EP2606162A1 - Verfahren zum stromlosen verkupfern von metallischen substraten - Google Patents

Verfahren zum stromlosen verkupfern von metallischen substraten

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EP2606162A1
EP2606162A1 EP11744001.6A EP11744001A EP2606162A1 EP 2606162 A1 EP2606162 A1 EP 2606162A1 EP 11744001 A EP11744001 A EP 11744001A EP 2606162 A1 EP2606162 A1 EP 2606162A1
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EP
European Patent Office
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copper
layer
copper plating
barrier layer
bath
Prior art date
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Withdrawn
Application number
EP11744001.6A
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English (en)
French (fr)
Inventor
Michael Kleinle
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Chemetall GmbH
Original Assignee
Chemetall GmbH
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Publication date
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Withdrawn legal-status Critical Current

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Definitions

  • the invention relates to methods of treating a metallic surface of an article - in particular for treating the metallic surface of an article having a surface of a ferrous material, of a zinc material or / and of a tin material, e.g. from zinc and / or from a zinc alloy - with an aqueous copper plating solution for applying a copper layer as a barrier layer and / or as a conductive layer, in particular for simpler, less expensive and more environmentally friendly processes.
  • the article may also consist of at least one non-metallic or / and at least one metallic material, which is provided with at least one metallic layer.
  • Plating in metalworking refers to the application of a metal layer of a more noble metal to another metal of lower potential, for example by rolling, welding, casting, spraying or / and dipping. If galvanic processes are used, the expert speaks of electroplating.
  • Galvanizing is a significant technology for protecting and refining metallic and other objects.
  • the galvanic treatment includes any type of electrolytic treatment, that is, coating or / and treating a metal in an aqueous solution under electric current flow. These may be, for example, copper plating, spattering, nickel plating, cadmium plating, chrome plating, lead plating, silver plating, rhodium plating, platinizing or gold plating. In many cases, copper plating, nickel plating, chrome plating, silver plating or gold plating are used. Often, several successive galvanic layers result. On a nickel can then, for example, a chrome plating, silvering, Platinieren, rhodium plating and / or gilding consequences.
  • the cover layers may comprise, for example, bright copper layers with layer thicknesses usually in the range from 3 to 50 .mu.m and preferably in the range from 5 to 20 .mu.m, thick copper layers having layer thicknesses usually in the range from 50 to 5000 m, and preferably in the range from 80 to 500 .mu.m, bright nickel layers Layer thicknesses usually in the range of 3 to 20 pm or / and thick nickel layers with layer thicknesses usually be in the range of 30 to 250 pm. If no external power source is used as the supplier for the electrons required in the metal deposition, and this plating is carried out without containing a strong reducing agent, the person skilled in the art will speak of electroless plating, coating or treatment.
  • the addition and use of at least one strong reducing agent to the bath used without electrical current means that the electrons necessary for the metal deposition are supplied by at least one strong reducing agent present in the bath, which is then referred to as chemical or electroless plating, coating or treatment.
  • the terms “chemically copper” and “chemically nickel” also mean that at least one strong reducing agent is used in the bath.
  • the desired metal layers of suitable layer quality can only be produced electrolytically, e.g. in an alkaline, cyanide electrolytic copper plating, in an alkaline, cyanide-free electrolytic copper plating or in an acid electrolytic nickel strike process. Therefore, today almost always electrolytic, d. H. energetically and technically very complex, worked because no suitable electroless and usually no suitable electroless plating process are known.
  • a copper plating or nickel plating bath contains the aqueous copper plating or nickel plating solution.
  • a barrier layer on the surface of a workpiece is necessary if it has a base metal in order then to be able to be further processed electrolytically in an aqueous medium.
  • a barrier layer is required, for example, to cause an uncontrolled, generally poorly adhering deposition on the workpiece, for example with a surface of one To avoid metal with more electronegative potential than copper from a solution with higher potential.
  • Treating a workpiece with a surface such as iron, an iron alloy, zinc and / or a zinc alloy in a sulfuric acid copper sulfate solution which corresponds to the gloss and / or Dick Anlagenverkupferung of the prior art and is applied electrolytically by various Galvanofachfirmen, so go iron or / and analogously, for example, zinc after the redox reaction
  • Registered impurities are deposited uncontrolled during electrolysis and preferably in the range of low current density as metal precipitation. They cause dull, gray, streaky, rough or / and po Roughened layers which are not suitable for further processing, in particular in the technical or decorative field.
  • the foreign substances introduced into the bath can only be removed by selective cleaning, partial scraping or throwing of the galvanizing bath. If the non-adhering precipitate formed by cementation in the subsequent plating baths is broken down, for example as a result of the movement of the articles or / and the bath, the precipitated metal is likewise partially re-incorporated into the layer to be deposited. It causes significant defects, pores, roughness and / or elevations. Such metal crumbs can only be removed by very intensive filtering.
  • a barrier layer is used to coat workpieces of any part geometry from a base material with a low electrochemical potential such as iron, zinc, tin or / and one of their alloys, to pickle attack and destruction on the base material, carryover of foreign ions in the galvanic Bad, contamination of the successor baths, Sudabscheidung, non-adherent, vapourous or porous layers and subsequent coating defects such as dull, gray or streaky layers to avoid.
  • Barrier layers of copper or nickel prior to further galvanic treatment are known in principle. Baths with which such barrier layers are produced are also called stop baths by the person skilled in the art.
  • a cyanidic, alkaline, electrolytic copper plating bath 2) an alkaline, complexing agent-containing electrolytic copper bath or 3.
  • an acidic electrolytic nickel strike bath Preferably, in more than 85% of cases, a cyanide-containing alkaline electrolytic copper plating bath 1) is used in industrial practice in Central Europe.
  • At least one metal coating of a metal having a higher potential than the base material of the original metallic surface can then be applied electrolytically directly to the copper or nickel barrier layer formed in these baths. This can then be at least one metal or / and at least one alloy coating such.
  • the copper over a copper plating, nickel plating, Vercadmung chrome plating, silver plating, gold plating, rhodium plating or / and platination in particular from acidic, cyanide-free and Reductant-free electrolyte is applied electrolytically, for example, as at least one gloss and / or as at least one thick film.
  • the barrier layers should have excellent adhesion to the base material of the substrate, a high ductility and a high degree of purity and should be free of pores. However, this succeeds only partially in the case of a content of foreign substances in the bath.
  • at least one subsequent surface treatment such as electroplating, painting, coating with a powder coating or with a cathodic dip coating (KTL) or joining with another object should be made possible in each treatment stage.
  • a copper blocking layer according to the invention also serves workpieces of any partial geometry and optionally also with cuts and backstitches made of a base material with a low electrochemical potential, such as iron and / or zinc and / or one of these Alloys, environmentally friendly, de-energized and high quality and cost-effective, effective and fast to coat the corresponding process of the state of the art.
  • a conductive layer is a layer which is used to increase the electrical conductivity of an object, as it has on its own.
  • a thin layer of copper deposited on a steel wire can reduce its contact and / or line resistance by up to 20 times. This is used, for example, to reduce the electrical line resistance in the welding wire production o- to reduce the contact resistance in connectors in the electronics sector.
  • a base material of more electronegative potential than copper can not be copper-plated without electricity and also not with electricity, since the nobler metal acts as a brew in of a non-adhesive layer on the base material.
  • a deposited by beating copper layer is not commercially applicable.
  • Cyanide Electrolytic Copper Plating Usually, in more than 85% of cases, these barrier layers are still made of cyanide alkaline copper plating electrolytes today, especially for the basic materials iron, zinc or their alloys applied. Their aqueous compositions and treatment conditions are often as follows:
  • the copper plating bath contains about 50 g / L CuCN, about 75 g / L NaCN, about 40 g / L NaOH and, if necessary, gloss-forming additives, but usually no reducing agents and no acid. Its pH is about 12. It is worked at about 40 ° C and at a current density of about 1 A / dm 2 for about 10 minutes
  • cyanide-containing alkaline electrolytic copper plating baths may also be used to alter the technical properties of a base material for particular uses, e.g. for the production of a barrier layer prior to nitriding steel or for the production of a layer with lower electrical resistance, as e.g. for a conductive heating of workpieces such as e.g. Screws is needed.
  • the advantage here is a better corrosion protection o- / and better electrical conductivity than the base material has of its own.
  • Cyanide-free, alkaline, electrolytic copper plating Cyanide-free, alkaline baths are not highly toxic. In cyanide-free alkaline copper baths, the bath components usually also do not decompose into the corresponding ions. Therefore, a base material of more electronegative potential than copper can not be de-energized, but can only be copper-plated with difficult process control and after critical pretreatment with electricity.
  • electrolytic copper baths are occasionally used alkaline cyanide-free for the application of a barrier layer.
  • the pretreatment of the base material as well as the process control are therefore much more critical or expensive than with 1). So far, not all base materials could be treated with it. Great care should be taken in the pretreatment of the workpieces.
  • the copper plating bath contains about 15 g / L Cu, about 50 g / L pyrophosphate, dilute KOH or H 3 P0 4 if necessary to adjust the pH to about pH 9 and if necessary gloss-forming additives. It may sometimes be free of reducing agent, free of pickling agent and / or free of acid. It is used at least 60 ° C and at about 1 A / dm 2 current density over about 10 minutes.
  • a disadvantage of the cyanide-free, alkaline, complexing agent-containing baths is that their process management is very critical, that their bath parameters are to be kept very tight, that their pre-treatment has to be carried out carefully and that the input of foreign substances is critical. If foreign substances are introduced as an impurity in the bath, they are deposited in the layer to be deposited and impair their quality. These barrier layers can then be schlierig, gray, matte and / or porous, but then are no longer necessarily closed, fine crystalline, non-porous, ductile and well-adherent. Remedy could only create a Verschschschschschschschschil, gray, matte and / or porous, but then are no longer necessarily closed, fine crystalline, non-porous, ductile and well-adherent. Remedy could only create a Verschschschschschschschschschil, gray, matte and / or porous, but then are no longer necessarily closed, fine crystalline, non-porous, ductile and well
  • parts made of die-cast zinc can not because of their poor conductivity in the galvanic drum process, but only galvanically coated in the complex frame process.
  • these baths are again to temper at least 60 ° C.
  • Electrolytic, galvanic nickel strike bath For workpieces made of iron and / or their alloys, so-called nickel strike baths are also used today for applying a barrier layer.
  • nickel strike baths used today for barrier layers in industrial practice, in particular for the basic materials iron or their alloys.
  • Their aqueous compositions and treatment conditions are often as follows:
  • At least one nickel compound In addition to at least one nickel compound, they always contain acid and often at least one brightener. If appropriate, they contain, for example, NaCl as pickling booster and / or, if necessary, luster-forming additives. They are usually free of alkalis and reducing agents. Depending on the base material, they often operate at concentrations of 200 to 250 g / l NiCl 2 and from about 200 g / l HCl at pH values below 0.5 or at concentrations of 200 to 250 g / l NiCl 2 and of about 40 g / LH 3 B0 4 at pH's of about 4 at about 40 ° C for about 5 minutes.
  • a disadvantage of such nickel strike baths is that it comes here by the very high proportion of chloride to a strong pickling attack on the base material, whereby its embrittlement can hardly be avoided and where it sometimes comes even to the destruction of the base material.
  • the strong corrosive effect of chlorides affects the entire system and the entire building.
  • the sulfamate stop baths which are sometimes used as an alternative, can reduce the high level of corrosion around the baths due to the lower chloride content However, the corrosion does not completely prevent.
  • the baths are due to the entrained impurities, optionally including foreign ions, continuously clean eg by filtering to remove foreign substances such as metal particles.
  • barrier layer Although no barrier layer can be produced with an acidic glaze or thick copper plating, it is used to form high-quality copper layers. It has long been used in electroplating, in particular for the production of decorative and / or electroformed coatings used. However, workpieces made of a base material with more electro-negative potential than copper without a barrier layer can not be treated due to the onset of sebum deposition therein.
  • Bright nickel plating can only be carried out electrolytically in an acidic bath.
  • Bright copper plating can only be carried out electrolytically in an acidic bath.
  • a much more uneconomical alternative to this could be a cyanide alkaline electrolytic copper plating 1) serve. However, the coppered articles must then be polished by hand or by machine to achieve the required gloss.
  • a cyanide-free, alkaline, complexing agent-containing copper plating 2. serve, in which the objects must also be polished afterwards.
  • a thick copper plating or thick nickel plating can only be carried out electrolytically in an acidic bath economically.
  • Glanzverkupferonne A disadvantage of such Glanzverkupfereptept is still that base metals and alloys with electronegativerem potential as copper such as iron, steel, zinc, tin or zinc die casting can not be coated directly in these baths, because they must be previously provided with a barrier layer ,
  • a process still common today in the galvanic treatment, in particular of steel, zinc or / and zinc die-cast parts, is the following: a) hot degreasing in aqueous solution of 10 g / l NaOH, 30 g / l sodium pyrophosphate and 5 g / L Wetting agent at 60 - 95 ° C for 5 - 10 minutes, b) cascade rinsing in demineralised water,
  • Zinc parts 3% HF and 1 g / l wetting agent, without pickling inhibitor, at room temperature over 5 - 60 seconds,
  • a bright copper plating usually has a layer thickness in the range of 5 to 50 pm. It can be applied electrolytically, but in industrial practice without electricity of suitable quality.
  • a thick copper plating may have a layer thickness in the range of more than 50 ⁇ m to about 5 mm, but may possibly lead to several weeks of electrolytic or electroless copper deposition.
  • Workpieces with a complicated geometry of the part to be treated are rarely treated again in an electroless immersion bath, such as in DE 20 26 698 A1, to subsequently apply a glossy or thick layer after an electrolytic cyanide copper plating.
  • Such complexing agents are amines and carboxylic acids such as, for example, gluconic acid, lactic acid, tartaric acid and derivatives thereof, such as, for example, sodium umgluconate, Rochelle salts, ethylenediamine, diethylenetriamine, diethanol-glyoxime, ethylenediaminetetraacetic acid, lactonitrile, ethylenedinitrilotetra-acetic acid (EDTA), hydroxyethylethylenediaminetriacetic acid (HEDTA), diethylenetrinitrilopenta-acetic acid (DTPA), nitrilotriacetic acid (NTA), triethanolamine, Tetrakis (2-hydroxypropyl) ethylenediamine (THPED), pentahydroxypropyldiethylenetriamine and their derivatives.
  • carboxylic acids such as, for example, gluconic acid, lactic acid, tartaric acid and derivatives thereof, such as, for example, sodium umgluconate, Rochelle salts, ethylenedi
  • an electrolytic plating bath could be an electroless plating bath or even an electroless plating bath.
  • a copper plating solution, in particular for the formation of a barrier layer should be free of strong complexing agents or free of complexing agents, free of toxic ingredients, without external electrical energy for metal deposition and bath heating, and without questionable wastewater treatment.
  • An electroless metal deposition takes place, if no further reducing agent was added to the solution, by cementation or by precipitation.
  • the deposition principle is based on the series of metals, whereby the electrons of the nobler metal required for the reduction and the concomitant deposition are supplied by the more noble metal through an oxidation process.
  • an acidic bath such as an acidic copper plating or nickel plating bath
  • an acidic bath will exert a troublesome pickling attack on the clean or cleaned metallic surface based on iron and / or zinc, anytime a submerged metal is immersed in it
  • the solution of a nobler metal, a Sudabscheidung takes place, because then iron or / and zinc ions in particular are Partgeizizt from the object to be coated, go into solution and electrons are released, which then in turn by the ions of the acidic see galvanic bath recorded be and require a Sudabscheidung.
  • acidic electrolytes are less sensitive and more stable to contamination than cyanide-free alkaline electrolytes. Because alkaline electrolytes often cause several disadvantages. Therefore, cyanide-free alkaline electroplating processes are used only in rare cases, e.g. when the number of baths is e.g. for space reasons, not sufficient for removal to an acidic galvanic treatment.
  • DE 39 14 180 C2 discloses compositions of electroless copper sulfate based on copper sulfate and cyanide, which at operate at a pH of at least 9.5 and get the electrons necessary for metal deposition from a reducing agent, usually formaldehyde. In addition, this bath contains strong complexing agents such as EDTA and / or cyanide.
  • DE 15 21 200 A1 describes alkaline electroless nickel baths which operate at a pH of at least 8.5 and which receive the electrons necessary for metal deposition from the reducing agent sodium hypophosphite. In addition, these baths contain stabilizing agents such as sodium citrate and / or ammonium chloride.
  • No. 3,715,793 discloses electroless nickel and cyanide-free nickel thick films prepared from solutions having a pH of 3.5 or 7.5 to 9 at about 55 to 95 ° C or at a pH of 7.5 to 10 be deposited at 40 to 95 ° C.
  • a disadvantage of these electroless methods is that all metallic objects and also the foreign substances in the bath, constantly, as long as they are in the bath, are coated. Purely chemical, ie electroless copper and nickel baths, which enable the metal deposition with the aid of a strong reducing agent, have due to the necessary working temperature, the very high cost of the required, high-purity chemicals, their wastewater and disposal problems, their critical handling and litigation, the low ductility and gloss level and the very slow deposition rate in practice not enforced stronger.
  • a workpiece made of iron materials including steels and stainless steels can only be adhered to copper and acid-free with layers suitable for further processing if at least one strong reducing agent such as hypophosphite or / and pyrophosphite is added to the bath and / or if a barrier layer is used in advance an eyanidi alkaline electrolytic copper bath, was deposited from an eyanid-free, alkaline complexing agent-containing electrolytic copper bath or from an acidic nickel-strike bath.
  • at least one strong reducing agent such as hypophosphite or / and pyrophosphite
  • a workpiece made of zinc materials can not be acid-adhered and can be acid-plated with current-usable layers without current, or be acid-plated or alkaline-plated without current, without the bath having at least one strong reducing agent, such as e.g. Hypophosphite and / or pyrophosphite is added and / or without previously a copper barrier layer of a cyanide alkaline electrolytic bath or an eyanid-free, alkaline, complexing agent-containing electrolytic bath was deposited.
  • a strong reducing agent such as e.g. Hypophosphite and / or pyrophosphite is added and / or without previously a copper barrier layer of a cyanide alkaline electrolytic bath or an eyanid-free, alkaline, complexing agent-containing electrolytic bath was deposited.
  • a workpiece made of iron or zinc materials can not be adhered to an alkaline state and can be alkaline-plated with current-usable layers without current or nickel-plated without current, without the bath having at least one strong reducing agent, such as e.g. Hypophosphite and / or pyrophosphite is added.
  • at least one strong reducing agent such as e.g. Hypophosphite and / or pyrophosphite is added.
  • EP 1 495 157 B1 teaches an aqueous, freeze-thawing and thawing concentrate for coppering based on basic copper carbonate and complexing agent (s). It was the task of proposing a method in which a barrier layer and / or conductive layer can be applied by coppering in a simple, cost-effective, environmentally friendly and faster manner, in particular on iron and zinc materials.
  • the object was to propose methods for coating in which cover layers, such as, for example, gloss and / or thick layers, are applied electrolytically, without a cyanide alkaline bath, such as, for example, a copper coating, before the formation of the electrolytic cover layer (s). mung, copper plating, nickel plating or galvanizing bath or an electroless bath for the formation of a barrier layer is used.
  • cover layers such as, for example, gloss and / or thick layers
  • a cyanide alkaline bath such as, for example, a copper coating
  • Another object was to propose coating processes that are as cost-effective, fast, of high quality and environmentally friendly as possible. In doing so, it would be preferable to propose methods which are widely and easily applicable.
  • electroless copper plating is also possible without difficulty on iron, zinc or / and tin workpieces including workpieces made of steels and stainless steels, with a simple process and with high quality of the barrier layer to be formed.
  • This process is even surprisingly simple, inexpensive, reliable, fast, environmentally friendly and non-toxic. It can even be used free of added reducing agents.
  • the object is achieved with a method for treating a metallic surface of an article with an aqueous coppering solution in which on clean metallic surfaces of the article or after pretreatment on cleaned metallic surfaces a first copper plating solution which is free of cyanide and the is free of intentionally added strong reducing agent having a potential with values of less than -0.6 V, or which is free from intentionally added reducing agent, used to form a first copper layer or copper alloy layer as a barrier layer and / or as a conductive layer without current becomes.
  • a first copper plating solution which is free of cyanide and the is free of intentionally added strong reducing agent having a potential with values of less than -0.6 V, or which is free from intentionally added reducing agent, used to form a first copper layer or copper alloy layer as a barrier layer and / or as a conductive layer without current becomes.
  • a first copper plating solution which is free of cyanide and the is free of intentionally added strong reducing agent having a potential with values of less than -0.6 V, or which is free from intentionally
  • the first copper plating solution is cyanide-free and free of strong reducing agent, which has a potential with values less than -0.6 V, or even free of reducing agent.
  • metallic surfaces of iron, zinc, tin or / and their alloys can be copper-plated with the method according to the invention.
  • an article is treated from a ferrous material, zinc and / or a zinc alloy.
  • a first copper plating solution is used cyanide-free electrolessly for the formation of a barrier layer and / or a conductive layer on a less noble metallic surface than copper.
  • the copper plating solution according to the invention that is to say with the copper plating bath according to the invention, it is possible with appropriate chemical composition of the bath, that is to say with content of at least one alloying element, such as, for example, Zinc and / or tin, also a copper alloy layer are formed.
  • alloying element such as, for example, Zinc and / or tin
  • indications such as "nickel" in the baths are intended to include both nickel and nickel with alloying elements and nickel and nickel alloy layers, respectively.
  • an article of ferrous material, zinc, zinc alloy or / and a tin material is treated with the proviso that the first copper plating solution in the treatment of an article of iron or steel, optionally with the exception of stainless steel, no Contains complexing agent.
  • a weak complexing agent is particularly advantageous.
  • the object is also achieved with an article having a barrier layer and / or a conductive layer, which is produced according to the invention.
  • the barrier layer and / or conductive layer is preferably completely free of pores.
  • at least one galvanic cover layer for example based on copper, nickel or one of its alloys, is also applied electrolytically to the electrolessly applied barrier layer and / or conductive layer.
  • it is the use of a method for treating a metallic surface of an article with an aqueous copper plating solution according to the invention and / or articles coated according to the invention for electroless formation of a first copper layer or copper alloy layer as a barrier layer and / or as a conductive layer, especially on surfaces of iron. Materials, zinc materials or / and tin.
  • the copper plating solution used according to the invention can therefore be free of strong complexing agents, such as e.g. Complexing agents and / or complexes based on cyanide, diethylenetriamine, diethanolglyoxime, ethylenediamine, ethylenediaminetetraacetic acid, hydroxyethylethylenediaminetriacetic acid (HEDTA), diethylenetrinitrilopenta-acetic acid (DTPA), gluconic acid, lactonitrile, nitrilotriacetic acid (NTA), Rochelle salts , Triethanolamin, tetrakis (2-hydroxypropyl) ethylenediamine (THPED), Pentahydroxypropyldiethylen- triamine and derivatives thereof, in particular free of ethylenediaminetetraacetate (EDTA) with appropriate environmental, Toxizmaschines-, Abwasser awarenesssoder / and treatment problems, held.
  • complexing agents and / or complexes based on cyanide such as
  • the copper plating solution used in accordance with the invention is preferably also kept free of weak complexing agents such as complexing agents and / or complexes based on lactic acid, acetic acid, tartaric acid, citric acid and derivatives thereof and mixtures thereof.
  • weak complexing agents such as complexing agents and / or complexes based on lactic acid, acetic acid, tartaric acid, citric acid and derivatives thereof and mixtures thereof.
  • an environmentally friendly weak complexing agent such as based on citric acid, lactic acid, acetic acid, tartaric acid and / or derivatives thereof does not interfere with copper plating solutions of the invention nor with the disposal of copper plating solution residues.
  • citric acid or / and one of its derivatives can be of advantage, in particular in the case of metallic surfaces which are difficult to be coppered, for example those made of stainless steel, in particular in the bath in the range from 0.1 to 120 g / L, from 1 to 80 g / L, from 3 to 60 g / L, from 6 to 35 g / L or from 12 to 20 g / L.
  • a citrate for example sodium citrate, potassium nitrate and / or ammonium citrate
  • the copper plating solution used according to the invention can also be kept free from strong reducing agents, since these are also environmentally unfriendly and hazardous to sewage and sometimes also toxic. Because complexing agents and strong reducing agents require additional treatment in wastewater.
  • the first coppering solution contains no intentionally added complexing agent, more preferably no complexing agent.
  • the copper plating solution of the present invention does not require a strong reducing agent, and particularly no reducing agent, which is intentionally added to the copper plating solution.
  • the first copper plating solution contains no added reducing agent and no strong complexing agent except for the ions dissolved out and / or leached out of the surfaces.
  • the Electroless coppering used according to the invention works at least immediately after the first contact with a base metal or material with ions such as Fe 2+ in its solution.
  • a base metal or material with ions such as Fe 2+ in its solution.
  • the minimum potential of the native reducing agent is -0.44 V for iron and -0.76 V for zinc when measured with a standard hydrogen electrode.
  • the first copper plating solution contains ions having values of potential in the range of -0.1 to -2.5 V or -0.4 to -2 V.
  • the barrier layer and / or conductive layer produced according to the invention can also be applied to iron and zinc materials including stainless steel and to tin in a simple, inexpensive, environmentally friendly and faster manner than by prior art methods.
  • this method does not involve expensive additional process steps such as, for example, a necessary electropolishing or a necessary electrolytic degreasing.
  • An alkaline or pH neutral hot degreasing e.g. Remove residues of grease, oil, dust, etc., and then rinse with water.
  • the copper barrier layer or / and Kupferkonduktiv für invention consists either only of copper or substantially copper, and optionally of a low content of alloying constituents for copper, optionally from a low content of brighteners, other additives and / or minor other addition of the copper plating in the Layer of built-in components.
  • the copper plating solutions used according to the invention for electroless formation of a barrier layer and / or conductive layer are aqueous compositions which can vary widely with regard to their concentrations and their additives. They contain at least one copper compound such as a copper sulphate hydrate.
  • the copper content of the copper plating solution as a bath solution may be in the range of 0.5 to 120 g / L Cu, preferably in the range of 1 to 100 or 2 to 80 or 5 to 60 or 7 to 40 or 9 to 25 or from 1 to 18 g / L Cu.
  • the other additives to the coppering solution used in the invention can vary a lot, so that no kind of addition moreover necessarily must be included in each bath.
  • it may in each case comprise at least one / one / one mordant, pickling inhibitor, pickling agent, chelate, chelating agent, brightener, complex, weak or complexing agent, wetting agent, buffer substance, a weak reducing agent, acid, adjusting agent for the pH and / or optionally have further additives.
  • It preferably contains ions and in particular leached or / and leached ions such as Fe 2+ , Zn 2+ or / and other ions which have been leached out of alloying constituents and / or from other metallic materials of the treated metallic surface and / or dissolved out and the values of Potentials in the range of -0.4 to -1, 8V.
