EP1510600A1 - Verfahren und Vorrichtung zum Abscheiden von Metallen und Metalllegierungen aus Metallorganischen Elektrolyten - Google Patents
Verfahren und Vorrichtung zum Abscheiden von Metallen und Metalllegierungen aus Metallorganischen Elektrolyten Download PDFInfo
- Publication number
- EP1510600A1 EP1510600A1 EP03019235A EP03019235A EP1510600A1 EP 1510600 A1 EP1510600 A1 EP 1510600A1 EP 03019235 A EP03019235 A EP 03019235A EP 03019235 A EP03019235 A EP 03019235A EP 1510600 A1 EP1510600 A1 EP 1510600A1
- Authority
- EP
- European Patent Office
- Prior art keywords
- solvent
- products
- section
- coating
- lock chamber
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Withdrawn
Links
Images
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D17/00—Constructional parts, or assemblies thereof, of cells for electrolytic coating
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D17/00—Constructional parts, or assemblies thereof, of cells for electrolytic coating
- C25D17/02—Tanks; Installations therefor
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D5/00—Electroplating characterised by the process; Pretreatment or after-treatment of workpieces
- C25D5/003—Electroplating using gases, e.g. pressure influence
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D3/00—Electroplating: Baths therefor
- C25D3/02—Electroplating: Baths therefor from solutions
- C25D3/42—Electroplating: Baths therefor from solutions of light metals
Definitions
- the invention relates to an apparatus and a method for depositing of metals and / or metal alloys of organometallic Electrolytes, in particular of organometallic complex salts in organic solvents, on products, with at least one Coating section for coating the products, at least one another processing section and at least one lock chamber for Injecting and discharging the products into and out of the device in the Essentially without the penetration of oxygen and / or moisture.
- a galvanic deposition of aluminum, magnesium and their Alloys are due to the very low potential of these elements not, as usual in classical electroplating, from aqueous Systems possible.
- aluminum, magnesium and their alloys deposited non-aqueous systems only the deposition could from aluminum or magnesium alkyl-containing complexes in the technical Enforce scale.
- Metal alkyls are known to react very violently with oxygen and water to form reaction products, such as Alkoxy compounds or aluminoxanes. These reaction products are not more capable of further complexes with those in electrolyte formulas to form alkali metals or alkali metal halides used. she remain as soluble impurities in the electrolyte and put back while the electrical conductivity of this down. Also will the maximum applicable current density with increasing concentration of these Reaction products reduced, whereby the coating process its Profitability and possibly its good quality loses.
- DE 41 18 416 A1 discloses a device for coating preferably known relatively thin-sized parts, in which a Coating by placing the parts in juxtaposed Container takes place.
- the containers or baths are in one Inert gas atmosphere.
- When arranging the different baths in one common containers are designed as partitions locks provided that are penetrated by the parts to be treated can. For this purpose is in a penetration area by a pair sealing against each other running around an axis of rotating rollers elastic material facing the adjacent walls of the Sealing container sealed, formed the penetrable partition.
- the present invention is therefore based on the object, a Apparatus and method for depositing metals and / or To create metal alloys from organometallic electrolytes, at which no longer encounter any safety-related problems Solvent emission out of the device and in particular a Reaction of used electrolyte systems with oxygen and Moisture from the ambient atmosphere of the device substantially completely avoided.
- the object is for a device according to the preamble of the claim 1 achieved in that at least one Siphon Why tastes with a Separating device for gas-related delimitation of the other sections of the Device of or sealing these other sections from the Coating section and at least one substantially the Coating section, the at least one Siphon Why tastes, the at least one further processing section substantially tight enclosing provided with an inert gas floodable hood part.
- the object solved by a substantially solvent loss Introducing the products through at least one lock chamber into one Device for depositing metals and / or metal alloys is provided, the products to at least one coating section Essentially under gas seal, the products are delivered in the at least one coating section to be coated, the coated products from the coating section over at least a Siphonêtleaned at least one Ausbowabêt in Substantially be passed under gas seal, and the finished Products discharged via at least one other lock chamber be, with over all sections of the device a InertgasatmosphDCglocke is kept. Further developments of Invention are defined in the dependent claims.
- a slight overpressure to the atmosphere, which the Device surrounds maintains and monitors this.
- Prefers is at least one pressure-maintaining device for maintaining a constant pressure in the hood part and / or such a small Overpressure in the hood part opposite the outside and / or Ambient atmosphere provided. An involuntary intrusion of Outside atmosphere in the device and thus contamination of the Gas atmosphere within the device can thus essentially be avoided.
- a in Maintaining substantially constant pressure, so in particular a slight overpressure relative to the outside atmosphere of Device is preferably at least one gas buffer device provided and with this / these, especially in the first and / or last section connectable or connected.
- Gas buffer devices are thus preferred at the input and output of Device provided because there pressure fluctuations due to Infiltration and removal of the products may occur.
- the Gas buffer devices are filled as soon as one outside one Presettable tolerance lying overpressure in hood section occurs and deflates when outside an adjustable tolerance lying negative pressure in the hood section occurs, for.
- Gas atmosphere is taken from the respective hood section, as for example, for flooding a lock chamber with inert gas.
- At least one oxygen monitoring device is in the at least one lock chamber and / or the sections of the hood part intended. Also preferred is at least one device for Monitoring the solvent concentration in the lock chamber (s) intended. This makes it possible to constantly oxygen and / or Solvent content of the gas atmosphere in the individual sections of the Monitor device. Because the lock chamber (s) for holding a Air or oxygen entry into the device, is after the Injecting products, removing the product with it introduced air and rinsing the chamber with z. B. inert gas of Oxygen content of the lock chamber atmosphere monitored regularly.
- the should Oxygen content within the chamber should be zero, so that a Ingress of oxygen into the hood part as well as the remaining parts of the hood Device can be avoided.
- the discharge of solvent from the Device should also be reduced as possible to zero.
- To the Solvent content in the lock chambers, which is a compound of Represent device to the outside atmosphere to be able to monitor are There also facilities for monitoring the solvent concentration intended.
- the oxygen and / or solvent content a predeterminable and / or adjustable or set threshold value may exceed, an adjustment of the pumping times for the entry and exit of gas in / out of the lock chamber and / or an additional Rinsing phase with an inert gas during pump cycles to reduce the Oxygen content triggered in the at least one lock chamber become. It is then for example a longer pumping cycle for Pumping out the contaminated gas atmosphere provided.
- the InertgasatmosphDCglocke the device can in terms of their Oxygen content to be monitored, with the oxygen content as possible Should be zero. Through these measures can be optimally ensured be that the inert gas atmosphere of the device little or even not contaminated with oxygen, being optimal Coating results and a very high level of safety during the Treatment of the products can be achieved.
- At least one cleaning and / or activation section is preferred for cleaning and / or pretreating the surface of the products and / or at least one export section for discharging the products from the Device provided.
- the at least one Cleaning and / or activation section one or more Lockable treatment tank with a cleaning fluid for Cleaning the products to be coated and / or one Activation fluid for activating the surface thereof or for Generating a primer layer on.
- a cleaning and / or Activation section is advantageous to a cleaning of Crude products possible, with an oxide-free and bright surface on the Products can be produced. This can be an optimal Adhesive strength can be ensured for the subsequent coating.
- a primer layer on the Surface of the product are applied.
- the at least one cleaning and / or activation section at least one at least one treatment tank downstream rinsing device for rinsing the pretreated products and preventing carryover of chemicals from the cleaning and / or Activation section on.
- a Siphon flushing device following the cleaning and / or Activation section that is before the coating section, it is makes sense to provide such a rinse the pretreated products to a carryover of the chemicals from the cleaning and Activation stage in the siphon flushing device and thus in below to prevent the coating electrolyte.
- one is Provided solvent treatment and / or regeneration device and connected to such a flushing device.
- the purified Solvent is in particular again in this flushing device recycled, whereas the purified cleaning liquid or Aktivleitersoder located in the upstream treatment tank other liquid back into these treatment tanks can be returned.
- For cleaning is preferably a Distillation and subsequent provision of the purified Solvent provided.
- the at least one solvent treatment and / or Regeneration device for the cleaning and / or activation section provided in the bypass to this. This is during the Coating or already during the pre-cleaning and also the Aftertreatment step a permanent purification of the solvent and the electrolyte or other cleaning and bath liquids possible.
- At least one lock chamber with a Solvent separation and return device and / or a vapor recovery system connectable or connected.
- At least one is preferred Lock chamber at the entrance of the cleaning and / or activation section and / or at least one lock chamber at the exit of the Exhaust section provided.
- Preference is given to the introduction step the products introduced into the at least one lock chamber, while the Lock chamber filled with external atmosphere, closed and then evacuated, so the outside atmosphere from the chamber and subsequently flooded with inert gas.
- the Products are then in Einschleus Colour in a first Treatment section of the device introduced.
- At the discharge step From the device, these products from the hood atmosphere in the lock chamber introduced, this closed and hood atmosphere pumped out of the lock chamber and into the hood section recycled.
- the lock chamber can subsequently open and the Products are removed. Subsequently, the lock chamber is again closed, the penetrated outside atmosphere dissipated and the chamber flooded with inert gas.
- inert gas particularly preferred is the pumped Schleusenatmosphot treated, with dry inert gas and purified solvent can be recycled to the process, in particular dry inert gas in the inert gas atmosphere bell and purified Solvent in a treatment tank. So the gas swing system includes the pumping of dried inert gas in the hood atmosphere after Pumping out the atmosphere of the lock chamber from the lock chamber.
- the inert gas atmosphere bell is cleaned, in particular by condensing the inert gas atmosphere and recycling the condensed solvent components into the respective circuits, especially treatment tanks.
- at least one Cooling device with Kondensatabscheide noticed for the recovery of entrained and / or evaporated solvent residues provided, in particular in the hood part and / or coating section and / or connected to the at least one lock chamber.
- the respective cooling devices are in the individual Hood sections provided as the evaporating liquids in These individual hood sections are usually different in each case, so that the impurities in the gas atmosphere are also different are. Therefore, there is advantageously a return within the respective hood section.
- the at least one coating section at least a for preventing uncontrolled evaporation of solvent in the hood part closable coating basin.
- the at least one Coating section have at least one Ausbow Kunststoff Kunststoff.
- the Siphon Press drove for separating the individual sections of Device, so in particular the cleaning and / or Activation section, the coating section and the export section is provided, it proves to be advantageous in the Substantially unreactive solvent in these transition areas provided.
- the at least one siphon purging device is therefore preferred filled with an inert solvent. This can cause unwanted chemical reactions between incompatible chemicals essentially avoided from the individual sections of the device become.
- the at least one siphon purging device comprises a closable Doppelteil adopted with an attached Divider wall oriented so that top hood sections be divided.
- the in the rinsing bath of the siphon rinsing device dips can be a gas-tight Separation of various hood sections of the device be created.
- the transport device below the liquid level is positioned. This is a complete immersion ensures the products in the rinse liquid, making this with the preferably rinsed and rinsed washing liquid can cause a carryover of chemicals and / or gas atmosphere a preliminary section in the subsequent section of the device avoid.
- the electrolyte-solvent separator (s) comprise / include a distiller for distilling off solvent from the discharged from the at least one coating tank Electrolytic solvent bath liquid.
- they are preferable Means for recycling the recovered clean solvent into the export sink and / or facilities for returning the Electrolytes provided in the electrolyte circuit.
- Electrolyte fluid and / or solvents are preferably used in the Mainly closed circuits. This will be a Contamination of the remaining baths of the device substantially avoided.
- the purification or treatment of Electrolyte fluid and / or solvent and / or a rinsing fluid for avoiding carryover of chemicals.
- electrolyte fluid and / or cleaning fluid and / or activating fluid also preferred rinses in the various rinsing devices intended.
- These rinsing devices can be used in different places Device and the coating process are provided in particular in the exit region of respective sections of the device.
- the figure shows a schematic diagram as an overall view of a device. 1 for depositing metals and / or metal alloys.
- the device has a cleaning and / or activation section 2, a Coating section 3 and an export section 4 on. Furthermore it has a hood part 5, all three aforementioned sections in Essentially tightly encloses.
- the hood part is divided into three sections 50, 51, 52 divided.
- the three hood sections are by respective ones Partitions 53, 54 delimited against each other.
- the cleaning and / or activation section 2 comprises a first Lock chamber 20, a first treatment tank 21, a second Treatment tank 22 and a sink 23. Also includes the Cleaning and / or activation section a part of a first Siphon purging 60.
- the Siphon Vietnamese Republic 60 is through the Partition 53 divided into two parts, so that they have a Doppel Vietnamese styles formed by the section 2 and the section 3 is accessible, but otherwise forms a diffusion barrier. All Basins or flushing devices are with respective covers 24, 25, 26, 27, 62 closable.
- the lock chamber 20 has a lock door 28 on, which allows a retraction of products in the lock chamber. Preferably, such products are transported by a trolley which is in the figure is not shown, retracted into the lock chamber.
- the lock chamber 20 is provided with a means 70 for recovery of solvent and a vapor recovery system 80.
- the device for the recovery of solvent a cold trap 71, a valve 72, a Kondensatabscheide responded 73 and a line 74 between the Valve 72 and the lock chamber 20, a line 75 between the Cold trap 71 and the Kondensatabscheide responded 73 and a Solvent return line 76 between the Kondensatabscheide responded 73 and the first treatment tank 21.
- the gas swing system 80 comprises a vacuum pump 81, three valves 82, 83, 84 and a line 85 between the lock chamber 20 and the first Valve 82, another line 86 between the valve 82 and the Vacuum pump 81, a line 87 between the vacuum pump 81 and the Valve 83 in the return line to the hood part and another Line 88 between the valve 83 and the hood part 50.
- the line 87 also leads to the valve 84 and from this another line 89 after outside into the outside atmosphere. Through this, air can escape from the device be blown out.
- the solvent treatment and / or Regeneration device comprises a distillation device 91 and a Condensate collection tank 92.
- the distiller is via a conduit 93, which comes from the sink 23, fed.
- a line 94 is provided between the Distiller 91 and the condensate collection tank 92.
- the in the distiller 91st purified cleaning liquid is via a line 95, a Pump 96 and another line 97 into the second treatment tank 22nd recycled. Clean distilled off by the distiller Solvent may be removed from the condensate collection tank 92 via a conduit 98, a pump 99 and a line 100 pumped back to the sink 23 become.
- an overflow line 29 is provided, if necessary in excess returned to the solvent overflow the sink avoid. The excess solvent is then passed over the Overflow line 29 returned to the second treatment tank 22.
- the hood section 50 of the cleaning and / or activation section 2 also comprises a transport device 55 for moving Products 7 between the individual treatment, rinsing and other Pool.
- the transport device has a carriage 56, which is provided in this embodiment with a hook 57 to Attaching the products to be coated 7.
- the hook 57 is included retractable attached to the carriage 56, so that the products on this Hook slowly into the respective baths let in and out of these can be lifted out.
- the hood portion 50 also includes a cooling device 58. These is shown in the figure in the form of a cooling coil. About these Cooling coil can be condensed and condensed in evaporated solvent a collecting device 59 likewise provided in the hood section 50 collect or be caught in it. In the figure is the Tray shown in the form of a gutter. That in the Gutter or catcher 59 collected solvent condensate can via a drain line 101 to the first treatment tank 21st to be led back. Thus, solvent recycling can occur both in the first as well as in the second treatment tank done. It can In principle, even more treatment tanks are provided, the Figure is here only one possible embodiment again. Also is it is possible to provide several sinks; it would be the same in principle possible to provide more than one lock chamber.
- a gas buffer container 120 outside of the hood part. 5 intended.
- the gas buffer container 120 is connected via a line 121 with the Interior of the hood portion 50 connected.
