorfo está opuesto al del silicio. Así la combinación de un alma en silicio con una capa externa de óxido permitiría minimizar dicho primer coeficiente térmico.
Este documento anterior no hace alusión al problema que constituye la sensibilidad a los choques de las piezas realizadas en silicio.
Resumen de la invención
La presente invención tiende pues a aportar una solución que tiende a mejorar la resistencia mecánica de una pieza de micromecánica de silicio, y en particular su resistencia a los choques.
A tal efecto la invención se refiere a una pieza de micromecánica de silicio según la reivindicación independiente 5.
La invención se refiere igualmente a un procedimiento de fabricación de una pieza de silicio reforzado según la reivindicación 1. Este procedimiento permite formar, en particular por oxidación térmica, la capa amorfa espesa que aumenta considerablemente las propiedades mecánicas de dicha pieza, como se verá en la descripción detallada a continuación.
Breve descripción de los dibujos
Otras características y ventajas de la presente invención aparecerán claramente en la descripción a continuación de un ejemplo de realización, dado a título no limitativo, haciendo referencia a los dibujos anexos en los cuales:
- La figura 1 representa la sección inicial de una espiral de silicio
- la figura 2 corresponde a la figura 1 después de depósito de una material amorfo, y
- la figura 3 representa una etapa suplementaria de depósito de un revestimiento anti-fricción.
Descripción detallada de la invención
Se ha tomado a título de ejemplo una espiral montada en un movimiento relojero, y del cual es fácil detectar el disfuncionamiento, simplemente observando la inmovilidad del movimiento si dicha espiral se rompe, como se explicará más adelante.
La espiral se obtiene a partir de una plaqueta de silicio, que tiene un espesor ligeramente inferior a la altura final deseada para la espiral, por las técnicas conocidas de micromecanización.
Se puede por ejemplo recurrir a la técnica de grabado iónico reactivo (RIE) y dar a la espiral la forma que se estima más apropiada, como descrito por ejemplo en la solicitud internacional W02004/070476.
Teniendo en cuenta las dimensiones muy pequeñas de una espiral, una misma plaqueta permite fabricar de una sola vez un lote de espirales.
La figura 1 representa la sección de una espiral que tiene un alma de silicio, designando la referencia 3 la superficie exterior inicial. Cuando esta espiral está abandonada un cierto tiempo en el medio ambiente, se recubre naturalmente de dióxido de silicio llamado "óxido nativo" (no representado) cuyo espesor está sensiblemente comprendido entre 1 y 10 nm.
La figura 2 representa la misma sección de la espiral después de tratamiento según la invención, por oxidación térmica surfácica entre 900ºC y 1200ºC. A tal efecto se aplica el protocolo descrito en el trabajo "semiconductors devices": physics and technology (éds John Wiley & Sons, ISBN 0-471-87424-8, 01.01 1985, p.341-355). Así se necesita aproximadamente 10 h a una temperatura de 1100ºC para obtener un espesor de SiO_{2} de aproximadamente 1,9 \mum. Como se observa en la figura 2, el dióxido se forma en detrimento del silicio cuyo frente 3 retrocede para crear una nueva superficie de contacto 5 con el SiO_{2} formado. A la inversa, dado que SiO_{2} tiene una densidad menor, la superficie exterior 7 de SiO_{2} se extiende más allá de la superficie inicial de la espiral. Las posiciones de estas líneas de demarcación 3, 5 y 7 no están representadas a escala, pero es evidente que el conocimiento de las propiedades físicas de Si y de SiO_{2} y de las características del tratamiento térmico permite calcular las cotas iniciales para cortar la espiral para obtener finalmente de este tratamiento las cotas deseadas.
Según una primera serie de ensayos, la resistencia mecánica de piezas de silicio no oxidado y de silicio oxidado ha sido probada desde la etapa de fabricación hasta el montaje.
Durante la fabricación de un lote de piezas de silicio las piezas deben manipularse en diferentes etapas de fabricación. Para el caso preciso descrito aquí se trata de piezas de silicio proviniendo de dos plaquetas de silicio que han sufrido unas operaciones idénticas.
Las piezas han sido montadas después en un movimiento. Durante las pruebas las piezas están fijadas sobre un eje de acero y sufren pinzamientos con pinzas finas así como a la instalación de medida. Durante el montaje fina en movimiento, el centro de la pieza está sobre un eje macizo.
La tabla a continuación resume el resultado de este ensayo efectuado con 19 piezas no oxidadas y 36 piezas oxidadas.
\vskip1.000000\baselineskip
1
\vskip1.000000\baselineskip
Durante este ensayo, la comparación del porcentaje de éxito de toda una cadena de operación muestra que las piezas de silicio oxidadas son menos frágiles que las mismas piezas sin oxidación.
Las propiedades mecánicas de una espiral de silicio corriente (fig. 1) y de una espiral modificada según la invención (fig. 2) han sido igualmente comparadas en situación real después de montaje con la prueba a los choques mediante un aparato para ensayos de choques con péndulo de 5000 g.
Dos movimientos idénticos, en los cuales han sido montadas una espiral no tratada y una espiral modificada según la invención respectivamente, han sido sometidos a este test de resistencia mecánica.
Los movimientos equipados de espirales no oxidadas o teniendo un depósito mínimo de óxido nativo se han parado rápidamente debido a la rotura de la espiral por los choques.
Los movimientos equipados de espirales según la invención han resistido durante largo tiempo a los choques y han conservado un funcionamiento y un isocronismo del todo satisfactorios durante más de 30 semanas al ser llevados.
Así, de manera sorprendente, sustituyendo un material, el silicio por un material de densidad menor, el dióxido de silicio, se aumenta la resistencia mecánica, cuando lógicamente se hubiera esperado una disminución de la resistencia mecánica.
En el ejemplo que se acaba de describir, la "capa espesa amorfa" era dióxido de silicio. De manera equivalente se podría formarla con otros procedimientos de deposición, utilizando otros materiales tales como el nitruro o el carburo de silicio, o el carburo o el nitruro de titanio.
Este ejemplo muestra que todas las superficies exteriores de la pieza están uniformemente revestidas de depósito amorfo espeso. Es evidente que utilizando protecciones adecuadas el depósito podría efectuarse únicamente sobre las partes elegidas de la pieza, es decir las partes más solicitadas en el plano mecánico. A la inversa, por ejemplo después de un revestimiento total de SiO_{2}, es totalmente posible eliminar ciertas partes del revestimiento por ataque químico al BHF, por ejemplo por razones estéticas o para formar otro tipo de revestimiento.
Refiriéndonos a la figura 3, se ha representado una variante en la cual una etapa suplementaria permite añadir sobre la capa espesa amorfa 2 un revestimiento 4 realizado en un material elegido por sus propiedades tribológicas.
La descripción precedente se ha realizado tomando la espiral de un movimiento relojero a título de ejemplo, pero es evidente que las mismas ventajas se encontrarían para cualquier otra pieza de un movimiento relojero (rueda dentada, rueda de escape, ancora, piezas pivotadas, etc...) y en general cualquier pieza de un micromecanismo sin salir del marco de la presente invención.

