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HINTERGRUND DER ERFINDUNG
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1. Gebiet der Erfindung
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Die vorliegende Erfindung betrifft
neuartige Systeme und Verfahren für das Sättigen eines Gases mit einem
Dampf aus einer flüssigen
Chemikalie. Die Erfindung betrifft auch neuartige Systeme und Verfahren
für die
gezielt eingestellte Abgabe einer in Dampf überführten flüssigen Chemikalie. Die Erfindung
eignet sich insbesondere für
die Anwendung in der Halbleiter-Fertigungsindustrie.
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2. Beschreibung des Standes
der Technik
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In der Halbleiter-Fertigungsindustrie
werden hochreine Gase an Prozesswerkzeuge geliefert für das Ausführen verschiedener
Prozesse für
die Herstellung von Halbleitern. Beispiele derartiger Prozesse umfassen
die Diffusion, das chemische Aufdampfen (CVD), das Ätzen, das
Aufstäuben
und die Ionenimplantation. Die Verwendung flüchtiger Flüssigkeiten als Reaktandenquelle
für diese
Prozesse ist bekannt. Derartige Flüssigkeiten umfassen beispielsweise
Silan (SiH4) , Dichlorsilan (SiH2Cl2) , Trichlorsilan
(SiHCl3), Ammoniak (NH3),
Bortrichlorid (BCl3), Chlor (Cl2),
Chlorwasserstoff (HCl), Fluorwasserstoff (HF) und Chlortrifluorid
(ClF3).
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Bisher sind schon eine Reihe von
Verfahren für
das Liefern einer in Dampf überführten Form
der flüchtigen
flüssigen
Chemikalie an die Prozesseinrichtung verwendet worden. Diese umfassen
Verfahren für
das Sättigen
eines Trägergases
mit einem Dampf der flüssigen
Chemikalie und das Überführen der
flüssigen
Chemikalie in den dampfförmigen
Zustand ohne ein Trägergas.
Bekannte Verfahren für das
Sättigen
eines Trägergases
mit dem Dampf einer Chemikalie umfassen beispielsweise das direkte
Einspritzen der flüssigen
Chemikalie direkt in einen Trägergasstrom.
Es ist auch bekannt, ein Trägergas durch
die flüssige
Chemikalie hindurchzuperlen, wobei das Gas mit dem Dampf der Chemikalie
gesättigt wird.
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Bei Verfahren, bei denen ein Trägergas verwendet
wird, wird die Konzentration des Dampfs der Chemikalie im Trägergas durch
verschiedene Faktoren beeinflusst. Beispielsweise wirkt sich die
Größe der Gasblasen,
was den Oberflächenbereich
der Blasen anbetrifft, und die Zeit, während der die Blasen der flüssigen Chemikalie
ausgesetzt sind, auf die Dampfkonzentration der Chemikalie im Trägergas aus.
Ein bekanntes Gerät,
das zum Kontaktieren einer flüssigen
Chemikalie mit einem Trägergas
verwendet wird, besteht aus einer perforierten Röhre, die sich in einen die
flüssige
Chemikalie enthaltenden Behälter
hinein erstreckt. Das Trägergas
wird durch die Perforierungen in der Röhre in die flüssige Chemikalie
hineingeperlt, wobei die Perforierungen es dem Gas gestatten, sich
in begrenztem Ausmaß in der
Flüssigkeit
zu verteilen. Mit fortschreitendem Hindurchperlen des Gases und
Verdampfen der flüssigen
Chemikalie, fällt
das Niveau der flüssigen
Chemikalie im Behälter
in Abwesenheit flüssiger
frisch dazugegebener Chemikalie ständig ab. Diese Änderung
im Flüssigkeitsniveau
während,
des Vorgangs des Hindurchperlens führt zu einer Reduzierung der Gas-Flüssigkeits-Kontaktzeit,
wodurch die Konzentration des Dampfs der Chemikalie im Trägergas geändert wird.
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Eine weitere Variable, die sich auf
die Konzentration des Dampfs der Chemikalie im Trägergas auswirkt,
ist die Temperatur der flüssigen
Chemikalie. Der Dampfdruck der flüchtigen flüssigen Chemikalie hängt von
der Temperatur der flüssigen
Chemikalie ab. So wird das Trägergas
bei irgendeiner vorgegebenen Temperatur mit dem Dampf der Chemikalie
im Gleichgewichtszustand gesättigt.
Das Trägergas
und die dampfförmige
Chemikalie koexistieren im Zustand des Sättigungsgleichgewichts, solange
die Temperatur konstant bleibt. Fällt die Temperatur jedoch ab,
so kondensiert sich ein Teil des Dampfs der Chemikalie aus dem dampfförmigen Zustand
aus, was zu einer Änderung
der Konzentration des Dampfs der Chemikalie im Trägergas führt.
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Um die Temperatur des Sättigungsgeräts zu regeln,
wird herkömmlicherweise
eine Kühlaggregateinheit
als solche verwendet. Bei dem herkömmlichen Gerät kühlt die
Kühlaggregateinheit
das System auf eine unterhalb der Raumtemperatur liegende Temperatur
ab, um die Kondensation des Dampfs der Chemikalie aus dem Trägergas zu
verhindern, während
es an die Prozesseinrichtung geführt
wird. Dabei wird natürlich
angenommen, dass das Gas auf dem Weg zur Prozesseinrichtung keiner
Temperatur ausgesetzt ist, die niedriger ist als diejenige, bei
der die Sättigung
stattgefunden hat. Es hat sich jedoch gezeigt, dass eine Kühlaggregateinheit
als solche keine vollständige
Temperaturregelung bietet.
