DE4219375C2 - Verfahren zur Herstellung von 1,3-Disilacyclobutanen - Google Patents
Verfahren zur Herstellung von 1,3-DisilacyclobutanenInfo
- Publication number
- DE4219375C2 DE4219375C2 DE4219375A DE4219375A DE4219375C2 DE 4219375 C2 DE4219375 C2 DE 4219375C2 DE 4219375 A DE4219375 A DE 4219375A DE 4219375 A DE4219375 A DE 4219375A DE 4219375 C2 DE4219375 C2 DE 4219375C2
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- trisilaheptane
- pyrolysis
- mmol
- reaction
- tetramethyl
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
- NHBMXLXMVPLQAX-UHFFFAOYSA-N 1,3-disiletane Chemical class C1[SiH2]C[SiH2]1 NHBMXLXMVPLQAX-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims description 19
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 title claims description 19
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 14
- 230000008569 process Effects 0.000 title claims description 4
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 claims description 14
- 125000000956 methoxy group Chemical group [H]C([H])([H])O* 0.000 claims description 8
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 claims description 5
- -1 methoxy, ethoxy, phenyl Chemical group 0.000 claims description 5
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 4
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 claims 4
- 150000001335 aliphatic alkanes Chemical class 0.000 claims 1
- 125000001301 ethoxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])O* 0.000 claims 1
- HEDRZPFGACZZDS-MICDWDOJSA-N Trichloro(2H)methane Chemical compound [2H]C(Cl)(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-MICDWDOJSA-N 0.000 description 40
- 238000000197 pyrolysis Methods 0.000 description 37
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 33
- 239000000047 product Substances 0.000 description 28
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 26
- 238000005160 1H NMR spectroscopy Methods 0.000 description 20
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 20
- WSBCVSVJXVVUFU-UHFFFAOYSA-N dimethoxy-bis(trimethylsilylmethyl)silane Chemical compound C[Si](C)(C)C[Si](OC)(C[Si](C)(C)C)OC WSBCVSVJXVVUFU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 17
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- 238000011084 recovery Methods 0.000 description 14
- 238000004090 dissolution Methods 0.000 description 13
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 10
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 241000219289 Silene Species 0.000 description 8
- 125000001309 chloro group Chemical group Cl* 0.000 description 8
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 7
- QZYLHXTXFGOILC-UHFFFAOYSA-N siletane Chemical class C1C[SiH2]C1 QZYLHXTXFGOILC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 7
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N Pyridine Chemical compound C1=CC=NC=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- WQDUMFSSJAZKTM-UHFFFAOYSA-N Sodium methoxide Chemical compound [Na+].[O-]C WQDUMFSSJAZKTM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- TYNZBURHIHXDIK-UHFFFAOYSA-N bis[[dimethoxy(methyl)silyl]methyl]-dimethoxysilane Chemical compound CO[Si](C)(OC)C[Si](OC)(OC)C[Si](C)(OC)OC TYNZBURHIHXDIK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- POPACFLNWGUDSR-UHFFFAOYSA-N methoxy(trimethyl)silane Chemical group CO[Si](C)(C)C POPACFLNWGUDSR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 5
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 5
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- FEJIRWLJFCIPJX-UHFFFAOYSA-N dichloro-bis(trimethylsilylmethyl)silane Chemical compound C[Si](C)(C)C[Si](Cl)(Cl)C[Si](C)(C)C FEJIRWLJFCIPJX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910001873 dinitrogen Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 4
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 4
- CTAWZKQMJKJDSU-UHFFFAOYSA-N methoxy-methyl-bis(trimethylsilylmethyl)silane Chemical compound C[Si](C)(C)C[Si](C)(OC)C[Si](C)(C)C CTAWZKQMJKJDSU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 4
- 238000001149 thermolysis Methods 0.000 description 4
- JYCAJUHJZPIJND-UHFFFAOYSA-N 1-methoxy-1,3,3-trimethyl-1,3-disiletane Chemical compound CO[Si]1(C)C[Si](C)(C)C1 JYCAJUHJZPIJND-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- RZVAJINKPMORJF-UHFFFAOYSA-N Acetaminophen Chemical compound CC(=O)NC1=CC=C(O)C=C1 RZVAJINKPMORJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000007818 Grignard reagent Substances 0.000 description 3
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N Magnesium Chemical compound [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N Triethylamine Chemical compound CCN(CC)CC ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052918 calcium silicate Inorganic materials 0.000 description 3
- WTLJPHOUSPPVCO-UHFFFAOYSA-N chloro-methoxy-bis(trimethylsilylmethyl)silane Chemical compound C[Si](C)(C)C[Si](Cl)(OC)C[Si](C)(C)C WTLJPHOUSPPVCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000004218 chloromethyl group Chemical group [H]C([H])(Cl)* 0.000 description 3
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 3
- DMBOORLKGDADEQ-UHFFFAOYSA-N dichloro-bis[[dichloro(methyl)silyl]methyl]silane Chemical compound C[Si](Cl)(Cl)C[Si](Cl)(Cl)C[Si](C)(Cl)Cl DMBOORLKGDADEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YNHHHLLWHGTHRM-UHFFFAOYSA-N dimethoxy-bis[[methoxy(dimethyl)silyl]methyl]silane Chemical compound CO[Si](C)(C)C[Si](OC)(OC)C[Si](C)(C)OC YNHHHLLWHGTHRM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 3
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 3
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 description 3
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 3
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 3
- NSGDGCFNVDHRSD-UHFFFAOYSA-N methoxy-phenyl-bis(trimethylsilylmethyl)silane Chemical compound C[Si](C)(C)C[Si](OC)(C[Si](C)(C)C)C1=CC=CC=C1 NSGDGCFNVDHRSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- BFXIKLCIZHOAAZ-UHFFFAOYSA-N methyltrimethoxysilane Chemical compound CO[Si](C)(OC)OC BFXIKLCIZHOAAZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000005297 pyrex Substances 0.000 description 3
- UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N pyridine Natural products COC1=CC=CN=C1 UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 3
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 3
- GYQTVPWRCZIODP-UHFFFAOYSA-N 1,1,3-trimethoxy-3-methyl-1,3-disiletane Chemical compound CO[Si]1(C)C[Si](OC)(OC)C1 GYQTVPWRCZIODP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MLMSZEOLYTUAJR-UHFFFAOYSA-N CO[SiH](C)C[SiH](OC)C[SiH](C)OC Chemical compound CO[SiH](C)C[SiH](OC)C[SiH](C)OC MLMSZEOLYTUAJR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000005046 Chlorosilane Substances 0.000 description 2
- 238000003747 Grignard reaction Methods 0.000 description 2
- ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N Potassium Chemical compound [K] ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 2
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 2
- BWROMPNXPAWQEP-UHFFFAOYSA-N chloro(chloromethyl)silane Chemical class ClC[SiH2]Cl BWROMPNXPAWQEP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DCFKHNIGBAHNSS-UHFFFAOYSA-N chloro(triethyl)silane Chemical compound CC[Si](Cl)(CC)CC DCFKHNIGBAHNSS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZPGKMKGOTZLNGU-UHFFFAOYSA-N chloro-[[chloro(dimethyl)silyl]methyl]-methoxy-[[methoxy(dimethyl)silyl]methyl]silane Chemical compound CO[Si](C)(C)C[Si](Cl)(OC)C[Si](C)(C)Cl ZPGKMKGOTZLNGU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WDGCWIMGFISCCA-UHFFFAOYSA-N chloro-bis[[chloro(diethoxy)silyl]methyl]-ethoxysilane Chemical compound CCO[Si](Cl)(OCC)C[Si](Cl)(OCC)C[Si](Cl)(OCC)OCC WDGCWIMGFISCCA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KOPOQZFJUQMUML-UHFFFAOYSA-N chlorosilane Chemical class Cl[SiH3] KOPOQZFJUQMUML-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IJOOHPMOJXWVHK-UHFFFAOYSA-N chlorotrimethylsilane Chemical compound C[Si](C)(C)Cl IJOOHPMOJXWVHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 2
- JJQZDUKDJDQPMQ-UHFFFAOYSA-N dimethoxy(dimethyl)silane Chemical compound CO[Si](C)(C)OC JJQZDUKDJDQPMQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 2
- 239000010437 gem Substances 0.000 description 2
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 2
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 2
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 2
- KWGKDLIKAYFUFQ-UHFFFAOYSA-M lithium chloride Chemical group [Li+].[Cl-] KWGKDLIKAYFUFQ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- UBJFKNSINUCEAL-UHFFFAOYSA-N lithium;2-methylpropane Chemical compound [Li+].C[C-](C)C UBJFKNSINUCEAL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000000962 organic group Chemical group 0.000 description 2
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 2
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011591 potassium Substances 0.000 description 2
- 230000008707 rearrangement Effects 0.000 description 2
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 2
- 238000007142 ring opening reaction Methods 0.000 description 2