Claims (7)

1. Procedimiento de fabricación de una pieza de silicio reforzado elegida entre el conjunto constituido por ruedas dentadas, ruedas de escape, áncoras, piezas pivotadas y piezas pasivas, dicho procedimiento comprende, en el orden, las etapas que consisten en:
- micromecanizar la pieza, o un lote de piezas en una plaqueta de silicio,
- efectuar, sobre toda la superficie de la pieza, en una o varias etapas, el depósito de dióxido de silicio, efectuándose el depósito por oxidación térmica a una temperatura comprendida entre 900ºC y 1200ºC de la superficie de la pieza durante un tiempo suficiente para obtener un espesor de dióxido de silicio al menos cinco veces superior al espesor de un dióxido de silicio nativo.
2. Procedimiento según la reivindicación 1, caracterizado porque, en la primera etapa del procedimiento, la pieza está micromecanizada con unas cotas ligeramente inferiores a las cotas finales deseadas.
3. Procedimiento según la reivindicación 1, caracterizada porque comprende además una etapa suplementaria que consiste en revestir, al menos parcialmente el depósito de dióxido de silicio de un revestimiento en un material elegido para sus propiedades tribológicas, tal como el carbono cristalizado en forma de diamante o nanotubos de carbono.
4. Procedimiento según la reivindicación 1, caracterizado porque comprende, después de la etapa de depósito de un revestimiento de dióxido de silicio, la etapa de eliminar ciertas partes de este revestimiento por ataque químico al BHF.
5. Pieza de micromecánica de silicio destinada a integrarse en un mecanismo relojero, caracterizada porque es susceptible de obtenerse por el procedimiento según una de las reivindicaciones 1 a 4, siendo elegida dicha pieza entre el conjunto constituido por las ruedas dentadas, las ruedas de escape, las áncoras, las piezas pivotadas y las piezas pasivas, caracterizada porque está revestida sobre toda su superficie de dióxido de silicio y porque el espesor formado es superior a cinco veces el espesor del dióxido de silicio nativo.
6. Pieza según la reivindicación 5, caracterizada porque el depósito de dióxido de silicio tiene un espesor superior a 50 nm.
7. Pieza según la reivindicación 5, caracterizada porque el depósito de dióxido de silicio es además al menos parcialmente revestido, para sus partes en contacto con otras piezas de una cadena cinemática, de un revestimiento elegido para sus propiedades tribológicas, tal como carbono cristalizado en forma de diamante (DLC) o nanotubos de carbono.
ES06776066T 2005-06-28 2006-06-21 Pieza de micromecanica reforzada. Active ES2318778T3 (es)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
EP05013912 2005-06-28
EP05013912 2005-06-28

