DE889150C - Verfahren zur Herstellung von bromierten Silanen - Google Patents
Verfahren zur Herstellung von bromierten SilanenInfo
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- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 8
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 3
- 150000004756 silanes Chemical class 0.000 title claims description 3
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical compound [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 17
- GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N bromine Substances BrBr GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 17
- 229910052794 bromium Inorganic materials 0.000 claims description 17
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 claims description 17
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 15
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 claims description 15
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 claims description 5
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 5
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims description 3
- VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N Ethene Chemical compound C=C VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- QUPDWYMUPZLYJZ-UHFFFAOYSA-N ethyl Chemical group C[CH2] QUPDWYMUPZLYJZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 125000000325 methylidene group Chemical group [H]C([H])=* 0.000 claims description 2
- 150000001282 organosilanes Chemical class 0.000 claims 2
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 13
- IJOOHPMOJXWVHK-UHFFFAOYSA-N chlorotrimethylsilane Chemical compound C[Si](C)(C)Cl IJOOHPMOJXWVHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 9
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 8
- 230000031709 bromination Effects 0.000 description 6
- 238000005893 bromination reaction Methods 0.000 description 6
- 239000005051 trimethylchlorosilane Substances 0.000 description 6
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 5
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical compound [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- BYLOHCRAPOSXLY-UHFFFAOYSA-N dichloro(diethyl)silane Chemical compound CC[Si](Cl)(Cl)CC BYLOHCRAPOSXLY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000005484 gravity Effects 0.000 description 4
- 239000000047 product Substances 0.000 description 4
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 4
- 238000004821 distillation Methods 0.000 description 3
- KCWYOFZQRFCIIE-UHFFFAOYSA-N ethylsilane Chemical class CC[SiH3] KCWYOFZQRFCIIE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 3
- 239000012808 vapor phase Substances 0.000 description 3
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- -1 Alkyl radicals Chemical class 0.000 description 2
- CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N Carbon dioxide Chemical compound O=C=O CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CPELXLSAUQHCOX-UHFFFAOYSA-N Hydrogen bromide Chemical compound Br CPELXLSAUQHCOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000006227 byproduct Substances 0.000 description 2
- 238000005660 chlorination reaction Methods 0.000 description 2
- LIKFHECYJZWXFJ-UHFFFAOYSA-N dimethyldichlorosilane Chemical compound C[Si](C)(Cl)Cl LIKFHECYJZWXFJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IXCSERBJSXMMFS-UHFFFAOYSA-N hydrogen chloride Substances Cl.Cl IXCSERBJSXMMFS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910000041 hydrogen chloride Inorganic materials 0.000 description 2
- SCVFZCLFOSHCOH-UHFFFAOYSA-M potassium acetate Chemical compound [K+].CC([O-])=O SCVFZCLFOSHCOH-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- CZDYPVPMEAXLPK-UHFFFAOYSA-N tetramethylsilane Chemical compound C[Si](C)(C)C CZDYPVPMEAXLPK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229960000583 acetic acid Drugs 0.000 description 1
- 150000001343 alkyl silanes Chemical class 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- CAURZYXCQQWBJO-UHFFFAOYSA-N bromomethyl-chloro-dimethylsilane Chemical compound C[Si](C)(Cl)CBr CAURZYXCQQWBJO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XEYDTPFVYTVHTI-UHFFFAOYSA-N bromomethylsilane Chemical class [SiH3]CBr XEYDTPFVYTVHTI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VQPFDLRNOCQMSN-UHFFFAOYSA-N bromosilane Chemical class Br[SiH3] VQPFDLRNOCQMSN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000001569 carbon dioxide Substances 0.000 description 1
