DE976803C - Vorrichtung zum Herstellen von Trockengleichrichterplatten - Google Patents

Vorrichtung zum Herstellen von Trockengleichrichterplatten

Info

Publication number
DE976803C
DE976803C DES19092A DES0019092A DE976803C DE 976803 C DE976803 C DE 976803C DE S19092 A DES19092 A DE S19092A DE S0019092 A DES0019092 A DE S0019092A DE 976803 C DE976803 C DE 976803C
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
plates
steamed
drum cage
recipient
conveyor
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired
Application number
DES19092A
Other languages
English (en)
Inventor
Georg Hoppe
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Siemens AG
Original Assignee
Siemens AG
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Priority to NL111901D priority Critical patent/NL111901C/xx
Application filed by Siemens AG filed Critical Siemens AG
Priority to DES19092A priority patent/DE976803C/de
Priority to CH295231D priority patent/CH295231A/de
Priority to US245498A priority patent/US2768098A/en
Application granted granted Critical
Publication of DE976803C publication Critical patent/DE976803C/de
Priority to NL6509695A priority patent/NL6509695A/xx
Priority to NL6509694A priority patent/NL6509694A/xx
Expired legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67005—Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67011—Apparatus for manufacture or treatment
    • H01L21/67098—Apparatus for thermal treatment
    • H01L21/67115—Apparatus for thermal treatment mainly by radiation
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
    • H01L21/02104—Forming layers
    • H01L21/02365—Forming inorganic semiconducting materials on a substrate
    • H01L21/02518—Deposited layers
    • H01L21/02521—Materials
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
    • H01L21/02104—Forming layers
    • H01L21/02365—Forming inorganic semiconducting materials on a substrate
    • H01L21/02612—Formation types
    • H01L21/02617—Deposition types
    • H01L21/02631—Physical deposition at reduced pressure, e.g. MBE, sputtering, evaporation
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
    • H01L21/02104—Forming layers
    • H01L21/02365—Forming inorganic semiconducting materials on a substrate
    • H01L21/02656—Special treatments
    • H01L21/02664—Aftertreatments
    • H01L21/02667—Crystallisation or recrystallisation of non-monocrystalline semiconductor materials, e.g. regrowth
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
    • H01L21/04—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer
    • H01L21/06—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer the devices having semiconductor bodies comprising selenium or tellurium in uncombined form other than as impurities in semiconductor bodies of other materials
    • H01L21/10—Preliminary treatment of the selenium or tellurium, its application to the foundation plate, or the subsequent treatment of the combination
    • H01L21/101—Application of the selenium or tellurium to the foundation plate

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Toxicology (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • Physical Vapour Deposition (AREA)