Publications (1)

Publication Number Publication Date
ES2318778T3 true ES2318778T3 (es) 2009-05-01

Family

ID=36997239

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
ES06776066T Active ES2318778T3 (es) 2005-06-28 2006-06-21 Pieza de micromecanica reforzada.

Country Status (10)

Country Link
US (1) US8339904B2 (es)
EP (1) EP1904901B2 (es)
JP (2) JP2008544290A (es)
CN (1) CN101213497B (es)
AT (1) ATE416401T1 (es)
CH (1) CH696881A5 (es)
DE (1) DE602006004055D1 (es)
ES (1) ES2318778T3 (es)
HK (1) HK1122365A1 (es)
WO (1) WO2007000271A1 (es)

Families Citing this family (61)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP1791039A1 (fr) * 2005-11-25 2007-05-30 The Swatch Group Research and Development Ltd. Spiral en verre athermique pour mouvement d'horlogerie et son procédé de fabrication
EP2215531B1 (fr) * 2007-11-28 2011-03-09 Manufacture et fabrique de montres et chronomètres Ulysse Nardin Le Locle SA Oscillateur mécanique présentant un coefficient thermoélastique optimisé
CH699110A1 (fr) * 2008-07-10 2010-01-15 Swatch Group Res & Dev Ltd Procédé de fabrication d'une pièce micromécanique.
US10324419B2 (en) * 2009-02-06 2019-06-18 Domasko GmbH Mechanical oscillating system for a clock and functional element for a clock
EP2226689A1 (fr) * 2009-03-02 2010-09-08 Montres Breguet SA Pont ou platine pour un mouvement d'horlogerie
JP2010261906A (ja) 2009-05-11 2010-11-18 Seiko Instruments Inc 時計用歯車及び時計
US8770827B2 (en) 2009-05-18 2014-07-08 The Swatch Group Research And Development Ltd Method for coating micromechanical parts with high tribological performances for application in mechanical systems
EP2263971A1 (fr) * 2009-06-09 2010-12-22 Nivarox-FAR S.A. Pièce de micromécanique composite et son procédé de fabrication
CH701499B1 (fr) 2009-07-23 2016-09-15 Montres Breguet Sa Procède de fabrication d'une pièce micromécanique en silicium renforcé.
EP2284629A1 (fr) * 2009-08-13 2011-02-16 ETA SA Manufacture Horlogère Suisse Résonateur mécanique thermocompensé
JP5366318B2 (ja) * 2009-09-14 2013-12-11 セイコーインスツル株式会社 デテント脱進機およびデテント脱進機の作動レバーの製造方法
GB201001897D0 (en) * 2010-02-05 2010-03-24 Levingston Gideon Non magnetic mateial additives and processes for controling the thermoelastic modulus and spring stiffness within springs for precision instruments
JP5441168B2 (ja) * 2010-03-10 2014-03-12 セイコーインスツル株式会社 デテント脱進機と機械式時計
EP2395661A1 (fr) * 2010-06-10 2011-12-14 The Swatch Group Research and Development Ltd. Résonateur thermocompensé aux premier et second ordres
EP2453038A1 (en) 2010-11-16 2012-05-16 The Swatch Group Research and Development Ltd. Method for coating micromechanical parts with dual diamond coating
EP2472340B1 (fr) 2011-01-03 2021-03-03 Patek Philippe SA Genève Composant horloger et son procédé de fabrication
EP2503404B1 (fr) 2011-03-23 2019-05-01 Patek Philippe SA Genève Procédé de fabrication d'un composant mécanique, notamment horloger
CN103890666B (zh) * 2011-10-24 2017-10-13 劳力士有限公司 用于钟表机芯的振荡器
EP2727880B2 (de) 2012-11-05 2019-08-07 GFD Gesellschaft für Diamantprodukte mbH Dreidimensionales, mikromechanisches Bauteil mit einer Fase und Verfahren zu dessen Herstellung
CH707171A2 (fr) 2012-11-09 2014-05-15 Nivarox Sa Mécanisme horloger de limitation ou transmission.
WO2014075859A1 (fr) * 2012-11-16 2014-05-22 Nivarox-Far S.A. Résonateur moins sensible aux variations climatiques
EP2735540B1 (de) 2012-11-22 2014-11-12 Diamaze Microtechnology S.A. Zusammengesetztes mikromechanisches Bauteil mit Beschichtung, Verfahren zu dessen Herstellung sowie dessen Verwendung
EP2781968A1 (fr) 2013-03-19 2014-09-24 Nivarox-FAR S.A. Résonateur moins sensible aux variations climatiques
EP2832899A1 (fr) * 2013-08-02 2015-02-04 The Swatch Group Research and Development Ltd. Revêtement de diamant et procédé de dépôt d'un tel revêtement
EP2884347A1 (fr) * 2013-12-16 2015-06-17 ETA SA Manufacture Horlogère Suisse Spiral avec dispositif anti-rapprochement de spires
CN106104393A (zh) * 2014-01-29 2016-11-09 卡地亚国际股份公司 由在其组成中包含硅的陶瓷制成的热补偿的游丝和用于调节游丝的方法
US20170096657A1 (en) * 2014-03-11 2017-04-06 Les Innovations Materium Inc. Processes for preparing silica-carbon allotrope composite materials and using same
EP2937311B1 (fr) * 2014-04-25 2019-08-21 Rolex Sa Procédé de fabrication d'un composant horloger renforcé, composant horloger et pièce d'horlogerie correspondants
EP2942147B1 (fr) * 2014-05-08 2018-11-21 Nivarox-FAR S.A. Mécanisme d'échappement d'horlogerie sans lubrification