  • the total content of the coppering solution as a bath solution of solids and active ingredients is often in the range from 1 to 400 g / L and preferably in the range from 2 to 300 or from 5 to 250 or from 10 to 200 or from 20 to 150 or from 30 to 125 or from 40 to 100 or from 60 to 80 g / L.
  • the largest contents usually have the at least one copper compound and optionally also at least one acid or / and at least one weak complexing agent.
  • the leached or / and leached ions in particular of Fe 2+ , Sn 2+ and Zn 2+ have the same effect as added strong reducing agents. Because it has been found that the Togeizizizten or / and dissolved ions are necessary for the inventive method, if no strong reducing agent is added. Even at the beginning of the work, it is usually not necessary to add such ions to the bath, because the copper plating begins on metallic surfaces even without the addition of eg Fe 2+ , Sn 2+ and Zn 2+ , so that when immersing the object to be treated base metallic material in the usually acidic or neutral copper plating solution are automatically liberated ions, which then act as a reducing agent. In particular, ions of relatively non-noble metals such as Fe 2+ or / and Zn 2+ can serve as native reducing agents.
  • the copper plating solution according to the invention can contain acids such as, for example, sulfuric acid, hydrochloric acid, nitric acid and / or hydrofluoric acid, in particular in amounts ranging from 0.1 to 200 g / L, more preferably from 5 to 130 g / L or from 50 up to 80 g / L.
  • the total acid content is in the range of 0.1 to 400 g / L or 10 to 200 g / L or 30 to 130 g / L.
  • the copper plating solution according to the invention may be added as a pickling inhibitor, for example an amine such as tributylamine, butynediol, cyclohexanol, nitrobenzenesulfonic acid, propynol, putindiol or / and one of its derivatives.
  • a pickling booster it is often preferred to use at least one alkali metal halide such as sodium chloride and / or sodium fluoride in acidic solutions.
  • Complexing agents such as e.g. Citric acid and its derivatives as well as chemically related carboxylic acids and their derivatives are regarded as weak complexing agents in electroplating. Many compositions for electroless copper plating do not require the addition of complexing agents. It is often beneficial to add no complexing agent, because this is beneficial for wastewater treatment, because even weak complexing agents can solve salts such as nickel and cause environmental damage. The stronger a complexing agent contained in the bath, the greater the required outlay for wastewater treatment.
  • the copper plating solution according to the invention is preferably free of strong complexing agents, e.g.
  • EDTA ethylendinitrilotetra-acetic acid
  • HEDTA hydroxyethylethylenediaminetri-acetic acid
  • DTPA diethylenetrinitrilopenta-acetic acid
  • NTA nitrilotri-acetic acid
  • Triethanolamine tetrakis (2-hydroxypropyl) ethylenediamine (THPED), pentahydroxypropyldiethylenetriamine and their derivatives.
  • a subsequent electrolytic topcoat need not be made with an electrolyte that is free of strong chelating agents - regardless of their composition and a content of, for example, Ag, Cu, Ni or / and Cr.
  • ethylenedinitrilotetraacetic acid EDTA
  • triazole ascorbic acid, porphine, heme, chlorophyll or / and derivatives thereof
  • ethylenedinitrilotetraacetic acid dinitrate dialkylaminoethyltolyltriazole or / and sodium ascorbate
  • the total content of chelating agents or / and of corresponding chelates in the coppering solution according to the invention is preferably in the range from 0.001 to 100 g / L, more preferably in the range from 0.1 to 20 g / L or from 0.5 to 5 g / L.
  • the copper plating solution according to the invention may comprise, for example, at least one compound based on alkylsulfonic acids, on amines, e.g. Reaction products with propylamines, of benzenesulfonic acids, of coumarins, of esters of (meth) acrylic acids, of melilotric acid, of saccharines, of sulfonamines, of sulfonimides or / and of sulfinic acids.
  • alkylsulfonic acids on amines
  • amines e.g. Reaction products with propylamines, of benzenesulfonic acids, of coumarins, of esters of (meth) acrylic acids, of melilotric acid, of saccharines, of sulfonamines, of sulfonimides or / and of sulfinic acids.
  • wetting agent for example, multiple alcohols, ether compounds, ethoxylates, carboxylates, sulfonates, sulfates, quaternary ammonium compounds, ethane compounds, surfactants or / and derivatives thereof can be used in the copper plating solution according to the invention.
  • the total content of wetting agents in the coppering solution according to the invention is preferably in the range from 0.001 to 100 g / L, more preferably in the range from 0.1 to 20 g / L or from 0.5 to 5 g / L.
  • the total content of buffer substances in the copper plating solution according to the invention is preferably in the range from 0.001 to 100 g / L, more preferably in the range from 0.1 to 20 g / L or from 0.5 to 5 g / L.
  • setting agents for example, acids and bases or / and their derivatives can be used in the copper plating solution according to the invention.
  • the total content of setting agents in the coppering solution according to the invention is preferably in the range from 0.001 to 100 g / L, more preferably in the range from 0.1 to 20 g / L or from 0.5 to 5 g / L.
  • the copper plating solution according to the invention preferably contains at least one copper compound and at least one brightener, at least one acid or / and at least one mordant. With particular preference, it additionally contains at least one pickling inhibitor and optionally also a pickling agent. Alternatively or additionally, it may particularly preferably also contain at least one brightener.
  • the copper plating solution according to the invention is free of deliberately added strong reducing agent, ie free of reducing agent, which has potential values of at most -0.6 V and in particular values in the range of -3 to -1 V. It is preferred to keep the copper plating solution according to the invention free or as free as possible of stabilizing agents for the copper plating solution on an organic and / or inorganic basis.
  • organic stabilizers for example, diethylenetriaminepentaacetic acid, phosphonic acid, thioglycolic acid, thiourea or / and derivatives thereof can be used as organic stabilizers.
  • inorganic stabilizers for example, compounds based on cadmium, lead, vanadium or / and mercury can be used.
  • the organic stabilizers can dissolve metals from sediments and, where appropriate, cause their transport into waters, whereas the inorganic stabilizers are toxic and environmentally unfriendly. In general, it is preferred to keep the copper plating solution according to the invention free or as free of toxic heavy metal ions as possible.
  • the pH of the copper plating solution according to the invention is preferably adapted to the materials of the metallic surfaces which are to be copper-plated.
  • a pickling attack occurs on a ferrous material such as on a steel sheet.
  • Fe 2+ is leached out and goes into solution.
  • electrons are released, which are absorbed by the copper.
  • metallic copper is deposited.
  • the pH of the copper plating solution is often preferably in a range of about 4 to 8 or 5 to 8.
  • the pH of the copper plating solution is more preferably in a range of 4.5 to 7 or from 6 to 7.5.
  • the pH value of the copper-plating solution is particularly preferably in the range from 0 to 2 in the case of iron-rich workpieces, more preferably in the range from 4.5 to 7.5 or from 6.5 to 7 in the case of zinc-rich workpieces.
  • Particular preference is given to pH Value of the first copper plating solution for zinc-rich or tin-rich metallic surfaces in the range of 4.5 to 8.5 or from 6 to 8 or for iron-rich metallic surfaces at less than 5.
  • the electroless copper plating according to the invention or / and a subsequent electrolytic Coating can be done by dipping, spraying, rolling, brushing, casting, by sponge application, by pad application or / and in a similar manner.
  • Usually work is done in diving.
  • Preferably by dipping, spraying, rolling, brushing, Casting, by sponge job and / or by padding order without power and / or electrolytically coated afterwards.
  • the article provided with a barrier layer and / or conductive layer undergoes at least one subsequent surface treatment.
  • the temperature at which electroless copper plating according to the invention is preferably in the range from 15 to 95.degree. C., particularly preferably in the range from 20 to 85.degree. C. or from 30 to 70.degree. C., is preferred. If coppering takes place at temperatures above 50 ° C, the treatment time is considerably shorter. But when working at higher temperatures, care should be taken that the concentration and / or treatment time are not too high to avoid spongy, poorly adherent layers.
  • a time in the range of 0.05 to 30 minutes from 0.2 to 10 minutes or preferably over 0.5 to 2 minutes electroless copper plating to a copper layer according to the invention as a barrier layer and / or as Conductive layer form.
  • the bath has a lower concentration than, for example, 0.5 g / L copper in the copper plating solution, then a higher bath temperature and / or longer treatment time should be taken into account.
  • the copper plating bath has a higher concentration than, for example, 100 g / L Cu in the copper plating solution, attention must be paid to lower bath temperature, shorter treatment time, higher levels of pickle inhibitor and / or higher levels of brightener.
  • the energy savings in the electroless deposition is about 90 to 100% compared to the electrolytic deposition. It amounts to about 40 to 70% in electroless plating compared to the electroless, chemical deposition, because the chemical copper deposition is very slow, and it is always above 60 ° C and sometimes working at more than 90 ° C. Because at high copper contents, the copper plating solution becomes unstable and, in addition, spongy, poorly adhering copper layers can then form.
  • the at least one electrolessly produced copper layer according to the invention can, if required, be further electrolytically copper-plated or / and further electrolytically nickel-plated, e.g. to apply in each case at least one bright copper layer, thick copper layer, bright nickel layer or thick nickel layer.
  • at least one cover layer is applied chemically or electrolytically as a galvanic luster layer or at least one layer as a thick layer.
  • These coatings can be of good quality, but are particularly expensive to produce.
  • Chemical thick films are particularly advantageous in difficult-to-workpieces, since they have the same layer thicknesses regardless of the workpiece geometry. Because the current is unevenly distributed in holes, cavities, edges, etc.
  • At least one electrolytic silver, chromium, gold, cadmium, platinum or / and rhodium layer can be additionally applied, in particular from acidic, cyanide-free and reducing agent-free electrolytes, e.g. as at least one gloss and / or at least one thick layer.
  • the object provided with an electrolessly produced copper layer can be electroplated at least once after application of the barrier layer and / or the conductive layer, can be coated at least once, can be coated at least once with at least one powder coating, with at least one cathodic dipcoat (KTL) or / and can be combined with at least one other item.
  • Joining can be achieved, for example, by gluing, clinching or / and joining rolling under pressure and optionally also at high temperature.
  • the object provided with an electrolessly produced copper layer is treated galvanically at least once, painted at least once or coated with a powder coating or with a cathodic dip coating (KTL) or joined together with another object.
  • zinc die-casting alloys such as. B. ZnAIMg and ZnAIMgCu alloys (ZAMAK alloys) well electroless copper according to the invention.
  • Copper plating could not be achieved with very inhomogeneous or superficially heavily soiled zinc alloys, e.g. When aluminum halos in the alloy undergo deposition due to the potential difference between, e.g. AI and Zn have prevented. If electrolytically galvanized in these situations, rinsed with water and then copper-plated according to the invention electroless, this problem could be solved.
  • the electroless copper plating according to the invention of stainless steel surfaces is more difficult than with steel surfaces, in particular because of the natural oxide skin on the stainless steel surfaces.
  • stainless steel surfaces are electrolessly copper-plated by pickling before the copper plating at least one non-oxidizing acid is used for the previous activation and by additionally using an electrically conductive contact of a less noble metal as stainless steel to the stainless steel surface for coppering, if necessary. Because stainless steel often behaves differently than the other iron and steel materials and often can not be easily stained in sulfuric acid. An electrically conductive contact with a less precious metal than stainless steel appears to be necessary in the case of stainless steel surfaces, which contain a higher content of steel refiners such as Cr, Ni or / and V, for example.
  • the degreased and pickled stainless steel surfaces could be well copper even without using an electrically conductive contact with a less noble metal than stainless steel.
  • Such electrically conductive contact of a sacrificial metal eg of aluminum, aluminum alloy, low alloyed ferrous and steel materials, zinc and / or zinc alloy to a stainless steel surface allows the sacrificial metal in the copper plating solution to provide electrons for metal deposition. This is a pickling attack on the sacrificial metal, which goes into solution. The released electrons migrate via the electrically conductive contact to the stainless steel surfaces. Due to a sufficient number of free electrons, the stainless steel surfaces can then be copper-plated.
  • the so-called sedimentation in the dipping process only works when it is used in the contact and dipping process.
  • the release of electrons appears to be hindered less than with higher-alloyed stainless steels. Therefore, it is possible for some stainless steel alloys to successfully copper even without electrically conductive contact of the stainless steel surface with a sacrificial metal stainless steel surface.
  • the so-called sedimentation in the dipping process already works when it is used in the immersion process. The copper plating quality does not suffer from this.
  • the bath contents and the thermal conditions for coppering precious metals Steel surfaces are the contact and dipping method as well as the
  • tin surfaces can be copper-plated according to the invention.
  • the bath contents and the thermal conditions for copper-plating tin surfaces are almost the same as when coppering zinc surfaces.
  • barrier layers for nitriding steel even partially, or layers for increasing the electrical conductivity of a component, can also be produced selectively on only a part of the surface.
  • At least one electrolytic luster or electrolytic thick nickel layer can be applied directly to the barrier layer and / or conductive layer applied according to the invention without the objects provided with a barrier layer having to be previously additionally coated with an acidic, electrolytic, lustrous copper layer. This is independent of whether electroless with a cyanide-containing copper plating solution or with a copper plating solution used according to the invention was worked. It is also independent of whether the barrier layer was applied to a surface, for example made of an iron material, a zinc material, a tin material or / and on a nobler surface.
  • the coated with a conductive layer according to the invention coated article can be used for the production of a more electrically conductive object such as a wire, profile, pipe, rod or intricately shaped object, for conductive heating and / or curing of the metallic article Der with a barrier layer according to the invention or / Conductively coated article can be used as a wire, profile, pipe or rod, as a welding wire, as a fitting, element or connecting element eg for windows, doors or furniture such as a roll or a screw, as an element of an apparatus, a machine, a Household appliance, an electronic article, an electronics article or toy such as a switch or button, as a jewelry item such as a candle holder, as an element for a clock, as a housing, linkage, bracket, mounting plate or paneling, as an element in apparatus construction, mechanical engineering, automotive or for Ve means of transport, as a mechanical functional part or for a metallic object to be hardened, such as a drill, an element subject to wear, in particular in apparatus construction, in vehicle construction
  • a hull cell sheet is a sheet that can be inserted into a Hull cell.
  • the Hull cell has a cross-section in the form of a trapezoid. Due to the trapezoidal layout of the Hull Cell varies the distance between anode and cathode. As a result, the current density between the cathode and anode is varied, wherein the smallest distance between the two electrodes, the highest current density and the largest distance of the two electrodes corresponds to the smallest current density.
  • the current density distribution is not linear, but increases faster as the distance becomes smaller. Therefore, it is possible to test an electrolyte such as an acidic high-gloss copper bath on a single Hull cell sheet over a wide current density range important for metal deposition.
  • the bath of the first coppering solution had the following aqueous composition:
  • Gardobond ® CU 7602 is sold by Chemetall GmbH as a freeze-stable and thaw-stable concentrated aqueous solution.
  • the solution diluted with city water from Gardobond ® CU 7602 from Chemetall GmbH points an aqueous composition based on basic copper carbonate, weakly basic buffer substance, weak complexing agent and brightening agent.
  • the copper plating solution according to the invention prepared with sulfuric acid was used at a temperature of 30 ° C. and at a pH of less than 0.5 over 0.5 minutes. This was followed by rinsing with city water at room temperature.
  • the copper barrier layers could not be scraped off with a fingernail.
  • the crosshatch adhesion test was passed with GT0. A bending of the Hullzellenbleches over 180 ° was possible without Schich- tabplatzungen at Biegeinnen- and Biegeau touchkante.
  • the applied barrier layer was extremely ductile, non-porous, fine crystalline and without internal layer stresses.
  • the sheets were in a conventional acidic high-gloss copper bath at 2 A / dm 2 and at a temperature of 35 ° C for 15 minutes or for thick films over 60 minutes electroplated or thickly coppered. Then they were rinsed with city water again and dried.
  • the electrolessly applied copper barrier layer would also directly followed by a bright nickel plating instead of Glanzverkupferung so that then both the cyanide copper plating, as well as the acid Glanzverkupferung the conventional manufacturing process could have been omitted.
  • the sheets also showed smooth, high gloss and over the entire current density range of 0.1 to 20 A / dm 2 in acidic under varied pretreatment conditions and under varied conditions for forming the barrier layer such as temperature, concentration and immersion time based on Gardobond ® CU 7602 , glossy copper electroplated very well adhering copper barrier layers, the good adhesion was confirmed by tests in the crosshatch and bending test.
  • the bright copper and thick copper layers were high gloss. They showed excellent adhesion. All properties of all copper layers were high quality and integrity.
  • the inventive method was particularly fast, easy, inexpensive, without much energy and effortless.
  • Inventive example 2 to electrolessly and chemically varied produced copper barrier layer Two Hullzellenbleche steel ST2 were pretreated and coppered as in Example 1, but an electroless dip bath was carried out in 100 g / L Gardoboncf CU 7600 of Chemetall GmbH and
  • Gardobond ® CU 7600 is sold by Chemetall GmbH in powder form.
  • the aqueous solution of Gardobond ® CU 7600 contains copper sulfate hydrate, pickling inhibitor, pickling agent and wetting agent.
  • the Hull cell plates were treated at a temperature of 30 ° C at a pH ⁇ 1, in particular at pH values of about 0.5, for 0.5 minutes. Then it was flushed with city water.
  • the sheets were in a conventional acidic high-gloss copper bath at a current density of 2 A / dm 2 and at a temperature of 35 ° C for 15 minutes or for thick films over 60 minutes electroplated or thickly coppered. Then they were rinsed with city water again and dried.
  • This electrolessly applied copper barrier layer could also have been followed directly by a bright nickel plating instead of the bright copper plating, so that then both the cyanide copper plating and the acid copper plating could have been omitted.
  • the sheets showed under varied pretreatment conditions and varied conditions for electroless formation of the barrier layer using Gardobond ® CU 7600 as concentrations, temperatures and immersion times smooth, high gloss and very good adhesion over the entire current densities te-area copper barrier layers.
  • the thickness of the applied barrier layer was 1, 6 - 1, 7 pm and was evenly distributed on the front and back of the sheet. The uniformity was confirmed by crosshatch and bending test. The copper barrier layers could not be scraped off with a fingernail.
  • the crosshatch adhesion test was passed with GTO. A bending of the Hullzel- lenbleches over 180 ° was possible without Schichtabplatzache at Biegeinnen- and Biegeau mixkante.
  • the applied barrier layer was particularly ductile, nonporous, fine crystalline and without internal layer stresses.
  • the bright copper and thick copper layers were high gloss. They showed excellent adhesion. All properties of all copper layers were high quality and integrity.
  • the inventive method was particularly fast, easy, inexpensive, without much energy and effortless.
  • Example 1 Two further Hullzellen sheets 4 and 4a were first pretreated as in Example 1.
  • the sheet 4a of Comparative Example 4a was additionally pickled after hot degreasing and rinsing with water and cathodically degreased to readjust the conventional process used in industry:
  • the pickling of the second sheet was carried out with 5% sulfuric acid at room temperature for 30 seconds , After pickling, the sheet was rinsed again in city water and then degreased electrolytically.
  • the degreasing was carried out cathodically in aqueous solution of 10 g / L KOH, 30 g / L sodium silicate, 10 g / L pyrophosphate and 1 g / L wetting agent at 2 A / dm 2 and 30 ° C for 3 minutes. As a result, an additional cleaning effect compared to the sheet 4 was achieved.
  • the two cleaned sheets were not subjected to an electroless dip treatment, but in a galvanic process with a commercially available cyanide alkaline copper electrolyte of about 15 g / L Cu, about 50 g / L sodium cyanide, about 50 g / L sodium hydroxide solution, wetting agent, Brightener and other additives treated.
  • the galvanic copper plating to form a barrier layer was carried out at 1 A / dm 2 and 50 ° C for 5 minutes. This required approximately five times the time for the formation of the galvanically produced barrier layer for a specific layer thickness, as in the case of the electroless copper plating of the barrier layer according to the invention.
  • the coated with a copper barrier layer sheets showed high adhesion, with sheet 4 and sheet 4a after cyanidic copper plating a matte surface without gloss showed without a bright copper layer was applied.
  • the layer thickness of the barrier layers was on the side facing the anode, depending on the prevailing in the Hull cell anode distance extension 1, 2 - 2.5 pm.
  • the copper barrier layers could not be scraped off with a fingernail.
  • the crosshatch adhesion test was passed with GTO. A bending of the Hullzellenbleches over 180 ° was possible without Schichtabplatzache at the Biegein- nen- and Biegeau mixkante.
  • the applied barrier layer was ductile, almost nonporous, crystalline, and showed slight internal tensile layer stresses.
  • the layer thickness of the barrier layers was on the rear side facing away from the anode, which can be achieved barely or not by the field lines of the current, depending on the prevailing in the Hull cell anode distance extension and scattering ability of the cyanide, galvanic Verkupfer- rungsbad 0.06 and 1, 4 pm, but increased to the outer edges of the sheet.
  • In the middle of the sheet was on the back of an area of about 2.3 x 1, 8 cm, which had not been coated with copper at all, so that a bare spot was visible. Even on the back, the copper barrier layers could not be scraped off with a fingernail.
  • the sheets were galvanized in a conventional acidic high-gloss copper bath at 2 A / dm 2 at a temperature of 35 ° C for 15 minutes. It was striking that immediately after the galvanic bright copper plating, the area in the middle of the back of the sheet, which had not previously been provided with a cyanidically produced barrier layer, had a dull, gritty, streaky, slightly blackish copper layer. Since no barrier layer was present in this area, a pickling attack on the base material took place in the acidic bright copper plating bath at this point and in turn initiated a sedimentation. Thereafter, the sheets were rinsed again with city water and dried.
  • This cyanidically produced copper barrier layer could also be followed directly by a bright nickel plating instead of the bright copper plating.
  • the sheet 4 thus treated showed on the front side a shiny copper layer which had excellent adhesion.
  • the additionally treated sheet 4a showed on the front a high-gloss copper layer, which also had excellent adhesion.
  • the applied glossy copper layer also exhibited excellent adhesion at the points which could previously be provided with a cyanidically prepared copper barrier layer. In the central area on the back of the sheet, where due to the field line distribution of the current no barrier layer could be applied, peeled off the resulting copper layer in the subsequent drying with compressed air at 2 bar over a large area.
  • Examples 5 and Comparative Examples 5 to influence the range of parts To test the performance of the pretreatment products Gardobond ® CU 7600 and Gardobond ® CU Chemetall GmbH barriers scored 7602 to the the in a Electroplating operating range of parts to be treated and especially to thereby Due to the better handling, different sections of various machine, construction and spring steel alloy specimens for the purpose of increasing the corrosion protection and / or optical finishing according to the methods of Examples 1 and 2 or treated according to the methods of Comparative Examples 3, 4 and 4a. In the treatment according to the invention of the various parts according to the methods of Examples 1 and 2, the same high-quality properties and advantages were obtained in all parts as in Examples 1 and 2.
  • the currentless use of Gardobond ® CU 7600 or Gardobond ® CU 7602 for the production of barrier layers prevented uncontrolled cementation during the electroplating process with corresponding layer flaking.
  • Also in the interior of the pipe were high-gloss, well-adhering copper layers. The dip was not polluted. All properties of all copper layers were high quality and established. The processes were also particularly fast, simple, inexpensive, without much energy and without problems.
  • Example 4 workpiece sections showed a shiny, according to Example 4a a high-gloss copper surface.
  • the barrier layer applied according to Examples 4 and 4a had a layer thickness of 0 m at locations where, owing to the action of the Faraday cage, the current required for the deposition was not provided and therefore no copper deposition took place.
  • a layer thickness of up to 4.6 pm was deposited on sites which were well supplied with electrolysis, the copper plating being distributed unevenly on the workpieces, depending on the anode spacing and correspondingly increasing current density.
  • those of Examples 4 and 4a applied barrier layers ductile, almost free of pores, crystalline and showed slight internal tensile layer stresses.
  • High-grade steel screws are partially conductively heated to set certain strength parameters and then hardened by quenching. To increase the electrical conductivity, it is therefore necessary to provide the screws with a highly electrically conductive copper layer as a conductive layer, which should have a layer thickness in the range of 1 to 5 ⁇ m. Sample parts of such screws were treated in the process of mass production of such screws according to the prior art as follows:
  • the applied by the novel process conductive layer was particularly ductile, non-porous, fine crystalline and without internal stresses. All properties of all copper layers were high quality and integrity.
  • the manufacturing process was particularly fast, particularly simple, particularly safe, inexpensive, without much energy, easily and in a non-toxic and environmentally friendly manner compared to prior art methods.
  • the copper layer in contrast to the cyanide electrolytic copper layers of the prior art, completely free of pores and therefore higher quality and more electrically conductive.
  • Example 8 for chemically varied screws preparation: high screws were treated as in Example 7, but with the difference that was used as an electroless dip Gardobond ® CU 7600 with a composition and 0.5 minutes at 30 ° C as in Example 2.
  • FIG. 8
  • All properties of all copper layers were high quality and integrity.
  • the manufacturing process was particularly fast, particularly simple, cost-effective, without much energy and without problems.
  • the conductive layer could be applied in a particularly safe, non-toxic and environmentally friendly manner compared to prior art methods.
  • the copper layer is in contrast to the cyanide electrolytic See copper coatings of the prior art non-porous and therefore high-quality and electrically conductive.
  • the cyanide alkaline electrolytic copper plating step was performed by a cyanide-free and reducing agent-free acidic electrolytic luster coating step based on about 200 g / L CuS0 4 x 5 H 2 O and about 60 g / LH 2 S0 4 technically pure and about 80 mg / L NaCl and other leveling and gloss-forming organic additives at 2 A / dm 2 and a deposition rate of about 0.5 pm / min at 30 ° C for 5 minutes replaced.
  • the composition was identical to that of the bright copper plating bath, which was also used in further examples for further processing to apply a bright copper layer to an existing barrier layer.
  • Comparative Example 9 showed a high-gloss copper layer, but had no liability. Conductive heating with low resistance was not possible. A further processing of the screws resulting from Comparative Example 9 was also not possible because the deposited copper layers already detached during drying in a drum. Thus, the required low electrical resistance of the screws for subsequent curing by conductive heating to about 680 ° C could not be achieved. Hardening and quenching these screws was not possible. Comparative Example 10 for a Conventional Method of Manufacturing Printing Rollers:
  • a steel roller was treated as follows: 1 . Degreasing in 10 g / L NaOH, 30 g / L sodium pyrophosphate and 5 g / L wetting agent at 70 ° C for 3 minutes,
  • Electrolytic acidic thick copper plating as 350 pm thick engraving pad at 5 A / dm 2 and 30 ° C for 240 minutes.
  • a further processing of the treated according to Comparative Example 10 roll was easily performed.
  • the applied with the conventional method nickel barrier layer generated a very good primer for the following Dickverkupferung.
