DE69904137T2 - Schicht auf Basis eines leitfähigen Metalloxids - Google Patents

Schicht auf Basis eines leitfähigen Metalloxids Download PDF

Info

Publication number
DE69904137T2
DE69904137T2 DE69904137T DE69904137T DE69904137T2 DE 69904137 T2 DE69904137 T2 DE 69904137T2 DE 69904137 T DE69904137 T DE 69904137T DE 69904137 T DE69904137 T DE 69904137T DE 69904137 T2 DE69904137 T2 DE 69904137T2
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
tin
metal
dispersion
solution
salt
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
DE69904137T
Other languages
English (en)
Other versions
DE69904137D1 (de
Inventor
Hieronymus C/O Afga Gevaert N.V. Andriessen
Steven C/O Agfa Gevaert N.V. Lezy
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Agfa Gevaert NV
Original Assignee
Agfa Gevaert NV
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Agfa Gevaert NV filed Critical Agfa Gevaert NV
Publication of DE69904137D1 publication Critical patent/DE69904137D1/de
Application granted granted Critical
Publication of DE69904137T2 publication Critical patent/DE69904137T2/de
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
    • C03C17/22—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with other inorganic material
    • C03C17/23—Oxides
    • C03C17/27—Oxides by oxidation of a coating previously applied
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
    • C03C17/22—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with other inorganic material
    • C03C17/23—Oxides
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C18/00—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating
    • C23C18/02—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating by thermal decomposition
    • C23C18/12—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating by thermal decomposition characterised by the deposition of inorganic material other than metallic material
    • C23C18/1204—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating by thermal decomposition characterised by the deposition of inorganic material other than metallic material inorganic material, e.g. non-oxide and non-metallic such as sulfides, nitrides based compounds
    • C23C18/1208—Oxides, e.g. ceramics
    • C23C18/1216—Metal oxides
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C18/00—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating
    • C23C18/02—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating by thermal decomposition
    • C23C18/12—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating by thermal decomposition characterised by the deposition of inorganic material other than metallic material
    • C23C18/1229—Composition of the substrate
    • C23C18/1245—Inorganic substrates other than metallic
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C18/00—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating
    • C23C18/02—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating by thermal decomposition
    • C23C18/12—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating by thermal decomposition characterised by the deposition of inorganic material other than metallic material
    • C23C18/125—Process of deposition of the inorganic material
    • C23C18/1279—Process of deposition of the inorganic material performed under reactive atmosphere, e.g. oxidising or reducing atmospheres
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C2217/00—Coatings on glass
    • C03C2217/20—Materials for coating a single layer on glass
    • C03C2217/21—Oxides
    • C03C2217/211—SnO2
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C2217/00—Coatings on glass
    • C03C2217/20—Materials for coating a single layer on glass
    • C03C2217/21—Oxides
    • C03C2217/24—Doped oxides
    • C03C2217/244—Doped oxides with Sb
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C2218/00—Methods for coating glass
    • C03C2218/10—Deposition methods
    • C03C2218/17—Deposition methods from a solid phase
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C2218/00—Methods for coating glass
    • C03C2218/30—Aspects of methods for coating glass not covered above
    • C03C2218/32—After-treatment
    • C03C2218/322—Oxidation

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Thermal Sciences (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Geochemistry & Mineralogy (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Ceramic Engineering (AREA)
  • Non-Insulated Conductors (AREA)
  • Manufacturing Of Electric Cables (AREA)
  • Laminated Bodies (AREA)
  • Chemically Coating (AREA)
  • Surface Treatment Of Glass (AREA)