- This line 121 can a two-sided exchange of gas between the gas buffer tank and take the hood section 50. This makes it possible to have a preset overpressure, especially a constant pressure within of the hood section to maintain.
- a first oxygen sensor 122 in FIG Area of the hood portion 50 a second oxygen sensor 123 and a solvent concentration sensor 124 at the lock chamber 20 intended. All sensors can be equipped with a monitoring and Control device (not shown in the figure) to be connected monitor exceeding of set thresholds and, if necessary, Discharge cycles of the lock chamber and a gas exchange targeted adapt.
- the coating section 3 comprises the second part of Siphon Kirnd Road 60, which, as mentioned above, as Double flushing device is formed.
- a transport device 66 provided, in particular, may have a carriage, as shown in the figure is shown.
- a lid 63 of Siphon purging 60 can after transport through the Siphon rinsing the products on the side of the Coating section 3 are removed again.
- the Coating section 3 also has two coating tanks 30, 31 on, as well as an export sink 32 and a first part of another Siphon flushing device 61.
- Each of these basins is provided with a cover 33, 34, 35 and the Siphon Why adopted with a lid 64 on the side the coating section provided.
- a lid 64 on the side the coating section provided.
- each cooling coils 36, 37 and gutters 38, 39 provided to solvent, which in the Coating evaporates from the electrolyte, condense and in particular after the coating tank in the rinse 32 to initiate.
- the coating section 3 is provided with a purification device following the coating basin provided to the electrolyte in the Bypass in an electrolyte-solvent separator 110 purify. This ensures that no significant Quantities of electrolyte are trailed, creating a largely closed material cycle can be generated.
- the electrolyte becomes liquid from the two coating tanks 30, 31 via lines 111 to a distiller 112 out.
- a condensate collection tank 113 is provided, which has a Line 114 is connected to the distillation device 112. Of the Purified electrolyte is added via lines 115, 117 and a pump 116 the coating tank 30 returned.
- the cleaning and / or activation section 2 also has the Coating section 3, a transport device 55 with a Trolley 56 and a hook 57 to the product to be coated. 7 between the individual basins of the coating section transport to be able to.
- a cooling device 58 in the form of a cooling coil and a gutter as a catcher 59 for condensed solvent provided.
- a drain line 104 is the collected condensed solvent to the first coating tank 30 returned.
- the export section 4 comprises the second part of the siphon purging device 61 on. This is, as well as the Siphon réelle Road 60, with a Transport device 67 provided. Over this are the through the lid 64 introduced into the siphon rinsing products to those on the the other side of the partition wall 54 located portion with lid 65 of the Siphon purging 61 transported. The transport takes place, as well as in the rinsing device 60, below the surface of which is in the Siphon rinsing located flushing liquid. This will be an im Substantial complete gas closure during the transport of the products of allows the coating section in the export section.
- the export section also includes a second lock chamber 40 Discharging the coated products from the device.
- the Lock chamber is provided with a lid 41. Besides, she points a lock door 42. Similar to the lock chamber 20 is also the lock chamber 40 with a device 130 for the recovery of Solvent and a gas swing system 140 provided.
- the device for Recovery of solvent is also provided with a cold trap 131, a valve 132 between lock chamber 40 and cold trap 131, a Kondensatabscheide observed 133, a line 134 between valve 132nd and lock chamber 40, a line 135 between Kondensatabscheide observed 133 and cold trap 131 and a Solvent return line 136 between Kondensatabscheide disturbed 133th and Siphon Congress adopted 61 provided.
- the gas swing system 140 includes a vacuum pump 141, three valves 142, 143, 144 and several lines in between.
- a first Line 145 leads from the lock chamber 40 to the first valve 142
- a second conduit 146 leads from the valve 142 to the pump 141. Zu This also leads a line from the cold trap 131, as in the Case of the device 70 between the cold trap 71 and the vacuum pump 81 is the case.
- a line 147 leads to the valve 143 and from this a return line 148 to the hood portion 52nd From the vacuum pump, the line 147 also leads to the valve 144, in particular air from the lock chamber 40 via a Line 149 can be blown outward into the environment.
- the hood portion 52 also includes a transport 55 with a trolley 56 having a hook 57 to products 7th and be able to lower into the individual pelvis.
- Cooling coils 58 as a cooling device and a gutter 59 for Condensed solvent provided by the gutter on a Drain line 105 are returned to the Siphon Jardin Marie adopted 61 can.
- the Ausbowabites 4 is connected to a gas buffer tank 125 and a conduit 126 between the interior of the hood portion 52 and the Gas buffer container 125 provided. This can be ensured that within the export section, as constant a gas pressure as possible is maintained, although z. B. by returning dried Inert gas via the line 145 an overpressure in the hood section of the Exhaust section could occur, as well as a negative pressure in floods the lock chamber 40 with hood atmosphere from the export section after pumping out of external atmosphere following a Removal process finished products from the lock chamber 40th
- first and second oxygen sensors 127, 128 and a solvent concentration sensor 129 are provided.
- the first oxygen sensor 127 is in the upper hood section 52
- the second Oxygen sensor 128 and solvent concentration sensor 129 are on the lock chamber 40 is provided.
- the hood section 51 above the Coating section 3 is provided with such an oxygen sensor 150 Mistake.
- a product to be coated is on the lock door 28 in the first Lock chamber 20 introduced. This is done in particular via a Dolly, which is not shown in the figure.
- the lock chamber Outside atmosphere air
- the valve 82 is opened. As in the lock chamber then Only not contaminated air, this can directly over the Line 89 and the open valve 84 are discharged to the outside.
- the lock chamber with inert gas from the Hood section 50 flooded.
- the inner lid 24, the is arranged between the lock chamber and the hood section 50, opened and the product in the inert gas atmosphere within the Hood portion 50 are introduced.
- the amount of oxygen in the first hood section 50 can penetrate, is very low, since the Lock chamber up to a final pressure of less than 1 to 2 mbar It can be evacuated and it is also possible that Intermediate rinsing with inert gas, in particular nitrogen or argon, be made.
- the amount of gas required for the flooding of the lock chamber, from the Gas atmosphere of the hood section 50 would be removed without Providing the gas buffer container is expected to decrease the Guide pressure in the hood section.
- a constant flow of inert gas, such as nitrogen, must be introduced into the hood section, in which then again oxygen and water traces can be, is the Gas buffer container 120 connected to the hood portion 50, the Pressure in the hood portion 50 due to the possible volume change essentially constant.
- the Solvent concentration is via the solvent concentration sensor 124 supervised.
- the control of oxygen diffusion into the plant is in particular with regard to the life of the electrolyte and the Coating quality useful, but also in terms of general procedural and operational safety of the entire system.
- the lid 24 can be closed again and the Locked atmosphere can be pumped off, wherein an inert gas-solvent mixture is present in the lock atmosphere and pumped out becomes. This is done after opening the valve 72 via the line 74, wherein the solvent-inert gas mixture is passed through the cold trap 71. To the condensation, the obtained dried inert gas over the Vacuum pump 81, the line 87 and the then opened valve 83 and the conduit 88 is returned to the hood portion 50. The inert gas as a purified gas back to the atmosphere in the hood section 50th to provide. The excess gas volume is through Volume increase in the gas buffer container 120 collected, causing the Pressure in the hood portion 50 are kept substantially constant can.
- the resulting condensed solvent is introduced via the line 75 in the Kondensatabscheide Rhein 73 introduced and can in particular recurring periodically the first treatment tank 21 via the Solvent return line 76 are supplied. Subsequently, the evacuated lock chamber again flooded with fresh inert gas and the Door to the outside atmosphere, namely the lock door 28, can again be opened to introduce new products into the device.
- the products in the Treatment tank 21, 22, in particular a cleaning fluid contained, incorporated and pre-cleaned there and in particular a bare oxide-free surface can be generated on these to optimum To ensure adhesion during the subsequent coating.
- a primer layer can be found in this basin be applied.
- the lid 25, 26 are provided, as well as the lid 27 on Sinks, which are preferably opened only when goods or products are introduced and deployed.
- the downstream Sink 23 serves a carryover of chemicals from the Treatment tank 21, 22 in the Siphonêt Road 60 to avoid wherein the carryover into the coating electrolyte in the Basin in the coating section should be avoided.
- the liquid the sink 23 is regularly on the solvent processing and / or Regeneration device 90, which bypasses the cleaning and / or Activation section is switched, processed.
- the partition 53 are the two top hood sections 50 and 51 gas-tight separated from each other, through the double sink of the Siphon purging device 60 but still together to pass through Connected products.
- the liquid is in the Siphon Surprise Roaden identical to that in the coating electrolyte used solvents. To get a reaction with cleaning fluid and / or coating electrolyte as possible to avoid preferably an inert solvent is used.
- the lid 63 of the Siphon purging device 60 After lifting the products through the lid 63 of the Siphon purging device 60 enter this in the coating section. 3 and can be elevated into the coating tanks 30, 31 therein. In addition to the two coating tanks shown in the figure many more are planned, as well as others Export sink 32, wherein in the figure, only one of them is shown. To prevent uncontrolled evaporation of solvents in to avoid the top hood portion 51 are in Normal operation, the lid 63, 33, 34, 35, 64 closed. Preferably The lids are only opened to retract or remove Products from the individual pools.
- the second lock chamber 40th provided, in which the coated product is introduced. This via the lid 41.
- the lock chamber with the finished coated product is also an Abpumpvorgang initiated. This is the recovery of possibly still the coated product adhering solvent residues. This is it possible that the completely coated product dry the Device leaves and essentially no solvent emissions occur. All evaporated during the pumping process and in the Cold trap 131 recondensed and in the Kondensatabscheide adopted 133 collected solvent is added via the line 136 in the Siphon purging 61 returned. Otherwise, the running Ausschleusvorgang according to the Einschleusevorgang in terms of Pumping in and out of sluice atmosphere and inert gas. To the Outward, while the lock door 42 is opened.
- the individual hood sections 50, 51, 52 are flooded with inert gas and at least in the present embodiment via a automatic pressure maintenance system constantly at a low overpressure held against the ambient atmosphere. This will be a Ingress of air into the hood part avoided.
- the oxygen sensors 122, 123, 127, 128, 150 continuously give the oxygen content in the respective gas atmosphere. In case of a detected exceeding of preset thresholds will be with respect to the pumps 81, 141 a Adjustment of the pumping time made or an additional flushing with Inert gas during the pumping cycle in the lock chambers 20, 40th initiated.
- a barrier liquid in particular inert Solvent filled siphon flushing equipment provides another Increasing the barrier effect in this area, especially in combination with the covers 62, 63 and 64, 65, thereby further reducing the Diffusion of oxygen and moisture in the coating section 3 can be made into it.
- the combination of lock chambers, a vacuum system, a vapor recovery system and the Siphon flushing devices ensures a very long service life organometallic coating electrolytes and a consistent Coating quality, since the formation of undesirable Reaction products such as alkoxy compounds or Aluminoxanes are effectively contained or substantially prevented can.
- the cleaning and / or Activation section it is also possible the cleaning and / or Activation section to make smaller or possibly even complete to be dropped.
- the devices have a closed hood atmosphere, which is a substantially dense Bell over the individual stations of the coating device forms, at the same time a constant purification of both the atmosphere and the treatment or coating baths and rinsing baths takes place. This can be done especially easily by guiding the cleaning sections in the Bypass to the respective processing or treatment sections respectively. Alternatively, more complex purification steps or cycles possible.
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Electrochemistry (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
- Manufacture And Refinement Of Metals (AREA)
- Cleaning By Liquid Or Steam (AREA)
- Cleaning And De-Greasing Of Metallic Materials By Chemical Methods (AREA)
- Chemical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
Bei einer Vorrichtung (1) zum Abscheiden von Metallen und/oder Metalllegierungen aus metallorganischen Elektrolyten, insbesondere metallorganischen Komplexsalzen in organischen Lösemitteln, auf Produkten (7), mit zumindest einem Beschichtungsabschnitt (3) zum Beschichten der Produkte (7), zumindest einem weiteren Bearbeitungsabschnitt (2,4) und zumindest einer Schleusenkammer (20,40) zum Ein- und Ausschleusen der Produkte (7) in die und aus der Vorrichtung (1) im Wesentlichen ohne Eindringen von Sauerstoff und/oder Feuchtigkeit sind zumindest eine Siphonspüleinrichtung (60,61) mit einer Trenneinrichtung (53,54) zum gasbezogenen Abgrenzen der anderen Abschnitte (2,4) der Vorrichtung von oder Abdichten dieser anderen Abschnitte (2,4) gegenüber dem Beschichtungsabschnitt (3) und zumindest ein im Wesentlichen den Beschichtungsabschnitt (3), die zumindest eine Siphonspüleinrichtung (60,61) und den zumindest einen weiteren Bearbeitungsabschnitt (2,4) im Wesentlichen dicht umschließendes mit einem Inertgas flutbares Haubenteil (5) vorgesehen. Bei einem entsprechenden Verfahren werden Produkte (7) im Wesentlichen lösemittelverlustfrei eingeschleust durch zumindest eine Schleusenkammer (20) in eine Vorrichtung (1) zum Abscheiden von Metallen und/oder Metalllegierungen, die Produkte (7) an zumindest einen Beschichtungsabschnitt (3) im Wesentlichem unter Gasabschluss übergeben, die Produkte (7) im zumindest einen Beschichtungsabschnitt (3) beschichtet, die beschichteten Produkte (7) von dem Beschichtungsabschnitt (3) über zumindest eine Siphonspüleinrichtung (61) an zumindest einen Ausfuhrabschnitt (4) im Wesentlichem unter Gasabschluss übergeben, und die fertigen Produkte (7) über zumindest eine weitere Schleusenkammer (40) ausgeschleust, wobei über allen Abschnitten (50,51,52) der Vorrichtung eine Inertgasatmosphärenglocke vorgehalten wird.
Description
Die Erfindung betrifft eine Vorrichtung und ein Verfahren zum Abscheiden
von Metallen und/oder Metalllegierungen aus metallorganischen
Elektrolyten, insbesondere aus metallorganischen Komplexsalzen in
organischen Lösemitteln, auf Produkten, mit zumindest einem
Beschichtungsabschnitt zum Beschichten der Produkte, zumindest einem
weiteren Bearbeitungsabschnitt und zumindest einer Schleusenkammer zum
Ein- und Ausschleusen der Produkte in die und aus der Vorrichtung im
Wesentlichen ohne Eindringen von Sauerstoff und/oder Feuchtigkeit.
Eine galvanische Abscheidung von Aluminium, Magnesium und deren
Legierungen ist wegen der sehr niedrigen Potentiallage dieser Elemente
nicht, wie in der klassischen Galvanotechnik üblich, aus wässrigen
Systemen möglich. Obgleich es in den vergangenen Jahrzehnten zahlreiche
Ansätze gegeben hat, Aluminium, Magnesium und deren Legierungen aus
nichtwässrigen Systemen abzuscheiden, konnte sich nur die Abscheidung
aus aluminium- bzw. magnesiumalkylhaltigen Komplexen im technischen
Maßstab durchsetzen. Hierbei haben sich Elektrolytvarianten bei einer
entsprechend geeigneten Prozessführung und Analytik für
unterschiedlichste Anwendungen mit mehr oder weniger Erfolg einsetzen
lassen. In einigen Fällen ist eine großtechnische industrielle Anwendung
hierbei möglich geworden.
Die bei der Herstellung der einzelnen Elektrolytvarianten eingesetzten
Metallalkyle reagieren bekanntlich sehr heftig mit Sauerstoff und Wasser
unter Bildung von Reaktionsprodukten, wie beispielsweise
Alkoxyverbindungen oder Aluminoxanen. Diese Reaktionsprodukte sind nicht
mehr in der Lage, weitere Komplexe mit den in Elektrolytformeln
eingesetzten Alkalimetallen oder Alkalimetallhalogeniden zu bilden. Sie
bleiben als lösliche Verunreinigungen im Elektrolyt zurück und setzen
dabei die elektrische Leitfähigkeit von diesem herab. Ebenfalls wird die
maximal anwendbare Stromdichte bei steigender Konzentration dieser
Reaktionsprodukte herabgesetzt, wodurch das Beschichtungsverfahren seine
Wirtschaftlichkeit und ggf. seine gute Qualität verliert.
