CN101213497B - 强化的微机械部件 - Google Patents

强化的微机械部件 Download PDF

Info

Publication number
CN101213497B
CN101213497B CN2006800236658A CN200680023665A CN101213497B CN 101213497 B CN101213497 B CN 101213497B CN 2006800236658 A CN2006800236658 A CN 2006800236658A CN 200680023665 A CN200680023665 A CN 200680023665A CN 101213497 B CN101213497 B CN 101213497B
Authority
CN
China
Prior art keywords
parts
silicon dioxide
silicon
coating
described parts
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
CN2006800236658A
Other languages
English (en)
Other versions
CN101213497A (zh
Inventor
R·拉波
M·利普纳
L·帕拉特
T·科尼斯
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
ETA Manufacture Horlogere Suisse SA
Original Assignee
ETA Manufacture Horlogere Suisse SA
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Family has litigation
First worldwide family litigation filed litigation Critical https://patents.darts-ip.com/?family=36997239&utm_source=google_patent&utm_medium=platform_link&utm_campaign=public_patent_search&patent=CN101213497(B) "Global patent litigation dataset” by Darts-ip is licensed under a Creative Commons Attribution 4.0 International License.
Application filed by ETA Manufacture Horlogere Suisse SA filed Critical ETA Manufacture Horlogere Suisse SA
Publication of CN101213497A publication Critical patent/CN101213497A/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN101213497B publication Critical patent/CN101213497B/zh
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G04—HOROLOGY
    • G04D—APPARATUS OR TOOLS SPECIALLY DESIGNED FOR MAKING OR MAINTAINING CLOCKS OR WATCHES
    • G04D3/00—Watchmakers' or watch-repairers' machines or tools for working materials
    • G04D3/0074—Watchmakers' or watch-repairers' machines or tools for working materials for treatment of the material, e.g. surface treatment
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B81—MICROSTRUCTURAL TECHNOLOGY
    • B81C—PROCESSES OR APPARATUS SPECIALLY ADAPTED FOR THE MANUFACTURE OR TREATMENT OF MICROSTRUCTURAL DEVICES OR SYSTEMS
    • B81C1/00—Manufacture or treatment of devices or systems in or on a substrate
    • B81C1/00642—Manufacture or treatment of devices or systems in or on a substrate for improving the physical properties of a device
    • B81C1/0065—Mechanical properties
    • B81C1/00682—Treatments for improving mechanical properties, not provided for in B81C1/00658 - B81C1/0065
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C30—CRYSTAL GROWTH
    • C30B—SINGLE-CRYSTAL GROWTH; UNIDIRECTIONAL SOLIDIFICATION OF EUTECTIC MATERIAL OR UNIDIRECTIONAL DEMIXING OF EUTECTOID MATERIAL; REFINING BY ZONE-MELTING OF MATERIAL; PRODUCTION OF A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; SINGLE CRYSTALS OR HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; AFTER-TREATMENT OF SINGLE CRYSTALS OR A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; APPARATUS THEREFOR
    • C30B29/00—Single crystals or homogeneous polycrystalline material with defined structure characterised by the material or by their shape
    • C30B29/02—Elements
    • C30B29/06—Silicon
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C30—CRYSTAL GROWTH
    • C30B—SINGLE-CRYSTAL GROWTH; UNIDIRECTIONAL SOLIDIFICATION OF EUTECTIC MATERIAL OR UNIDIRECTIONAL DEMIXING OF EUTECTOID MATERIAL; REFINING BY ZONE-MELTING OF MATERIAL; PRODUCTION OF A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; SINGLE CRYSTALS OR HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; AFTER-TREATMENT OF SINGLE CRYSTALS OR A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; APPARATUS THEREFOR
    • C30B33/00—After-treatment of single crystals or homogeneous polycrystalline material with defined structure
    • C30B33/005—Oxydation
    • G—PHYSICS
    • G04—HOROLOGY
    • G04B—MECHANICALLY-DRIVEN CLOCKS OR WATCHES; MECHANICAL PARTS OF CLOCKS OR WATCHES IN GENERAL; TIME PIECES USING THE POSITION OF THE SUN, MOON OR STARS
    • G04B13/00—Gearwork
    • G04B13/02—Wheels; Pinions; Spindles; Pivots
    • G—PHYSICS
    • G04—HOROLOGY
    • G04B—MECHANICALLY-DRIVEN CLOCKS OR WATCHES; MECHANICAL PARTS OF CLOCKS OR WATCHES IN GENERAL; TIME PIECES USING THE POSITION OF THE SUN, MOON OR STARS
    • G04B13/00—Gearwork
    • G04B13/02—Wheels; Pinions; Spindles; Pivots
    • G04B13/021—Wheels; Pinions; Spindles; Pivots elastic fitting with a spindle, axis or shaft
    • G04B13/022—Wheels; Pinions; Spindles; Pivots elastic fitting with a spindle, axis or shaft with parts made of hard material, e.g. silicon, diamond, sapphire, quartz and the like
    • G—PHYSICS
    • G04—HOROLOGY
    • G04B—MECHANICALLY-DRIVEN CLOCKS OR WATCHES; MECHANICAL PARTS OF CLOCKS OR WATCHES IN GENERAL; TIME PIECES USING THE POSITION OF THE SUN, MOON OR STARS
    • G04B15/00—Escapements
    • G04B15/14—Component parts or constructional details, e.g. construction of the lever or the escape wheel
    • G—PHYSICS
    • G04—HOROLOGY
    • G04B—MECHANICALLY-DRIVEN CLOCKS OR WATCHES; MECHANICAL PARTS OF CLOCKS OR WATCHES IN GENERAL; TIME PIECES USING THE POSITION OF THE SUN, MOON OR STARS
    • G04B17/00—Mechanisms for stabilising frequency
    • G04B17/04—Oscillators acting by spring tension
    • G04B17/06—Oscillators with hairsprings, e.g. balance
    • G04B17/066—Manufacture of the spiral spring
    • G—PHYSICS
    • G04—HOROLOGY
    • G04D—APPARATUS OR TOOLS SPECIALLY DESIGNED FOR MAKING OR MAINTAINING CLOCKS OR WATCHES
    • G04D3/00—Watchmakers' or watch-repairers' machines or tools for working materials
    • G04D3/0069—Watchmakers' or watch-repairers' machines or tools for working materials for working with non-mechanical means, e.g. chemical, electrochemical, metallising, vapourising; with electron beams, laser beams