Description

(WiGBl. S. 175)
AUSGEGEBENAM 21. MAI 1964
S19092 VIb/48 b
Es ist üblich, bei der Herstellung von Selengleichrichtern das Selen auf eine metallische Trägerplatte thermisch aufzudampfen. Bei einer bekannten Vorrichtung für diesen Zweck werden die Trägerplatten mit Hilfe eines endlosen Förderbandes in normaler Atmosphäre an mehreren hintereinanderliegenden Verdampfern vorbeigeführt. Die Platten werden vor dem Bedampfen einmalig vorgeheizt ; für eine konstante Temperatur der Platten während der aufeinanderfolgenden Bedampfungsvorgänge ist daher keine Gewähr gegeben. Die Platten werden einerseits durch einen künstlich erzeugten Luftstrom gekühlt; andererseits wird bei jeder Teilbedampfung die Temperatur in unkontrollierter Weise wieder erhöht.
Es wurde ferner bereits zur Herstellung von Selengleichrichtern eine Vorrichtung zum Aufdampfen des Selens im Vakuum vorgeschlagen, deren Vakuumbehälter aus einer vertikal stehenden Grundplatte und einer in horizontaler Richtung be- ao weglichen Glocke besteht, wobei alle für das Aufdampfen benötigten Einrichtungen an der Grundplatte befestigt sind. Die zu bedampfenden Metallplatten sind hierbei ortsfest gelagert, während das das Bedampfungsgut enthaltende Schiffchen unter diesen Platten periodisch hin- und herbewegt wird. Die Platten sind von der Rückseite her geheizt.
Weiterhin ist bereits eine Vorrichtung zur Bedampfung optischer Elemente, z. B. Linsen, beschrieben worden, bei der mehrere zu bedampfende Teile innerhalb eines Vakuumbehälters auf einem Drehtisch befestigt sind. Der Drehtisch ist in beträchtlicher Entfernung von der Bedampfungsquelle angeordnet, damit die Flächen einigermaßen gleich-
409 592/14
mäßig bedampft werden. Dadurch ist jedoch ein erheblicher Verlust an Bedampfungsmaterial bedingt, der bei der Herstellung von Selengleichrichtern untragbar wäre. Man könnte diesen Verlust dadurch herabsetzen, daß man den Drehtisch nahe an die Bedampfungsquelle heranrückt; dadurch würde jedoch die Bedampf ung völlig ungleichmäßig werden.
Die vorliegende Erfindung bezieht sich auf eine ίο Vorrichtung zum Herstellen von Trockengleichrichterplatten durch Aufdampfen von Selen auf Metallplatten mit einem Vakuumrezipienten, in welchem eine Fördervorrichtung zur Relativbewegung der Bedampfungsquelle und der Platten gegeneinander und Heizelemente zum Beheizen der Metallplatten angeordnet sind. Sie besteht darin, daß die Fördervorrichtung als mit gleichförmiger Geschwindigkeit umlaufender Trommelkäfig oder endlose Kette mit übereinanderliegenden! Vor- und Rücktrum ausgebildet ist, welche die Platten an der stillstehenden Bedampfungsquelle vorbeiführt, und daß die sich über die ganze Fläche sämtlicher Platten erstreckenden Heizelemente entweder auf der Innenseite des Umfanges des Rezipienten stillas stehend oder an der Fördervorrichtung mit den zu bedampfenden Platten umlaufend angebracht sind. Durch die Erfindung wird es ermöglicht, die zu bedampfenden Platten mehrfach mit konstanter, für alle Punkte der Platten gleicher Geschwindigkeit und mit gleichen zeitlichen Abständen zwischen den einzelnen Bedampfungsvorgängen an der Bedampfungsquelle vorbeizuführen, so daß die Selenschicht aus mehreren, unter völlig gleichen Bedingungen entstehenden Teilschichten gleicher Dicke aufgebaut wird. Entsprechend der Bauweise der Vorrichtung ergeben sich zwischen den einzelnen Bedampfungsvorgängen längere Zeitintervalle, in denen die Platten nicht bedampft werden. Die vorgesehene Heizung ermöglicht es, die Platten zur Erzielung eines gleichmäßig kristallinen Gefüges der aufgedampften Schichten auch in diesen Intervallen unverändert auf erhöhter Temperatur zu halten. Es hat sich gezeigt, daß gerade diese Wärmebehandlung der dünnen Einzelschichten unmittelbar nach ihrer Entstehung für die Güte des fertigen Gleichrichters von wesentlicher Bedeutung ist.
Die Bedampfungsquelle kann aus einer oder mehreren Verdampfungswannen bestehen, die sich über die ganze Plattenlänge erstrecken. Diese Verdampfungswannen können entweder innerhalb, beispielsweise unterhalb des oberen Teiles der Fördervorrichtung, angeordnet sein; sie können sich aber auch außerhalb der Fördervorrichtung befinden und unterhalb des unteren Teiles derselben angeordnet sein. Die Fördervorrichtung kann mit Vorteil an einer senkrechten Platte gehalten sein, die als Grundplatte des Rezipienten dient, wobei die Rezipientenglocke in horizontaler Richtung abziehbar ist. Die Glocke kann hierzu auf Schienen od. dgl. mittels Rollen geführt sein.
Die Heizelemente, die sich einerseits über die gesamte Plattenbreite, andererseits über den gesamten Umfang der Fördervorrichtung erstrecken, können beispielsweise aus elektrischen Heizleitern bestehen,, die auf einem an der Innenwand der Rezipientenglocke befestigten Vieleckrahmen mit gleichem Abstand voneinander in der Weise aufgewickelt sind, daß sie die Fördervorrichtung mit den zu bedampfenden Platten bei geschlossenem Rezipenten konzentrisch umgeben. Die Heizelemente können aber auch in entsprechender Weise innerhalb der Fördervorrichtung ortsfest oder mitdrehbar angeordnet sein, insbesondere dann, wenn die Bedampfung von außen erfolgt. Beim öffnen des Rezipienten liegen dann jeweils die bedampften Platten völlig frei, so daß sie leicht ausgewechselt werden können.
An Hand der Zeichnung werden einige Ausführungsbeispiele der Erfindung im einzelnen beschrieben. Es zeigt in teilweiser schematischer Darstellung
Fig. ι eine Seitenansicht der Bedampfungsvorrichtung mit drehbarem Trommelkäfig und abgezogener Rezipientenglccke in teilweisem Schnitt,
Fig. 2 einen teilweisen Querschnitt durch die Vorrichtung nach Fig. 1 in geschlossenem Zustand und
Fig. 3 einen teilweisen Längsschnitt, Fig. 4 einen Teil des Trommelkäfigs mit einer Steuerkulisse zum Vorbeiführen der zu bedampfenden Platten an der Bedampfungsquelle in gleichbleibendem Abstand von derselben,