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Während
des Sättigungsvorgangs
führt die Umwandlung
der flüssigen
Chemikalie in einen Dampf zur Beseitigung zusätzlicher Wärme aus der Flüssigkeit.
Der Endeffekt dieser Wärmebeseitigung besteht
darin, dass die Temperatur der flüssigen Chemikalie unter die
Regeltemperatur des Kühlmittels
fallen kann. Da die Kühlaggregateinheit
nur eine Kühlaufgabe
besitzt, kann diese zusätzliche
Wärmebeseitigung
nicht durch das Kühlsystem
alleine ausgeglichen werden. Das kann zu Variationen im Dampfdruck
der flüssigen
Chemikalie und der Konzentration des Dampfs der Chemikalie im Trägergas führen.
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Noch eine weitere Variable, die die
Konzentration des Dampfs der Chemikalie im Trägergas beeinflussen kann, ist
der Druck des Trägergases.
Bei bekannten Geräten ist
von mechanischen Druckreglern Gebrauch gemacht worden, bei denen
man sich auf Federn und Membranen zum Aufnehmen und Regeln des Drucks
verlässt.
Bei derartigen mechanischen Geräten
tritt jedoch von Natur aus eine Verzögerung der Reaktion auf Änderungen
im System auf. Das kann zu Druckschwankungen führen, die wiederum Änderungen
in der Konzentration des Dampfs der Chemikalie hervorrufen.
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Bei trägergasfreien Methoden rühren Änderungen
im Dampfdruck der flüssigen
Chemikalie aus Schwankungen der Temperatur der flüssigen Chemikalie
her. Derartige Schwankungen führen
zu Änderungen
im Abgabedruck und der Fließgeschwindigkeit
des Dampfs des Produkts zur bei der Halbleiterverarbeitung verwendeten
Vorrichtung, was zu Prozessunbeständigkeiten führt.
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Um den Erfordernissen der Halbleiter-Fertigungsindustrie
zu entsprechen und die Nachteile der damit verwandten Technik zu überwinden,
ist es eine Aufgabe der vorliegenden Erfindung, neuartige Systeme
für das
Sättigen
eines Gases mit einem Dampf aus einer flüssigen Chemikalie zu bieten.
Durch die Erfindung kann ein Gas, das eine im Wesentlichen gleich
bleibende chemische Dampfkonzentration aufweist, geliefert werden.
Das wird durch Regulieren des Trägergasdrucks,
der Temperatur der flüssigen Chemikalie
und des Niveaus der flüssigen
Chemikalie im Sättigungsgefäß erzielt.
Der Grad an Kontrolle, der nun bezüglich der Eigenschaften des
Produktgases möglich
ist, konnte mit bisherigen Systemen nicht erzielt werden.
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Es ist eine weitere Aufgabe der Erfindung, neuartige
Verfahren für
das Sättigen
eines Gases mit einem Dampf aus einer flüssigen Chemikalie zu bieten.
Die Verfahren können
mit den erfindungsgemäßen Systemen
durchgeführt
werden.
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Andere Aufgaben und Ausgestaltungen
der vorliegenden Erfindung werden einem mit dem Stand der Technik
vertrauten Fachmann bei einer Durchsicht der Beschreibung, der Zeichnungen
und der angehängten
Ansprüche
offensichtlich werden.
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KURZE BESCHREIBUNG
DER ZEICHNUNGEN
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Die Aufgaben und Vorteile der Erfindung werden
aus der folgenden genauen Beschreibung der bevorzugten Ausführungsformen
derselben in Verbindung mit den beiliegenden Zeichnungen offensichtlich,
in denen entsprechende Merkmale durch entsprechende Bezugsnummern
gekennzeichnet sind, und in denen:
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1 ein
beispielhaftes Prozessfließdiagramm
für die
Gassättigung
einer Ausgestaltung der Erfindung gemäß veranschaulicht;
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2 ein
einer Ausgestaltung der Erfindung entsprechendes Sättigungsgefäß veranschaulicht;
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3A und 3B als Draufsicht beispielhafte Einblassysteme
für das
Einperlen eines Trägergases in
die flüssige
Chemikalie einer Ausgestaltung der Erfindung gemäß veranschaulichen; und
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4 ein
beispielhaftes Prozessfließdiagramm
für die
gezielt eingestellte Abgabe einer in den Dampfzustand versetzten
Chemikalie einer weiteren Ausgestaltung der Erfindung gemäß veranschaulicht.
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ZUSAMMENFASSUNG
DER ERFINDUNG
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Die oben aufgeführten Aufgaben werden durch
die erfindungsgemäßen Systeme
und Verfahren erfüllt.
Einer ersten Ausgestaltung der Erfindung gemäß wird ein System für das Sättigen eines
Gases mit einem Dampf aus einer flüssigen Chemikalie bereitgestellt.