EP2945025B1 (fr) * 2014-05-16 2018-02-07 Nivarox-FAR S.A. Mécanisme d'horlogerie à couple de contact sans lubrification
CH709705B1 (fr) * 2014-05-28 2019-04-15 Sigatec Sa Procédé de fabrication d'une pièce de micro-mécanique et pièce de micro-mécanique correspondante.
CH709729A2 (fr) * 2014-06-03 2015-12-15 Swatch Group Res & Dev Ltd Pièce d'habillage à base de verre photostructurable.
EP2952979B1 (fr) * 2014-06-03 2017-03-01 Nivarox-FAR S.A. Composant horloger à base de verre photostructurable
EP3001256B2 (de) 2014-09-23 2024-02-07 GFD Gesellschaft für Diamantprodukte mbH Ankerhemmung
EP3037893B1 (fr) * 2014-12-22 2018-02-28 Patek Philippe SA Genève Composant micromécanique ou horloger à guidage flexible
CH711141A2 (fr) 2015-05-26 2016-11-30 FEHR et Cie SA Procédé de fabrication d'un cadran de montre noir comportant des nanotubes de carbone, et cadran de montre noir obtenu par un tel procédé.
EP3282325B1 (en) 2015-06-15 2020-07-29 Citizen Watch Co., Ltd. Speed governor of timepiece
EP3989009A1 (de) 2015-07-03 2022-04-27 Damasko Präzisionstechnik GmbH & Co. KG Spiralfeder und verfahren zu deren herstellung
EP3141519B1 (fr) * 2015-09-08 2018-03-14 Nivarox-FAR S.A. Procédé de fabrication d'une pièce micromécanique horlogère
EP3171230B1 (fr) * 2015-11-19 2019-02-27 Nivarox-FAR S.A. Composant d'horlogerie a tribologie amelioree
EP3181939B1 (fr) 2015-12-18 2019-02-20 CSEM Centre Suisse d'Electronique et de Microtechnique SA - Recherche et Développement Procede de fabrication d'un spiral d'une raideur predeterminee par ajout de matiere
CH711962B1 (fr) 2015-12-18 2017-10-31 Csem Centre Suisse D'electronique Et De Microtechnique Sa – Rech Et Développement Procédé de fabrication d'un spiral d'une raideur prédéterminée avec retrait localisé de matière.
EP3181938B1 (fr) 2015-12-18 2019-02-20 CSEM Centre Suisse d'Electronique et de Microtechnique SA - Recherche et Développement Procede de fabrication d'un spiral d'une raideur predeterminee par retrait de matiere
EP3584640B1 (fr) * 2016-06-13 2023-01-11 Rolex Sa Oscillateur horloger
FR3052881B1 (fr) * 2016-06-21 2020-10-02 Lvmh Swiss Mft Sa Piece pour mouvement horloger, mouvement horloger, piece d'horlogerie et procede de fabrication d'une telle piece pour mouvement horloger
EP3285124B1 (fr) 2016-08-17 2020-12-16 Tronic's Microsystems S.A Résonateur mécanique pour pièce d'horlogerie ainsi que procédé de réalisation d'un tel résonateur
US20170285573A1 (en) * 2016-11-30 2017-10-05 Firehouse Horology, Inc. Crystalline Compounds for Use in Mechanical Watches and Methods of Manufacture Thereof
WO2018104247A1 (fr) * 2016-12-05 2018-06-14 Officine Panerai Ag Composant horloger presentant des proprietes tribologiques ameliorees et methode d'optimisation des proprietes tribologiques d'un composant horloger
US11036184B2 (en) 2016-12-07 2021-06-15 FEHR et Cie SA Method of fabrication of a black watch dial, and said black watch dial
FR3072688B1 (fr) 2017-10-20 2019-10-11 Tronic's Microsystems Procede de fabrication d'une piece micromecanique en silicium
EP3499317A1 (fr) * 2017-12-13 2019-06-19 Rolex Sa Mobile de calendrier horloger
EP3543795A1 (fr) * 2018-03-20 2019-09-25 Patek Philippe SA Genève Procede de fabrication de composants horlogers en silicium
EP3557333B1 (fr) 2018-04-16 2020-11-04 Patek Philippe SA Genève Procédé de fabrication d'un ressort moteur d'horlogerie
EP3671361A1 (fr) 2018-12-18 2020-06-24 Rolex Sa Composant horloger renforcé
CN109898051B (zh) * 2019-03-29 2020-02-04 中南大学 一种抗磨损耐腐蚀的DLC/SiNx复合薄膜及其制备方法
EP3783445B1 (fr) * 2019-08-22 2023-06-14 ETA SA Manufacture Horlogère Suisse Mécanisme régulateur d'horlogerie à haut facteur de qualité et à lubrification minimale
EP3795855A1 (fr) 2019-09-20 2021-03-24 Patek Philippe SA Genève Procede de realisation d'un ressort horloger en materiau monocristallin et ressort horloger obtenu par ce procede
EP3825782B1 (fr) 2019-11-25 2023-11-15 Patek Philippe SA Genève Composant horloger renforcé
EP3839649A1 (fr) * 2019-12-20 2021-06-23 Nivarox-FAR S.A. Composant horloger rigide pour mecanisme oscillateur ou pour mecanisme d'echappement et mouvement d'horlogerie comportant un tel composant
EP3839644A1 (fr) * 2019-12-20 2021-06-23 Nivarox-FAR S.A. Composant horloger flexible, notamment pour mecanisme oscillateur, et mouvement d'horlogerie comportant un tel composant
EP3882710A1 (fr) 2020-03-19 2021-09-22 Patek Philippe SA Genève Procédé de fabrication d'un composant horloger à base de silicium

