EP2878711A1 - Verfahren zur galvanischen Abscheidung von Nickel und entsprechender Elektrolyt - Google Patents
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- 239000003792 electrolyte Substances 0.000 title claims abstract description 91
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical group [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims abstract description 73
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 title claims abstract description 39
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 25
- 230000008021 deposition Effects 0.000 title description 6
- KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N boric acid Chemical compound OB(O)O KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 27
- 239000004327 boric acid Substances 0.000 claims abstract description 27
- JFCQEDHGNNZCLN-UHFFFAOYSA-N anhydrous glutaric acid Natural products OC(=O)CCCC(O)=O JFCQEDHGNNZCLN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 14
- 239000000872 buffer Substances 0.000 claims abstract description 14
- RTBFRGCFXZNCOE-UHFFFAOYSA-N 1-methylsulfonylpiperidin-4-one Chemical compound CS(=O)(=O)N1CCC(=O)CC1 RTBFRGCFXZNCOE-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 13
- 230000008569 process Effects 0.000 claims abstract description 12
- 238000004070 electrodeposition Methods 0.000 claims abstract description 5
- -1 nickel cations Chemical class 0.000 claims abstract description 5
- KDYFGRWQOYBRFD-UHFFFAOYSA-N succinic acid Chemical compound OC(=O)CCC(O)=O KDYFGRWQOYBRFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 10
- WNLRTRBMVRJNCN-UHFFFAOYSA-N adipic acid Chemical compound OC(=O)CCCCC(O)=O WNLRTRBMVRJNCN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 8
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 5
- 239000001384 succinic acid Substances 0.000 claims description 5
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N Palladium Chemical compound [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 claims description 4
- 239000001361 adipic acid Substances 0.000 claims description 4
- 235000011037 adipic acid Nutrition 0.000 claims description 4
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 239000010949 copper Substances 0.000 claims description 4
- ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N Molybdenum Chemical compound [Mo] ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229910017052 cobalt Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 239000010941 cobalt Substances 0.000 claims description 2
- GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N cobalt atom Chemical compound [Co] GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 239000011733 molybdenum Substances 0.000 claims description 2
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 239000004332 silver Substances 0.000 claims description 2
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 claims description 2
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 239000011701 zinc Substances 0.000 claims description 2
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 abstract description 2
- PYRZPBDTPRQYKG-UHFFFAOYSA-N cyclopentene-1-carboxylic acid Chemical compound OC(=O)C1=CCCC1 PYRZPBDTPRQYKG-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 14
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 13
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 10
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 9
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 8
- 229910021586 Nickel(II) chloride Inorganic materials 0.000 description 7
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 7
- QMMRZOWCJAIUJA-UHFFFAOYSA-L nickel dichloride Chemical compound Cl[Ni]Cl QMMRZOWCJAIUJA-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 7
- LGQLOGILCSXPEA-UHFFFAOYSA-L nickel sulfate Chemical compound [Ni+2].[O-]S([O-])(=O)=O LGQLOGILCSXPEA-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 7
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 7
- 241000080590 Niso Species 0.000 description 6
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 5
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 5
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 4
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 4
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 4
- 229910001369 Brass Inorganic materials 0.000 description 3
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 3
- 239000010951 brass Substances 0.000 description 3
- 239000003638 chemical reducing agent Substances 0.000 description 3
- 238000005253 cladding Methods 0.000 description 3
- 239000000463 material Substances 0.000 description 3
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 3
- 150000002816 nickel compounds Chemical class 0.000 description 3
- CVHZOJJKTDOEJC-UHFFFAOYSA-N saccharin Chemical compound C1=CC=C2C(=O)NS(=O)(=O)C2=C1 CVHZOJJKTDOEJC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229940081974 saccharin Drugs 0.000 description 3
- 235000019204 saccharin Nutrition 0.000 description 3
- 239000000901 saccharin and its Na,K and Ca salt Substances 0.000 description 3
- 238000007086 side reaction Methods 0.000 description 3
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 3
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 3
- KYGZCKSPAKDVKC-UHFFFAOYSA-N Oxolinic acid Chemical compound C1=C2N(CC)C=C(C(O)=O)C(=O)C2=CC2=C1OCO2 KYGZCKSPAKDVKC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000003213 activating effect Effects 0.000 description 2
- 150000001447 alkali salts Chemical class 0.000 description 2
- 150000008051 alkyl sulfates Chemical class 0.000 description 2
- 229910052790 beryllium Inorganic materials 0.000 description 2
- 125000005619 boric acid group Chemical group 0.000 description 2
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 2
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 2
- 238000005238 degreasing Methods 0.000 description 2
- 230000003993 interaction Effects 0.000 description 2
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 2
- 239000000047 product Substances 0.000 description 2
- 229940124530 sulfonamide Drugs 0.000 description 2
- 150000003456 sulfonamides Chemical class 0.000 description 2
- 230000002110 toxicologic effect Effects 0.000 description 2
- 231100000027 toxicology Toxicity 0.000 description 2
- 239000000080 wetting agent Substances 0.000 description 2
- ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N Boron Chemical compound [B] ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000013494 PH determination Methods 0.000 description 1
- 241000935974 Paralichthys dentatus Species 0.000 description 1
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L Sulfate Chemical compound [O-]S([O-])(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 1