Das System umfasst:
- (a) ein Sättigungsgefäß, das angeschlossen
ist, um eine flüssige
Chemikalie und ein Trägergas
aufzunehmen,
- (b) eine Gaseinblasvorrichtung in dem Sättigungsgefäß für das Einblasen des Trägergases
in die flüssige Chemikalie,
- (c) eine Vorrichtung für
das Halten der flüssigen
Chemikalie in dem Sättigungsgefäß auf einem
im Wesentlichen konstanten Niveau,
- (d) eine Vorrichtung für
das Einstellen der Temperatur der flüssigen Chemikalie in dem Sättigungsgefäß auf einen
erwünschten
Wert, welche Vorrichtung (I) ein System für das Kühlen der flüssigen Chemikalie und (ii)
eine Heizvorrichtung in dem Sättigungsgefäß umfasst,
die sich senkrecht in der Flüssigkeit
in einem Abstand von mindestens der Hälfte der Höhe des Niveaus der flüssigen Chemikalie
erstreckt, für
das Erhitzen der flüssigen
Chemikalie, und
- (e) eine Vorrichtung für
das Einstellen des Drucks des esättigten
Gases auf einen erwünschten
Wert.
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Einer weiteren Ausgestaltung der
Erfindung gemäß wird ein
Verfahren für
das Sättigen
eines Gases mit einem Dampf aus einer flüssigen Chemikalie bereitgestellt.
Das Verfahren umfasst folgende Schritte:
- (a)
Einführen
einer flüssigen
Chemikalie und eines Trägergases
in ein Sättigungsgefäß, in dem
das Trägergas
in die flüssige
Chemikalie eingeblasen wird unter Bildung eines Gases, das mit Dampf
aus der flüssigen
Chemikalie gesättigt
ist,
- (b) Halten der flüssigen
Chemikalie in dem Sättigungs gefäß auf einem
im Wesentlichen konstanten Niveau,
- (c) Einstellen der Temperatur der flüssigen Chemikalie in dem Sättigungsgefäß auf einen
erwünschten unterhalb
der Raumtemperatur liegenden Wert durch Kühlen der flüssigen Chemikalie auf den erwünschten
Wert und Zuführen
von Wärme
zu der flüssigen Chemikalie,
wie erforderlich ist, um die Temperatur einzustellen, mit Hilfe
einer Heizvorrichtung in dem Sättigungsgefäß, wobei
die Heizvorrichtung sich senkrecht in der Flüssigkeit in einem Abstand von mindestens
der Hälfte
der Höhe
des Niveaus der flüssigen
Chemikalie erstreckt, und
- (d) Einstellen des Drucks des gesättigten Gases auf einen erwünschten
Wert.
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Bevorzugte Ausführungsformen des Systems und
des Verfahrens sind in den abhängigen
Ansprüchen
definiert.
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GENAUE BESCHREIBUNG
DER BEVORZUGTEN AUSFÜHRUNGSFORMEN
DER ERFINDUNG
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Die Erfindung wird nun mit Bezug
auf 1 beschrieben, die
ein beispielhaftes Prozessfließdiagramm
für die
Gassättigung
einer Ausgestaltung der Erfindung gemäß veranschaulicht.
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Ein Trägergas wird aus einer Trägergasquelle 102 durch
die Leitung 104 an ein Sättigungsgefäß oder einen Gasspüler 106,
das bzw. der eine flüchtige
flüssige
Chemikalie enthält,
geführt.
Das Trägergas
wird durch die flüssige
Chemikalie in dem Sättigungsgefäß 106 hindurchgeperlt
unter Bildung eines gesättigten
Gases der gewünschten
Konzentration. Die Trägergasquelle 102 kann
beispielsweise aus einer Gasflasche oder aus einem Massenspeichergefäß bestehen.
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Welches Trägergas und welche flüssige Chemikalie
spezifisch verwendet werden, hängt
von der schließlichen
Verwendung des gebildeten gesättigten
Gases ab. Typischerweise besteht das Trägergas aus Wasserstoff (H2) oder einem inerten Gas wie Helium (He),
Argon (Ar) oder Stickstoff (N2). Andere reaktionsfähige oder
nichtreaktionsfähige
Gase können
ebenfalls verwendet werden.
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Die bei der vorliegenden Erfindung
verwendete flüssige
Chemikalie sollte eine ausreichende Flüchtigkeit aufweisen, dass ein
durch diese hindurchgeperltes Trägergas
mit dem Dampf der Chemikalie bei unter Raumtemperatur liegenden
Temperaturen und in Konzentrationen gesättigt wird, die ihre Verwendung
im Handel realisierbar machen. Typische, in der Halbleiter-Fertigungsindustrie
verwendete flüssige
Chemikalien, die erfindungsgemäß angewendet
werden können,
umfassen – sind
jedoch nicht darauf beschränkt
- Silan (SiH4), Dichlorsilan (SiH2Cl2), Trichlorsilan
(SiHCl3), Ammoniak (NH3), Bortrichlorid
(BCl3), Chlor (Cl2),
Chlorwasserstoff (HCl), Fluorwasserstoff (HF) und Chlortrifluorid (ClF3). Die Erfindung lässt sich ohne weiteres auf
andere flüssige
Chemikalien anwenden.
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Soll das gesättigte Gas bei der Fertigung
von Halbleitervorrichtungen verwendet werden, so sollte das Trägergas und
die flüssige
Chemikalie eine Reinheit aufweisen, die mit den zu fertigenden Geräten verträglich ist.
Bevorzugt besitzen das Trägergas
und die flüssige
Chemikalie eine äußerst hohe
Reinheit.