Abstract

本发明涉及微机械部件例如钟表机芯部件，其包括硅核心(1)。所述硅核心的表面(3)的部分或全部覆盖有厚的非晶态材料(2)。所述材料优选地是二氧化硅，并且厚度至少比原生二氧化硅大五倍。

Description

强化的微机械部件
技术领域
本发明涉及一种由硅制成的微机械部件，所述部件已经过处理以便具有提高的机械特性。所述部件例如-但不局限于-是用于钟表机械机芯的微机械部件，即，具有例如用于传递和/或转换能量以驱动指针以便与表盘相结合来提供时间指示的主动功能的部件，或者被动部件，其例如用于定位轮副。
背景技术
硅是在机械部件尤其是微机械部件的制造中被越来越多地使用的材料，所述部件为“受约束”部件即保持连接到基底上的部件，所述部件在该基底上形成，或者“自由”部件例如属于钟表机芯的运动链系的部件。
与通常用于制造微机械部件例如齿轮、铰接部件或弹簧的金属或金属合金相比，硅的优点是其密度低3到4倍，从而惯性大大减小并且对磁场不敏感。这些优点在钟表学领域在能源由弹簧形成时对于钟表的等时性和工作持续时间尤其重要。
但是，已知硅对冲击敏感，而冲击在组装时是必要的，在工作中会不可避免地发生、或者当例如用户的手表敲击在某物上时或者手表跌落时会偶然发生。
发明内容
本发明的一个目标是提供一种旨在提高硅微机械部件的机械抗性尤其是抗冲击性的解决方案。
因此，本发明涉及一种硅部件，该硅部件的全部表面或者部分表面覆盖有厚的非晶态材料，所述部件是或不是在钟表机芯内移动的部件。该非晶态材料例如是硅的氧化物、氮化物或碳化物，或者钛的碳化物。二氧化硅是优选材料，在此情况下，该二氧化硅的厚度至少比原生二氧化硅的厚度大五倍。
本发明还涉及一种方法，该方法能够在二氧化硅的情况下尤其通过热氧化形成厚的非晶态层，这大大提高了所述部件的机械特性，对此将在下文详细说明。
附图说明
本发明的其他特征和优点在下文对示例性实施例的说明中更加显而易见，该示例是参照附图仅作为非限制性的举例给出的，在附图中：
图1示出硅游丝的初始剖视图；
图2对应于在沉积非晶态材料之后的图1；以及
图3示出沉积耐磨涂层的附加步骤。
具体实施方式
安装在钟表机芯内的游丝在此被作为示例，如下文将说明的，可以非常容易地检测游丝的故障，即，仅通过观察机芯停止就可知游丝发生断裂。
利用已知的微机械加工技术用硅钢薄板(silicon plate)获得游丝，该硅钢薄板的厚度稍小于游丝的预期最终高度。
如在国际专利申请WO 2004/070476中公开的，例如可使用反应离子蚀刻技术(RIE)并且使该游丝具有被认为最合适的形状。
考虑到游丝具有非常小的尺寸，可在同一个板上一次制造出一批游丝。
图1示出具有由硅制成的核心的游丝的剖视图，标号3指示初始外表面。当此游丝被留置在周围空气中一定时间时，该游丝本身自然地覆盖被称为“原生氧化物”的二氧化硅(未示出)，该二氧化硅的厚度大致在1到10nm之间。