Description

  • TECHNISCHES GEBIET DER ERFINDUNG
  • Die vorliegende Erfindung betrifft den Bereich von leitfähigen Schichten auf Basis von Metalloxiden.
  • ALLGEMEINER STAND DER TECHNIK
  • Leitfähige Schichten, die auf ein biegsames lichtdurchlässiges Substrat aufgetragen sind, haben wichtige Anwendungen in verschiedenen elektronischen und optoelektronischen Einrichtungen gefunden. Ein besonderer nutzbarer Typ von lichtdurchlässiger leitfähiger Schicht basiert auf Metalloxiden. Diese Metalloxide können nach verschiedenen, ziemlich umständlichen Verfahren auf ein Substrat aufgetragen werden. Ein Überblick findet sich in "Transparent Conductors - A Status Review", K. L. Chopra et al, Thin Solid Films, 102, (1983), S. 1–46.
  • Die wichtigsten, in leitfähigen Schichten benutzten Metalloxide sind nicht-stöchiometrische und dotierte Oxide von Zinn, Indium, Cadmium, Zink und verschiedenen Legierungen derselben. Als allgemein bekannte Beispiele letzterer Kategorie sind folgende zu nennen : mit Antimon (ATO) oder Fluor (FTO) dotiertes Zinnoxid (TO), mit Zinn (ITO) dotiertes Indiumoxid (IO) und mit Indium (IZO) dotiertes Zinkoxid. Diese Metalloxide weisen einen hohen Durchlaßgrad im sichtbaren Spektralbereich, einen hohen Reflexionsgrad im spektralen IR-Bereich und eine nahezu metallische Leitfähigkeit auf. Die elektrischen und optischen Eigenschaften dieser Materialien können durch Steuerung der Auftragsparameter in angemessener Weise eingestellt werden.
  • Anwendungen dieser lichtdurchlässigen leitfähigen Schichten auf biegsamen Substraten können aufgeteilt werden in
    • – hochleitende Schichten (<0,5 kΩ/Quadrat) mit Anwendungen in Anzeigen (elektrolumineszierenden Anzeigen, Flüssigkristall-Einrichtungen, Plasmabildschirmen), Tastbildschirmen, Sonnenzellen und intelligenten Fenstern,
    • – leitende Schichten (>0,5 kΩ/Quadrat) mit Anwendungen in EMI-Abschirmfolien, elektrolumineszierenden Lampen und Membranschaltern.
  • Zu anderen Anwendungen gehören Heizelemente für Flugzeug- und Autofenster, wärmereflektierende Spiegel, Antireflexionsschichten und Gassensoren.
  • Beispiele für Verweisungen, die von den verschiedenen Anwendungen von leitfähigen Schichten auf der Basis von Metalloxiden handeln, sind:
    • – der Gebrauch von TO-Schichten in Sonnenzellen wird in JP-A 05-218477, JP-A 05-218476 und EP 290345 und der Gebrauch von FTO-Schichten wird in JP-A 05-017878 beschrieben,
    • – der Gebrauch von verschiedenen Metalloxidschichten in elektrolumineszierenden Anzeigen wird beschrieben in z. B. JP-A 09-024574, JP-A 08-281857, FR 2728082, JP-A 08-031572 und JP-A 01-081112.
  • Eine erste Hauptkategorie von Auftragstechniken zur Bildung von Metalloxidschichten auf einem Substrat ist Aufdampfung. Diese Technik kann weiter in Nachoxidation von Metallfolien, reaktive Aufdampfung, aktivierte reaktive Aufdampfung und direkte Aufdampfung aufgeteilt werden. Eine zweite Hauptkategorie ist Zerstäubung, die weiter in reaktive Zerstäubung metallischer Proben, direkte Zerstäubung von Oxidproben und Ionenstrahlzerstäubung aufgeteilt werden kann. Noch weitere Typen von Abscheidungstechniken sind reaktive Ionenplattierung, chemische Aufdampfung, Sprühpyrolyse, die Tauchbeschichtungstechnik, chemische Lösungszüchtung, die reaktive Triodenzerstäubung und die Glimmentladungszusammensetzung.
  • Aus der wissenschaftlichen Literatur (M. Watanabe, Jpn. J. Appl. Phys., 9 (1970) 1551, T. Nishino und Y. Hamakawa, Jpn. J. Appl. Phys., 9 (1970) 1085, G. Bauer, Ann. Phys. (Paris) , 30 (1937) 433, G. Rupprecht, Z. Phys , 139 (1954) 504, M. Watanabe, Jpn. J. Phys , 9 (1970) 418) ist bekannt, daß eine sehr dünne (max. 50 nm starke), durch Aufdampfung aufgetragene Sn-Schicht (oder In- oder Zn-Schicht) oxidiert werden kann, wodurch eine lichtdurchlässige elektrisch leitende Schicht gebildet wird. Ein wichtiger Nachteil dieses Verfahrens liegt darin, daß die Oxidation mit dickeren Schichten nicht vollständig sein kann. Wahrscheinlich infolge der Art der Metallfolie, d. h. sie ist eine kontinuierliche Phase, wird das Durchdringen von Sauerstoff durch diesen Film nicht ausreichend sein.
  • AUFGABEN DER VORLIEGENDEN ERFINDUNG
  • Aufgabe der vorliegenden Erfindung ist es, ein Verfahren für die Herstellung einer leitenden Metalloxidschicht auf einem Substrat bereitzustellen, das weniger umständlich und wirtschaftlicher ist als die schon bestehenden obenbeschriebenen Verfahren.