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Ein System für das Zuleiten der Flüssigkeit wird
bereitgestellt, das dazu fähig
ist, die flüssige Chemikalie
ohne Unterbrechung in das Sättigungsgefäß 106 einzuführen. Ein
oder mehrere Flüssigkeitsbehälter 108, 110 speichern
eine Liefermenge der flüssigen
Chemikalie. Das Behältermaterial
sollte mit der flüssigen
Chemikalie verträglich
sein, um eine Korrosion zu verhindern und die Kontamination der Chemikalie
zu vermeiden. Edelstahl, wie beispielsweise Edelstahl 316L, kann
für diesen
Zweck verwendet werden.
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Die Flüssigkeitsbehälter 108, 110 sind
durch ein System von Rohrleitungen und Ventilen miteinander verbunden,
um es der flüssigen
Chemikalie zu gestatten, in das Sättigungsgefäß 106 eingeführt zu werden.
Die für
das Transportieren der flüssigen Chemikalie
durch das System verwendeten Röhren bestehen
bevorzugt aus Schläuchen,
die aus mit Teflon ausgekleidetem Edelstahl gefertigt sind. Die
Behälter 108, 110 können durch
einzelne Leitungen an das Sättigungsgerät angeschlossen
werden, die zu einer einzigen Leitung 112 zusammenlaufen.
Wahlweise können
ein oder mehrere zusätzliche
Sättigungsgefäße mit der
flüssigen
Chemikalie durch Abzweigleitungen 112', 112'' beliefert
werden.
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Bevorzugt sind die Flüssigkeitsbehälter 108, 110 so
konfiguriert, dass die Flüssigkeitsoberfläche in denselben
mit einem inerten Gas, beispielsweise durch Leitungen 114, 116,
unter Druck gesetzt werden kann, wodurch die Flüssigkeit durch Tauchrohre 118, 120 hinauf
und durch das Ventil-/Rohrleitungssystem in das Sättigungsgefäß gedrückt wird.
Andere Fließkonfigurationen,
beispielsweise unter Zuhilfenahme einer Pumpe, sind im Stand der
Technik bekannt und können
wahlweise verwendet werden.
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Durch Benutzen mehrerer Flüssigkeitsbehälter 108, 110 kann
ein kontinuierlicher Strom der flüssigen Chemikalie zum Sättigungsgefäß 106 geliefert werden.
Die Lieferung vom ersten Flüssigkeitsbehälter 108 kann
fortgesetzt werden, bis die flüssige
Chemikalie darin aufgebraucht ist oder bis eine vorbestimmte Restmenge
der Flüssigkeit
im Behälter 108 verbleibt.
Das Flüssigkeitsniveau
in jedem der Behälter
wird bevorzugt durch einen Niedrigpegelsensor überwacht, der entweder an ein
für die
Handbetätigung
von Absperrventilen V1, V2 eingerichtetes Alarmsystem
oder als Alternative unter Rückmeldung an
eine Steuervorrichtung angeschlossen ist, die automatisch das Betätigen der
Absperrventile V1 und V2 steuert.
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Während
der erste Flüssigkeitsbehälter 108 in
Betrieb ist, befindet sich das Ventil V1 in der offenen
Stellung und das Ventil V2 in der geschlossenen Stellung.
Sobald das Mindestflüssigkeitsniveau
im ersten Flüssigkeitsbehälter festgestellt
wird, wird die Strömung
aus diesem durch Schließen
des Ventils V1 beendet und das Ventil V2 geöffnet, um
die Lieferung aus dem zweiten frischen Behälter 110 zu beginnen.
Der erste Behälter
kann daraufhin durch einen vollen Behälter ohne Unterbrechen des
Vorgangs ersetzt werden. Das Aufbrauchen der Chemikalie und das Übergehen
auf einen frischen Behälter können auf
diese Weise fortgeführt
werden, wobei eine kontinuierliche Lieferung der Chemikalie zum Sättigungsgefäß ohne Unterbrechung
möglich
ist.
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Mit Bezug auf 2 besteht das Sättigungsgefäß 106 aus einem Gefäß, das die
flüssige
Chemikalie enthält
und Verbindungsstücke
für das
Einführen
und Entfernen verschiedener Fluide aufweist. Die Größe des Sättigungsgefäßes hängt von
der Anzahl der Verarbeitungswerkzeuge, die dadurch bedient werden,
und den Erfordernissen dieser Werkzeuge ab. Typischerweise besitzt
das Sättigungsgefäß eine Flüssigkeitsspeicher-Kapazität von 11,4
bis 151,4 Litern (3 bis 40 Gallonen) und bevorzugt
von 56,8 bis 94,6 Litern (15 bis 25 Gallonen),
obwohl andere Größen ohne
weiteres benutzt werden können.
Einer beispielhaften Ausgestaltung der Erfindung gemäß weist
das Sättigungsgefäß eine Flüssigkeitsspeicher-Kapazität von ca.
75,7 Litern (20 Gallonen) auf.
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Bevorzugt sind verschiedene Verbindungsstücke am Sättigungsgefäß am oberen
Teil desselben angebracht. Ein erstes Verbindungsstück 122 ist an
das oben beschriebene Flüssigkeitsliefersystem für das Einführen der
flüssigen
Chemikalie in das Sättigungsgefäß angeschlossen.
Das erste Verbindungsstück 122 umfasst
ein handbetätigtes
Ventil V3, das an eine Röhre angeschlossen ist, die
durch den Kopfteil des Sättigungsgefäßes hindurchdringt und
sich fast bis zum Gefäßboden erstreckt.