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 2
- 239000007858 starting material Substances 0.000 description 2
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 2
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RNRQKQHZWFHUHS-UHFFFAOYSA-N trichloro-[[dichloro(trichlorosilylmethyl)silyl]methyl]silane Chemical compound Cl[Si](Cl)(Cl)C[Si](Cl)(Cl)C[Si](Cl)(Cl)Cl RNRQKQHZWFHUHS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000000026 trimethylsilyl group Chemical group [H]C([H])([H])[Si]([*])(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- CBPGUZJXEBIBNM-UHFFFAOYSA-N 1,1,3,3-tetramethoxy-1,3-disiletane Chemical compound CO[Si]1(OC)C[Si](OC)(OC)C1 CBPGUZJXEBIBNM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JKDNLUGVHCNUTB-UHFFFAOYSA-N 1,1,3,3-tetramethyl-1,3-disiletane Chemical compound C[Si]1(C)C[Si](C)(C)C1 JKDNLUGVHCNUTB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FKXGWTZPFQVIPC-UHFFFAOYSA-N 1,1,3-trimethyl-3-phenyl-1,3-disiletane Chemical compound C1[Si](C)(C)C[Si]1(C)C1=CC=CC=C1 FKXGWTZPFQVIPC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZKVDIJHDDAFTAL-UHFFFAOYSA-N 1,1-dimethyl-2-methylidenesiletane Chemical compound C[Si]1(C)CCC1=C ZKVDIJHDDAFTAL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MFPHMMYPMIRZPV-UHFFFAOYSA-N 1,3-dichloro-1,3-diethoxy-1,3-disiletane Chemical compound CCO[Si]1(Cl)C[Si](Cl)(OCC)C1 MFPHMMYPMIRZPV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NFSAJKVKXWQFBA-UHFFFAOYSA-N 1,3-dichloro-1,3-dimethoxy-1,3-disiletane Chemical compound CO[Si]1(Cl)C[Si](Cl)(OC)C1 NFSAJKVKXWQFBA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JLQZGADRJJMDNW-UHFFFAOYSA-N 1,3-dichloro-1,3-dimethyl-1,3-disiletane Chemical compound C[Si]1(Cl)C[Si](C)(Cl)C1 JLQZGADRJJMDNW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JSHRSQPQSWYHIM-UHFFFAOYSA-N 1,3-dimethoxy-1,3-dimethyl-1,3-disiletane Chemical compound CO[Si]1(C)C[Si](C)(OC)C1 JSHRSQPQSWYHIM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AAONHZPBSAMBKT-UHFFFAOYSA-N 1-chloro-1,3,3-trimethyl-1,3-disiletane Chemical compound C[Si]1(C)C[Si](C)(Cl)C1 AAONHZPBSAMBKT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JNKVLKXSWBVSQL-UHFFFAOYSA-N 1-methoxy-3-methyl-1,3-disiletane Chemical compound CO[SiH]1C[SiH](C)C1 JNKVLKXSWBVSQL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QAZXAIXOBJLFIZ-UHFFFAOYSA-N CC(C)(Cl)CC(Cl)(Cl)[SiH2][Si](C)([SiH3])Cl Chemical compound CC(C)(Cl)CC(Cl)(Cl)[SiH2][Si](C)([SiH3])Cl QAZXAIXOBJLFIZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N Ethene Chemical compound C=C VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005977 Ethylene Substances 0.000 description 1
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 1
- 229910010084 LiAlH4 Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005481 NMR spectroscopy Methods 0.000 description 1
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical compound [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KEAYESYHFKHZAL-UHFFFAOYSA-N Sodium Chemical compound [Na] KEAYESYHFKHZAL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004809 Teflon Substances 0.000 description 1
- 229920006362 Teflon® Polymers 0.000 description 1
- 238000006136 alcoholysis reaction Methods 0.000 description 1
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 1
- 230000031709 bromination Effects 0.000 description 1
- 238000005893 bromination reaction Methods 0.000 description 1
- 238000003965 capillary gas chromatography Methods 0.000 description 1
- 150000001721 carbon Chemical group 0.000 description 1
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 1
- 238000005660 chlorination reaction Methods 0.000 description 1
- DMZWVCJEOLBQCZ-UHFFFAOYSA-N chloro(ethenyl)silane Chemical class Cl[SiH2]C=C DMZWVCJEOLBQCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YGZSVWMBUCGDCV-UHFFFAOYSA-N chloro(methyl)silane Chemical class C[SiH2]Cl YGZSVWMBUCGDCV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BFHLENGGTGYFLY-UHFFFAOYSA-N chloro(silylmethylsilylmethyl)silane Chemical group [SiH3]C[SiH2]C[SiH2]Cl BFHLENGGTGYFLY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BHLQOMPEJBDLQQ-UHFFFAOYSA-N chloro-[chloro-(2-chloro-2,2-dimethoxyethyl)-methoxysilyl]silyl-dimethoxysilane Chemical compound COC(Cl)(OC)C[Si](Cl)(OC)[SiH2][Si](Cl)(OC)OC BHLQOMPEJBDLQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YFMBOIYNNROIKZ-UHFFFAOYSA-N chloro-bis[(chloro-methoxy-methylsilyl)methyl]-methoxysilane Chemical compound CO[Si](C)(Cl)C[Si](Cl)(OC)C[Si](C)(Cl)OC YFMBOIYNNROIKZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CWDYPYHTLQYCCN-UHFFFAOYSA-N chloro-bis[[chloro(dimethoxy)silyl]methyl]-methoxysilane Chemical compound CO[Si](Cl)(OC)C[Si](Cl)(OC)C[Si](Cl)(OC)OC CWDYPYHTLQYCCN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZLLXMXNMQBISRK-UHFFFAOYSA-N chloromethyl(methylsilylmethylsilylmethyl)silane Chemical compound C[SiH2]C[SiH2]C[SiH2]CCl ZLLXMXNMQBISRK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ILERYGQOZBZHHQ-UHFFFAOYSA-N chloromethyl-(1-fluoro-1-methylsilylethyl)-dimethylsilane Chemical compound ClC[Si](C([SiH2]C)(C)F)(C)C ILERYGQOZBZHHQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010961 commercial manufacture process Methods 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 1
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 description 1
- ASYNIOWQODCHKJ-UHFFFAOYSA-N dichloro-bis[[chloro(dimethyl)silyl]methyl]silane Chemical compound C[Si](C)(Cl)C[Si](Cl)(Cl)C[Si](C)(C)Cl ASYNIOWQODCHKJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XKBAUXNCAXZDHK-UHFFFAOYSA-N dimethoxy-bis(trimethoxysilylmethyl)silane Chemical class CO[Si](OC)(OC)C[Si](OC)(C[Si](OC)(OC)OC)OC XKBAUXNCAXZDHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DDIMPUQNMJIVKL-UHFFFAOYSA-N dimethyl-bis(trimethylsilyl)silane Chemical compound C[Si](C)(C)[Si](C)(C)[Si](C)(C)C DDIMPUQNMJIVKL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 description 1
- 238000004821 distillation Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 1
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 1
- 230000029142 excretion Effects 0.000 description 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 1
- 150000004795 grignard reagents Chemical class 0.000 description 1
- FFUAGWLWBBFQJT-UHFFFAOYSA-N hexamethyldisilazane Chemical class C[Si](C)(C)N[Si](C)(C)C FFUAGWLWBBFQJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000003402 intramolecular cyclocondensation reaction Methods 0.000 description 1
- 239000012280 lithium aluminium hydride Substances 0.000 description 1
- 150000001367 organochlorosilanes Chemical class 0.000 description 1
- 125000002524 organometallic group Chemical group 0.000 description 1
- 238000006303 photolysis reaction Methods 0.000 description 1
- 230000015843 photosynthesis, light reaction Effects 0.000 description 1
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 1
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 1
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 1
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 1
- 238000006798 ring closing metathesis reaction Methods 0.000 description 1
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004756 silanes Chemical class 0.000 description 1
- HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N silicon carbide Chemical compound [Si+]#[C-] HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910010271 silicon carbide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 1
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 1
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 1
- LFQCEHFDDXELDD-UHFFFAOYSA-N tetramethyl orthosilicate Chemical compound CO[Si](OC)(OC)OC LFQCEHFDDXELDD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052723 transition metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000003624 transition metals Chemical class 0.000 description 1
- YUYCVXFAYWRXLS-UHFFFAOYSA-N trimethoxysilane Chemical compound CO[SiH](OC)OC YUYCVXFAYWRXLS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005051 trimethylchlorosilane Substances 0.000 description 1
- 238000005292 vacuum distillation Methods 0.000 description 1
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F7/00—Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic Table
- C07F7/02—Silicon compounds
- C07F7/08—Compounds having one or more C—Si linkages
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F7/00—Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic Table
- C07F7/02—Silicon compounds
- C07F7/08—Compounds having one or more C—Si linkages
- C07F7/18—Compounds having one or more C—Si linkages as well as one or more C—O—Si linkages
- C07F7/1804—Compounds having Si-O-C linkages
- C07F7/1872—Preparation; Treatments not provided for in C07F7/20
- C07F7/1892—Preparation; Treatments not provided for in C07F7/20 by reactions not provided for in C07F7/1876 - C07F7/1888
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F7/00—Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic Table
- C07F7/02—Silicon compounds
- C07F7/08—Compounds having one or more C—Si linkages
- C07F7/0803—Compounds with Si-C or Si-Si linkages