图2示出在根据本发明通过900℃到1200℃之间的表面热氧化对游丝进行处理之后的游丝的同一剖视图。为此，采用公报“Semiconductorsdevices：physics and technology(ed.John Wiley & Sons，ISBN0-471-87424-8，01.011985，p.341-355)”中公开的协议。因此，在1100℃的温度下花费大约10个小时来获得大约1.9微米的二氧化硅厚度。从图2可见，二氧化硅利用硅形成，所述硅的表面3向后移动以便产生具有所形成的SiO2的新界面5。相反地，鉴于SiO2具有较低的密度，SiO2的外表面7延伸到游丝的初始表面以外。这些分隔线3、5和7的位置没有按比例示出，但是很明显，对Si和SiO2的物理特性以及对热处理性能的了解使得能够计算用于蚀刻游丝的初始尺寸，以便在该处理结束时获得预期的尺寸。
在第一组测试期间，从制造阶段到组装阶段测试未被氧化的硅部件和被氧化的硅部件的机械抗性。
在一批硅部件的制造期间，需要在不同的制造阶段对该部件进行操控。针对此报告中所述的特定情况，对源自已经历相同步骤的两个硅钢薄板的硅部件予以考虑。
所述部件随后已被安装在机芯内。在该测试期间，所述部件被附装在钢制心轴上，并且被镊子和测量装置夹紧。在最终组装到机芯期间，所述部件的中心被穿在固体心轴上。
下表总结了对19个未被氧化部件和36个被氧化部件执行的所述测试的结果。
Figure GSB00000027768900031
在此测试期间，整个一系列操作的成功率的比较清楚地表明，被氧化的硅部件比没有氧化的相同部件更不易碎。
此外，在使用5000g的冲击摆锤的冲击试验中在组装之后的真实状况下比较普通硅游丝(图1)和根据本发明改型的游丝(图2)的机械特性。
已经对两个相同的机芯进行此机械抗性实验，在该两个机芯中已经安装了未被处理的游丝和根据本发明改型的游丝。
装有未被氧化的游丝或者具有非常薄的原生氧化物沉积层的机芯由于该游丝受到冲击发生断裂而迅速停止。
装有根据本发明的游丝的机芯在长时间内经受住了冲击并且保持工作，尽管受到磨损，但是该机芯的等时性在多于30周的时间内保持令人满意。
因此，尽管人们可能在逻辑上认为用较低密度的材料二氧化硅代替材料硅会导致机械抗性减小，但是令人惊讶的是，这反而增加了机械抗性。
在刚刚描述的示例中，“厚的非晶态层”是二氧化硅。同样地，所述层可通过其他沉积方法、使用其他材料例如硅的氮化物或碳化物或者钛的碳化物或氮化物形成。
此示例示出所述部件的所有外表面均匀地覆盖有厚的非晶态沉积物。当然，使用合适的掩膜可以仅在该部件的被选定的部分上、即被特别施加机械应力的部分上进行沉积。相反，例如在完成SiO2的涂层之后，例如出于美观原因或者为了形成另一种涂层，可利用BHF通过化学蚀刻清除该涂层的特定部分。
图3示出一种变型，其中附加步骤在厚的非晶态层上添加了涂层4，该涂层4由为摩擦学特性选择的材料形成。
前文以用于钟表机芯的游丝作为示例进行了说明，但是很明显，对于手表机芯的任何其他部件(齿轮，擒纵轮，擒纵叉，枢转部件等)，更概括地说任何微机械部件，都可以获得相同的优点而不会背离本发明的范围。

