DE832830C - Verfahren zum Erzeugen elektrisch leitender UEberzugsschichten - Google Patents

Verfahren zum Erzeugen elektrisch leitender UEberzugsschichten

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DE832830C
DE832830C DEP53914A DEP0053914A DE832830C DE 832830 C DE832830 C DE 832830C DE P53914 A DEP53914 A DE P53914A DE P0053914 A DEP0053914 A DE P0053914A DE 832830 C DE832830 C DE 832830C
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Germany
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electrically conductive
zinc
conductive coating
coating layers
producing electrically
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Expired
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DEP53914A
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Inventor
Edmund Rusch
Heinz Schubert
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Siemens and Halske AG
Siemens AG
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Siemens and Halske AG
Siemens AG
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    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C4/00Coating by spraying the coating material in the molten state, e.g. by flame, plasma or electric discharge
    • C23C4/04Coating by spraying the coating material in the molten state, e.g. by flame, plasma or electric discharge characterised by the coating material
    • C23C4/06Metallic material
    • C23C4/08Metallic material containing only metal elements
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01BCABLES; CONDUCTORS; INSULATORS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR CONDUCTIVE, INSULATING OR DIELECTRIC PROPERTIES
    • H01B1/00Conductors or conductive bodies characterised by the conductive materials; Selection of materials as conductors

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Description

  • Verfahren zum Erzeugen elektrisch leitender Uberzugsschichten Die Erfindung betrifft eine metallische Überzugsschicht, wie sie insbesondere zur Metallisierung nichtleitender Flächen, z. B. des Glaskolbens von Elektronenröhren, verwendet wird, und ein Verfahren zur Herstellung derselben. Bei Elektronenröhren mit Glaskolben ist es vielfach erwünscht, auf die Außenseite des Kolbens eine elektrisch leitende Schicht aufzubringen, um dadurch eine elektrostatische Abschirmung des Entladungssystems zu erzielen. Man hat solche Schichten durch Tauchen oder Spritzen mit metallischen Lacken usw. hergestellt. Am gebräuchlichsten ist -das Schoopsche Verfahren, bei dem ein Draht, der z. B. aus Zink besteht, zum Schmelzen gebracht und dabei auf die zu überziehende Röhre aufgesprüht wird. Auf diese Weise ergibt sich ein haltbarer Metallüberzug, der eine ausreichende elektrische Leitfähigkeit besitzt.
  • In vielen Fällen ist es erwünscht, einen Überzug zu schaffen, der sich durch Feinkörnigkeit auszeichnet. Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, einen besonders feinkörnigen metallischen Zinküberzug zu erreichen.
  • Die Erfindung besteht darin, daß als Ausgangsmaterial nicht reines Zink, sondern Zink mit geringen Beimengungen anderer Metalle verwendet wird. Dabei hat es sich herausgestellt, daß geringe Mengen von Bleizusätzen die Feinkörnigkeit des Überzuges gewährleisten. Der Bleigehalt beträgt dabei zweckmäßig etwa o,2 Gewichtsprozente. Weiterhin kann es zweckmäßig sein, noch geringe Spuren Kupfer zusätzlich zu verwenden. Dabei kann die Kupfermenge mit Vorteil etwa o,o5 % und weniger betragen.

Claims (4)

  1. PATENTANSPRÜCHE: i. Verfahren zum Erzeugen elektrisch leitender Überzugsschichten, die vorwiegend aus Zink bestehen, insbesondere auf Glaskolben von Elektronenröhren nach dem Metallspritzverfahren, dadurch gekennzeichnet, daß Zink mit einem Zusatz von geringen Mengen Blei verspritzt wird.
  2. 2. Verfahren nach Anspruch i, dadurch gekennzeichnet, daB Zink mit einem Bleigehalt von etwa o,2 0/0 verspritzt wird.
  3. 3. Verfahren nach den Ansprüchen i und 2, dadurch gekennzeichnet, daß dem bleihaltigen Zink noch kleine Mengen Kupfer zugesetzt werden.
  4. 4. Verfahren nach Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet, daß der Kupferzusatz unter o,o5 % liegt.
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