- C07F7/0805—Compounds with Si-C or Si-Si linkages comprising only Si, C or H atoms
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F7/00—Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic Table
- C07F7/02—Silicon compounds
- C07F7/08—Compounds having one or more C—Si linkages
- C07F7/0803—Compounds with Si-C or Si-Si linkages
- C07F7/0805—Compounds with Si-C or Si-Si linkages comprising only Si, C or H atoms
- C07F7/0807—Compounds with Si-C or Si-Si linkages comprising only Si, C or H atoms comprising Si as a ring atom
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F7/00—Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic Table
- C07F7/02—Silicon compounds
- C07F7/08—Compounds having one or more C—Si linkages
- C07F7/0803—Compounds with Si-C or Si-Si linkages
- C07F7/081—Compounds with Si-C or Si-Si linkages comprising at least one atom selected from the elements N, O, halogen, S, Se or Te
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F7/00—Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic Table
- C07F7/02—Silicon compounds
- C07F7/08—Compounds having one or more C—Si linkages
- C07F7/12—Organo silicon halides
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F7/00—Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic Table
- C07F7/02—Silicon compounds
- C07F7/08—Compounds having one or more C—Si linkages
- C07F7/12—Organo silicon halides
- C07F7/121—Preparation or treatment not provided for in C07F7/14, C07F7/16 or C07F7/20
- C07F7/122—Preparation or treatment not provided for in C07F7/14, C07F7/16 or C07F7/20 by reactions involving the formation of Si-C linkages
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F7/00—Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic Table
- C07F7/02—Silicon compounds
- C07F7/08—Compounds having one or more C—Si linkages
- C07F7/12—Organo silicon halides
- C07F7/121—Preparation or treatment not provided for in C07F7/14, C07F7/16 or C07F7/20
- C07F7/123—Preparation or treatment not provided for in C07F7/14, C07F7/16 or C07F7/20 by reactions involving the formation of Si-halogen linkages
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F7/00—Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic Table
- C07F7/02—Silicon compounds
- C07F7/08—Compounds having one or more C—Si linkages
- C07F7/18—Compounds having one or more C—Si linkages as well as one or more C—O—Si linkages
- C07F7/1804—Compounds having Si-O-C linkages
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F7/00—Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic Table
- C07F7/02—Silicon compounds
- C07F7/08—Compounds having one or more C—Si linkages
- C07F7/18—Compounds having one or more C—Si linkages as well as one or more C—O—Si linkages
- C07F7/1804—Compounds having Si-O-C linkages
- C07F7/1872—Preparation; Treatments not provided for in C07F7/20
- C07F7/1876—Preparation; Treatments not provided for in C07F7/20 by reactions involving the formation of Si-C linkages
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F7/00—Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic Table
- C07F7/02—Silicon compounds
- C07F7/08—Compounds having one or more C—Si linkages
- C07F7/18—Compounds having one or more C—Si linkages as well as one or more C—O—Si linkages
- C07F7/1804—Compounds having Si-O-C linkages
- C07F7/1872—Preparation; Treatments not provided for in C07F7/20
- C07F7/188—Preparation; Treatments not provided for in C07F7/20 by reactions involving the formation of Si-O linkages
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F7/00—Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic Table
- C07F7/02—Silicon compounds
- C07F7/08—Compounds having one or more C—Si linkages
- C07F7/18—Compounds having one or more C—Si linkages as well as one or more C—O—Si linkages
- C07F7/1804—Compounds having Si-O-C linkages
- C07F7/1872—Preparation; Treatments not provided for in C07F7/20
- C07F7/1888—Preparation; Treatments not provided for in C07F7/20 by reactions involving the formation of other Si-linkages, e.g. Si-N
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
Description
Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Herstellung von
1,3-Disilacyclobutanen der Formel (I) durch Pyrolyse von
Alkoxytrisilaalkanen der Formel (II)
worin R¹, R², R³, R⁴ und R⁵, die gleich oder verschieden
voneinander sein können, Methyl-, Methoxy- oder
Phenylgruppen oder Chloratome darstellen.
Carbosilane, die die Elemente Silicium und Kohlenstoff
alternativ im molekularen Gerüst enthalten, sind die
wichtigsten Ausgangsprodukte zur Herstellung von
Siliciumcarbid-Produkten (G. Fritz und E. Martern,
"Carbosilanes, Synthese und Reaktionen", Springer-Verlag,
New-York, 1986).
1,3-Disilacyclobutane enthalten einen gespannten Ring,
der leicht unter den Bedingungen der Thermolyse oder
Photolyse geöffnet werden kann. Die Einwirkung
verschiedener Komplexe der Übergangsmetalle auf
1,3-Disilacyclobutane ergibt eine Polymerisation unter
Ringöffnung. Knoth berichtet in US-PS 2,483,972, daß
H₂Pt Cl₆ besonders wirkungsvoll die Polymerisation unter
Ringöffnung bewirkte (W. H. Knoth Jr., US-PS 2,483,972).
Knoth und Lindsey berichteten zuerst in 1958, daß
1,3-disilacyclobutane aus 1-Chor-3-fluor-2,2,3-
trimethyl-2,4-disilapentan und metallischem Magnesium
erhalten wird (W. H. Knoth Jr. and R. V. Lindsey Jr., J.
Org. Chem., 1958, 23, 1392).
1,3-Disilacyclobutane werden im allgemeinen durch zwei
Verfahren hergestellt. Das eine besteht darin, daß
Chlormethylchlorsilane mit Metallen unter Verwendung von
Kalium oder Magnesium mit nachfolgenden
Kupplungsreaktionen umgesetzt wird. Die andere Methode
besteht darin, daß Silene durch Pyrolyse von Monosilacyclobutanen
gebildet werden und nachfolgend die
resultierenden Silene dimerisiert werden.
1980 bechrieben Auner und Mitarbeiter die Herstellung
von 1,3-Disilacyclobutanen durch Umsetzung von
Chlormethylgruppen enthaltenden Chlorsilanen mit
metallischem Magnesium oder Kalium in Ätherlösung. Die
Chlormethylgruppe wird durch die Metalle entchlort und
das resultierende Carbaion wird mit Chlorsilanen
verkuppelt. Die Chlormethylchlorsilane sind im Handel
erhältlich oder können leicht durch Chlorierung der
entsprechenden Methylchlorsilane erhalten werden. Das
Verfahren ist jedoch nicht kommerziell brauchbar wegen
der hohen Kosten der Metalle und der Entzündbarkeit der
verwendeten Äther (N. Auner und J. Grobe, J. Organometal.
Chem., 188 (1080), 151).
1966 berichteten Nametkin und Mitarbeiter, daß
1,3-Disilacyclobutane durch Pyrolyse von Monosilacyclobutanen
erhalten wurden. Die Thermolyse von
Monosilacyclobutanen gibt gasförmiges Ethylen und
Silen-Zwischenprodukte ab, die zu 1,3-Disilacyclobutanen
dimerisiert werden. Monosilacyclobutane sind nicht im
Handel erhältlich, werden jedoch hergestellt durch
Grignard-Reaktionen (N. S. Nametkin, V. M. Vdovin, L. E.
Guselnikov and V. I. Zavyallov, Izv. Akad. Nauk. SSSR,
Ser. Khim., 584 (1966)).
1977 berichteten Jones und Mitarbeiter, daß
1,3-Disilacyclobutane durch Umsetzung von tert.-
Butyllithium mit Vinylchlorsilanen erhalten werden.
Tert.-Butyllithium wird an den Vinylgruppen des Silanes
addiert, gefolgt von der Abscheidung von Lithiumchlorid
unter Bildung eines Silens, das zu 1,3-Disilacyclobutan
dimerisiert wird (P. R. Jones und T. F. O. Lim, J. Am. Chem.
Soc., 99, 2013 (1977).
1983 berichteten Barton und Mitarbeiter, daß
1,3-Disilacyclobutane erhalten werden durch Thermolyse von
Monosilacyclobutanen, die eine 1-(Trimethylsilyl)-
methyl-Gruppe enthalten. Die durch Verdrängung von
Ethylen gebildeten Silene werden weiter durch
1,5-Wasserstoffumlagerung und nachfolgenden
intramolekularen Ringschluß der Biradikale weiter
umgesetzt, um auf diese Weise 1,3-Disilacyclobutane zu
erhalten (J. Barton, G. T. Burns, and D. Gschneidner,
Organometallics, 1983, 2, 8).
Die in der vorstehenden Reaktion eingesetzten
Ausgangsprodukte sind nicht im Handel erhältlich und
müssen durch Grignard-Reaktionen hergestellt werden. Aus
diesem Grund hat die letztgenannte Reaktion noch keine
besondere Aufmerksamkeit bei der kommerziellen
Herstellung gefunden.
Z. anorg. allg. Chem. 426, 28-42 (1976) verwendet als Ausgangs
verbindung zur Herstellung von 1,3-Disilacyclobutanen Ver
bindungen der Formel (CH3)nSiX4-n. Die Substituenten am
Silicium werden durch eine weitere Reaktion wie Reduktion mit
LiAlH₄, Bromierung mit Br₂ oder HBr, Phenyl-Grignard,
Methyl-Grignard ersetzt. J. Am. Chem. Soc. 1985, 107,
731-732 beschreibt die Herstellung von 2-Methylen-
1,1-dimethylsilacyclobutan durch Einsatz von Monosila
cyclobutanen in einem mehrfachen Überschuß von Allen bei
600°C. J. Am. Chem. Soc. 1977, 99, 3273-8 und C. A. 98,
34631v, 1983 beschreiben die Herstellung von 1,3-Disila
cyclobutanen ausgehend von Monosilacyclobutanen. Nach
C. A. 1990, 112, 35961x wird zur Herstellung von 1,3-
Disilacyclobutanen Octamethyltrisilan eingesetzt.
Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, ein einfacher
durchzuführendes Verfahren zur Herstellung von 1,3-
Disilacyclobutanen bereitzustellen.
Gelöst wird diese Aufgabe durch das Verfahren nach Anspruch 1.
Die Ansprüche 2 bis 7 betreffen bevorzugte Ausführungs
formen des Verfahrens nach Anspruch 1.