Claims (14)

1.一种将被集成在钟表机构内的硅微机械部件，其特征在于，所述部件在整个表面上覆盖有二氧化硅的涂层，并且所述涂层的厚度比原生二氧化硅的厚度大五倍。
2.根据权利要求1的部件，其特征在于，所述部件为枢转部件。
3.根据权利要求2的部件，其特征在于，所述部件为选自齿轮、擒纵轮和擒纵叉的枢转部件。
4.根据权利要求1的部件，其特征在于，所述部件为被动部件。
5.一种用于制造强化的硅微机械部件的方法，所述方法包括以下步骤：
-在硅钢薄板内蚀刻所述部件或一批所述部件，
-在一个或多个步骤中，在所述部件的整个表面上沉积二氧化硅层，所述沉积是通过在900℃到1200℃的温度下对所述部件的表面进行足够长时间的热氧化以获得二氧化硅层实现的，所述二氧化硅层的厚度至少比原生二氧化硅的厚度大五倍。
6.根据权利要求5的方法，其特征在于，所述部件为枢转部件。
7.根据权利要求6的方法，其特征在于，所述部件为选自齿轮、擒纵轮和擒纵叉的枢转部件。
8.根据权利要求5的方法，其特征在于，所述部件为被动部件。
9.根据权利要求5的方法，其特征在于，在所述方法的第一步骤中，将所述部件蚀刻成具有比预期最终尺寸稍小的尺寸。
10.根据权利要求5的方法，其特征在于，所述方法还包括附加步骤，在该附加步骤中利用为摩擦学特性选择的材料的涂层至少部分地覆盖所述二氧化硅沉积物。
11.根据权利要求5的方法，其特征在于，在沉积二氧化硅层的步骤之后，所述方法包括利用BHF通过化学蚀刻清除所述层的特定部分的步骤。
12.一种将被集成在钟表机构内的硅微机械部件，其特征在于，所述部件是通过根据权利要求5-11中任一项的方法获得的。
13.根据权利要求1或12的部件，其特征在于，所述二氧化硅的涂层的厚度大于50nm。
14.根据权利要求1或12的部件，其特征在于，所述二氧化硅的涂层在与运动链系的其他部件接触的部分上还至少部分地覆盖有为摩擦学特性而选择的涂层。
CN2006800236658A 2005-06-28 2006-06-21 强化的微机械部件 Active CN101213497B (zh)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
EP05013912 2005-06-28
EP05013912.0 2005-06-28
PCT/EP2006/005959 WO2007000271A1 (fr) 2005-06-28 2006-06-21 Piece de micro-mecanique renforcee

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN101213497A CN101213497A (zh) 2008-07-02
CN101213497B true CN101213497B (zh) 2010-11-24

Family

ID=36997239

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN2006800236658A Active CN101213497B (zh) 2005-06-28 2006-06-21 强化的微机械部件

Country Status (10)

Country Link
US (1) US8339904B2 (zh)
EP (1) EP1904901B2 (zh)
JP (2) JP2008544290A (zh)
CN (1) CN101213497B (zh)
AT (1) ATE416401T1 (zh)
CH (1) CH696881A5 (zh)
DE (1) DE602006004055D1 (zh)
ES (1) ES2318778T3 (zh)
HK (1) HK1122365A1 (zh)
WO (1) WO2007000271A1 (zh)