Family Cites Families (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4196233A (en) * 1974-02-07 1980-04-01 Ciba-Geigy Corporation Process for coating inorganic substrates with carbides, nitrides and/or carbonitrides
JPH0813348B2 (ja) * 1988-11-08 1996-02-14 シチズン時計株式会社 時計ケース等の装身具類の金属表層及びその形成方法
CA2002138C (en) * 1988-11-08 1999-12-14 Susumu Yamamoto High-strength coil spring and method of producing same
US5242711A (en) * 1991-08-16 1993-09-07 Rockwell International Corp. Nucleation control of diamond films by microlithographic patterning
US5424224A (en) 1993-01-19 1995-06-13 Texas Instruments Incorporated Method of surface protection of a semiconductor wafer during polishing
FR2731715B1 (fr) * 1995-03-17 1997-05-16 Suisse Electronique Microtech Piece de micro-mecanique et procede de realisation
US6040008A (en) * 1997-08-04 2000-03-21 University Of Florida Silicon carbide fibers with boron nitride coatings
DE19808327C2 (de) 1997-10-02 2002-11-14 Daimler Chrysler Ag Vorrichtung zur intermittierenden Kraftstoffeinspritzung
US6755566B2 (en) 2001-02-15 2004-06-29 Konrad Damasko Clockwork
EP1237058A1 (fr) * 2001-02-28 2002-09-04 Eta SA Fabriques d'Ebauches Utilisation d'un revêtement amagnétique pour recouvrir des pièces dans un mouvement d'horlogerie
JP2002341054A (ja) * 2001-05-11 2002-11-27 Seiko Instruments Inc ヒゲぜんまい、同構造体、これを用いた調速機構及び時計
DE60206939T2 (de) 2002-11-25 2006-07-27 Csem Centre Suisse D'electronique Et De Microtechnique S.A. Spiraluhrwerkfeder und Verfahren zu deren Herstellung
EP1445670A1 (fr) 2003-02-06 2004-08-11 ETA SA Manufacture Horlogère Suisse Spiral de résonateur balancier-spiral et son procédé de fabrication
DE10317889B4 (de) 2003-04-17 2008-10-30 GFD-Gesellschaft für Diamantprodukte mbH Mikromechanisches Bauteil und Verfahren zu seiner Herstellung
FR2855651A1 (fr) * 2003-06-02 2004-12-03 Jean Francois Lanier Procede de realisation de cadran d'afficheur par traitement de substrat en silicium