Die vorstehend genannte Problematik wurde bereits in einer Studie an der
Georg-Simon-Ohm-Fachhochschule in Nürnberg im Jahre 1987 untersucht, mit
dem Ergebnis, dass der Eintritt von Sauerstoff und/oder Feuchtigkeit in
eine Beschichtungsanlage, in der sich metallorganische Elektrolyte auf
Alkylbasis befinden, weitgehend vermieden werden sollte, um eine lange
Lebensdauer der eingesetzten Elektrolyte und eine optimale
Schichtqualität sicherzustellen. Unabhängig von den durch den Eintritt
von Sauerstoff und Wasser in eine Beschichtungsanlage hervorgerufenen
chemischen oder elektrochemischen Nachteilen ist die Vermeidung eines
Eintritts von Sauerstoff und/oder Feuchtigkeit in eine
Beschichtungsanlage auch hinsichtlich eines sicheren Betriebs einer
solchen Anlage ausgesprochen wichtig, vorallem in Bezug auf die
Verfahrenssicherheit, Sicherheit bei der Produktion und in Bezug auf die
Umwelt.
Im Stand der Technik sind verschiedene Beschichtungsanlagen bekannt, die
teilweise auch Ansätze zum Vermeiden eines Eindringens von Sauerstoff
und/oder Feuchtigkeit in Teile der Beschichtungsanlage enthalten. Eine
solche Anlage, bei der eine elektrolytische Beschichtung von
metallischen oder nichtmetallischen Endlosprodukten mit Metallen oder
Legierungen im Durchlaufverfahren aus aprotischen wasser- und
sauerstofffreien Elektrolyten vorgesehen ist, ist in der DE 197 16 493
C2 beschrieben. Zu diesem Zweck sind Spül- und Trocknungsvorgänge
angeschlossen, die die Reste von wässrigen Lösungen entfernen sollen.
Außerdem ist ein Austritt des beschichteten Endlosproduktes aus der
Anlage über ein Schleusensystem vorgesehen. Die Schleusenkammer weist
eine mittlere Kammer mit einer Sperrflüssigkeit auf, die eine Sperre für
die in einer äußeren Kammer enthaltene Luft darstellt. Eine dritte
Kammer enthält ein Inertgas. Außerdem sind Regenerierungskreisläufe
vorgesehen, in denen alle verwendeten Flüssigkeiten im Umlaufverfahren
aufbereitet, gereinigt und rückgeführt werden.
Aus der DE 30 23 827 C2 ist eine nach außen abgeschlossene Rohrzelle
bekannt, durch die das zu behandelnde kathodisch kontaktierte Gut in
Achsrichtung, insbesondere kontinuierlich, entlang von Anoden bewegt
werden kann. Um sowohl das ungewollte Austreten des Elektrolyt aus der
Rohrzelle als auch das Eindringen von Luftatmosphäre in diese zu
verhindern, kann die Rohrzelle mit einem Schutzgas beaufschlagt werden.
Gemäß dieser Druckschrift ist ebenfalls eine Schleusenanordnung aus
mehreren Kammern vorgesehen, in die zum gegenseitigen Abdichten der
einzelnen Kammern als Dichtmedium Inertgas und/oder eine
Inertflüssigkeit eingeleitet werden kann.
Gemäß der DE 199 32 524 C1 werden zum Zwecke einer elektrochemischen
Behandlung, insbesondere zum elektrochemischen Beschichten von leitenden
oder leitend gemachten Teilen, diese Teile in einen mit Elektrolytlösung
gefüllten Behälter bzw. in einen rotierenden Korb eingebracht, der
während der Behandlung dauernd rotiert wird und damit die Teile
umschichtet. Der Behälter ist gasdicht abgeschlossen. Die Behandlung der
Teile im Korb erfolgt ohne jegliches Umladen. Es werden lediglich die
jeweiligen Flüssigkeiten oder Lösungen in den Behälter hinein- und aus
diesem wieder herausgepumpt. Zum Trocknen wird der Behälter jeweils
zentrifugiert und die Reste der Elektrolytlösung dabei durch Antreiben
des Korbes abgeschleudert. Diese Anlage ist aufgrund ihres Aufbaus nicht
für einen Abscheider aus metallorganischen Elektrolyten geeignet.
Auch aus der DE 41 18 416 A1 ist eine Vorrichtung zum Beschichten von
vorzugsweise relativ dünn dimensionierten Teilen bekannt, bei dem eine
Beschichtung durch Einbringen der Teile in nebeneinander angeordnete
Behälter erfolgt. Die Behälter bzw. Bäder befinden sich dabei in einer
Inertgasatmosphäre. Außerdem sind ein Spülbad, ein Ätzbad und ein
Abscheidebad vorgesehen. Beim Anordnen der verschiedenen Bäder in einem
gemeinsamen Behälter sind als Trennwände ausgebildete Schleusen
vorgesehen, die von den zu behandelnden Teilen durchdrungen werden
können. Hierzu ist in einem Durchdringungsbereich durch ein Paar
dichtend gegeneinanderlaufender, um eine Achse rotierender Walzen aus
elastischem Material, die gegenüber den angrenzenden Wandungen des
Behälters dichtend gleiten, die durchdringbare Trennwand ausgebildet.
Aus diesen vorstehend genannten Druckschriften gehen nur Vorrichtungen
hervor, die in Teilbereichen der jeweiligen Vorrichtungen ein Eindringen
von Sauerstoff oder Feuchtigkeit in die Vorrichtung zu vermeiden
versuchen. Hierzu sind lediglich Teile der Vorrichtungen mit z. B. Spülund
Trocknungseinrichtungen bzw. einer dreiteiligen Schleusenkammer,
versehen.
Der vorliegenden Erfindung liegt daher die Aufgabe zugrunde, eine
Vorrichtung und ein Verfahren zum Abscheiden von Metallen und/oder
Metalllegierungen aus metallorganischen Elektrolyten zu schaffen, bei
denen keine sicherheitstechnischen Probleme mehr auftreten, eine
Lösemittelemission aus der Vorrichtung heraus und insbesondere eine
Reaktion von eingesetzten Elektrolytsystemen mit Sauerstoff und
Feuchtigkeit aus der Umgebungsatmosphäre der Vorrichtung im Wesentlichen
vollständig vermieden werden können.
Die Aufgabe wird für eine Vorrichtung nach dem Oberbegriff des Anspruchs
1 dadurch gelöst, dass zumindest eine Siphonspüleinrichtung mit einer
Trenneinrichtung zum gasbezogenen Abgrenzen der anderen Abschnitte der
Vorrichtung von oder Abdichten dieser anderen Abschnitte gegenüber dem
Beschichtungsabschnitt und zumindest ein im Wesentlichen den
Beschichtungsabschnitt, die zumindest eine Siphonspüleinrichtung, den
zumindest einen weiteren Bearbeitungsabschnitt im Wesentlichen dicht
umschließendes mit einem Inertgas flutbares Haubenteil vorgesehen sind.
Für ein Verfahren nach dem Oberbegriff des Anspruchs 17 wird die Aufgabe
dadurch gelöst, dass ein im Wesentlichen lösemittelverlustfreies
Einschleusen der Produkte durch zumindest eine Schleusenkammer in eine
Vorrichtung zum Abscheiden von Metallen und/oder Metalllegierungen
vorgesehen ist, die Produkte an zumindest einen Beschichtungsabschnitt
im Wesentlichen unter Gasabschluss übergeben werden, die Produkte im
zumindest einen Beschichtungsabschnitt beschichtet werden, die
beschichteten Produkte von dem Beschichtungsabschnitt über zumindest
eine Siphonspüleinrichtung an zumindest einen Ausfuhrabschnitt im
Wesentlichen unter Gasabschluss übergeben werden, und die fertigen
Produkte über zumindest eine weitere Schleusenkammer ausgeschleust
werden, wobei über allen Abschnitten der Vorrichtung eine
Inertgasatmosphärenglocke vorgehalten wird. Weiterbildungen der
Erfindung sind in den abhängigen Ansprüchen definiert.
Dadurch werden eine Vorrichtung und ein Verfahren zum Abscheiden von
Metallen und/oder Metalllegierungen geschaffen, mit denen es möglich
ist, eine Verschleppung von Sauerstoff und Wasser bzw. Feuchtigkeit
sowie anderen Verunreinigungen in den Beschichtungselektrolyt soweit wie
möglich zu reduzieren. Hierdurch kann eine lange Lebensdauer der
Beschichtungselektrolyte sichergestellt werden. Die Bildung von
unerwünschten Reaktionsprodukten wird ebenso wie Lösemittelemissionen im
Wesentlichen vollständig verhindert bzw. zumindest stark eingedämmt.
Gerade durch das Vorsehen von Siphonspüleinrichtungen mit einer
Trenneinrichtung zum Abgrenzen der Gasatmosphären in einzelnen
Abschnitten der Vorrichtung und zum Abdichten dieser einzelnen
Abschnitte gegeneinander wird eine Diffusionssperre für Sauerstoff und
Feuchtigkeit zwischen diesen einzelnen Abschnitten der Vorrichtung
geschaffen. Die Gasatmosphäre in dem im Wesentlichen dicht geschlossenen
Haubenteil, der die einzelnen Abschnitte der Vorrichtung umschließt,
kann in jedem Abschnitt der Vorrichtung optimal eingestellt werden.
Hierdurch ist es auch möglich, eine Migration von Lösemittel über die
Gasatmosphäre in den Elektrolytbereich zu unterbinden. Da es häufiger
vorkommt, dass der Beschichtungselektrolyt chemisch unverträglich mit
Reinigungsflüssigkeiten oder anderen Lösemitteln ist, erweist sich diese
Trennung der Gasatmosphären der einzelnen Abschnitte der Vorrichtung als
besonders vorteilhaft. Hierdurch ist ein sicherer Betrieb der Anlage
möglich. Durch das Vorsehen eines im Wesentlichen dicht umschließenden
Haubenteils ist zum einen eine Kapselung der gesamten Atmosphäre
innerhalb der Vorrichtung und damit eine Trennung gegenüber der
Außenatmosphäre, die die Vorrichtung umgibt, möglich. Hierdurch können
verdunstende Lösemittel vor dem Austritt aus der Vorrichtung aufgefangen
und in die entsprechenden Anlagenteile zurückgeführt werden. Eine
Verunreinigung der Umgebungsluft der Vorrichtung kann damit im
Wesentlichen ausgeschlossen werden. Außerdem ist es dadurch möglich,
innerhalb des Haubenteils einen konstanten und zugleich anderen Druck
aufrechtzuerhalten als dem Druck in der Umgebungsatmosphäre entspräche.
Vorzugsweise wird zumindest in einem Teil der einzelnen Abschnitte des
Haubenteils ein geringer Überdruck gegenüber der Atmosphäre, die die
Vorrichtung umgibt, aufrecht erhalten und dieser überwacht. Bevorzugt
ist zumindest eine Druckhalteeinrichtung zum Aufrechterhalten eines
konstanten Drucks im Haubenteil und/oder eines solchen geringen
Überdrucks im Haubenteil gegenüber der Außen- und/oder
Umgebungsatmosphäre vorgesehen. Ein unfreiwilliges Eindringen von
Außenatmosphäre in die Vorrichtung und somit eine Verunreinigung der
Gasatmosphäre innerhalb der Vorrichtung kann somit im Wesentlichen
vermieden werden.
Um im Haubenteil, insbesondere in einzelnen Haubenabschnitten, einen im
Wesentlichen konstanten Druck aufrechterhalten zu können, also
insbesondere einen leichten Überdruck gegenüber der Außenatmosphäre der
Vorrichtung, ist vorzugsweise zumindest eine Gaspuffereinrichtung
vorgesehen und mit diesem/diesen, insbesondere im ersten und/oder
letzten Abschnitt verbindbar oder verbunden. Derartige
Gaspuffereinrichtungen sind somit bevorzugt am Eingang und Ausgang der
Vorrichtung vorgesehen, da dort Druckschwankungen aufgrund des
Einschleusens und Ausschleusens der Produkte auftreten können. Die
Gaspuffereinrichtungen werden gefüllt, sobald ein außerhalb einer
voreinstellbaren Toleranz liegender Überdruck im Haubenabschnitt
auftritt, und entleert, wenn ein außerhalb einer einstellbaren Toleranz
liegender Unterdruck im Haubenabschnitt auftritt, z. B. wenn
Gasatmosphäre aus dem jeweiligen Haubenabschnitt entnommen wird, wie
beispielsweise zum Fluten einer Schleusenkammer mit Inertgas.
Vorzugsweise ist zumindest eine Sauerstoffüberwachungseinrichtung in der
zumindest einen Schleusenkammer und/oder den Abschnitten des Haubenteils
vorgesehen. Bevorzugt ist ebenfalls zumindest eine Einrichtung zum
Überwachen der Lösemittelkonzentration in der oder den Schleusenkammern
vorgesehen. Hierdurch ist es möglich, ständig den Sauerstoff- und/oder
Lösemittelgehalt der Gasatmosphäre in den einzelnen Abschnitten der
Vorrichtung zu überwachen. Da die Schleusenkammer(n) zum Abhalten eines
Luft- bzw. Sauerstoffeintrags in die Vorrichtung dienen, wird nach dem
Einschleusen von Produkten, dem Abführen der dabei mit dem Produkt
eingeführten Luft und dem Spülen der Kammer mit z. B. Inertgas der
Sauerstoffgehalt der Schleusenkammeratmosphäre regelmäßig überwacht.
Wird die Schleusenkammer zum Haubenteil hin geöffnet, sollte der
Sauerstoffgehalt innerhalb der Kammer möglichst Null sein, so dass ein
Eindringen von Sauerstoff in den Haubenteil sowie die übrigen Teile der
Vorrichtung vermieden werden kann. Der Austrag von Lösemittel aus der
Vorrichtung soll ebenfalls möglichst auf Null reduziert werden. Um den
Lösemittelgehalt in den Schleusenkammern, die eine Verbindung der
Vorrichtung zur Außenatmosphäre darstellen, überwachen zu können, sind
dort ebenfalls Einrichtungen zur Überwachung der Lösemittelkonzentration
vorgesehen. Sofern der Sauerstoff- und/oder Lösemittelgehalt einen
vorbestimmbaren und/oder einstellbaren oder eingestellten Schwellwert
übersteigt, kann eine Anpassung der Pumpzeiten für den Ein- und Austrag
von Gas in die/aus der Schleusenkammer und/oder eine zusätzliche
Spülphase mit einem Inertgas während Pumpzyklen zum Reduzieren des
Sauerstoffgehalts in der zumindest einen Schleusenkammer ausgelöst
werden. Es wird dann beispielsweise ein längerer Pumpzyklus zum
Auspumpen der verunreinigten Gasatmosphäre vorgesehen. Auch die
Inertgasatmosphärenglocke der Vorrichtung kann hinsichtlich ihres
Sauerstoffgehalts überwacht werden, wobei der Sauerstoffgehalt möglichst
Null sein sollte. Durch diese Maßnahmen kann optimal sichergestellt
werden, dass die Inertgasatmosphärenglocke der Vorrichtung kaum oder gar
nicht mit Sauerstoff verunreinigt wird, wobei optimale
Beschichtungsergebnisse und eine sehr hohe Sicherheit während der
Behandlung der Produkte erzielt werden können.