Die Pyrolyse von Alkoxytrisilaalkanen bei einer
Temperatur von 400 bis 800°C bei atmosphärischem Druck
oder im Vakuum ergibt Silene durch Beta-Ausscheidung von
Alkoxysilanen und nachfolgender intramolekularer
1,5-Wasserstoffumlagerung bei den resultierenden Silenen
und Ringschluß der Biradikale. Die Pyrolyse von
Alkoxytrisilaalkanen mit funktionellen Gruppen am
Siliciumatom wie Phenyl- oder Alkoxygruppen und
Chloratomen ergibt die 1,3-Disilacyclobutane, die die
funktionellen Gruppen tolerieren. Die Produkte können
von dem Produktengemisch leicht durch Destillation
abgetrennt werden.
Trisilaalkane der Formel (IV) lassen sich durch direktere
Umsetzung von Silicium mit Silanen, die Chlormethylgruppen
aufweisen, wie sie durch die Formel (III) dargestellt sind,
in Anwesenheit von Kupferkatalysatoren darstellen
(Koreanische Patentanmeldung Nr. 91-1055).
worin R¹, R² und R³ unabhängig voneinander Methylgruppen
oder Chloratome darstellen.
Organochlorsilane werden leicht mit Alkoholen unter
Bildung von Alkoxysilanen umgesetzt (Noll, "Chemistry and
Technology of Silicones", Academic Press, New York,
1968). Chlortrisilaalkane gemäß der vorstehenden Formel
(IV) können mit Methanol umgesetzt werden und ergeben
leicht die entsprechenden Methoxytrisilaalkane der Formel II.
Da Verbindungen der Formel (IV) zwei Chloratome am
zentralen Siliciumatom aufweisen, kann eines derselben
durch eine organische Gruppe unter Anwendung von
Grignard-Reagentien der Formel (V) ersetzt werden. Dann
kann das andere Chloratom mit einem Alkohol reagieren.
In der Formel (V) sind R¹, R² und R³ unabhängig
voneinander Methylgruppen, Methoxygruppen oder Chloratome
und ist R eine Phenyl- oder Methylgruppe.
in Formel (II) sind R¹, R² und R³ unabhängig voneinander
Methylgruppen, Methoxygruppen oder Chloratome und ist R⁵
eine Phenyl- oder Methylgruppe.
Es ist wohlbekannt, daß Organomethoxysilane mit einer
Trimethylsilylgruppe am Alpha-Kohlenstoffatom der Beta-
Abscheidung von Trimethylmethoxysilanen unterliegen, um
bei Thermolyse Silene zu bilden (T. J. Barton, G. T. Burns,
E. V. Arnold, and J. C. Clardy, Terahedron Lett., 1981, 22,
7).
Erfindungsgemäß werden durch die Formel (II)
wiedergegebene Alkoxytrisilaalkane hergestellt durch
Umsetzung der entsprechenden Chlortrisilaalkane gemäß
Formel (IV) mit Alkoholen wie Methanol oder Ethanol.
Chlor-2,4,6-trisilaheptane, in denen mindestens eine der
Gruppen R¹, R² oder R³ eine Methylgruppe ist und
Chlor-1,3,5-trisilapentane, in denen alle der Gruppen R¹,
R² und R³ Methylgruppen darstellen, wurden zu den
entsprechenden Alkoxygruppen durch Alkoholyse
umgewandelt. In einigen Fällen wurde eines der zwei
Chloratome am zentralen Siliciumatom von Trisilaalkanen
mit Grignard-Produkten gemäß Formel (V) umgesetzt, um
Trisilaalkan-Derivate zu erhalten, die am zentralen
Siliciumatom mit organischen Gruppen substituiert sind,
bevor sie mit Alkoholen umgesetzt wurden. Die
erfindungsgemäß hergestellten Alkoxytrisilaalkane sind in
der nachfolgenden Tabelle 1 aufgelistet.
Durch Formel (I) dargestellt 1,3-Disilacyclobutane wurden
erhalten durch Pyrolyse der Alkoxytrisilaalkane (II) und
Abscheidung von Alkoxysilanen gemäß Formel (IV) bei einer
Temperatur von 400 bis 800°C bei atmosphärischem Druck
oder unter Vakuum. Die Zusammensetzung der Produkte der
Pyrolyse bei verschiedenen Reaktionsbedingungen sind in
Tabelle 2 wiedergegeben.
worin R¹, R², R³, R⁴ und R⁵ unabhängig voneinander
Methyl-, Methoxy-, Ethoxy- oder Phenyl-Gruppen sind.
Die Erfindung wird in weiteren Einzelheiten in den
folgenden Beispielen erläutert, die keine Beschränkung
darstellen sollen.
In eine getrocknete, 250 ml fassende, runde Flasche mit
Boden, ausgerüstet mit einem Rückflußkondensator und
einem Tropftrichter, wurden 13,7 g (50 mMol)
2,2,6,6-Tetramethyl-4,4-dichlor-2,4,6-trisilaheptan unter
Stickstoffgas gegeben. Sodann wurden 25 ml Phenyl-
Grignard-Reagenz (2 M-Lösung in Tetrahydrofuran)
tropfenweise zu der Lösung unter Rührung zugegeben. Nach
zusätzlichem Rühren für eine Stunde zur Vervollständigung
der Umsetzung wurden 16 ml Natriummethoxid-Lösung,
hergestellt aus 1,2 g (52,2 mMol) Natriummetall und
Methanol, tropfenweise durch den Tropftrichter zugegeben.
Nach Vervollständigung der Zugabe wurde die Lösung 30
Minuten am Rückfluß zum Sieden erhitzt.
Nach Abschluß der Reaktion wurden 50 ml Hexan zu der
Lösung zugegeben und die Festkörper abfiltriert. Nach
Verdampfen der niedrigsiedenden Anteile wurde eine
Vakuumdestillation bei 70 mm Hg durchgeführt und 13,1 g
(84% Ausbeute) 2,2,6,6-Tetramethyl-4-methoxy-4-phenyl-
2,4,6-trisilaheptan bei 175 bis 179°C erhalten.
1H-NMR(CDCl₃, ppm) 0,00 (s, 18H, SiMe₃), 0,18 (s, 4H, SiCH₂Si), 7,35-7,38, 7,56-7,58 (brd m, 5H, SiPh).
1H-NMR(CDCl₃, ppm) 0,00 (s, 18H, SiMe₃), 0,18 (s, 4H, SiCH₂Si), 7,35-7,38, 7,56-7,58 (brd m, 5H, SiPh).
Die Reaktion wurde unter den gleichen Bedingungen wie
in Beispiel 1 durchgeführt, außer daß eine
Methyl-Grignard-Reagenzlösung (17 ml, 51 mMol einer
3M-Lösung in Tetrahydrofuran) anstelle des
Phenyl-Grignard-Reagenz eingesetzt wurde. Es wurden so
10,1 g (79% Ausbeute) 2,2,4,6,6-Pentamethyl-4-methoxy-
2,4,6-trisilaheptan erhalten.
Kp 104-105°C/3733 Pa, ¹H-NMR(CDCl₃), δ-0,18 (d, 2H SiCH₂Si, Jgem=14,26 Hz), -0,08 (d, 2H, SiCH₂Si, Jgem=14,26 Hz), 0,05 (s, 3H, SiCH₃), 3,38 (s, 3H, SiOCH₃).
Kp 104-105°C/3733 Pa, ¹H-NMR(CDCl₃), δ-0,18 (d, 2H SiCH₂Si, Jgem=14,26 Hz), -0,08 (d, 2H, SiCH₂Si, Jgem=14,26 Hz), 0,05 (s, 3H, SiCH₃), 3,38 (s, 3H, SiOCH₃).
3,7 g (50 mMol) 2,2,6,6-Tetramethyl-4,4-dichlor-2,4,6-
trisilaheptan wurden in eine Reaktionsflasche gegeben.
Sodann wurden mittels eines Tropftrichters tropfenweise
3,5 g (109 mMol) Methanol zugegeben mit nachfolgend 8,6 g
(109 mMol) Pyridin, wie in Beispiel 1 beschrieben.
Am Ende der Zugabe wurde das Gemisch 30 Minuten am
Rückfluß erhitzt, um die Reaktion zu vervollständigen.
Sodann wurden hierzu 50 ml Hexan zugegeben und die
Feststoffe abfiltriert. Von der verbleibenden Lösung
wurde das Lösungsmittel verdampft und das Produkt unter
vermindertem Druck destilliert. Es wurden so 10,5 (87%
Ausbeute) 2,2,6,6-Tetramethyl-4,4-dimethoxy-2,4,6-
trisilaheptan erhalten.
Kp 104-105°C/2666 Pa, ¹H-NMR (CDCl₃), δ-0,17 (s, 4H, SiCH₂Si), 0,44 (s, 18H, SiCH₃), 3,44 (s, 6H, SiOCH₃).
Kp 104-105°C/2666 Pa, ¹H-NMR (CDCl₃), δ-0,17 (s, 4H, SiCH₂Si), 0,44 (s, 18H, SiCH₃), 3,44 (s, 6H, SiOCH₃).
Die Reaktion wurde unter den gleichen Bedingungen wie in
Beispiel 3 durchgeführt, außer daß die gleichen Mole
Triethylamin anstelle des Pyridins eingesetzt wurden. Die
Menge des Reaktionsproduktes betrug 12 g und die Ausbeute
77,3%.