Fig. 5 eine Einzelheit am Trommelkäfig, Fig. 6 einen Schnitt durch die Bedampfungsvorrichtung mit innerhalb des Trommelkäfigs liegender Heizung,
Fig. 7 eine Bedampfungsvorrichtung mit Kettenförderung der zu bedampfenden Platten und
Fig. 8 einen teilweisen Querschnitt durch die Fördervorrichtung nach Fig. 7.
In Fig. ι bis 3 ist 1 ein um eine horizontale Achse drehbarer Trommelkäfig, der im wesentlichen aus dem Ring 2 und dem Tragstern 3 sowie den dazwischenliegenden Haltestäben 4 besteht, die in gleichmäßigen Abständen auf dem Umfang zu einem Zwölfeck verteilt sind. Zwischen diesen Haltestäben werden die zu bedampfenden Platten 5 befestigt, so daß diese ein geschlossenes Zwölfeck bilden. Zur Befestigung der Platten 5 an den Haltestäben 4 tragen diese an einzelnen Stellen bei" 6 kleine nicht näher dargestellte Aufnahmen, die die Platten, ohne diese merklich abzudecken, nur an einzelnen Punkten am Rande fassen. Der Tragsterns ist auf der Welle 7 befestigt, die bei 8 in geeigneter Weise, z. B. durch eine Kette, in gleichmäßige Drehung versetzt wird. 9 ist die Grundplatte des Rezipienten und 10 die im geschlossenen Zustand auf dieser aufsitzende und den Trommelkäfig ι umschließende Rezipientenglocke. Die Welle 7 ist unter Anwendung einer besonderen Dichtung durch diese Grundplatte 9 hindurchgeführt. 49 ist der Saugstutzen für die Vakuumpumpe und 11 eine Haltevorrichtung, beispielsweise ein oder mehrere Träger, an der die Bedampfungsvorrichtung befestigt ist. Um das Abziehen der Re-
zipientenglocke ίο zu erleichtern, kann diese auf Schienen 12, 13 mittels Rollen 14, 15 geführt sein. Bei der in den Fig. 1 bis 3 dargestellten Einrichtung wird die Bedampfung der in Vieleckanordnung umlaufenden Platten 5 von innen vorgenommen. Die Bedampfungsquelle befindet sich in geeignetem Abstand unterhalb des höchsten Punktes der Vieleckanordnung. Im Ausführungsbeispiel sind drei Verdampfungswannen 16, 17, 18 vorhanden, die sich in elektrisch beheizten Behältern 19 bis 21 befinden und sich über die ganze Länge der zu behandelnden Platten erstrecken. Im Ausführungsbeispiel ist der Trommelkäfig zur Aufnahme von je zwei hintereinander angeordneten Platten 5, zusammen also für vierundzwanzig Platten, eingerichtet. Dementsprechend sind auch in Fig. 3 zwei Verdampfungseinheiten hintereinander gezeichnet. Statt dreier in verschiedener Höhe angeordneter Verdampfungswannen 16 bis 18 können auch nur eine oder mehrere angeordnet sein.
Beim Antrieb der Welle 7 bzw. des Trommelkäfigs ι wandern somit die einzelnen Platten 5 mit gleichbleibender Geschwindigkeit und in gleichbleibender Richtung an der Bedampfungsquelle 16 bis 18 vorbei, so daß alleTeile der einzelnen Platten unter gleichen Bedingungen dem Selendampf ausgesetzt sind. Außerdem wiederholt sich die Bedampfung der einzelnen Plattenpartien in gleichen Zeitabständen, so daß die Gewähr für eine gleichmäßige Ausbildung des aufgedampften Selenniederschlages gegeben ist.
Um die Platten zu beheizen, ist bei der neuen Einrichtung eine die ganze Vieleckanordnung der Platten 5 konzentrisch umgebende elektrische Heizung vorhanden. Diese besteht aus einem oder mehreren elektrisch parallelen Heizleitern 22, die auf einem, zweckmäßig durch im Vieleck angeordnete Isolierstäbe 23 gebildeten Rahmen aufgewickelt sind, welcher auf der Innenseite der Rezipientenglocke ίο befestigt ist. Vorteilhaft ist zwischen der Heizvorrichtung 22, 23 und der Rezipientenwand 10 noch ein Isoliermantel eingefügt, der beispielsweise aus einer oder mehreren zylinderförmigen Wänden 24 aus Blech, Keramik od. dgl. bestehen kann. Beim Abziehen der Rezipientenglocke wird also gleichzeitig die Heizung mit abgezogen, so daß die Platten 5 auf dem Trommelkäfig zur Auswechselung frei zugänglich sind. Durch diese Heizanordnung werden die Platten auf ihrem ganzen So Wege während des ganzen Behandlungsvorganges auf gleichbleibender Temperatur gehalten. Der elektrische Anschluß zum Heizkörper kann durch flexible Kabel oder gegebenenfalls auch durch eine Steckervorrichtung oder sonstige Kontakte erfolgen, die den Stromkreis geschlossen halten, solange die Rezipientenglocke 10 auf der Grundplatte 9 aufliegt. 25 bis 28 sind innerhalb des drehbaren Trommelkäfigs angeordnete Füllkörper zur Verringerung des Rezipientenraumes. Diese Füllkörper können beispielsweise dichtgeschweißte1 Hohlkörper sein, welche an der Grundplatte 9 des Rezipienten in geeigneter Weise befestigt sind. Dabei kann der obere Füllkörper 25 gleichzeitig als Auflage für die Bedampfungsquelle 16 bis 21 dienen, während der untere Füllkörper 28 ein Stützlager 29 für die Welle 7 tragen kann.
Der Ring 2 ist vorteilhaft als Laufring ausgebildet, der sich an einzelnen auf den Umfang verteilten und an der Platte 9 gelagerten Laufrollen 30 abstützt, so daß die Welle 7 durch das Gewicht des Trommelkäfigs nur in der Nähe des Stützlagers 29 beansprucht ist.
Die Welle 7 kann auch entbehrt werden, wenn der Trommelkäfig 1 noch mit einem oder gegebenenfalls mehreren Laufringen versehen wird, die durch ortsfeste Laufrollen getragen und zentrisch geführt werden, und wenn außerdem ein Teil der Rollen von außen angetrieben wird. Der antreibende Teil der Rollen kann dabei auch gezahnt sein und in einen gezahnten Teil der Laufringe eingreifen. Bei einer solchen Ausführung des Antriebs kann gegebenenfalls auch der Tragstern 3 entfallen,, sofern diesem nur die Aufgabe des Antriebs des Trommelkäfigs zukommt.
Bei der in Fig. 1 bis 3 dargestellten Anordnung der Heizung kann ein Teil der von den Heizkörpern erzeugten Wärmeenergie verlorengehen. Wirtschaftlicher wird die Ausnutzung des Heizkörpers, wenn er innerhalb der Umlaufbahn für die zu bedampfenden Platten 5 angeordnet ist. Es kann vorteilhaft sein, in diesem Fall die Bedampfungsquelle außerhalb und unterhalb der geschlossenen Umlaufbahn für die Platten 5 anzuordnen, wie es in Fig. 6 schematisch dargestellt ist.
