EP2526563A1 - Verfahren zum herstellen einer elektrode für eine hochdruckentladungslampe und hochdruckentladungslampe mit mindestens einer derart hergestellten elektrode - Google Patents

Verfahren zum herstellen einer elektrode für eine hochdruckentladungslampe und hochdruckentladungslampe mit mindestens einer derart hergestellten elektrode

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EP2526563A1
EP2526563A1 EP11778853A EP11778853A EP2526563A1 EP 2526563 A1 EP2526563 A1 EP 2526563A1 EP 11778853 A EP11778853 A EP 11778853A EP 11778853 A EP11778853 A EP 11778853A EP 2526563 A1 EP2526563 A1 EP 2526563A1
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EP
European Patent Office
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electrode
discharge lamp
oxide layer
pressure discharge
laser beam
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EP11778853A
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Wolfgang Seitz
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Osram GmbH
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    • H01J2209/02—Manufacture of cathodes

Definitions

  • the present invention relates to a method for producing an electrode for a high-pressure discharge lamp. It also relates to a high-pressure discharge lamp having at least one electrode produced in this way.
  • the emissivity of electrodes of discharge lamps has a decisive influence on the performance and the geometric design of such discharge lamps.
  • the prior art is the pasting with metal powders or mixtures by means of an organic binder and the subsequent sintering or baking to the electrode body.
  • the pasted and sintered layer is mechanically less stable, which can lead to partial crumbling on contact.
  • a method for processing an electrode of a discharge lamp is known.
  • the electrode is oxidized in the region in which it is pinched gas-tight in the neck of a discharge space formed of glass.
  • the oxidation is carried out by chemical routes in normal air atmosphere and ambient air pressure at a temperature between 700 and 1300 K.
  • the oxide layer is then sublimed in a vacuum environment, the temperature during the sublimation between see 1450 K and 1900 K amounts to.
  • ⁇ receives the electrode in said region, a surface with fine roughness, whereby the adhesion of the surface of this electrode portion on Entladungsge- fäßmaterial is reduced. This reduces the risk of cracking in the sealed area of the discharge vessel.
  • the oxide layer also removes any contaminants from the surface of the electrode portion, thereby also reducing adhesion.
  • a discharge lamp in which a rod-shaped tungsten electrode ⁇ range, in a neck of a discharge vessel by a gas tight pinch is introduced and by area, in a discharge space of the discharge vessel extends.
  • the surface of the electrode will bear ⁇ beitet.
  • an oxide layer on the surface In this case, for example, a tungsten trioxide layer can be produced.
  • the oxidized electrode is then heated at about 1200 ° C in egg ⁇ nem hydrogen furnace, springing up in the hydrogen in the water.
  • EP 1 251 548 A1 teaches a method of improving the thermal radiation characteristics of electrodes in a high-pressure discharge lamp of the short arc type.
  • gutters are inserted into the surface of the introduced electrodes.
  • the grooves have a depth that is less than or equal to 12% of the electrode diameter, with the ratio of the depth and spacing of the grooves being greater than or equal to two.
  • a laser device can be used for introducing the grooves.
  • the grooves may be angular or curved, wherein the surface is ground to produce curved grooves and then electrolytically polished in a 10% sodium hydroxide solution. Curved channels can however also be produced by heating to a high temperature in a vacuum, for example by heating the surface at 2000 ° C. for 120 minutes.
  • the object of the present invention is to provide a method for producing an electrode for a high-pressure discharge lamp, with which the highest possible emissivity for the electrodes can be achieved.
  • the surface of the electrode should be as resistant as possible to me ⁇ chanically.
  • the object further consists provide a high pressure discharge lamp with min- least one electrode thus prepared panoramic ⁇ .
  • the present invention is based on the finding that a high emissivity can basically be achieved if the electrode has an improved thermal conductivity. has beautiful emission behavior.
  • the thermal Ab ⁇ radiation behavior can be improved by increasing the surface of the electrode. However, it must be si ⁇ chergues that despite increased surface area of the electrode, the conductivity of the electrode be ⁇ is not impaired.
  • the electrode surface for generating an oxide layer is first coated with a high-energy beam suitable for this purpose, for example an electromagnetic beam, in particular a laser beam or an electron or ion beam.
  • a high-energy beam suitable for this purpose for example an electromagnetic beam, in particular a laser beam or an electron or ion beam.
  • the sweep is carried out in step a) at ⁇ least on a part of the electrode which is not embedded by the assembly of the electrode in the glass bulb of the high pressure discharge lamp in the glass of the glass bulb.
  • the processing on the part of the electrode can be ⁇ be limited, which is for the emission of importance results in a time saving and thus a reductive ⁇ tion of the manufacturing cost.
  • step a) is carried out on the atmosphere, in particular the oxygen-enriched atmosphere. Since the electrode usually consists predominantly of tungsten, ie in particular of doped tungsten, and tungsten is very reactive towards oxygen, it is thus possible to produce tungsten oxide in a simple manner.
