DE971413C - Vorrichtung zum tiegellosen Zonenschmelzen - Google Patents

Vorrichtung zum tiegellosen Zonenschmelzen

Info

Publication number
DE971413C
DE971413C DES35587A DES0035587A DE971413C DE 971413 C DE971413 C DE 971413C DE S35587 A DES35587 A DE S35587A DE S0035587 A DES0035587 A DE S0035587A DE 971413 C DE971413 C DE 971413C
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
arrangement according
cathode
rod
zone
boride
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired
Application number
DES35587A
Other languages
English (en)
Inventor
Dr Karl Siebertz
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Siemens AG
Original Assignee
Siemens AG
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Siemens AG filed Critical Siemens AG
Priority to DES35587A priority Critical patent/DE971413C/de
Application granted granted Critical
Publication of DE971413C publication Critical patent/DE971413C/de
Expired legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C30CRYSTAL GROWTH
    • C30BSINGLE-CRYSTAL GROWTH; UNIDIRECTIONAL SOLIDIFICATION OF EUTECTIC MATERIAL OR UNIDIRECTIONAL DEMIXING OF EUTECTOID MATERIAL; REFINING BY ZONE-MELTING OF MATERIAL; PRODUCTION OF A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; SINGLE CRYSTALS OR HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; AFTER-TREATMENT OF SINGLE CRYSTALS OR A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; APPARATUS THEREFOR
    • C30B13/00Single-crystal growth by zone-melting; Refining by zone-melting
    • C30B13/16Heating of the molten zone
    • C30B13/22Heating of the molten zone by irradiation or electric discharge

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)