In Fig. 6 ist 10 die Rezipientenglocke, 5 sind die auf dem nicht näher dargestellten Trommelkäfig angeordneten umlaufenden Platten, und 31 ist der im Vieleck den Platten 5 so zugeordnete elektrische Heizkörper, daß der Abstand zwischen diesem und den Platten 5 an allen Stellen gleich groß ist. Dieser Heizkörper läuft mit den Platten bzw. mit dem sie tragenden Rahmen um. Die Bedampfung der Platten 5 erfolgt von unten durch eine oder mehrere bei 33 angeordnete Verdampfungswannen.
Bei der in Fig. 2 dargestellten Anordnung ist der Abstand der Platten 5 von den Verdampfungswannen 16 bis 18 beim Vorbeigang jeweils an den Rändern der Platten etwas größer als in der Mitte derselben. Um den Abstand an. allen Stellen der Platte während des Bedampf ungs Vorganges gleich groß zu halten und damit die Gewähr für eine absolut gleichmäßige Bedampfung zu erhalten, können die zu bedampfenden Platten am Trommelkäfig schwenkbar angeordnet sein und mit einer Schwenkvorrichtung in Verbindung stehen, welche sie während des Vorbeiganges vor der Bedampfungsquelle in die erforderliche Lage schwenkt. Ein Ausführungsbeispiel hierfür ist in Fig. 4 und 5 gegeben. In Fig. 4 sind die Enden der Haltestäbe 4 für die Platten 5 an oder in den Armen 32 von zwei drehbaren Tragsternen gegen Federn radial verschiebbar gelagert und greifen beim Vorbeigang an der Bedampfungsquelle 33 mit ihren Enden in zwei an beiden Seiten des Trommelkäfigs ortsfest angeordnete Kulissenführungen 34 ein, welche so verlaufen, daß der Plattenabstand von der Bedamp-
fungsquelle33 während des Vorbeiganges konstant bleibt.
Wie aus Fig. 5 ersichtlich ist, kann das Ende der Haltestäbe 4 in einem Längsschlitz 38 der Arme 32 geführt und unter dem Druck zweier Federn 35, 36 in einer mittleren Lage gehalten werden, in der sich die Federn gegen feste Anschläge 37 abstützen. Diese mittlere Lage entspricht der Stellung der Haltestäbe 4 während des Umlaufes auf dem unteren Teil ihrer Bahn. Beim Eintritt der Enden des Haltestabes 4 in die Kulisse 34 wird dieser dann entgegen der Wirkung der Federn 35 und 36 in dem Längsschlitz 38 je nach dem Verlauf der Steuerkulisse 34 nach oben oder nach unten verschoben.
Der Verlauf der Kulisse 34 ist so gewählt, daß der gegenseitige Abstand zwischen zwei benachbarten Haltestäben 4 zwangläufig der gleiche bleibt, d. h. also, daß dann, wenn der vorausgehende Haltestab 4 aus der normalen Lage nach innen verschoben wird, der nachfolgende Haltestab 4 um einen entsprechenden Betrag nach außen verschoben wird, und umgekehrt.
Die Einrichtung zur verschiebbaren Halterung der Stäbe 4 gemäß Fig. 5 ist nur beispielsweise dargestellt, sie kann jede andere geeignete Ausführung haben, welche die geschilderte Lageänderung zur Herstellung eines konstanten Plattenabstandes von der Bedampfungsquelle33 ermöglicht. Auch können die Platten in anderer Weise schwenkbar gemacht und durch Nocken od. dgl. so geschwenkt oder gedreht werden, daß der Plattenabstand von der Bedampfungsquelle konstant bleibt.
Es besteht auch die Möglichkeit, die Verdampfungswannen heb- und senkbar anzuordnen und sie durch eine Ncckenanordnung od. dgl. so zu steuern, daß sie in gleichbleibendem Abstand von allen Stellen der an ihnen vorbeiwandernden Platten gehalten werden.
Bei der Einrichtung nach Fig. 7 und 8 ist als Fördervorrichtung für die Platten 5 eine Kette verwendet. Hierbei erhält man den Vorteil, daß die Umlaufbahn für die zu bedampfenden Platten eine ebene Stelle erhalten kann, so daß keine besonderen Vorkehrungen zur Einhaltung eines konstanten Plattenabstandes zur Bedampfungsquelle erforderlich werden. In Fig. 7 hat die Umlaufbahn eine im wesentlichen ovale Grundform, wobei die Laufstrecke der Platten über den Verdampfungs wannen völlig eben ist.
Gemäß Fig. 8 kann die Fördervorrichtung aus zwei Ketten40, 41, z.B. Rollenketten, bestehen, zwischen denen sich im Abstand der Breite der zu bedampfenden Platten Haltestäbe 42 erstrecken, die in den Gliedern der Ketten 40, 41 gelagert sein können. Zur Führung der Förderketten 40, 41 können ortsfeste Führungsbahnen 43, 44 dienen, auf denen an den Enden der Haltestäbe 42 gelagerte Rollen 45, 46 laufen. Durch ein von außen angetriebenes Kettenradpaar 47 wird die Förderkette in nicht näher dargestellter Weise von außen in gleichmäßige Bewegung gesetzt. Die Förderkette kann nach unten beliebig weit durchgängen und gegebenenfalls zur Unterbringung einer größeren Anzahl von zu bedampfenden Platten auch auf Umwegen geführt sein. Auch bei dieser Anordnung können zur Ausfüllung des Rezipientenraumes Füllkörper verwendet werden. Ferner kann die Beheizung der Platten durch einen deren Förderweg parallelen Heizkörper vorgesehen sein, der entweder — ähnlich wie in Fig. 1 bis 3 — in der Rezipientenglocke untergebracht ist, oder es kann der Heizkörper im Sinne der Fig. 6gegebenenfalls auch innerhalb der Umlaufbahn 43, jedoch ortsfest angeordnet sein. Der Querschnitt der Rezipientenglocke kann der Umlaufbahn der Platten angepaßt sein.
Die Haltestäbe 42 können — ähnlich wie beim Ausführungsbeispiel nach Fig. 1 bis 4 — wieder mit Aufnahmen bzw. Haltemitteln versehen sein, welche die zu bedampfenden Platten nur an einzelnen Stellen mit beiderseitigem geringem Randübergriff fassen, so daß sowohl für die Bedampfung als auch für die Beheizung eine möglichst geringe Abdeckung der beiden Plattenoberflächen stattfindet. Um diese Abdeckung besonders klein zu halten oder ganz zu vermeiden, kann es vorteilhaft sein, statt mechanischer Haltemittel magnetische zu verwenden und die Platten beispielsweise durch mehrere permanente Magnete an der Fördervorrichtung zu halten.

