DE971413C - Vorrichtung zum tiegellosen Zonenschmelzen - Google Patents
Vorrichtung zum tiegellosen ZonenschmelzenInfo
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- DE971413C DE971413C DES35587A DES0035587A DE971413C DE 971413 C DE971413 C DE 971413C DE S35587 A DES35587 A DE S35587A DE S0035587 A DES0035587 A DE S0035587A DE 971413 C DE971413 C DE 971413C
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C30—CRYSTAL GROWTH
- C30B—SINGLE-CRYSTAL GROWTH; UNIDIRECTIONAL SOLIDIFICATION OF EUTECTIC MATERIAL OR UNIDIRECTIONAL DEMIXING OF EUTECTOID MATERIAL; REFINING BY ZONE-MELTING OF MATERIAL; PRODUCTION OF A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; SINGLE CRYSTALS OR HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; AFTER-TREATMENT OF SINGLE CRYSTALS OR A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; APPARATUS THEREFOR
- C30B13/00—Single-crystal growth by zone-melting; Refining by zone-melting
- C30B13/16—Heating of the molten zone
- C30B13/22—Heating of the molten zone by irradiation or electric discharge
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Description
AUSGEGEBEN AM 22. JANUAR 1959
S3558T VII4od
Es ist bekannt, Metalle oder Halbleiter durch Elektronenbombardement zu schmelzen. Die Erfindung
betrifft eine besondere Ausbildung dieses Verfahrens in vorzugsweise besonders gearteten
Anwendungszwecken und Anordnungen. Die Erfindung geht von der Aufgabe aus, Halbleiterstücke,
ζ. B. Germanium, Silizium oder Verbindungen von Elementen der III. und V. oder II.
und VI. Gruppe des Periodischen Systems, in an ίο sich bekannter Weise zonenweise zu schmelzen.
Das zonenweise Schmelzen dient einer weiteren Reinigung unter gegebenenfalls gleichzeitiger
Einkristallbildung des Materials. Da es bei dieser Aufgabe darauf ankommt, alle bei dem Verfahren
selbst gegebenenfalls auftretenden zusätzlichen Verunreinigungen von vornherein auszuschließen,
wird das Verfahren im allgemeinen im Vakuum oder in einer inerten Gasatmosphäre durchgeführt.
Es ist auch vorgeschlagen worden, die Anordnung senkrecht freistehend auszubilden, wobei das stabförmige
Halbleitermaterial nur an den Enden gehaltert und an den zu schmelzenden Abschnitten in
keinerlei Berührung mit einer Gefäßwand ist.
Bei diesen Anordnungen steht nur ein verhältnismäßig geringer Raum zur Unterbringung der
Wärmequelle zur Verfugung. Bisher wurde das
809 711/1
Halbleitermaterial im allgemeinen durch Wärmestrahlung erhitzt, die von einem direkt oder indirekt
erhitzten Metall- oder Kohlering erzeugt wurde, welcher um den zu schmelzenden HaIbleiterstab
in einem gewissen Abstand· herumgelegt wurde und sich innerhalb des Vakuumgefäßes befand.
Die Schmelzzone war jedoch hierbei verhältnismäßig breit, da sich die Strahlung aus Raumgründen
nur schwer konzentrieren ließ. ίο Die Erfindung bezieht sidh auf eine Vorrichtung
zum tiegellosen Zonenschmelzen, wobei die Schmelzzone, durch einen an seinen Enden eingespannten,
vorzugsweise aufrecht stehenden Stab geführt wird, der konzentrisch in einem elektrisch beheizten und
axial zum Stab verschiebbaren Heizring angeordnet ist. Gemäß der Erfindung ist der Heizring als
Oxyd- bzw. Boridglühkathode ausgebildet, so daß durch Elektronenbesdhuß zonengesclimolzen wird.