Families Citing this family (61)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP1791039A1 (fr) * 2005-11-25 2007-05-30 The Swatch Group Research and Development Ltd. Spiral en verre athermique pour mouvement d'horlogerie et son procédé de fabrication
CH699494B1 (fr) * 2007-11-28 2010-09-30 Manuf Et Fabrique De Montres E Oscillateur mécanique présentant un coefficient thermoélastique optimisé et procédé de fabrication d'un tel oscillateur.
EP2145857B1 (fr) * 2008-07-10 2014-03-19 The Swatch Group Research and Development Ltd. Procédé de fabrication d'une pièce micromécanique
US10324419B2 (en) * 2009-02-06 2019-06-18 Domasko GmbH Mechanical oscillating system for a clock and functional element for a clock
EP2226689A1 (fr) * 2009-03-02 2010-09-08 Montres Breguet SA Pont ou platine pour un mouvement d'horlogerie
JP2010261906A (ja) 2009-05-11 2010-11-18 Seiko Instruments Inc 時計用歯車及び時計
JP5647232B2 (ja) 2009-05-18 2014-12-24 ザ スウォッチ グループ リサーチアンド ディベロップメント リミティド． 微小機械システムに適用される高い摩擦性能を維持しながら微小機械部品をコーティングする方法
EP2263971A1 (fr) * 2009-06-09 2010-12-22 Nivarox-FAR S.A. Pièce de micromécanique composite et son procédé de fabrication
EP2277822A1 (fr) 2009-07-23 2011-01-26 Montres Breguet S.A. Procede de fabrication d'une piece micromecanique en silicium renforce
EP2284629A1 (fr) * 2009-08-13 2011-02-16 ETA SA Manufacture Horlogère Suisse Résonateur mécanique thermocompensé
JP5366318B2 (ja) * 2009-09-14 2013-12-11 セイコーインスツル株式会社 デテント脱進機およびデテント脱進機の作動レバーの製造方法
GB201001897D0 (en) * 2010-02-05 2010-03-24 Levingston Gideon Non magnetic mateial additives and processes for controling the thermoelastic modulus and spring stiffness within springs for precision instruments
JP5441168B2 (ja) * 2010-03-10 2014-03-12 セイコーインスツル株式会社 デテント脱進機と機械式時計
EP2395661A1 (fr) * 2010-06-10 2011-12-14 The Swatch Group Research and Development Ltd. Résonateur thermocompensé aux premier et second ordres
EP2453038A1 (en) 2010-11-16 2012-05-16 The Swatch Group Research and Development Ltd. Method for coating micromechanical parts with dual diamond coating
EP2472340B1 (fr) 2011-01-03 2021-03-03 Patek Philippe SA Genève Composant horloger et son procédé de fabrication
EP2503404B1 (fr) 2011-03-23 2019-05-01 Patek Philippe SA Genève Procédé de fabrication d'un composant mécanique, notamment horloger
JP6231986B2 (ja) * 2011-10-24 2017-11-15 ロレックス・ソシエテ・アノニムＲｏｌｅｘ Ｓａ 時計ムーブメントの振動体
EP2727880B2 (de) 2012-11-05 2019-08-07 GFD Gesellschaft für Diamantprodukte mbH Dreidimensionales, mikromechanisches Bauteil mit einer Fase und Verfahren zu dessen Herstellung
CH707171A2 (fr) 2012-11-09 2014-05-15 Nivarox Sa Mécanisme horloger de limitation ou transmission.
KR101846802B1 (ko) * 2012-11-16 2018-04-06 니바록스-파 에스.에이. 열적으로 보상된 스프링식 밸런스 공진기용 보상 밸런스 스프링
EP2735540B1 (de) 2012-11-22 2014-11-12 Diamaze Microtechnology S.A. Zusammengesetztes mikromechanisches Bauteil mit Beschichtung, Verfahren zu dessen Herstellung sowie dessen Verwendung
EP2781968A1 (fr) * 2013-03-19 2014-09-24 Nivarox-FAR S.A. Résonateur moins sensible aux variations climatiques
EP2832899A1 (fr) * 2013-08-02 2015-02-04 The Swatch Group Research and Development Ltd. Revêtement de diamant et procédé de dépôt d'un tel revêtement
EP2884347A1 (fr) * 2013-12-16 2015-06-17 ETA SA Manufacture Horlogère Suisse Spiral avec dispositif anti-rapprochement de spires
EP3100120A1 (fr) * 2014-01-29 2016-12-07 Cartier International AG Ressort spiral thermocompensé en céramique comprenant l' élément silicium dans sa composition et son procédé de réglage
CA2979303A1 (en) * 2014-03-11 2015-09-17 Les Innovations Materium Inc. Processes for preparing silica-carbon allotrope composite materials and using same
EP2937311B1 (fr) * 2014-04-25 2019-08-21 Rolex Sa Procédé de fabrication d'un composant horloger renforcé, composant horloger et pièce d'horlogerie correspondants
EP2942147B1 (fr) * 2014-05-08 2018-11-21 Nivarox-FAR S.A. Mécanisme d'échappement d'horlogerie sans lubrification
EP2945025B1 (fr) * 2014-05-16 2018-02-07 Nivarox-FAR S.A. Mécanisme d'horlogerie à couple de contact sans lubrification
CH709705B1 (fr) * 2014-05-28 2019-04-15 Sigatec Sa Procédé de fabrication d'une pièce de micro-mécanique et pièce de micro-mécanique correspondante.