Claims (19)

PATENTANSPRÜCHE:
1. Vorrichtung zum Herstellen von Trockeiigleichrichterplatten durch Aufdampfen von Selen auf Metallplatten mit einem Vakuumrezipienten, in welchem eine Fördervorrichtung zur Relativbewegung der Bedampfungsquelle und der Platten gegeneinander und Heizelemente zum Beheizen der Metallplatten angeordnet sind, ,dadurch gekennzeichnet, daß die Fördervorrichtung als mit gleichförmiger Geschwindigkeit umlaufender Trommelkäfig oder endlose Kette mit übereinanderliegenden! Vor- und Rücktrum ausgebildet ist, welche die Platten an der stillstehenden Bedampfungsquelle vorbeiführt, und daß die sich über die ganze Fläche sämtlicher Platten erstreckenden Heizelemente entweder auf der Innenseite des Umfanges des Rezipienten stillstehend oder an der Fördervorrichtung mit den zu bedampfenden Platten umlaufend angebracht sind.
2. Vorrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Bedampfungsquelle innerhalb der Fördervorrichtung angeordnet ist.
3. Vorrichtung nach Anspruch 1,. dadurch gekennzeichnet, daß die Bedampfungsquelle unterhalb der Fördervorrichtung angeordnet ist.
4. Vorrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß der Rezipient aus einer vertikalen Grundplatte und einer von dieser horizontal abziehbaren Glocke besteht.
5. Vorrichtung nach Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet, daß die Glocke auf einer oder mehreren Schienen, vorzugsweise mit Hilfe von Rollen, geführt ist.
6. Vorrichtung nach Anspruch i, dadurch gekennzeichnet, daß die Heizelemente aus einem oder mehreren Heizleitern bestehen, welche vorzugsweise auf einem an der Rezipienten-Innenwand befestigten Vieleckrahmen mit gleichem Abstand voneinander aufgewickelt sind.
7. Vorrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß Haltemittel für die zu bedampfenden Platten an der Fördervorrichtung so angeordnet sind, daß die Platten von außen ausgewechselt werden können.
8. Vorrichtung nach Anspruch 7, dadurch gekennzeichnet, daß die Haltemittel die zu bedampfenden Platten nur an einzelnen Stellen mit beiderseitigem geringem Randübergriff fassen.
9. Vorrichtung nach Anspruch 7, gekennzeichnet durch magnetische Haltemittel für die zu bedampfenden Platten.
10. Vorrichtung nach Anspruch 1 mit Trommelkäfig, dadurch gekennzeichnet, daß der Trommelkäfig von einer zentralen, durch die Abschlußplatte des Rezipienten luftdicht hindurchgeführten Welle (Antriebsachse) getragen und von außen angetrieben wird.
11. Vorrichtung nach Anspruch 10, dadurch gekennzeichnet, daß die Antriebsachse innerhalb des Trommelkäfigs ein Stützlager hat.
12. Vorrichtung nach Anspruch 1 mit Trommelkäfig, dadurch gekennzeichnet, daß der Trommelkäfig einen oder mehrere auf Rollen gelagerte Laufringe hat.
13. Vorrichtung nach Anspruch 12, dadurch gekennzeichnet, daß der Trommelkäfig über einen oder mehrere Laufringe durch diesen zugeordnete Rollen angetrieben wird.
14. Vorrichtung nach Anspruch 12, dadurch gekennzeichnet, daß die Rollen und die Laufringe mindestens teilweise gezahnt sind.
15. Vorrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß der freie Raum innerhalb der Fördervorrichtung durch Füllkörper, z. B. luftdichte Hohlkörper, ausgefüllt ist.
16. Vorrichtung nach Anspruch 1 mit Trommelkäfig, dadurch gekennzeichnet, daß die zu bedampfenden Platten an dem Trommelkäfig schwenkbar angeordnet sind und durch eine ortsfeste Kulisse derart gesteuert werden, daß sie an der Bedampfungsquelle in mindestens annähernd gleichbleibendem Abstand vorbeigeführt werden.
17. Vorrichtung nach Anspruch 16, dadurch gekennzeichnet, daß die Haltemittel (4) für die zu bedampfenden Platten radial verschiebbar gelagert sind und von der Kulisse gesteuert werden.
18. Vorrichtung nach Anspruch 1 mit endloser Kette, dadurch gekennzeichnet, daß die Kette im Bereich der Bedampfungsquelle eine ebene Bahn hat.
19. Vorrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Bedampfungsquelle heb- und senkbar angeordnet und mit einer sie zu den zu bedampfenden Platten in gleichbleibendem Abstand haltenden Verstellvorrichtung verbunden ist.
In Betracht gezogene Druckschriften:
Deutsche Patentschriften Nr. 456772, 504418,
623488, 747257> 825990;
deutsche Patentanmeldungen H4962 VIb/48b
(bekanntgemacht am 20.9.1951); ρ 51595 VI a/48b
(bekanntgemacht am 19. 7. 1951);
französische Patentschriften Nr. 805 066,
922395;
britische Patentschrift Nr. 616 812;
USA.-Patentschriften Nr. 1 551 850, 2339613, 2382432, 2423051, 2426377, 2479541;
»Modern Plastics«, April 1950, S. 135 ff., 138/9, 140.
Hierzu 2 Blatt Zeichnungen
© 409 592/14 5.
DES19092A 1950-09-12 1950-09-12 Vorrichtung zum Herstellen von Trockengleichrichterplatten Expired DE976803C (de)