Description

AUSGEGEBEN AM 22. JANUAR 1959
S3558T VII4od
Es ist bekannt, Metalle oder Halbleiter durch Elektronenbombardement zu schmelzen. Die Erfindung betrifft eine besondere Ausbildung dieses Verfahrens in vorzugsweise besonders gearteten Anwendungszwecken und Anordnungen. Die Erfindung geht von der Aufgabe aus, Halbleiterstücke, ζ. B. Germanium, Silizium oder Verbindungen von Elementen der III. und V. oder II. und VI. Gruppe des Periodischen Systems, in an ίο sich bekannter Weise zonenweise zu schmelzen. Das zonenweise Schmelzen dient einer weiteren Reinigung unter gegebenenfalls gleichzeitiger Einkristallbildung des Materials. Da es bei dieser Aufgabe darauf ankommt, alle bei dem Verfahren selbst gegebenenfalls auftretenden zusätzlichen Verunreinigungen von vornherein auszuschließen, wird das Verfahren im allgemeinen im Vakuum oder in einer inerten Gasatmosphäre durchgeführt. Es ist auch vorgeschlagen worden, die Anordnung senkrecht freistehend auszubilden, wobei das stabförmige Halbleitermaterial nur an den Enden gehaltert und an den zu schmelzenden Abschnitten in keinerlei Berührung mit einer Gefäßwand ist.
Bei diesen Anordnungen steht nur ein verhältnismäßig geringer Raum zur Unterbringung der Wärmequelle zur Verfugung. Bisher wurde das
809 711/1
Halbleitermaterial im allgemeinen durch Wärmestrahlung erhitzt, die von einem direkt oder indirekt erhitzten Metall- oder Kohlering erzeugt wurde, welcher um den zu schmelzenden HaIbleiterstab in einem gewissen Abstand· herumgelegt wurde und sich innerhalb des Vakuumgefäßes befand. Die Schmelzzone war jedoch hierbei verhältnismäßig breit, da sich die Strahlung aus Raumgründen nur schwer konzentrieren ließ. ίο Die Erfindung bezieht sidh auf eine Vorrichtung zum tiegellosen Zonenschmelzen, wobei die Schmelzzone, durch einen an seinen Enden eingespannten, vorzugsweise aufrecht stehenden Stab geführt wird, der konzentrisch in einem elektrisch beheizten und axial zum Stab verschiebbaren Heizring angeordnet ist. Gemäß der Erfindung ist der Heizring als Oxyd- bzw. Boridglühkathode ausgebildet, so daß durch Elektronenbesdhuß zonengesclimolzen wird. Hierdurch werden die in der Einleitung geschilderten Schwierigkeiten weitgehend vermieden. Es wird zu diesem Zweck ein Ring, der als Elektronenquelle dient, in analoger Weise wie die bisher verwendeten Strahltmgsrkige um den stabförmigen, zonenweise zu schmelzenden Körper herumgelegt und zwischen die ElektronenstraMungsquelle und den zu behandelnden Körper eine Spannung gelegt. Hierdurch tritt bereits eine gewisse Konzentrierung der Elektronenstralhlungswirkung auf einen schmalen Zonenbereioh ein,
Gemäß einer weiteren Ausbildung des Erfindiungsgedankens wird diese Richtwirkung noch durch eine zusätzliche Schirmanordnung, vorzugsweise eine Ringblende, erhöht, welche zweckmäßig auf ein gegen die Elektronenstrahlungsquelfe negatives Potential gebracht wird.· Durch das Potential der Blende läßt sich das Schmelzverfahren gleichzeitig steuern, wobei eine Wirkung auftritt, die der des Wehneltzylinders bei Kathodenstrahlröhren entspricht.
Durch diese Anordnung wird der Vorteil erreicht, daß die Strahlungsquelle bei vergrößerter Konzentrationswirkung sogar noch geringer zu dimensionieren ist, als es bisher möglich war. Es ist hierbei insbesondere möglich, verhältnismäßig einfach mehrere dieser Strahlungsquellen innerhalb des Vakuumgefäßes nebeneinander anzuordnen und in an sich bekannter Weise mehrere Zonen in einem Simultanverfahren gleichzeitig zu schmelzen. Eine besondere Ausbildung des Erfindungsgedankens ist darin zu erblicken, daß das Material der Elektronenstrahlungsquelle beim Schmelzen mittels Elektronenbombardement als Metalloxydoder -boridkathode ausgebildet ist, und zwar vorzugsweise aus besonders hochschmedzenden Metalloxyden oder gleichwertigen Stoffen besteht. Als besonders geeignet hat sich hierbei Metallborid, wie z. B. Lantanborid (LaB6), erwiesen. In weiterer Ausbildung des Erfindungsgedankens ist es vorgesehen, Erdoxyde, beispielsweise Nernststiftmasse, als Oxydkathodenmaterial zu verwenden. Auf Grund der hohen Schmelztemperatur dieser Stoffe und der geringen Austrittsarbeit erhält man bei ihrer Verwendung sehr starke Elektronenstrahlungsquellen, die gerade für den im vorangehenden geschilderten Zweck von besonderem Vorteil sind, weil sie in möglichst kleinen Abmessungen herzustellen sind. Außerdem besitzen die genannten Stoffe den weiteren Vorteil, daß beim Elektronenbombardement keine Verunreinigungen aus ihnen in den Schmelzung eingeführt werden. Bei der Verwendung z. B. von Wolframkathoden würde die Gefahr bestehen, daß Teile des Wolframs verdampfen und in den Schmelzung hineingelangen könnten.
In der Zeichnung ist eine Ausführungsform der Anordnung nach der Erfindung beispielsweise dargestellt, ι bedeutet einen senkrecht angeordneten Stab aus chemisch höchst gereinigtem Germanium, der an seinem oberen und seinem unteren Ende in Haltevorrichtungen 2 und 3 befestigt ist, welche ihrerseits auf einem senkrecht in Richtung des Pfeiles 4 verschiebbaren Träger 5 angeordnet sind1. Das Ganze ist in einem Vakuumgefäß 6 angeordnet, welches mit einem inerten Gas, insbesondere Stickstoff gefüllt ist. Erfindungsgemäß ist innerhalb des Vakuumgefäßes 6 um den Stab 1 herum eine ringförmige ElektronenstraMungsquelle 7 angeordnet ; zwischen dem· Ring 7 und dem Stab 1 befindet sich eine torusförmige Blende 8, welche zwischen dem Ring 7 und dem Stab 1 einen Ringschlitz frei läßt. An den Stab 1, den Ring 7 und die Blende 8 sind Spannungen gelegt, von denen mindestens die Spannung der Blende 8 verändert werden kann. Der Strahlungsring 7 wird in in der Zeichnung nicht weiter' dargestellter Weise erhitzt. Dies kann entweder durch direkte Stromzufuhr oder beispielsweise durch Wirbelstromheizung von außerhalb des Vakuumgefäßes 6 her erfolgen. Der Ring 7 besteht aus einem Oxydkathodenmaterial, insbesondere einem Erdoxydgemisch nach Art eines Nernststiftes.
Von besonderer Bedeutung ist die Erfindung für die Gewinnung von höchst reinen Halbleitereinkristallen Wie Verwendung in Halbleiteranordnungen, wie z. B. Richtleitern, Detektoren, Transistoren, Fototransistoren, Heißleitern u. dgl.