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 1
- 230000009471 action Effects 0.000 description 1
- 150000001345 alkine derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 1
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000003945 anionic surfactant Substances 0.000 description 1
- 150000008107 benzenesulfonic acids Chemical class 0.000 description 1
- ATBAMAFKBVZNFJ-UHFFFAOYSA-N beryllium atom Chemical compound [Be] ATBAMAFKBVZNFJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052796 boron Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000007853 buffer solution Substances 0.000 description 1
- 239000012928 buffer substance Substances 0.000 description 1
- 230000003139 buffering effect Effects 0.000 description 1
- JHRWWRDRBPCWTF-OLQVQODUSA-N captafol Chemical compound C1C=CC[C@H]2C(=O)N(SC(Cl)(Cl)C(Cl)Cl)C(=O)[C@H]21 JHRWWRDRBPCWTF-OLQVQODUSA-N 0.000 description 1
- 230000008859 change Effects 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 1
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 1
- 238000005137 deposition process Methods 0.000 description 1
- 238000011161 development Methods 0.000 description 1
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 1
- 238000009713 electroplating Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 description 1
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 1
- 230000004313 glare Effects 0.000 description 1
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 1
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 1
- 238000010348 incorporation Methods 0.000 description 1
- 239000006115 industrial coating Substances 0.000 description 1
- 239000004615 ingredient Substances 0.000 description 1
- 230000002401 inhibitory effect Effects 0.000 description 1
- 230000007774 longterm Effects 0.000 description 1
- PSZYNBSKGUBXEH-UHFFFAOYSA-N naphthalene-1-sulfonic acid Chemical class C1=CC=C2C(S(=O)(=O)O)=CC=CC2=C1 PSZYNBSKGUBXEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000363 nickel(II) sulfate Inorganic materials 0.000 description 1
- BFDHFSHZJLFAMC-UHFFFAOYSA-L nickel(ii) hydroxide Chemical class [OH-].[OH-].[Ni+2] BFDHFSHZJLFAMC-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 1
- 239000011148 porous material Substances 0.000 description 1
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 1
- 238000001556 precipitation Methods 0.000 description 1
- 238000004886 process control Methods 0.000 description 1
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 1
- 150000003222 pyridines Chemical class 0.000 description 1
- 238000007670 refining Methods 0.000 description 1
- 239000010865 sewage Substances 0.000 description 1
- 230000007847 structural defect Effects 0.000 description 1
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 1
- 238000010998 test method Methods 0.000 description 1
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 1
- 238000009736 wetting Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D3/00—Electroplating: Baths therefor
- C25D3/02—Electroplating: Baths therefor from solutions
- C25D3/12—Electroplating: Baths therefor from solutions of nickel or cobalt
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D3/00—Electroplating: Baths therefor
- C25D3/02—Electroplating: Baths therefor from solutions
- C25D3/56—Electroplating: Baths therefor from solutions of alloys
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Definitions
- the invention relates to a process for the galvanic deposition of nickel and an electrolyte for electrically deposited nickel baths.
- the galvanic or electrochemical deposition of nickel is well known and is most commonly accomplished today by means of Watt-type sulfate-based electrolytes, i. an electrolyte containing as main components nickel sulfate, nickel chloride and boric acid as a buffer. Such electrolytes also contain additives for controlling the layer properties.
- a buffer in Watts electrolyte is absolutely necessary.
- the purpose of the buffer is to trap the increase in the pH at the surface of the cathode and thus to keep it constant.
- this buffer substance is boric acid, which is contained in modern nickel electrolytes generally in concentrations of 30-45 g / l.
- additives are used to produce pearlescent layers or to prevent pores or to mask metallic impurities contained in the electrolyte.
- the resulting unwanted decomposition products are incorporated into the nickel layers as a result of the process.
- the additives must therefore be compatible with the electrolyte and in particular with the buffer used.
- the object of the present invention is to provide a process for the electrodeposition of nickel and of an electrolyte that is universally and industrially applicable to galvanic nickel baths in which the use of boric acid is eliminated or at least greatly reduced.
- good results of the deposited layers should also be available without boric acid.
- an improvement in process stability as a whole should be obtained.
- An “improvement of the process stability as a whole” is understood to mean that at least one, preferably at least two, of the parameters pH constancy in use, increase in current density and lowering of the bath temperature is achieved with the electrolyte according to the invention, without using complex-forming properties in the electrolyte or the buffering effect is not optimally adjusted.
- the concentration of boric acid is the highest 0.1 g / l electrolyte, more preferably 0.01 g / l electrolyte.
- the electrolyte contains virtually no boric acid.
- boric acid is understood here and below as boric acid having the formula H 3 BO 3 .
- the quantities are based on this. It is understood, however, that the boric acid is not present in this form alone in the electrolyte.
- From the electrochemical or galvanic deposition of nickel is basically the chemical or electroless deposition. This uses no external voltage source for the required electrons but a reducing agent.
- the invention explicitly concerns only the electrochemical or galvanic deposition and corresponding electrolytes.
- the electrolytes used according to the invention therefore in contrast contain no reducing agents.
- An acidic galvanic, i. electrolytic nickel bath which should be used on an industrial scale, should be usable in a working range with a pH between 2.0 and 4.5, without problems (eg deposition of basic nickel compounds, no pH-stability of the galvanic electrolyte, mandatory Reduction of the current density in the nickel electrolytic electrolyte or required increase in the bath temperature of the galvanic electrolyte) occur.
- inventive method allows a significant reduction of the buffer concentration of a nickel electroplated by Use of inventive electrolytes.