EP2952979B1 (fr) * 2014-06-03 2017-03-01 Nivarox-FAR S.A. Composant horloger à base de verre photostructurable
CH709729A2 (fr) * 2014-06-03 2015-12-15 Swatch Group Res & Dev Ltd Pièce d'habillage à base de verre photostructurable.
EP3001256B2 (de) 2014-09-23 2024-02-07 GFD Gesellschaft für Diamantprodukte mbH Ankerhemmung
EP3037893B1 (fr) * 2014-12-22 2018-02-28 Patek Philippe SA Genève Composant micromécanique ou horloger à guidage flexible
CH711141A2 (fr) 2015-05-26 2016-11-30 FEHR et Cie SA Procédé de fabrication d'un cadran de montre noir comportant des nanotubes de carbone, et cadran de montre noir obtenu par un tel procédé.
WO2016203953A1 (ja) 2015-06-15 2016-12-22 シチズン時計株式会社 時計の調速装置
WO2017006228A1 (de) * 2015-07-03 2017-01-12 Damasko Uhrenmanufaktur KG Spiralfeder und verfahren zu deren herstellung
CH711498B1 (fr) 2015-09-08 2020-03-13 Nivarox Sa Procédé de fabrication d'une pièce micromécanique horlogère et ladite pièce micromécanique horlogère.
EP3171230B1 (fr) * 2015-11-19 2019-02-27 Nivarox-FAR S.A. Composant d'horlogerie a tribologie amelioree
EP3181939B1 (fr) 2015-12-18 2019-02-20 CSEM Centre Suisse d'Electronique et de Microtechnique SA - Recherche et Développement Procede de fabrication d'un spiral d'une raideur predeterminee par ajout de matiere
EP3181938B1 (fr) 2015-12-18 2019-02-20 CSEM Centre Suisse d'Electronique et de Microtechnique SA - Recherche et Développement Procede de fabrication d'un spiral d'une raideur predeterminee par retrait de matiere
EP3181940B2 (fr) 2015-12-18 2023-07-05 CSEM Centre Suisse d'Electronique et de Microtechnique SA - Recherche et Développement Procede de fabrication d'un spiral d'une raideur predeterminee par retrait localise de matiere
EP3258325B1 (fr) * 2016-06-13 2019-10-30 Rolex Sa Axe horloger
FR3052881B1 (fr) * 2016-06-21 2020-10-02 Lvmh Swiss Mft Sa Piece pour mouvement horloger, mouvement horloger, piece d'horlogerie et procede de fabrication d'une telle piece pour mouvement horloger
EP3285124B1 (fr) 2016-08-17 2020-12-16 Tronic's Microsystems S.A Résonateur mécanique pour pièce d'horlogerie ainsi que procédé de réalisation d'un tel résonateur
US20170285573A1 (en) * 2016-11-30 2017-10-05 Firehouse Horology, Inc. Crystalline Compounds for Use in Mechanical Watches and Methods of Manufacture Thereof
WO2018104247A1 (fr) * 2016-12-05 2018-06-14 Officine Panerai Ag Composant horloger presentant des proprietes tribologiques ameliorees et methode d'optimisation des proprietes tribologiques d'un composant horloger
US11036184B2 (en) 2016-12-07 2021-06-15 FEHR et Cie SA Method of fabrication of a black watch dial, and said black watch dial
FR3072688B1 (fr) 2017-10-20 2019-10-11 Tronic's Microsystems Procede de fabrication d'une piece micromecanique en silicium
EP3499317A1 (fr) * 2017-12-13 2019-06-19 Rolex Sa Mobile de calendrier horloger
EP3543795A1 (fr) 2018-03-20 2019-09-25 Patek Philippe SA Genève Procede de fabrication de composants horlogers en silicium
EP3557333B1 (fr) * 2018-04-16 2020-11-04 Patek Philippe SA Genève Procédé de fabrication d'un ressort moteur d'horlogerie
EP3671361A1 (fr) * 2018-12-18 2020-06-24 Rolex Sa Composant horloger renforcé
CN109898051B (zh) * 2019-03-29 2020-02-04 中南大学 一种抗磨损耐腐蚀的DLC/SiNx复合薄膜及其制备方法
EP3783445B1 (fr) * 2019-08-22 2023-06-14 ETA SA Manufacture Horlogère Suisse Mécanisme régulateur d'horlogerie à haut facteur de qualité et à lubrification minimale
EP3795855A1 (fr) 2019-09-20 2021-03-24 Patek Philippe SA Genève Procede de realisation d'un ressort horloger en materiau monocristallin et ressort horloger obtenu par ce procede
EP3825782B1 (fr) 2019-11-25 2023-11-15 Patek Philippe SA Genève Composant horloger renforcé
EP3839649A1 (fr) * 2019-12-20 2021-06-23 Nivarox-FAR S.A. Composant horloger rigide pour mecanisme oscillateur ou pour mecanisme d'echappement et mouvement d'horlogerie comportant un tel composant
EP3839644A1 (fr) * 2019-12-20 2021-06-23 Nivarox-FAR S.A. Composant horloger flexible, notamment pour mecanisme oscillateur, et mouvement d'horlogerie comportant un tel composant
EP3882710A1 (fr) 2020-03-19 2021-09-22 Patek Philippe SA Genève Procédé de fabrication d'un composant horloger à base de silicium