  • the Dickverkupferung could not be scraped off with the fingernail.
  • the crosshatch adhesion test was passed with GT0.
  • the applied thick copper layer of the gravure roll was ground on a cylindrical polishing machine of the manufacturer Sanko Kokai with a 1000 grit and then polished to a high gloss. An engraving and engraving a gravure pattern in the polished thick copper plating was easily possible.
  • the applied Dickverkupferung was pore-free and fine crystalline.
  • Example 1 1 for the copper plating of printing cylinders: a roller was treated as in Example 10, but the presence was zzivernickelungsrea of Comparative Example 10 by electroless Kupfertauchbad opposition based on Gardobond ® CU 7602 with a bath preparation, and with a process sequence as in Example 1 replaced. In addition, after degreasing and stop coupons only once again flushed and thus achieved a reduction of Spülwasserverss by 40%. The treatment time of the printing roller could be reduced to 0.5 minutes for applying the barrier layer of 40 minutes as described in Comparative Example 10. The applied copper barrier layer had uniformly distributed over the entire roll a layer thickness of 0.8 to 0.9 pm. The applied copper barrier layer was also shiny.
  • the treatment time was reduced by 80 times and the amount of metal applied by 40 times. It is thus shown that it is possible with the method according to the invention to replace a conventional, complex, toxic nickel plating process by a significantly more environmentally friendly, only slightly harmful, significantly simpler and faster copper plating process.
  • a further processing of the treated according to Comparative Example 1 1 pressure roller was easy to carry out.
  • the copper barrier layer applied by the method according to the invention provided an outstanding primer for the subsequent thick copper plating.
  • the thick copper plating could not be scraped off with the fingernail.
  • the cross hatch adhesion test was passed with GT0.
  • the applied thick copper layer of the gravure roll was ground on a cylindrical polishing machine of the manufacturer Sanko Kokai with a 1000 grit and then polished to a high gloss. An engraving and engraving a gravure pattern in the polished thick copper plating was easily possible.
  • the applied Dickverkupferung was pore-free and fine crystalline.
  • a roller was treated as in Example 10, but was in this case, the Anschlagvernickelungsrea of Comparative Example 10 by electroless Kupfertauchbad opposition in Gardobond CU ® 7600 with a bath preparation described in Example 2 and with a process sequence as in Example 2 replaced.
  • the treatment time of the pressure roller could be reduced to 0.5 minutes for applying the barrier layer of 40 minutes as described in Comparative Example 10.
  • the applied copper barrier layer had a layer thickness of 0.7 to 0.9 pm, which was distributed evenly throughout the entire roll.
  • the applied copper barrier layer showed a slight sheen.
  • the treatment time was reduced by 80 times and the amount of metal applied by 40 times. It is thus shown that it is possible with the method according to the invention to replace a conventional, complex, toxic nickel plating process by a significantly more environmentally friendly, only slightly harmful, significantly simpler and faster copper plating process.
  • a further processing of the treated according to Comparative Example 12 pressure roller was easily performed.
  • the copper barrier layer applied by the method according to the invention provided an outstanding primer for the subsequent thick copper plating.
  • the thick copper plating could not be scraped off with the fingernail.
  • the cross hatch adhesion test was passed with GT0.
  • the applied thick copper layer of the gravure roll was ground on a cylindrical polishing machine from Sanko Kokai with a 1000 grit and then polished to a high gloss. An engraving and pricking A gravure pattern in the polished Dickverkupferung was easily possible.
  • the applied Dickverkupferung was pore-free and fine crystalline.
  • this pressure roller was then turned off on a rotary press on a rotary machine with a feed of 0.1 mm.
  • the applied copper-plating layer could be cut off section by section without any problems, without losing adhesion.
  • Another cylinder was used without the application of a precoat such as e.g. a barrier layer according to Comparative Example 3 directly after the degreasing and rinsing acidic electrodeposited thick.
  • a precoat such as e.g. a barrier layer according to Comparative Example 3 directly after the degreasing and rinsing acidic electrodeposited thick.
  • the applied barrier layer had a layer thickness of between 0.3 and 0.4 ⁇ m, regardless of the part geometry, with the copper plating being distributed uniformly over the workpiece surfaces.
  • the barrier layers were very ductile, nonporous, finely crystalline and free of internal layer stresses.
  • the zinc die-castings coated with the copper barrier layer according to the invention showed a high adhesion and a clearly glossy surface, without a bright copper layer being applied.
  • the copper barrier layers could not be scraped off with the fingernail.
  • the crosshatch adhesion test was passed with GT0. Bending of the parts over 90 ° was possible without Schichtabplatzache at Biegeinnen- and Biegeau technology.
  • the zinc die castings were electroplated in a conventional acid high gloss copper bath at 2 A / dm 2 at a temperature of 35 ° C for 15 minutes.
  • the zinc die castings previously provided with the barrier layer applied in accordance with the present invention exhibited a high gloss glossy copper layer which had excellent adhesion, as confirmed by crosshatching and bending tests.
  • tap water instead of the demineralized water used in the conventional cyanide electroplating copper plating process
  • the process of the present invention has been able to reduce the cost of flushing by more than 60%.
  • inventive treatment of the various parts by the method of Example 14 resulted in all parts the same high quality properties as in Examples 1.
  • Example 14 Similar zinc die castings as in Example 14 were treated as in Example 14 except that the electroless copper plating in the dipping bath was omitted without substitution, so that no barrier layer was formed.
  • Example 14 Similar die-cast zinc parts were coated as in Example 14, but the electroless plating treatment by a conventional alkaline cyanide copper plating process became 1 A / dm 2 and 55 ° C 5 minutes to replicate the prior art zinc die casting manufacturing process.
  • the applied barrier layer had a layer thickness between 0 and 3.9 ⁇ m, whereby the copper plating was distributed unevenly over the workpiece surfaces depending on the anode distance and correspondingly increasing current density. Due to Faraday's cage and the geometry of the parts, copper deposition did not occur at sites that could not be reached with the necessary current for the deposition of copper from cyanide electroplated electrolytes. In addition, the barrier layers applied were ductile, almost nonporous, crystalline, and exhibited slight internal tensile layer stresses. The zinc die-cast parts coated with a copper barrier layer exhibited high adhesion, but after the cyanidic electrodeposition, a matte surface without gloss since no bright copper layer had been applied yet.
  • the zinc die castings were electroplated in a conventional acid high gloss copper bath at 2 A / dm 2 at a temperature of 35 ° C for 15 minutes. It was striking that at locations which had not been provided with a copper barrier layer due to the geometry of the parts and the Faraday cage, gassing began immediately after immersion in the galvanic bright copper plating bath. Here, a pickling attack on the base material was carried out by the acidic solution of the bright copper bath. He led to its destruction. After higher throughput, the introduction of zinc foreign ions led to the destruction of the acidic copper bath.
  • the zinc die-cast parts which had been previously provided with a copper barrier layer, showed a high-gloss copper layer, which had excellent adhesion. This was confirmed by crosshatching and bending tests.
  • Gardobond ® CU 7602 favorable urban water high-gloss flawless bright copper layers could be deposited with excellent adhesion as well.
  • This procedure is also more stressful and, due to more process steps, significantly longer plating times and significantly increased energy expenditure much more complex than in a process according to the invention.
  • Example 17 According to the Invention and Comparative Examples 17 and 17a for Galvanized Steel Sheets
  • Zinc-coated steel sheet sections were treated by the methods as in Examples of the Invention and Comparative Examples 14 to 16.
  • Example 18 according to the invention to different composition copper plating baths
  • Table 1 Variation of bath composition and bathing conditions, with the total amount being e.g. be given to copper, sulfuric acid, brightener or Beizinhibitor
  • GB ⁇ stands for Gardobond 10 of Chemetall GmbH.
  • Table 1 illustrates the wide range of chemical composition and bath temperature of the copper plating solution as well as treatment times to produce good copper layers.
  • the pH value could be varied between 0, 1 and 1 without negative influences, while it could be varied between 6.5 and 7.0 without negative influences for zinc-rich materials.
  • the bath temperature could be varied without negative influences between 15 and 95 ° C, if the bath composition, or / and the treatment time were adjusted.
  • the duration of the electroless plating could be varied between 3 seconds and more than 30 minutes without negative influences, if the bath composition and / or the bath temperature were adjusted.
  • the adhesion of the applied layers was checked by crosshatch, wipe and bending tests according to DIN EN ISO 2409, according to DIN EN ISO 1519 or according to ASTM 2794. All examples showed good adhesion.
  • Table 2 Tabular data for Examples and Comparative Examples 1 to 17 / 17a: *) strong pickling attack on the parts that did not have a closed cyanidically electrolytically produced copper barrier layer due to the Faraday cage
  • the layer thickness in the electrolytic coating shows a large range of variation, depending on how the current density distributed due to the existing part geometry on the workpiece and accordingly power is available for Metallab divorce.
  • a thick layer may alternatively be applied to the gloss layer.

Abstract

Die Erfindung betrifft Verfahren zum Behandeln einer metallischen Oberfläche eines Gegenstandes mit einer wässerigen Verkupferungslösung, mit der auf sauberen metallischen Oberflächen des Gegenstandes oder nach einer Vorbehandlung auf gereinigten metallischen Oberflächen eine erste Verkupferungslösung, die Cyanid-frei und frei von starkem Reduktionsmittel ist, zur Ausbildung einer ersten Kupferschicht oder Kupferlegierungsschicht als Sperrschicht oder/und als Konduktivschicht stromlos eingesetzt wird, sowie die Verwendung der nach dem erfindungsgemäßen Verfahren hergestellten Gegenstände.

Description

VERFAHREN ZUM STROMLOSEN VERKUPFERN VON METALLISCHEN
SUBSTRATEN
Die Erfindung betrifft Verfahren zum Behandeln einer metallischen Oberfläche eines Gegenstandes - insbesondere zum Behandeln der metallischen Oberfläche eines Gegenstandes mit einer Oberfläche aus einem Eisenwerkstoff, aus einem Zinkwerkstoff oder/und aus einem Zinnwerkstoff wie z.B. aus Zink oder/und aus einer Zinklegierung - mit einer wässerigen Verkupfe- rungslösung zum Aufbringen einer Kupferschicht als Sperrschicht oder/und als Konduktivschicht, insbesondere nach einfacheren, kostengünstigeren und umweltfreundlicheren Verfahren. Der Gegenstand kann jedoch auch aus mindestens einem nichtmetallischen oder/und mindestens einem metallischen Werkstoff bestehen, der mit mindestens einer metallischen Schicht versehen ist.
Das Plattieren bezeichnet in der Metallbearbeitung das Aufbringen einer Metallschicht eines edleren Metalls auf ein anderes Metall mit geringerem Potential, zum Beispiel durch Aufwalzen, Aufschweißen, Angießen, Sprühen oder/und Tauchen. Werden galvanische Verfahren benutzt, spricht der Fachmann von einer Elektroplattierung.
Das galvanische Behandeln ist eine bedeutsame Technologie für den Schutz und für das Veredeln metallischer und anderer Gegenstände. Das galvanische Behandeln umfasst jede Art elektrolytischer Behandlung, das heißt ein Beschichten oder/und Behandeln eines Metalls in einer wässrigen Lösung unter elektrischem Stromfluss. Hierbei kann es sich beispielsweise um ein Verkupfern, Verbronzen, Vernickeln, Vercadmen, Verchromen, Ver- bleien, Versilbern, Rhodinieren, Platinieren oder/und Vergolden handeln. In vielen Fällen wird ein Verkupfern, Vernickeln, Verchromen, Versilbern o- der/und Vergolden genutzt. Oft ergeben sich mehrere aufeinander folgende galvanische Schichten. Auf ein Vernickeln kann dann beispielsweise auch ein Verchromen, Versilbern, Platinieren, Rhodinieren oder/und Vergolden folgen. Nur in seltenen Fällen gibt es nur eine einzige Deckschicht aus Kupfer. In fast allen Fällen folgt heute auf eine Kupfer-Deckschicht mindestens eine Nickel-Deckschicht. In fast allen Fällen folgen heute auf eine Nickel- Deckschicht mindestens eine andersartige Deckschicht wie z.B. mindestens eine Deckschicht aus Gold, Platin, Rhodium, Silber oder Chrom, wobei alle Deckschichten üblicherweise elektrolytisch und meistens aus sauren wässerigen Lösungen aufgebracht werden. Die Deckschichten können beispielsweise Glanzkupferschichten mit Schichtdicken üblicherweise im Bereich von 3 bis 50 pm und vorzugsweise im Bereich von 5 bis 20 pm, Dickkupfer- schichten mit Schichtdicken üblicherweise im Bereich von 50 bis 5000 m und vorzugsweise im Bereich von 80 bis 500 pm, Glanznickelschichten mit Schichtdicken üblicherweise im Bereich von 3 bis 20 pm oder/und Dicknickelschichten mit Schichtdicken üblicherweise im Bereich von 30 bis 250 pm sein. Wird keine externe Stromquelle als Lieferant für die bei der Metallabschei- dung nötigen Elektronen verwendet, und erfolgt diese Plattierung ohne Gehalt eines starken Reduktionsmittels, spricht der Fachmann von stromloser Plattierung, Beschichtung oder Behandlung. Die Zugabe und Verwendung von mindestens einem starken Reduktionsmittel zum/im ohne elektrischen Strom eingesetzten Bad bedeutet, dass die zur Metallabscheidung notwendigen Elektronen durch mindestens ein im Bad vorhandenes starkes Reduktionsmittel geliefert werden, wobei dann von chemischer oder außenstromloser Plattierung, Beschichtung oder Behandlung gesprochen wird. Auch die Begriffe„chemisch Kupfer" und„chemisch Nickel" bedeuten, dass mit min- destens einem starken Reduktionsmittel im Bad gearbeitet wird.
Schwache Reduktionsmittel finden in der Galvanotechnik zur Metallabscheidung keine Anwendung, da diese das zur Abscheidung nötige Potenzial nicht erreichen, denn ein chemisches (= außenstromloses) Kupferbad oder ein chemisches Nickelbad funktioniert allein mit schwachen Reduktionsmit- teln nicht. Alle in chemischen Kupfer- oder Nickelbäder verwendeten Reduk- tionsmittel haben daher ein Potenzial mit Werten von höchstens -0,6 V oder vorzugsweise von höchstens -0,8 V und besonders bevorzugt von höchstens -1 V. Die Angaben zum Potenzial beziehen sich auf Messungen mit einer Standardwasserstoffelektrode. Und diese Reduktionsmittel werden als star- ke Reduktionsmittel angesehen, d.h. weisen Werte des Potenzials von höchstens -0,6 V und oft Werte im Bereich von -3 bis -1 V auf.
Stromlose Bäder sind in der Regel den galvanischen = elektrolytischen o- der/und den außenstromlosen = chemischen = starkes Reduktionsmittel enthaltenden Bädern vorzuziehen, da sie zu einer schnelleren Schichtausbildung bei einem geringeren Arbeitsaufwand und bei einem geringeren Energieaufwand als bei elektrolytischen und außenstromlosen Bädern führen, soweit derartige Schichten überhaupt stromlos ausgebildet werden können. Aber vielfach lassen sich die gewünschten Metallschichten in geeigneter Schichtqualität nur elektrolytisch herstellen, wie z.B. bei einer alkalischen, cyanidischen elektrolytischen Verkupferung, bei einer alkalischen, cyanid- freien elektrolytischen Verkupferung oder bei einem sauren elektrolytischen Nickel-Strike-Verfahren. Daher wird heute fast immer elektrolytisch, d. h. energetisch und prozesstechnisch sehr aufwändig, gearbeitet, weil keine geeigneten stromlosen und meistens auch keine geeigneten außenstromlosen Beschichtungsverfahren bekannt sind.
Alle hier und im Folgenden genannten Bäder sind wässerige Zusammensetzungen, weshalb bei konkreten Zusammensetzungen Wasser nicht immer genannt wird. Ein Verkupferungs- oder Vernickelungsbad enthält die wässerige Verkupferungs- oder Vernickelungslösung. Vielfach ist eine Sperrschicht auf der Oberfläche eines Werkstücks nötig, wenn sie ein unedles Metall aufweist, um danach elektrolytisch in wässerigem Medium weiterverarbeitet werden zu können. Eine Sperrschicht ist z.B. erforderlich, um eine unkontrollierte, in der Regel schlecht haftende Su- dabscheidung auf dem Werkstück wie z.B. mit einer Oberfläche aus einem Metall mit elektronegativerem Potenzial als Kupfer aus einer Lösung mit höherem Potenzial zu vermeiden. Behandelt man ein Werkstück mit einer Oberfläche z.B. aus Eisen, aus einer Eisenlegierung, aus Zink oder/und aus einer Zinklegierung in einer schwefelsauren Kupfersulfatlösung, die der Glanz- und/oder Dickschichtverkupferung des Stand der Technik entspricht und von diversen Galvanofachfirmen elektrolytisch angewandt wird, so gehen Eisen oder/und analog z.B. auch Zink nach der Redoxreaktion
Oxidation: Fe Fe2+ + 2e"
Reduktion: Cu2+ + 2e" Cu unter Elektronenabgabe in Lösung. Dann scheidet sich metallisches Kupfer auf der Oberfläche in einem nicht haftenden Überzug ab. Da auf diese Weise bisher nur sehr dünne, schwammige, poröse, kaum bis nicht haftende Schichten abgeschieden werden können, kommt die Verwendung solcher Schichten für die Weiterverarbeitung im dekorativen oder funktionellen Be- reich der Galvanotechnik nicht in Frage.
Ohne aufgetragene Sperrschicht erfolgt deshalb auch in sauren, elektrolytischen Verkupferungsbädern ein störender Beizangriff auf die saubere oder gesäuberte metallische Oberfläche. Der Beizangriff setzt dann die Su- dabscheidung in Gang. Hierbei werden insbesondere Eisen- oder/und Zink- Ionen aus dem zu beschichtenden Gegenstand herausgebeizt. Sie gehen in Lösung. Dadurch werden Elektronen freigesetzt, die dann wiederum von den Ionen des nachfolgenden sauren galvanischen Bades aufgenommen werden. Die entsprechenden Metalle schlagen sich als nicht haftende Zementation auf dem Grundmaterial nieder. Teilweise führt dieser Beizangriff auch zur Zerstörung des Grundmaterials. Dadurch werden aber die nachfolgenden Galvanisierbäder verschmutzt. Eingetragene Fremdstoffe, gegebenenfalls einschließlich Fremdionen, scheiden sich bei der Elektrolyse unkontrolliert und bevorzugt im Bereich niedriger Stromdichte als Metallniederschlag mit ab. Sie verursachen dadurch matte, graue, schlierige, raue oder/und po- röse Schichten, die für eine Weiterverarbeitung insbesondere im technischen oder dekorativen Bereich nicht geeignet sind. Die in das Bad eingetragenen Fremdstoffe lassen sich nur durch Selektivreinigung, Teilverwurf oder Verwurf des Galvanisierbades entfernen. Bröckelt der durch Zementa- tion entstandene nicht-haftende Niederschlag in den nachfolgenden Galvanisierbädern zum Beispiel durch die Bewegung der Gegenstände oder/und des Bades ab, wird das niedergeschlagene Metall ebenfalls teilweise wieder in die abzuscheidende Schicht eingebaut. Es verursacht deutliche Fehlstellen, Poren, Rauheit oder/und Erhebungen. Derartige Metallbrösel können nur durch sehr intensive Filterung entfernt werden. Grundsätzlich werden beim Eintrag von Fremdstoffen in das nachfolgende Galvanisierbad Prozessstörungen, Einbußen in der Qualität, Mehrkosten oder/und ein Mehraufwand folgen, unabhängig davon, ob die Fremdstoffe als Ionen, als metallische Brösel oder/und als dünne Häute vorliegen. Eine Sperrschicht dient dazu, Werkstücke jeglicher Teilegeometrie aus einem Grundwerkstoff mit niedrigem elektrochemischem Potenzial wie zum Beispiel aus Eisen, aus Zink, aus Zinn oder/und aus einer deren Legierungen zu beschichten, um Beizangriff und Zerstörung auf das Grundmaterial, Verschleppung von Fremdionen in das galvanische Bad, Verschmutzung der Nachfolgebäder, Sudabscheidung, nicht haftende, blasige oder porige Schichten sowie nachfolgende Beschichtungsfehler wie matte, graue oder schlierige Schichten zu vermeiden.
Sperrschichten aus Kupfer oder Nickel vor dem weiteren galvanischen Behandeln sind grundsätzlich bekannt. Bäder, mit denen solche Sperrschichten hergestellt werden, werden vom Fachmann in der Praxis auch Anschlagbäder genannt.
Bis heute wird für die Herstellung einer Sperrschicht in der industriellen Praxis entweder 1 .) ein cyanidisches alkalisches, elektrolytisches Verkupfe- rungsbad, 2.) ein alkalisches, Komplexbildner-haltiges elektrolytisches Ver- kupferungsbad oder 3.) ein saures elektrolytisches Nickel-Strike-Bad eingesetzt. Bevorzugt, in etwa mehr als 85 % der Fälle, wird in der industriellen Praxis in Mitteleuropa ein cyanid-haltiges alkalisches elektrolytisches Ver- kupferungsbad 1 .) verwendet. Auf die in diesen Bädern ausgebildete Kupfer- oder Nickelsperrschicht kann dann direkt mindestens ein Metallüberzug eines Metalls mit höherem Potenzial als dem Grundmaterial der ursprünglichen metallischen Oberfläche elektrolytisch aufgebracht werden. Das kann dann mindestens ein Metall- oder/und mindestens ein Legierungsüberzug sein wie z. B. auf Basis von Cu, Ni, Cd, Cr, Ag, Au, Rh oder/und Pt, der über eine Verkupferung, Vernickelung, Vercadmung Verchromung, Versilberung, Vergoldung, Rhodinierung oder/und Platinierung insbesondere aus sauren, Cyanid-freien und Reduktionsmittel-freien Elektrolyten elektrolytisch aufgebracht wird, z.B. als mindestens eine Glanz- oder/und als mindestens eine Dickschicht. Die Sperrschichten sollen eine hervorragende Haftung auf dem Grundmaterial des Substrats, eine hohe Duktilität sowie einen hohen Reinheitsgrad besitzen und porenfrei sein. Das gelingt jedoch bei einem Gehalt an Fremdstoffen im Bad nur teilweise. Außerdem soll mindestens eine nachfolgende Oberflächenbehandlung wie zum Beispiel ein Galvanisieren, ein Lackieren, ein Beschichten mit einem Pulverlack oder mit einem kathodischen Tauchlack (KTL) oder ein Fügen mit einem anderen Gegenstand in jeder Behandlungsstufe ermöglicht werden.
Eine erfindungsgemäße Sperrschicht aus Kupfer dient neben den zuvor allgemein beschriebenen Zwecken außerdem dazu, Werkstücke jeglicher Tei- legeometrie und gegebenenfalls auch mit Einschnitten und Hinterstichen aus einem Grundwerkstoff mit niedrigem elektrochemischem Potenzial wie zum Beispiel aus Eisen oder/und aus Zink oder/und aus einer deren Legierungen, umweltfreundlich, stromlos und qualitativ hochwertig sowie kostengünstig, effektiv und schnell gegenüber dem entsprechenden Prozess des Stan- des der Technik zu beschichten. Beim Aufbringen einer Sperrschicht und beim Verhindern einer Sudabscheidung ist es daher heute immer noch notwendig und auch vor einer Weiter- galvanisierung notwendig, Werkstücke, die aus einem Material mit einem sehr geringen Potenzial bestehen und insbesondere dekorativ oder tech- nisch zu veredeln sind, zuerst elektrolytisch, d.h. unter Verwendung von Strom, mit einem Überzug aus einem cyanidischen alkalischen Elektrolyten 1 .) oder selten stattdessen aus einem rein alkalischen Komplexbildner- haltigen Bad 2.) zu beschichten. Da die Metallabscheidung aus einem Me- tall-Cyano-Komplex bei 1 .) oder bei 2.) z.B. aus einem Phosphor-Komplex erfolgt, der außerordentlich hohe innermolekulare Bindungskräfte aufweist, wird eine Sudabscheidung beim Eintauchen des zu beschichtenden Teils in das Bad vermieden. Unter Sud wird hierbei eine unkontrollierte stromlose Abscheidung von Kupfer, Nickel oder/und anderen Metallen durch Elektronenaustausch verstanden. Diese unkontrollierte stromlose oder außenstrom- lose Abscheidung ergibt üblicherweise nicht oder schlecht haftende Niederschläge, die pulverig, porös, grieselig (= rau, körnig und entfernbar) o- der/und körnig sind.
Eine Konduktivschicht ist eine Schicht, welche zur Erhöhung der elektrischen Leitfähigkeit eines Gegenstandes genutzt wird, als dieser von sich aus besitzt. So kann zum Beispiel eine dünne Kupferschicht aufgebracht auf einem Stahldraht dessen Kontakt- oder/und Leitungswiderstand um das bis zu 20-fache verringern. Einsatz findet diese zum Beispiel zur Verringerung des elektrischen Leitungswiderstandes bei der Schweißdrahtherstellung o- der zur Verringerung des Kontaktwiderstandes in Steckverbindungen im Elektronikbereich.
In sauren Kupferbädern zerfallen die Badbestandteile üblicherweise in die entsprechenden Ionen. Deswegen kann in sauren Kupferbädern ein Grundwerkstoff von elektronegativerem Potenzial als Kupfer nicht ohne Strom und auch nicht mit Strom verkupfert werden, da sich das edlere Metall als Sud in einer nichthaftenden Schicht auf dem Grundwerkstoff abscheidet. Eine im Sudverfahren abgeschiedene Kupferschicht ist nicht kommerziell einsetzbar.
In cyanidischen alkalischen Kupferbädern wie in 1 .) ist der Kupfercyanid- Komplex so stabil, dass er nicht in Ionen zerfällt. Daher kann ein Grund- Werkstoff von elektronegativerem Potenzial als Kupfer nicht ohne Strom, jedoch in mehreren Verfahrensvarianten elektrolytisch verkupfert werden. Daher werden heute meistens elektrolytische Kupferbäder alkalisch cyanidisch zum Auftragen einer Sperrschicht oder Konduktivschicht eingesetzt.
Diese cyanidischen, alkalischen elektrolytischen Verfahren sind heute pro- zesssicher und beherrschbar. Ein elektrolytisches Beschichtungsverfahren erfordert immer einen höheren Aufwand als ein stromloses Beschichtungsverfahren. Sie sind aufgrund der Metallabscheidung unter hohem Stromverbrauch und aufgrund der Aufheizung des Elektrolyten auf oft 60 bis 85 °C energetisch aufwändig. Cyanid-haltige Bäder sind hochgiftig, gefährlich und umweltunfreundlich. Sie benötigen deshalb eine gesonderte Abwasserfüh- rung und -behandlung sowie bestimmte Lagerbedingungen. Nicht selten sind hin und wieder auch tödliche Arbeitsunfälle aufgrund des Cyanid-Gehalts zu verzeichnen.