Also Published As

Publication number Publication date
EP1904901A1 (fr) 2008-04-02
EP1904901B2 (fr) 2013-07-10
JP2008544290A (ja) 2008-12-04
CN101213497A (zh) 2008-07-02
EP1904901B1 (fr) 2008-12-03
CN101213497B (zh) 2010-11-24
US8339904B2 (en) 2012-12-25
US20100214880A1 (en) 2010-08-26
ATE416401T1 (de) 2008-12-15
DE602006004055D1 (de) 2009-01-15
HK1122365A1 (en) 2009-05-15
WO2007000271A1 (fr) 2007-01-04
CH696881A5 (fr) 2008-01-15
JP3154091U (ja) 2009-10-08

Similar Documents

Publication Publication Date Title
ES2318778T3 (es) Pieza de micromecanica reforzada.
CN101379445B (zh) 防震内桩
CN103809421B (zh) 钟表的防脱扣机构
EP2154583B1 (fr) Spiral pour résonateur balancier-spiral
JP5809717B2 (ja) 形状記憶金属によって温度補償される共振器
JP3183864U (ja) 補強シリコン製マイクロメカニカル部品の製造方法
US20200073329A1 (en) Device For Timepiece, Timepiece Movement And Timepiece Comprising Such A Device
JP6085355B2 (ja) 時計用ヒゲゼンマイ
CN106896695B (zh) 具有受力的弹性装置的复合构件
CN103576527B (zh) 用于钟表的防脱扣游丝
US20230350346A1 (en) Multistage micromechanical timepiece and method for making same
CN111801627B (zh) 硅基钟表弹簧的制造方法
JP6223193B2 (ja) ひげぜんまい及びその製造方法
TWI709009B (zh) 用於鐘錶的機構,手錶機芯和包含這種機構的鐘錶
US20220326657A1 (en) Method of making a timepiece spring from monocrystalline material and timepiece spring obtained by this method
JP6721454B2 (ja) 時計用部品
JP2017049081A (ja) ひげぜんまい及びその製造方法