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4196233A (en) * 1974-02-07 1980-04-01 Ciba-Geigy Corporation Process for coating inorganic substrates with carbides, nitrides and/or carbonitrides
CN1051399A (zh) * 1988-11-08 1991-05-15 星辰时计株式会社 钟表外壳等装饰品类的金属表层及其形成方法
EP0732635A1 (fr) * 1995-03-17 1996-09-18 C.S.E.M. Centre Suisse D'electronique Et De Microtechnique Sa Pièce de micro-mécanique et procédé de réalisation
CN1498362A (zh) * 2001-02-28 2004-05-19 ��ʿͨ�����ɷ����޹�˾ 非磁性涂层在涂覆手表机件部分中的应用
FR2855651A1 (fr) * 2003-06-02 2004-12-03 Jean Francois Lanier Procede de realisation de cadran d'afficheur par traitement de substrat en silicium

Family Cites Families (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CA2002138C (en) * 1988-11-08 1999-12-14 Susumu Yamamoto High-strength coil spring and method of producing same
US5242711A (en) * 1991-08-16 1993-09-07 Rockwell International Corp. Nucleation control of diamond films by microlithographic patterning
US5424224A (en) * 1993-01-19 1995-06-13 Texas Instruments Incorporated Method of surface protection of a semiconductor wafer during polishing
US6040008A (en) * 1997-08-04 2000-03-21 University Of Florida Silicon carbide fibers with boron nitride coatings
DE19808326B4 (de) 1997-10-02 2005-12-29 Eberhard P. Prof. Dr. Hofer Mikroaktor auf Diamantbasis und seine Verwendungen
US6755566B2 (en) * 2001-02-15 2004-06-29 Konrad Damasko Clockwork
JP2002341054A (ja) * 2001-05-11 2002-11-27 Seiko Instruments Inc ヒゲぜんまい、同構造体、これを用いた調速機構及び時計
DE60206939T2 (de) * 2002-11-25 2006-07-27 Csem Centre Suisse D'electronique Et De Microtechnique S.A. Spiraluhrwerkfeder und Verfahren zu deren Herstellung
EP1445670A1 (fr) 2003-02-06 2004-08-11 ETA SA Manufacture Horlogère Suisse Spiral de résonateur balancier-spiral et son procédé de fabrication
DE10317889B4 (de) 2003-04-17 2008-10-30 GFD-Gesellschaft für Diamantprodukte mbH Mikromechanisches Bauteil und Verfahren zu seiner Herstellung