- the reduction of pure boric acid to 1 g / l or very particularly preferably a reduction to 0 g / l is possible.
- boric acid with a concentration (based on the pure boric acid) of 0 g / l electrolyte is understood here and below that no boric acid is added to the electrolyte. It also falls under this embodiment that no boron-containing compound is added to the electrolyte.
- the electrolytes according to the invention provide layers which are at least comparable to the classical boric acid-containing electrolytes.
- the inventive use of glutaric acid as a buffer the total solubility is much better soluble than in comparison to boric acid.
- the pH-consistency during operation is greater.
- the electrolyte according to the invention allows for the first time higher buffer concentrations in the electrolyte and thus the application of higher current densities.
- an improvement in the pH constancy can be achieved with the process or electrolyte according to the invention.
- the electrolyte in addition to the nickel cations, additionally contains at least one compound of a metal other than nickel.
- a metal other than nickel are cobalt, tungsten, molybdenum, copper, silver, iron, palladium or zinc.
- the pH determination is carried out electrochemically by means of a pH measuring chain on a pH meter (Metrohm 744 pH meter).
- the device is calibrated with appropriate commercial solutions (CertiPUR Buffer Solution for pH values 1, 4 and 7 from Merck) before the measurement.
- the current measurement uses a calibrated Fluke 175 True RMS multimeter.
- the internal stress of the deposited nickel layers from the individual Electrolytes are measured with a strip contractometer on copper Berrylium test strips (Specialty Testing & Development Co., York, Pennsylvania, USA).
- the required layer thicknesses of the deposited nickel layers were determined using a Fischer Fischerscope X-RAY XDAL-FD X-ray glare meter (software: WinFTM XDAL 6.20-S-PDM). For this purpose, the layer thickness measurement was carried out in the center of the upper end of the leg at a distance of approx. 2 mm from the painted area.
- Example 1 comparative example, not according to the invention:
- the pH is controlled and optionally adjusted to 3.9 with 20% sodium hydroxide solution or 20% sulfuric acid. It is then made up to 1700 ml. As anodes solid anodes of nickel full material (1 cm thickness) with cladding are used.
- the pH of the electrolyte is measured to be 5.1.
- Comparative Example 1 is repeated, but with the following electrolyte composition: 250 g / l Nickel sulphate (NiSO 4 ⁇ 6 H 2 O) 60 g / l Nickel chloride (NiCl 2 ⁇ 6 H 2 O) 50 g / l Glutaric acid (molecule)
- the pH of the electrolyte is measured to be 4.3.
- Example 2 3.9 13 h 4.3
- the resulting final pH values depend on many parameters (beaker geometry, anode condition, sacks, electrolyte movement) and can vary slightly in individual cases; the trend here is crucial.
- Table 1 shows an improved pH constancy of the electrolyte according to the invention with a comparatively long coating time of 13 hours.
- the pH at the end of the coating of the comparative example exceeds at 5.1 the usual range of industrial baths.
- the solution is made up to 800 ml with demineralized water.
- the pH is controlled and optionally adjusted to 4.0 with 20% sodium hydroxide solution or 20% sulfuric acid.
- the electrolyte on Cool to 43 ° C and make up to 900 ml with demineralized water.
- As anodes solid anodes of nickel full material (1 cm thickness) with cladding are used.
- Commercially available brass sheets (Hullzell sheets, Messrs. Ossian) after conventional pretreatment (degreasing, rinsing, activating, rinsing) with 2 A for 360 min at 43 ° C coated.
- a magnetic stirrer core with 500 revolutions per minute is used.
- the pH of the electrolyte is measured to be 4.5. Subsequently, the pH is lowered again to 4.0 with 20% strength sulfuric acid and the electrolyte is heated to 59.degree.
- the pH of the electrolyte is measured to be 4.4.
- the solution is made up to 800 ml with demineralized water.
- the pH is controlled and optionally adjusted to 2.0 with 20% sodium hydroxide solution or 20% sulfuric acid.
- As anodes solid anodes of nickel full material (1 cm thickness) with cladding are used.
- the copper beryllium test strips are degreased (decoction, 1 min) and activated in hydrochloric acid (1 min, 1: 1 fuming hydrochloric acid diluted with demineralized water).
- As electrolyte movement a magnetic stirrer core with 500 revolutions per minute is used.
- the coating times and associated current densities are selected according to Table 3. The values for internal stress contained in Table 3 are obtained.
- Comparative Example 5 is repeated, but with the following electrolyte composition: 250 g / l Nickel sulphate (NiSO 4 ⁇ 6 H 2 O) 60 g / l Nickel chloride (NiCl 2 ⁇ 6 H 2 O) 50 g / l Glutaric acid (molecule)
- Table 3 shows improved properties of the nickel layer deposited by means of the method according to the invention over the prior art.
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Abstract
Description
- Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur galvanischen Abscheidung von Nickel sowie einen Elektrolyten für elektrisch abzuscheidende Nickelbäder.
- Die galvanische oder elektrochemische Abscheidung von Nickel ist bekannt und erfolgt heute am meisten mittels Sulfat-basierten Elektrolyten vom Watt-Typ, d.h. ein Elektrolyt enthaltend als Hauptkomponenten Nickelsulfat, Nickelchlorid und Borsäure als Puffer. Solche Elektrolyte enthalten ebenfalls Additive zur Steuerung der Schichteigenschaften.