- 229910002092 carbon dioxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000009833 condensation Methods 0.000 description 1
- 230000005494 condensation Effects 0.000 description 1
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 1
- 239000012362 glacial acetic acid Substances 0.000 description 1
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 1
- 229910000042 hydrogen bromide Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 description 1
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 description 1
- 239000013067 intermediate product Substances 0.000 description 1
- 239000007791 liquid phase Substances 0.000 description 1
- 239000000314 lubricant Substances 0.000 description 1
- 235000011056 potassium acetate Nutrition 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 1
- AIFMYMZGQVTROK-UHFFFAOYSA-N silicon tetrabromide Chemical compound Br[Si](Br)(Br)Br AIFMYMZGQVTROK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- UKRDPEFKFJNXQM-UHFFFAOYSA-N vinylsilane Chemical compound [SiH3]C=C UKRDPEFKFJNXQM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F7/00—Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic Table
- C07F7/02—Silicon compounds
- C07F7/08—Compounds having one or more C—Si linkages
- C07F7/12—Organo silicon halides
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F7/00—Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic Table
- C07F7/02—Silicon compounds
- C07F7/08—Compounds having one or more C—Si linkages
- C07F7/0803—Compounds with Si-C or Si-Si linkages
- C07F7/0825—Preparations of compounds not comprising Si-Si or Si-cyano linkages
- C07F7/083—Syntheses without formation of a Si-C bond
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F7/00—Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic Table
- C07F7/02—Silicon compounds
- C07F7/08—Compounds having one or more C—Si linkages
- C07F7/12—Organo silicon halides
- C07F7/121—Preparation or treatment not provided for in C07F7/14, C07F7/16 or C07F7/20
- C07F7/127—Preparation or treatment not provided for in C07F7/14, C07F7/16 or C07F7/20 by reactions not affecting the linkages to the silicon atom
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Description
Es war bis heute unmöglich, Methyl- und Äthylsilane analog dem bekannten Chlorierungsverfahren
zu bromieren. Alle solchen Versuche, mittels der für die Chlorierung von Methyl- und Äthylsilanen üblichen
Arbeitsweise eine Bromierung zu erzielen, schlugen fehl.
Gegenstand der Erfindung ist ein Verfahren zur Herstellung von bromierten Methyl- und Äthylsilanen
der allgemeinen Formel Ra (BrR') Si Cl3 _a, in der a
einen Wert von ι bis 3 hat, R einen Methyl- oder
Äthylrest und R' einen Methylen- oder Äthylenrest bedeuten.
Erfindungsgemäß wird zur Herstellung solcher bromierter Silane eine Mischung von Chlor und Brom
mit einer Verbindung der allgemeinen Formel Ra + 1SiCl3_o in flüssiger oder dampfförmiger Phase
in Kontakt gebracht. In dieser Formel haben R und a die obige Bedeutung,
der Gleichung
der Gleichung
Die Bromierung verläuft nach
0 + 1SiCl3_a + i Cl2 + i Br2
> Ra(BrR')SiCl3._a
> Ra(BrR')SiCl3._a
Das Chlor und Brom kann mit dem flüssigen Silan bei Zimmer- oder höherer Temperatur, zweckmäßig
bei einer Temperatur unterhalb etwa 6o°, in Kontakt gebracht werden. Es wurde gefunden, daß zum Beispiel
Trimethylchlorsilan und Brom auch bei Rückflußtemperatur in Gegenwart von Licht nicht miteinander
reagieren. Wird jedoch Brom und Chlor mit dem Silan in Kontakt gebracht, so geht die Reaktion bei
Zimmertemperatur glatt vonstatten.
Man kann das Brom in dem Alkylsilan lösen und Chlor in die Mischung leiten.
Man kann auch das Chlor und Brom mit dem dampfförmigen Silan zusammenbringen. Bei der
Bromierung in Dampfphase ist es zweckmäßig, die Umsetzungstemperatur so zu wählen, daß sie zwischen
dem dem angewandten Druck entsprechenden Siedepunkt des zu bromierenden Silans und dem Siedepunkt
des bromierten Produktes liegt. Das bromierte Produkt wird dann bei seiner Bildung kondensiert
und so automatisch aus der Dampfphase entfernt, ίο Durch Belichten des Reaktionsgemisches kann
gegebenenfalls die Bromierung katalytisch beschleunigt werden.