Bevorzugt erstreckt sich die Röhre
bis auf einen Abstand von ein paar Zoll vom Gefäßboden.
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Ein zweites Verbindungsstück 124 ist
durch eine Rohrleitung an die Trägergas-Lieferquelle 102 für das Einführen des
Trägergases
in das Sättigungsgefäß angeschlossen.
Das zweite Verbindungsstück 124 umfasst
ein handbetätigtes
Ventil V4, das an eine Röhre angeschlossen ist, die
durch den Kopfteil des Sättigungsgefäßes hindurchdringt.
Das Ende der Röhre
des zweiten Verbindungsstücks 124 ist
an eine Gasdispergiervorrichtung 126 angeschlossen, die Perforierungen
aufweist, durch die das Trägergas fließt und in
der flüssigen
Chemikalie dispergiert wird. Bevorzugt umfasst die Dispergiervorrichtung 126 mehrere
Röhren
aus Sintermetall und ist an oder in der Nähe des Bodens des Sättigungsgefäßes angebracht.
Die Gasdispergiervorrichtung ermöglicht
es, feine Blasen in der flüssigen
Chemikalie zu bilden, um einen engen Kontakt zwischen dem Trägergas und
der flüssigen
Chemikalie zu gestatten.
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3A und 3B veranschaulichen, in Form einer
Draufsicht, beispielhafte Einblassysteme, die als Gasdispergiervorrichtung
benutzt werden können. 3A zeigt ein Einblassystem,
das fünf
Röhren
aus Sintermetall 128 aufweist, jedoch in keiner Weise darauf
beschränkt
ist. Einer bevorzugten Ausgestaltung der Erfindung gemäß, und wie
in 3B gezeigt, ist eine
Heizvorrichtung 130 in einem Schutzrohr für die Heizvorrichtung 132 (weiter
unten beschrieben) der mittleren Achse des Sättigungsgefäßes entlang angebracht. In
einem derartigen Fall liegt an der, mittleren Achse keine Metallröhre vor.
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Während
das Trägergas
in die flüssige
Chemikalie eingeführt
wird, steigen Blasen durch die flüssige Chemikalie nach oben
und werden schließlich mit
dem Dampf der Chemikalie gesättigt.
Der gesättigte
Dampf wird aus dem Sättigungsgefäß durch
ein drittes Verbindungsstück 134 entfernt,
das ein handbetätigtes
Ventil V5 und eine Röhre
umfasst, die an das Sättigungsgefäß angeschlossen
ist, sich jedoch typischerweise nicht in dieses erstreckt. Der Durchmesser
dieser Röhre
ist so gestaltet, dass der Druckabfall zum Vermeiden der Kondensation
des Dampfs der Chemikalie minimiert wird.
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Ein drittes Verbindungsstück 134 kann
des Weiteren mit einer Überdrucksicherung 136 versehen
werden, die das Sättigungsgefäß im Falle
eines hohen Druckzustands schützt.
Die Überdrucksicherung
kann vorteilhafterweise ohne Außerbetriebnahme
des Sättigungsgefäßes gewartet
werden.
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Der gesättigte Dampf, der das Sättigungsgefäß verlässt, wird
durch eine Rohrleitung 138 an die Anwendungsstelle, beispielsweise
ein oder mehrere Werkzeuge für
die Halbleiterverarbeitung, geführt. Die
Rohrleitung kann zu diesem Zweck stromabwärts in mehrere Abzweigleitungen 140, 142 und 144 geteilt
werden. Eine der Abzweigleitungen kann wahlweise an ein analytisches
Werkzeug, wie beispielsweise einen Konzentrations-Sensor, zum Überprüfen des
gesättigten
Gasprodukts angeschlossen werden.
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Bevorzugt umfasst das Sättigungsgefäß ein viertes
Verbindungsstück 146,
das es gestattet, eventuell verbleibende flüssige Chemikalie aus dem Gefäß zu entfernen,
wenn das Gefäß gewartet
werden soll. Das vierte Verbindungsstück 146 umfasst ein
handbetätigtes
Ventil V6, das an eine Rohrleitung angeschlossen ist, die
durch den Kopfteil des Sättigungsgefäßes hindurchdringt ünd sich
bis zum Boden des Gefäßes erstreckt.
Die Flüssigkeit
kann durch diese Rohrleitung durch Unterdrucksetzen des Kopfraums
des Sättigungsgefäßes durch
Verwendung einer Ablassleitung (nicht gezeigt), die an eine Inertgasspeisung
angeschlossen ist, oder durch Wiederauffüllen des Gefäßes durch
das dritte Verbindungsstück 134 entfernt
werden.