- Um die Bildung basischer Salze oder Nickelhydroxide zu verhindern, ist ein Puffer im Watts-Elektrolyten zwingend nötig. Der Puffer hat die Aufgabe, den Anstieg des pH-Werts an der Oberfläche der Kathode abzufangen und damit konstant zu halten. Beim Watts-Elektrolyten, der auf das Jahr 1916 zurückgeht und dessen zuvor genannten Hauptbestandteile, d.h. Metallsalze und Puffer, bis heute in nahezu unveränderter Zusammensetzung in der Galvanotechnik in Prozessen mit löslichen Anoden verwendet werden, ist diese Puffersubstanz Borsäure, welche in modernen Nickelelektrolyten im Allgemeinen in Konzentrationen von 30 - 45 g/l enthalten ist.
- Im Zuge der Entwicklung der Nickelschichten und den steigenden Anforderungen an definierte Schichteigenschaften (wie z.B. Duktilität, Härte, Glanzgrad, Schichtdickenverteilung) hat sich schnell gezeigt, dass neben den Hauptbestandteilen weitere Substanzen notwendig sind, die dem zuvor beschriebenen Watts-Elektrolyten in Abhängigkeit der besonderen Anforderungen an die jeweilige Nickelschicht hinzugesetzt werden.
- Diese zusätzlichen Substanzen werden als Additive bezeichnet und unter anderen wie folgt in mehrere Klassen eingeteilt:
- Glanzbildner erster Klasse: Dies sind sogenannte primäre Glanzmittel, Glanzträger oder Einebner, d.h. Substanzen, die duktile Niederschläge mit Druckspannungen bewirken und in erster Linie kornverfeinernd wirken, wie z.B. Sulfonimide, Sulfonamide, Alkylsulfonsäuren, Benzolsulfonsäuren, Naphtalinsulfonsäuren oder Saccharin;
- Glanzbildner zweiter Klasse: sekundäre Glanzmittel; d.h. Substanzen, die hochglänzende Schichten in Kombination mit den primären Glanzbildnern erzeugen wie z.B. Verbindungen mit einer Dreifach-Kohlenstoffbindung (Alkinderivate) oder Pyridinderivate;
- Netzmittel: Werden auch als Benetzungsmittel (Tenside) bezeichnet und sind Substanzen, die einerseits für eine gute Benetzung der Oberfläche sorgen, andererseits das leichtere Ablösen gebildeter Wasserstoffblasen von der Kathode ermöglichen. Hierbei handelt es sich um sogenannte anionische Tenside. Häufig eingesetzt werden Alkylethersulfate oder Alkylsulfate.
- Stressminderer: Dies sind Stoffe, die die Eigenspannungen der Schichten reduzieren/beeinflussen wie z.B. Saccharin.
- Weitere Additive dienen zur Erzeugung von Perlglanz-Schichten oder zur Verhinderung von Poren oder zur Maskierung von im Elektrolyten enthaltenen metallischen Verunreinigungen.
- Das Wirkprinzip dieser Additive beruht grundsätzlich darauf, dass sie in den Abscheidungsprozess eingreifen, indem sie das Wachstum der Nickelkristallite behindern (inhibieren) und/oder die Grenzflächenspannungen verändern.
- Der Nachteil der Additive ist, dass diese Komponenten zu verschiedenen Wechselwirkungen im Elektrolyten führen, die selbst auf zahlreiche Nebenreaktionen zurückzuführen sind.
- Diese Nebenreaktionen führen zu zwei wesentlichen Nachteilen. Einerseits sammeln sich aus den Nebenreaktionen stammende Abbauprodukte im Elektrolyten an und verändern wesentlich dessen Eigenschaften, was wiederum zu negativen Wechselwirkungen mit den nachdosierten Additiven führt. Damit steigt die Summe der gelösten organischen Inhaltsstoffe, eine Größe, die am besten mit dem sogenannten TOC-Wert (Total Organic Carbon/gesamter organischer Kohlenstoff) gemessen wird.
- Andererseits werden die entstehenden, unerwünschten Zerfallsprodukte prozessbedingt in die Nickelschichten eingelagert. Das führt wiederum dazu, dass die resultierenden Nickelschichten zahlreiche unerwünschte Eigenschaften aufweisen, wie z.B. Versprödung, zu hohe Duktilität, fehlende Härte, white washing und Strukturfehler.
- Die Additive müssen also zum Elektrolyten und insbesondere zum verwendeten Puffer kompatibel sein.
- Bisher war Borsäure der bevorzugt eingesetzte Puffer, da insoweit gute Ergebnisse erzielbar waren.
- Der Einsatz von Borsäure ist jedoch aufgrund neuer toxikologischer Erkenntnisse nicht mehr gewünscht sowie durch die Gesetzgebung stark eingeschränkt (vgl. CLP Verordnung 1272/2008/EG; SVHC-Kandidatenliste nach Art. 57 bzw. 59 REACh Verordnung).
- Aufgabe der vorliegenden Erfindung ist die Bereitstellung eines Verfahrens zur galvanischen Abscheidung von Nickel sowie eines Elektrolyten, der für galvanische Nickelbäder universell und industriell einsetzbar ist, bei denen der Einsatz von Borsäure entfällt oder zumindest stark verringert ist. Dabei sollten auch ohne Borsäure gute Ergebnisse der abgeschiedenen Schichten erhältlich sein. Ferner sollte eine Verbesserung der Prozessstabilität im Gesamten erhalten werden.