Bevorzugt ist zumindest ein Reinigungs- und/oder Aktivierungsabschnitt
zum Reinigen und/oder Vorbehandeln der Oberfläche der Produkte und/oder
zumindest ein Ausfuhrabschnitt zum Ausschleusen der Produkte aus der
Vorrichtung vorgesehen. Vorzugsweise weist der zumindest eine
Reinigungs- und/oder Aktivierungsabschnitt ein oder mehrere
verschließbare Behandlungsbecken mit einer Reinigungsflüssigkeit zum
Reinigen der zu beschichtenden Produkte und/oder einer
Aktivierungsflüssigkeit zum Aktivieren von deren Oberfläche bzw. zum
Erzeugen einer Haftvermittlerschicht auf. In einem solchen Reinigungsund/oder
Aktivierungsabschnitt ist vorteilhaft eine Reinigung der
Rohprodukte möglich, wobei eine oxidfreie und blanke Oberfläche auf den
Produkten erzeugt werden kann. Hierdurch kann eine optimale
Haftfestigkeit für die nachfolgende Beschichtung sichergestellt werden.
Um diese Haftfestigkeit noch weiter zu verbessern, kann vorteilhaft in
diesem Abschnitt der Vorrichtung eine Haftvermittlerschicht auf die
Oberfläche des Produktes aufgetragen werden. Durch das Vorsehen von
verschließbaren Behandlungsbecken ist es möglich, gezielt diese dann zu
öffnen, wenn ein jeweiliges Produkt in diese eingefügt werden soll. Ein
ungewolltes Verdunsten von Behandlungsflüssigkeit in die
Haubenatmosphäre kann so weiter unterbunden werden.
Bevorzugt weist der zumindest eine Reinigungs- und/oder Aktivierungsabschnitt
zumindest eine dem zumindest einen Behandlungsbecken
nachgeschaltete Spüleinrichtung zum Spülen der vorbehandelten Produkte
und Verhindern eines Verschleppens von Chemikalien aus dem Reinigungsund/oder
Aktivierungsabschnitt auf. Gerade bei Vorsehen einer
Siphonspüleinrichtung im Anschluss an den Reinigungs- und/oder
Aktivierungsabschnitt, also vor dem Beschichtungsabschnitt, ist es
sinnvoll, eine solche Spülung der vorbehandelten Produkte vorzusehen, um
ein Verschleppen der Chemikalien aus der Reinigungs- und
Aktivierungsstufe in die Siphonspüleinrichtung und damit nachfolgend in
den Beschichtungselektrolyt zu verhindern. Vorzugsweise ist eine
Lösemittel-Aufbereitungs- und/oder Regenerationseinrichtung vorgesehen
und an eine solche Spüleinrichtung angeschlossen. Das aufgereinigte
Lösemittel wird insbesondere wieder in diese Spüleinrichtung
zurückgeführt, wohingegen die aufgereinigte Reinigungsflüssigkeit bzw.
sich in den vorgeschalteten Behandlungsbecken befindende Aktivierungsoder
sonstige Flüssigkeit wieder in diese Behandlungsbecken
zurückgeführt werden kann. Zum Aufreinigen ist vorzugsweise eine
Destillation und nachfolgend ein Vorhalten des aufgereinigten
Lösemittels vorgesehen.
Vorzugsweise ist die zumindest eine Lösemittel-Aufbereitungs- und/oder
Regenerationseinrichtung für den Reinigungs- und/oder Aktivierungsabschnitt
im Bypass zu diesem vorgesehen. Hierdurch ist während des
Beschichtungs- bzw. bereits während des Vorreinigungs- und auch des
Nachbehandlungsschritts eine ständige Aufreinigung des Lösemittels und
des Elektrolyten bzw. anderer Reinigungs- und Badflüssigkeiten möglich.
Bevorzugt ist auch die zumindest eine Schleusenkammer mit einer
Lösemittelabscheide- und -Rückführeinrichtung und/oder einem Gaspendelsystem
verbindbar oder verbunden. Bevorzugt ist zumindest eine
Schleusenkammer am Eingang des Reinigungs- und/oder Aktivierungsabschnitts
und/oder zumindest eine Schleusenkammer am Ausgang des
Ausfuhrabschnitts vorgesehen. Bevorzugt werden beim Einschleusschritt
die Produkte in die zumindest eine Schleusenkammer eingeführt, dabei die
Schleusenkammer mit Außenatmosphäre gefüllt, geschlossen und
anschließend evakuiert, also die Außenatmosphäre aus der Kammer
hinausbefördert, und diese nachfolgend mit Inertgas geflutet. Die
Produkte werden anschließend beim Einschleusschritt in einen ersten
Behandlungsabschnitt der Vorrichtung eingebracht. Beim Ausschleusschritt
aus der Vorrichtung werden diese Produkte aus der Haubenatmosphäre in
die Schleusenkammer eingebracht, diese geschlossen und Haubenatmosphäre
aus der Schleusenkammer abgepumpt und in den Haubenabschnitt
zurückgeführt. Die Schleusenkammer kann nachfolgend geöffnet und die
Produkte entnommen werden. Anschließend wird die Schleusenkammer wieder
geschlossen, die eingedrungene Außenatmosphäre abgeführt und die Kammer
mit Inertgas geflutet. Besonders bevorzugt wird die abgepumpte
Schleusenatmosphäre aufbereitet, wobei trockenes Inertgas und
gereinigtes Lösemittel in den Prozess rückgeführt werden, insbesondere
trockenes Inertgas in die Inertgasatmosphärenglocke und gereinigtes
Lösemittel in ein Behandlungsbecken. Das Gaspendelsystem umfasst also
das Einpumpen von getrocknetem Inertgas in die Haubenatmosphäre nach
Auspumpen der Atmosphäre der Schleusenkammer aus der Schleusenkammer.
Da also mit dem zu beschichtenden Produkt vor der Beschichtung beim
Einschleusen in die vorzugsweise am Eingang der Vorrichtung vorgesehene
Schleusenkammer Außenatmosphäre eingebracht wird, und da nach der
Beschichtung der Produkte diese wieder in die Außenatmosphäre
herausgebracht werden unter Öffnen einer am Ende der Vorrichtung
vorgesehenen Schleusenkammer und Eindringen von Außenatmosphäre in die
Schleusenkammer, erweist es sich als vorteilhaft, eine
Lösemittelabscheide- und -Rückführeinrichtung im Bereich der
Schleusenkammern vorzusehen. Gerade dort können beim Ein- und
Ausschleusen der Produkte sowohl Sauerstoff als auch Feuchtigkeit in die
Vorrichtung eindringen und verdunstetes Lösemittel aus der Vorrichtung
entweichen. Über vorzugsweise vorgesehene Kühleinrichtungen kann aus der
Schleusenkammer abgepumpte und mit Lösemittel verunreinigte Atmosphäre
abgekühlt und das Lösemittel damit abgeschieden, gesammelt und
rückgeführt werden. Bei dem Lösemittelabscheidevorgang wird das
abgepumpte Gas getrocknet und kann nachfolgend wieder in die
Haubenatmosphäre zurückgeführt werden. Durch das Lösemittelabscheiden im
Ausschleusbereich können die Produkte von den an ihnen anhaftenden
Lösemittelresten gereinigt werden und die Vorrichtung im Wesentlichen
vollständig trocken verlassen, so dass im Wesentlichen keine
Lösemittelemissionen mehr stattfinden. Die beim Abpumpvorgang
ausgetragenen Lösemittelreste werden auch im Bereich des Ausschleusens
der Produkte rückkondensiert, gesammelt und nachfolgend in den Prozess
zurückgeführt, insbesondere in die letzte Siphonspüleinrichtung.
Bevorzugt wird auch die Inertgasatmosphärenglocke aufgereinigt,
insbesondere durch Kondensieren der Inertgasatmosphäre und Rückführen
der abkondensierten Lösemittelanteile in die jeweiligen Kreisläufe,
insbesondere Behandlungsbecken. Vorzugsweise ist zumindest eine
Kühleinrichtung mit Kondensatabscheideeinrichtung zur Rückgewinnung von
verschleppten und/oder verdunsteten Lösemittelresten vorgesehen,
insbesondere im Haubenteil und/oder Beschichtungsabschnitt und/oder
angeschlossen an die zumindest eine Schleusenkammer. Besonders bevorzugt
weisen die eine oder mehreren Kühleinrichtungen in Haubenabschnitten
und/oder in dem Haubenteil Lösemittelrückführeinrichtungen zum
Rückführen von Lösemittel in Behandlungs- und/oder Beschichtungsbecken
und/oder die zumindest eine Siphonspüleinrichtung auf. Hierdurch ist es
möglich, Lösemittelverunreinigungen auch aus der Gasatmosphäre im
Haubenteil wieder zu entfernen. Die in den Kühleinrichtungen
kondensierten Lösemittelanteile können nachfolgend in entsprechende
Behandlungsbecken des jeweiligen Haubenabschnitts rückgeführt werden.
Vorzugsweise sind die jeweiligen Kühleinrichtungen in den einzelnen
Haubenabschnitten vorgesehen, da die verdunstenden Flüssigkeiten in
diesen einzelnen Haubenabschnitten zumeist jeweils verschieden sind, so
dass die Verunreinigungen in der Gasatmosphäre ebenfalls unterschiedlich
sind. Daher erfolgt vorteilhaft eine Rückführung innerhalb des
jeweiligen Haubenabschnitts.
Vorzugsweise weist der zumindest eine Beschichtungsabschnitt zumindest
ein zum Verhindern eines unkontrollierten Verdunstens von Lösemittel in
das Haubenteil verschließbares Beschichtungsbecken auf. Insbesondere
sind auch zumindest eine Kühleinrichtung zum Kondensieren von
verdunstetem Lösemittel und zumindest eine Auffangeinrichtung zum
Auffangen des kondensierten Lösemittels im Gasraum des zumindest einen
Beschichtungsbeckens vorgesehen. Außerdem kann der zumindest eine
Beschichtungsabschnitt zumindest eine Ausfuhrspüleinrichtung aufweisen.
In das in dieser Ausfuhrspüleinrichtung vorgesehene Spülbad werden die
Produkte nach dem Beschichtungsvorgang eingegeben, um anhaftende
Elektrolytreste zu entfernen. Zum Aufreinigen des Spülbades wird
insbesondere eine Rückführung von aufgereinigtem Lösemittel aus der
Lösemittelabscheide- und/oder Regenerationseinrichtung vorgesehen.
Da die Siphonspüleinrichtung zum Abtrennen der einzelnen Abschnitte der
Vorrichtung, also insbesondere des Reinigungs- und/oder
Aktivierungsabschnitts, des Beschichtungsabschnitts und des Ausfuhrabschnitts
vorgesehen ist, erweist es sich als vorteilhaft, ein im
Wesentlichen nicht reagierendes Lösemittel in diesen Übergangsbereichen
vorzusehen. Die zumindest eine Siphonspüleinrichtung ist daher bevorzugt
mit einem inerten Lösemittel gefüllt. Hierdurch können ungewollte
chemische Reaktionen zwischen miteinander unverträglichen Chemikalien
aus den einzelnen Abschnitten der Vorrichtung im Wesentlichen vermieden
werden. Vorzugsweise umfasst die zumindest eine Siphonspüleinrichtung
eine verschließbare Doppelspüleinrichtung mit einer aufgesetzten
Trennwand, die so orientiert ist, dass oben gelegene Haubenabschnitte
abgeteilt werden. Aufgrund des Vorsehens einer solchen Trennwand, die in
das Spülbad der Siphonspüleinrichtung eintaucht, kann eine gasdichte
Abtrennung von verschiedenen Haubenabschnitten der Vorrichtung
geschaffen werden. Um einen Transport der Produkte durch die Siphonspüleinrichtung
zu ermöglichen, da nämlich eine bevorzugte innerhalb der
Haubenabschnitte vorgesehene jeweilige Transporteinrichtung die
Trennwand nicht durchdringen kann, ist insbesondere zumindest eine
Transporteinrichtung innerhalb der Doppelspüleinrichtung zum Verfahren
der Produkte unterhalb der Trennwand so angeordnet oder kann so
angeordnet werden, dass bei Befüllen der Doppelspüleinrichtung mit einer
Spülflüssigkeit die Transporteinrichtung unterhalb des Flüssigkeitsspiegels
positioniert ist. Hierdurch ist ein vollständiges Eintauchen
der Produkte in die Spülflüssigkeit gewährleistet, wodurch diese mit der
vorzugsweise inerten Spülflüssigkeit umspült und gereinigt werden
können, um ein Verschleppen von Chemikalien und/oder Gasatmosphäre aus
einem Vorabschnitt in den nachfolgenden Abschnitt der Vorrichtung zu
vermeiden.
Bevorzugt ist außerdem zumindest eine Elektrolyt-Lösemittel-Trenneinrichtung
im Bereich des Beschichtungsabschnitts vorgesehen.
Insbesondere umfasst/umfassen die Elektrolyt-Lösemittel-Trenneinrichtung(en)
eine Destilliereinrichtung zum Abdestillieren von Lösemittel
aus der von dem zumindest einen Beschichtungsbecken abgeführten
Elektrolyt-Lösemittel-Badflüssigkeit. Außerdem sind vorzugsweise
Einrichtungen zum Zurückführen des gewonnenen sauberen Lösemittels in
das Ausfuhrspülbecken und/oder Einrichtungen zum Zurückführen des
Elektrolyten in den Elektrolytkreislauf vorgesehen.
Im Bypass des Beschichtungsabschnitts kann somit eine Aufreinigung der
Elektrolytlösung, also der Beschichtungslösung, erfolgen. Angeschlossen
ist diese Aufreinigungseinrichtung insbesondere an die Beschichtungsbäder,
wobei insbesondere sauberes Lösemittel in das den Beschichtungsbädern
nachgeschaltete Ausfuhrspülbecken zurückgeleitet wird und insbesondere
Elektrolyt in die Beschichtungsbäder.
Elektrolytflüssigkeit und/oder Lösemittel werden bevorzugt in im
Wesentlichen geschlossenen Kreisläufen geführt. Hierdurch wird eine
Verunreinigung der übrigen Bäder der Vorrichtung im Wesentlichen
vermieden. Vorteilhaft erfolgt die Aufreinigung oder Aufbereitung von
Elektrolytflüssigkeit und/oder Lösemittel und/oder einer Spülflüssigkeit
zum Vermeiden eines Verschleppens von Chemikalien. Zum Vermeiden eines
Verschleppens von an den Produkten anhaftender Elektrolytflüssigkeit
und/oder Reinigungsflüssigkeit und/oder Aktivierungsflüssigkeit sind
außerdem bevorzugt Spülungen in den verschiedenen Spüleinrichtungen
vorgesehen. Diese Spüleinrichtungen können an verschiedenen Stellen der
Vorrichtung und des Beschichtungsprozesses vorgesehen werden,
insbesondere im Ausgangsbereich jeweiliger Abschnitte der Vorrichtung.
Vor allem können mit den erfindungsgemäßen Vorrichtungen Produkte von
beliebiger Form beschichtet werden, also auch Hinterschneidungen
aufweisende Produkte, in denen sich Lösemittel sammeln kann. Dies kann
mit Vorrichtungen des Standes nicht entfernt werden, weswegen ein
Lösemittelaustrag bei diesen nicht sicher vermieden werden kann. Mit dem
erfindungsgemäßen Verfahren und der erfindungsgemäßen Vorrichtung ist
ein Entfernen von Lösemittelresten bei beliebigen Produktformen sicher
möglich.
Zur näheren Erläuterung der Erfindung wird im Folgenden ein
Ausführungsbeispiel anhand der Zeichnung näher beschrieben. Diese zeigt
eine Gesamtansicht einer erfindungsgemäßen Vorrichtung zum Abscheiden
von Metallen.