Anstelle des hochgiftigen, gefährlichen und umweltunfreundlichen Cyanid- Komplexes wird immer wieder versucht, weniger schädliche Komplexbildner und Komplexe für Verkupferungsbäder einzusetzen. Schwache Komplexe wie z.B. ein Citrat-, Hydroxo-, Ammonium-, Acetat-, Phosphat- und Diphos- phat-Komplex zerfallen in sauren und in alkalischen Lösungen. Starke Komplexe wie z.B. Ethylendiamintetraacetat (EDTA) sind in sauren und in alkali- sehen Lösungen stabil, sind aber wegen ihrer Abwassergefährdung umweltunfreundlich. Sie werden daher selten kommerziell genutzt.
Im Folgenden sollen die wichtigsten hierbei eingesetzten Bäder und Beschichtungsverfahren des Standes der Technik beschrieben werden: 1 .) Cyanidische alkalische elektrolytische Verkupferung: Üblicherweise, in mehr als 85 % der Fälle, werden diese Sperrschichten heute in der großin- dustriellen Praxis insbesondere für die Grundmaterialien Eisen, Zink o- der/und deren Legierungen noch immer aus cyanidischen alkalischen Ver- kupferungselektrolyten aufgebracht. Deren wässerige Zusammensetzungen und Behandlungsbedingungen sind oft folgendermaßen:
Das Verkupferungsbad enthält etwa 50 g/L CuCN, etwa 75 g/L NaCN, etwa 40 g/L NaOH und falls nötig glanzbildende Additive, aber üblicherweise keine Reduktionsmittel und keine Säure. Sein pH-Wert liegt bei etwa 12. Es wird bei etwa 40 °C und bei einer Stromdichte von etwa 1 A/dm2 über etwa 10 Minuten gearbeitet
Eine Metallabscheidung erfolgt nach folgenden Gleichungen: [Cu(CN)3]2- [Cu(CN)] + 2CN"
[Cu(CN)] + e" (von äußerer Stromquelle, Gleichrichter) Cu + CN"
Derartige Cyanid-haltige alkalische elektrolytische Verkupferungsbäder können aber auch zur Veränderung der technischen Eigenschaften eines Grundmaterials für bestimmte Verwendungszwecke genutzt werden, z.B. für die Herstellung einer Sperrschicht vor einem Nitrieren von Stahl oder für die Herstellung einer Schicht mit geringerem elektrischen Widerstand wie sie z.B. für ein konduktives Erwärmen von Werkstücken wie z.B. Schrauben benötigt wird. Als Vorteil ergibt sich dabei ein besserer Korrosionsschutz o- der/und eine bessere elektrische Leitfähigkeit als das Grundmaterial von sich aus besitzt.
Nachteilig bei den Cyanid-haltigen Bädern ist auch, dass diese wegen ihrer Giftigkeit und Gefährlichkeit für Abwasser, Umwelt und Entsorgung problematisch sind, dass diese auf mindestens 50 °C aufgeheizt werden müssen und dass die zur Metallabscheidung notwendigen Elektronen durch einen externen Gleichrichter (= energieintensiv) geliefert werden müssen. 2.) Cyanid-freie, alkalische, elektrolytische Verkupferung: Cyanid-freie, alkalische Bäder sind nicht hochgiftig. In Cyanid-freien alkalischen Kupferbädern zerfallen die Badbestandteile üblicherweise ebenfalls nicht in die entsprechenden Ionen. Daher kann ein Grundwerkstoff von elektronegativerem Po- tenzial als Kupfer nicht stromlos, jedoch nur bei schwieriger Prozessführung und nach kritischer Vorbehandlung mit Strom verkupfert werden. Daher werden heute vereinzelt elektrolytische Kupferbäder alkalisch Cyanid-frei zum Auftragen einer Sperrschicht eingesetzt. Die Vorbehandlung des Grundmaterials sowie die Prozessführung sind deshalb jedoch wesentlich kritischer oder aufwändiger als bei 1 .). Bisher ließen sich auch nicht alle Grundwerkstoffe damit behandeln. Auf die Vorbehandlung der Werkstücke ist größte Sorgfalt zu legen.
Deren wässerige Zusammensetzungen und Behandlungsbedingungen oft folgendermaßen sind: Das Verkupferungsbad enthält etwa 15 g/L Cu, etwa 50 g/L Pyrophosphat, bei Bedarf verdünnte KOH oder H3P04 zur pH- Wertanpassung auf einen pH-Wert von etwa 9 und falls nötig glanzbildende Additive. Es kann manchmal frei von Reduktionsmittel, frei von Beizmittel oder/und frei von Säure sein. Es wird bei mindestens 60 °C und bei etwa 1 A/dm2 Stromdichte über etwa 10 Minuten eingesetzt.
Nachteilig bei den Cyanid-freien, alkalischen, Komplexbildner-haltigen Bädern ist, dass ihre Prozessführung sehr kritisch ist, dass ihre Badparameter sehr eng einzuhalten sind, dass ihre Vorbehandlung sorgfältig auszuführen ist und dass ein Eintrag von Fremdstoffen kritisch ist. Falls Fremdstoffe als Verunreinigung in das Bad eingetragen werden, so scheiden sich diese in der abzuscheidenden Schicht mit ab und beeinträchtigen deren Qualität. Diese Sperrschichten können dann schlierig, grau, matt oder/und porös ausgebildet werden, sind jedoch dann nicht mehr unbedingt geschlossen, feinkristallin, porenfrei, duktil und gut haftend. Abhilfe könnte nur ein Verwurf oder Teilverwurf und Neuansatz des Bades schaffen. Außerdem können dann Teile aus Zinkdruckguß aufgrund deren schlechter Leitfähigkeit nicht im galvanischen Trommelverfahren, sondern nur im aufwändigen Gestellverfahren galvanisch beschichtet werden. Außerdem sind diese Bäder wiederum auf mindestens 60 °C zu temperieren. Die zur Metallabscheidung notwendigen Elektronen bekommen sie ebenfalls durch einen externen Gleich- richter (= energieintensiv) geliefert.
3.) Elektrolytisches, galvanisches Nickel-Strike-Bad: Für Werkstücke aus Eisen oder/und deren Legierungen werden heute auch sogenannte Nickel- Strike-Bäder zum Auftragen einer Sperrschicht verwendet.
Seltener, in etwa 3 % der Fälle, werden heute Nickel-Strike-Bäder für Sperr- schichten in der industriellen Praxis, insbesondere für die Grundmaterialien Eisen oder deren Legierungen, eingesetzt. Deren wässerige Zusammensetzungen und Behandlungsbedingungen sind oft folgendermaßen:
Sie enthalten neben mindestens einer Nickelverbindung immer Säure und oft mindestens einen Glanzbildner. Sie enthalten gegebenenfalls z.B. NaCI als Beizverstärker oder/und falls nötig glanzbildende Additive. Sie sind üblicherweise frei von Laugen und Reduktionsmitteln. Sie arbeiten je nach Grundmaterial oft bei Konzentrationen von 200 bis 250 g/L NiCI2 und von etwa 200 g/L HCl bei pH-Werten kleiner 0,5 oder bei Konzentrationen von 200 bis 250 g/L NiCI2 und von etwa 40 g/L H3B04 bei pH-Werten von etwa 4 bei etwa 40 °C über etwa 5 Minuten.
Nachteilig bei solchen Nickel-Strike-Bädern ist, dass es hierbei durch den sehr hohen Anteil an Chlorid zu einem starken Beizangriff auf das Grundmaterial kommt, wobei dessen Versprödung kaum vermieden werden kann und wobei es teilweise sogar zur Zerstörung des Grundmaterials kommt. Außer- dem wirkt sich die starke Korrosionswirkung der Chloride auf die gesamte Anlage und das gesamte Gebäude aus. Die alternativ vereinzelt eingesetzten Sulfamat-Anschlagbäder verringern die hochgradige Korrosion in der Umgebung der Bäder durch den geringeren Chloridgehalt ein wenig, können die Korrosion jedoch nicht vollständig verhindern. Außerdem ist es zwingend erforderlich, die Gase oberhalb der Bäder aufgrund der Möglichkeit einer Chlorgasbildung abzusaugen. Die Bäder sind aufgrund der eingeschleppten Fremdstoffe, gegebenenfalls einschließlich Fremdionen, kontinuierlich z.B. durch Filtern zur Beseitigung von Fremdstoffen wie Metallpartikeln zu reinigen. Durch den Beizangriff auf das Grundmaterial werden Fremdstoffe eingetragen. Hierbei wird bei diesen Bädern zeitweilig auch mit niedrigeren elektrischen Strömen als für die Abscheidung des edlen Metalls erforderlich selektiv gearbeitet, um die gelösten Fremdstoffe einschließlich Fremdionen auf dem zu beschichtenden Gegenstand abzuscheiden und um das Bad dadurch zu reinigen. Alternativ ist ein verschmutztes Bad zu verwerfen.
4.) Mit einer sauren Glanz- oder Dickverkupferung kann zwar keine Sperrschicht erzeugt werden, sie wird jedoch genutzt, um hochwertige Kupferschichten zu bilden: Sie wird seit langem in der Galvanotechnik insbesonde- re für die Herstellung von dekorativen oder/und galvanoplastischen Be- schichtungen verwendet. Werkstücke aus einem Grundmaterial mit elektro- negativerem Potenzial als Kupfer ohne Sperrschicht können aufgrund der einsetzenden Sudabscheidung darin jedoch nicht behandelt werden.
Eine Glanzvernickelung kann nur elektrolytisch in einem sauren Bad erfol- gen. Eine Glanzverkupferung kann nur elektrolytisch in einem sauren Bad wirtschaftlich erfolgen. Als wesentlich unwirtschaftlichere Alternative hierzu könnte eine cyanidische alkalische elektrolytische Verkupferung 1 .) dienen. Die hiermit verkupferten Gegenstände müssen jedoch danach von Hand o- der maschinell poliert werden, um den erforderlichen Glanz zu erreichen. Als noch unwirtschaftlichere Alternative könnte ein Cyanid-freies, alkalisches, Komplexbildner-haltiges Verkupferungsbad 2.) dienen, bei dem die Gegenstände ebenfalls anschließend poliert werden müssen. Schließlich noch unwirtschaftlicher wäre eine chemische Verkupferung aufgrund der notwendigen hohen Arbeitstemperatur, der hohen Kosten für die erforderlichen, hoch- reinen Chemikalien, deren Entsorgungsproblematik, deren kritischer Hand- habung und Prozessführung, der sehr langsamen Abscheidungsgeschwin- digkeit sowie des geringen Duktilitäts- und Glanzgrades der Kupferschichten
Eine Dickverkupferung oder Dickvernickelung kann nur elektrolytisch in ei- nem sauren Bad wirtschaftlich erfolgen. Als wesentlich unwirtschaftlichere Alternative könnte eine chemische Dickvernickelung dienen, die jedoch eine deutlich langsamere Abscheidungsgeschwindigkeit, sehr lange Behandlungszeiten sowie sehr hohe Kosten für deren komplizierte Abwasserbehandlung sowie für den nötige hochreine Chemikalien benötigt.
Bei mit einer elektrolytisch hergestellten Sperrschicht beschichteten Werkstücken ergibt sich dabei ein besserer Korrosionsschutz, eine bessere elektrische Leitfähigkeit oder/und ästhetische und visuell bessere Schichten als das Grundmaterial von sich aus besitzt. Weitere Vorteile saurer elektrolytischer Kupferbäder sind hochglänzende duktile, feinporige Beschichtungen, die gute Deckfähigkeit und Metallverteilung aufweisen sowie die hohe Abscheidungsgeschwindigkeit und der hohe Wirkungsgrad. Sie sind deshalb den alkalischen, cyanidfreien, Komplexbildner-haltigen Verkupferungsbä- dern oder/und den cyanidischen Verkupferungsbädern oder/und Nickel- Strike-Bädern bei vorhandener Sperrschicht auf Werkstoffen mit unedlerem Potenzial deutlich vorzuziehen.
Nachteilig bei solchen Glanzverkupferungen ist nach wie vor, dass Grundwerkstoffe aus Metallen und Legierungen mit elektronegativerem Potenzial als Kupfer wie zum Beispiel Eisen, Stahl, Zink, Zinn oder Zinkdruckguss nicht direkt in diesen Bädern beschichtet werden können, denn sie müssen zuvor mit einer Sperrschicht versehen werden.
Nachteilig ist bei allen vier oben beschriebenen Varianten, dass zum Auftragen der notwendigen Sperrschicht nach einer der Varianten 1 .) bis 3.) sowie anschließend im Glanz- oder Dickkupferbad 4.) zur Metallabscheidung Strom notwendig ist: Je nach Verfahren, Anwendung und Grundmaterial werden etwa zwischen 0,5 und 5 A/dm2 Stromdichte genutzt, ausnahmsweise auch bis zu 50 A/dm2. Für ein Glanz- oder Dicknickelbad beträgt die Stromdichte meistens etwa 2 bis 5 A/dm2. Für eine oft zusätzlich eingesetzte Vercadmung, Verchromung, Versilberung, Vergoldung, Rhodinierung o- der/und Platinierung liegt die Stromdichte etwa, je nach Verfahren, im Bereich von 1 bis 10 A/dm2. Außerdem sind jeweils Behandlungszeiten zwischen 5 und 30 Minuten nötig. Daher werden diese Sperrschichten wie unter den Varianten 1 .) bis 3.) beschrieben, nach einem vergleichsweise aufwän- digen, energieaufwändigen und langsamen sowie oft nach einem sehr umweltunfreundlichen Verfahren hergestellt.
Ein heute immer noch üblicher Verfahrensgang bei der galvanischen Behandlung insbesondere von Stahl-, Zink- oder/und Zinkdruckguss-Teilen ist der folgende: a) Heißentfetten in wässeriger Lösung von 10 g/L NaOH, 30 g/L Natrium- pyrophosphat und 5 g/L Netzmittel bei 60 - 95 °C über 5 - 10 Minuten, b) Kaskadenspülen in VE-Wasser,
c) Beizen je nach Anwendung und Grundmaterial - Eisenteile: 15%ige HCl und 1 g/L Netzmittel, ohne Beizinhibitor, bei
Raumtemperatur über 5 - 15 Minuten,
Zinkteile: 3%ige HF und 1 g/L Netzmittel, ohne Beizinhibitor, bei Raumtemperatur über 5 - 60 Sekunden,
d) Kaskadenspülen in VE-Wasser,
e) Elektrolytisches Entfetten mit kathodischer Schaltung des Gegenstandes:
10 g/L KOH, 30 g/L Natriumsilicat, 10 g/L Pyrophosphat und 1 g/L Netz- Mittel bei 0,5 - 2 A/dm2, 1 - 5 V und 15 - 60 °C über 0,5 - 5 Minuten, f) Kaskadenspülen in VE-Wasser,
g) Cyanidisches Verkupfern in wässeriger Lösung bei 0,3 - 1 ,5 A/dm2, 1 - 3 V, 60 °C, Wirkungsgrad des Stroms η 70 % und max. 0,3 pm/min über 5 - 15 Minuten mit:
50 g/L CuCN, 50 g/L NaCN, 40 g/L NaOH, 1 g/L Netzmittel, 3 g/L Glanzbildner oder
Alkalisches Verkupfern in wässeriger Lösung bei 0, 1 - 1 ,0 A/dm2, 15 - 20 V, 60 °C, Wirkungsgrad des Stroms η 90 % und max. 0,25 pm/min über 5 - 15 Minuten mit:
15 g/L Cu, 50 g/L Pyrophosphat, 1 g/L Netzmittel, 3 g/L Glanzbildner und bei Bedarf verdünnter KOH oder verdünnter H3P04 zur pH-Wert-Anpassung auf pH-Werte im Bereich von 8,5 bis 9,5,
h) Kaskadenspülen in VE-Wasser.
Mit diesem Behandlungsgang können alle Arten Werkstücke und dabei auch alle Grundmaterialien auf Basis von Eisen-, Zink-Werkstoffen oder/und Zinn verkupfert werden.
In der Regel werden diese anschlagverkupferten Werkstücke danach sauer glanzverkupfert oder sauer dickverkupfert. Eine Glanzverkupferung weist üblicherweise eine Schichtdicke im Bereich von 5 bis 50 pm auf. Sie kann elektrolytisch, aber in der industriellen Praxis nicht ohne Strom in geeigneter Qualität aufgebracht werden. Eine Dickverkupferung kann eine Schichtdicke im Bereich von mehr als 50 pm bis etwa 5 mm aufweisen, kann aber u.U. mehrere Wochen elektrolytischer oder außenstromloser (= chemischer) Kup- ferabscheidung bedingen. Werkstücke mit einer komplizierten Geometrie des zu behandelnden Teiles werden selten in einem stromlosen Tauchbad wie z.B. in DE 20 26 698 A1 noch einmal zwischenbehandelt, um nach einer elektrolytischen cyanidischen Verkupferung anschließend eine Glanz- oder Dickschicht aufzutragen. Jedoch ist auch in den dort beschriebenen Plattie- rungsbädern immer ein starker Komplexbildner wie z.B. Cyanid, Gluconat oder Ethylendiamintetraacetat (EDTA) mit entsprechender Umwelt-, Toxizi- täts-, Abwasserbehandlungs- und Aufbereitungsproblematik von Nöten. Beispiele für solche Komplexbildner sind Amine und Carbonsäuren wie z.B. Gluconsäure, Milchsäure, Weinsäure sowie deren Derivate wie z.B. Natri- umgluconat, Rochelle-Salze, Ethylendiamin, Diethylentriamin, Diethanol- glyoxim, Ethylendiamintetraessigsäure, Lactonitril, Ethylendinitrilotetra- Essigsaure (EDTA), Hydroxyethylethylendiamintri-Essigsäure (HEDTA), Diethylentrinitrilopenta-Essigsäure (DTPA), Nitrilotri-Essigsäure (NTA), Tri- ethanolamin, Tetrakis(2-hydroxypropyl)ethylendiamin (THPED), Pentahydro- xypropyldiethylentriamin und deren Derivate. Deren Abwasserbehandlung ist sehr problematisch. Alternative zu einem elektrolytischen Galvanisierbad könnte ein stromloses Tauchbad oder aber auch ein außenstromloses Be- schichtungsbad sein. Vorzugsweise sollte eine Verkupferungslösung insbe- sondere zur Ausbildung einer Sperrschicht frei von starken Komplexbildnern oder frei von Komplexbildnern, frei von toxischen Inhaltsstoffen, ohne externe elektrische Energie für Metallabscheidung und Badheizung sowie ohne bedenkliche Abwasserbehandlung sein.
DE 20 26 698 A1 lehrt einen Herstellungsgang mit
a) 1 . Kupferschicht elektrolytisch mit Cyanid,
b) Spülen,
c) 2. Kupferschicht hergestellt im stromlosen alkalischen Tauchbad, mit Cyanid oder mit einem anderen starken Komplexbildner,
d) Spülen und
e) Weitergalvanisieren.
Im Vergleich hierzu werden bei der vorliegenden Erfindung hingegen die Prozessschritte a), b) und c) durch eine stromlose Cyanid-freie Verkupferung ersetzt.
Da die in dem in DE 20 26 698 A1 beschriebenen stromlosen Tauchbad er- zielten Niederschläge immer noch relativ porös sind, da die bisher bekannten Elektrolyte im alkalischen pH-Wertbereich sehr empfindlich gegenüber einer ungenügenden Teilereinigung sowie gegen Badverunreinigungen reagieren und da zu Haftungszwecken immer noch zusätzlich ein galvanisches, alkalisches, cyanidisches oder ein andersartiges alkalisches Vorbad als An- schlagbad notwendig ist und nur bei Teilen mit schwierigen Teilegeometrien eine Verbesserung im Vergleich zu einer Behandlung in einem cyanidischen, elektrolytischen Kupferbad ohne Tauchbadzwischenbehandlung festgestellt wird, fanden die dort beschriebenen Tauchbäder keinen größe- ren Einsatz. Deshalb ist auch in Fach- und Lehrbüchern sehr wenig oder nichts über stromlose Tauchbäder beschrieben.
Eine stromlose Metallabscheidung erfolgt, wenn kein weiteres Reduktionsmittel der Lösung zugegeben wurde, durch Zementation bzw. durch Su- dabscheidung. Das Abscheidungsprinzip basiert auf der Grundlage der Spannungsreihe der Metalle, wobei die zur Reduktion und der damit verbundenen Abscheidung benötigten Elektronen des edleren Metalls vom unedleren Metall durch einen Oxidationsvorgang geliefert werden.
Wie aus N. Kanani: Kupferschichten: Abscheidung, Eigenschaften, Anwendungen, Eugen-G.-Leuze-Verlag Bad Saulgau 2000, S. 73/74 entnommen werden kann, ist es bis heute nicht möglich, Werkstücke aus den Grundmaterialien Eisen, Zink oder/und deren Legierungen direkt mit einem Kupferüberzug aus sauren Glanz- oder/und Dickschichtkupferbad zu versehen. Deshalb ist es heute immer noch nötig, Werkstücke z.B. aus den Grundmaterialien Eisen, Zink oder/und deren Legierungen mit einer Sperrschicht zu versehen, damit ein Kontakt zwischen der Badlösung und dem Werkstück vermieden werden kann. Üblicherweise werden hierzu je nach Grundmaterial entweder 1 .) ein cyanidisches alkalisches, elektrolytisches Verkupfe- rungsbad, 2.) ein alkalisches, Komplexbildner-haltiges elektrolytisches Ver- kupferungsbad oder 3.) ein saures elektrolytisches Nickel-Strike-Bad einge- setzt.
Ohne Sperrschicht wird ein saures Bad wie z.B. ein saures Verkupferungs- oder Vernickelungsbad einen störenden Beizangriff auf die saubere oder gesäuberte metallische Oberfläche auf Basis von Eisen oder/und Zink ausüben, wobei dann auch immer beim Eintauchen eines unedleren Metalls in die Lösung eines edleren Metalls eine Sudabscheidung erfolgt, weil dann insbesondere Eisen- oder/und Zink-Ionen aus dem zu beschichtenden Gegenstand herausgebeizt werden, in Lösung gehen und Elektronen dadurch freigesetzt werden, die dann wiederum von den Ionen des saures galvani- sehen Bades aufgenommen werden und eine Sudabscheidung bedingen.
Ziel jeder galvanischen (= mit Strom) Behandlung ist es, möglichst aus einer sauren wässerigen Lösung eine Deckschicht elektrolytisch auf dem metallischen Gegenstand aufzubringen, da der saure Elektrolyt im Vergleich zu einem alkalischen Elektrolyten erhebliche Vorteile in Bezug auf Abschei- dungsgeschwindigkeit, Glanz, Metallverteilung, Deckfähigkeit, Porosität und Wirkungsgrad bietet. Saure Elektrolyte sind darüber hinaus gegenüber Verunreinigungen weniger empfindlich und stabiler einzusetzen als Cyanid-freie alkalische Elektrolyte. Denn alkalische Elektrolyte bedingen oft mehrere Nachteile. Daher werden Cyanid-freie alkalische galvanische Verfahren nur in seltenen Fällen eingesetzt, z.B. dann, wenn die Zahl der Bäder z.B. aus Platzgründen nicht für den Ausbau auf eine saure galvanische Behandlung ausreicht. Diese Bäder arbeiten dann bei pH-Werten von größer 10, wobei etliche Nachteile in Kauf genommen werden, wie z.B. Glanzgrad, Empfindlichkeit gegen- über Verunreinigungen und Fremdstoffen, langsamere Abscheidung und eine je nach Stromdichte schlechtere Metallverteilung und dementsprechend schlechtere Tiefenstreuung. Eine solche saure wässerige Lösung benötigt jedoch auf metallischen Oberflächen insbesondere von Eisen- und Zink- Werkstoffen eine Sperrschicht, um nicht mit der sauren wässerigen Lösung störende Verunreinigungen, Ionen und Elektronen aus dem metallischen Untergrund aufzunehmen und das elektrolytische Abscheidungsverfahren und die Qualität der galvanischen Deckschicht zu beeinträchtigen.
DE 39 14 180 C2 offenbart Zusammensetzungen von außenstromlosen, chemischen Kupferbädern auf Basis von Kupfersulfat und Cyanid, die bei einem pH-Wert von mindestens 9,5 arbeiten und die zur Metallabscheidung notwendigen Elektronen aus einem Reduktionsmittel, meist Formaldehyd, geliefert bekommen. Außerdem enthält dieses Bad starke Komplexbildner wie zum Beispiel EDTA oder/und Cyanid. DE 15 21 200 A1 beschreibt alkalische außenstromlose Nickelbäder, die bei einem pH-Wert von wenigstens 8,5 arbeiten und die zur Metallabscheidung notwendigen Elektronen aus dem Reduktionsmittel Natriumhypophosphit erhalten. Außerdem enthalten diese Bäder Stabilisierungsmittel wie zum Beispiel Natriumeitrat oder/und Ammoniumchlorid. US 3,715,793 offenbart außenstromlos und Cyanid-frei hergestellte Nickel- Dickfilme, die aus Lösungen mit einem pH-Wert von 3,5 oder 7,5 bis 9 bei etwa 55 bis 95 °C oder mit einem pH-Wert von 7,5 bis 10 bei 40 bis 95 °C abgeschieden werden.
Nachteilig bei diesen außenstromlosen Verfahren ist, dass alle metallischen Gegenstände und auch die Fremdstoffe im Bad, ständig, solange sie sich in dem Bad befinden, beschichtet werden. Rein chemische, also außenstromlose Kupfer- und Nickelbäder, die die Metallabscheidung unter Zuhilfenahme eines starken Reduktionsmittels ermöglichen, haben sich aufgrund der notwendigen Arbeitstemperatur, den sehr hohen Kosten für die erforderlichen, hochreinen Chemikalien, deren Abwasser- und Entsorgungsproblematik, deren kritischen Handhabung und Prozessführung, des geringen Duktilitäts- und Glanzgrades sowie der sehr langsamen Abscheidungsgeschwindigkeit in der Praxis nicht stärker durchgesetzt.
Bisher kann ein Werkstück aus Eisen-Werkstoffen einschließlich Stählen und Edelstählen nur haftfest und mit zur Weiterverarbeitung brauchbaren Schichten ohne Strom sauer verkupfert werden, wenn dem Bad mindestens ein starkes Reduktionsmittel wie z.B. Hypophosphit oder/und Pyrophosphit zugesetzt wird oder/und wenn vorab eine Sperrschicht aus einem eyanidi- sehen, alkalischen elektrolytischen Kupferbad, aus einem eyanidfreien, alkalischen, Komplexbildner-haltigen elektrolytischen Kupferbad oder aus einem sauren Nickel-Strike-Bad abgeschieden wurde.