- Unter einer "Verbesserung der Prozessstabilität im Gesamten" wird verstanden, dass mindestens einer, vorzugsweise mindestens zwei, der Parameter pH-Konstanz bei der Verwendung, Erhöhung der Stromdichte sowie Senkung der Badtemperatur mit dem erfindungsgemäßen Elektrolyten erreicht wird, ohne dass im Elektrolyten komplexbildende Eigenschaften genutzt werden oder die Pufferwirkung nicht optimal einstellt ist.
- Diese Aufgabe wird durch das in Anspruch 1 wiedergegebene Verfahren sowie dem in Anspruch 8 genannten sauren galvanischen Elektrolyten gelöst.
- Erfindungsgemäß ist erkannt worden, dass auf den Einsatz von Borsäure weitestgehend verzichtet werden kann, wenn dem sauren galvanischen Elektrolyten an Stelle dessen Glutarsäure zugesetzt wird.
- Zum Ersatz der Borsäure können auch Mischungen von Glutarsäure mit Bernsteinsäure und/oder Adipinsäure eingesetzt werden. In einer weiteren Ausführungsform sind bis zu 60 Gew.-% der in dem Elektrolyten zu verwendenden Glutarsäure durch Bernsteinsäure und/oder Adipinsäure ersetzt.
- Gemäß einem besonders bevorzugten, erfindungsgemäßen Verfahren beträgt die Konzentration von Borsäure höchsten 0,1 g/l Elektrolyt, besonders bevorzugt 0,01 g/l Elektrolyt. Besonders bevorzugt enthält der Elektrolyt praktisch keine Borsäure.
- Unter dem Begriff "Borsäure" wird hier und im Folgenden Borsäure mit der Formel H3BO3 verstanden. Hierauf beziehen sich die Mengenangaben. Es versteht sich, dass die Borsäure jedoch nicht allein in dieser Form im Elektrolyten vorliegt.
- Mit diesen ganz besonders bevorzugten Ausführungsformen ist es möglich, einen borsäurearmen bis borsäurefreien Elektrolyten für galvanische Nickelbäder zu verwenden, der gegenüber den Elektrolyten des Standes der Technik im Gesamtniveau verbesserte Eigenschaften der resultierenden Nickelschichten bewirkt. Dies ist insbesondere vor dem Hintergrund der aktuellen Umweltdiskussion borsäurehaltiger Zubereitungen von Interesse.
- Von der elektrochemischen oder galvanischen Abscheidung von Nickel unterscheidet sich grundsätzlich die chemische oder außenstromlose Abscheidung. Diese verwendet keine äußere Spannungsquelle für die benötigten Elektronen sondern ein Reduktionsmittel. Die Erfindung betrifft explizit nur die elektrochemische oder galvanische Abscheidung und entsprechende Elektrolyte. Die eingesetzten Elektrolyte gemäß der Erfindung enthalten also im Gegensatz dazu keine Reduktionsmittel.
- Ein saures galvanisches, d.h. elektrolytisches Nickelbad, welches in einem industriellen Maßstab angewendet werden soll, sollte in einem Arbeitsbereich mit einem pH-Wert zwischen 2,0 und 4,5 verwendbar sein, ohne dass Probleme (z.B. Abscheidung basischer Nickelverbindungen, keine pH-Konstanz des galvanischen Elektrolyts, zwingende Verringerung der Stromdichte im galvanischen Nickelelektrolyten oder erforderliche Erhöhung der Badtemperatur des galvanischen Elektrolyts) auftreten.
- Darüber hinaus ermöglicht das erfindungsgemäße Verfahren eine signifikante Senkung der Pufferkonzentration eines galvanischen Nickelelektrolyten durch Verwendung erfindungsgemäßer Elektrolyte.
- War bisher bei galvanischen Nickelelektrolyten des Standes der Technik eine Konzentration an reiner Borsäure von mindestens 30 g/l Elektrolyt notwendig, ist es mit dem erfindungsgemäßen Verfahren erstmals möglich, die Konzentration an reiner Borsäure auf unter 10 g/l Elektrolyt zu senken.
- In einer weiteren erfindungsgemäßen Variante ist die Absenkung an reiner Borsäure auf 1 g/l bzw. ganz besonders bevorzugt eine Senkung auf 0 g/l möglich.
- Unter dem Merkmal "Borsäure mit einer Konzentration (bezogen auf die reine Borsäure) von 0 g/l Elektrolyt" wird hier und im Folgenden verstanden, dass dem Elektrolyten keine Borsäure hinzugegeben wird. Ebenso fällt unter diese Ausführungsform, dass dem Elektrolyten keine borhaltige Verbindung zugegeben wird.
- Mit der Erfindung ist es möglich, die übliche Badtemperatur von mehr als 50 °C auf eine Temperatur von höchstens 40 °C abzusenken.
- Diese Eigenschaft ist überraschend und war nicht vorherzusehen, da eigene Versuche zur Abscheidung aus mit Bernsteinsäure gepufferten Elektrolyten die Bildung basischer Salze im Kathodenraum (Versuche in der Hullzelle) und die Bildung schwerlöslicher Verbindungen bei Temperaturen von höchstens 40 °C (Ansetzen von Watts-Elektrolyten mit verschiedenen Pufferkonzentrationen) gezeigt haben.