Priority Applications (6)

Application Number Priority Date Filing Date Title
NL111901D NL111901C (de) 1950-09-12
DES19092A DE976803C (de) 1950-09-12 1950-09-12 Vorrichtung zum Herstellen von Trockengleichrichterplatten
CH295231D CH295231A (de) 1950-09-12 1951-08-17 Verfahren und Vorrichtung zum Aufdampfen von Metall auf Platten, insbesondere Selen, zur Herstellung von Trockengleichrichtern.
US245498A US2768098A (en) 1950-09-12 1951-09-07 Method and apparatus for precipitating metal from the vaporous state onto plates, particularly for the production of selenium coated rectifier plates
NL6509695A NL6509695A (de) 1950-09-12 1965-07-27
NL6509694A NL6509694A (de) 1950-09-12 1965-07-27

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DES19092A DE976803C (de) 1950-09-12 1950-09-12 Vorrichtung zum Herstellen von Trockengleichrichterplatten

Publications (1)

Publication Number Publication Date
DE976803C true DE976803C (de) 1964-05-21

Family

ID=7475783

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DES19092A Expired DE976803C (de) 1950-09-12 1950-09-12 Vorrichtung zum Herstellen von Trockengleichrichterplatten

Country Status (4)

Country Link
US (1) US2768098A (de)
CH (1) CH295231A (de)
DE (1) DE976803C (de)
NL (3) NL6509695A (de)