Es war zu erwarten, daß bei dieser Umsetzung eine willkürliche Verteilung von Chlor und Brom auf die
Alkylradikale unter gleichzeitiger Bildung von Brom- und Chlorwasserstoff als Nebenprodukte stattfinden
würde. Überraschenderweise verläuft aber die Reaktion selektiv. Das Chlor wird nur an den Wasserstoff
gebunden, so daß sich als Nebenprodukt nur Chlorwasserstoff bildet. Es ergibt sich also der Vorteil, daß
das gesamte Brom zur Bildung von Bromsilanen dient. Die Ausbeute an den erwünschten Bromierungsprodukten
ist somit doppelt so hoch, als zu erwarten war.
Die neuen Brommethylsilane sind Flüssigkeiten. Soweit sie noch hydrolysierbares Chlor enthalten,
ergeben sie bei der Hydrolyse und Kondensation Methylbrommethylsiloxane, die als Schmiermittel
wertvoll sind.
Die Verbindung (CHg)3BrCH2Si, die durch Bro-;
mieren von Tetramethylsilan entsteht und nicht - hydrolysierbar ist, kann als Zwischenprodukt zur
Herstellung von anderen siliciumorganischen Stoffen verwendet werden. So ergibt diese Verbindung bei
der Umsetzung mit in Eisessig gelöstem wasserfreiem Kaliumacetat die Verbindung (CHg)3SiCH2OOCGH3,
entsprechend einer doppelten Umsetzung, wie sie Gegenstand des Patentes 874 907 ist.
Die Verbindung 0-BrC2H4(C2H5)SiCl2, die bei der
Bromierung von Diäthyldichlorsilan entsteht, kann durch Bromwasserstoffabspaltung ein technisch wertvolles
Vinylsilan ergeben.
119 Gewichtsteile Trimethylchlorsilan werden in
einem Reaktionsgefäß belichtet. Hierzu gibt man bei 25° 5 Gewichtsteile Brom. Durch die dunkelrote
Lösung leitet man dann Chlor, bis diese farblos geworden ist. Dann werden noch 46,5 Gewichtsteile
Brom zugegeben, und es wird etwa 3 Stunden Chlor eingeleitet, bis die Mischung farblos geworden ist.
Das erhaltene Reaktionsprodukt wird destilliert; man erhält 61 Gewichtsteile Trimethylchlorsilan mit
einem Siedepunkt von 56,5°, eine Spur der VerT
bindung (C H3) 2 Cl C H3 SiCl mit einem Siedepunkt
von 1150 sowie 75 Gewichtsteile der Verbindung
(CHg)2BrCH2SiCl. Diese hat einen Siedepunkt von
1300, einen Brechungsindex von 1,4630 bei 25°, ein
spezifisches Gewicht von 1,375 bei 250 und eine
spezifische Brechung von 0,2002. Außerdem erhält man etwa 15 g eines hochsiedenden Produktes, das
sich bei der Destillation bei Normaldruck zersetzt.
Das Auftreten von Siliciumbromid wurde nicht festgestellt.
258 Gewichtsteile Dimethyldichlorsilan werden mit 79,5 Gewichtsteile Brom unter Verwendung von
Chlor, entsprechend dem Verfahren des Beispiels 1, bromiert. Bei der Destillation des Reaktionsproduktes
erhält man 72 Gewichtsteile der Verbindung CH3 Br CH2 Si Cl2, die einen Siedepunkt von 140 bis 141 °,
einenBrechungsindex von 1,4570 bei 250, ein spezifisches
Gewicht von 1,57 bei 250 und eine spezifische Brechung
von 0,170 zeigt. Außerdem erhält man die Verbindung CH3Br2CHSiCl2. Dieser Stoff hat einen Siedepunkt
von 85 bis 910 bei 25 mm und einen Brechungsindex
von 1,1585 bei 250. Nicht umgesetztes Dimethyldichlorsilan
wird zurückgewonnen.