- Alle erfindungsgemäßen Verfahren zeichnen sich - neben den speziellen Verbesserungen - gemeinsam dadurch aus, das ein Ausfällen von Nickelverbindungen im Elektrolyten und der Einbau basischer Nickelverbindungen in die resultierende Nickelschicht wirksam verhindert wird und die Verfahren in industriellen Beschichtungsverfahren großtechnisch eingesetzt werden können.
- Insbesondere liefern die erfindungsgemäßen Elektrolyte Schichten, die mindestens vergleichbar sind mit den klassischen Borsäure-haltigen Elektrolyten.
- Die Prozessführung und die Anlagentechnik ist dieselbe wie die unter Verwendung von Elektrolyten des Standes der Technik, so dass Anlageumbauten entfallen.
- Durch die erfindungsgemäße Verwendung von Glutarsäure als Puffer ist die Gesamtlöslichkeit wesentlich besser löslich als im Vergleich zur Borsäure. Die pH-Konstanz während des Betriebes ist grösser. Der erfindungsgemäße Elektrolyt erlaubt erstmals höhere Pufferkonzentrationen im Elektrolyten und somit die Anwendung höherer Stromdichten. Insbesondere lässt sich mit dem erfindungsgemäßen Verfahren bzw. Elektrolyten eine Verbesserung der pH-Konstanz erreichen.
- Auch werden bei der Anwendung des erfindungsgemäßen Elektrolyts keine stabilen Komplexe gebildet, die Entsorgung oder Aufarbeitung erschweren würden.
- Entsprechend einer ebenfalls bevorzugten erfindungsgemäßen Ausführungsform enthält der Elektrolyt neben den Nickelkationen zusätzlich mindestens eine Verbindungen eines von Nickel unterschiedlichen Metalls.
Beispiele für ein von Nickel unterschiedlichen Metalls sind Kobalt, Wolfram, Molybdän, Kupfer, Silber, Eisen, Palladium oder Zink.
Die so erhältlichen Nickelschichten zeigen - neben den zuvor beschriebenen Vorteilen - die vom jeweiligen abgeschiedenen Legierungstyp bekannten speziellen Eigenschaften wie höhere Korrosionsbeständigkeit, geringerer Verschleiß, höhere Festigkeit, spezielle magnetische Eigenschaften usw.. - Weitere Vorteile des erfindungsgemäßen Elektrolyts sind die langfristige Verfügbarkeit der erfindungsgemäß verwendeten Komponenten, deren toxikologische Unbedenklichkeit und biologische Abbaufähigkeit in Kläranlagen.
- Die folgenden Beispiele dienen der Erläuterung der Erfindung, ohne sie zu beschränken.
- Die pH-Wert Bestimmung erfolgt elektrochemisch mittels pH-Messkette an einem pH-Meter (Metrohm 744 pH-Meter). Das Gerät wird mit entsprechenden kommerziellen Lösungen (CertiPUR Buffer Solution für die pH-Werte 1, 4 und 7 der Fa. Merck) vor der Messung kalibriert.
Zur Strommessung wird ein kalibriertes Fluke 175 True RMS Multimeter verwendet. - Die innere Spannung der abgeschiedenen Nickel-Schichten aus den einzelnen Elektrolyten wird mit einem Streifenkontraktometer auf Kupfer-Berrylium Teststreifen (Specialty Testing & Development Co, York, Pennsylvania, USA) gemessen. Die dafür nötigen Schichtdicken der abgeschiedenen Nickelschichten wurden ermittelt mit einem Fischer Fischerscope X-RAY XDAL-FD Röntengluoreszenz Messgerät (Software: WinFTM XDAL 6.20-S-PDM). Dazu wurde am oberen Ende des Schenkels mittig zentriert in ca. 2 mm Abstand zum ablackierten Bereich die Schichtdickenmessung durchgeführt.
- In einem 2 I Becherglas (der Fa. VWR) werden 1000 ml vollentsalztes Wasser vorgelegt und auf 55 °C temperiert. Unter Rühren werden die folgenden Verbindungen hinzugeben:
250 g/l Nickelsulfat (NiSO4 × 6 H2O) 60 g/l Nickelchlorid (NiCl2 × 6 H2O) 40 g/l Borsäure (H3BO3) - Der pH-Wert wird kontrolliert und gegebenenfalls mit 20%iger Natronlauge oder 20%iger Schwefelsäure auf 3,9 eingestellt. Anschließend wird auf 1700 ml aufgefüllt. Als Anoden werden massive Anoden aus Nickelvollmaterial (1 cm Stärke) mit Umhüllungen verwendet.
- Es werden handelsübliche Messingbleche (Hullzellbleche, Fa. Ossian) nach üblicher Vorbehandlung (Entfettung, Spülen, Aktivieren, Spülen) mit 3 A für 780 min bei 55 °C beschichtet. Als Elektrolytbewegung wird ein Magnetrührkern mit 100 Umdrehungen pro Minute verwendet.
- Nach der Beschichtung wird der pH-Wert des Elektrolyts mit einem Wert 5,1 gemessen.