Die Figur zeigt eine Prinzipskizze als Gesamtansicht einer Vorrichtung 1
zum Abscheiden von Metallen und/oder Metalllegierungen. Die Vorrichtung
weist einen Reinigungs- und/oder Aktivierungsabschnitt 2, einen
Beschichtungsabschnitt 3 und einen Ausfuhrabschnitt 4 auf. Außerdem
weist sie ein Haubenteil 5 auf, das alle drei vorgenannten Abschnitte im
Wesentlichen dicht umschließt. Das Haubenteil ist in drei Abschnitte 50,
51, 52 unterteilt. Die drei Haubenabschnitte sind durch jeweilige
Trennwände 53, 54 gegeneinander abgegrenzt.
Der Reinigungs- und/oder Aktivierungsabschnitt 2 umfasst eine erste
Schleusenkammer 20, ein erstes Behandlungsbecken 21, ein zweites
Behandlungsbecken 22 und ein Spülbecken 23. Außerdem umfasst der
Reinigungs- und/oder Aktivierungsabschnitt einen Teil einer ersten
Siphonspüleinrichtung 60. Die Siphonspüleinrichtung 60 wird durch die
Trennwand 53 in zwei Teile geteilt, so dass sie eine
Doppelspüleinrichtung bildet, die von dem Abschnitt 2 und dem Abschnitt
3 zugänglich ist, ansonsten jedoch eine Diffusionssperre bildet. Alle
Becken bzw. Spüleinrichtungen sind mit jeweiligen Deckeln 24, 25, 26,
27, 62 verschließbar. Die Schleusenkammer 20 weist eine Schleusentür 28
auf, die ein Einfahren von Produkten in die Schleusenkammer ermöglicht.
Vorzugsweise werden solche Produkte über einen Transportwagen, der in
der Figur nicht dargestellt ist, in die Schleusenkammer eingefahren.
Die Schleusenkammer 20 ist mit einer Einrichtung 70 zur Rückgewinnung
von Lösemittel und einem Gaspendelsystem 80 verbunden. Die Einrichtung
zur Rückgewinnung von Lösemittel weist eine Kühlfalle 71, ein Ventil 72,
eine Kondensatabscheideeinrichtung 73 sowie eine Leitung 74 zwischen dem
Ventil 72 und der Schleusenkammer 20, eine Leitung 75 zwischen der
Kühlfalle 71 und der Kondensatabscheideeinrichtung 73 sowie eine
Lösemittelrückführleitung 76 zwischen der Kondensatabscheideeinrichtung
73 und dem ersten Behandlungsbecken 21 auf.
Das Gaspendelsystem 80 umfasst eine Vakuumpumpe 81, drei Ventile 82, 83,
84 sowie eine Leitung 85 zwischen der Schleusenkammer 20 und dem ersten
Ventil 82, eine weitere Leitung 86 zwischen dem Ventil 82 und der
Vakuumpumpe 81, eine Leitung 87 zwischen der Vakuumpumpe 81 und dem
Ventil 83 in der Rückführleitung zum Haubenteil sowie eine weitere
Leitung 88 zwischen dem Ventil 83 und dem Haubenteil 50. Die Leitung 87
führt auch zu dem Ventil 84 und von diesem eine weitere Leitung 89 nach
außen in die Außenatmosphäre. Durch diese kann Luft aus der Vorrichtung
ausgeblasen werden.
An den Reinigungs- und/oder Aktivierungsabschnitt 2 ist außerdem eine
Lösemittel-Aufbereitungs- und/oder Regenerationseinrichtung 90
angeschlossen. Die Lösemittel-Aufbereitungs- und/oder
Regenerationseinrichtung umfasst eine Destilliereinrichtung 91 und einen
Kondensatsammeltank 92. Die Destilliereinrichtung wird über' eine Leitung
93, die von dem Spülbecken 23 kommt, gespeist. Zwischen der
Destilliereinrichtung 91 und dem Kondensatsammeltank 92 ist ebenfalls
eine Leitung 94 vorgesehen. Die in der Destilliereinrichtung 91
aufgereinigte Reinigungsflüssigkeit wird über eine Leitung 95, eine
Pumpe 96 und eine weitere Leitung 97 in das zweite Behandlungsbecken 22
zurückgeführt. Sauberes durch die Destilliereinrichtung abdestilliertes
Lösemittel kann von dem Kondensatsammeltank 92 über eine Leitung 98,
eine Pumpe 99 und eine Leitung 100 zu dem Spülbecken 23 zurückgepumpt
werden.
Zwischen dem Spülbecken 23 und dem zweiten Behandlungsbecken 22 ist
außerdem eine Überlaufleitung 29 vorgesehen, um ggf. bei im Übermaß
zurückgefördertem Lösemittel ein Überlaufen des Spülbeckens zu
vermeiden. Das überschüssige Lösemittel wird dann über die
Überlaufleitung 29 in das zweite Behandlungsbecken 22 zurückgeführt.
Der Haubenabschnitt 50 des Reinigungs- und/oder Aktivierungsabschnitts 2
umfasst außerdem eine Transporteinrichtung 55 zum Verfahren von
Produkten 7 zwischen den einzelnen Behandlungs-, Spül- und sonstigen
Becken. Die Transporteinrichtung weist hierzu einen Fahrwagen 56 auf,
der in dieser Ausführungsform mit einem Haken 57 versehen ist zum
Anhängen der zu beschichtenden Produkte 7. Der Haken 57 ist dabei
ausfahrbar an dem Fahrwagen 56 befestigt, so dass die Produkte an diesem
Haken langsam in die jeweiligen Bäder hineingelassen und aus diesen
herausgehoben werden können.
Der Haubenabschnitt 50 weist außerdem eine Kühleinrichtung 58 auf. Diese
ist in der Figur in Form einer Kühlschlange dargestellt. Über diese
Kühlschlange kann verdunstetes Lösemittel kondensiert werden und sich in
einer ebenfalls im Haubenabschnitt 50 vorgesehenen Auffangeinrichtung 59
sammeln bzw. darin aufgefangen werden. In der Figur ist die
Auffangeinrichtung in Form einer Auffangrinne dargestellt. Das in der
Auffangrinne bzw. Auffangeinrichtung 59 aufgefangene Lösemittelkondensat
kann über eine Ablaufleitung 101 zu dem ersten Behandlungsbecken 21
zurückgeführt werden. Somit kann eine Lösemittelrückführung sowohl in
das erste als auch in das zweite Behandlungsbecken erfolgen. Es können
grundsätzlich auch noch weitere Behandlungsbecken vorgesehen werden, die
Figur gibt hier lediglich eine mögliche Ausführungsform wieder. Auch ist
es möglich, mehrere Spülbecken vorzusehen; ebenso wäre es grundsätzlich
möglich, mehr als eine Schleusenkammer vorzusehen.
Um einen gleichmäßigen Druck innerhalb des Haubenabschnitts 50
aufrechterhalten zu können, trotz Aufreinigens des sich in diesem
Haubenabschnitt befindenden Gases und trotz Rückführens aufgereinigten
Gases, ist ein Gaspufferbehälter 120 außerhalb des Haubenteils 5
vorgesehen. Der Gaspufferbehälter 120 ist über eine Leitung 121 mit dem
Innenraum des Haubenabschnitts 50 verbunden. Über diese Leitung 121 kann
ein zweiseitiger Austausch von Gas zwischen dem Gaspufferbehälter und
dem Haubenabschnitt 50 erfolgen. Hierdurch ist es möglich, einen
voreingestellten Überdruck, vor allem einen konstanten Druck innerhalb
des Haubenabschnitts aufrecht zu erhalten.
Zum Überprüfen des Sauerstoff- und Lösemittelgehalts im Reinigungsund/oder
Aktivierungsabschnitt 2 sind ein erster Sauerstoffsensor 122 im
Bereich des Haubenabschnitts 50, ein zweiter Sauerstoffsensor 123 und
ein Lösemittelkonzentrationssensor 124 an der Schleusenkammer 20
vorgesehen. Alle Sensoren können mit einer Überwachungs- und
Steuerungseinrichtung (in der Figur nicht gezeigt) verbunden sein, um
ein Überschreiten von eingestellten Schwellwerten zu überwachen und ggf.
Auspumpzyklen der Schleusenkammer und einen Gasaustausch gezielt
anzupassen.
Der Beschichtungsabschnitt 3 weist den zweiten Teil der
Siphonspüleinrichtung 60 auf, die, wie oben erwähnt, als
Doppelspüleinrichtung ausgebildet ist. Zum Transport der durch den
Deckel 62 in die Siphonspüleinrichtung 60 eingebrachten Produkte ist
innerhalb der Siphonspüleinrichtung 60 eine Transporteinrichtung 66
vorgesehen, die insbesondere einen Fahrwagen aufweisen kann, wie dies in
der Figur dargestellt ist. Durch einen Deckel 63 der
Siphonspüleinrichtung 60 können nach dem Transport durch die
Siphonspüleinrichtung die Produkte auf der Seite des
Beschichtungsabschnitts 3 wieder entnommen werden. Der
Beschichtungsabschnitt 3 weist außerdem zwei Beschichtungsbecken 30, 31
auf, sowie ein Ausfuhrspülbecken 32 und einen ersten Teil einer weiteren
Siphonspüleinrichtung 61. Jedes dieser Becken ist mit einem Deckel 33,
34, 35 sowie die Siphonspüleinrichtung mit einem Deckel 64 auf der Seite
des Beschichtungsabschnitts versehen. Im Gasraum unterhalb der Deckel
33, 34 der beiden Beschichtungsbecken 30, 31 sind jeweils Kühlschlangen
36, 37 und Auffangrinnen 38, 39 vorgesehen, um Lösemittel, das bei der
Beschichtung aus dem Elektrolyt verdunstet, zu kondensieren und
insbesondere nach den Beschichtungsbecken in das Spülbad 32 einzuleiten.
Auch der Beschichtungsabschnitt 3 ist mit einer Aufreinigungseinrichtung
im Anschluss an die Beschichtungsbecken versehen, um den Elektrolyt im
Bypass in einer Elektrolyt-Lösemittel-Trenneinrichtung 110
aufzureinigen. Dadurch wird sichergestellt, dass keine nennenswerten
Mengen an Elektrolyt verschleppt werden, wodurch ein weitgehend
geschlossener Stoffkreislauf erzeugt werden kann. Für die Aufreinigung
des Elektrolyts wird Flüssigkeit aus den beiden Beschichtungsbecken 30,
31 über Leitungen 111 zu einer Destilliereinrichtung 112 geführt.
Außerdem ist ein Kondensatsammeltank 113 vorgesehen, der über eine
Leitung 114 mit der Destilliereinrichtung 112 verbunden ist. Der
gereinigte Elektrolyt wird über Leitungen 115, 117 und eine Pumpe 116 zu
dem Beschichtungsbecken 30 zurückgeführt. Das von der Elektrolyt-Lösemittel-Mischung
abdestillierte Lösemittel wird in dem
Kondensatsammeltank 113 aufgefangen und über eine Leitung 118, eine
Pumpe 119 und eine Rückführleitung 102 zu dem Spülbad im
Ausfuhrspülbecken 32 zurückgeleitet. Somit wird das Spülbad im
Ausfuhrspülbecken 32 stets mit sauberem Lösemittel versorgt. Sollte der
Pegel in dem Ausfuhrspülbecken zu hoch steigen, ist eine Überlaufleitung
103 zwischen Ausfuhrspülbecken und zweitem Beschichtungsbecken 31
vorgesehen. Hierüber läuft die überschüssige Spülflüssigkeit, also
insbesondere Lösemittel, in das zweite Beschichtungsbecken zurück.
So wie der Reinigungs- und/oder Aktivierungsabschnitt 2 weist auch der
Beschichtungsabschnitt 3 eine Transporteinrichtung 55 mit einem
Fahrwagen 56 und einem Haken 57 auf, um das zu beschichtende Produkt 7
zwischen den einzelnen Becken des Beschichtungsabschnitts transportieren
zu können. Außerdem ist ebenfalls eine Kühleinrichtung 58 in Form von
einer Kühlschlange sowie eine Auffangrinne als Auffangeinrichtung 59 für
kondensiertes Lösemittel vorgesehen. Über eine Ablaufleitung 104 wird
das gesammelte kondensierte Lösemittel zu dem ersten Beschichtungsbecken
30 zurückgeführt.
Der Ausfuhrabschnitt 4 weist den zweiten Teil der Siphonspüleinrichtung
61 auf. Diese ist, ebenso wie die Siphonspüleinrichtung 60, mit einer
Transporteinrichtung 67 versehen. Hierüber werden die durch den Deckel
64 in die Siphonspüleinrichtung eingebrachten Produkte zu dem auf der
anderen Seite der Trennwand 54 gelegenen Abschnitt mit Deckel 65 der
Siphonspüleinrichtung 61 transportiert. Der Transport erfolgt, ebenso
wie in der Spüleinrichtung 60, unterhalb der Oberfläche der sich in der
Siphonspüleinrichtung befindenden Spülflüssigkeit. Hierdurch wird ein im
Wesentlichen vollständiger Gasabschluss beim Transport der Produkte von
dem Beschichtungsabschnitt in den Ausfuhrabschnitt ermöglicht.
Der Ausfuhrabschnitt weist außerdem eine zweite Schleusenkammer 40 zum
Ausschleusen der beschichteten Produkte aus der Vorrichtung auf. Die
Schleusenkammer ist mit einem Deckel 41 versehen. Außerdem weist sie
eine Schleusentür 42 auf. Ähnlich wie die Schleusenkammer 20 ist auch
die Schleusenkammer 40 mit einer Einrichtung 130 zur Rückgewinnung von
Lösemittel und einem Gaspendelsystem 140 versehen. Die Einrichtung zur
Rückgewinnung von Lösemittel ist ebenfalls mit einer Kühlfalle 131,
einem Ventil 132 zwischen Schleusenkammer 40 und Kühlfalle 131, einer
Kondensatabscheideeinrichtung 133, einer Leitung 134 zwischen Ventil 132
und Schleusenkammer 40, einer Leitung 135 zwischen
Kondensatabscheideeinrichtung 133 und Kühlfalle 131 und einer
Lösemittelrückführleitung 136 zwischen Kondensatabscheideeinrichtung 133
und Siphonspüleinrichtung 61 versehen.
Das Gaspendelsystem 140 umfasst eine Vakuumpumpe 141, drei Ventile 142,
143, 144 sowie mehrere dazwischen befindliche Leitungen. Eine erste
Leitung 145 führt von der Schleusenkammer 40 zu dem ersten Ventil 142,
eine zweite Leitung 146 führt von dem Ventil 142 zu der Pumpe 141. Zu
dieser führt auch eine Leitung von der Kühlfalle 131, wie dies auch im
Falle der Einrichtung 70 zwischen der Kühlfalle 71 und der Vakuumpumpe
81 der Fall ist. Von der Pumpe 141 führt eine Leitung 147 zu dem Ventil
143 und von diesem eine Rückführleitung 148 zu dem Haubenabschnitt 52.
Von der Vakuumpumpe führt die Leitung 147 auch zu dem Ventil 144 ab,
über welches insbesondere Luft aus der Schleusenkammer 40 über eine
Leitung 149 nach außen in die Umgebung abgeblasen werden kann.
Der Haubenabschnitt 52 umfasst ebenfalls eine Transporteinrichtung 55
mit einem Fahrwagen 56, der einen Haken 57 aufweist, um Produkte 7
ergreifen und in die einzelnen Becken absenken zu können. Ebenfalls sind
Kühlschlangen 58 als Kühleinrichtung und eine Auffangrinne 59 für
kondensiertes Lösemittel vorgesehen, das von der Auffangrinne über eine
Ablaufleitung 105 zu der Siphonspüleinrichtung 61 zurückgeführt werden
kann.