Bisher kann ein Werkstück aus Zink-Werkstoffen nicht haftfest und mit zur Weiterverarbeitung brauchbaren Schichten ohne Strom sauer verkupfert werden oder ohne Strom sauer oder alkalisch vernickelt werden, ohne dass dem Bad mindestens ein starkes Reduktionsmittel wie z.B. Hypophosphit oder/und Pyrophosphit zugesetzt wird oder/und ohne dass vorher eine Kupfersperrschicht aus einem cyanidischen alkalischen elektrolytischen Bad oder aus einem eyanidfreien, alkalischen, Komplexbildner-haltigen elektrolytischen Bad abgeschieden wurde.
Bisher kann ein Werkstück aus Eisen- oder Zink-Werkstoffen nicht haftfest und mit zur Weiterverarbeitung brauchbaren Schichten ohne Strom alkalisch verkupfert oder ohne Strom alkalisch vernickelt werden, ohne dass dem Bad mindestens ein starkes Reduktionsmittel wie z.B. Hypophosphit oder/und Pyrophosphit zugesetzt wird.
EP 1 495 157 B1 lehrt ein wässeriges, gefrier- und auftaustabiles Konzentrat zur Verkupferung auf Basis von basischem Kupfercarbonat und Komplex- bildner(n). Es bestand die Aufgabe, ein Verfahren vorzuschlagen, bei dem eine Sperrschicht oder/und Konduktivschicht durch Verkupfern auf einfache, kostengünstige, umweltfreundliche und schnellere Weise insbesondere auf Eisen- und Zink-Werkstoffen aufgebracht werden kann.
Es bestand die Aufgabe, Verfahren zur Beschichtung vorzuschlagen, bei denen Deckschichten wie z.B. Glanz- oder/und Dickschichten elektrolytisch aufgebracht werden, ohne dass vor dem Ausbilden der elektrolytischen Deckschicht(en) ein cyanidisches alkalisches Bad wie z.B. ein Vercad- mungs-, Verkupferungs-, Vernickelungs- oder Verzinkungsbad oder ein außenstromloses Bad für die Ausbildung einer Sperrschicht verwendet wird.
Außerdem bestand die Aufgabe, Verfahren zur Beschichtung vorzuschlagen, die möglichst kostengünstig, schnell, qualitativ hochwertig und umwelt- freundlich sind. Hierbei wäre es bevorzugt, Verfahren vorzuschlagen, die in breitem Umfang einfach und sicher anwendbar sind.
Es wurde jetzt überraschend gefunden, dass eine stromlose Verkupferung auch auf Eisen-, Zink- oder/und Zinn-Werkstücken einschließlich Werkstücken aus Stählen und Edelstählen problemlos, mit einem einfachen Verfah- ren und mit hoher Qualität der auszubildenden Sperrschicht möglich ist. Dieses Verfahren ist sogar überraschend einfach, kostengünstig, prozesssicher, schnell, umweltfreundlich und nicht toxisch. Es kann sogar frei von zugesetzten Reduktionsmitteln verwendet werden kann.
Die Aufgabe wird gelöst mit einem Verfahren zum Behandeln einer metalli- sehen Oberfläche eines Gegenstandes mit einer wässerigen Verkupferungs- lösung, bei dem auf sauberen metallischen Oberflächen des Gegenstandes oder nach einer Vorbehandlung auf gereinigten metallischen Oberflächen eine erste Verkupferungslösung, die Cyanid-frei ist und die frei ist von absichtlich zugesetztem starkem Reduktionsmittel, das ein Potenzial mit Wer- ten von weniger als -0,6 V besitzt, oder die frei von absichtlich zugesetztem Reduktionsmittel ist, zur Ausbildung einer ersten Kupferschicht oder Kupferlegierungsschicht als Sperrschicht oder/und als Konduktivschicht stromlos eingesetzt wird. Bei derartigen Prozessen kann jedoch nicht ausgeschlossen werden, dass z. B. durch Verschleppen von Reduktionsmittel aus einem an- deren Prozessschritt oder/und Bereich innerhalb der Anlage oder/und aus der Luft eingetragen wird oder/und dass ein eingetragener Fremdstoff in dem erfindungsgemäßen Verfahren zu einem Reduktionsmittel reagiert. Besonders bevorzugt ist die erste Verkupferungslösung hierbei Cyanid-frei und frei von starkem Reduktionsmittel, das ein Potenzial mit Werten von weniger als -0,6 V besitzt, oder sogar frei von Reduktionsmittel.
Insbesondere können mit dem erfindungsgemäßen Verfahren metallische Oberflächen von Eisen, Zink, Zinn oder/und deren Legierungen verkupfert werden. Vorzugsweise wird ein Gegenstand aus einem Eisenwerkstoff, aus Zink oder/und aus einer Zinklegierung behandelt.
Vorzugsweise wird eine erste Verkupferungslösung Cyanid-frei stromlos für die Ausbildung einer Sperrschicht oder/und einer Konduktivschicht auf einer unedleren metallischen Oberfläche als Kupfer verwendet. Mit der erfin- dungsgemäßen Verkupferungslösung, das heißt mit dem erfindungsgemäßen Verkupferungsbad, kann bei geeigneter chemischer Zusammensetzung des Bades, das heißt bei Gehalt an mindestens einem Legierungselement wie z.B. Zink oder/und Zinn, auch eine Kupferlegierungsschicht ausgebildet werden. Der Einfachheit halber wird im Folgenden dennoch nur von Kupfer- schicht und Verkupferung gesprochen, auch wenn eine Schicht einer Kupferlegierung ausgebildet wird. In diesem Sinn sollen Angaben wie z.B.„Nickel" bei den Bädern sowohl Nickel und Nickel mit Legierungselementen bzw. bei den Schichten Nickel und Nickellegierungen umfassen.
In einer besonders bevorzugten Ausführungsform wird ein Gegenstand aus einem Eisenwerkstoff, aus Zink, aus einer Zinklegierung oder/und aus einem Zinnwerkstoff behandelt mit der Maßgabe, dass die erste Verkupferungslösung bei der Behandlung eines Gegenstands aus Eisen oder Stahl, gegebenenfalls mit Ausnahme von Edelstahl, keinen Komplexbildner enthält. Denn bei der Verkupferung von Edelstahl ist ein schwacher Komplexbildner be- sonders vorteilhaft.
Die Aufgabe wird auch gelöst mit einem Gegenstand mit einer Sperrschicht oder/und einer Konduktivschicht, die erfindungsgemäß hergestellt ist. Die Sperrschicht oder/und Konduktivschicht ist vorzugsweise völlig porenfrei. Gegebenenfalls wird auf die stromlos aufgebrachte Sperrschicht oder/und Konduktivschicht auch mindestens eine galvanische Deckschicht z.B. auf Basis von Kupfer, Nickel oder einer ihrer Legierungen elektrolytisch aufgebracht. Insbesondere handelt es sich um die Verwendung eines Verfahrens zum Behandeln einer metallischen Oberfläche eines Gegenstandes mit einer erfindungsgemäßen wässerigen Verkupferungslösung oder/und erfindungsgemäß beschichtete Gegenstände zur stromlosen Ausbildung einer ersten Kupferschicht oder Kupferlegierungsschicht als Sperrschicht oder/und als Konduktivschicht, vor allem auf Oberflächen von Eisen-Werkstoffen, Zink- Werkstoffen oder/und Zinn.
Die erfindungsgemäß eingesetzte Verkupferungslösung kann daher frei von starken Komplexbildnern wie z.B. Komplexbildnern oder/und Komplexen auf Basis von Cyanid, Diethylentriamin, Diethanolglyoxim, Ethylendiamin, Ethyl- endiamintetraessigsäure, Hydroxyethylethylendiamintri-Essigsäure (HEDTA), Diethylentrinitrilopenta-Essigsäure (DTPA), Gluconsäure, Lac- tonitril, Nitrilotri-Essigsäure (NTA), Rochelle-Salze, Triethanolamin, Tetra- kis(2-hydroxypropyl)ethylendiamin (THPED), Pentahydroxypropyldiethylen- triamin und deren Derivaten, insbesondere frei von Ethylendiamintetraacetat (EDTA) mit entsprechender Umwelt-, Toxizitäts-, Abwasserbehandlungsoder/und Aufbereitungsproblematik, gehalten werden.
Die erfindungsgemäß eingesetzte Verkupferungslösung wird bevorzugt auch frei von schwachen Komplexbildnern wie z.B. Komplexbildnern oder/und Komplexen auf Basis von Milchsäure, Essigsäure, Weinsäure, Citronensäu- re und deren Derivaten und deren Gemischen gehalten. Dagegen stört ein umweltfreundlicher schwacher Komplexbildner wie auf Basis von Citronen- säure, Milchsäure, Essigsäure, Weinsäure und/oder deren Derivaten nicht in erfindungsgemäßen Verkupferungslösungen und auch nicht bei der Entsorgung von Resten der Verkupferungslösung. Ein Zusatz von Citronensäure oder/und eines seiner Derivate wie eines Citrats wie z.B. Natriumeitrat, Kali- umeitrat oder/und Ammoniumeitrat kann insbesondere bei schwierig zu verkupfernden metallischen Oberflächen wie z.B. solchen aus Edelstahl von Vorteil sein, insbesondere in einem Gehalt des Bades im Bereich von 0, 1 bis 120 g/L, von 1 bis 80 g/L, von 3 bis 60 g/L, von 6 bis 35 g/L oder von 12 bis 20 g/L.
Die erfindungsgemäß eingesetzte Verkupferungslösung kann aber auch frei von starken Reduktionsmitteln gehalten werden, da diese auch umweltunfreundlich und abwassergefährdend und teilweise auch giftig sind. Denn Komplexbildner und starke Reduktionsmittel bedürfen einer zusätzlichen Behandlung im Abwasser. Vorzugsweise enthält die erste Verkupferungslösung keinen absichtlich zugesetzten Komplexbildner, besonders bevorzugt keinen Komplexbildner.
Da Sn2+-lonen ein Potenzial von -0, 14 V, da Fe2+-lonen ein Potenzial von - 0,44 V und da Zn2+-lonen ein Potenzial von -0,76 V bezogen auf Messungen mit einer Standardwasserstoffelektrode aufweisen und obwohl unter anderem diese Ionen ebenfalls reduzierend wirken, werden diese Ionen hier nicht als Reduktionsmittel im Sinne dieser Definition angesehen. Zur Abgrenzung von schwächeren Reduktionsmitteln mit einem kleinen Potenzial, das etwa in der Größenordnung von +0,2 V oder von 0 V, also vergleichsweise großen Werten der Spannung, liegt, sollen die starken Reduktionsmittel nach dieser Definition ein Potenzial von -0,6 V oder noch geringeren negativen Werten der Spannung aufweisen, wie z.B. Werte im Bereich von -0,8 bis -1 ,8 V. Daher werden der erfindungsgemäßen Verkupferungslösung entweder keine Reduktionsmittel oder keine starken Reduktionsmittel zugesetzt. Sondern die aus der metallischen Oberfläche herausgebeizten oder/und herausgelösten Ionen wie z.B. Fe2+, Sn2+, Zn2+ oder/und weitere Ionen z.B. aus Legierungsbestandteilen oder/und aus anderen metallischen Materialien der behandelten metallischen Oberfläche, die oft Werte im Bereich von -0, 1 bis -3 V aufweisen, wirken ebenfalls wie ein Reduktionsmittel. Daher benötigt das erfindungsgemäße Verfahren einen Gehalt an derartigen Ionen, die auch durch Herausbeizen oder/und Herauslösen aus der metallischen Oberfläche zwangsläufig gewonnen werden und die reduzierend wirken. Daher benötigt die erfindungsgemäße Verkupferungslösung kein starkes Reduktionsmittel und insbesondere gar kein Reduktionsmittel, das/die absichtlich der Verkupferungslösung zugesetzt ist/sind. Vorzugsweise enthält die erste Verkupferungslösung kein zugesetztes Reduktionsmittel und keinen starken Komplexbildner mit Ausnahme der aus den Oberflächen herausgelösten o- der/und herausgebeizten Ionen.
Die aus der metallischen Oberfläche herausgebeizten oder/und herausgelösten Ionen wie z. B. Fe2+, Sn2+, Zn2+ oder/und weitere Ionen dienen als systemeigenes Reduktionsmittel. Denn die Oberfläche z. B. des Eisenwerkstoffs wird angebeizt, so dass die herausgebeizten oder/und herausgelösten z.B. Eisenionen als Reduktionsmittel wirken können. Daher arbeitet das erfindungsgemäße stromlos eingesetzte Verkupferungsbad zumindest sofort nach dem ersten Kontakt mit einem unedlen Metall bzw. Werkstoff mit Ionen wie z.B. Fe2+ in seiner Lösung. Bei Eisen-haltigen Oberflächen wird vorzugweise bei einem pH-Wert von weniger als 5, vorzugsweise von weniger als 3, besonders bevorzugt von weniger als 2 oder von weniger als 1 gearbeitet, um einen Beizangriff auf der metallischen Oberfläche zu ermöglichen. Bei Oberflächen von Zink oder/und anderen unedlen Metallen wird vorzugsweise im schwach sauren, im neutralen oder im alkalischen Bereich gearbeitet. Dann geht auch kein Zink durch Beizen aus der Zinkoberfläche in Lösung. Der pH-Wert für Zink-reiche Oberflächen liegt vorzugsweise bei mindestens 4, da sonst Zink angebeizt werden würde und da das sonst leicht zur Zerstörung des Grundmaterials führen könnte. Denn der Beizangriff auf Zink ist um ein Vielfaches stärker als bei Eisen. Bei pH-Werten im Bereich von 4 bis 8 und insbesondere von 6,5 bis 8 kann bei Zink-reichen Oberflächen gut ge- arbeitet werden, wobei Zink aufgrund des Potenzialunterschieds zwischen Zink und Kupfer in Lösung geht und nicht aufgrund des Beizangriffs. Die so gelösten Zinkionen oder/und Ionen von anderen unedlen Metallen, die herausgebeizt oder/und herausgelöst sind/wurden, wirken offenbar als systemeigenes Reduktionsmittel. Daher muss kein Reduktionsmittel zugesetzt wer- den. Das Mindestpotenzial des systemeigenen Reduktionsmittels liegt dabei für Eisen bei -0,44 V und für Zink bei -0,76V bei Messung mit einer Standardwasserstoffelektrode. Vorzugsweise enthält die erste Verkupferungslö- sung Ionen, die Werte des Potenzials im Bereich von -0, 1 bis -2,5 V oder von -0,4 bis -2 V aufweisen. Bei dem erfindungsgemäßen Verfahren kann die erfindungsgemäß hergestellte Sperrschicht oder/und Konduktivschicht auch auf Eisen- und Zink- Werkstoffen einschließlich Edelstahl sowie auf Zinn auf einfache, kostengünstige, umweltfreundliche und schnellere Weise als nach Verfahren des Standes der Technik aufgebracht werden. Vorzugsweise weist dieses Ver- fahren keine aufwändigen zusätzlichen Verfahrensschritte wie z.B. ein notwendiges Elektropolieren oder ein notweniges elektrolytisches Entfetten auf.
Als Schritte vor dem erfindungsgemäßen Verkupfern können bei Bedarf notwendig sein:
1 . Ein alkalisches oder pH-neutrales Heißentfetten, um z.B. Reste von Fett, Öl, Staub usw. zu entfernen, und danach Spülen mit Wasser.
2. Ein Aktivieren der insbesondere oxidisch verunreinigten metallischen Oberfläche z.B. durch saures oder selten auch alkalisches Beizen oder/und durch mechanische Bearbeitung wie z.B. Läppen, Schleifen, Strahlen sowie durch anschließendes Spülen mit Wasser. Im Falle des alkalischen Beizens oder beim Weglassen jeder Art eines solchen Aktivierungsschritts ist ein Dekapieren mit einer stark verdünnten, leicht sauren wässerigen Flüssigkeit üblich. Mit der erfindungsgemäßen Sperrschicht wird ein Beizangriff des nachfolgenden sauren galvanischen Bades auf dem Grundmaterial vermieden, da die Kupfersperrschicht von dem nachfolgenden galvanischen Bad nicht oder nicht wesentlich angegriffen wird. Die erfindungsgemäße Kupfersperrschicht oder/und Kupferkonduktivschicht besteht entweder nur aus Kupfer oder im Wesentlichen aus Kupfer, sowie gegebenenfalls aus einem geringen Gehalt an Legierungsbestandteilen für Kupfer, gegebenenfalls aus einem geringen Gehalt an Glanzbildnern, anderen Additiven oder/und geringen anderen zusätzlich aus der Verkupferungslösung in die Schicht eingebauten Bestand- teilen.
Die erfindungsgemäß verwendeten Verkupferungslösungen zur stromlosen Ausbildung einer Sperrschicht oder/und Konduktivschicht sind wässerige Zusammensetzungen, die bezüglich ihrer Konzentrationen und ihrer Zusätze in weitem Umfang schwanken können. Sie enthalten mindestens eine Kup- ferverbindung wie z.B. ein Kupfersulfathydrat. Der Kupfergehalt der Verkupferungslösung als Badlösung kann etwa im Bereich von 0,5 bis 120 g/L Cu liegen, vorzugsweise im Bereich von 1 bis 100 oder von 2 bis 80 oder von 5 bis 60 oder von 7 bis 40 oder von 9 bis 25 oder von 1 1 bis 18 g/L Cu. Dagegen können die weiteren Zusätze zu der erfindungsgemäß verwendeten Verkupferungslösung sehr variieren, so dass keine Art eines Zusatzes darüber hinaus in jedem Bad notwendigerweise enthalten sein muss. Sie kann bei Bedarf jeweils mindestens einen/eine/ein Beizmittel, Beizinhibitor, Beizverstärker, Chelat, Chelatbildner, Glanzbildner, Komplex, schwachen o- der/und starken Komplexbildner, Netzmittel, Puffersubstanz, ein schwaches Reduktionsmittel, Säure, Stellmittel für den pH-Wert oder/und gegebenenfalls weitere Additive aufweisen. Sie enthält vorzugsweise Ionen und insbesondere herausgebeizte oder/und herausgelöste Ionen wie z.B. Fe2+, Zn2+ oder/und weitere Ionen, die z.B. aus Legierungsbestandteilen oder/und aus anderen metallischen Materialien der behandelten metallischen Oberfläche herausgebeizt oder/und herausgelöst werden/wurden und die Werte des Potenzials im Bereich von -0,4 bis -1 ,8 V aufweisen. Der Gesamtgehalt der Verkupferungslösung als Badlösung an Fest- und Wirkstoffen liegt oft im Bereich von 1 bis 400 g/L und vorzugsweise im Bereich von 2 bis 300 oder von 5 bis 250 oder von 10 bis 200 oder von 20 bis 150 oder von 30 bis 125 oder von 40 bis 100 oder von 60 bis 80 g/L. Die größten Gehalte weisen meistens die mindestens eine Kupferverbindung und gegebenenfalls auch mindestens eine Säure oder/und mindestens ein schwacher Komplexbildner auf.
Es wurde jetzt festgestellt, dass die herausgebeizten oder/und herausgelösten Ionen insbesondere von Fe2+, Sn2+ und Zn2+ die gleiche Wirkung wie zugesetzte starke Reduktionsmittel aufweisen. Denn es wurde festgestellt, dass die herausgebeizten oder/und herausgelösten Ionen für das erfindungsgemäße Verfahren notwendig sind, wenn kein starkes Reduktionsmittel zugesetzt ist. Selbst zu Beginn der Arbeiten ist es üblicherweise nicht erforderlich, derartige Ionen dem Bad zuzusetzen, denn die Verkupferung beginnt auf metallischen Oberflächen auch ohne Zusatz z.B. von Fe2+, Sn2+ und Zn2+, so dass beim Eintauchen des zu behandelnden Gegenstandes aus unedlem metallischen Material in die üblicherweise saure oder neutrale Verkupferungslösung automatisch Ionen freigesetzt werden, die dann wie ein Reduktionsmittel wirken. Insbesondere Ionen von relativ unedlen Metallen wie z.B. Fe2+ oder/und Zn2+ können hierbei als systemeigene Reduktionsmittel dienen.
Die erfindungsgemäße Verkupferungslösung kann als Beizmittel Säuren wie beispielsweise Schwefelsäure, Salzsäure, Salpetersäure oder/und Flußsäu- re enthalten, insbesondere in Mengen im Bereich von jeweils 0, 1 bis 200 g/L, besonders bevorzugt von 5 bis 130 g/L oder von 50 bis 80 g/L. Vorzugsweise liegt der Gesamtgehalt an Säuren im Bereich von 0, 1 bis 400 g/L oder von 10 bis 200 g/L oder von 30 bis 130 g/L. Der erfindungsgemäßen Verkupferungslösung kann als Beizinhibitor beispielsweise ein Amin wie Tributylamin, Butindiol, Cyclohexanol, Nitroben- zolsulfonsäure, Propinol, Putindiol oder/und eines ihrer Derivate zugesetzt werden/sein. Als Beizverstärker wird bei sauren Lösungen oft vorzugsweise mindestens ein Alkalihalogenid wie z.B. Natriumchlorid oder/und Natriumflu- orid eingesetzt.
Komplexbildner wie z.B. Citronensäure und deren Derivate sowie chemisch verwandte Carbonsäuren und deren Derivate werden in der Galvanotechnik als schwache Komplexbildner angesehen. In vielen Zusammensetzungen zum stromlosen Verkupfern ist ein Zusatz von Komplexbildner nicht erforderlich. Es ist oft förderlich, keinen Komplexbildner zuzusetzen, weil das für die Abwasserbehandlung günstig ist, weil auch schwache Komplexbildner Salze wie Nickel lösen können und Umweltschäden bedingen können. Je stärker ein im Bad enthaltener Komplexbildner ist, desto größer kann der erforderli- che Aufwand bei der Abwasserbehandlung sein. Die erfindungsgemäße Verkupferungslösung ist vorzugsweise frei von starken Komplexbildnern wie z.B. frei von Cyaniden, Aminen, Carbonsäuren und deren Derivaten, da diese eine entsprechende Umwelt-, Toxizitäts-, Abwasserbehandlungs- o- der/und Aufbereitungsproblematik bedingen. Sie werden in vielen Ausfüh- rungsformen vorzugsweise nicht absichtlich zugesetzt. Beispiele für solche Komplexbildner sind z.B. Gluconsäure, Milchsäure, Weinsäure und deren Derivate wie z.B. Natriumgluconat, Rochelle-Salze, Ethylendiamin, Diethyl- entriamin, Diethanolglyoxim, Ethylendiamintetraessigsäure, Lactonitril, Ethy- lendinitrilotetra-Essigsaure (EDTA), Hydroxyethylethylendiamintri-Essig- säure (HEDTA), Diethylentrinitrilopenta-Essigsäure (DTPA), Nitrilotri-Essig- säure (NTA), Triethanolamin, Tetrakis(2-hydroxypropyl)ethylendiamin (THPED), Pentahydroxypropyldiethylentriamin und deren Derivate.
Aber eine nachfolgende elektrolytische Deckschicht muss nicht mit einem Elektrolyten hergestellt werden, der frei von starken Komplexbildnern ist - unabhängig von ihrer Zusammensetzung und einem Gehalt z.B. von Ag, Cu, Ni oder/und Cr.
Als Chelatbildner bzw. als entsprechende Chelate können beispielsweise Ethylendinitrilotetraessigsäure (EDTA), Triazol, Ascorbinsäure, Porphin, Häm, Chlorophyll oder/und deren Derivate sowie insbesondere Ethylendi- nitrilotetraessigsäuredinitrat, Dialkylaminoethyltolyltriazol oder/und Natrium- ascorbat in der erfindungsgemäßen Verkupferungslösung eingesetzt werden. Der Gesamtgehalt an Chelatbildnern oder/und an entsprechenden Chelaten liegt in der erfindungsgemäßen Verkupferungslösung vorzugswei- se im Bereich von 0,001 bis 100 g/L, besonders bevorzugt im Bereich von 0, 1 bis 20 g/L oder von 0,5 bis 5 g/L.
Als Glanzbildner kann der erfindungsgemäßen Verkupferungslösung beispielsweise mindestens eine Verbindung auf Basis von Alkylsulfonsäuren, von Aminen wie z.B. Reaktionsprodukten mit Propylaminen, von Benzolsul- fonsäuren, von Cumarinen, von Estern von (Meth)acrylsäuren, von Melilot- säure, von Saccharinen, von Sulfonaminen, von Sulfonimiden oder/und von Sulfinsäuren zugesetzt werden/sein.
Als Netzmittel können in der erfindungsgemäßen Verkupferungslösung beispielsweise mehrfache Alkohole, Etherverbindungen, Ethoxylate, Car- boxylate, Sulfonate, Sulfate, quartäre Ammoniumverbindungen, Ethanver- vindungen, Tenside oder/und deren Derivate verwendet werden. Der Gesamtgehalt an Netzmitteln liegt in der erfindungsgemäßen Verkupferungslösung vorzugsweise im Bereich von 0,001 bis 100 g/L, besonders bevorzugt im Bereich von 0, 1 bis 20 g/L oder von 0,5 bis 5 g/L. Als Puffersubstanzen können in der erfindungsgemäßen Verkupferungslösung beispielsweise Borsäure, Ammoniak, Kohlensäure, Essigsäure, Natri- umcarbonat, Amine, Aminomethan, Sulfonsäuren, Citronensäure, Acetate, Borate, Ammoniumverbindungen oder/und deren Derivate eingesetzt wer- den. Der Gesamtgehalt an Puffersubstanzen liegt in der erfindungsgemäßen Verkupferungslösung vorzugsweise im Bereich von 0,001 bis 100 g/L, besonders bevorzugt im Bereich von 0, 1 bis 20 g/L oder von 0,5 bis 5 g/L.
Als Stellmittel können in der erfindungsgemäßen Verkupferungslösung bei- spielsweise Säuren und Laugen oder/und deren Derivate eingesetzt werden. Der Gesamtgehalt an Stellmitteln liegt in der erfindungsgemäßen Verkupferungslösung vorzugsweise im Bereich von 0,001 bis 100 g/L, besonders bevorzugt im Bereich von 0, 1 bis 20 g/L oder von 0,5 bis 5 g/L.
Vorzugsweise enthält die erfindungsgemäße Verkupferungslösung zur stromlosen Ausbildung der Sperrschicht oder/und Konduktivschicht mindestens eine Kupferverbindung sowie mindestens einen Glanzbildner, mindestens eine Säure oder/und mindestens ein Beizmittel. Besonders bevorzugt enthält sie zusätzlich mindestens einen Beizinhibitor und gegebenenfalls auch einen Beizverstärker. Alternativ oder zusätzlich kann sie besonders bevorzugt auch mindestens einen Glanzbildner enthalten.