Claims (8)

  1. Patentansprüche:
    i. Vorrichtung zum tiegellosen Zonenschmelzen, wobei die Sdhmelzzone durch einen an seinen Enden eingespannten, vorzugsweise aufrecht stehenden Stab geführt wird, der konzentrisch in einem elektrisch beheizten und axial zum Stab verschiebbaren Heizring angeordnet ist, dadurch gekennzeichnet, daß der Heizring als Oxyd- bzw. Boridglühkathode ausgebildet ist, so daß durch Elektronenbeschuß zonengeschmolzen wird.
  2. 2. Anordnung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß der Kathodenkörper aus iao Lantanborid oder einer Mischung mehrerer Boride besteht.
  3. 3. Oxydkathode nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß sie aus Erdoxyd oder einem Gemisch von Erdoxyden, beispielsweise «5 aus Nernststiftmasse besteht.
  4. 4· Anordnung nach einem der Ansprüche ι bis 3, dadurch gekennzeichnet, daß der Kathodenkörper den vorzugsweise stabförmig langgestreckten Schmelzung ringförmig umgiibt.
  5. 5. Anordnung nach einem der Ansprüche 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet, daß zwischen der Kathode und dem Schmelzung eine vorzugsweise torusförmige Blende mit Ringschlitzöffnung angeordnet ist.
  6. 6. Anordnung nach Anspruch 5, dadurch gekennzeichnet, daß an die Ringschlitzblende eine vorzugsweise veränderliche, zur Kathode negative Spannung gelegt ist.
  7. 7. Anwendung der Anordnung nach einem der Ansprüche 1 bis 6 zum sogenannten Zonenschmelzen eines Halbleiters zwecks Reinigung und/oder Einkristallherstelking.
  8. 8. Halbleiteranordnung, beispielsweise Richtleiter, Detektor, Transistor, Fototransistor, Fieldistor, Heißleiter od. dgl., dadurch gekenn- so zeichnet, daß der in ihr verwendete Halbleiter mittels der Anordnung nach einem der Ansprüche ι bis 7 geschmolzen ist.
    In Betracht gezogene Druckschriften: Deutsche Patentschriften Nr. 581 423, 856 666.
    In Betracht gezogene ältere Patente: Deutsches Patent Nr. 1 014332.
    Hierzu 1 Blatt Zeichnungen
    © 609 546/405 6.56 (809 711/1 1.59)
DES35587A 1953-10-02 1953-10-02 Vorrichtung zum tiegellosen Zonenschmelzen Expired DE971413C (de)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DES35587A DE971413C (de) 1953-10-02 1953-10-02 Vorrichtung zum tiegellosen Zonenschmelzen