Die Reaktion wurde unter den gleichen Bedingungen wie in
Beispiel 3 durchgeführt, außer daß anstelle des
2,2,6,6-Tetramethyl-4,4-dichlor-2,4,6-trisilaheptans
50 mMol 2,6-Dimethyl-2,4,4,6-tetrachlortrisilaheptan und
ebenso Methanol und Pyridin eingesetzt wurden in Mengen
von 220 mMol bzw. 200 mMol. Die Menge des erhaltenen
Produktes betrug 13,2 g und die Ausbeute 87%.
Kp 124-126°C/4399 Pa, ¹H-NMR (CDCl₃), δ 0,03 (s, 4H, SiCH₂Si, 0,16 (s, 12H, SiCH₃), 3,41 (s, 6H, SiOCH₃), 3,48 (s, 6H, SiOCH₃).
Kp 124-126°C/4399 Pa, ¹H-NMR (CDCl₃), δ 0,03 (s, 4H, SiCH₂Si, 0,16 (s, 12H, SiCH₃), 3,41 (s, 6H, SiOCH₃), 3,48 (s, 6H, SiOCH₃).
21,7 g (60 mMol) 2,2,4,4,6,6-Hexachlor-2,4,6-trisilaheptan
wurden wie in Beispiel 1 in die Reaktionsflasche
gegeben. Durch den Tropftrichter wurden tropfenweise
Natriummethoxid, hergestellt aus 8,8 g (380 mMol)
Natrium, in 20 ml trockenem Methanol zugegeben. Am Ende
der Zugabe wurde das Reaktionsgemisch 30 Minuten am
Rückfluß zum Sieden erhitzt, um die Reaktion zu
vervollständigen. Zum Reaktionsgemisch wurden 150 ml
Hexan gegeben und sodann abgeschiedener Festkörper
abfiltriert. Aus der verbleibenden Lösung wurde das
Lösungsmittel verdampft und es wurde unter vermindertem
Druck destilliert und hierdurch 16,5 g (84% Ausbeute)
2,2,4,4,6,6-Hexamethoxy-2,4,6-trisilaheptan erhalten.
Kp 131-139°C/2666 Pa, ¹N-NMR (CDCl₃), δ 0,08 (s, 4H, SiCH₂Si, 0,18 (s, 6H, SiCH₃), 3,51 (s, 18H, SiOCH₃).
Kp 131-139°C/2666 Pa, ¹N-NMR (CDCl₃), δ 0,08 (s, 4H, SiCH₂Si, 0,18 (s, 6H, SiCH₃), 3,51 (s, 18H, SiOCH₃).
Die Reaktion wurde unter den gleichen Bedingungen wie
in Beispiel 6 durchgeführt, außer daß anstelle des
2,2,4,4,6,6-Hexachlor-2,4,6-trisilaheptans eingesetzt
wurden 19,8 g (50 mMol) 1,1,1,3,3,5,5,5-Oktachlor-1,3,5-
trisilaheptan. Das Reaktionsgemisch wurde mit 460 mMol
Natriummethoxid umgesetzt. Die Menge Reaktionsprodukt
betrug 14,8 g und die Ausbeute 82%.
Kp 136-142°C/2666 Pa, ¹H-NMR (CDCl₃), δ 0,09 (s, 4H, SiCH₂Si, 3,54 (s, 6H, SiOCH₃), 3,57 (s, 18H, SiOCH₃.
Kp 136-142°C/2666 Pa, ¹H-NMR (CDCl₃), δ 0,09 (s, 4H, SiCH₂Si, 3,54 (s, 6H, SiOCH₃), 3,57 (s, 18H, SiOCH₃.
13,7 g (50 mMol) 2,2,6,6-Tetramethyl-4,4-dichlor-2,4,6-
trisilaheptan wurden in die gleiche Reaktionsflasche
wie in Beispiel 1 gegeben. Hierzu wurden 1,8 g (60 mMol)
trockenes Methanol gegeben. Das Gemisch wurde auf 70°C
2 Stunden erhitzt. Die Menge des erhaltenen
Reaktionsproduktes betrug 9,92 g und die Ausbeute 74%.
Kp 110-116°C/2666 Pa, ¹H-NMR (CDCl₃), δ 0,18 (s, 4H, SiCH₂Si, 0,11 (s, 18, SiCH₃), 3,50 (s, 3H, SiOCH₃).
Kp 110-116°C/2666 Pa, ¹H-NMR (CDCl₃), δ 0,18 (s, 4H, SiCH₂Si, 0,11 (s, 18, SiCH₃), 3,50 (s, 3H, SiOCH₃).
15,7 g (50 mMol) 2,6-Dimethyl-2,4,4,6-tetrachlor-2,4,6-
trisilaheptan wurden wie in Beispiel 8 in die
Reaktionsflasche gegeben. Das Gemisch wurde 2 Stunden auf
70°C erhitzt, nachdem 3,5 g (110 mMol) trockenes Methanol
zugegeben worden war. Die Menge des erhaltenen Reaktions
produktes betrug 9,95 g und die Ausbeute 65%.
Kp 112-118°C/2666 Pa, ¹H-NMR (CDCl₃), δ 0,18 (s, 2H, SiCH₂Si, 0,28 (s, 2H, SiCH₂Si), 0,21 (s, 6H, SiCH₃), 0,95 (s, 6H, SiCH₃), 3,48 (s, 3H, SiOCH₃), 3,53 (s, 3H, SiOCH₃).
Kp 112-118°C/2666 Pa, ¹H-NMR (CDCl₃), δ 0,18 (s, 2H, SiCH₂Si, 0,28 (s, 2H, SiCH₂Si), 0,21 (s, 6H, SiCH₃), 0,95 (s, 6H, SiCH₃), 3,48 (s, 3H, SiOCH₃), 3,53 (s, 3H, SiOCH₃).
17,8 g (50 mMol) 2,2,4,4,6,6-Hexachlor-2,4,6-trisilaheptan
wurden in die gleiche Reaktionsflasche wie in
Beispiel 1 gegeben. Es wurden 5,5 g (170 mMol) trockener
Methanol zugegeben. Das Gemisch wurde 3 Stunden auf 70°C
erhitzt. Die Menge des erhaltenen Reaktionsproduktes
betrug 10,6 g und die Ausbeute 62%.
Kp 126-132°C/2666 Pa, ¹H-NMR (CDCl₃), δ 0,32 (s, 4H, SiCH₂Si, 0,96 (s, 6H, SiCH₃), 3,52 (s, 6H, SiOCH₃), 3,57 (s, 3H, SiOCH₃).
Kp 126-132°C/2666 Pa, ¹H-NMR (CDCl₃), δ 0,32 (s, 4H, SiCH₂Si, 0,96 (s, 6H, SiCH₃), 3,52 (s, 6H, SiOCH₃), 3,57 (s, 3H, SiOCH₃).
15,8 g (40 mMol) 1,1,1,3,3,5,5,5-Oktachlor-1,3,5-
trisilapentan wurden in die gleiche Reaktionsflasche wie
in Beispiel 1 gegeben. Das Gemisch wurde 3 Stunden auf
70°C erhitzt, nachdem 9,3 g (290 mMol) trockenes Methanol
zugegeben worden war. Die Menge des erhaltenen Reaktions
produktes betrug 8,7 g und die Ausbeute 58%.
Kp 138-145°C/2666 Pa, ¹H-NMR (CDCl₂), δ 0,35 (s, 4H, SiCH₂ Si, 3,57 (s, 12H, SiOCH₃), 3,62 (s, 3H, SiOCH₃).
Kp 138-145°C/2666 Pa, ¹H-NMR (CDCl₂), δ 0,35 (s, 4H, SiCH₂ Si, 3,57 (s, 12H, SiOCH₃), 3,62 (s, 3H, SiOCH₃).
15,8 g (40 mMol) 1,1,1,3,3,5,5,5-Oktachlor-1,3,5-trisilapentan
wurden in die gleiche Reaktionsflasche wie in
Beispiel 1 gegeben. Nachdem 13,8 g (300 mMol) trockener
Methanol zugegeben war, wurde das erhaltene
Reaktionsgemisch 3 Stunden auf 70°C erhitzt. Die Menge
des erhaltenen Reaktionsproduktes betrug 9,4 g und die
Ausbeute 52%.
Kp 175 ä183°C/2666 Pa, ¹H-NMR (CDCl₃), δ 0,33 (s, 4H, SiCH₂Si, 1,4-1,6 (s, 15H, SiOCH₂CH₃), 3,3-3,5 (m, 10H, SiOCH₂CH₃).
Kp 175 ä183°C/2666 Pa, ¹H-NMR (CDCl₃), δ 0,33 (s, 4H, SiCH₂Si, 1,4-1,6 (s, 15H, SiOCH₂CH₃), 3,3-3,5 (m, 10H, SiOCH₂CH₃).
Ein Heizdraht wurde außen um eine Quarzglaskolonne mit 18 mm
innerem Durchmesser und 300 mm Länge über 250 mm in
der Länge gewunden. Die Quarzglaskolonne wurde mit
Stücken eines quarzigen Glases gefüllt. Eine
Pyrex-Glaskolonne mit demselben Durchmesser wurde am
Kopfteil der Quarzglaskolonne befestigt, wobei eine
Glasverbindung am Ende der Pyrex-Glaskolonne befestigt
wurde und sodann ein Kautschukgummi aufgesetzt wurde.
Eine dünne Teflonnadel wurde durch den Gummistopfen
gegeben. Sodann wurden Proben mit einer bestimmten
Fließrate mittels einer Einspritzpumpe eingegeben. Eine
Glaskolonne mit einem Durchmesser von 7 mm wurde seitlich
unter der Verbindung mit einem Stickstofftank verbunden.