Die erfindungsgemäße Verkupferungslösung ist frei von absichtlich zugesetztem starkem Reduktionsmittel, d.h. frei von Reduktionsmittel, das Werte des Potenzials von höchstens -0,6 V und insbesondere Werte im Bereich von -3 bis -1 V aufweist. Es ist bevorzugt, die erfindungsgemäße Verkupferungslösung frei oder möglichst frei von Stabilisierungsmitteln für die Verkupferungslösung auf organischer oder/und auf anorganischer Basis zu halten. Als organische Stabilisierungsmittel können z.B. Diethylentriaminpentaessigsäure, Phosphonsäu- re, Thioglycolsäure, Thioharnstoff oder/und deren Derivate eingesetzt wer- den. Als anorganische Stabilisierungsmittel können z.B. Verbindungen auf Basis von Cadmium, Blei, Vanadium oder/und Quecksilber verwendet werden. Üblicherweise sind derartige Stabilisierungsmittel schwer biologisch abbaubar. Denn die organischen Stabilisierungsmittel können die Schwer- metalle aus Sedimenten lösen und gegebenenfalls ihren Transport in Gewässer verursachen, während die anorganischen Stabilisierungsmittel giftig und umweltunfreundlich sind. Generell ist es bevorzugt, die erfindungsgemäße Verkupferungslösung frei oder möglichst frei von giftigen Schwerme- tallionen zu halten.
Der pH-Wert der erfindungsgemäßen Verkupferungslösung wird vorzugsweise an die Materialien der metallischen Oberflächen angepasst, die verkupfert werden sollen. Bei einem niedrigen pH-Wert der erfindungsgemäßen Verkupferungslösung erfolgt ein Beizangriff auf einem Eisenwerkstoff wie z.B. auf einem Stahlblech. Dadurch wird Fe2+ herausgebeizt und geht in Lösung. Dadurch werden Elektronen frei, die vom Kupfer aufgenommen werden. Daraufhin schlägt sich metallisches Kupfer nieder. Für die Verkupferung von Metallen, die weniger edel sind als z.B. Eisen, und für deren Legierungen liegt der pH-Wert der Verkupferungslösung oft bevorzugt in einem Bereich etwa von 4 bis 8 oder von 5 bis 8. Für die Verkupferung von Zink oder Zink-haltigen Legierungen liegt der pH-Wert der Verkupferungslösung besonders bevorzugt in einem Bereich von 4,5 bis 7 oder von 6 bis 7,5. Der pH-Wert der Verkupferungslösung liegt bei Eisen-reichen Werkstücken besonders bevorzugt im Bereich von 0 bis 2, bei Zink-reichen Werkstücken besonders bevorzugt im Bereich von 4,5 bis 7,5 oder von 6,5 bis 7. Besonders bevorzugt liegt pH-Wert der ersten Verkupferungslösung für Zinkreiche oder Zinn-reiche metallische Oberflächen im Bereich von 4,5 bis 8,5 oder von 6 bis 8 oder für Eisen-reiche metallische Oberflächen bei weniger als 5. Die erfindungsgemäße stromlose Verkupferung oder/und eine nachfolgende elektrolytische Beschichtung kann durch Tauchen, Sprühen, Aufwalzen, Aufpinseln, Angießen, durch Schwammauftrag, durch Tamponauftrag o- der/und auf ähnliche Weise erfolgen. Üblicherweise wird im Tauchen gearbeitet. Vorzugsweise wird durch Tauchen, Sprühen, Aufwalzen, Aufpinseln, Angießen, durch Schwamm auftrag oder/und durch Tamponauftrag stromlos oder/und danach elektrolytisch beschichtet. Vorzugsweise erfährt der mit einer Sperrschicht oder/und Konduktivschicht versehene Gegenstand mindestens eine nachfolgende Oberflächenbehandlung. Für ein erfolgreiches stromloses Verkupfern ist es von Bedeutung, darauf zu achten, dass die metallischen Oberflächen zum stromlosen Verkupfern metallisch blank und fettfrei sind. Ebenso ist darauf zu achten, dass die Kupferkonzentration in der Verkupferungslösung, die Badtemperatur, die Behandlungszeit, der Gehalt an Beizinhibitor oder/und der Gehalt an Glanzmittel der Verkupferungslösung aufeinander abgestimmt sind.
Vorzugsweise liegt die Temperatur, bei der erfindungsgemäß stromlos verkupfert wird, im Bereich von 15 bis 95 °C, besonders bevorzugt im Bereich von 20 bis 85 °C oder von 30 bis 70 °C. Wenn bei Temperaturen über 50 °C verkupfert wird, ergibt sich eine wesentlich verkürzte Behandlungszeit. Aber wenn bei höherer Temperatur gearbeitet wird, sollte darauf geachtet werden, dass die Konzentration oder/und die Behandlungszeit nicht zu hoch sind, um schwammige, schlecht haftende Schichten zu vermeiden. Andererseits kann auch bei Temperaturen unter 50 °C verkupfert werden, wobei hierbei auf ausreichend hohe Konzentrationen oder/und ausreichend lange Behand- lungszeiten geachtet werden sollte, um poröse Kupferschichten und damit die mangelnde Sperrwirkung der Sperrschicht bzw. die unzureichende Leitfähigkeit der Konduktivschicht sowie die Verschmutzung des Bades und Probleme in nachfolgenden Prozessschritten zu vermeiden. Ein Arbeiten bei Raumtemperatur ist ebenfalls möglich, wenn auf ausreichende Konzentrati- on der Kupferlösung oder/und auf ausreichende Behandlungszeit geachtet wird.
Vorzugsweise wird über eine Zeit im Bereich von 0,05 bis 30 Minuten, von 0,2 bis 10 Minuten oder bevorzugt über 0,5 bis 2 Minuten stromlos verkupfert, um eine erfindungsgemäße Kupferschicht als Sperrschicht oder/und als Konduktivschicht auszubilden. Wenn das Bad eine geringere Konzentration als z.B. 0,5 g/L Kupfer in der Verkupferungslösung aufweist, dann ist auf eine höhere Badtemperatur oder/und längere Behandlungszeit zu achten. Wenn das Verkupferungsbad eine höhere Konzentration als z.B. 100 g/L Cu in der Verkupferungslösung aufweist, dann ist auf geringere Badtemperatur, geringere Behandlungszeit, höhere Gehalte an Beizinhibitor oder/und höhere Gehalte an Glanzbildner zu achten. Wenn jedoch die Kupferkonzentration im Bad, die Badtemperatur, die Behandlungszeit, der Gehalt an Beizinhibitor oder/und der Gehalt an Glanzmittel in der Verkupferungslösung nicht aufei- nander abgestimmt sind, dann können entweder poröse Kupferschichten oder schwammige, schlecht haftende Kupferschichten ausgebildet werden. Bei der erfindungsgemäßen stromlosen Verkupferung bildet sich vorzugsweise eine Kupferschichtdicke im Bereich z.B. von 0, 1 bis 8 pm oder im Bereich von 1 bis 5 pm, insbesondere innerhalb von 0,5 bis 2 Minuten aus. Durch stromloses Verkupfern wird ein deutlich schnelleres Verkupfern als mit Strom oder durch ein außenstromloses Verkupfern unter Zuhilfenahme eines Reduktionsmittels ermöglicht. Es ist außerdem deutlich energiesparender. Denn die Zeitersparnis beim stromlosen Abscheiden beträgt etwa 20 bis 90 % im Vergleich zum elektrolytischen oder außenstromlosen Abschei- den. Die Energieersparnis beim stromlosen Abscheiden beträgt etwa 90 bis 100 % im Vergleich zum elektrolytischen Abscheiden. Sie beträgt beim stromlosen Abscheiden etwa 40 bis 70 % im Vergleich zum außenstromlosen, chemischen Abscheiden, denn die chemische Kupferabscheidung ist sehr langsam, und es ist immer über 60 °C und teilweise bei mehr als 90 °C zu arbeiten. Denn bei hohen Kupfergehalten wird die Verkupferungslösung instabil, und außerdem können sich dann schwammige, schlecht haftende Kupferschichten ausbilden. Vorteilhafterweise ergibt sich dabei auch ein besserer Korrosionsschutz o- der/und eine bessere elektrische Leitfähigkeit als das Grundmaterial von sich aus besitzt.
Auf die mindestens eine erfindungsgemäß stromlos hergestellte Kupfer- schicht kann bei Bedarf weiter elektrolytisch verkupfert oder/und weiter elektrolytisch vernickelt werden, z.B. um jeweils mindestens eine Glanzkupferschicht, Dickkupferschicht, Glanznickelschicht oder Dicknickelschicht aufzubringen. Vorzugsweise wird nach der Ausbildung der Sperrschicht oder/und Konduktivschicht mindestens eine Deckschicht als galvanische Glanzschicht elektrolytisch oder mindestens eine Schicht als Dickschicht chemisch oder elektrolytisch aufgebracht. Diese Beschichtungen können von guter Qualität sein, sind aber besonders aufwändig herzustellen. Chemische Dickschichten sind insbesondere bei schwierig geformten Werkstücken von Vorteil, da sie unabhängig von der Werkstückgeometrie gleiche Schichtdicken aufweisen. Denn die Stromstärke ist bei Bohrungen, Hohlräumen, Kanten usw. aufweisenden Werkstücken ungleichmäßig verteilt und führt zu unterschiedlichen Schichtdicken proportional zur Stromstärke. Hierauf kann dann bei Bedarf zusätzlich auch jeweils mindestens eine elektrolytische Silber-, Chrom-, Gold-, Cadmium-, Platin- oder/und Rhodiumschicht insbesondere aus sau- ren, Cyanid-freien und Reduktionsmittel-freien Elektrolyten aufgebracht werden, z.B. als mindestens eine Glanz- oder/und als mindestens eine Dickschicht.
Der mit einer stromlos hergestellten Kupferschicht versehene Gegenstand kann nach dem Aufbringen der Sperrschicht oder/und der Konduktivschicht mindestens einmal galvanisch behandelt werden, kann mindestens einmal lackiert werden, kann mindestens einmal mit mindestens einem Pulverlack, mit mindestens einem kathodischen Tauchlack (KTL) beschichtet werden oder/und kann mit mindestens einem anderen Gegenstand zusammengefügt werden. Das Fügen kann z.B. durch Kleben, Clinchen oder/und Zusammen- walzen unter Druck und gegebenenfalls auch bei hoher Temperatur erfolgen. Vorzugsweise wird der mit einer stromlos hergestellten Kupferschicht versehene Gegenstand mindestens einmal galvanisch behandelt, mindestens einmal lackiert oder mit einem Pulverlack oder mit einem kathodischen Tauchlack (KTL) beschichtet wird oder mit einem anderen Gegenstand zusammengefügt.
Es wurde festgestellt, dass mit dem erfindungsgemäßen Verfahren Oberflächen von Eisen, Stahl, Zink und Zinklegierungen gut verkupfert werden können. Beispielsweise ließen sich auch Zinkdruckgusslegierungen wie z. B. ZnAIMg- und ZnAIMgCu-Legierungen (ZAMAK-Legierungen) gut erfindungsgemäß stromlos verkupfern.
Ein Verkupfern konnte bei sehr inhomogen aufgebauten oder oberflächlich stark verschmutzten Zinklegierungen vereinzelt nicht erreicht werden, z.B. wenn Aluminiumhöfe in der Legierung eine Abscheidung aufgrund des Po- tenzialunterschieds zwischen z.B. AI und Zn verhindert haben. Wenn in diesen Situationen erst elektrolytisch verzinkt, mit Wasser gespült und danach erfindungsgemäß stromlos verkupfert wird, ließ sich dieses Problem lösen.
Die erfindungsgemäße stromlose Verkupferung von Edelstahl-Oberflächen ist schwieriger als bei Stahl-Oberflächen, insbesondere wegen der natürli- chen Oxidhaut auf den Edelstahl-Oberflächen. Edelstahl-Oberflächen, für die zum Beizen mindestens eine nichtoxidierende Säure zur vorherigen Aktivierung, und für die zum stromlosen Verkupfern gegebenenfalls zusätzlich ein elektrisch leitender Kontakt von einem unedleren Metall als Edelstahl wie Aluminium, Aluminiumlegierung, gering legierten Eisen- und Stahl-Werkstof- fen, Zink oder/und Zinklegierung zur Edelstahl-Oberfläche z.B. über einen Kontaktdraht eingesetzt wurde, ließen sich bei etlichen Versuchen erfolgreich verkupfern. Bei dem erfindungsgemäßen Verfahren werden Edelstahl- Oberflächen stromlos verkupfert, indem zum Beizen vor dem Verkupfern mindestens eine nichtoxidierende Säure zur vorherigen Aktivierung verwendet wird und indem zum Verkupfern bei Bedarf zusätzlich ein elektrisch leitender Kontakt von einem unedleren Metall als Edelstahl zur Edelstahl- Oberfläche verwendet wird. Denn Edelstahl verhält sich oft anders als die sonstigen Eisen- und Stahlwerkstoffe und lässt sich oft nicht ohne weiteres in Schwefelsäure beizen. Ein elektrisch leitender Kontakt mit einem unedleren Metall als Edelstahl erscheint nach bisherigem Kenntnisstand bei den Edelstahl-Oberflächen als notwendig, die einen höheren Gehalt an Stahlver- edlern wie z.B. Cr, Ni oder/und V enthalten. Denn bei geringen Gehalten an Stahlveredlern ließen sich die entfetteten und gebeizten Edelstahl-Oberflächen auch ohne Verwendung eines elektrisch leitenden Kontaktes mit einem unedleren Metall als Edelstahl gut verkupfern. Solch ein elektrisch leitender Kontakt von einem Opfermetall z.B. aus Aluminium, Aluminiumlegierung, gering legierten Eisen- und Stahl-Werkstoffen, Zink oder/und Zinklegierung zu einer Edelstahl-Oberfläche ermöglicht es, dass das Opfermetall in der Verkupferungslösung Elektronen zur Metallabscheidung zur Verfügung stellt. Hierbei erfolgt ein Beizangriff auf das Opfermetall, das dabei in Lösung geht. Die frei gewordenen Elektronen wandern über den elektrisch leitenden Kontakt zu den Edelstahl-Oberflächen. Aufgrund einer ausreichenden Zahl freier Elektronen können dann auch die Edelstahl-Oberflächen verkupfert werden. Bei höher legierten Edelstählen funktioniert die sogenannte Sudabscheidung im Tauchverfahren daher erst, wenn diese im Kontakt- und Tauchverfahren angewandt wird. Bei Edelstählen mit einem geringen Gehalt an Stahlveredlern scheint die Freisetzung von Elektronen weniger als bei höher legierten Edelstählen behindert zu werden. Daher ist es bei einigen Edelstahl-Legierungen möglich, auch ohne einen elektrisch leitenden Kontakt der Edelstahl-Oberfläche mit einem Opfermetall Edelstahl-Oberflächen erfolgreich zu verkupfern. Bei geringer legierten Edelstählen funktioniert die sogenannte Sudabscheidung im Tauchverfahren daher schon, wenn diese im Tauchver- fahren angewandt wird. Die Verkupferungsqualität leidet hierunter nicht. Die Badgehalte und die thermischen Bedingungen zum Verkupfern von Edel- stahl-Oberflächen sind beim Kontakt- und Tauchverfahren sowie beim
Tauchverfahren nahezu die gleichen wie beim Verkupfern von Stahl-Oberflächen.
Ferner wurde jetzt festgestellt, dass auch Zinn-Oberflächen erfindungsge- mäß verkupfert werden können. Die Badgehalte und die thermischen Bedingungen zum Verkupfern von Zinn-Oberflächen sind nahezu die gleichen wie beim Verkupfern von Zink-Oberflächen.
Es wurde jetzt überraschend festgestellt, dass sich mit den Produkten Gar- dobond® CU 7600 und Gardobond® CU 7602 der Chemetall GmbH, Frank- furt am Main, problemlos hochwertige Kupfersperrschichten stromlos insbesondere auf den Werkstoffen Eisen, Stahl, Zink, Zinn und sogar auf Zinkdruckguss auf umweltfreundliche Weise applizieren lassen. Sie ermöglichen einen hochwertigen Haftgrund für eine dekorative oder/und funktionelle Weiterverarbeitung in der galvanischen Beschichtungstechnik. Teilweise lassen sich dadurch auch, wie in den Beispielen bzw. Vergleichsbeispielen 6 bis 9 näher erläutert wird, damit umfangreiche elektrolytische Verfahrensgänge ersetzen. Die hohe Haftfestigkeit der erhaltenen Überzüge wurde bestätigt. Somit ist es möglich, in der Galvanotechnik bei der dekorativen oder/und funktionellen Beschichtung von Werkstücken z.B. aus Eisen, Stahl, Zink, Zinkdruckguss oder Zinn auf eine elektrolytische Vorverkupferung oder elektrolytische Vorvernickelung zur Ausbildung einer Sperrschicht zu verzichten und durch einen stromlosen Tauchprozess in einem sauren Bad zu ersetzen.
Es wurde jetzt überraschenderweise gefunden, dass es möglich ist, mit einer Cyanid-freien, beispielsweise stromlos eingesetzten Verkupferungslösung eine Sperrschicht oder/und Konduktivschicht auf metallischen Gegenständen aufzubringen. Hierbei war es überraschend, dass es möglich ist, anschließend eine saure galvanische Beschichtung auch auf Oberflächen von Eisen- oder/und Zink-reichen metallischen Gegenständen oder auf Zinn aufzubringen - denn bis heute lernen Oberflächenbeschichter, dass eine Schicht, abgeschieden auf einem Gegenstand mit einer Oberfläche auf Basis Eisen oder/und Zink aus einem sauren Kupferelektrolyten, nicht zur Wei- terverarbeitung geeignet ist.
Hierbei war es überraschend, dass es möglich ist, auf die erfindungsgemäß hergestellte Kupfersperrschicht auch ohne nachträgliche Kupferglanz- oder Kupferdickschicht unmittelbar eine nachträgliche Nickelglanz- oder Nickeldickschicht aufzubringen, ohne eine Qualitätseinbuße zu erleiden. Uberaschenderweise wurde aber auch festgestellt, dass sich mit dem in der Erfindung beschriebenen Verfahren zum Beispiel Sperrschichten zum Nitrieren von Stahl, auch partiell, oder Schichten zur Erhöhung der elektrischen Leitfähigkeit eines Bauteiles, ebenfalls auch selektiv auf nur einem Teil der Oberfläche herstellen lassen. Außerdem wurde überraschenderweise gefunden, dass sich mit dem erfindungsgemäßen Verfahren auch glänzende Kupferschichten abscheiden lassen, so dass sogar in manchen Fällen auf eine nachfolgende saure Glanz- verkupferung oder auf eine nachfolgende saure Glanzvernickelung verzichtet werden kann und bei Bedarf und je nach Anwendung danach direkt gal- vanisch glanzvernickelt, galvanisch glanzvergoldet, galvanisch glanzversilbert oder/und galvanisch glanzverchromt werden kann.
Auf die erfindungsgemäß aufgebrachte Sperrschicht oder/und Konduktiv- schicht kann unmittelbar darauf auch mindestens eine elektrolytische Glanzoder elektrolytische Dicknickelschicht aufgebracht werden, ohne dass die mit einer Sperrschicht versehenen Gegenstände zuvor zusätzlich mit einer sauren, elektrolytischen Glanzkupferschicht überzogen werden müssen. Das ist unabhängig davon, ob mit einer Cyanid-haltigen Verkupferungslösung oder mit einer erfindungsgemäß eingesetzten Verkupferungslösung stromlos gearbeitet wurde. Es ist auch unabhängig davon, ob die Sperrschicht dabei auf einer Oberfläche z.B. aus aus einem Eisenwerkstoff, aus einem Zinkwerkstoff, aus einem Zinnwerkstoff oder/und auf einer edleren Oberfläche aufgebracht wurde. Der mit einer erfindungsgemäß hergestellten Konduktivschicht beschichtete Gegenstand kann zur Herstellung eines elektrisch besser leitenden Gegenstandes wie z.B. einem Draht, Profil, Rohr, Stab oder kompliziert geformten Gegenstandes erwendet werden, zum konduktiven Aufheizen oder/und zum Härten des metallischen Gegenstandes Der mit einer erfindungsgemäßen Sperrschicht oder/und Konduktivschicht beschichtete Gegenstand kann verwendet werden als Draht, Profil, Rohr oder Stange, als Schweißdraht, als Beschlag, Element oder Verbindungselement z.B. für Fenster, Türen oder Möbel wie z.B. eine Rolle oder eine Schraube, als Element eines Apparates, einer Maschine, eines Haushaltsge- räts, eines Elektroartikels, eines Elektronikartikels oder Spielzeugs wie z.B. als Schalter oder Taster, als Schmuckgegenstand wie z.B. als Kerzenhalter, als Element für eine Uhr, als Gehäuse, Gestänge, Halterung, Montageplatte oder Verkleidung, als Element im Apparatebau, Maschinenbau, Automobilbau oder für Verkehrsmittel, als mechanisches Funktionsteil oder für einen zu härtenden metallischen Gegenstand wie z.B. einen Bohrer, einem Verschleiß unterliegenden Element insbesondere im Apparatebau, im Fahrzeugbau, im Maschinenbau oder im Werkzeugbau oder als Schraube.
Beispiele und Vergleichsbeispiele:
Die folgenden Beispiele und Vergleichsbeispiele sollen die Erfindung bei- spielhaft verdeutlichen.
Ein Hullzellenblech (Englisch = hull cell sheet ) ist ein Blech, das in eine Hullzelle eingesetzt werden kann. Die Hullzelle weist einen Querschnitt in Form eines Trapezes auf. Durch den trapezförmigen Grundriss der Hull- Zelle variiert der Abstand zwischen Anode und Kathode. Dadurch wird auch die Stromdichte zwischen Kathode und Anode variiert, wobei dem kleinsten Abstand der beiden Elektroden die höchste Stromdichte und beim größten Abstand der beiden Elektroden die kleinste Stromdichte entspricht. Die Stromdichteverteilung ist jedoch nicht linear, sondern nimmt bei kleiner werdendem Abstand schneller zu. Deshalb ist es möglich, einen Elektrolyten wie z.B. ein saures Hochglanzkupferbad an einem einzigen Hullzellenblech über einen weiten für die Metallabscheidung wichtigen Stromdichtebereich zu testen. Die Haftung der aufgetragenen Schichten wurde mittels Gitterschnitt-, Wisch- und Biegetests nach DIN EN ISO 2409, nach DIN EN ISO 1519 und nach ASTM 2794 überprüft und mit diesen Tests bei allen erfindungsgemäßen Beispielen als gut haftend bestätigt.
Erfindungsgemäßes Beispiel 1 zu stromlos hergestellter Kupfersperrschicht: Zwei handelsübliche Hullzellenbleche aus Stahl ST2 wurden in 10 g/L NaOH, 30 g/L Natriumpyrophosphat und 5 g/L Netzmittel bei 70 °C über 3 Minuten alkalisch heiß entfettet, mit Stadtwasser gründlich gespült, 10 Sekunden in 5 %iger Schwefelsäure dekapiert (= kurzzeitig zum Aktivieren der Oberfläche gebeizt) und wiederum in Stadtwasser gespült. Hierdurch wur- den die metallischen Oberflächen hervorragend gereinigt. Anschließend wurden die gereinigten Bleche in ein stromloses Bad zur Ausbildung einer Sperrschicht getaucht. Das Bad der ersten Verkupferungslösung hatte folgende wässerige Zusammensetzung:
100 g/L Gardobond® CU 7602 der Chemetall GmbH und
150 g/L H2SO4 technisch rein und weitere Zusätze.
Gardobond® CU 7602 wird von der Chemetall GmbH als gefrierstabile und auftaustabile konzentrierte wässerige Lösung vertrieben. Die mit Stadtwasser verdünnte Lösung von Gardobond® CU 7602 der Chemetall GmbH weist eine wässerige Zusammensetzung auf Basis von basischem Kupfercarbo- nat, schwach basischer Puffersubstanz, schwachem Komplexbildner und Glanzbildner auf. Die mit Schwefelsäure angesetzte erfindungsgemäße Ver- kupferungslösung wurde bei einer Temperatur von 30 °C und bei einem pH- Wert von weniger als 0,5 über 0,5 Minuten eingesetzt. Anschließend folgte ein Spülen mit Stadtwasser bei Raumtemperatur.
Durch den niedrigen pH-Wert der stromlosen Badlösung erfolgte ein Beizangriff auf dem Stahlblech. Dadurch wurde Fe2+ herausgebeizt und ging in die Lösung über, wodurch Elektronen frei wurden. Die Elektronen wurden wiederum von den sich in der Lösung befindlichen Kupferionen aufgenommen. Auf dem Eisenteil schlug sich metallisches Kupfer nieder. Die spezielle Rezeptur und Rohstoffkombination des Produktes Gardobond® CU 7602 ermöglichte besonders haftfeste Kupfersperrschichten durch die Art der chemischen Bindung der Schicht mit dem Grundmaterial. Die mit einer Kupfersperrschicht beschichteten Bleche zeigten bereits eine hohe Haftung und deutlichen Glanz, auch ohne dass eine Glanzkupferschicht aufgebracht worden war. Die Schichtdicke der Sperrschicht betrug 1 ,4 - 1 ,5 pm und war gleichmäßig auf der Vorder- und Rückseite des Bleches verteilt. Die Kupfersperrschichten konnten auch nicht mit dem Finger- nagel abgekratzt werden. Der Gitterschnitt-Haftungstest wurde mit GT0 bestanden. Auch ein Biegen des Hullzellenbleches über 180° war ohne Schich- tabplatzungen an der Biegeinnen- und Biegeaußenkante möglich. Die aufgetragene Sperrschicht war äußerst duktil, porenfrei, feinkristallin und ohne innere Schichtspannungen. Anschließend wurden die Bleche in einem konventionellen sauren Hochglanz-Kupferbad bei 2 A/dm2 und bei einer Temperatur von 35 °C über 15 Minuten bzw. für Dickschichten über 60 Minuten galvanisch glanzverkupfert oder dickverkupfert. Danach wurden sie mit Stadtwasser erneut gespült und getrocknet. Auf die stromlos aufgebrachte Kupfersperrschicht hätte auch unmittelbar eine Glanzvernickelung anstatt der Glanzverkupferung folgen können, so dass dann sowohl die cyanidische Verkupferung, als auch die saure Glanzverkupferung des konventionellen Herstellungsganges hätte entfallen können. Die Bleche zeigten auch unter variierten Vorbehandlungsbedingungen und unter variierten Bedingungen zur Ausbildung der Sperrschicht wie Temperatur, Konzentration und Tauchzeit auf Basis von Gardobond® CU 7602 glatte, hochglänzende und über den gesamten Stromdichte-Bereich von 0, 1 bis 20 A/dm2 im sauren, galvanischen Glanzkupferelektrolyten sehr gut haftende Kupfersperrschichten, wobei die gute Haftung durch Prüfungen im Gitterschnitt- und Biegetest bestätigt wurde.