Auch der Ausfuhrabschnitt 4 ist mit einem Gaspufferbehälter 125 und
einer Leitung 126 zwischen dem Innenraum des Haubenabschnitts 52 und dem
Gaspufferbehälter 125 versehen. Hierüber kann sichergestellt werden,
dass innerhalb des Ausfuhrabschnitts, ein möglichst konstanter Gasdruck
aufrechterhalten wird, obgleich z. B. durch Rückführen von getrocknetem
Inertgas über die Leitung 145 ein Überdruck im Haubenabschnitt des
Ausfuhrabschnitts auftreten könnte, ebenso wie ein Unterdruck bei Fluten
der Schleusenkammer 40 mit Haubenatmosphäre aus dem Ausfuhrabschnitt
nach dem Auspumpen von Außenatmosphäre im Anschluss an einen
Ausschleusvorgang fertiger Produkte aus der Schleusenkammer 40.
Um, gerade aufgrund des ständigen Öffnens und Schließens des
Ausfuhrabschnitts zum Ausschleusen von Produkten und Rückführen von
gereinigtem Gas, den Sauerstoff- und Lösemittelgehalt innerhalb des
Ausfuhrabschnitts möglichst fortlaufend bestimmen und ggf. korrigierend
eingreifen zu können, und damit eine ungewollte Lösemittelemission aus
der Schleusenkammer heraus möglichst zu vermeiden, um den
Lösemittelverlust und auch schädliche Abgase aus der Vorrichtung
möglichst gering zu halten, sind erste und zweite Sauerstoffsensoren
127, 128 sowie ein Lösemittelkonzentrationssensor 129 vorgesehen. Der
erste Sauerstoffsensor 127 ist im oberen Haubenabschnitt 52, der zweite
Sauerstoffsensor 128 und der Lösemittelkonzentrationssensor 129 sind an
der Schleusenkammer 40 vorgesehen. Auch der Haubenabschnitt 51 über dem
Beschichtungsabschnitt 3 ist mit einem solchen Sauerstoffsensor 150
versehen.
Es wird nun noch der Ablauf einer Beschichtung mit den jeweiligen
Regenerationsschritten für Elektrolyt, Reinigungsflüssigkeit, Lösemittel
und Gasatmosphäre näher beschrieben.
Ein zu beschichtendes Produkt wird über die Schleusentür 28 in die erste
Schleusenkammer 20 eingebracht. Dies erfolgt insbesondere über einen
Transportwagen, der in der Figur jedoch nicht dargestellt ist. Beim
Einschleusvorgang wird die Schleusenkammer unweigerlich mit
Außenatmosphäre (Luft) gefüllt und anschließend geschlossen. Nachfolgend
wird sie über die Vakuumpumpe 81 und die Leitungen 85 und 86 evakuiert.
Hierzu wird das Ventil 82 geöffnet. Da sich in der Schleusenkammer dann
nur nicht verunreinigte Luft befindet, kann diese direkt über die
Leitung 89 und das geöffnete Ventil 84 nach außen abgeführt werden.
Anschließend wird die Schleusenkammer mit Inertgas aus dem
Haubenabschnitt 50 geflutet. Darauf kann der innere Deckel 24, der
zwischen der Schleusenkammer und dem Haubenabschnitt 50 angeordnet ist,
geöffnet und das Produkt in die inerte Gasatmosphäre innerhalb des
Haubenabschnitts 50 eingebracht werden. Die Sauerstoffmenge, die in den
ersten Haubenabschnitt 50 eindringen kann, ist sehr gering, da die
Schleusenkammer bis auf einen Enddruck von weniger als 1 bis 2 mbar
evakuiert werden kann und es außerdem möglich ist, dass
Zwischenspülungen mit Inertgas, insbesondere Stickstoff oder Argon,
vorgenommen werden.
Die für die Flutung der Schleusenkammer benötigte Gasmenge, die aus der
Gasatmosphäre des Haubenabschnitts 50 entnommen wird, würde ohne
Vorsehen des Gaspufferbehälters voraussichtlich zu einem Absinken des
Drucks in dem Haubenabschnitt führen. Um dies zu vermeiden und ebenfalls
zu verhindern, dass ständig neues Inertgas, beispielsweise Stickstoff,
in den Haubenabschnitt eingebracht werden muss, in dem sich dann
wiederum Sauerstoff- und Wasserspuren befinden können, ist der
Gaspufferbehälter 120 an den Haubenabschnitt 50 angeschlossen, der den
Druck in dem Haubenabschnitt 50 aufgrund der möglichen Volumenänderung
im Wesentlichen konstant hält.
Eine Überwachung der Atmosphäre innerhalb des Haubenabschnitts kann
ständig mittels der Sauerstoffsensoren erfolgen. Die
Lösemittelkonzentration wird über den Lösemittelkonzentrationssensor 124
überwacht. Die Kontrolle der Sauerstoffdiffusion in die Anlage ist
insbesondere im Hinblick auf die Lebensdauer des Elektrolyten und die
Beschichtungsqualität sinnvoll, jedoch auch im Hinblick auf die
allgemeine Verfahrens- und Betriebssicherheit des gesamten Systems.
Nachdem das Produkt durch den Deckel 24 in den Haubenabschnitt 50
eingebracht wurde, kann der Deckel 24 wieder geschlossen und die
Schleusenatmosphäre abgepumpt werden, wobei ein Inertgas-Lösemittelgemisch
in der Schleusenatmosphäre vorliegt und abgepumpt
wird. Dies erfolgt nach Öffnen des Ventils 72 über die Leitung 74, wobei
das Lösemittel-Inertgasgemisch durch die Kühlfalle 71 geführt wird. Nach
der Kondensation wird das erhaltene getrocknete Inertgas über die
Vakuumpumpe 81, die Leitung 87 und das dann geöffnete Ventil 83 sowie
die Leitung 88 zu dem Haubenabschnitt 50 zurückgeführt. Das Inertgas
kann als gereinigtes Gas wieder der Atmosphäre in dem Haubenabschnitt 50
zur Verfügung gestellt werden. Das überschüssige Gasvolumen wird durch
Volumenvergrößerung im Gaspufferbehälter 120 aufgefangen, wodurch der
Druck in dem Haubenabschnitt 50 im Wesentlichen konstant gehalten werden
kann.
Das anfallende kondensierte Lösemittel wird über die Leitung 75 in die
Kondensatabscheideeinrichtung 73 eingeführt und kann insbesondere
periodisch wiederkehrend dem ersten Behandlungsbecken 21 über die
Lösemittelrückführleitung 76 zugeführt werden. Anschließend wird die
evakuierte Schleusenkammer wieder mit frischem Inertgas geflutet und die
Tür zur Außenatmosphäre, nämlich die Schleusentür 28, kann erneut
geöffnet werden, um neue Produkte in die Vorrichtung hineinzubringen.
Über die Transporteinrichtung 55 können die Produkte in die
Behandlungsbecken 21, 22, die insbesondere eine Reinigungsflüssigkeit
enthalten, eingebracht und dort vorgereinigt und insbesondere eine
blanke oxidfreie Oberfläche auf diesen erzeugt werden, um eine optimale
Haftfestigkeit bei der anschließenden Beschichtung sicherzustellen.
Außerdem kann eine Haftvermittlerschicht dort in diesem Becken
aufgebracht werden. Um ein Verdunsten von Lösemittel im Wesentlichen zu
vermeiden, sind die Deckel 25, 26 vorgesehen, ebenso der Deckel 27 am
Spülbecken, die jeweils vorzugsweise nur dann geöffnet werden, wenn Ware
bzw. Produkte ein- und ausgebracht werden. Das nachgeschaltete
Spülbecken 23 dient dazu, eine Verschleppung von Chemikalien aus den
Behandlungsbecken 21, 22 in die Siphonspüleinrichtung 60 zu vermeiden,
wobei auch die Verschleppung in den Beschichtungselektrolyt in den
Becken im Beschichtungsabschnitt vermieden werden soll. Die Flüssigkeit
des Spülbeckens 23 wird regelmäßig über die Lösemittel-Aufbereitungsund/oder
Regenerationseinrichtung 90, die im Bypass zu dem Reinigungsund/oder
Aktivierungsabschnitt geschaltet ist, aufbereitet.
Nach dem Spülen des vorbehandelten Produktes wird dieses über den Deckel
62 in die Siphonspüleinrichtung 60 eingegeben. Aufgrund des Vorsehens
der Trennwand 53 sind die beiden oben gelegenen Haubenabschnitte 50 und
51 gasdicht voneinander getrennt, durch das Doppelspülbecken der
Siphonspüleinrichtung 60 jedoch dennoch miteinander zum Durchreichen von
Produkten verbunden. Vorzugsweise ist die Flüssigkeit in den
Siphonspüleinrichtungen identisch mit dem im Beschichtungselektrolyt
eingesetzten Lösemittel. Um eine Reaktion mit Reinigungsflüssigkeit
und/oder Beschichtungselektrolyt möglichst zu vermeiden, wird
vorzugsweise ein inertes Lösemittel verwendet. Durch das Vorsehen der
Siphonspüleinrichtung zwischen dem Aktivierungsabschnitt 2 und dem
Beschichtungsabschnitt 3 ergibt sich der Vorteil, dass in den
Reinigungsflüssigkeiten des Reinigungs- und/oder Aktivierungsabschnitts
auch solche Lösemittel eingesetzt werden können, die mit dem
Beschichtungselektrolyt schlecht verträglich sind, da eine Migration der
Lösemittel über die Gasatmosphäre im Elektrolytbereich unterbunden wird.
Eine Verschleppung von Lösemittel mit den zu beschichtenden Produkten
wird insbesondere auch durch die Aufbereitung der Flüssigkeit des
Spülbeckens 23 über die Destilliereinrichtung 91 weitestgehend
verhindert.
Nach dem Herausheben der Produkte durch den Deckel 63 der
Siphonspüleinrichtung 60 gelangen diese in den Beschichtungsabschnitt 3
und können darin in die Beschichtungsbecken 30, 31 hineingehoben werden.
Neben den beiden in der Figur dargestellten Beschichtungsbecken können
noch zahlreiche weitere vorgesehen werden, ebenso weitere
Ausfuhrspülbecken 32, wobei in der Figur lediglich eines davon
dargestellt ist. Um ein unkontrolliertes Verdunsten von Lösemittel in
den oben gelegenen Haubenabschnitt 51 zu vermeiden, sind im
Normalbetrieb die Deckel 63, 33, 34, 35, 64 geschlossen. Vorzugsweise
werden die Deckel nur geöffnet zum Einfahren in oder Entnehmen von
Produkten aus den einzelnen Becken.
Im Gasraum zwischen dem Badflüssigkeitsspiegel und dem Deckel befinden
sich in den beiden Beschichtungsbecken 30, 31 jeweils die Kühlschlangen
36, 37 und Auffangrinnen 38, 39. Hier wird Lösemittel, das bei der
Beschichtung aus dem Elektrolyt verdunstet ist, kondensiert und dem
Spülbad im Ausfuhrspülbecken 32 wieder zugeleitet. Über die im
Elektrolytkreislauf vorgesehene Destilliereinrichtung werden regelmäßig
größere Mengen Elektrolyt umgesetzt und über die darin vorgesehenen
Leitungen sowie die Pumpe 116 wieder zu dem Becken 30 zurückgepumpt. Das
aus dem Elektrolyt abdestillierte Lösemittel wird im Sammeltank 113
aufgefangen und über die Leitungen und die Pumpe 119 dem
Ausfuhrspülbecken 32 bzw. dem darin enthaltenen Spülbad wieder
zugeleitet. Überschüssiges Lösemittel wird zum Vermeiden eines
Überlaufens des Ausfuhrspülbeckens 32 über die Überlaufleitung 103 in
den Kreislauf bzw. das Becken 31 rückgeführt. Hierdurch wird
sichergestellt, dass keine nennenswerten Mengen an Elektrolyt in die
nachgeschaltete Siphonspüleinrichtung 61 verschleppt werden, wobei auch
bereits hier ein weitgehend geschlossener Stoffkreislauf hergestellt
werden kann.
Die sich zwischen dem Beschichtungsabschnitt und dem Ausfuhrabschnitt
anschließende Siphonspüleinrichtung 61 ist von Aufbau und Funktionsweise
der Siphonspüleinrichtung 60 vergleichbar. Die hierin vollständig
getauchten Produkte werden durch den Deckel 65 auf der Seite des
Ausfuhrabschnitts 4 wieder entnommen. Aufgrund der vorherigen Spülung in
dem Ausfuhrspülbecken 32, in dem frisches Lösemittel enthalten ist,
können die zuvor von dem Beschichtungsabschnitt 3 anhaftenden
Elektrolytreste abgefangen und nicht in den Ausfuhrabschnitt 4
verschleppt werden. Außerdem dienen die Ausfuhrspülbecken jeweils auch
dazu, überschüssige Prozesswärme, die bei dem Beschichtungsvorgang
entsteht, effektiv zu nutzen und aus dem System zu entfernen.
In dem Ausfuhrabschnitt 4 ist auch die zweite Schleusenkammer 40
vorgesehen, in die das beschichtete Produkt eingebracht wird. Dies
erfolgt über den Deckel 41. Nach dem Bestücken der Schleusenkammer mit
dem fertig beschichteten Produkt wird ebenfalls ein Abpumpvorgang
eingeleitet. Dies dient der Rückgewinnung von evtl. noch dem
beschichteten Produkt anhaftenden Lösemittelresten. Hierdurch ist es
möglich, dass das vollständig beschichtete Produkt trocken die
Vorrichtung verlässt und im Wesentlichen keine Lösemittelemissionen mehr
stattfinden. Sämtliches beim Abpumpvorgang verdunstetes und in der
Kühlfalle 131 rückkondensiertes und in der Kondensatabscheideeinrichtung
133 gesammeltes Lösemittel wird über die Leitung 136 in die
Siphonspüleinrichtung 61 zurückgeführt. Ansonsten läuft der
Ausschleusvorgang entsprechend dem Einschleusevorgang hinsichtlich des
Ein- und Auspumpens von Schleusenatmosphäre und Inertgas ab. Zum
Ausschleusen wird dabei die Schleusentür 42 geöffnet.
Die einzelnen Haubenabschnitte 50, 51, 52 werden mit Inertgas geflutet
und zumindest in dem vorliegenden Ausführungsbeispiel über ein
automatisches Druckhaltesystem ständig auf einem geringen Überdruck
gegenüber der Umgebungsatmosphäre gehalten. Hierdurch wird ein
Eindringen von Luft in den Haubenteil vermieden. Die Sauerstoffsensoren
122, 123, 127, 128, 150 geben kontinuierlich den Sauerstoffgehalt in der
jeweiligen Gasatmosphäre an. Bei einem festgestellten Überschreiten von
voreingestellten Schwellwerten wird hinsichtlich der Pumpen 81, 141 eine
Anpassung der Pumpzeit vorgenommen bzw. eine zusätzliche Spülung mit
Inertgas während des Pumpzyklus in den Schleusenkammern 20, 40
eingeleitet.
Auch das Vorsehen der mit einer Sperrflüssigkeit, insbesondere inertem
Lösemittel, gefüllten Siphonspüleinrichtungen sorgt für eine weitere
Erhöhung der Sperrwirkung in diesem Bereich, insbesondere in Kombination
mit den Deckeln 62, 63 und 64, 65, wodurch eine weitere Reduzierung der
Diffusion von Sauerstoff und Feuchtigkeit in den Beschichtungsabschnitt
3 hinein ermöglicht werden kann. Die Kombination von Schleusenkammern,
einem Vakuumsystem, einem Gaspendelsystem und den
Siphonspüleinrichtungen sorgt für eine sehr lange Lebensdauer der
metallorganischen Beschichtungselektrolyte und eine gleichbleibende
Beschichtungsqualität, da die Bildung von unerwünschten
Reaktionsprodukten, wie beispielsweise Alkoxyverbindungen oder
Aluminoxanen effektiv eingedämmt bzw. im Wesentlichen verhindert werden
kann.