- Das Vergleichsbeispiel 1 wird wiederholt, jedoch mit folgender Elektrolytzusammensetzung:
250 g/l Nickelsulfat (NiSO4 × 6 H2O) 60 g/l Nickelchlorid (NiCl2 × 6 H2O) 50 g/l Glutarsäure (Fa. Molekula) Tabelle 1 pH-Wert Anfang Beschichtungszeit pH-Wert Ende Vergleichsbeispiel 1 3,9 13 h 5,1 Beispiel 2 3,9 13 h 4,3 - Die sich ergebenen End-pH-Werte sind abhängig von vielen Parametern (Becherglasgeometrie, Anodenbeschaffenheit, Säcke, Elektrolytbewegung) und können im Einzelfall leicht variieren, der Trend ist hier das Entscheidende.
- Tabelle 1 zeigt eine verbesserte pH-Wert-Konstanz des erfindungsgemäßen Elektrolyts bei einer vergleichsweisen langen Beschichtungszeit von 13 Stunden. Der pH-Wert am Ende der Beschichtung des Vergleichsbeispiels überschreitet mit 5,1 den üblichen Bereich industrieller Bäder.
- In einem 1 I Becherglas (der Fa. VWR) werden 600 ml vollentsalztes Wasser vorgelegt und auf 55 °C temperiert. Unter Rühren werden die folgenden Verbindungen hinzugeben:
250 g/l Nickelsulfat (NiSO4 × 6 H2O) 60 g/l Nickelchlorid (NiCl2 × 6 H2O) 40 g/l Borsäure (H3BO3) - Die Lösung wird auf 800 ml mit vollentsalztem Wasser aufgefüllt.
Der pH-Wert wird kontrolliert und gegebenenfalls mit 20%iger Natronlauge oder 20%iger Schwefelsäure auf 4,0 eingestellt. Anschließend lässt man den Elektrolyt auf 43 °C abkühlen und füllt ihn auf 900 ml mit VE Wasser auf. Als Anoden werden massive Anoden aus Nickelvollmaterial (1 cm Stärke) mit Umhüllungen verwendet. Es werden handelsübliche Messingbleche (Hullzellbleche, Fa. Ossian) nach üblicher Vorbehandlung (Entfettung, Spülen, Aktivieren, Spülen) mit 2 A für 360 min bei 43 °C beschichtet. Als Elektrolytbewegung wird ein Magnetrührkern mit 500 Umdrehungen pro Minute verwendet. - Nach der Beschichtung bei 43 °C wird der pH-Wert des Elektrolyts mit einem Wert 4,5 gemessen.
Anschließend wird der pH-Wert mit 20%iger Schwefelsäure wieder auf 4,0 gesenkt und der Elektrolyt auf 59 °C temperiert. - Dann wird die Beschichtung wie oben auf einem vorbehandelten Messingblech mit 2 A für 360 min bei 59 °C erneut durchgeführt.
- Nach der Beschichtung bei 59 °C wird der pH-Wert des Elektrolyts mit einem Wert 4,4 gemessen.
- Das Vergleichsbeispiel 3 wird wiederholt, jedoch mit folgender Elektrolytzusammensetzung:
250 g/l Nickelsulfat (NiSO4 × 6 H2O) 60 g/l Nickelchlorid (NiCl2 × 6 H2O) 50 g/l Glutarsäure (Fa. Molekula) Tabelle 2 Temperatur Anfangs-pH-Wert Beschichtungszeit End-pH-Wert Beispiel 3 43 °C 4,0 6 h 4,5 Beispiel 4 43 °C 4,0 6 h 4,4 Beispiel 3 59 °C 4,0 6 h 4,4 Beispiel 4 59 °C 4,0 6 h 4,2 - Die sich ergebenen End-pH-Werte sind abhängig von vielen Parametern (Becherglasgeometrie, Anodenbeschaffenheit, Säcke, Elektrolytbewegung) und können im Einzelfall leicht variieren, der Trend ist hier das Entscheidende. Tabelle 1 zeigt verbesserte Eigenschaften des erfindungsgemäßen Verfahrens hinsichtlich der pH-Wert Konstanz auch bei unterschiedlichen Temperaturen.
- In einem 1 I Becherglas (der Fa. VWR) werden 600 ml vollentsalztes Wasser vorgelegt und auf 55 °C temperiert. Unter Rühren werden die folgenden Verbindungen hinzugeben:
250 g/l Nickelsulfat (NiSO4 × 6 H2O) 60 g/l Nickelchlorid (NiCl2 × 6 H2O) 40 g/l Borsäure (H3BO3) - Die Lösung wird auf 800 ml mit vollentsalztem Wasser aufgefüllt.
Der pH-Wert wird kontrolliert und gegebenenfalls mit 20%iger Natronlauge oder 20%iger Schwefelsäure auf 2,0 eingestellt. Anschließend lässt man den Elektrolyt auf 43 °C abkühlen und füllt ihn auf 900 ml mit VE Wasser auf. Als Anoden werden massive Anoden aus Nickelvollmaterial (1 cm Stärke) mit Umhüllungen verwendet. Die Kupfer-Beryllium Teststreifen werden entfettet (Abkochentfettung, 1 min) und in Salzsäure aktiviert (1 min, 1:1 rauchende Salzsäure mit VE Wasser verdünnt). Als Elektrolytbewegung wird ein Magnetrührkern mit 500 Umdrehungen pro Minute verwendet.