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Um eine im Wesentlichen konstante Dampf-/Flüssigkeits-Kontaktzeit zwischen
dem Trägergas
und der flüssigen
Chemikalie sicherzustellen, ist es wichtig, dass die flüssige Chemikalie
in dem Sättigungsgefäß bei einem
im Wesentlichen gleich bleibenden Niveau gehalten wird. Das Flüssigkeitsniveau
kann durch verschiedene Mittel geregelt werden. Einer beispielhaften
Ausgestaltung der Erfindung gemäß wird der
Flüssigkeitsinhalt
des Sättigungsgefäßes bevorzugt
durch Überwachen
der Masse, oder des Gewichts des Sättigungsgefäßes gesteuert. Zu diesem Zweck
kann eine Gewichts- oder Massenwaage 148 unterhalb des
Sättigungsgefäßes angebracht
werden zum kontinuierlichen Messen der Masse oder des Gewichts des
Gefäßes. Ein Signal
von der Waage 148 wird an die Steuervorrichtung 150 geschickt,
die die Betätigung
des Flüssigkeitsliefersystems
auf der Basis der Gewichtsmessung steuert. Die Steuervorrichtung 150 schickt
ein Signal an das Ventil 152, das den Flüssigkeitsfluss, der
in das Sättigungsgefäß eingeführt wird,
kontinuierlich steuert, um ein gleich bleibendes Flüssigkeitsniveau
darin aufrechtzuerhalten.
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Als zusätzliche Sicherheitsüberprüfung im Falle
eines Versagens der Waage 148 können Flüssigkeitsniveau-Sensoren, beispielsweise
Schwimmerschalter, zum Erfassen hoher und/oder niedriger Flüssigkeitsniveaus
in dem Sättigungsgefäß installiert
werden. Diese Sensoren können
an ein Alarmsystem angeschlossen werden, um das Bedienungspersonal
bezüglich
eines anormalen Zustands zu warnen.
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Um eine Sichtkontrolle und Beobachtung des
Flüssigkeitsniveaus
und der Verteilung des Trägergases
in der flüssigen
Chemikalie zu erlauben, kann ein Sichtglas-System 150 in
dem Gefäß installiert
werden. Das Sichtglas-System sollte flüssigkeitsundurchlässig sein,
um ein Auslaufen und die Kontamination der flüssigen Chemikalie zu vermeiden.
Das Sichtglas ist bevorzugt aus einer Quarzlinse gefertigt, die
mit einem O-Ring abgedichtet ist.
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Um die Kondensation des Dampfes der
Chemikalie in dem gesättigten
Gas zu verhindern, wird die flüssige
Chemikalie in dem Sättigungsgefäß auf eine
erwünschte
Temperatur unterhalb der Raumtemperatur gekühlt. Der Temperatursollwert
hängt von
den charakteristischen Merkmalen, wie dem Dampfdruck, der flüssigen Chemikalie
ab. Solange die Temperatur in den Gasleitungen zwischen dem Sättigungsgefäß und der
Anwendungsstelle nicht weniger als die Temperatur der flüssigen Chemikalie in
dem Gefäß beträgt, wird
keine Kondensation stattfinden.
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Zwei Systeme werden zum genauen Einstellen
der Temperatur der flüssigen
Chemikalie in dem Sättigungsgefäß auf den
erwünschten
Wert verwendet. Ein erstes System ermöglicht es, die flüssige Chemikalie,
auf genau gesteuerte Weise zu kühlen. Es
wird eine externe Kühleinheit 154 in
Wärmeübertragungskontakt
mit dem Sättigungsgefäß bereitgestellt.
Die externe Kühleinheit
weist bevorzugt die Form eines Kühlmantels
um das Sättigungsgefäß herum
auf, durch den ein gekühltes
Wärmeübertragungsfluid,
beispielsweise durch eine Fluidumwälzpumpe 156, zirkuliert
wird. Geeignete Wärmeübertragungsfluide
sind im Stand der Technik bekannt und umfassen beispielsweise Ethylenglykol.
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Um das Wärmeübertragungsfluid bei einer bestimmten
Temperatur zu halten, wird das Fluid durch einen Kühler 158 geführt, in
dem es in Wärmeübertragungskontakt
mit einem zirkulierenden Kühlmittel
gebracht wird, das die Kühlaufgabe
erfüllt.
Das Kühlmittel
bildet einen Teil des Kühlkreislaufs,
der auch ein Präzisionskühlaggregat 160 und
eine Steuervorrichtung 162 für das, Kühlen des erwärmten Kühlmittels
in Leitung 164 des Kühlkreislaufs
umfasst. Das frisch gekühlte
Kühlmittel
aus dem Kühlaggregat 160 wird über Leitung 162 des
Kühlkreislaufs in
den Kühler
eingeführt.
Geeignete Kühlaggregate und
Steuervorrichtungen sind im Handel, beispielsweise von Neslab Instruments,
Inc. erhältlich,
wie das Kühlaggregat
Modell CFT-33 mit integrierter Steuervorrichtung.
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Das Einstellen der Temperatur des
Wärmeübertragungsfluids
kann durch bekannte Methoden erfolgen. Beispielsweise kann die Temperatur
des Wärmeübertragungsfluids
mit einem Temperatursensor T1 in der Auslassleitung des
Kühlers 163 unter
Rückkopplung
an die Kühlaggregat-Steuervorrichtung 162 gemessen
werden, die die zu erfüllende
Kühlaufgabe einstellen
kann.
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Werden mehrere Sättigungsgefäße benutzt, so können zusätzliche
Kühlsysteme
für jedes
Sättigungsgefäß bereitgestellt
werden. Als Alternative kann, wie in 1 gezeigt,
das gleiche Kühlsystem für die verschiedenen
Sättigungsgefäße 106', 106'' dienen.