Durch das Vorsehen einer Lösemittelaufbereitung für den Reinigungsund/oder
Aktivierungsabschnitt 2 kann sowohl eine Verunreinigung der
Beschichtungselektrolyte durch Sauerstoff und Feuchtigkeit als auch ein
Verschleppen von anderen Chemikalien wirksam verhindert werden,
insbesondere auch das Verschleppen von in den Reinigungsflüssigkeiten
eingesetzten Lösemitteln, die ggf. mit einem bestimmten
Beschichtungselektrolyt unverträglich sind. Durch das Vorsehen der
Lösemittel-Aufbereitungs- und/oder Regenerationseinrichtung 90 kann
somit eine direkte Rückführung von Reinigungsflüssigkeit und Lösemittel
in die entsprechenden Kreisläufe ermöglicht werden. Hierdurch können
auch Verunreinigungen im Spülbecken 23 auf einem sehr geringen Niveau
gehalten werden.
Durch das Kondensieren der Haubenatmosphäre in den Haubenabschnitten 50,
51, 52 kann diese so trocken und rein wie möglich gehalten werden. Auch
eine Kondensation von sich an der Ware befindenden Lösemittelresten, die
während der Transportzeit verdunsten, insbesondere dann, wenn die
Produkte noch warm sind, können kontrolliert abkondensiert und über die
Ablaufleitungen wieder in die einzelnen Stoffkreisläufe zurückgeführt
werden.
Neben dem im Vorstehenden beschriebenen und in der Zeichnung
dargestellten Ausführungsbeispiel können noch zahlreiche weitere
gebildet werden, bei denen es jeweils möglich ist, Lösemittelemissionen
aus der Vorrichtung so gering wie möglich zu halten und eine
höchstmögliche Reduzierung der Verschleppung von Sauerstoff und
Feuchtigkeit sowie anderer Verunreinigungen in einen
Beschichtungselektrolyt hinein zu erreichen und somit die Lebensdauer
von Beschichtungselektrolyten deutlich zu verlängern unter Vermeidung
der Bildung von unerwünschten Reaktionsprodukten. Insbesondere können
auch lediglich ein oder mehr als die dargestellten zwei Behandlungs-,
Beschichtungsbecken und Siphonspüleinrichtungen sowie Spülbecken
vorgesehen werden. Auch können weitere Abschnitte, insbesondere weitere
Beschichtungsabschnitte vorgesehen werden. Auch die
Siphonspüleinrichtung(en) kann/können durch eine andere entsprechend
wirkende Einrichtung ersetzt werden, wobei weiterhin eine gasbezogene
Trennung zwischen Abschnitten der Vorrichtung ermöglicht wird.
Grundsätzlich ist es ebenso möglich, den Reinigungs- und/oder
Aktivierungsabschnitt kleiner zu gestalten oder ggf. sogar vollständig
entfallen zu lassen. Jedenfalls weisen die Vorrichtungen eine
geschlossene Haubenatmosphäre auf, die eine im Wesentlichen dichte
Glocke über den einzelnen Stationen der Beschichtungsvorrichtung bildet,
wobei zugleich eine ständige Aufreinigung sowohl der Atmosphäre als auch
der Behandlungs- bzw. Beschichtungsbäder und Spülbäder erfolgt.
Besonders einfach kann dies durch das Führen der Reinigungsabschnitte im
Bypass zu den jeweiligen Bearbeitungs- bzw. Behandlungsabschnitten
erfolgen. Alternativ sind auch komplexere Aufreinigungsschritte bzw.
-kreisläufe möglich.
- 1
- Vorrichtung
- 2
- Reinigungs- und/oder Aktivierungsabschnitt
- 3
- Beschichtungsabschnitt
- 4
- Ausfuhrabschnitt
- 5
- Haubenteil
- 7
- Produkt
- 20
- erste Schleusenkammer
- 21
- erstes Behandlungsbecken
- 22
- zweites Behandlungsbecken
- 23
- Spülbecken
- 24
- Deckel
- 25
- Deckel
- 26
- Deckel
- 27
- Deckel
- 28
- Schleusentür
- 29
- Überlaufleitung
- 30
- Erstes Beschichtungsbecken
- 31
- Zweites Beschichtungsbecken
- 32
- Ausfuhrspüleinrichtung
- 33
- Deckel
- 34
- Deckel
- 35
- Deckel
- 36
- Kühlschlange
- 37
- Kühlschlange
- 38
- Auffangrinne
- 39
- Auffangrinne
- 40
- Zweite Schleusenkammer
- 41
- Deckel
- 42
- Schleusentür
- 50
- erster Haubenabschnitt
- 51
- zweiter Haubenabschnitt
- 52
- dritter Haubenabschnitt
- 53
- Trennwand
- 54
- Trennwand
- 55
- Transporteinrichtung
- 56
- Fahrwagen
- 57
- Haken
- 58
- Kühleinrichtung
- 59
- Auffangeinrichtung
- 60
- erste Siphonspüleinrichtung
- 61
- zweite Siphonspüleinrichtung
- 62
- Deckel
- 63
- Deckel
- 64
- Deckel
- 65
- Deckel
- 66
- Transporteinrichtung
- 67
- Transporteinrichtung
- 70
- Einrichtung zur Rückgewinnung von Lösemittel
- 71
- Kühlfalle
- 72
- Ventil
- 73
- Kondensatabschneideeinrichtung
- 74
- Leitung
- 75
- Leitung
- 76
- Lösemittelrückführleitung
- 80
- Gaspendelsystem
- 81
- Vakuumpumpe
- 82
- Ventil
- 83
- Ventil
- 84
- Ventil
- 85
- Leitung
- 86
- Leitung
- 87
- Leitung
- 88
- Leitung
- 89
- Leitung
- 90
- Lösemittel-Aufbereitungs- und/oder Regerationseinrichtung
- 91
- Destilliereinrichtung
- 92
- Kondensatsammeltank
- 93
- Leitung
- 94
- Leitung
- 95
- Leitung
- 96
- Pumpe
- 97
- Leitung
- 98
- Leitung
- 99
- Pumpe
- 100
- Leitung
- 101
- Ablaufleitung
- 102
- Rückführleitung
- 103
- Überlaufleitung
- 104
- Ablaufleitung
- 105
- Ablaufleitung
- 110
- Elektrolyt-Lösemittel-Trenneinrichtung
- 111
- Leitung
- 112
- Destilliereinrichtung
- 113
- Kondensatsammeltank
- 114
- Leitung
- 115
- Leitung
- 116
- Pumpe
- 117
- Leitung
- 118
- Leitung
- 119
- Pumpe
- 120
- Gaspufferbehälter
- 121
- Leitung
- 122
- erster Sauerstoffsensor
- 123
- zweiter Sauerstoffsensor
- 124
- Lösemittelkonzentrationssensor
- 125
- Gaspufferbehälter
- 126
- Leitung
- 127
- erster Sauerstoffsensor
- 128
- zweiter Sauerstoffsensor
- 129
- Lösemittelkonzentrationssensor
- 130
- Einrichtung zur Rückgewinnung von Lösemittel
- 131
- Kühlfalle
- 132
- Ventil
- 133
- Kondensatabschneideeinrichtung
- 134
- Leitung
- 135
- Leitung
- 136
- Lösemittelrückführleitung
- 140
- Gaspendelsystem
- 141
- Vakuumpumpe
- 142
- Ventil
- 143
- Ventil
- 144
- Ventil
- 145
- Leitung
- 146
- Leitung
- 147
- Leitung
- 148
- Leitung
- 149
- Leitung
- 150
- Sauerstoffsensor
Claims (25)
- Vorrichtung (1) zum Abscheiden von Metallen und/oder Metalllegierungen aus metallorganischen Elektrolyten, insbesondere metallorganischen Komplexsalzen in organischen Lösemitteln, auf Produkten (7), mit zumindest einem Beschichtungsabschnitt (3) zum Beschichten der Produkte (7), zumindest einem weiteren Bearbeitungsabschnitt (2,4) und zumindest einer Schleusenkammer (20,40) zum Ein- und Ausschleusen der Produkte (7) in die und aus der Vorrichtung (1) im Wesentlichen ohne Eindringen von Sauerstoff und/oder Feuchtigkeit,
dadurch gekennzeichnet, dass
zumindest eine Siphonspüleinrichtung (60,61) mit einer Trenneinrichtung (53,54) zum gasbezogenen Abgrenzen der anderen Abschnitte (2,4) der Vorrichtung von oder Abdichten dieser anderen Abschnitte (2,4) gegenüber dem Beschichtungsabschnitt (3) und zumindest ein im Wesentlichen den Beschichtungsabschnitt (3), die zumindest eine Siphonspüleinrichtung (60,61) und den zumindest einen weiteren Bearbeitungsabschnitt (2,4) im Wesentlichen dicht umschließendes mit einem Inertgas flutbares Haubenteil (5) vorgesehen sind. - Vorrichtung (1) nach Anspruch 1,
dadurch gekennzeichnet, dass
zumindest eine Transporteinrichtung (66,67) innerhalb der Sipohnspüleinrichtung zum Verfahren der Produkte unterhalb der Trennwand (53,54) so angeordnet oder anordbar ist, dass bei Befüllen der Siphonspüleinrichtung mit einer Spülflüssigkeit die Transporteinrichtung (66,67) unterhalb des Flüssigkeitsspiegels positioniert ist. - Vorrichtung (1) nach einem der vorstehenden Ansprüche,
dadurch gekennzeichnet, dass
zumindest eine Sauerstoff-Überwachungseinrichtung in der zumindest einen Schleusenkammer (20,40) und/oder Abschnitten (50,51,52) des Haubenteils (5) vorgesehen ist und/oder zumindest eine Einrichtung (124,129) zum Überwachen der Lösemittelkonzentration in der oder den Schleusenkammern (20,40) vorgesehen ist. - Vorrichtung (1) nach Anspruch 3,
dadurch gekennzeichnet, dass
die zumindest eine Sauerstoff-Überwachungseinrichtung bei Überschreiten einstellbarer oder eingestellter Schwellwerte eine Anpassung von Pumpzeiten für den Ein- und Austrag von Gas in die/aus der Schleusenkammer (20,40) und/oder eine zusätzliche Spülphase mit einem Inertgas während Pumpzyklen auslöst zum Reduzieren des Sauerstoffgehalts in der zumindest einen Schleusenkammer (20,40). - Vorrichtung (1) nach einem der vorstehenden Ansprüche,
dadurch gekennzeichnet, dass
zumindest eine Druckhalteeinrichtung zum Aufrechterhalten eines konstanten Drucks im Haubenteil (5) und/oder eines geringen Überdrucks im Haubenteil (5) gegenüber einer Außen- oder Umgebungsatmosphäre vorgesehen ist, insbesondere zum Aufrechterhalten eines im Wesentlichen konstanten Drucks im Haubenteil (5) und/oder Haubenabschnitten (50,52) zumindest eine Gaspuffereinrichtung (120,125) vorgesehen und mit diesem/diesen, insbesondere im ersten (2) und/oder letzten Abschnitt (4) der Vorrichtung (1), verbindbar oder verbunden ist. - Vorrichtung (1) nach einem der vorstehenden Ansprüche,
dadurch gekennzeichnet, dass
zumindest ein Reinigungs- und/oder Aktivierungsabschnitt (2) zum Reinigen und/oder Vorbehandeln der Oberfläche der Produkte (7) vorgesehen ist. - Vorrichtung (1) nach Anspruch 6,
dadurch gekennzeichnet, dass
der zumindest eine Reinigungs- und/oder Aktivierungsabschnitt (2) ein oder mehrere verschließbare Behandlungsbecken (21,22) mit einer Reinigungsflüssigkeit zum Reinigen der zu beschichtenden Produkte (7) und/oder einer Aktivierungsflüssigkeit zum Aktivieren von deren Oberfläche, insbesondere zum Erzeugen einer Haftvermittlerschicht, aufweist und/oder der zumindest eine Reinigungs- und/oder Aktivierungsabschnitt (2) zumindest eine dem zumindest einen Behandlungsbecken (21,22) nachgeschaltete Spüleinrichtung (23) zum Spülen der vorbehandelten Produkte (7) und Verhindern eines Verschleppens von Chemikalien aus dem Reinigungs- und/oder Aktivierungsabschnitt (2) aufweist. - Vorrichtung (1) nach einem der vorstehenden Ansprüche,
dadurch gekennzeichnet, dass
der zumindest eine Beschichtungsabschnitt (3) zumindest ein zum Verhindern eines unkontrollierten Verdunstens von Lösemittel in das Haubenteil (5) verschließbares (33,34) Beschichtungsbecken (30,31) und/oder zumindest ein Ausfuhrspülbecken (32) zum Spülen von beschichteten Produkten aufweist. - Vorrichtung (1) nach einem der vorstehenden Ansprüche,
dadurch gekennzeichnet, dass
zumindest eine Lösemittel-Aufbereitungs- und/oder Regenerationseinrichtung (90) vorgesehen ist, insbesondere die zumindest eine Lösemittel-Aufbereitungseinrichtung (90) für den zumindest einen Reinigungs- und/oder Aktivierungsabschnitt (2) im Bypass zu diesem vorgesehen ist. - Vorrichtung (1) nach einem der vorstehenden Ansprüche,
dadurch gekennzeichnet, dass
die zumindest eine Schleusenkammer (20,40) mit einer Lösemittelabscheide- und Rückführeinrichtung (70,130) und/oder einem Gaspendelsystem (80,140) verbindbar oder verbunden ist. - Vorrichtung (1) nach einem der vorstehenden Ansprüche,
dadurch gekennzeichnet, dass
zumindest eine Kühleinrichtung (36,37,58,71,131) mit Kondensatabschneideeinrichtung (38,39,59,73,133) zur Rückgewinnung von verschleppten und/oder verdunsteten Lösemittelresten vorgesehen ist, insbesondere im Haubenteil (5) und/oder Beschichtungsabschnitt (3) und/oder angeschlossen an die zumindest eine Schleusenkammer (20,40). - Vorrichtung (1) nach Anspruch 11,
dadurch gekennzeichnet, dass
die eine oder mehreren Kühleinrichtungen (58) in Haubenabschnitten (50,51,52) und/oder in dem Haubenteil (5) Lösemittelrückführeinrichtungen (101,104,105) zum Rückführen von Lösemittel in Behandlungs- und/oder Beschichtungsbecken (21,22,30,31) und/oder die zumindest eine Siphonspüleinrichtung (61) aufweisen, insbesondere die zumindest eine Kühleinrichtung (36,37) zum Kondensieren von verdunstetem Lösemittel und zumindest eine Auffangeinrichtung (38,39) zum Auffangen des kondensierten Lösemittels im Gasraum des zumindest einen Beschichtungsbeckens (30,31) vorgesehen sind. - Vorrichtung (1) nach einem der vorstehenden Ansprüche,
dadurch gekennzeichnet, dass
zumindest eine Elektrolyt-Lösemittel-Trenneinrichtung (110) im Bereich des Beschichtungsabschnitts (3) vorgesehen ist, insbesondere die Elektrolyt-Lösemittel-Trenneinrichtung(en) (110) eine Destilliereinrichtung (112) zum Abdestillieren von Lösemittel aus der von dem zumindest einen Beschichtungsbecken (30,31) abgeführten Elektrolyt-Lösemittel-Badflüssigkeit umfasst und insbesondere Einrichtungen (102,114,118) zum Zurückführen des gewonnenen sauberen Lösemittels in ein Ausfuhrspülbecken (32) vorgesehen sind. - Vorrichtung (1) nach einem der vorstehenden Ansprüche,
dadurch gekennzeichnet, dass
zumindest eine Schleusenkammer (20) am Eingang des Reinigungsund/oder Aktivierungsabschnitts (2) und/oder zumindest eine Schleusenkammer (40) am Ausgang eines Ausfuhrabschnitts (4) zum Ausschleusen von Produkten (7) vorgesehen ist. - Vorrichtung (1) nach einem der vorstehenden Ansprüche,
dadurch gekennzeichnet, dass
der Haubenteil (5) zumindest eine Transporteinrichtung (55) zum Verfahren der Produkte zwischen einzelnen Becken und Einrichtungen aufweist. - Vorrichtung (1) nach einem der vorstehenden Ansprüche,
dadurch gekennzeichnet, dass
die zumindest eine Siphonspüleinrichtung (60,61) mit einem inerten Lösemittel gefüllt ist. - Verfahren zum Abscheiden von Metallen und/oder Metalllegierungen aus metallorganischen Elektrolyten, insbesondere metallorganischen Komplexsalzen in organischen Lösemitteln, auf Produkten (7), gekennzeichnet durch die folgenden Schritte:im Wesentlichen lösemittelverlustfreies Einschleusen der Produkte (7) durch zumindest eine Schleusenkammer (20) in eine Vorrichtung (1) zum Abscheiden von Metallen und/oder Metalllegierungen, insbesondere nach einem der vorstehenden Ansprüche,Übergeben der Produkte (7) an zumindest einen Beschichtungsabschnitt (3) im Wesentlichem unter Gasabschluss, Beschichten der Produkte (7) im zumindest einen Beschichtungsabschnitt (3),Übergeben der beschichteten Produkte (7) von dem Beschichtungsabschnitt (3) über zumindest eine Siphonspüleinrichtung (61) an zumindest einen Ausfuhrabschnitt (4) im Wesentlichem unter Gasabschluss, undAusschleusen der fertigen Produkte (7) über zumindest eine weitere Schleusenkammer (40), wobei über allen Abschnitten (50,51,52) der Vorrichtung eine Inertgasatmosphärenglocke vorgehalten wird.