Der Verbindungsteil der Pyrex-Glaskolonne mit der
Quarzglaskolonne wurde wieder mit Teilen von Quarzglas
über 100 mm gefüllt und Heizdraht auf der Außenseite
hiervon gewickelt, um auf 200°C zu erhitzen. So wurden
die Proben vorerhitzt um zu verdampfen, und die
verdampften Proben wurden sodann durch das auf
Temperaturen von 400 bis 800°C erhitzte Reaktionsbad
geführt, um die Pyrolyse auszuführen. Vorzugsweise wurde
etwas Stickstoffgas eingeführt, um den Fluß der Proben
oder Produkte besser zu bewirken. Eine Falle wurde unter
der Quarzglaskolonne eingerichtet, die dazu ausgerüstet
war, daß in das Bad flüssiger Stickstoff eingeführt
werden kann, so daß die Produkte gesammelt werden
konnten. Der Bereich des Stickstoffdurchflusses wurde
auch verbunden, um einen Gegenfluß von öligen Produkten
zu verhindern.
Die Quarzglaskolonne wurde zur Durchführung der Pyrolyse
auf 625°C erhitzt. Sodann wurde Stickstoffgas in einem
Ausmaß von 120 ml pro Minute eingeführt. Nachdem die
Innenseite des Pyrolysesatzes dadurch silyliert war,
indem langsam 1,1,1,3,3,3-Hexamethyldisilaazane (200
bis 300 µl) in die Quarzglaskolonne eingeführt worden
war, wurde Stickstoffgas eine Stunde eingegeben, um die
Rückstände im Pyrolysesatz zu entfernen. Die mit dem
unteren Teil der Quarzglaskolonne verbundene Falle wurde
sodann durch Eingabe von flüssigem Stickstoff gekühlt.
Dann wurden 6,6 g (26 mMol) 2,2,6,6-Tetramethyl-4,4-
dimethoxy-2,4,6-trisilaheptan zur Pyrolyse in die
gasdichte Einspritzpumpe gegeben und die Verbindung
wurde in das Innere der Quarzgaskolonne unter Verwendung
der Einspritzpumpe eingegeben.
Nachdem alle Pyrolyseprodukte in zwei Fällen gesammelt
waren, wurden diese gemessen. Das Ergebnis waren 4,6 g
(Ausbeute 70% als die Massengewinnungsmenge). Um diese
durch kapillare Gaschromatographie zu analysieren, wurde
die Auflösungsrate mit 98% angenommen. Jedes Produkt
wurde destilliert, um 2,5 g (50%) als Trimethylmethoxysilan
und 1,4 g (30%) als 1,3,3-Trimethyl-1-methoxy-1,3-
disilacyclobutan zu identifizieren.
¹H-NMR (CDCl₃), δ 0,23 (s, 4H, SiCH₂Si), 0,27 (s, 9H, SiCH₃), 3,48 (s, 3H, SiOCH₃).
¹H-NMR (CDCl₃), δ 0,23 (s, 4H, SiCH₂Si), 0,27 (s, 9H, SiCH₃), 3,48 (s, 3H, SiOCH₃).
Die Pyrolyse wurde unter den gleichen Bedingungen wie in
Beispiel 13 unter Verwendung der gleichen Ausrüstung
durchgeführt, außer daß 8,8 g (30 mMol) 2,6-Dimethyl-
2,4,4,6-tetramethoxy-2,4,6-trisilaheptan eingesetzt
wurden anstelle des 2,2,6,6-Tetramethyl-4,4-dimethoxy-
2,4,6-trisilaheptans. Die Gesamtmenge an gesammelten
Reaktionsprodukten betrug 6,5 g, was 73% der
Massengewinnungsrate und 93% der Auflösungsrate
entspricht. Jedes destillierte Produkt betrug 2,3 g (38%)
Dimethyldimethoxysilan und 2,2 g (36%) 1,3-Dimethyl-1,3-
dimethoxy-1,3-disilacyclobutan.
¹H-NMR (CDCl₃), δ 0,27 (s, 6H, SiCH₂Si, 0,37 (s, 4H, SiCH₂Si), 3,55 (s, 6H, SiOCH₃).
¹H-NMR (CDCl₃), δ 0,27 (s, 6H, SiCH₂Si, 0,37 (s, 4H, SiCH₂Si), 3,55 (s, 6H, SiOCH₃).
Die Pyrolyse wurde unter den gleichen Bedingungen wie in
Beispiel 13 und unter Verwendung der gleichen Ausrüstung
durchgeführt, außer daß 14,9 g (45 mMol)
2,2,4,4,6,6-Hexamethoxy-2,4,6-trisilaheptan anstelle des
2,2,6,6-Tetramethyl-4,4-dimethoxy-2,4,6-trisilaheptans
eingesetzt wurde. Die Gesamtmenge an gesammelten
Reaktionsprodukten betrug 11,7 g, was 79% der
Massengewinnungsrate und 88% der Auflösungsrate
entspricht. Jedes destillierte Produkt betrug 4,0 g (39%)
Methyltrimethoxysilan und 3,3 g (32%) 1-Methyl-1,3,3-
trimethoxy-1,3-disilacyclobutan.
¹H-NMR (CDCl₃), δ 0,37 (s, 6H, SiCH₃), 0,43 (d, 2H, SiCH₂Si), J=16,4 Hz), 0,62 (d, 2H, SiCH₂Si, J=16,4 Hz), 3,49, 3,55, 3,58 (s, 9H, SiOCH₃).
¹H-NMR (CDCl₃), δ 0,37 (s, 6H, SiCH₃), 0,43 (d, 2H, SiCH₂Si), J=16,4 Hz), 0,62 (d, 2H, SiCH₂Si, J=16,4 Hz), 3,49, 3,55, 3,58 (s, 9H, SiOCH₃).
Die Pyrolyse wurde unter den gleichen Bedingungen wie in
Beispiel 13 unter Verwendung der gleichen Ausrüstung
durchgeführt, außer daß 5,8 g (16 mMol) 1,1,1,3,3,5,5,5-
oktamethoxy-1,3,5-trisilapentane eingesetzt wurden
anstelle des 2,2,6,6-Tetramethyl-4,4-dimethoxy-
2,4,6-trisilaheptans. Die Gesamtmenge an gesammelten
Reaktionsprodukten betrug 3,6 g, was 66% der
Massengewinnungsrate und 82% der Auflösungsrate
entspricht. Jedes destillierte Produkt betrug 0,6 g (20%)
Tetramethoxysilan und 0,5 g (15%) 1,1,3,3-Tetramethoxy-
1,3-disilacyclobutan.
¹H-NMR (CDCl₃), δ 0,61 (s, 4H, SiCH₂Si, 3,59 (s, 3H, SiCH₃).
¹H-NMR (CDCl₃), δ 0,61 (s, 4H, SiCH₂Si, 3,59 (s, 3H, SiCH₃).
Die Pyrolyse wurde unter den gleichen Bedingungen wie in
Beispiel 13 unter Verwendung der gleichen Ausrüstung
durchgeführt, außer 9,1 g (34 mMol) 2,2,6,6-Tetramethyl-
4-methoxy-4-chlor-2,4,6-trisilaheptan anstelle
des 2,2,6,6-Tetramethyl-4,4-dimethoxy-2,4,6-trisilaheptans
eingesetzt wurde. Die Gesamtmenge an gesammelten
Reaktionsprodukten betrug 7,6 g, was 83% der
Massengewinnungsrate und 38% der Auflösungsrate
entspricht. Jedes destillierte Produkt betrug 0,9 g (32%)
Trimethylchlorsilan und 0,5 g (20%) 1,3,3-Trimethyl-
1-chlor-1,3-disilacyclobutan.
¹H-NMR (CDCl₃), δ 0,53-0,47 (d, 2H, SiCH₂Si, J=18 Hz), 0,62-0,57 (d, 2H, SiCH₂Si, J=18 Hz), 0,64 (s, 3H, SiCH₃), 0,36 (s, 3H, SiCH₃), 0,27 (s, 3H, SiCH₃).
¹H-NMR (CDCl₃), δ 0,53-0,47 (d, 2H, SiCH₂Si, J=18 Hz), 0,62-0,57 (d, 2H, SiCH₂Si, J=18 Hz), 0,64 (s, 3H, SiCH₃), 0,36 (s, 3H, SiCH₃), 0,27 (s, 3H, SiCH₃).
Die Pyrolyse wurde unter den gleichen Bedingungen wie in
Beispiel 13 unter Verwendung der gleichen Ausrüstung
durchgeführt, außer daß 8,2 g (24 mMol) 2,4,6-Trimethoxy-
2,4,6-trisilaheptan anstelle des 2,2,6,6-Tetramethyl-
4,4-dimethoxy-2,4,6-trisilaheptans eingesetzt wurde. Die
Gesamtmenge an gesammelten Reaktionsprodukten betrug
7,0 g, was 85% der Massengewinnungsrate und 43% der
Auflösungsrate entspricht. Jedes destillierte Produkt
betrug 0,9 g (28%) Methyltrimethoxysilan und 0,8 g (20%)
1-Methyl-3-methoxy-1,3-disilacyclobutan.
¹H-NMR (CDCl₃), δ 3,65 (s, 2H, SiCH₃), 0,82 (s, 4H, SiCH₂Si), 0,67 (s, 3H, SiCH₃).