  • step b) is carried out at the same time as step a).
  • step c) is preferably carried out in a hydrogen-containing atmosphere, in particular in an argon-hydrogen mixture.
  • a preferred argon-hydrogen mixture is known by the name VARIGON®. This makes it particularly easy to provide the possibility that the oxygen from the tungsten oxide with the hydrogen from the atmosphere in which step c) is performed, connects to water. On the electric ⁇ surfaces are designed the pure metal remains.
  • the electrode comprises preferably tungsten,) tungsten oxide is reduced to pure Wolf ⁇ ram in step c.
  • the coating is preferably carried out in step a) by means of a laser beam device.
  • a laser beam device precisely that part of the electrode surface which is important for the emissivity can be processed with particular precision. Unlike a chemical processing different areas of the electrode surface can be swept under ⁇ different.
  • a further optimization with regard to a high emissivity can be carried out. Scanning with a laser beam device allows a precise setting of a desired emissivity with regard to the adjustable parameters such as energy density, line spacing, focus, and the like.
  • the laser beam device is designed, in particular, to release an energy density which makes it possible to melt, oxidize and sublime at least part of the electrode surface.
  • step a) the laser beam device with a frequency between 1 kHz and 100 kHz, in particular 10 kHz, are clocked.
  • step a) preferably rows with a line spacing between two adjacent lines are preferably interposed on the electrode surface 0.01 and 0.2 mm, in particular 0.1 mm generated.
  • the laser beam device is preferably operated with a laser beam focus between 0.01 and 0.1 mm, in particular 0.02 mm. In this way, the electrode surface can be maximized, whereby at the same time the emissivity of the electrode becomes maximum.
  • the sweep can also be performed with other suitable beam devices such as electron beam or ion beam devices according to a preferred disclosed embodiment of the inventive method step), Runaway ⁇ leads c at a temperature between 700 ° C and 2500 ° C, in particular 2200 ° C.
  • Step a) is preferably carried out at ambient ⁇ temperature, in particular a temperature between 15 ° C and 30 ° C, and ambient pressure.
  • FIG. 1 shows a schematic representation of a high-pressure discharge lamp according to the invention
  • FIG. 2 shows a signal flow graph for an exemplary embodiment of a method according to the invention
  • FIG. 3 shows a section of the anode of the high-pressure discharge lamp illustrated in FIG. 1;
  • FIG. 3 shows a section of the anode of the high-pressure discharge lamp illustrated in FIG. 1;
  • Fig. 4 is a first enlarged view of a first
  • FIG. 5 is a first enlarged view of a second
  • FIG. 6 is an enlarged view of Darge ⁇ presented in Figure 5 Clipping; and FIG. 7 is an enlarged view of the detail shown in FIG.
  • the high-pressure discharge lamp 10 includes a discharge vessel 12 with a dis- charges space 14.
  • a first electrode 16 anode
  • a second electrode 18 extend (cathode).
  • the electrode 16 is melted in the neck 22, the electrode 18 in the neck 20th
  • the electrodes 16, 18 are located on bars 24, 26 which are ge ⁇ preferably forms of tungsten or a tungsten alloy.
  • the electrodes 16, 18 themselves consist of doped tungsten.
  • step 100 at least a part of the surface of the electrode 16 by means of a laser beam coated with ⁇ device.
  • the energy density is so high is that a part of the electric ⁇ surfaces are designed to melt, oxidized and sublimated. This means that a part of the resulting tungsten oxide goes into the gaseous state, another part of the tungsten oxide remains on the electrode surface.
  • Step 120 is preferably carried out in a Sauerstoffangerei ⁇ cherten atmosphere.
  • the laser beam device can be clocked with a frequency between 1 kHz and 100 kHz, in particular 10 kHz.
  • lines with a line spacing between two adjacent lines between 0.01 and 0.2 mm, in particular 0.1 mm are produced on the electrode surface.
  • a TEN OF PREFERRED guiding the laser beam device is operated with a laser beam focus between 0.01 and 0.1 mm, in particular 0.02 mm ⁇ sondere, form.
  • the laser beam device for example, a power between 50 W and 200 W, preferably about 120 W, leave.
  • the sweeping can, for example, at a speed between 10 mm / s and 100 mm / s, in particular 30 mm / s, take place.
  • the temperature temperature can be ambient temperature; the pressure is preferably ambient pressure.
  • a preferred laser beam device is known under the name rofin rsmarker and is operated with Galvo head.
  • the power is in this embodiment ⁇ example about 120 W, whereby a current of about 38 A flows.
  • the sweeping speed is approx. 30 mm / s.
  • the electrode 16 is rotatably mounted, so that the entire circumference can be structured by the laser beam device.
  • the step 120 creates a very rough oxidic surface. This is not defined geometrically, as will be explained in more detail below with reference to the further figures.
  • the electrode 16 is preferably inductively heated in a VARIGON atmosphere.