Families Citing this family (16)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US2885997A (en) * 1956-02-06 1959-05-12 Heraeus Gmbh W C Vacuum coating
FR1191404A (fr) * 1958-02-10 1959-10-20 Ct D Etudes Et De Dev De L Ele Procédé de réalisation de diodes et produits industriels en résultant
DE1236900B (de) * 1959-03-13 1967-03-16 Erwin Lothar Holland Merten Vorrichtung zum Herstellen von metallischen UEberzuegen auf plattenfoermigen Koerpern oder Werkstuecktraegern durch Vakuum-Aufdampfen
US3061919A (en) * 1959-07-13 1962-11-06 Clevite Corp Magnetic loading method and apparatus
US3503368A (en) * 1965-10-07 1970-03-31 Western Electric Co Apparatus for sequentially vacuum depositing metal film on substrates
US3375804A (en) * 1966-08-05 1968-04-02 Fabri Tek Inc Film deposition apparatus
US3384049A (en) * 1966-10-27 1968-05-21 Emil R. Capita Vapor deposition apparatus including centrifugal force substrate-holding means
US3659552A (en) * 1966-12-15 1972-05-02 Western Electric Co Vapor deposition apparatus
GB1173978A (en) * 1967-11-14 1969-12-10 Edwards High Vaccum Internat L Vacuum Deposition Apparatus
US3603285A (en) * 1968-11-05 1971-09-07 Massachusetts Inst Technology Vapor deposition apparatus
US3585965A (en) * 1969-01-09 1971-06-22 Hughes Aircraft Co Development chamber
US3699917A (en) * 1970-10-02 1972-10-24 Cogar Corp Vapor deposition apparatus
US3735728A (en) * 1971-12-01 1973-05-29 Andvari Inc Apparatus for continuous vacuum deposition
US3845739A (en) * 1972-04-17 1974-11-05 Xerox Corp System for vapor deposition of thin films
US6096998A (en) * 1996-09-17 2000-08-01 Micron Technology, Inc. Method and apparatus for performing thermal reflow operations under high gravity conditions
US9029737B2 (en) * 2013-01-04 2015-05-12 Tsmc Solar Ltd. Method and system for forming absorber layer on metal coated glass for photovoltaic devices

Citations (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE623488C (de) *
US1551850A (en) * 1924-08-29 1925-09-01 Georg E Schmidmer Device for metallizing textile fabrics and the like by means of disintegration of cathodes
DE456772C (de) * 1928-03-01 Wilhelm Anton Franz Pfanhauser Verfahren zum gleichmaessigen UEberziehen von Gegenstaenden mit Metallen im Vakuum durch Elektrodenzerstaeubung
DE504418C (de) * 1928-02-28 1930-08-04 Siemens & Halske Akt Ges Verfahren zur Metallisierung thermisch unbestaendiger Stoffe, besonders organischer Isolierstoffe
FR805066A (fr) * 1935-08-02 1936-11-10 Dispositif pour la production de dépôts par sublimation dans le vide
US2339613A (en) * 1942-02-27 1944-01-18 Bell Telephone Labor Inc Selenium rectifier and method of making it
DE747257C (de) * 1943-03-05 1944-09-18 Bosch Gmbh Robert Vorrichtung zur Metallisierung laufender Baender durch Metallbedampfung im Vakuum
US2382432A (en) * 1940-08-02 1945-08-14 Crown Cork & Seal Co Method and apparatus for depositing vaporized metal coatings
FR922395A (fr) * 1945-02-19 1947-06-06 Int Standard Electric Corp Perfectionnements à la fabrication des redresseurs secs
US2423051A (en) * 1945-09-05 1947-06-24 Ruben Samuel Selenium depositing machine
US2426377A (en) * 1943-12-07 1947-08-26 Ruben Samuel Selenium rectifier and method of making
GB616812A (en) * 1945-03-12 1949-01-27 Standard Telephones Cables Ltd Method of manufacture of selenium rectifier elements
US2479541A (en) * 1942-12-29 1949-08-16 American Optical Corp Apparatus for treating surfaces
DE825990C (de) * 1950-02-08 1951-12-27 Sueddeutsche App Fabrik G M B Anordnung eines mit einem Deckel verschliessbaren Behaelters

Family Cites Families (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US1313410A (en) * 1919-08-19 Device for
US1758531A (en) * 1926-10-22 1930-05-13 Elektrodenzerstaubung M B H Ge Vacuum dispersion coating process
US2344138A (en) * 1940-05-20 1944-03-14 Chemical Developments Corp Coating method
US2260471A (en) * 1940-09-28 1941-10-28 Eastman Kodak Co Nonreflecting coating for glass
US2337329A (en) * 1941-12-18 1943-12-21 Gen Electric Treatment of surfaces
US2508500A (en) * 1942-05-23 1950-05-23 Hartford Nat Bank & Trust Co Apparatus for applying metal coatings on insulators
US2369764A (en) * 1943-09-30 1945-02-20 Bausch & Lomb Apparatus for forming optical wedges
US2508509A (en) * 1945-01-13 1950-05-23 Bell Telephone Labor Inc Apparatus for coating hollow objects
US2561077A (en) * 1946-04-04 1951-07-17 Honeywell Regulator Co Radiation pyrometer
US2456241A (en) * 1946-11-22 1948-12-14 Farrand Optical Co Inc Method of making optical transmission filters by thermal evaporation
US2532971A (en) * 1947-04-12 1950-12-05 Pacific Universal Products Cor Method and apparatus for producing optical coatings