213 Gewichtsteile Tetramethylsilan werden bei Rückflußtemperatur mit 99 Gewichtsteilen Brom
bromiert, wobei entsprechend Beispiel 1 mit Chlor gearbeitet wird. Der Rückflußkühler wird mit fester
Kohlensäure und Aceton gekühlt. Das Reaktionsprodukt wird mit Wasser gewaschen und destilliert.
Man erhält 103 Gewichtsteile (C H3) 3 Br C H2 Si. Dieser
Stoff hat einen Siedepunkt von 115 bis 116° bei 748 mm
und einen Brechungsindex von 1,442 bei 25°.
Entsprechend der Arbeitsweise von Beispiel 1 werden 366,5 Gewichtsteile Diäthyldichlorsilan bei
40 bis 50° mit 93 Gewichtsteilen Brom umgesetzt. Die Destillation des Reaktionsproduktes ergibt
160 Gewichtsteile der monobromierten Derivate von der Formel C2H6BrC2H4SiCl^. Dabei werden sowohl
die α- wie auch die /ϊ-Isomeren erhalten. Das α-Isomere
hat einen Siedepunkt von iio° bei 95 mm, einen Brechungsindex von 1,4772 bei 250, ein spezifisches
Gewicht von 1,41 bei 25 ° und eine spezifische Refraktion
von 0,200. Das /?-Isomere hat einen Siedepunkt von 1280 bei 95 mm, einen Brechungsindex von 1,4908
bei 250, ein spezifisches Gewicht von 1,45 bei 250
und eine spezifische Refraktion von 0,200. Als Rückstand erhält man einen polybromierten Stoff.
110 Beispiel 5
542 Gewichtsteile Trimethylchlorsilan und 402 Ge-"vrichtsteile
Brom werden gemischt und in Dampfform auf. den Boden eines Reaktionsgefäßes gebracht.
Dann wird in die Mischung Chlor eingeleitet, bis die dunkelrote Farbe verschwindet. Die Temperatur in
dem Reaktionsgefäß wird zwischen 57 und 130°, also zwischen dem Siedepunkt des Trimethylchlorsilans
und dem Siedepunkt des Dimethylbrommethylchlorsilans, gehalten.
Das Reaktionsprodukt wird destilliert. Man erhält 66 Gewichtsteile nicht umgesetztes Trimethylchlorsilan
sowie 582 Gewichtsteile der Verbindung (CHg)2BrCH2SiCl, deren Eigenschaften aus Beispiel
ι ersichtlich sind. Außerdem erhält man 244 Gewichtsteile eines polybromierten Rückstandes.
Claims (2)
- Patentansprüche:ι. Verfahren zur Herstellung von bromierten Silanen der Formel R0(BrR') SiC13_?, in der R' einen Methylen- oder Äthylenrest, R einen Methyloder Äthylrest und α einen Wert von ι bis 3 bedeuten, dadurch gekennzeichnet, daß man Chlor und Brom mit einem Organosilan der Formel R0 + 1SiCl3^a in flüssiger oder dampfförmiger Phase in Kontakt bringt.
- 2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß eine Mischung von Organosilan und Brom mit Chlor in Kontakt gebracht wird.© 5389 8.53
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US1047726XA | 1950-06-08 | 1950-06-08 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE889150C true DE889150C (de) | 1953-09-07 |
Family
ID=22302292
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DED9215A Expired DE889150C (de) | 1950-06-08 | 1951-05-23 | Verfahren zur Herstellung von bromierten Silanen |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
DE (1) | DE889150C (de) |
FR (1) | FR1047726A (de) |
-
1951
- 1951-05-07 FR FR1047726D patent/FR1047726A/fr not_active Expired
- 1951-05-23 DE DED9215A patent/DE889150C/de not_active Expired
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
FR1047726A (fr) | 1953-12-16 |
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