  • the oxidized parts of the surface are reduced by the existing hydrogen to metallic tungsten and water.
  • the surface is impurity ⁇ free because unlike the prior art, no binder must be used in a Bepastungspens.
  • the E- lektrode has a very good coupling characteristic in the inductive heating, and is mechanically stable, i.e., the electrode surface shows no tendency to crumble ⁇ ERS.
  • Step 140 is preferably carried out at a temperature between 700 ° C and 2500 ° C, in particular 2200 ° C, performed. The method according to the invention ends in step 160.
  • FIG. 3 shows an enlarged view of the area of the surface of the electrode 16 of FIG. 1, in which the shape changes from cylindrical to conical.
  • the magnification is 10: 1.
  • Fig. 4 shows an enlarged view of an off ⁇ section of Fig. 3 in the transition region cylindrical cone -shaped.
  • the magnification is 1: 30.
  • Fig. 5 shows a detail of Fig. 3 in the cylindrical region.
  • FIG. 6 shows an enlarged detail of the illustration in FIG. 5.
  • Ribs can be clearly recognized, the irregularity of the surface falling into the eye. By the irregularity results in a clear increase of the electrode surface, which can be achieved high Emissionsgra ⁇ de.
  • FIG. 7 shows the detail of a rib in the illustration of FIG. 6.
  • the magnification is 1: 1000. This illustration emphasizes the high roughness of the tungsten surface of the electrode.

Abstract

Die vorliegende Erfindung betrifft ein Verfahren zum Herstellen einer Elektrode (16) für eine Hochdruckentladungslampe (10), folgende Schritte umfassend: a) Überstreichen zumindest eines Teils der Elektrodenoberfläche zur Erzeugung einer Oxidschicht (Schritt 120), vorzugsweise mit einem Laserstrahl; b) Zumindest teilweises Sublimieren der in Schritt a) entstehenden Oxidschicht (Schritt 120); und c) Reduzieren der restlichen Oxidschicht (140). Sie betrifft überdies eine Hochdruckentladungslampe (10) mit mindestens einer derart hergestellten Elektrode.

Description

Beschreibung
Verfahren zum Herstellen einer Elektrode für eine Hochdruckentladungslampe und Hochdruckentladungslampe mit mindestens einer derart hergestellten Elektrode
Technisches Gebiet
Die vorliegende Erfindung betrifft ein Verfahren zum Her- stellen einer Elektrode für eine Hochdruckentladungslampe. Sie betrifft überdies eine Hochdruckentladungslampe mit mindestens einer derart hergestellten Elektrode.
Stand der Technik
Der Emissionsgrad von Elektroden von Entladungslampen hat auf die Performance und die geometrische Auslegung derar- tiger Entladungslampen einen entscheidenden Einfluss.
Stand der Technik ist das Bepasten mit Metallpulvern oder Stoffgemengen mittels eines organischen Binders und das darauf folgende Einsintern beziehungsweise Anbacken an den Elektrodenkörper. Allerdings ist die bepastete und eingesinterte Schicht mechanisch wenig beständig, was zu einem teilweisen Abbröckeln bei Berührung führen kann.
Aus der WO 2008/090030 AI ist ein Verfahren zum Bearbeiten einer Elektrode einer Entladungslampe bekannt. Dabei wird die Elektrode in dem Bereich oxidiert, in dem sie im Hals eines aus Glas gebildeten Entladungsraums gasdicht eingequetscht ist. Die Oxidation erfolgt auf chemischen Wege bei normaler Luftatmosphäre und Umgebungsluftdruck bei einer Temperatur zwischen 700 und 1300 K. Die Oxidschicht wird anschließend in einer Vakuumumgebung subli- miert, wobei die Temperatur während des Sublimierens zwi- sehen 1450 K und 1900 K beträgt. Durch diese Vorgehens¬ weise erhält die Elektrode in dem genannten Bereich eine Oberfläche mit feiner Rauigkeit, wodurch die Haftung der Oberfläche dieses Elektrodenabschnitts am Entladungsge- fäßmaterial reduziert wird. Dadurch reduziert sich die Gefahr der Rissbildung im abgedichteten Bereich des Entladungsgefäßes. Während des Sublimationsschritts werden mit der Oxidschicht auch etwaige Verunreinigungen von der Oberfläche des Elektrodenabschnitts entfernt, wodurch die Haftung ebenfalls reduziert wird.