Patent Citations (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE456772C (de) * 1928-03-01 Wilhelm Anton Franz Pfanhauser Verfahren zum gleichmaessigen UEberziehen von Gegenstaenden mit Metallen im Vakuum durch Elektrodenzerstaeubung
DE623488C (de) *
US1551850A (en) * 1924-08-29 1925-09-01 Georg E Schmidmer Device for metallizing textile fabrics and the like by means of disintegration of cathodes
DE504418C (de) * 1928-02-28 1930-08-04 Siemens & Halske Akt Ges Verfahren zur Metallisierung thermisch unbestaendiger Stoffe, besonders organischer Isolierstoffe
FR805066A (fr) * 1935-08-02 1936-11-10 Dispositif pour la production de dépôts par sublimation dans le vide
US2382432A (en) * 1940-08-02 1945-08-14 Crown Cork & Seal Co Method and apparatus for depositing vaporized metal coatings
US2339613A (en) * 1942-02-27 1944-01-18 Bell Telephone Labor Inc Selenium rectifier and method of making it
US2479541A (en) * 1942-12-29 1949-08-16 American Optical Corp Apparatus for treating surfaces
DE747257C (de) * 1943-03-05 1944-09-18 Bosch Gmbh Robert Vorrichtung zur Metallisierung laufender Baender durch Metallbedampfung im Vakuum
US2426377A (en) * 1943-12-07 1947-08-26 Ruben Samuel Selenium rectifier and method of making
FR922395A (fr) * 1945-02-19 1947-06-06 Int Standard Electric Corp Perfectionnements à la fabrication des redresseurs secs
GB616812A (en) * 1945-03-12 1949-01-27 Standard Telephones Cables Ltd Method of manufacture of selenium rectifier elements
US2423051A (en) * 1945-09-05 1947-06-24 Ruben Samuel Selenium depositing machine
DE825990C (de) * 1950-02-08 1951-12-27 Sueddeutsche App Fabrik G M B Anordnung eines mit einem Deckel verschliessbaren Behaelters

Also Published As

Publication number Publication date
NL111901C (de) 1900-01-01
NL6509694A (de) 1966-02-25
US2768098A (en) 1956-10-23
NL6509695A (de) 1966-02-25
CH295231A (de) 1953-12-15

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE976803C (de) Vorrichtung zum Herstellen von Trockengleichrichterplatten
DE2133574A1 (de) Vorrichtung zum Speichern von Hohlkörpern aus Eis
DE2712279C2 (de) Einrichtung zur Wärmebehandlung von zu behandelndem Gut, wie gegossenen Strängen und Barren, sowie Blöcken, Stangen, Rohren und dgl. insbesondere aus Aluminium- oder Magnesiumlegierungen
DE1006592B (de) Verfahren und Vorrichtung zum Erzeugen von UEberzuegen durch Eintauchen der zu ueberziehenden Glasgegenstaende od. dgl.
DE3103149A1 (de) Automatische maschine zum kontinuierlichen abpacken von produkten
DE1532923C3 (de) Backvorrichtung zur Herstellung flacher Backprodukte
DE1561967A1 (de) Automatische Verpackungsmaschine
DE2256256B1 (de) Vorrichtung zum auslegen und querschneiden von stoffbahnen
DE2644500C3 (de) Vorrichtung zum Zuführen von Kartuschhülsen o.a. einendig geschlossenen, hohlen Werkstücken, in einer bestimmten Ausrichtung
DE2450934A1 (de) Uebertragungsvorrichtung
EP2561114B1 (de) Vorrichtung zum beschichten von substraten nach dem eb/pvd-verfahren
DE1456661A1 (de) Verfahren und Vorrichtung zum Beschicken einer Schweissmaschine fuer Lichtgitterroste
DE621562C (de) Verfahren und Vorrichtung zum Trocknen oder Konditionieren von Zigaretten
DE475151C (de) Vorrichtung zur Erzeugung von UEberzuegen aus Schokolade oder aehnlichen Massen auf Backwaren, Zuckerkoerpern o. dgl.
DE3246196C2 (de) Ofen zum Glühen zylindrischer metallischer Körper
DE3240341C2 (de)
DE1602105A1 (de) Vorrichtung zur Weiterleitung langer Teile,z.B. von Rundstangen,U-Profilen,Winkeleisen und aehnlichen Teilen,in seitlicher Richtung
DE4113193A1 (de) Vorrichtung zum zufuehren von serienmaessig angeordneten produkten an eine nachfolgende verarbeitungsstation
DE4006046C1 (de)
DE2404679A1 (de) Vorrichtung zum bilden und foerdern von haengeschleifen
DE362931C (de) Hackmaschine mit rotierenden, periodisch in den Boden eingreifenden Hackmessern
DE681378C (de) Vorrichtung zum Trocknen frisch etikettierter Zuendholzschachteln
DE556840C (de) Vorrichtung zum Trocknen oder sonstigen Behandeln von Papierbahnen, Geweben o. dgl.
DE636274C (de) Vorrichtung zum Haerten von Schienen
DE955754C (de) Vorrichtung zum Formen und Trocknen von Zigarrenwickeln od. dgl.