Die Beschichtungsdauern und dazugehörigen Stromdichten werden entsprechend der Tabelle 3 gewählt. Es werden die in Tabelle 3 enthaltenen Werte für die innere Spannung erhalten. - Das Vergleichsbeispiel 5 wird wiederholt, jedoch mit folgender Elektrolytzusammensetzung:
250 g/l Nickelsulfat (NiSO4 × 6 H2O) 60 g/l Nickelchlorid (NiCl2 × 6 H2O) 50 g/l Glutarsäure (Fa. Molekula) - Die Ergebnisse für die inneren Spannungen unter Anwendung der Beschichtungszeiten und Stromdichten sind in Tabelle 3 ersichtlich.
Tabelle 3 Spannungsart Stromdichte Beschichtungsdauer Innere Spannung |S| Beispiel 5 Zugspannung 0,5 A/dm2 10 min (219 ± 11) N/mm2 2,5 A/dm2 5 min (207 ± 11) N/mm2 Beispiel 6 Zugspannung 0,5 A/dm2 10 min (0 ± 0) N/mm2 (*) 2,5 A/dm2 5 min (158 ±28) N/mm2 (*) Die Schenkel des Kupfer-Beryllium Teststreifens waren nicht ausgelenkt, so dass der Wert der inneren Spannung für diesen Wert als spannungsfrei gewertet wird. - Tabelle 3 zeigt verbesserte Eigenschaften der mittels des erfindungsgemäßen Verfahrens abgeschiedenen Nickelschicht gegenüber dem Stand der Technik.
Claims (10)
- Verfahren zur galvanischen Abscheidung von Nickel unter Verwendung eines sauren wässrigen galvanischen Elektrolyten mit einem pH-Wert zwischen 2,0 und 4,5 enthaltend:- Nickelkationen in einer Konzentration von 20 bis 110 g/l im Elektrolyten, insbesondere mit einer Konzentration von 40 bis 80 g/l im Elektrolyten, ganz besonders bevorzugt mit einer Konzentration von 50 - 70 g/l im Elektrolyten;- Leitsatz;- Puffer,dadurch gekennzeichnet, dass als Puffer im Elektrolyt- Borsäure in einer Konzentration kleiner gleich 10g/l und- Glutarsäure in einer Konzentration zwischen 2 und 70 g/l eingesetzt wird.
- Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass Glutarsäure in einer Konzentration zwischen 5 und 50 g/l im Elektrolyten eingesetzt wird.
- Verfahren nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, dass Glutarsäure in einer Konzentration zwischen 8 und 40 g/l im Elektrolyten eingesetzt wird.
- Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass Borsäure in einer Konzentration kleiner gleich 1,0 g/l, vorzugsweise kleiner gleich 0,1 g/l, insbesondere 0,01g/l eingesetzt wird.
- Verfahren nach Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet, dass keine Borsäure im Elektrolyten eingesetzt wird.
- Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die Glutarsäure in dem Elektrolyten teilweise durch Adipinsäure und/oder Bersteinsäure ersetzt ist.
- Verfahren nach Anspruch 6, dadurch gekennzeichnet, dass bis zu 60 Gew.-% der Glutarsäure in dem Elektrolyten durch Adipinsäure und/oder Bersteinsäure ersetzt ist.
- Elektrolyt zur galvanischen Abscheidung von Nickel, insbesondere zur Verwendung in einem Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 7, mit einem pH-Wert zwischen 2,0 und 4,5 und enthaltenda. Nickelkationen mit einer Konzentration von 20 bis 160 g/l im Elektrolyt, insbesondere mit einer Konzentration von 40 bis 80 g/l Elektrolyt, ganz besonders bevorzugt mit einer Konzentration von 8 - 40 g/l im Elektrolyten;b. Glutarsäure mit einer Konzentration von 2 bis 120 g/l im Elektrolyt, insbesondere mit einer Konzentration von 10 bis 80 g/l im Elektrolyt, ganz besonders bevorzugt mit einer Konzentration von 20 - 50 g/l Elektrolyt;c. Borsäure mit einer Konzentration von 0 bis 10 g/l im Elektrolyt.
- Elektrolyt nach Anspruch 8, dadurch gekennzeichnet, dass der Elektrolyt neben den Nickelkationen zusätzlich mindestens eine Verbindung eines von Nickel unterschiedlichen Metalls enthält.
- Elektrolyt nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass das von Nickel unterschiedliche Metall Kobalt, Wolfram, Molybdän, Kupfer, Silber, Eisen, Palladium oder Zink ist.
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE102013113129.8A DE102013113129A1 (de) | 2013-11-27 | 2013-11-27 | Verfahren zur galvanischen Abscheidung von Nickel und entsprechender Elektrolyt |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
EP2878711A1 true EP2878711A1 (de) | 2015-06-03 |
Family
ID=51951606
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
EP14193211.1A Withdrawn EP2878711A1 (de) | 2013-11-27 | 2014-11-14 | Verfahren zur galvanischen Abscheidung von Nickel und entsprechender Elektrolyt |
Country Status (2)
Country | Link |
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R17P | Request for examination filed (corrected) |
Effective date: 20151005 |
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RBV | Designated contracting states (corrected) |
Designated state(s): AL AT BE BG CH CY CZ DE DK EE ES FI FR GB GR HR HU IE IS IT LI LT LU LV MC MK MT NL NO PL PT RO RS SE SI SK SM TR |
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17Q | First examination report despatched |
Effective date: 20170321 |
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STAA | Information on the status of an ep patent application or granted ep patent |
Free format text: STATUS: THE APPLICATION IS DEEMED TO BE WITHDRAWN |
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18D | Application deemed to be withdrawn |
Effective date: 20170801 |