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DES35587A DE971413C (de) 1953-10-02 1953-10-02 Vorrichtung zum tiegellosen Zonenschmelzen

Publications (1)

Publication Number Publication Date
DE971413C true DE971413C (de) 1959-01-22

Family

ID=7481955

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DES35587A Expired DE971413C (de) 1953-10-02 1953-10-02 Vorrichtung zum tiegellosen Zonenschmelzen

Country Status (1)

Country Link
DE (1) DE971413C (de)

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE581423C (de) * 1926-09-24 1933-07-27 Aeg Oxydkathode fuer Entladungsgefaesse
DE856666C (de) * 1950-03-31 1952-11-24 Internat General Electric Co Thermionischer Elektronenspender

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE581423C (de) * 1926-09-24 1933-07-27 Aeg Oxydkathode fuer Entladungsgefaesse
DE856666C (de) * 1950-03-31 1952-11-24 Internat General Electric Co Thermionischer Elektronenspender

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE976899C (de) Gasentladungsanlage zur Herstellung eines Stabes aus hochreinem Silicium
DE1061527B (de) Verfahren zum zonenweisen Umschmelzen von Staeben und anderen langgestreckten Werkstuecken
DE1176103B (de) Verfahren zur Herstellung von reinem Silicium in Stabform
DE1519914B2 (de) Vorrichtung zum Ziehen eines Verbindungshalbleiterknstalls
DE1208739B (de) Verfahren zum Ziehen von einkristallinem Siliziumkarbid
DE3525177A1 (de) Verfahren und vorrichtung fuer das erschmelzen und fuer das aufdampfen von hochreinem silizium
DE971413C (de) Vorrichtung zum tiegellosen Zonenschmelzen
DE3523090A1 (de) Verfahren und vorrichtung zum aufbringen von schutzbeschichtungen auf quarztiegel
DE1444530A1 (de) Verfahren zum Herstellen von einkristallinen Halbleiterstaeben
DE1519837B2 (de) Verfahren zum zonenschmelzen oder kristallziehen
DES0035587MA (de)
DE2327085C3 (de) Vorrichtung zum Dotieren beim tiegelfreien Zonenschmelzen
DE1621295C3 (de) Verfahren und Vorrichtung zum Bedecken von Substraten durch Bedampfen
DE1190918B (de) Verfahren zur gezielten Dotierung von stabfoermigen Koerpern waehrend des Zonenschmelzens
DE1145284B (de) Verfahren zur Herstellung von Rohren aus hochreinen Stoffen
DE1419280A1 (de) Verfahren und Einrichtung zur Herstellung von pn-UEbergaengen in Halbleiterstaeben
DE2219111C3 (de) Vorrichtung zur Wärmebehandlung kleiner Teile
DE1138514B (de) Tiegel zum Schmelzen hochreiner Halbleiterstoffe
DE1544278A1 (de) Verfahren und Vorrichtung zur Herstellung eines synthetischen Monokristalls
DE1719024C (de) Verfahren zur Herstellung eines Stabes aus Halbleitermaterial fur elektronische Zwecke
DE1419280C (de) Verfahren und Vorrichtung zum Herstellen von pn-Übergängen
DE1100820B (de) Vorrichtung zur Herstellung von Halbleiter-anordnungen durch Dotieren von Halbleiterkoerpern aus der Gasphase und Verfahren mittels einer solchen Vorrichtung
DE2533839C2 (de) Vorrichtung zum tiegelfreien Zonenschmelzen von Halbleitermaterialstäben
DE1256626B (de) Verfahren zur Herstellung von Halbleiterstaeben durch Ziehen aus der Schmelze
DE977418C (de) Verfahren und Vorrichtung zum Herstellen eines Stabes aus hochreinem Silicium