¹H-NMR (CDCl₃), δ 3,65 (s, 2H, SiCH₃), 0,82 (s, 4H, SiCH₂Si), 0,67 (s, 3H, SiCH₃).
Die Pyrolyse wurde unter den gleichen Bedingungen wie in
Beispiel 13 und unter Verwendung der gleichen Ausrüstung
durchgeführt, außer daß 7,3 g (20 mMol) 1,1,3,5,5-pentamethoxy-
1,3,5-trichlor-1,3,5-trisilapentan anstelle
des 2,2,6,6-Tetramethyl-4,4-dimethoxy-2,4,6-trisilaheptans
eingesetzt wurde. Die Gesamtmenge an gesammelten
Reaktionsprodukten betrug 5,7 g, was 78% der
Massengewinnungsrate und 56% der Auflösungsrate
entspricht. Jedes destillierte Produkt betrug 1,1 g (35%)
Trimethoxysilan und 0,8 g (25%) 1,3-Dimethoxy-1,3-
dichlor-1,3-disilacyclobutan.
¹H-NMR (CDCl₃), δ 3,68 (s, 6H, SiOCH₃), 0,98 (s, 4H, SiCH₂Si).
¹H-NMR (CDCl₃), δ 3,68 (s, 6H, SiOCH₃), 0,98 (s, 4H, SiCH₂Si).
Die Pyrolyse wurde unter den gleichen Bedingungen wie in
Beispiel 13 und unter Verwendung der gleichen Ausrüstung
durchgeführt, außer daß 9,3 g (22 mMol) 1,1,3,5,5-Pentaethoxy-
1,3,5-trichlor-1,3,5-trisilapentan anstelle
des 2,2,6,6-Tetramethyl-4,4-dimethoxy-2,4,6-trisilaheptans
eingesetzt wurde. Die Gesamtmenge an gesammelten
Reaktionsprodukten betrug 8,1 g, was 87% der
Massengewinnungsrate und 48% der Auflösungsrate
entspricht. Jedes destillierte Produkt betrug 1,0 g (28%)
Triethylchlorsilan und 0,9 g (27%) 1,3-Diethoxy-1,3-
dichlor-1,3-disilacyclobutan.
¹H-NMR (CDCl₃), δ 3,70 (t, 4H, SiOCH₂CH₃), 1,23 (d, 6H, SiOCH₂CH₃), 0,67 (s, 3H, SiCH₂Si).
¹H-NMR (CDCl₃), δ 3,70 (t, 4H, SiOCH₂CH₃), 1,23 (d, 6H, SiOCH₂CH₃), 0,67 (s, 3H, SiCH₂Si).
Die Pyrolyse wurde unter den gleichen Bedingungen wie in
Beispiel 13 und unter Verwendung der gleichen Ausrüstung
durchgeführt, außer daß 6,7 g (22 mMol) 2,6-Dimethyl-2,4-
dimethoxy-4,6-dichlor-2,4,6-trisilaheptan anstelle des
2,2,6,6-Tetramethyl-4,4-dimethoxy-2,4,6-trisilaheptans
eingesetzt wurde. Die Gesamtmenge an gesammelten
Reaktionsprodukten betrug 5,5 g, was 82% der
Massengewinnungsrate und 41% der Auflösungsrate
entspricht. Jedes destillierte Produkt betrug 0,6 g (18%)
Dimethyldimethoxysilan und 0,2 g (10%) 1,3-Dimethyl-1,3-
dichlor-1,3-disilacyclobutan.
¹H-NMR (CDCl₃), δ 0,79 (s, 4H, SiCH₂Si, 0,69 (s, 6H, SiCH₃).
¹H-NMR (CDCl₃), δ 0,79 (s, 4H, SiCH₂Si, 0,69 (s, 6H, SiCH₃).
Die Pyrolyse wurde unter den gleichen Bedingungen wie in
Beispiel 13 und unter Verwendung der gleichen Ausrüstung
durchgeführt, außer daß 6,0 g (16 mMol) 2,2,6,6-Tetramethyl-
4-methoxy-4-phenyl-2,4,6-trisilaheptan anstelle
des 2,2,6,6-Tetramethyl-4,4-dimethoxy-2,4,6-trisilaheptans
eingesetzt wurde. Die Gesamtmenge an gesammelten
Reaktionsprodukten betrug 4,2 g, was 69% der
Massengewinnungsrate und 59% der Auflösungsrate
entspricht. Jedes destillierte Produkt betrug 0,6 g (23%)
Trimethylmethoxysilan und 0,8 g (32%) 1,3,3-Trimethyl-
1-phenyl-1,3-disilacyclobutan.
¹H-NMR (CDCl₃), δ 0,33 (d, 2H, SiCH₂Si, J=16,4 Hz), 0,24 (d, 2H, SiCH₂Si, J=16,4 Hz), 0,24 (s, 3H, SiCH₃), 0,34 (s, 3H, SiCH₃), 0,48 (s, 3H, SiCH₃), 7,37-7,61 (m, 5H, SiPh).
¹H-NMR (CDCl₃), δ 0,33 (d, 2H, SiCH₂Si, J=16,4 Hz), 0,24 (d, 2H, SiCH₂Si, J=16,4 Hz), 0,24 (s, 3H, SiCH₃), 0,34 (s, 3H, SiCH₃), 0,48 (s, 3H, SiCH₃), 7,37-7,61 (m, 5H, SiPh).
Die Pyrolyse wurde unter den gleichen Bedingungen wie in
Beispiel 13 und unter Verwendung der gleichen Ausrüstung
durchgeführt, außer daß 5,6 g (23 mMol) 2,2,4,6,6-Pentamethyl-
4-methoxy-2,4,6-trisilaheptan anstelle des
2,2,6,6-Tetramethyl-4,4-dimethoxy-2,4,6-trisilaheptans
eingesetzt wurde. Die Gesamtmenge an gesammelten
Reaktionsprodukten betrug 4,2 g, was 75% der
Massengewinnungsrate und 58% der Auflösungsrate
entspricht. Jedes destillierte Produkt betrug 0,9 g (38%)
Trimethylmethoxysilan und 0,3 g (14%) 1,1,3,3-Tetramethyl-
1,3-disilacyclobutan.
Die Reaktion wurde unter den gleichen Bedingungen wie in
Beispiel 13 und unter Verwendung der gleichen Ausrüstung
und dem gleichen Ausgangsmaterial durchgeführt, außer
daß die Reaktionstemperatur auf 450°C gesenkt wurde und
ausgegangen wurde von 8,2 g (31 mMol) des
Ausgangsproduktes. Die Gesamtmenge an gesammelten
Reaktionsprodukten betrug 7,0 g, was 87% der
Massengewinnungsrate und 52% der Auflösungsrate
entspricht. Jedes destillierte Produkt betrug 1,9 g (45%)
Trimethylmethoxysilan und 1,1 g (27%) 1,3,3-Trimethyl-
1-methoxy-1,3-disilacyclobutan.
Das Ausgangsprodukt des Beispiels 15 wurde unter den
gleichen Reaktionsbedingungen wie im Beispiel 15 und
unter Verwendung der gleichen Ausrüstung umgesetzt,
außer daß die Reaktionstemperatur auf 750°C gesteigert
wurde und ausgegangen wurde von 7,6 g (23 mMol) des
Ausgangsproduktes. Die Gesamtmenge an gesammelten
Reaktionsprodukten betrug 4,4 g, was 58% der
Massengewinnungsrate und 98% der Auflösungsrate
entspricht. Jedes destillierte Produkt betrug 2,4 g (55%)
Methyltrimethoxysilan und 0,6 g (13%) 1-Methyl-1,3,3-
trimethoxy-1,3-disilacyclobutan.
8,4 g (32 mMol) 2,2,6,6-Tetramethyl-4,4-dimethoxy-2,4,6-
trisilaheptan wurden wie im Beispiel 13 bei gleicher
Reaktionstemperatur unter Verwendung der gleichen
Ausrüstung durchgeführt, außer daß Stickstoff nicht
eingegeben wurde und innerhalb des Reaktors ein Vakuum
von etwa 10-3 torr aufrechterhalten wurde. Die Gesamtmenge
an gesammelten Reaktionsprodukten betrug 6,8 g, was 81%
der Massengewinnungsrate entspricht. Es wurden 2,2 g
(33%) 1,1,3-Trimethyl-3-methoxy-1,3-disilacyclobutan
erhalten.
Claims (7)
1. Verfahren zur Herstellung von 1,3-Disilacyclobutanen
gemäß Formel I, dadurch gekennzeichnet, daß Alkoxytrisila
alkan-Derivate gemäß Formel II
wobei in den Formeln R¹, R², R³, R⁴ und R⁵ unabhängig voneinander
Methyl, Methoxy, Ethoxy, Phenyl oder Chlor sind, bei einer Tem
peratur von 400 bis 800°C bei atmosphärischem Druck oder unter
Vakuum pyrolysiert werden.
2. Verfahren nach Anspruch 1, worin R¹ und R⁴ Methyl und
R² und R³ Methoxy sind.
3. Verfahren nach Anspruch 1, worin R¹, R² und R³ Methoxy
sind und R⁴ Methyl ist.
4. Verfahren nach Anspruch 1, worin R¹, R², R³ und R⁴
Methoxygruppen sind.
5. Verfahren nach Anspruch 1, worin R¹ Methoxy ist, R²
und R³ Chlor sind und R⁴ Methyl ist.
6. Verfahren nach Anspruch 1, worin R¹ und R⁴ Methoxy und
R² und R³ Chlor sind.