Aus der US 6,626,725 Bl ist eine Entladungslampe bekannt, bei der eine stabförmige Elektrode aus Wolfram bereichs¬ weise in einen Hals eines Entladungsgefäßes durch eine gasdichte Quetschung eingebracht ist und sich bereichs- weise in einen Entladungsraum des Entladungsgefäßes erstreckt. Um eine Rissbildung des Entladungsgefäßes im Quetschungsbereich im Betrieb der Entladungslampe verhindern zu können, wird die Oberfläche der Elektrode bear¬ beitet. Zur Erzeugung einer elementaren Wolframschicht an der Oberfläche der Elektrode in dem Längenbereich, in dem die Elektrode im Quetschbereich angeordnet ist, wird zu¬ nächst eine Oxidschicht auf der Oberfläche erzeugt. Dabei kann beispielsweise eine Wolframtrioxidschicht erzeugt werden. Um die elementare Wolframschicht zu erzeugen, wird dann die oxidierte Elektrode bei etwa 1200°C in ei¬ nem Wasserstoffofen, in dem Wasserstoff in Wasser aufsprudelt, erhitzt.
Die EP 1 251 548 AI lehrt ein Verfahren, um die thermischen Strahlungseigenschaften von Elektroden in einer Hochdruckentladungslampe vom Kurzbogentyp zu verbessern. Zu diesem Zweck werden Rinnen in die Oberfläche der E- lektroden eingebracht. Die Rinnen weisen eine Tiefe auf, die kleiner gleich 12 % des Elektrodendurchmessers ist, wobei das Verhältnis aus Tiefe und Abstand der Rinnen größer gleich zwei ist. Zum Einbringen der Rinnen kann eine Laservorrichtung Verwendung finden. Die Rinnen können eckig oder gebogen ausgebildet sein, wobei zur Erzeugung von gebogenen Rinnen die Oberfläche geschliffen wird und anschließend elektrolytisch poliert wird in einer 10- %igen Natriumhydroxidlösung. Gebogene Rinnen können je- doch auch durch Erhitzen auf eine hohe Temperatur in einem Vakuum erzeugt werden, beispielsweise indem die Oberfläche über 120 min bei 2000°C erhitzt wird.
Darstellung der Erfindung
Der vorliegenden Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, ein Verfahren zum Herstellen einer Elektrode für eine Hochdruckentladungslampe bereitzustellen, mit dem sich ein möglichst hoher Emissionsgrad für die Elektroden er¬ zielen lässt. Dabei soll die Oberfläche der Elektrode me¬ chanisch möglichst beständig sein. Die Aufgabe besteht weiterhin darin, eine Hochdruckentladungslampe mit min- destens einer derart hergestellten Elektrode bereitzu¬ stellen.
Diese Aufgaben werden gelöst durch ein Verfahren mit den Merkmalen von Patentanspruch 1 sowie durch eine Hochdruckentladungslampe mit den Merkmalen von Patentan- spruch 14.
Der vorliegenden Erfindung liegt die Erkenntnis zugrunde, dass ein hoher Emissionsgrad grundsätzlich dann realisierbar ist, wenn die Elektrode ein verbessertes thermi- sches Abstrahlverhalten aufweist. Das thermische Ab¬ strahlverhalten lässt sich durch Vergrößerung der Oberfläche der Elektrode verbessern. Dabei muss jedoch si¬ chergestellt werden, dass trotz vergrößerter Oberfläche der Elektrode die Leitfähigkeit der Elektrode nicht be¬ einträchtigt wird.
Erfindungsgemäß wird deshalb zunächst zumindest ein Teil der Elektrodenoberfläche zur Erzeugung einer Oxidschicht mit einem hierfür geeigneten, energiereichen Strahl, bei- spielsweise einem elektromagnetischen Strahl, insbesondere einem Laserstrahl, oder einem Elektronen- oder Ionenstrahl, überstrichen. Durch entsprechende Wahl der Energiedichte wird dabei zumindest ein Teil der entstehenden Oxidschicht bereits sublimiert. Als Zwischenergebnis er- hält man eine Elektrodenoberfläche, die zwar bereits ex¬ trem rau ist, jedoch oxidisch ist, das heißt eine redu¬ zierte Leitfähigkeit aufweist. Aus diesem Grund wird in einem Folgeschritt die nicht sublimierte Oxidschicht zum Metall reduziert. Im Ergebnis entsteht eine extrem raue Oberfläche mit einem hohen Emissionsgrad, wobei der Emis¬ sionsgrad abhängig von der Strukturierung und Oxidation einstellbar ist. Die entstehende Oberfläche ist mecha¬ nisch sehr fest und sehr beständig. Überdies wird im Ge¬ gensatz zur aus dem Stand der Technik bekannten Be- pastungsvariante keine zusätzliche Verunreinigung einge¬ bracht .
Im Gegensatz zur Erzeugung einer Oxidschicht auf chemischem Wege können bei dem erfindungsgemäßen Verfahren auch nur Teilbereiche oxidiert werden. Dies ist insbeson- dere vorteilhaft zum Definieren unterschiedlicher Funktionsbereiche an der Elektrode. Im Vergleich zur definierten Einbringung von Rillen gemäß der Lehre der oben erwähnten EP 1 251 548 AI lässt sich durch das erfindungsgemäße Verfahren eine sehr viel grö¬ ßere Oberfläche erzeugen und damit ein deutlich höherer Emissionsgrad realisieren.