Die Glanzkupfer- und die Dickkupferschicht waren hochglänzend. Sie zeigten eine ausgezeichnete Haftung. Alle Eigenschaften aller Kupferschichten waren hochwertig und einwandfrei. Das erfindungsgemäße Verfahren verlief besonders schnell, einfach, kostengünstig, ohne größeren Energieaufwand und problemlos.
Danach hätte dann bei Bedarf weiter elektrolytisch verkupfert, elektrolytisch vernickelt oder anderweitig elektrolytisch abgeschieden werden können o- der/und stromlos auf chemischem Weg farbige Beschichtungen abgeschie- den werden können. Ferner hätte nach jeder dieser Beschichtungen anstelle weiterer galvanisch oder stromlos hergestellter Beschichtungen auch Lack oder Klebstoff aufgebracht werden können.
Erfindungsgemäßes Beispiel 2 zu stromlos und chemisch variiert hergestellter Kupfersperrschicht: Zwei Hullzellenbleche aus Stahl ST2 wurden wie in Beispiel 1 vorbehandelt und verkupfert, jedoch wurde eine stromlose Tauchbadbehandlung durchgeführt in 100 g/L Gardoboncf CU 7600 der Chemetall GmbH und
150 g/L H2S04 von technisch reiner Qualität.
Gardobond® CU 7600 wird von Chemetall GmbH in pulveriger Form vertrieben. Die wässerige Lösung von Gardobond® CU 7600 enthält Kupfersul- fathydrat, Beizinhibitor, Beizverstärker und Netzmittel. Die Hullzellenbleche wurden bei einer Temperatur von 30 °C bei einem pH-Wert < 1 , insbesondere bei pH-Werten von etwa 0,5, über 0,5 Minuten behandelt. Dann wurde mit Stadtwasser gespült.
Durch den geringen pH-Wert erfolgte ein Beizangriff auf den Stahlblechen. Dadurch wurde Fe2+ herausgebeizt und ging in Lösung. Dadurch wurden Elektronen frei, die vom Kupfer aufgenommen wurden. Daraufhin schlug sich metallisches Kupfer auf dem Blech nieder.
Anschließend wurden die Bleche in einem konventionellen sauren Hochglanz-Kupferbad bei einer Stromdichte von 2 A/dm2 und bei einer Temperatur von 35 °C über 15 Minuten bzw. für Dickschichten über 60 Minuten galvanisch glanzverkupfert oder dickverkupfert. Danach wurden sie mit Stadtwasser erneut gespült und getrocknet. Auf diese stromlose aufgebrachte Kupfersperrschicht hätte auch unmittelbar eine Glanzvernickelung anstatt der Glanzverkupferung folgen können, so dass dann sowohl die cyanidische Verkupferung, als auch die saure Glanzverkupferung hätte entfallen können.
Die Bleche zeigten unter variierten Vorbehandlungsbedingungen und bei variierten Bedingungen zur stromlosen Ausbildung der Sperrschicht unter Verwendung von Gardobond® CU 7600 wie Konzentrationen, Temperaturen und Tauchzeiten glatte, hochglänzende und über den gesamten Stromdich- te-Bereich sehr gut haftende Kupfersperrschichten. Die Dicke der aufgetragenen Sperrschicht betrug 1 ,6 - 1 ,7 pm und war gleichmäßig auf der Vorder- und Rückseite des Bleches verteilt. Die Gleichmäßigkeit wurde durch Gitterschnitt- und Biegetest-Prüfungen bestätigt. Die Kupfersperrschichten konnten auch nicht mit dem Fingernagel abgekratzt werden. Der Gitterschnitt-Haftungstest wurde mit GTO bestanden. Auch ein Biegen des Hullzel- lenbleches über 180° war ohne Schichtabplatzungen an der Biegeinnen- und Biegeaußenkante möglich. Die aufgetragene Sperrschicht war beson- ders duktil, porenfrei, feinkristallin und ohne innere Schichtspannungen.
Die Glanzkupfer- und die Dickkupferschicht waren hochglänzend. Sie zeigten eine ausgezeichnete Haftung. Alle Eigenschaften aller Kupferschichten waren hochwertig und einwandfrei. Das erfindungsgemäße Verfahren verlief besonders schnell, einfach, kostengünstig, ohne größeren Energieaufwand und problemlos.
Danach hätte dann bei Bedarf weiter elektrolytisch verkupfert, elektrolytisch vernickelt oder anderweitig elektrolytisch abgeschieden werden können o- der/und stromlos auf chemischem Weg farbige Beschichtungen abgeschieden werden können. Ferner hätte nach jeder dieser Beschichtungen anstelle weiterer galvanisch oder stromlos hergestellter Beschichtungen auch Lack oder Klebstoff aufgebracht werden können.
Vergleichsbeispiel 3 zum sauren galvanischen Verkupfern ohne Sperrschicht:
Zwei weitere Hullzellenbleche wurden wie in Beispiel 1 vorbehandelt und danach glanzverkupfert bzw. dickverkupfert, jedoch ohne dazwischen eine Sperrschicht in einem stromlosen Kupfertauchbad auszubilden. Hiermit sollte die hohe Bedeutung der stromlosen Verkupferung und der Kupfersperrschicht sowie die Notwendigkeit einer Kupfersperrschicht für die weitere galvanische Behandlung aufgezeigt werden. Auf den gereinigten Blechen ließ sich eine hochglänzende Glanzkupferschicht bzw. hochglänzende Dickkupferschicht abscheiden, die jedoch keine Grundmaterialhaftung zeigte. Bereits nach dem Ausheben der Bleche aus dem sauren Elektrolyten war eine deutliche Blasenbildung zu erkennen. Die Kupferschichten blätterten bei der anschließenden Trocknung mit Druckluft bei 2 bar großflächig ab. Die verbliebenen Reste der Kupferschichten konnten dann mit dem Fingernagel abgekratzt werden. Daher wurde nicht weiter beschichtet. Diese Kupferschichten waren nicht kommerziell nutzbar. Vergleichsbeispiele 4 und 4a zu aufwändiger Verkupferung mit konventionell hergestellter Sperrschicht:
Zwei weitere Hullzellenbleche 4 und 4a wurden zuerst wie in Beispiel 1 vorbehandelt. Das Blech 4a des Vergleichsbeispiels 4a wurde nach dem Heißentfetten und nach dem Spülen mit Wasser zusätzlich gebeizt und katho- disch entfettet, um den konventionell in der Industrie verwendeten Prozess nachzustellen: Das Beizen des zweiten Bleches erfolgte mit 5%iger Schwefelsäure bei Raumtemperatur über 30 Sekunden. Nach dem Beizen wurde das Blech wieder in Stadtwasser gespült und anschließend elektrolytisch entfettet. Das Entfetten erfolgte kathodisch in wässeriger Lösung von 10 g/L KOH, 30 g/L Natriumsilicat, 10 g/L Pyrophosphat und 1 g/L Netzmittel bei 2 A/dm2 und 30 °C über 3 Minuten. Dadurch wurde ein zusätzlicher Reinigungseffekt gegenüber dem Blech 4 erzielt.
Danach wurden die beiden gereinigten Bleche nicht einer stromlosen Tauchbadbehandlung unterzogen, sondern in einem galvanischen Prozess mit einem handelsüblichen cyanidischen alkalischen Kupferelektrolyten von ca. 15 g/L Cu, ca. 50 g/L Natriumcyanid, ca. 50 g/L Natronlauge, Netzmittel, Glanzbildner und weiteren Additiven behandelt. Die galvanische Verkupferung zur Erzeugung einer Sperrschicht wurde bei 1 A/dm2 und 50 °C über 5 Minuten ausgeführt. Dadurch wurde etwa die fünffache Zeit für die Ausbil- dung der galvanisch hergestellten Sperrschicht für eine bestimmte Schichtdicke benötigt wie bei dem erfindungsgemäßen stromlosen Verkupfern der Sperrschicht. Die mit einer Kupfersperrschicht beschichteten Bleche zeigten eine hohe Haftung, wobei Blech 4 und Blech 4a nach der cyanidischen galvanischen Verkupferung eine matte Oberfläche ohne Glanz zeigten, ohne dass eine Glanzkupferschicht aufgebracht worden war. Die Schichtdicke der Sperr- schichten betrug auf der zur Anode zugewandten Seite je nach der in der Hullzelle herrschenden Anodenabstandsverlängerung 1 ,2 - 2,5 pm. Die Kupfersperrschichten konnten nicht mit dem Fingernagel abgekratzt werden. Der Gitterschnitt-Haftungstest wurde mit GTO bestanden. Auch ein Biegen des Hullzellenbleches über 180° war ohne Schichtabplatzungen an der Biegein- nen- und Biegeaußenkante möglich. Die aufgetragene Sperrschicht war duktil, fast porenfrei, kristallin und zeigte leichte innere Zug-Schichtspannungen.
Die Schichtdicke der Sperrschichten betrug auf der der Anode abgewandten Rückseite, die kaum oder nicht durch die Feldlinien des Stromes erreicht werden können, je nach der in der Hullzelle herrschenden Anodenabstands- Verlängerung und Streufähigkeit des cyanidischen, galvanischen Verkupfe- rungsbades 0,06 und 1 ,4 pm, nahm aber zu den Außenkanten des Bleches zu. In der Mitte des Bleches befand sich auf der Rückseite ein Bereich von etwa 2,3 x 1 ,8 cm, der überhaupt nicht mit Kupfer beschichtet worden war, so dass eine blanke Stelle zu sehen war. Auch auf der Rückseite konnten die Kupfersperrschichten mit dem Fingernagel nicht abgekratzt werden.
Anschließend wurden die Bleche in einem konventionellen sauren Hochglanz-Kupferbad bei 2 A/dm2 bei einer Temperatur von 35 °C über 15 Minuten galvanisch glanzverkupfert. Auffallend war, dass direkt nach der galvanischen Glanzverkupferung der Bereich mittig auf der Rückseite des Bleches, der zuvor nicht mit einer cyanidisch hergestellten Sperrschicht versehen war, eine matte, grieselige, schlierige, leicht schwärzliche Kupferschicht aufwies. Da in diesem Bereich keine Sperrschicht vorhanden war, erfolgte in dem sauren Glanzverkupferungsbad an dieser Stelle ein Beizangriff auf das Grundmaterial und setzte wiederum eine Sudabscheidung in Gang. Danach wurden die Bleche erneut mit Stadtwasser gespült und getrocknet. Auf diese cyanidisch hergestellte Kupfersperrschicht hätte auch unmittelbar eine Glanzvernickelung anstatt der Glanzverkupferung folgen können. Das derart behandelte Blech 4 zeigte auf der Vorderseite eine glänzende Kup- ferschicht, die eine ausgezeichnete Haftung besaß. Das zusätzlich behandelte Blech 4a zeigte auf der Vorderseite eine hochglänzende Kupferschicht, die ebenfalls eine ausgezeichnete Haftung besaß. Auf der Rückseite beider Bleche zeigte die aufgebrachte Glanzkupferschicht an den Stellen, die zuvor mit einer cyanidisch hergestellten Kupfersperrschicht versehen werden konnten, ebenfalls eine ausgezeichnete Haftung. Im mittleren Bereich auf der Rückseite des Bleches, wo aufgrund der Feldlinienverteilung des Stromes keine Sperrschicht aufgebracht werden konnte, blätterte die dort entstandene Kupferschicht bei der anschließenden Trocknung mit Druckluft bei 2 bar großflächig ab. Die verbliebenen Reste der Kupferschicht in diesem Bereich konnten dann problemlos mit dem Fingernagel abgekratzt werden. Daher wurde nicht weiter beschichtet. Diese Kupferschicht auf der Rückseite des Bleches war nicht kommerziell nutzbar. Das Blech 4a zeigte trotz aufwändigerer Herstellung keine Vorteile im Vergleich zum Blech 4.
Beispiele 5 und Vergleichsbeispiele 5 zum Einfluss des Teilespektrums: Um die Leistungsfähigkeit der mit den Vorbehandlungsprodukten Gardo- bond® CU 7600 und Gardobond® CU 7602 der Chemetall GmbH erzielten Sperrschichten zu testen, um dem in einem Lohngalvanikbetrieb zu behandelnden Teilespektrum und vor allem um dabei dem Spektrum der behandelten Legierungen gerecht zu werden, wurden aufgrund der besseren Hand- habung verschiedene Abschnitte von diversen Automaten-, Bau-, und Fe- derstahllegierungsproben zum Zweck der Erhöhung des Korrosionsschutzes oder/und einer optischen Veredelung nach den Verfahren der Beispiele 1 und 2 bzw. nach den Verfahren der Vergleichsbeispiele 3, 4 und 4a behandelt. Bei der erfindungsgemäßen Behandlung der verschiedenartigen Teile nach den Verfahren der Beispiele 1 und 2 ergaben sich bei allen Teilen die gleichen hochwertigen Eigenschaften und Vorteile wie bei den Beispielen 1 und 2. Hierbei wiesen die Teile nach der galvanischen Behandlung im Glanzkupferelektrolyten bzw. Dickkupferelektrolyten gut haftende und gut ausgebildete hochglänzende Glanzkupferschichten bzw. hochglänzende Dickkupferschichten auf. Im Rohrinneren, wo eine galvanische Beschichtung nicht erfolgreich stattfinden könnte, wurde durch die stromlose Verwendung von Gardobond® CU 7600 oder Gardobond® CU 7602 für die Herstellung von Sperrschichten eine unkontrollierte Zementation während des Galvanisie- rungsprozesses mit dementsprechenden Schichtabplatzungen verhindert. Auch im Rohrinneren zeigten sich hochglänzende, gut haftende Kupferschichten. Das Tauchbad wurde nicht verschmutzt. Alle Eigenschaften aller Kupferschichten waren hochwertig und einwandfrei. Die Verfahren verliefen ebenfalls besonders schnell, einfach, kostengünstig, ohne größeren Energieaufwand und problemlos.
Auch hier zeigte sich bei den nach dem Verfahren von Vergleichsbeispiel 3 behandelten Teilen eine völlig unzureichende Haftung der Glanzkupfer- schicht oder der Dickkupferschicht auf allen Legierungen. Bei Hohlteilen wie zum Beispiel Rohrabschnitten, die aufgrund des Effektes eines Faraday' sehen Käfigs im Inneren mit Strom nicht erreicht werden können, zeigte sich zusätzlich eine sehr raue, körnige und grieselige nicht-haftende Kupferschicht. Diese löste sich teilweise bereits während des Galvanisierungspro- zesses im Elektrolyten und verschmutzte diesen dementsprechend.
Bei dem nach den Verfahren von Vergleichsbeispiel 4 und 4a behandelten Teilen war dies in geringerem Ausmaß ebenfalls zu erkennen: Je nach dem Streuvermögen des cyanidischen Elektrolyten und je nach der Teiletiefe o- der Geometrie oder Länge des Rohrabschnittes. An den mit Strom nicht erreichbaren Stellen aufgrund des Effektes eines Faraday'schen Käfigs wie zum Beispiel im Rohrinneren konnte auch mit einem cyanidischen Elektrolyten keine Sperrschicht für eine Behandlung in einem sauren Hochglanzkup- ferbad erzeugt werden. Dadurch setzte sich beim Eintauchen in den sauren Glanzelektrolyten oder Dickschichtelektrolyten an Stellen ohne Sperrschicht wiederum eine unkontrollierte Sudabscheidung in Gang, was wiederum eine Nichthaftung der Schicht an diesen Stellen zur Folge hatte und den Elektrolyten stark verschmutzte und nachfolgende Galvanisierbäder wie z.B. ein Hochglanznickelbad hätte verschmutzen können. Die nach Beispiel 4 behandelten Werkstückabschnitte zeigten einen glänzende, die nach Beispiel 4a eine hochglänzende Kupferoberfläche.
Außerdem wurden bei allen nach den Beispielen 1 , 2, 4 und 4a der Gitterschnitt-Haftungstest, soweit es durch die Teilegeometrie möglich war, mit GT0 bestanden. Auch ein Biegen des Versuchsteilabschnitte über 180°, ebenfalls soweit es durch die Teilegeometrie möglich war, war ohne Schich- tabplatzungen an der Biegeinnen- und Biegeaußenkante möglich. Die aufgetragene Sperrschicht nach den Beispielen 1 und 2 hatte unabhängig von der Teilegeometrie eine Schichtstärke, je nach Grundmaterial, zwischen 1 , 1 und 1 ,6 pm, wobei sich die Verkupferung gleichmäßig an allen Stellen der Teile verteilte. Die Sperrschichten waren äußerst duktil, porenfrei, feinkristallin und ohne innere Schichtspannungen.
Die nach den Beispielen 4 und 4a aufgetragene Sperrschicht hatte abhängig von der Teilegeometrie dort eine Schichtstärke von 0 m an Stellen, wo auf- grund der Wirkung des Faraday'schen Käfigs nicht der zur Abscheidung nötige Strom geliefert wurde und deshalb keine Kupferabscheidung erfolgte. An elektrolytisch gut versorgten Stellen wurde eine Schichtstärke von bis zu 4,6 pm abgeschieden, wobei sich die Verkupferung ungleichmäßig, je nach Anodenabstand und dementsprechend zunehmender Stromdichte, auf den Werkstücken verteilte. Außerdem waren die nach den Beispielen 4 und 4a aufgetragenen Sperrschichten duktil, fast porenfrei, kristallin und zeigten leichte innere Zug-Schichtspannungen.
Vergleichsbeispiel 6 zur konventionellen Schraubenherstellung:
Hochwertige Stahlschrauben werden zur Einstellung bestimmter Festigkeits- parameter partiell konduktiv erwärmt und anschließend durch Abschrecken gehärtet. Zur Erhöhung der elektrischen Leitfähigkeit ist es daher notwendig, die Schrauben mit einer gut elektrisch leitenden Kupferschicht als Konduk- tivschicht zu versehen, die eine Schichtdicke im Bereich von 1 bis 5 pm aufweisen soll. Musterteile solcher Schrauben wurden in dem Verfahren der Serienfertigung solcher Schrauben nach dem Stand der Technik wie folgt behandelt:
1 . Heiß/Abkochentfetten in 10 g/L NaOH, 30 g/L Natriumpyrophosphat und 5 g/L Netzmittel bei 70 °C über 3 Minuten,
2. Spülen in VE-Wasser,
3. Beizen in HCl von ca. 15 %, bei Raumtemperatur über 3 Minuten,
4. Spülen in VE-Wasser,
5. Elektrolytisches Entfetten in 10 g/L KOH, 30 g/L Natriumsilicat, 10 g/L Pyrophosphat und 1 g/L Netzmittel bei 2 A/dm2 und 30 °C über 3 Minuten zur kathodischen Reinigung,
6. Spülen in VE-Wasser,
7. Dekapieren in 3%iger HN03 bei Raumtemperatur über 10 Sekunden,
8. Spülen in VE-Wasser und
9. Cyanidisches alkalisches elektrolytisches Verkupfern mit wässeriger
Lösung auf Basis von ca. 15 g/L Cu, ca. 50 g/L Natriumcyanid, ca. 50 g/L Natronlauge, Netzmittel, Glanzbildner und weiteren Additiven bei
1 A/dm2 und 50 °C über 10 Minuten, wobei eine Schichtdicke von 3 - 5 pm erzielt wurde. Alle hierbei behandelten Teile wiesen eine sehr gut haftende Kupferschicht auf, mit deren Kupfer-Auflage ein konduktives Erwärmen bei geringem und stark verringertem Widerstand problemlos möglich war. Die nach Vergleichsbeispiel 6 behandelten Schrauben zeigten einen matte Kupferober- fläche. Auch ein Biegen der Versuchsschrauben über 90°, soweit es durch die Teilegeometrie möglich war, war ohne Schichtabplatzungen an der Bie- geinnen- und Biegeaußenkante möglich. Die aus einem cyanidischen Bad galvanisch aufgebrachte Konduktivschicht war duktil, fast porenfrei, kristallin und zeigte leichte innere Zugspannungen in der Kupferschicht. Erfindungsgemäßes Beispiel 7 zur erfindungsgemäßen Schraubenherstellung:
Ebensolche Schrauben wurden wie in Vergleichsbeispiel 6 heiß entfettet, gespült, gebeizt, erneut gespült und dann ohne weitere Schritte direkt stromlos mit dem Verkupferungsbad auf Basis von Gardobond® CU 7602 wie in Beispiel 1 über 0,5 Minuten bei 30 °C behandelt. Anders als beim Vergleichsbeispiel 6 wurde hier nicht mit VE-Wasser gespült und nicht elektrolytisch entfettet und nicht dekapiert. Anstelle der cyanidischen alkalischen elektrolytischen Verkupferung wurde das stromlose Verkupferungsbad von Beispiel 1 genutzt. Dennoch waren die Schrauben mit einer haftfesten, deutlich glänzenden Kupferschicht von 1 ,6 bis 1 ,8 pm Dicke versehen. Das konduktive Erwärmen der verkupferten Schrauben gelang problemlos, da die Kupferschicht einen besonders geringen elektrischen Widerstand aufwies. Die nach Beispiel 7 behandelten Schrauben zeigten eine glänzende Kupferoberfläche. Auch ein Biegen der Versuchsschrauben über 90°, soweit es durch die Teilegeometrie möglich war, war ohne Schichtabplatzungen an der Biegeinnen- und Biegeaußenkante möglich. Die nach dem erfindungsgemäßen Verfahren aufgebrachte Konduktivschicht war besonders duktil, porenfrei, feinkristallin und ohne innere Spannungen. Alle Eigenschaften aller Kupferschichten waren hochwertig und einwandfrei. Das Herstellverfahren verlief besonders schnell, besonders einfach, besonders sicher, kostengünstig, ohne größeren Energieaufwand, problemlos und auf ungiftige und umweltfreundliche Weise im Vergleich zu Verfahren des Standes der Technik. Die Kupferschicht ist im Gegensatz zu den cyanidischen elektrolytischen Kupferschichten des Standes der Technik gänzlich porenfrei und daher hochwertiger und elektrisch leitfähiger.
Erfindungsgemäßes Beispiel 8 zur chemisch variierten Schraubenherstellung: Hochwertige Schrauben wurden wie in Beispiel 7 behandelt, jedoch mit dem Unterschied, dass als stromloses Tauchbad Gardobond® CU 7600 mit einer Zusammensetzung und über 0,5 Minuten bei 30 °C wie in Beispiel 2 verwendet wurde.
Alle derart behandelten Teile wiesen eine sehr gut haftende Kupferschicht von leichtem Glanz, von 1 ,3 bis 1 ,5 pm Dicke und mit einem geringen elektrischen Widerstand wie bei den verkupferten Schrauben von Beispiel 7 auf. Mit dieser Kupferschicht war ein konduktives Erwärmen der Schrauben problemlos und gut möglich. Auch ein Biegen der Versuchsschrauben über 90°, soweit es durch die Teilegeometrie möglich war, war ohne Schichtab- platzungen an der Biegeinnen- und Biegeaußenkante möglich. Die nach dem erfindungsgemäßen Verfahren aufgebrachte Konduktivschicht war besonders duktil, porenfrei, feinkristallin und ohne innere Spannungen.
Alle Eigenschaften aller Kupferschichten waren hochwertig und einwandfrei. Das Herstellverfahren verlief besonders schnell, besonders einfach, kosten- günstig, ohne größeren Energieaufwand und problemlos. Die Konduktivschicht konnte hierbei auf besonders sichere, ungiftige und umweltfreundliche Weise im Vergleich zu Verfahren des Standes der Technik aufgebracht werden. Die Kupferschicht ist im Gegensatz zu den cyanidischen elektrolyti- sehen Kupferschichten des Standes der Technik porenfrei und daher hochwertiger und elektrisch leitfähiger.
Vergleichsbeispiel 9 zu einem Versuch, eine Konduktivschicht auf Stahlschrauben mit einem konventionellen, sauren Glanzverkupferungsprozess herzustellen:
Weitere Schrauben wurden wie unter Beispiel 6 behandelt, jedoch wurde der cyanidische alkalische elektrolytische Verkupferungsschritt durch einen Cy- anid-freien und reduktionsmittel-freien sauren elektrolytischen Glanzverkup- ferungsschritt auf Basis von etwa 200 g/L CuS04 x 5 H20 und etwa 60 g/L H2S04 technisch rein und etwa 80 mg/L NaCI sowie weiteren einebnenden und glanzbildenden organischen Additiven bei 2 A/dm2 und einer Abschei- dungsrate von etwa 0,5 pm/min bei 30 °C über 5 Minuten ersetzt. Die Zusammensetzung war identisch mit der des Glanzverkupferungsbades, das auch bei weiteren Beispielen zur Weiterverarbeitung zum Auftrag einer Glanzkupferschicht bei vorhandener Sperrschicht verwendet wurde.
Alle Teile des Vergleichsbeispieles 9 zeigten eine hochglänzende Kupferschicht, die aber keine Haftung aufwies. Ein konduktives Erwärmen bei geringem Widerstand war nicht möglich. Eine Weiterverarbeitung der aus Vergleichsbeispiel 9 resultierenden Schrauben war auch nicht möglich, da sich die abgeschiedenen Kupferschichten bereits während der Trocknung in einer Trommel ablösten. Somit konnte der benötigte geringe elektrische Widerstand der Schrauben zum anschließenden Härten durch konduktives Erwärmen auf etwa 680 °C nicht erzielt werden. Ein Härten und Abschrecken dieser Schrauben war nicht möglich. Vergleichsbeispiel 10 für ein konventionelles Verfahren zur Herstellung von Druckwalzen:
Eine Stahlwalze wurde wie folgt behandelt: 1 . Entfetten in 10 g/L NaOH, 30 g/L Natrium pyrophosphat und 5 g/L Netzmittel bei 70 °C über 3 Minuten,
2. Spülen in VE-Wasser,
3. Spülen in VE-Wasser,
4. Elektrolytisch Vernickelung durch Anschlag-Nickel-Strike mit 200 - 250 g/L NiCI2 und 200 g/L HCl bei 2 A/dm2 und 30 °C über 40 Minuten, für eine Schichtdicke von 30 bis 40 pm, von innen nach außen zunehmend
5. Spülen in VE-Wasser,
6. Spülen in VE-Wasser,
7. Elektrolytisches saures Dickverkupfern als 350 pm dicke Gravurauflage bei 5 A/dm2 und 30 °C über 240 Minuten.
Eine Weiterverarbeitung der nach dem Vergleichsbeispiel 10 behandelten Walze war problemlos durchführbar. Die mit dem konventionellen Verfahren aufgetragene Nickelsperrschicht generierte einen sehr guten Haftgrund für die folgende Dickverkupferung. Die Dickverkupferung konnte auch nicht mit dem Fingernagel abgekratzt werden. Der Gitterschnitt-Haftungstest wurde mit GT0 bestanden. Als zusätzliche Belastungsprobe wurde die aufgebrachte Dickkupferschicht der Tiefdruckwalze auf einer zylindrischen Polierma- schine des Herstellers Sanko Kokai mit einer 1000er Körnung geschliffen und anschließend hochglanzpoliert. Ein Gravieren und Sticheln eines Tiefruckmusters in die polierte Dickverkupferung war problemlos möglich. Die aufgetragene Dickverkupferung war porenfrei und feinkristallin.
