DE927523C - Elektronenoptisches Doppelsystem mit Zwischenbild fuer elektrostatische UEbermikroskope - Google Patents

Elektronenoptisches Doppelsystem mit Zwischenbild fuer elektrostatische UEbermikroskope

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DE927523C
DE927523C DEA6809D DEA0006809D DE927523C DE 927523 C DE927523 C DE 927523C DE A6809 D DEA6809 D DE A6809D DE A0006809 D DEA0006809 D DE A0006809D DE 927523 C DE927523 C DE 927523C
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DEA6809D
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English (en)
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Ernst Dr-Ing Brueche
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    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/02Details
    • H01J37/04Arrangements of electrodes and associated parts for generating or controlling the discharge, e.g. electron-optical arrangement, ion-optical arrangement
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Description

Bei den bekannten Übermikroskopen macht sich die überaus große Baulänge störend bemerkbar! Zur Herabsetzung der Bauhöhe sind schon verschiedene Vorschläge gemacht warden. Beispielsweise ist es vorgeschlagen worden, ein Übermikroskop mit einer als Elektronenspiegel wirkenden Proj ektionslin.se zu versehen. Ferner ist es bei magnetischen Elektronenmikroskopen, vorgeschlagen worden, ein elektron.enoptisches Doppelsystem zu verwenden, welches
ίο aus zwei koaxialen, an beiden Enden mit Polschuhen versehenen Rohren besteht, woibei sich innerhalb des inneren Rohres ein Zwischenbild ergibt.
Es ist ferner bei elektrostatischen Übermikroskopen vorgeschlagen worden, ein. elektronenoptisches Doppelsystem aus zwei koaxialen, gegeneinander isoliert angeordnetem Rohren aufzubauen, welche an den Enden mit Lochblenden versehen sind. Das innere Rohr liegt dabei an negativer Hochspannung gegenüber dem als Abschirmzylinder dienenden Außenrohr. Das äußere Rohr besteht zweckmäßig aus einem ferromagnetischen Werkstoff, insbesondere Eisen. An jedem Ende der Rohre bilden die Lochblenden dar beiden Zylinder Bestandteile von Immersionslinsen, welche nur eine einzige Spannungszufübrung benötigen. Die beiden Immersionslinsen liegen nahe zusammen, denn der Abstand beträgt zweckmäßig höchstens das 10- bis aofache der Objektivbrennweite. Damit ist der stoßempfindliche Weg verhältnismäßig kurz.
Diese Anordnung hat weiterhin, noch den Vorteil, daß die beiden Linsen sehr gut zueinander zentriert sind.
Die Erfindung betrifft eine Weiterbildung des elektronenoptischen. Doppelsystems mit Zwischenbild für elektrostatische Übermikroskope. Erfindungsgemäß ist zu den zwei koaxialen Rohren wenigstens ein 'weiteres koaxiales, mit Blenden an den Enden versehenes· Rohr isoliert angeordnet.
Diese Anordnung bringt verschiedene Vorteile mit sich. Zunächst kann bei Verwendung von mehreren koaxialen Rohren, welche an dien Enden mit Blenden versehen sind, in einfacher Weise eine Spannungsiuntartailung vorgenommen werden, was bei elektrostatischen Übermikroskopen von besonderem Vorteil ist. Es ist ferner die Möglichkeit gegeben, die einzelnen Blenden derart an Spannung zu legen, daß ein System aus zwei Einziellinsen gebildet wird. In diesem Fall wird zweckmäßig das äußerste und das~ innerste Rohr an Erde gelegt, während das dazwischen befindliche Mittelrohr mit der negativen Hochspannung verbunden ist.
Der Gegenstand der Erfindung ist an dem in der Abbildung dargestellten Ausführungsbeispiel erläutert. Das elektronenoptische Doppelsystem ist aus dnei Rohren 1, 4 und 7 aufgebaut, die an den Enden mit Blenden 2, 5 und S bzw. 3, 6 und 9 versehen sind. Die einzelnen Zylinder sind mit Zuführungen 10, 11 und 12 versehen. Wenn die Linsen als Einzellinsen geschaltet werden sollen, werden beispielsweise die Zuleitungen 10 und 12 mit der Erde verbunden, während die Zuleitung 11 zu der negativen Hochspannung führt. Innerhalb des Rohres 1 werden zweckmäßig noch Streufeld- und Gesichtsfeldblienden angebracht, welche jedoch der Übersicht haibar nicht dargestellt sind. Die einzelnen Rohre 1, 4 und 7 sind ferner durch Isolierringe gegeneinander abgestützt. Diese Isolierringe sind ebenfalls in dar Abbildung fortgelassen.
Das elektronenoptische System nach der Erfindung kann entweder allein in einem Übermikroskop als Abbildungssystem benutzt werden. Wenn jedoch ein Übermikroskop mit extrem hoher Vergrößerung hergestellt werden soll, dann wird man zweckmäßig hinter dieses System noch ein weiteres System oder eine Einzellinse' schalten.
Das elektronenoptische Doppelsystem hat nicht nur Bedeutung, wenn es sich um Einzellinsen handelt, sondern es können mit Hilfe dieses Systems auch Immersionslinsen hergestellt wardien. In diesem Fall wird sich die mögliche Spannungsverteilung besonders günstig auswirken.

Claims (1)

  1. PATENTANSPRUCH:
    Elektronenoptisches Doppelsystem mit Zwischenbild für elektrostatische! Übermikroskope, dadurch gekennzeichnet, daß zu den zwei koaxialen Rohren wenigstens ein weiteres koaxiales, mit Blenden an den Enden versehenes Rohr isoliert angeordnet ist.
DEA6809D 1943-03-05 1943-03-05 Elektronenoptisches Doppelsystem mit Zwischenbild fuer elektrostatische UEbermikroskope Expired DE927523C (de)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0449740A1 (de) * 1990-03-30 1991-10-02 Orsay Physics Vorrichtung zur Fokussierung eines geladenen Teilchenstrahls

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0449740A1 (de) * 1990-03-30 1991-10-02 Orsay Physics Vorrichtung zur Fokussierung eines geladenen Teilchenstrahls
FR2660485A1 (fr) * 1990-03-30 1991-10-04 Orsay Physics Dispositif de focalisation d'un faisceau de particules chargees.

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