Hierdurch werden die in der Einleitung geschilderten Schwierigkeiten weitgehend vermieden. Es
wird zu diesem Zweck ein Ring, der als Elektronenquelle dient, in analoger Weise wie die bisher verwendeten
Strahltmgsrkige um den stabförmigen,
zonenweise zu schmelzenden Körper herumgelegt und zwischen die ElektronenstraMungsquelle und
den zu behandelnden Körper eine Spannung gelegt. Hierdurch tritt bereits eine gewisse Konzentrierung
der Elektronenstralhlungswirkung auf einen schmalen Zonenbereioh ein,
Gemäß einer weiteren Ausbildung des Erfindiungsgedankens
wird diese Richtwirkung noch durch eine zusätzliche Schirmanordnung, vorzugsweise
eine Ringblende, erhöht, welche zweckmäßig auf ein gegen die Elektronenstrahlungsquelfe negatives
Potential gebracht wird.· Durch das Potential der Blende läßt sich das Schmelzverfahren gleichzeitig
steuern, wobei eine Wirkung auftritt, die der des Wehneltzylinders bei Kathodenstrahlröhren
entspricht.
Durch diese Anordnung wird der Vorteil erreicht, daß die Strahlungsquelle bei vergrößerter
Konzentrationswirkung sogar noch geringer zu dimensionieren ist, als es bisher möglich war. Es
ist hierbei insbesondere möglich, verhältnismäßig einfach mehrere dieser Strahlungsquellen innerhalb
des Vakuumgefäßes nebeneinander anzuordnen und in an sich bekannter Weise mehrere Zonen in
einem Simultanverfahren gleichzeitig zu schmelzen. Eine besondere Ausbildung des Erfindungsgedankens
ist darin zu erblicken, daß das Material der Elektronenstrahlungsquelle beim Schmelzen
mittels Elektronenbombardement als Metalloxydoder -boridkathode ausgebildet ist, und zwar vorzugsweise
aus besonders hochschmedzenden Metalloxyden oder gleichwertigen Stoffen besteht. Als
besonders geeignet hat sich hierbei Metallborid, wie z. B. Lantanborid (LaB6), erwiesen. In weiterer
Ausbildung des Erfindungsgedankens ist es vorgesehen, Erdoxyde, beispielsweise Nernststiftmasse,
als Oxydkathodenmaterial zu verwenden. Auf Grund der hohen Schmelztemperatur dieser Stoffe
und der geringen Austrittsarbeit erhält man bei ihrer Verwendung sehr starke Elektronenstrahlungsquellen,
die gerade für den im vorangehenden geschilderten Zweck von besonderem
Vorteil sind, weil sie in möglichst kleinen Abmessungen herzustellen sind. Außerdem besitzen
die genannten Stoffe den weiteren Vorteil, daß beim Elektronenbombardement keine Verunreinigungen
aus ihnen in den Schmelzung eingeführt werden. Bei der Verwendung z. B. von Wolframkathoden
würde die Gefahr bestehen, daß Teile des Wolframs verdampfen und in den Schmelzung
hineingelangen könnten.
In der Zeichnung ist eine Ausführungsform der Anordnung nach der Erfindung beispielsweise dargestellt,
ι bedeutet einen senkrecht angeordneten Stab aus chemisch höchst gereinigtem Germanium,
der an seinem oberen und seinem unteren Ende in Haltevorrichtungen 2 und 3 befestigt ist, welche
ihrerseits auf einem senkrecht in Richtung des Pfeiles 4 verschiebbaren Träger 5 angeordnet sind1.
Das Ganze ist in einem Vakuumgefäß 6 angeordnet, welches mit einem inerten Gas, insbesondere
Stickstoff gefüllt ist. Erfindungsgemäß ist innerhalb des Vakuumgefäßes 6 um den Stab 1 herum
eine ringförmige ElektronenstraMungsquelle 7 angeordnet ; zwischen dem· Ring 7 und dem Stab 1
befindet sich eine torusförmige Blende 8, welche zwischen dem Ring 7 und dem Stab 1 einen Ringschlitz
frei läßt. An den Stab 1, den Ring 7 und die Blende 8 sind Spannungen gelegt, von denen
mindestens die Spannung der Blende 8 verändert werden kann. Der Strahlungsring 7 wird in in der
Zeichnung nicht weiter' dargestellter Weise erhitzt. Dies kann entweder durch direkte Stromzufuhr
oder beispielsweise durch Wirbelstromheizung von außerhalb des Vakuumgefäßes 6 her erfolgen. Der
Ring 7 besteht aus einem Oxydkathodenmaterial, insbesondere einem Erdoxydgemisch nach Art
eines Nernststiftes.