Bevorzugt erfolgt in Schritt a) das Überstreichen zumin¬ dest auf einem Teil der Elektrode, der nach der Montage der Elektrode im Glaskolben der Hochdruckentladungslampe nicht im Glas des Glaskolbens eingebettet ist. Dadurch, dass die Bearbeitung auf den Teil der Elektrode be¬ schränkt werden kann, der für die Emission von Bedeutung ist, ergibt sich eine Zeitersparnis und damit eine Reduk¬ tion der Herstellungskosten. Bevorzugt wird Schritt a) an Atmosphäre, insbesondere Sauerstoffangereicherter Atmo- sphäre, durchgeführt. Da die Elektrode üblicherweise überwiegend aus Wolfram besteht, d.h. insbesondere aus dotiertem Wolfram, und Wolfram sehr reaktionsfreudig gegenüber Sauerstoff ist, lässt sich so auf einfache Weise Wolframoxid erzeugen. Weiterhin bevorzugt wird Schritt b) zeitgleich mit Schritt a) ausgeführt. Beim Überstreichen geht daher ein Teil des Wolframoxids durch Sublimation bereits in den gasförmigen Zustand über, während ein anderer Teil des Wolframoxids auf der Oberfläche der Elektrode verbleibt. Schritt c) wird bevorzugt in einer wasserstoffhaltigen Atmosphäre, insbesondere in einem Argon-Wasserstoff- Gemisch, ausgeführt. Ein bevorzugtes Argon-Wasserstoff- Gemisch ist unter der Bezeichnung VARIGON® bekannt. Dadurch wird besonders einfach die Möglichkeit bereitge- stellt, dass sich der Sauerstoff aus dem Wolframoxid mit dem Wasserstoff aus der Atmosphäre, in der Schritt c) durchgeführt wird, zu Wasser verbindet. Auf der Elektro¬ denoberfläche bleibt das reine Metall übrig.
Wie bereits ausgeführt, umfasst die Elektrode bevorzugt Wolfram, wobei in Schritt c) Wolframoxid zu reinem Wolf¬ ram reduziert wird.
Bevorzugt erfolgt das Überstreichen in Schritt a) mittels einer Laserstrahlvorrichtung. Dadurch kann besonders präzise genau der Teil der Elektrodenoberfläche bearbeitet werden, der für den Emissionsgrad von Bedeutung ist. Im Gegensatz zu einer chemischen Bearbeitung können unterschiedliche Bereiche der Elektrodenoberfläche unter¬ schiedlich überstrichen werden. Durch Variation der auf der Elektrodenoberfläche mittels der Laserstrahlvorrich- tung verursachten Modifikationen kann eine weitere Optimierung im Hinblick auf einen hohen Emissionsgrad vorgenommen werden. Ein Überstreichen mittels Laserstrahlvorrichtung erlaubt im Hinblick auf die einstellbaren Parameter wie Energiedichte, Zeilenabstand, Focus, und der- gleichen, eine präzise Einstellung eines gewünschten Emissionsgrads .
Die Laserstrahlvorrichtung ist in diesem Zusammenhang insbesondere ausgelegt, eine Energiedichte freizusetzen, die ein Schmelzen, Oxidieren sowie Sublimieren zumindest eines Teils der Elektrodenoberfläche ermöglicht.
Dabei kann in Schritt a) die Laserstrahlvorrichtung mit einer Frequenz zwischen 1 kHz und 100 kHz, insbesondere 10 kHz, getaktet werden. In Schritt a) werden bevorzugt auf der Elektrodenoberfläche bevorzugt Zeilen mit einem Zeilenabstand zwischen zwei benachbarten Zeilen zwischen 0,01 und 0,2 mm, insbesondere 0,1 mm, erzeugt. Bevorzugt wird die Laserstrahlvorrichtung mit einem Laserstrahlfokus zwischen 0,01 und 0,1 mm, insbesondere 0,02 mm, betrieben. Auf diese Weise lässt sich die Elektrodenober- fläche maximieren, wodurch gleichzeitig der Emissionsgrad der Elektrode maximal wird.
Alternativ kann das Überstreichen auch mit anderen geeignete Strahlvorrichtungen erfolgen, wie z.B. Elektronenoder Ionenstrahlvorrichtungen Gemäß einer bevorzugten Aus führungs form des erfindungsgemäßen Verfahrens wird Schritt c) bei einer Temperatur zwischen 700°C und 2500°C, insbesondere 2200°C, durchge¬ führt. Schritt a) hingegen wird bevorzugt bei Umgebungs¬ temperatur, insbesondere einer Temperatur zwischen 15°C und 30 °C, und Umgebungsdruck durchgeführt.
Weitere bevorzugte Aus führungs formen ergeben sich aus den Unteransprüchen .