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4196233A (en) * 1974-02-07 1980-04-01 Ciba-Geigy Corporation Process for coating inorganic substrates with carbides, nitrides and/or carbonitrides
CN1051399A (zh) * 1988-11-08 1991-05-15 星辰时计株式会社 钟表外壳等装饰品类的金属表层及其形成方法
EP0732635A1 (fr) * 1995-03-17 1996-09-18 C.S.E.M. Centre Suisse D'electronique Et De Microtechnique Sa Pièce de micro-mécanique et procédé de réalisation
CN1498362A (zh) * 2001-02-28 2004-05-19 ��ʿͨ�����ɷ����޹�˾ 非磁性涂层在涂覆手表机件部分中的应用
FR2855651A1 (fr) * 2003-06-02 2004-12-03 Jean Francois Lanier Procede de realisation de cadran d'afficheur par traitement de substrat en silicium

Also Published As

Publication number Publication date
ES2318778T3 (es) 2009-05-01
ATE416401T1 (de) 2008-12-15
DE602006004055D1 (de) 2009-01-15
CH696881A5 (fr) 2008-01-15
EP1904901A1 (fr) 2008-04-02
EP1904901B2 (fr) 2013-07-10
JP2008544290A (ja) 2008-12-04
CN101213497A (zh) 2008-07-02
US8339904B2 (en) 2012-12-25
WO2007000271A1 (fr) 2007-01-04
EP1904901B1 (fr) 2008-12-03
JP3154091U (ja) 2009-10-08
HK1122365A1 (en) 2009-05-15
US20100214880A1 (en) 2010-08-26

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN101213497B (zh) 强化的微机械部件
US9778620B2 (en) Method for creating a flexible, multistable element
US8296953B2 (en) Method of manufacturing a one-piece hairspring
US8550699B2 (en) Composite balance and method of manufacturing the same
US8523426B2 (en) One-piece regulating member and method of manufacturing the same
CN104007650A (zh) 温度补偿型摆轮及其制造方法、钟表用机芯、机械式钟表
US20170285573A1 (en) Crystalline Compounds for Use in Mechanical Watches and Methods of Manufacture Thereof
CN111801627B (zh) 硅基钟表弹簧的制造方法
US20230350346A1 (en) Multistage micromechanical timepiece and method for making same
JP2020106526A (ja) 強化された時計構成部品
Honer Surface micromachining techniques for integrated microsystems
EP4311611A1 (en) Methods of manufacturing a composite horological or jewelry component
Perret et al. Silicon as material for mechanical wristwatches
JP2023519195A (ja) シリコンベースの時計部品の製造方法
Aimi Bulk titanium microelectromechanical systems

Legal Events

Date Code Title Description
C06 Publication
PB01 Publication
C10 Entry into substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
REG Reference to a national code

Ref country code: HK

Ref legal event code: DE

Ref document number: 1122365

Country of ref document: HK

C14 Grant of patent or utility model
GR01 Patent grant
REG Reference to a national code

Ref country code: HK

Ref legal event code: GR

Ref document number: 1122365

Country of ref document: HK