7. Verfahren nach Anspruch 1, worin R¹ und R⁴ Ethoxy und
R² und R³ Chlor sind.
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1019910009858A KR940007414B1 (ko) | 1991-06-14 | 1991-06-14 | 1,3-디실라시클로부탄 유도체 및 그 제조방법 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE4219375A1 DE4219375A1 (de) | 1992-12-17 |
DE4219375C2 true DE4219375C2 (de) | 1994-10-13 |
Family
ID=19315805
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE4219375A Expired - Fee Related DE4219375C2 (de) | 1991-06-14 | 1992-06-15 | Verfahren zur Herstellung von 1,3-Disilacyclobutanen |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US5302734A (de) |
JP (1) | JPH0768248B2 (de) |
KR (1) | KR940007414B1 (de) |
DE (1) | DE4219375C2 (de) |
FR (1) | FR2678620B1 (de) |
Families Citing this family (20)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR950011359B1 (ko) * | 1993-02-18 | 1995-10-02 | 한국과학기술연구원 | I-아릴-i-[알파-(트리아졸릴)알킬]-i-실라시클로알칸 및 이들의 제조방법 |
US5868961A (en) * | 1993-06-28 | 1999-02-09 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | Silacyclohexane compound, a method of preparing it and a liquid crystal composition containing it |
KR0141464B1 (ko) * | 1993-12-01 | 1998-07-01 | 김은영 | 알릴알킬실란 화합물 및 그의 제조방법 |
KR970010593B1 (ko) * | 1993-12-01 | 1997-06-28 | 한국과학기술연구원 | 2-아릴프로필알킬폴리실록산 형태의 실리콘 오일 및 그의 제조방법 |
KR970010592B1 (ko) * | 1993-12-01 | 1997-06-28 | 한국과학기술연구원 | 2-아릴프로필히드로겐폴리실록산 형태의 실리콘 오일 및 그의 제조방법 |
KR0134564B1 (ko) * | 1993-12-07 | 1998-04-20 | 김은영 | 알릴알킬실록산과 디오르가노실록산 공중합 형태의 실리콘 오일 및 그 제조 방법 |
KR100232044B1 (ko) * | 1993-12-24 | 1999-12-01 | 카나가와 치히로 | 실라시클로헥산화합물, 그 제조방법 및 이것을 함유하는 액정조성물 |
DE69509935T2 (de) * | 1994-02-04 | 2000-01-20 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | Eine Silacyclohexanverbindung, deren Herstellung und diese enthaltende Flüssigkristallzusammensetzungen |
US5527938A (en) * | 1994-07-19 | 1996-06-18 | Korea Institute Of Science And Technology | (2-arylpropyl)silanes and preparation methods thereof |
US5608094A (en) * | 1995-10-04 | 1997-03-04 | Dow Corning Corporation | Benzosilacyclobutenes and methods of making |
US7391698B2 (en) | 1998-07-23 | 2008-06-24 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Adaptive writing method for high-density optical recording apparatus and circuit thereof |
US7158461B1 (en) | 1997-12-30 | 2007-01-02 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Adaptive writing method for high-density optical recording apparatus and circuit thereof |
MY125795A (en) | 1998-07-23 | 2006-08-30 | Samsung Electronics Co Ltd | Adaptive writing method for high-density optical recording apparatus and circuit thereof |
US6545492B1 (en) * | 1999-09-20 | 2003-04-08 | Europaisches Laboratorium Fur Molekularbiologie (Embl) | Multiple local probe measuring device and method |
KR100451044B1 (ko) * | 2001-06-07 | 2004-10-02 | 주식회사 엘지화학 | 유기실리케이트 중합체의 제조방법, 및 이를 이용한절연막의 제조방법 |
US6830860B2 (en) * | 2003-01-22 | 2004-12-14 | Xerox Corporation | Toner compositions and processes thereof |
KR100582212B1 (ko) * | 2004-03-09 | 2006-05-23 | 주식회사 파라다이스산업 | 스프링클러 헤드 |
KR20050024721A (ko) * | 2003-09-01 | 2005-03-11 | 삼성전자주식회사 | 신규 실록산계 수지 및 이를 이용한 반도체 층간 절연막 |
JP5532434B2 (ja) * | 2008-03-07 | 2014-06-25 | 独立行政法人産業技術総合研究所 | 有機無機複合材料およびその利用 |
KR100928942B1 (ko) * | 2008-05-26 | 2009-11-30 | 제이에스아이실리콘주식회사 | 직선형이나 고리형의 트리실라알칸의 제조방법 |
Family Cites Families (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US2850514A (en) * | 1955-10-25 | 1958-09-02 | Du Pont | Organometalloids |
US3178392A (en) * | 1962-04-09 | 1965-04-13 | Rohm & Haas | Heterocyclic and linear siliconmethylene and polysiloxane compounds containing siliconmethylene units and their preparation |
GB1023797A (en) * | 1964-02-14 | 1966-03-23 | Ici Ltd | New and improved process of preparing organosilicon polymers |
SU810701A1 (ru) * | 1978-08-30 | 1981-03-07 | Институт Нефтехимического Синтезаим.A.B.Топчиева Ah Cccp | 1,1,2,2-Тетраметил-1,2-дисилацикло-буТАН B КАчЕСТВЕ MOHOMEPA дл СиНТЕзАлиНЕйНОгО КРиСТАлличЕСКОгО пОлиМЕРАС чЕРЕдующиМиС диМЕТилЕНОВыМи иМЕТилзАМЕщЕННыМи диСилЕНОВыМи зВЕНь МиВ ОСНОВНОй цЕпи и СпОСОб ЕгО пОлу-чЕНи |
JPH0791308B2 (ja) * | 1989-06-20 | 1995-10-04 | 信越化学工業株式会社 | トリアルキルシリルメチル基含有シラン化合物 |
-
1991
- 1991-06-14 KR KR1019910009858A patent/KR940007414B1/ko not_active IP Right Cessation
-
1992
- 1992-06-11 US US07/897,470 patent/US5302734A/en not_active Expired - Fee Related
- 1992-06-12 JP JP4177778A patent/JPH0768248B2/ja not_active Expired - Lifetime
- 1992-06-15 DE DE4219375A patent/DE4219375C2/de not_active Expired - Fee Related
- 1992-06-15 FR FR9207205A patent/FR2678620B1/fr not_active Expired - Lifetime
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
FR2678620A1 (fr) | 1993-01-08 |
JPH05202069A (ja) | 1993-08-10 |
KR940007414B1 (ko) | 1994-08-18 |
DE4219375A1 (de) | 1992-12-17 |
JPH0768248B2 (ja) | 1995-07-26 |
FR2678620B1 (fr) | 1995-11-03 |
US5302734A (en) | 1994-04-12 |
KR930000524A (ko) | 1993-01-15 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
DE4219375C2 (de) | Verfahren zur Herstellung von 1,3-Disilacyclobutanen | |
DE2642833C3 (de) | Oxysilan-Verbindungen, Verfahren zu ihrer Herstellung und ihre Verwendung | |
DE2365272C2 (de) | ||
Weyenberg et al. | Disilyldihydronaphthalenes from Alkali Metal Naphthalenides and Chlorosilanes | |
US3660443A (en) | Process for the alkylation of halogenated silicon and tin compounds | |
DE3518878C2 (de) | ||
Woodbury et al. | Reaction of lithium N, N-dialkylamide enolates with trialkylchlorosilanes | |
DE102010003108A1 (de) | Silaoxacyclen | |
Breed et al. | p-Phenylenedisilanes1 | |
US4469881A (en) | [2-(p-t-Butylphenyl)ethyl]silanes and method of making the same | |
Hagelee et al. | Boron Compounds. XLIV The Influence of Silicon on the Formation of (Z/E)-Tetrasubstituted Ethylenes via 1-Alkynylborates2 | |
DE2114027C3 (de) | Verfahren zur Herstellung von Methallylsiliciumverbindungen | |
US4777278A (en) | Synthesis of alkyl cycloalkyl dialkoxysilanes | |
JPH01132591A (ja) | 二量体化されたビニルビシクロヘプチル基含有ケイ素化合物およびその製造方法 | |
DE68921134T2 (de) | Herstellung von Organosilanen. | |
Sakurai et al. | Conformationally stable 1-substituted 1-methyl-4-t-butyl-1-silacyclohexanes, a new organosilicon system suitable for stereochemical studies. | |
US2572402A (en) | Organo silanes and their production | |
Kuwajima et al. | Conversion of carbon-sulfur linkages into carbon-silicon ones via reductive silylation. Preparation of silyl enol ethers of acyltrimethylsilanes. | |
EP0267406B1 (de) | Verfahren zur Herstellung von Alkoxysilanen | |
DE3728801C2 (de) | (2-Phenylpropan-2-yl) silan-Verbindungen und ein Verfahren zu deren Herstellung | |
Kawazumi et al. | The Reaction of Methylchlorodisilanes with t-Butyl Hydroperoxide | |
Benkeser et al. | The Preparation and Properties of Cyclic Silicon Systems | |
JP3137439B2 (ja) | 1−アザ−2−シラシクロブタン化合物及びその製造法 | |
Gilman et al. | Preparation and Reactions of Some Unsymmetrical Phenoxasilin Compounds | |
GILMAN et al. | Some Organosilicon Compounds Derived from Phenyl Ether |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
OP8 | Request for examination as to paragraph 44 patent law | ||
D2 | Grant after examination | ||
8364 | No opposition during term of opposition | ||
8339 | Ceased/non-payment of the annual fee |