Die mit Bezug auf das erfindungsgemäße Verfahren vorge¬ stellten bevorzugten Aus führungs formen und deren Vorteile gelten entsprechend, soweit anwendbar, für die erfindungsgemäße Hochdruckentladungslampe mit mindestens einer derart hergestellten Elektrode.
Kurze Beschreibung der Zeichnungen
Im Nachfolgenden werden Ausführungsbeispiele der vorlie- genden Erfindung unter Bezugnahme auf die beigefügten Zeichnungen näher beschrieben. Es zeigen: Fig. 1 in schematischer Darstellung eine erfindungsgemäße Hochdruckentladungslampe ;
Fig. 2 einen Signalflussgraphen für ein Ausführungsbeispiel eines erfindungsgemäßen Verfahrens; Fig. 3 einen Ausschnitt der Anode der in Fig. 1 dargestellten Hochdruckentladungslampe ;
Fig. 4 eine erste vergrößerte Darstellung eines ersten
Ausschnitts der in Fig. 3 dargestellten Elektrodenoberfläche ; Fig. 5 eine erste vergrößerte Darstellung eines zweiten
Ausschnitts der in Fig. 3 dargestellten Elektrodenoberfläche ;
Fig. 6 eine vergrößerte Darstellung des in Fig. 5 darge¬ stellten Ausschnitts; und Fig. 7 eine vergrößerte Darstellung des in Fig. 6 dargestellten Ausschnitts.
Bevorzugte Ausführung der Erfindung
In Fig. 1 ist schematisch ein Ausschnitt einer Hochdruckentladungslampe 10 dargestellt. Die Hochdruckentladungs¬ lampe 10 umfasst ein Entladungsgefäß 12 mit einem Entla- dungsraum 14. In den Entladungsraums 14 erstrecken sich eine erste Elektrode 16 (Anode) und eine zweite Elektrode 18 (Kathode) . An den im Querschnitt oval ausgebildeten Mittelteil des Entladungsgefäßes 12 schließen zwei dia¬ metral gegenüberliegende Hälse 20, 22 an. Die Elektrode 16 ist im Hals 22 eingeschmolzen, die Elektrode 18 im Hals 20. Die Elektroden 16, 18 sind auf Stäben 24, 26 angeordnet, die bevorzugt aus Wolfram oder einer Wolframlegierung ge¬ bildet sind. Die Elektroden 16, 18 selbst bestehen aus dotiertem Wolfram. Das erfindungsgemäße Verfahren wird am Beispiel der E- lektrode 16, das heißt der Anode, näher dargestellt. Selbstverständlich sind Aus führungs formen denkbar, in denen überdies die Kathode entsprechend dem erfindungsgemä¬ ßen Verfahren bearbeitet wird. Das Verfahren beginnt im Schritt 100. Im Schritt 120 wird zumindest ein Teil der Oberfläche der Elektrode 16 mit¬ tels einer Laserstrahlvorrichtung überstrichen. Die Energiedichte ist dabei so hoch, dass ein Teil der Elektro¬ denoberfläche schmilzt, oxidiert sowie sublimiert. Das bedeutet, dass eine Teil des entstehenden Wolframoxids in den gasförmigen Zustand übergeht, ein anderer Teil des Wolframoxids auf der Elektrodenoberfläche verbleibt. Schritt 120 wird bevorzugt in einer Sauerstoffangerei¬ cherten Atmosphäre durchgeführt. Die Laserstrahlvorrich- tung kann mit einer Frequenz zwischen 1 kHz und 100 kHz, insbesondere 10 kHz getaktet werden. Bevorzugt werden auf der Elektrodenoberfläche Zeilen mit einem Zeilenabstand zwischen zwei benachbarten Zeilen zwischen 0,01 und 0,2 mm, insbesondere 0,1 mm erzeugt. Bei einer bevorzug- ten Aus führungs form wird die Laserstrahlvorrichtung mit einem Laserstrahlfokus zwischen 0,01 und 0,1 mm, insbe¬ sondere 0,02 mm, betrieben. Die Laserstrahlvorrichtung kann beispielsweise eine Leistung zwischen 50 W und 200 W, bevorzugt ca. 120 W, abgeben. Das Überstreichen kann beispielsweise mit einer Geschwindigkeit zwischen 10 mm/s und 100 mm/s, insbesondere 30 mm/s, erfolgen. Die Tempe- ratur kann Umgebungstemperatur sein; der Druck ist bevorzugt Umgebungsdruck.
Eine bevorzugte Laserstrahlvorrichtung ist unter der Bezeichnung rofin rsmarker bekannt und wird mit Galvokopf betrieben. Die Leistung beträgt bei diesem Ausführungs¬ beispiel ca. 120 W, wodurch ein Strom von ca. 38 A fließt. Die Überstreichgeschwindigkeit beträgt ca. 30 mm/s.
Bevorzugt ist die Elektrode 16 drehbar gelagert, so dass durch die Laserstrahlvorrichtung der gesamte Umfang strukturiert werden kann.