Von besonderer Bedeutung ist die Erfindung für die Gewinnung von höchst reinen Halbleitereinkristallen
Wie Verwendung in Halbleiteranordnungen, wie z. B. Richtleitern, Detektoren, Transistoren,
Fototransistoren, Heißleitern u. dgl.
Claims (8)
- Patentansprüche:i. Vorrichtung zum tiegellosen Zonenschmelzen, wobei die Sdhmelzzone durch einen an seinen Enden eingespannten, vorzugsweise aufrecht stehenden Stab geführt wird, der konzentrisch in einem elektrisch beheizten und axial zum Stab verschiebbaren Heizring angeordnet ist, dadurch gekennzeichnet, daß der Heizring als Oxyd- bzw. Boridglühkathode ausgebildet ist, so daß durch Elektronenbeschuß zonengeschmolzen wird.
- 2. Anordnung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß der Kathodenkörper aus iao Lantanborid oder einer Mischung mehrerer Boride besteht.
- 3. Oxydkathode nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß sie aus Erdoxyd oder einem Gemisch von Erdoxyden, beispielsweise «5 aus Nernststiftmasse besteht.
- 4· Anordnung nach einem der Ansprüche ι bis 3, dadurch gekennzeichnet, daß der Kathodenkörper den vorzugsweise stabförmig langgestreckten Schmelzung ringförmig umgiibt.
- 5. Anordnung nach einem der Ansprüche 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet, daß zwischen der Kathode und dem Schmelzung eine vorzugsweise torusförmige Blende mit Ringschlitzöffnung angeordnet ist.
- 6. Anordnung nach Anspruch 5, dadurch gekennzeichnet, daß an die Ringschlitzblende eine vorzugsweise veränderliche, zur Kathode negative Spannung gelegt ist.
- 7. Anwendung der Anordnung nach einem der Ansprüche 1 bis 6 zum sogenannten Zonenschmelzen eines Halbleiters zwecks Reinigung und/oder Einkristallherstelking.
- 8. Halbleiteranordnung, beispielsweise Richtleiter, Detektor, Transistor, Fototransistor, Fieldistor, Heißleiter od. dgl., dadurch gekenn- so zeichnet, daß der in ihr verwendete Halbleiter mittels der Anordnung nach einem der Ansprüche ι bis 7 geschmolzen ist.In Betracht gezogene Druckschriften: Deutsche Patentschriften Nr. 581 423, 856 666.In Betracht gezogene ältere Patente: Deutsches Patent Nr. 1 014332.Hierzu 1 Blatt Zeichnungen© 609 546/405 6.56 (809 711/1 1.59)
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DES35587A DE971413C (de) | 1953-10-02 | 1953-10-02 | Vorrichtung zum tiegellosen Zonenschmelzen |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DES35587A DE971413C (de) | 1953-10-02 | 1953-10-02 | Vorrichtung zum tiegellosen Zonenschmelzen |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE971413C true DE971413C (de) | 1959-01-22 |
Family
ID=7481955
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DES35587A Expired DE971413C (de) | 1953-10-02 | 1953-10-02 | Vorrichtung zum tiegellosen Zonenschmelzen |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
DE (1) | DE971413C (de) |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE581423C (de) * | 1926-09-24 | 1933-07-27 | Aeg | Oxydkathode fuer Entladungsgefaesse |
DE856666C (de) * | 1950-03-31 | 1952-11-24 | Internat General Electric Co | Thermionischer Elektronenspender |
-
1953
- 1953-10-02 DE DES35587A patent/DE971413C/de not_active Expired
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE581423C (de) * | 1926-09-24 | 1933-07-27 | Aeg | Oxydkathode fuer Entladungsgefaesse |
DE856666C (de) * | 1950-03-31 | 1952-11-24 | Internat General Electric Co | Thermionischer Elektronenspender |
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