Erfindungsgemäßes Beispiel 1 1 für die Verkupferung von Druckwalzen: Eine Walze wurde wie im Beispiel 10 behandelt, jedoch wurde der An- schlagvernickelungsprozess von Vergleichsbeispiel 10 durch eine stromlose Kupfertauchbadbehandlung auf Basis von Gardobond® CU 7602 mit einem Badansatz und mit einer Verfahrensabfolge wie in Beispiel 1 ersetzt. Außerdem wurde nach dem Entfetten und Anschlagverkupfern nur noch einmal gespült und somit eine Verringerung des Spülwasserverbrauchs um 40 % erzielt. Die Behandlungszeit der Druckwalze konnte zum Auftragen der Sperrschicht von 40 Minuten, wie in Vergleichsbeispiel 10 beschrieben, auf 0,5 Minuten verringert werden. Die aufgetragene Kupfersperrschicht wies gleichmäßig über die ganze Walze verteilt eine Schichtstärke von 0,8 bis 0,9 pm auf. Die aufgetragene Kupfersperrschicht war außerdem glänzend. Somit konnte die Behandlungszeit um das 80fache sowie die aufgetragene Metallmenge um das 40fache verringert werden. Damit wird gezeigt, dass es mit dem erfindungsgemäßen Verfahren möglich ist, einen in der Industrie üblichen, aufwändigen, toxischen Vernickelungsprozess durch einen deutlich umweltfreundlicheren, nur begrenzt gesundheitsschädlichen, deutlich einfacheren und schnelleren Verkupferungsprozess zu ersetzten.
Eine Weiterverarbeitung der nach dem Vergleichsbeispiel 1 1 behandelten Druckwalze war problemlos durchführbar. Die mit dem erfindungsgemäßen Verfahren aufgetragene Kupfersperrschicht stellte einen hervorragenden Haftgrund für die folgende Dickverkupferung dar. Die Dickverkupferung konnte mit dem Fingernagel nicht abgekratzt werden. Der Gitterschnitt- Haftungstest wurde mit GT0 bestanden. Als zusätzliche Belastungsprobe wurde die aufgebrachte Dickkupferschicht der Tiefdruckwalze auf einer zy- lindrischen Poliermaschine des Herstellers Sanko Kokai mit einer 1000er Körnung geschliffen und anschließend hochglanzpoliert. Ein Gravieren und Sticheln eines Tiefruckmusters in die polierte Dickverkupferung war problemlos möglich. Die aufgetragene Dickverkupferung war porenfrei und feinkristallin. Zur erneuten Überprüfung der Haftung der Beschichtung auf dem Grundmaterial wurde die Druckwalze anschließend an einen Probedruck auf einer Drehmaschine mit einem Vorschub von 0, 1 mm abgedreht. Die aufgebrachte Verkupferungsschicht konnte ohne Probleme Schnitt für Schnitt abgedreht werden, ohne dass diese an Haftung verlor. Erfindungsgemäßes Beispiel 12 zu chemisch variiert verkupferter Druckwalze:
Eine Walze wurde wie im Beispiel 10 behandelt, jedoch wurde in diesem Fall der Anschlagvernickelungsprozess von Vergleichsbeispiel 10 durch eine stromlose Kupfertauchbadbehandlung in Gardobond® CU 7600 mit einem Badansatz wie in Beispiel 2 und mit einer Verfahrensabfolge wie in Beispiel 2 beschrieben ersetzt. Außerdem wurde nach dem Entfetten und Anschlagverkupfern nur noch einmal gespült und somit eine Verringerung des Spülwasserverbrauchs um 40 % erzielt. Die Behandlungszeit der Druckwalze konnte zum Auftragen der Sperrschicht von 40 Minuten, wie in Vergleichsbeispiel 10 beschrieben, auf 0,5 Minuten reduziert werden. Die aufgetragene Kupfersperrschicht wies eine Schichtstärke von 0,7 bis 0,9 pm auf, die sich überall gleichmäßig über die ganze Walze verteilte. Die aufgetragene Kupfersperrschicht zeigte leichten Glanz. Hierbei konnte die Behandlungszeit um das 80fache sowie die aufgetragene Metallmenge um das 40fache verringert werden. Damit wird gezeigt, dass es mit dem erfindungsgemäßen Verfahren möglich ist, einen in der Industrie üblichen, aufwändigen, toxischen Vernickelungsprozess durch einen deutlich umweltfreundlicheren, nur begrenzt gesundheitsschädlichen, deutlich einfacheren und schnelleren Verkupferungsprozess zu ersetzten.
Eine Weiterverarbeitung der nach dem Vergleichsbeispiel 12 behandelten Druckwalze war problemlos durchführbar. Die mit dem erfindungsgemäßen Verfahren aufgetragene Kupfersperrschicht stellte einen hervorragenden Haftgrund für die folgende Dickverkupferung dar. Die Dickverkupferung konnte mit dem Fingernagel nicht abgekratzt werden. Der Gitterschnitt- Haftungstest wurde mit GT0 bestanden. Als zusätzliche Belastungsprobe wurde die aufgebrachte Dickkupferschicht der Tiefdruckwalze auf einer zylindrischen Poliermaschine der Firma Sanko Kokai mit einer 1000er Körnung geschliffen und anschließend hochglanzpoliert. Ein Gravieren und Sticheln eines Tiefruckmusters in die polierte Dickverkupferung war problemlos möglich. Die aufgetragene Dickverkupferung war porenfrei und feinkristallin.
Zur erneuten Überprüfung der Beschichtungshaftung auf dem Grundmaterial wurde diese Druckwalze anschließend an einen Probedruck auf einer Dreh- maschine mit einem Vorschub von 0, 1 mm abgedreht. Die aufgebrachte Ver- kupferungsschicht konnte ohne Probleme Schnitt für Schnitt abgedreht werden, ohne dass diese an Haftung verlor.
Vergleichsbeispiel 13 zum Verkupfern einer Druckwalze ohne Sperrschicht:
Ein weiterer Zylinder wurde ohne das Aufbringen einer Vorschicht wie z.B. einer Sperrschicht entsprechend Vergleichsbeispiel 3 direkt nach dem Entfetten und Spülen sauer galvanisch dickverkupfert.
Da eine Sperrschicht fehlte, setzte sich beim Eintauchen in die saure Dick- verkupferungselektrolyten eine unkontrollierte Sudabscheidung in Gang, sodass die Schicht nicht haftete und den Elektrolyten stark verschmutzte. Die Kupferschicht löste sich schon während der Beschichtung teilweise ab. Eine Weiterverarbeitung der behandelten Druckwalze war daher nicht möglich.
Erfindungsgemäßes Beispiel 14 zur Verkupferung von Zinkdruckgußteilen:
Diverse Zinkdruckgußteile wie z.B. Druckknöpfe, Taster, Schalter, Fenster- beschläge und Modellbauartikel aus unterschiedlichen Zinklegierungen wie zum Beispiel ZL0400, ZL0410 oder ZL0430 wurden der nachfolgend beschriebenen Behandlung unterzogen, um das zu behandelnde Teile- und vor allem das Legierungsspektrum eines Lohngalvanikbetriebes nachzustellen:
1 . Mild alkalisches Entfetten in 10 g/L Na2C03, 5 g/L Natriumpyrophos- phat und 5 g/L Netzmittel bei 70 °C über 3 Minuten,
2. Spülen in Stadtwasser, 3. Dekapieren in 5%iger HF bei Raumtemperatur über 10 Sekunden,
4. Spülen in Stadtwasser,
5. Stromloses neutrales Verkupfern in 200 g/L Gardobond® CU 7602 ohne Schwefelsäure, aber mit 10-fach erhöhter Menge an Glanzbildner, bei pH-Werten im Bereich von 6,5 bis 7 und 30 °C über 30 Sekunden,
6. Spülen in Stadtwasser,
7. Saures Glanzverkupfern bei 2 A/dm2 und 35 °C über 15 Minuten.
Die aufgetragene Sperrschicht hatte unabhängig von der Teilegeometrie eine Schichtstärke zwischen 0,3 und 0,4 pm, wobei sich die Verkupferung gleichmäßig über die Werkstückoberflächen verteilte. Die Sperrschichten waren sehr duktil, porenfrei, feinkristallin und frei von inneren Schichtspannungen. Die erfindungsgemäß mit der Kupfersperrschicht beschichteten Zinkdruckgußteile zeigten eine hohe Haftung und deutlich glänzende Oberfläche, ohne dass eine Glanzkupferschicht aufgebracht worden war. Die Kupfersperrschichten konnte mit dem Fingernagel nicht abgekratzt werden. Der Gitterschnitt-Haftungstest wurde mit GT0 bestanden. Ein Biegen der Teile über 90° war ohne Schichtabplatzungen an der Biegeinnen- und Biegeaußenkante möglich.
Anschließend wurden die Zinkdruckgußteile in einem konventionellen sau- ren Hochglanz-Kupferbad bei 2 A/dm2 bei einer Temperatur von 35 °C über 15 Minuten galvanisch glanzverkupfert. Die Zinkdruckgußteile, die zuvor mit der erfindungsgemäß aufgebrachten Sperrschicht versehen worden waren, zeigten eine hochglänzende Glanzkupferschicht, die eine ausgezeichnete Haftung besaß, was durch Gitterschnitt- und Biegetests bestätigt wurde. Durch die Verwendung von Leitungswasser anstelle des beim konventionellen verwendeten, cyanidischen, galvanischen Verkupferungsprozess nötigen VE-Wassers konnten mit dem erfindungsgemäßen Verfahren außerdem die Spülwasserkosten um mehr als 60 % reduziert werden. Bei der erfindungsgemäßen Behandlung der verschiedenartigen Teile nach dem Verfahren des Beispiels 14 ergaben sich bei allen Teilen die gleichen hochwertigen Eigenschaften wie bei den Beispielen 1 .
Alle Eigenschaften aller Kupferschichten waren hochwertig und einwandfrei. Die Verfahren verliefen ebenfalls besonders schnell, einfach, kostengünstig, ohne größeren Energieaufwand und problemlos. Außerdem wurde ein Beizangriff und eine Sudabscheidung durch das saure Glanzkupferbad auf das Grundmaterial vermieden.
Vergleichsbeispiel 15 zur Verkupferung von Zinkdruckgußteilen ohne Sperr- Schicht:
Gleichartige Zinkdruckgußteile wie in Beispiel 14 wurden wie in Beispiel 14 behandelt, wobei jedoch die stromlose Verkupferung im Tauchbad ersatzlos weggelassen wurde, so dass keine Sperrschicht ausgebildet wurde.
Diese Zinkdruckgußteile zeigten nach dem Glanzverkupferungsprozess kei- ne abgeschiedene Kupferschicht. Da keine Sperrschicht vorhanden war, wurde die metallische Oberfläche während der Galvanisierung im sauren Glanzkupferelektrolyten sehr stark angebeizt, was eine Metallabscheidung bei der galvanischen Verkupferung unmöglich machte. Außerdem wurden alle Werkstücke durch sehr starkes Beizen zerstört. Durch den Eintrag von Zink-Fremdionen in den Elektrolyten führte dies zur Beeinträchtigung und schließlich zur Zerstörung des Glanzkupferelektolyten.
Vergleichsbeispiel 16 zur konventionellen alkalischen cvanidischen Verkupferung von Zinkdruckgußteilen:
Es wurden gleichartige Zinkdruckgußteile wie in Beispiel 14 beschichtet, jedoch wurde die stromlose Tauchbadbehandlung durch einen konventionellen alkalischen cyanidischen Verkupferungsprozess bei 1 A/dm2 und 55 °C über 5 Minuten ersetzt, um den Fertigungsprozess für Zinkdruckgußteile nach dem Stand der Technik nachzustellen.
Die aufgetragene Sperrschicht hatte abhängig von der Teilegeometrie eine Schichtstärke zwischen 0 und 3,9 pm, wobei sich die Verkupferung un- gleichmäßig je nach Anodenabstand und dementsprechend zunehmender Stromdichte über die Werkstückoberflächen verteilte. Aufgrund des Fara- day'schen Käfigs und der Teilegeometrie ergab sich an Stellen, die nicht mit dem nötigem Strom für die Abscheidung von Kupfer aus cyanidischen galvanischen Elektrolyten erreicht werden konnten, keine Kupferabscheidung. Außerdem waren die aufgetragenen Sperrschichten duktil, fast porenfrei, kristallin und zeigten leichte innere Zug-Schichtspannungen. Die mit einer Kupfersperrschicht beschichteten Zinkdruckgußteile zeigten eine hohe Haftung, aber nach der cyanidischen galvanischen Verkupferung eine matte Oberfläche ohne Glanz, da noch keine Glanzkupferschicht aufgebracht wor- den war. Die Kupfersperrschichten konnte mit dem Fingernagel nicht abgekratzt werden. Der Gitterschnitt-Haftungstest wurde mit GTO bestanden. Auch ein Biegen der Teile über 90° war ohne Schichtabplatzungen an der Biegeinnen- und Biegeaußenkante möglich.
Anschließend wurden die Zinkdruckgußteile in einem konventionellen sau- ren Hochglanz-Kupferbad bei 2 A/dm2 bei einer Temperatur von 35 °C über 15 Minuten galvanisch glanzverkupfert. Auffallend war, dass an Stellen, die aufgrund der Teilegeometrie und des Faraday'schen Käfigs nicht mit einer Kupfersperrschicht versehen worden waren, gleich nach dem Eintauchen in das galvanische Glanzverkupferungsbad ein Gasen begann. Hier erfolgte durch die saure Lösung des Glanzkupferbades ein Beizangriff auf das Grundmaterial. Er führte zu dessen Zerstörung. Nach größerem Durchsatz führte der Eintrag von Zink-Fremdionen zur Zerstörung des sauren Glanzkupferbades. Die Zinkdruckgußteile, die zuvor mit einer Kupfersperrschicht versehen worden waren, zeigten eine hochglänzende Kupferschicht, die ei- ne ausgezeichnete Haftung besaß. Das wurde durch Gitterschnitt- und Biegetests bestätigt.
Durch die Verwendung von VE-Wasser anstelle des beim erfindungsgemäßen Verfahren mit Gardobond® CU 7602 verwendeten günstigeren Stadt- wassers konnten auch hier hochglänzende fehlerfreie Glanzkupferschichten mit hervorragender Haftung abgeschieden werden.
Dieser Verfahrensgang ist außerdem belastender sowie aufgrund von mehr Prozessschritten, deutlich längeren Galvanisierzeiten und deutlich erhöhtem Energieaufwand viel aufwändiger als bei einem erfindungsgemäßen Verfah- rensgang.
Erfindungsgemäßes Beispiel 17 und Vergleichsbeispiele 17 und 17a zu verzinkten Stahlblechen:
Zinkbeschichtete Stahlblechabschnitte wurden nach den Verfahren wie bei den erfindungsgemäßen Beispielen und Vergleichsbeispielen 14 bis 16 be- handelt.
Es zeigte sich, dass mit einer Zusammensetzung auf Basis des Produkts Gardobond® CU 7602 stromlos auf einfache und schnelle Weise hervorragende Ergebnisse erzielt werden konnten: Die Kupferschichten waren haftfest, deutlich glänzend und hervorragend zur Weiterverarbeitung geeignet. Wenn jedoch statt dessen eine cyanidische elektrolytische Verkupferung nach dem Stand der Technik eingesetzt wurde (Vergleichsbeispiel 17), war mit diesem umweltunfreundlichen giftigen Verfahren eine gute Verkupferung mit erhöhtem Aufwand zu erzielen, die haftfeste matte und gut weiterverar- beitbare Kupferschichten ergab. Die Haftung der aufgetragenen Schichten wurde durch Gitterschnitt-, Wisch- und Biegetests nach DIN EN ISO 2409, nach DIN EN ISO 1519 bzw. nach ASTM 2794 überprüft. Die Beschichtungen von Beispiel 17 und Vergleichsbeispiel 17 zeigten eine gute Haftung.
Bei der elektrolytischen Verwendung eines sauren Glanzkupferbades (Vergleichsbeispiel 17a) erfolgte aufgrund des niedrigen pH-Werts von etwa 1 ein Beizangriff auf die Verzinkung, die gänzlich aufgelöst und zerstört wurde. Das führte zum Eintrag von Fremdionen in das Verkupferungsbad und führte auch zu dessen starker Verunreinigung. Das Bad konnte daraufhin nicht weiter benutzt werden. Es wurde keine Kupferschicht ausgebildet. Die Blechabschnitte mussten verworfen werden. Dieses Verfahren ist besonders aufwändig und funktioniert nicht.
Erfindungsgemäßes Beispiel 18 zu verschieden zusammengesetzten Ver- kupferungsbädern
Es wurden Verkupferungsbäder wie in Beispiel 1 und 2 angesetzt, aber chemisch in ihrer Zusammensetzung stärker variiert. Es wurden dann Hull- zellenbleche aus Stahl ST2 wie in Beispiel 1 und 2 gereinigt und behandelt.
Tabelle 1 : Variation der Badzusammensetzung und Badeinsatzbedingungen, wobei jeweils die Gesamtmenge z.B. an Kupfer, Schwefelsäure, Glanzbildner bzw. Beizinhibitor angegeben werden
GB^ steht hierbei für Gardobond10 der Chemetall GmbH.
*) Die Versuchszeiten waren zu kurz, um wesentliche Änderungen des Fe2+-Gehalts wahrzunehmen.
Tabelle 1 verdeutlicht die große Bandbreite der chemischen Zusammensetzung und der Badtemperatur der Verkupferungslösung sowie der Behandlungszeiten, um gute Kupferschichten herzustellen. Der pH-Wert konnte bei der Beschichtung von Eisenwerkstoffen zwischen 0, 1 und 1 ohne negative Einflüsse variiert werden, während er bei Zink-reichen Werkstoffen zwischen 6,5 und 7,0 ohne negative Einflüsse variiert werden konnte. Die Badtemperatur konnte ohne negative Einflüsse zwischen 15 und 95 °C variiert werden, wenn die Badzusammensetzung, oder/und die Behandlungszeit angepasst waren. Die Zeitdauer der stromlosen Beschichtung konnte ohne negative Einflüsse zwischen 3 Sekunden und mehr als 30 Minuten variiert werden, wenn die Badzusammensetzung oder/und die Badtemperatur angepasst waren. Die Haftung der aufgetragenen Schichten wurde durch Gitterschnitt-, Wisch- und Biegetests nach DIN EN ISO 2409, nach DIN EN ISO 1519 bzw. nach ASTM 2794 überprüft. Bei allen Beispielen zeigte sich eine gute Haf- tung.
Es zeigte sich bei diesen Versuchen, dass für höhere Konzentrationen insbesondere an Kupfer oder/und an Säure geringere Temperaturen oder/und geringere Beschichtungszeiten ausreichen. Es zeigte sich umgekehrt hierbei, dass für geringere Konzentrationen insbesondere an Kupfer oder/und an Säure höhere Temperaturen oder/und längere Beschichtungszeiten Temperaturen von mindestens 15 °C oder/und Beschichtungszeiten von mindestens einer Minute vorteilhaft sind, um porenfreie und gut haftende Kupferschichten auszubilden. Es war dabei überraschend, wie erfolgreich und flexibel stromlos verkupfert werden konnte. Es zeigten sich dabei immer nicht nur prozesstechnische Vorteile gegenüber Kupferschichten des Standes der Technik, insbesondere bei Hohlkörpern.
Tabelle 2: Tabellarische Daten zu den Beispielen bzw. Vergleichsbeispielen 1 bis 17/17a: *) starker Beizangriff auf die Teile, die aufgrund des Faraday'schen Käfigs keine geschlossene cyanidisch elektrolytisch hergestellte Kupfersperrschicht aufwiesen
Die Schichtdicke beim elektrolytischen Beschichten zeigt eine große Schwankungsbreite, je nachdem, wie sich die Strom dichte aufgrund der vorhandenen Teilegeometrie auf dem Werkstück verteilt und dementsprechend Strom zur Metallab Scheidung zur Verfügung steht.
Eine Dickschicht kann alternativ zur Glanzschicht aufgebracht werden. Dann ergeben sich jedoch deutliche Unterschiede in der Duktilität, der Sprödigkeit, des Glanzgrades sowie der Schichtstärke der elektrolytisch aufgebrachten Schicht.

Claims

Ansprüche:
1 . Verfahren zum Behandeln einer metallischen Oberfläche eines Gegenstandes mit einer wässerigen Verkupferungslösung, dadurch gekennzeichnet, dass auf sauberen metallischen Oberflächen des Gegenstan- des oder nach einer Vorbehandlung auf gereinigten metallischen Oberflächen eine erste Verkupferungslösung, die Cyanid-frei ist und die frei ist von absichtlich zugesetztem starkem Reduktionsmittel, das ein Potenzial mit Werten von weniger als -0,6 V besitzt, oder die frei von absichtlich zugesetztem Reduktionsmittel ist, zur Ausbildung einer ersten Kupferschicht oder Kupferlegierungsschicht als Sperrschicht oder/und als Konduktivschicht stromlos eingesetzt wird.
2. Verfahren nach Anspruch 1 , dadurch gekennzeichnet, dass ein Gegenstand aus einem Eisenwerkstoff, aus Zink, aus einer Zinklegierung o- der/und aus einem Zinnwerkstoff behandelt wird.
3. Verfahren nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, dass Edelstahl-Oberflächen verkupfert werden, wobei zum Beizen vor dem Verkupfern mindestens eine nichtoxidierende Säure zur vorherigen Aktivierung verwendet wird und wobei zum Verkupfern bei Bedarf zusätzlich ein elektrisch leitender Kontakt mit einem unedleren Metall als Edelstahl verwendet wird.
4. Verfahren nach einem der vorstehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass ein Gegenstand aus einem Eisenwerkstoff, aus Zink, aus einer Zinklegierung oder/und aus einem Zinnwerkstoff behandelt wird mit der Maßgabe, dass die erste Verkupferungslösung bei der Behand- lung eines Gegenstands aus Eisen oder Stahl, gegebenenfalls mit Ausnahme von Edelstahl, keinen Komplexbildner enthält.
5. Verfahren nach einem der vorstehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass eine erste Verkupferungslösung Cyanid-frei stromlos für die Ausbildung einer Sperrschicht oder/und einer Konduktivschicht auf einer unedleren metallischen Oberfläche als Kupfer verwendet wird.
6. Verfahren nach einem der vorstehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die erste Verkupferungslösung kein absichtlich zugesetz- tes Reduktionsmittel und keinen starken und gegebenenfalls auch keinen schwachen Komplexbildner enthält mit Ausnahme von aus den Oberflächen herausgelösten oder/und herausgebeizten Ionen.
7. Verfahren nach einem der vorstehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die erste Verkupferungslösung keinen absichtlich zuge- setzten Komplexbildner oder keinen Komplexbildner enthält.
8. Verfahren nach Anspruch 6, dadurch gekennzeichnet, dass die erste Verkupferungslösung Ionen enthält, die Werte des Potenzials im Bereich von -0,4 bis -1 ,8 V aufweisen.
9. Verfahren nach einem der vorstehenden Ansprüche, dadurch gekenn- zeichnet, dass die Verkupferungslösung zur stromlosen Ausbildung der
Sperrschicht oder/und Konduktivschicht mindestens eine Kupferverbindung sowie mindestens einen Glanzbildner, mindestens eine Säure o- der/und mindestens ein Beizmittel enthält.
10. Verfahren nach einem der vorstehenden Ansprüche, dadurch gekenn- zeichnet, dass die Verkupferungslösung zur stromlosen Ausbildung der
Sperrschicht oder/und Konduktivschicht zusätzlich mindestens einen Beizinhibitor und gegebenenfalls auch einen Beizverstärker enthält.
1 1 . Verfahren nach einem der vorstehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die Verkupferungslösung zur stromlosen Ausbildung der Sperrschicht oder/und Konduktivschicht zusätzlich mindestens einen Glanzbildner enthält.
12. Verfahren nach einem der vorstehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass der pH-Wert der ersten Verkupferungslösung für Zinkreiche oder Zinn-reiche metallische Oberflächen im Bereich von 4 bis 8,5 oder für Eisen-reiche metallische Oberflächen bei weniger als 5 liegt.
13. Verfahren nach einem der vorstehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass nach der Ausbildung der Sperrschicht oder/und Konduktivschicht mindestens eine Deckschicht als Glanzschicht elektrolytisch oder mindestens eine Schicht als Dickschicht chemisch oder elektrolytisch aufgebracht wird.
14. Verfahren nach einem der vorstehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass durch Tauchen, Sprühen, Aufwalzen, Aufpinseln, Angießen, durch Schwammauftrag oder/und durch Tamponauftrag stromlos oder/und danach elektrolytisch beschichtet wird.
15. Verfahren nach einem der vorstehenden Ansprüche, dadurch gekenn- zeichnet, dass der mit einer Sperrschicht versehene Gegenstand mindestens eine nachfolgende Oberflächenbehandlung erfährt.
16. Verfahren nach Anspruch 13, dadurch gekennzeichnet, dass der mit einer stromlos hergestellten Kupferschicht versehene Gegenstand mindestens einmal galvanisch behandelt wird, mindestens einmal lackiert oder mit einem Pulverlack oder mit einem kathodischen Tauchlack (KTL) beschichtet wird oder mit einem anderen Gegenstand zusammengefügt wird.
17. Gegenstand mit einer Sperrschicht oder/und einer Konduktivschicht, die nach einem der Ansprüche 1 bis 16 hergestellt ist.
18. Verwendung eines mit einer Sperrschicht oder/und einer Konduktivschicht versehenen Gegenstands, hergestellt nach einem der Ansprüche 1 bis 16, als Draht, Profil, Rohr oder Stange, als Schweißdraht, als Be- schlag, Element oder Verbindungselement, als Element eines Apparates, einer Maschine, eines Haushaltsgeräts, eines Elektroartikels, eines Elektronikartikels oder Spielzeugs, als Schmuckgegenstand, als Element für eine Uhr, als Gehäuse, Gestänge, Halterung, Montageplatte oder Verkleidung, als Element im Apparatebau, Maschinenbau, Automobilbau oder für Verkehrsmittel, als mechanisches Funktionsteil oder für einen zu härtenden metallischen Gegenstand oder als Schraube.
19. Verwendung eines mit einer Konduktivschicht versehenen Gegenstandes zur Herstellung eines elektrisch besser leitenden Gegenstandes, zum konduktiven Aufheizen oder/und zum Härten des metallischen Gegenstandes.
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