Durch den Schritt 120 entsteht eine sehr raue oxidische Oberfläche. Diese ist geometrisch nicht definiert, wie weiter unten mit Bezug auf die weiteren Figuren noch nä- her erläutert werden wird.
In Schritt 140 wird die Elektrode 16 in einer VARIGON- Atmosphäre bevorzugt induktiv erhitzt. Dadurch werden die oxidierten Teile der Oberfläche durch den vorhandenen Wasserstoff zu metallischem Wolfram und Wasser reduziert. Im Ergebnis erhält man eine metallische, sehr raue Elekt¬ rodenoberfläche mit über den Behandlungsgrad einstellba¬ rem Emissionsgrad. Die Oberfläche ist verunreinigungs¬ frei, da im Gegensatz zum Stand der Technik kein Binder in einem Bepastungsprozess verwendet werden muss. Die E- lektrode weist ein sehr gutes Einkoppelverhalten beim induktiven Erwärmen auf und ist mechanisch stabil, das heißt die Elektrodenoberfläche zeigt keine Tendenz abzu¬ bröckeln. Schritt 140 wird bevorzugt bei einer Temperatur zwischen 700°C und 2500°C, insbesondere 2200°C, durchge- führt. Das erfindungsgemäße Verfahren endet im Schritt 160.
Durch das erfindungsgemäße Verfahren lassen sich Elektro¬ den mit einem Emissionsgrad der erzeugten Oberfläche von bis 0,6 erzeugen. Damit wird der Bereich, der im Stand der Technik mit Bepastung erreicht werden konnte, sogar geringfügig übertroffen.
Fig. 3 zeigt eine vergrößerte Aufnahme des Bereichs der Oberfläche der Elektrode 16 von Fig. 1, bei dem die Form von zylindrisch in kegelförmig übergeht. Die Vergrößerung beträgt 10 : 1. Man erkennt deutlich die Spuren der Laserbearbeitung, insbesondere auch die Überlappungsberei¬ che der Laserstruktur, die dadurch entstanden sind, dass der Strahl beim Aufbringen der parallelen Linien in dem kegeligen Bereich der Elektrode 16 ausgelaufen ist. Fig. 4 zeigt eine vergrößerte Darstellung eines Aus¬ schnitts von Fig. 3 im Übergangsbereich zylindrischkegelförmig. Die Vergrößerung beträgt 1 : 30. Bei derselben Vergrößerung zeigt Fig. 5 einen Ausschnitt von Fig. 3 im zylindrischen Bereich. Bei weiterer Vergrößerung auf den Faktor 1 : 200 zeigt Fig. 6 einen vergrößerten Ausschnitt der Darstellung in Fig. 5. Es sind deutlich Rippen zu erkennen, wobei die Unregelmäßigkeit der Oberfläche ins Auge fällt. Durch die Unregelmäßigkeit ergibt sich eine deutlich Vergrößerung der Elektrodenoberfläche, wodurch sich hohe Emissionsgra¬ de erzielen lassen.
Fig. 7 schließlich zeigt das Detail einer Rippe der Darstellung von Fig. 6. Die Vergrößerung beträgt 1 : 1000. Diese Darstellung unterstreicht die hohe Rauigkeit der Wolframoberflache der Elektrode.

Claims

Ansprüche
Verfahren zum Herstellen einer Elektrode (16) für eine Hochdruckentladungslampe (10), folgende Schritte um¬ fassend:
a) Überstreichen zumindest eines Teils der Elektro¬ denoberfläche zur Erzeugung einer Oxidschicht (Schritt 120) ;
b) Zumindest teilweises Sublimieren der in Schritt a) entstehenden Oxidschicht (Schritt 120) ; und
c) Reduzieren der restlichen Oxidschicht (140) . 2. Verfahren nach Anspruch 1,
dadurch gekennzeichnet,
dass in Schritt a) das Überstreichen zumindest auf einem Teil der Elektrode erfolgt, der nach der Montage der Elektrode im Glaskolben der Hochdruckentladungs- lampe nicht im Glas des Glaskolbens eingebettet ist
(Schritt 120) .
3. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 oder 2,
dadurch gekennzeichnet,
dass Schritt a) an Atmosphäre, insbesondere sauer- stoffangereicherter Atmosphäre, durchgeführt wird
(Schritt 120) .
Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet,
dass Schritt b) zeitgleich mit Schritt a) ausgefüh wird (Schritt 120) .
5. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet,
dass Schritt c) in einer wasserstoffhaltigen Atmosphäre, insbesondere in einem Argon-Wasserstoff-Gemisch, ausgeführt wird (Schritt 140) .
Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet,
dass die Elektrode (16) Wolfram umfasst, wobei Schritt c) Wolframoxid zu reinem Wolfram reduz wird (Schritt 140) .
Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet,
dass das Überstreichen in Schritt a) mittels einer Laserstrahl-, Elektronenstrahl- oder Ionenstrahlvor- richtung erfolgt (Schritt 120) . 8. Verfahren nach Anspruch 7,
dadurch gekennzeichnet,
dass die Laserstrahl-, Elektronenstrahl- bzw. Ionen- strahlvorrichtung ausgelegt ist, eine Energiedichte freizusetzen, die ein Schmelzen, Oxidieren sowie Sub- limieren zumindest eines Teils der Elektrodenoberflä¬ che ermöglicht.
9. Verfahren nach einem der Ansprüche 7 oder 8,
dadurch gekennzeichnet,
dass in Schritt a) die Laserstrahlvorrichtung mit ei- ner Frequenz zwischen 1 kHz und 100 kHz, insbesondere
10 kHz, getaktet wird (Schritt 120) . Verfahren nach einem der Ansprüche 7 bis 9,
dadurch gekennzeichnet,
dass in Schritt a) auf der Elektrodenoberfläche Zeilen mit einem Zeilenabstand zwischen zwei benachbarten Zeilen zwischen 0,01 und 0,2 mm, insbesondere 0,1 mm, erzeugt werden (Schritt 120) .
11. Verfahren nach einem der Ansprüche 7 bis 10,
dadurch gekennzeichnet,
dass die Laserstrahlvorrichtung mit einem Laserstrahl- fokus zwischen 0,01 und 0,1 mm, insbesondere 0,02 mm, betrieben wird.
12. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche,
dadurch gekennzeichnet,
dass Schritt c) bei einer Temperatur zwischen 700°C und 2500°C, insbesondere 2200°C, durchgeführt wird
(Schritt 140) .
13. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche,
dadurch gekennzeichnet,
dass Schritt a) bei Umgebungstemperatur, insbesondere einer Temperatur zwischen 15°C und 30°C, und Umgebungsdruck durchgeführt wird (Schritt 120) .
Hochdruckentladungslampe (10) mit mindestens einer E- lektrode (16), die durch folgende Schritte hergestellt wurde :
a) Überstreichen zumindest eines Teils der Elek¬ trodenoberfläche zur Erzeugung einer Oxidschicht (Schritt 120) ; b) Zumindest teilweises Sublimieren der in Schritt a) entstehenden Oxidschicht (Schritt 120) ; und
c) Reduzieren der restlichen Oxidschicht (Schritt 140) .
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE721503C (de) 1940-03-14 1942-06-08 Aeg Hochdruckentladungslampe mit Wasserstoffuellung
DE4206002A1 (de) 1992-02-27 1993-09-02 Philips Patentverwaltung Verfahren zum erzeugen eines musters in der oberflaeche eines werkstuecks
JP3283116B2 (ja) 1993-08-31 2002-05-20 株式会社東芝 酸化物陰極の製造方法
EP0903771B1 (de) * 1997-09-19 2004-03-03 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Hochdruckentladungslampe und Verfahren zur Herstellung derselben
US6626725B1 (en) 2000-05-08 2003-09-30 Welch Allyn, Inc Electrode treatment surface process for reduction of a seal cracks in quartz
JP4512968B2 (ja) * 2000-08-03 2010-07-28 ウシオ電機株式会社 ショートアーク型高圧放電ランプ
AT5322U1 (de) * 2001-05-11 2002-05-27 Plansee Ag Verfahren zur herstellung einer hochdruck-entladungslampe
JP3648184B2 (ja) * 2001-09-07 2005-05-18 株式会社小糸製作所 放電ランプアークチューブおよび同アークチューブの製造方法
JP4427391B2 (ja) 2003-09-24 2010-03-03 東芝ライテック株式会社 高圧放電ランプおよび高圧放電ランプの製造方法
DE10360545A1 (de) 2003-12-22 2005-07-14 Patent-Treuhand-Gesellschaft für elektrische Glühlampen mbH Elektrode für eine Hochdruckentladungslampe
JP4453487B2 (ja) * 2004-08-24 2010-04-21 岩崎電気株式会社 高圧放電ランプの酸素封入方法
JP4509754B2 (ja) * 2004-12-02 2010-07-21 株式会社小糸製作所 放電ランプ装置用アークチューブおよび同アークチューブの製造方法
JP4815839B2 (ja) * 2005-03-31 2011-11-16 ウシオ電機株式会社 高負荷高輝度放電ランプ
DE102007003486A1 (de) * 2007-01-24 2008-07-31 Patent-Treuhand-Gesellschaft für elektrische Glühlampen mbH Verfahren zum Bearbeiten einer Elektrode einer Entladungslampe
DE102007015243A1 (de) * 2007-03-29 2008-10-02 Osram Gesellschaft mit beschränkter Haftung Glühlampe mit strukturiertem Leuchtkörper
JP4636156B2 (ja) 2008-10-01 2011-02-23 ウシオ電機株式会社 ショートアーク型放電ランプ
JP4872999B2 (ja) 2008-12-01 2012-02-08 ウシオ電機株式会社 高圧放電ランプ

Non-Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
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