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Das oben beschriebene Kühlsystem
reicht jedoch als solches nicht aus, um die Temperatur vollständig zu
regulieren. Während
des Sättigungsvorgangs
führt die
Umwandlung der flüssigen
Chemikalie in einen Dampf zum Entfernen zusätzlicher Wärme aus der Flüssigkeit,
wobei das Endergebnis ein Temperaturabfall ist, der bis unter die
Einstelltemperatur des Kühlmittels
reichen kann. Da die Kühlaggregateinheit
nur eine Kühlaufgabe
erfüllt,
kann diese zusätzliche
Wärmeabfuhr
nicht durch das Kühlsystem
als solchem ausgeglichen werden.
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Es ist daher wünschenswert, eine Heizvorrichtung 130 für das Erwärmen der
flüssigen
Chemikalie zum Ausgleich für
die Wärmeabfuhr
während des
Verdampfungsvorgangs der flüssigen
Chemikalie zu bieten. Um die Heizvorrichtung 130 unterzubringen,
ist ein Schutzrohr für
die Heizvorrichtung 132 in dem Sättigungsgefäß bereitgestellt. Die Heizvorrichtung 130 erwärmt die
flüssige
Chemikalie, wenn notwendig, und hält die flüssige Chemikalie zusammen mit
dem oben beschriebenen Kühlsystem bei
der erwünschten
Temperatur. Die Heizvorrichtung umfasst bevorzugt ein Heizelement
vom Widerstandstyp, obwohl andere Heizvorrichtungstypen benutzt werden
können.
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Einer beispielhaften Ausgestaltung
der Erfindung gemäß ist das
Heizelement innerhalb eines Schutzrohrs 132 untergebracht,
das sich senkrecht vom Boden des Sättigungsgefäßes durch die flüssige Chemikalie
erstreckt. Das Schutzrohr kann aus Edelstahl gefertigt sein und
weist bevorzugt eine zylindrische Gestalt auf. Die Heizvorrichtung
erstreckt sich bevorzugt vom unteren Mittelpunkt des Gefäßes bis zu
einer Höhe,
die mehr als die Hälfte
des Flüssigkeitsniveaus
beträgt,
noch bevorzugter bis zu einer Höhe,
die mehr als Dreiviertel des Flüssigkeitsniveaus
beträgt
und am bevorzugtesten auf eine Höhe, die
dem Flüssigkeitsniveau
entspricht. Dies erlaubt eine ausreichende Wärmeübertragung an die flüssige Chemikalie,
um Temperaturschwankungen auf relativ schnelle Weise auszugleichen.
Da die Heizvorrichtung sich im Allgemeinen längs der Kühleinheit erstreckt, können axiale
Temperaturschwankungen in der flüssigen
Chemikalie vorteilhaft vermieden werden.
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Es hat sich gezeigt, dass es vorteilhaft
ist, um eine stärkere
Wärmeübertragung
zwischen dem Heizelement und der flüssigen Chemikalie zu erzielen,
ein Hochtemperatur-Wärmeübertragungsfluid, bei
dem es sich nicht um Luft handelt, im Schutzrohr der Heizvorrichtung
und in Kontakt mit der Heizvorrichtung zu verwenden. Bevorzugt ist
das Wärmeübertragungsfluid
ein Öl,
wie beispielsweise Mineralöl. Mineralöle können typischerweise
Temperaturen im Bereich von ca. 54,4°C (130°F) bis ca. 71,1°C (160°F) erreichen.
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Die Temperatur der flüssigen Chemikalie
im Sättigungsgefäß kann durch
einen Temperatursensor 165 überwacht werden, der in einer
Thermosäule 166 in
einer Öffnung
im Sättigungsgefäß angebracht ist.
Die Thermosäule 166 erstreckt
sich in den Flüssigkeitsbereich
des Gefäßes um einen
genauen Temperaturmesswert zu bieten. Der Temperatursensor 165 schickt
ein Signal zur Steuervorrichtung 168, die wiederum ein
Kontrollsignal an die Heizvorrichtung 130 schickt zum Regeln
der Betätigung
derselben. Die Heizvorrichtung 130 schaltet sich an bzw. ab,
je nach dem von der Steuervorrichtung 168 empfangenen Signal,
um eine gleich bleibende Flüssigkeitstemperatur
aufrechtzuerhalten.
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Ein weiteres Merkmal der vorliegenden
Erfindung besteht aus dem Regeln des Drucks des Trägergases,
das in das Sättigungsgefäß eintritt.
Der Druck des Trägergases
und derjenige der gesättigten Gasmischung
werden durch Drucksensoren P1, P2 wie beispielsweise
Druckmessumformer, in der Trägergasleitung 104 bzw.
in der Leitung für
gesättigtes Gas 138 überwacht.
Von diesen Sensoren werden Signale zur Drucksteuervorrichtung 170 geschickt, die
beispielsweise auf der Basis eines Kaskadenalgorithmus einen Druckregler 172 in
der Trägergasleitung
steuert, um den Druck des Trägergases,
das in das Sättigungsgefäß eingeführt wird,
einzustellen. Andere Regelschemen können als Alternative verwendet
werden. Beispielsweise kann der Regler auf der Basis eines Signals
von einem einzigen Drucksensor in der Leitung für gesättigtes Gas 138 gesteuert
werden. Die Steuervorrichtung 170 besteht bevorzugt aus
einer elektronischen Drucksteuervorrichtung, die an einen pneumatisch
betätigten
Regler angeschlossen ist, da dieser eine schnelle Reaktion auf Druckschwankungen
hin bietet, wobei Abweichungen vom Drucksollwert im Gegensatz zu
handbetätigten
mechanischen Druckreglern auf ein Minimum reduziert werden. Geeignete
Steuervorrichtungen sind herkömmlicherweise
verfügbar,
beispielsweise von Tescom Corporation, wie beispielsweise der Electropneumatic
PID Controller (die elektropneumatische PID-Steuervorrichtung) Modell
ER 3000U.