- Verfahren nach Anspruch 17,
dadurch gekennzeichnet, dass
die Produkte vorbehandelt werden, insbesondere ihre Oberfläche gereinigt und/oder für die weitere Bearbeitung aktiviert wird. - Verfahren nach Anspruch 18,
dadurch gekennzeichnet, dass
die Produkte nach der Reinigung und/oder Aktivierung im Wesentlichen unter Gasabschluss über zumindest eine weitere Siphonspüleinrichtung (60) in den zumindest einen Beschichtungsabschnitt (3) eingeführt werden. - Verfahren nach einem der Ansprüche 17 bis 19,
dadurch gekennzeichnet, dass
Elektrolytflüssigkeit und/oder Lösemittel in im Wesentlichen geschlossenen Kreisläufen geführt wird/werden, insbesondere eine Aufreinigung oder Aufbereitung von Elektrolytflüssigkeit und/oder Lösemittel und/oder einer Spülflüssigkeit zum Vermeiden eines Verschleppens von Chemikalien erfolgt. - Verfahren nach einem der Ansprüche 17 bis 20,
dadurch gekennzeichnet, dass
zum Vermeiden eines Verschleppens von an den Produkten anhaftender Elektrolytflüssigkeit und/oder Reinigungsflüssigkeit und/oder Aktivierungsflüssigkeit diese in Spüleinrichtungen (23,32) gespült werden. - Verfahren nach einem der Ansprüche 17 bis 21,
dadurch gekennzeichnet, dass
beim Einschleusschritt die Produkte in die zumindest eine Schleusenkammer (20,40) eingeführt werden, die Schleusenkammer (20) mit Außenatmosphäre gefüllt, geschlossen und anschließend evakuiert, die Außenatmosphäre aus der Schleusenkammer hinausbefördert, diese nachfolgend mit Inertgas geflutet wird und die Produkte anschließend in einen ersten Behandlungsabschnitt (2) der Vorrichtung eingebracht werden. - Verfahren nach Anspruch 22,
dadurch gekennzeichnet, dass
die abgepumpte Schleusenatmosphäre aufbereitet wird, wobei trockenes Inertgas und gereinigtes Lösemittel in den Prozess rückgeführt werden, insbesondere trockenes Inertgas in die Inertgasatmosphärenglocke und gereinigtes Lösemittel in ein erstes Behandlungsbecken (21). - Verfahren nach einem der Ansprüche 17 bis 23,
dadurch gekennzeichnet, dass
die zumindest eine Schleusenkammer-Atmosphäre hinsichtlich ihres Sauerstoff- und/oder Lösemittelgehaltes und/oder die Inertgasatmosphärenglocke hinsichtlich ihres Sauerstoffgehalts überwacht werden, insbesondere bei Überschreiten eingestellter Schwellwerte das Ausführen verunreinigter Atmosphäre und/oder Einführen gereinigter Inertgas-Atmosphäre beschleunigt oder verlangsamt wird. - Verfahren nach einem der Ansprüche 17 bis 24,
dadurch gekennzeichnet, dass
das Gas der Inertgasatmosphärenglocke aufgereinigt wird, insbesondere durch Kondensieren des Gases und Rückführen von abkondensierten Lösemittelanteilen in die jeweiligen Stoffkreisläufe.
Priority Applications (8)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
EP03019235A EP1510600A1 (de) | 2003-08-26 | 2003-08-26 | Verfahren und Vorrichtung zum Abscheiden von Metallen und Metalllegierungen aus Metallorganischen Elektrolyten |
US10/569,658 US20070114132A1 (en) | 2003-08-26 | 2004-08-17 | Device and method for separating metals and/or metal alloys from metallo-organic electrolytes |
DK04764184T DK1658393T3 (da) | 2003-08-26 | 2004-08-17 | Anordning og fremgangsmåde til at adskille metaller og/eller metallegeringer fra metalorganiske elektrolytter |
PCT/EP2004/009192 WO2005021840A1 (de) | 2003-08-26 | 2004-08-17 | Vorrichtung und verfahren zum abscheiden von metallen und/oder metalllegierungen aus metallorganischen elektrolyten |
JP2006524288A JP2007503527A (ja) | 2003-08-26 | 2004-08-17 | 金属有機電解液から金属及び/又は金属合金を沈積する装置及び/又は方法 |
AT04764184T ATE398195T1 (de) | 2003-08-26 | 2004-08-17 | Vorrichtung und verfahren zum abscheiden von metallen und/oder metalllegierungen aus metallorganischen elektrolyten |
EP04764184A EP1658393B1 (de) | 2003-08-26 | 2004-08-17 | Vorrichtung und verfahren zum abscheiden von metallen und/oder metalllegierungen aus metallorganischen elektrolyten |
DE502004007361T DE502004007361D1 (de) | 2003-08-26 | 2004-08-17 | Vorrichtung und verfahren zum abscheiden von metallen und/oder metalllegierungen aus metallorganischen elektrolyten |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
EP03019235A EP1510600A1 (de) | 2003-08-26 | 2003-08-26 | Verfahren und Vorrichtung zum Abscheiden von Metallen und Metalllegierungen aus Metallorganischen Elektrolyten |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
EP1510600A1 true EP1510600A1 (de) | 2005-03-02 |
Family
ID=34089604
Family Applications (2)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
EP03019235A Withdrawn EP1510600A1 (de) | 2003-08-26 | 2003-08-26 | Verfahren und Vorrichtung zum Abscheiden von Metallen und Metalllegierungen aus Metallorganischen Elektrolyten |
EP04764184A Expired - Lifetime EP1658393B1 (de) | 2003-08-26 | 2004-08-17 | Vorrichtung und verfahren zum abscheiden von metallen und/oder metalllegierungen aus metallorganischen elektrolyten |
Family Applications After (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
EP04764184A Expired - Lifetime EP1658393B1 (de) | 2003-08-26 | 2004-08-17 | Vorrichtung und verfahren zum abscheiden von metallen und/oder metalllegierungen aus metallorganischen elektrolyten |
Country Status (7)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US20070114132A1 (de) |
EP (2) | EP1510600A1 (de) |
JP (1) | JP2007503527A (de) |
AT (1) | ATE398195T1 (de) |
DE (1) | DE502004007361D1 (de) |
DK (1) | DK1658393T3 (de) |
WO (1) | WO2005021840A1 (de) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2006002969A3 (en) * | 2004-07-01 | 2007-03-22 | Atotech Deutschland Gmbh | Device and method for chemically and electrolytically treating work pieces |
CN103938238A (zh) * | 2014-05-11 | 2014-07-23 | 山东建筑大学 | 一种钢带连续镀铜ⅲ |
CN103938239A (zh) * | 2014-05-11 | 2014-07-23 | 山东建筑大学 | 一种钢带连续镀铜ⅰ |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4363712A (en) * | 1980-11-28 | 1982-12-14 | Siemens Aktiengesellschaft | Device for galvanic precipitation of aluminum |
US4425211A (en) * | 1981-08-21 | 1984-01-10 | Siemens Aktiengesellschaft | Device for electrodeposition of aluminum |
US4435265A (en) * | 1982-08-26 | 1984-03-06 | Siemens Aktiengesellschaft | Device for electro-deposition of aluminum |
US4759831A (en) * | 1986-07-04 | 1988-07-26 | Siemens Aktiengesellschaft | Electroplating apparatus particularly for electro-deposition of aluminum |
Family Cites Families (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE3133232A1 (de) * | 1981-08-21 | 1983-03-10 | Siemens AG, 1000 Berlin und 8000 München | Vorrichtung zum galvanischen abscheiden von aluminium |
-
2003
- 2003-08-26 EP EP03019235A patent/EP1510600A1/de not_active Withdrawn
-
2004
- 2004-08-17 WO PCT/EP2004/009192 patent/WO2005021840A1/de active IP Right Grant
- 2004-08-17 JP JP2006524288A patent/JP2007503527A/ja active Pending
- 2004-08-17 DK DK04764184T patent/DK1658393T3/da active
- 2004-08-17 US US10/569,658 patent/US20070114132A1/en not_active Abandoned
- 2004-08-17 EP EP04764184A patent/EP1658393B1/de not_active Expired - Lifetime
- 2004-08-17 AT AT04764184T patent/ATE398195T1/de not_active IP Right Cessation
- 2004-08-17 DE DE502004007361T patent/DE502004007361D1/de not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4363712A (en) * | 1980-11-28 | 1982-12-14 | Siemens Aktiengesellschaft | Device for galvanic precipitation of aluminum |
US4425211A (en) * | 1981-08-21 | 1984-01-10 | Siemens Aktiengesellschaft | Device for electrodeposition of aluminum |
US4435265A (en) * | 1982-08-26 | 1984-03-06 | Siemens Aktiengesellschaft | Device for electro-deposition of aluminum |
US4759831A (en) * | 1986-07-04 | 1988-07-26 | Siemens Aktiengesellschaft | Electroplating apparatus particularly for electro-deposition of aluminum |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2006002969A3 (en) * | 2004-07-01 | 2007-03-22 | Atotech Deutschland Gmbh | Device and method for chemically and electrolytically treating work pieces |
US8656858B2 (en) | 2004-07-01 | 2014-02-25 | Atotech Deutschland Gmbh | Device and method for chemically and electrolytically treating work pieces using a conveyor system to transport work pieces between treatment tanks |
CN103938238A (zh) * | 2014-05-11 | 2014-07-23 | 山东建筑大学 | 一种钢带连续镀铜ⅲ |
CN103938239A (zh) * | 2014-05-11 | 2014-07-23 | 山东建筑大学 | 一种钢带连续镀铜ⅰ |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
EP1658393B1 (de) | 2008-06-11 |
EP1658393A1 (de) | 2006-05-24 |
US20070114132A1 (en) | 2007-05-24 |
ATE398195T1 (de) | 2008-07-15 |
WO2005021840A1 (de) | 2005-03-10 |
DK1658393T3 (da) | 2008-10-20 |
DE502004007361D1 (de) | 2008-07-24 |
JP2007503527A (ja) | 2007-02-22 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
DE69826538T2 (de) | Verfahren und Einrichtung zur Reinigung eines Gegenstandes | |
DE69839066T2 (de) | Vorrichtung zur Substratbeschichtung | |
DE69122740T2 (de) | Reinigungsverfahren | |
DE69302570T2 (de) | Vakuum-schleuse zu einem geschlossenen umfang - lösungsmittel - konservierungssystem | |
DE10296557T5 (de) | Falleneinrichtung und -Verfahren für Kondensierbare Nebenprodukte von Ablagerungsreaktionen | |
DE2453921A1 (de) | Verfahren und vorrichtung zur behandlung einer metalloberflaechenbehandlungsloesung und einer spuelfluessigkeit eines verfahrens zur metalloberflaechenbehandlung | |
DE3507334A1 (de) | Vorrichtung zum entseuchen strahlungsverseuchter metallischer gegenstaende | |
DE69726247T2 (de) | Betriebsverfahren für eine Falle zur Trennung von Abgasen | |
EP1658393B1 (de) | Vorrichtung und verfahren zum abscheiden von metallen und/oder metalllegierungen aus metallorganischen elektrolyten | |
EP1206413A1 (de) | Anlage und verfahren zur behandlung von kreislaufwasser offener umlaufkühlsysteme | |
WO2023194312A1 (de) | Verfahren zum passivieren einer oberfläche eines werkstücks und vorrichtung zum passivieren von werkstücken | |
EP0286880B1 (de) | Trockeneinrichtung für schüttfähiges Gut | |
CH694619A5 (de) | Verfahren und Vorrichtung zur elektrochemischen Behandlung. | |
EP0251272B1 (de) | Galvanisiereinrichtung, insbesondere zum galvanischen Abscheiden von Aluminium | |
DE2244913C2 (de) | Verfahren und Vorrichtung zur Wärmebehandlung von Bandstahl | |
DE4325543A1 (de) | Verfahren und Vorrichtung zur naßchemischen Behandlung von Siliciummaterial | |
EP2352859B1 (de) | Beizverfahren und beizanlage | |
DE3231855C2 (de) | ||
EP0043440B1 (de) | Anlage zum galvanischen Abscheiden von Aluminium | |
EP1369505A2 (de) | Verfahren und Vorrichtung zur Spülwasserrückführung und Reinigung eines Prozessbades | |
DE19716493C2 (de) | Verfahren zum elektrolytischen Beschichten von metallischen oder nichtmetallischen Endlosprodukten und Vorrichtung zur Durchführung des Verfahrens | |
DE102016002329B4 (de) | Oberflächenbehandlungsanlage, insbesondere Reihentauchanlage, für die industrielle Reinigungstechnik | |
DE60307570T2 (de) | Verfahren zur Behandlung von einer Aluminiumlegierung | |
DE19932523C1 (de) | Verfahren und Vorrichtung zur elektrochemischen Behandlung | |
DE19939032A1 (de) | Verfahren und Anlage zur Oberflächenbehandlung von Teilen mit einem Lösungsmittel |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
PUAI | Public reference made under article 153(3) epc to a published international application that has entered the european phase |
Free format text: ORIGINAL CODE: 0009012 |
|
AK | Designated contracting states |
Kind code of ref document: A1 Designated state(s): AT BE BG CH CY CZ DE DK EE ES FI FR GB GR HU IE IT LI LU MC NL PT RO SE SI SK TR |
|
AX | Request for extension of the european patent |
Extension state: AL LT LV MK |
|
AKX | Designation fees paid | ||
REG | Reference to a national code |
Ref country code: DE Ref legal event code: 8566 |
|
STAA | Information on the status of an ep patent application or granted ep patent |
Free format text: STATUS: THE APPLICATION IS DEEMED TO BE WITHDRAWN |
|
18D | Application deemed to be withdrawn |
Effective date: 20050903 |