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Bevorzugt ist das Sättigungsgefäß durch Schläuche an
eine Ventilschaltplatte angeschlossen, die die Rohrleitung, die
Ventile, die Drucksensorgeräte
und andere Komponenten enthält,
was eine zentralisierte und leichte Bedienung des Systems erlaubt.
Bedienungsvorgänge,
die an der Ventilschalttafel gesteuert werden können, umfassen beispielsweise
das Zusetzen von Flüssigkeit
zum Sättigungsgefäß, das Überwachen
und Steuern des Drucks des Trägergases
und des gesättigten
Gases, die Strömungsregelung
des gesättigten
Gases und das Entlüften
und Ausspülen
des Systems für
das Warten.
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Wie oben beschrieben kann ein einziges
Sättigungsgefäß durch
das Ventil- und Verteilungssystem an mehrere Verarbeitungswerkzeuge
angeschlossen werden, um als Quelle für gesättigtes Gas für jedes
Werkzeug zu dienen. In einem derartigen Fall sollten das Rohrsystem
und die Komponenten des Sättigungssystems
so ausgewählt
und dimensioniert sein, dass der Druckabfall vom Sättigungsgefäß zu den
Verarbeitungswerkzeugen auf ein Minimum reduziert ist.
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Typische Werkzeuge für die Halbleiterverarbeitung,
die bei der Erfindung verwendet werden können, umfassen beispielsweise
chemische Aufdampf-, Diffusions- und Oxidationssysteme. Einer beispielhaften
Ausgestaltung der Erfindung gemäß wird der gesättigte Dampf
in einen epitaktischen Reaktor eingeführt. Im epitaktischen Verfahren
kann Wasserstoff als Trägergas
und Trichlorsilan als flüssige
Chemikalie verwendet werden. Bei einem derartigen Verfahren wird
bevorzugt ein Mineralöl
im Schutzrohr der Heizvorrichtung 132 bei ca. 65,6°C (150°F) und der Druck
des Wasserstoffträgergases
bei ca. 2,05 × 105 bis 2,74 × 105 Pa
(15 bis 25 psi Überdruck),
noch bevorzugter ca. 2,25 × 105
bis 2,53 × 105 Pa (18 bis 22 psi Überdruck) gehalten. Unter diesen
Bedingungen geht das Trichlorsilan bei ca. 15,6°C (60°F) in den dampfförmigen Zustand über. Da
die Umgebungsraumtemperatur ca. 22,2°C (72°F) beträgt, kann das Kondensieren des
Dampfes in den Leitungen stromabwärts vom Sättigungsgefäß, die zu dem Werkzeug für die Halbleiterverarbeitung
führen,
vermieden werden.
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4 veranschaulicht
eine Ausführungsform,
die nicht der Erfindung entspricht, die aus einem System und einer
Methode für
die gezielt gesteuerte Lieferung eines Gases aus einer flüssigen Chemikalie,
die trägergasfrei
ist, besteht. Die Beschreibungen der Merkmale, die durch die gleichen Zahlenangaben
wie in 1 bezeichnet
sind, treffen auch auf diese Ausführungsform zu.
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Da diese Ausführungsform trägergasfrei
ist, besteht das aus dem Flüssigkeitsspeichergefäß durch
die Leitung 138 abgezogene Gas 100%ig aus Dampf aus der
flüssigen
Chemikalie. Anstatt des oben mit Bezug auf das Gassättigungssystem
beschriebenen Sättigungsgefäßes, wird
ein Verdampfungsgefäß für die flüssige Chemikalie 174 benutzt. Das
Verdampfungsgefäß 174 unterscheidet
sich von dem oben beschriebenen Sättigungsgefäß dadurch, dass das zweite
Verbindungsstück
für das
Trägergas und
die Gasdispergiervorrichtung, die oben beschrieben sind, nicht vorliegen.
Das Temperatursteuersystem hält
durch die Heiz- und Kühlsysteme
eine gleich bleibende Temperatur in dem Gefäß aufrecht, wodurch der Dampfdruck
im Kopfraum über
der Flüssigkeit
festgelegt wird.
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Bevorzugt geht der Dampf durch einen
Nebelentferner 176 auf der Ausgangsseite des Verdampfungsgefäßes hindurch,
um einen Einphasenfluss des Dampfstroms vom Verdampfungsgefäß sicherzustellen.
Bevorzugt besteht der Nebelentferner aus einem Element aus Sintermetall,
durch das der Dampf der Chemikalie hindurchgeht, obwohl andere Geräte den mit
dem Stand der Technik vertrauten Fachleuten bekannt sind.
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Um den Abgabedruck des Produktdampfs genau
einzustellen, wird der Druck des Produktdampfes aus dem Kopfraum
durch einen Drucksensor P3 in der Auslassleitung 138 überwacht
und gesteuert unter Rückmeldung
an eine Drucksteuervorrichtung 178, die den Druckregler 180 steuert.
Die Steuervorrichtung 178 besteht bevorzugt aus einer elektronischen
Drucksteuervorrichtung, die an einen pneumatisch betätigten Regler 180 angeschlossen ist.