  • Eine weitere Aufgabe der vorliegenden Erfindung ist es, ein Verfahren bereitzustellen, das die Herstellung von dickeren Metalloxidschichten erlaubt, als mit den aus dem aktuellen Stand der Technik bekannten Verfahren möglich ist.
  • KURZE DARSTELLUNG DER VORLIEGENDEN ERFINDUNG
  • Gelöst werden die erfindungsgemäßen Aufgaben durch ein Verfahren zur Herstellung einer Schicht auf Basis eines leitfähigen Metalloxids auf einem Substrat, wobei das Verfahren der Reihe nach durch die nachstehenden Schritte gekennzeichnet wird:
    • (a) Herstellung eines wäßrigen Mediums, das zumindest einen Metallsalztyp enthält,
    • (b) chemische Reduktion des Metallsalzes mittels eines Reduktionsmittels zur Bildung einer Dispersion von Metallteilchen,
    • (c) Waschen der Dispersion von Metallteilchen,
    • (d) Auftrag der gewaschenen Dispersion auf ein Substrat, wobei eine aufgetragene, Metallteilchen enthaltende Schicht erhalten wird, und
    • (e) oxidierende Verarbeitung der aufgetragenen Schicht zur Bildung einer leitenden, Metalloxidteilchen enthaltenden Schicht.
  • In einer ganz besonders bevorzugten Ausführungsform ist das Metalloxid Zinnoxid oder ein Gemisch aus den Oxiden von Zinn und einem anderen Metall. Die Oxidationsverarbeitung ist vorzugsweise eine Wärmeverarbeitung in einer sauerstoffhaltigen Atmosphäre.
  • Weitere Vorteile und Ausführungsformen der vorliegenden Erfindung sind aus der nachstehenden Beschreibung ersichtlich.
  • AUSFÜHRLICHE BESCHREIBUNG DER VORLIEGENDEN ERFINDUNG
  • Eine Erläuterung des Verfahrens zur Herstellung einer Schicht auf Basis eines leitfähigen Metalloxids auf dem lichtdurchlässigen Träger folgt im nachstehenden anhand der bevorzugten Ausführungsform, in der das Metalloxid Zinnoxid ist.
  • In einem ersten Schritt (a) wird eine wäßrige Lösung eines Zinn(IV)-Salzes angefertigt. Ein ganz geeignetes Zinnsalz ist Zinn(IV)-Chlorid. Zum Aufrechterhalten einer ausreichenden Menge an Zinnionen in der Lösung ist die Zugabe eines Komplexiermittels wünschenswert. Ein bevorzugtes Komplexiermittel ist die allgemein bekannte Ethylendiamintetraessigsäure (EDTA) oder eine homologe Verbindung oder ein Salz von EDTA. Ein weiteres bevorzugtes Komplexiermittel ist Citrat, z. B. Triammoniumcitrat. Zu weiteren geeigneten Komplexiermitteln zählen Diethylentriaminpentaessigsäure (DTPA), Trans-l,2-diaminocyclohexan-N,N,N',N'-tetraessigsäure (CDTA), Ethylenglycol-O,O'-bis-(2-aminoethyl)-N,N,N',N'-tetraessigsäure (EGTA), N-(2-Hydroxyethyl)-ethylendiamin-N,N,N'-triessigsäure (HEDTA), usw.
  • In einem folgenden Schritt werden die Zinnionen in der Lösung durch Zugabe eines Reduktionsmittels zu hochdispergierten Metallzinnteilchen reduziert. Ein bevorzugtes Reduktionsmittel ist KBH4. Ein weiteres geeignetes Reduktionsmittel ist Natriumhyposulfit. Weiterhin sind ebenfalls Glukose, Formaldehyd und Hypophosphorsäure zu nennen. Das Reduktionsmittel kann als festes Pulver der Zinnsalz-Beginnlösung zugesetzt werden. Andererseits kann das Reduktionsmittel separat in einem zweiten wäßrigen Medium gelöst und durch Einzeleinlauf oder Doppeleinlauf der Zinnsalzlösung zugesetzt werden. Beim Doppeleinlauf werden das wäßrige Medium, das das Zinnsalz enthält, und die zweite Lösung, die das Reduktionsmittel enthält, vorzugsweise gleichzeitig einem dritten wäßrigen Medium zugesetzt.
  • Um die durch Reduktion gebildeten Metallzinnteilchen in kolloidaler Dispersion zu halten, wird einer der drei benutzten wäßrigen Lösungen vorzugsweise ein Schutzbindemittel zugesetzt. Dieses Schutzbindemittel wird vorzugweise dem dritten wäßrigen, schon die zwei anderen Medien enthaltenden Medium zugesetzt. Als Schutzbindemittel bevorzugt man insbesondere Carboxymethylcellulose (CMC), vorzugsweise des Typs mit hoher Viskosität. Zu weiteren möglichen Bindemitteln zählen Gelatine, Gummiarabicum, Poly(acrylsäure), Polyvinylalkohol, Cellulose-Derivate und andere Polysaccharide.
  • Nach wesentlich beendeter Reduktion werden die überflüssigen Ionen im wäßrigen Medium in einem Waschschritt (Schritt c) aus dem Medium entfernt, wobei vorzugsweise Ultrafiltration und/oder Diafiltration angewandt werden. Diesem Waschvorgang kann eine Ultrazentrifugation vorangehen. Jede der bei der Herstellung benutzten Lösungen kann ein sogenanntes Dispergierhilfsmittel enthalten. In einer bevorzugten Ausführungsform wird diese Verbindung im letzten Schritt der Herstellung der Diafiltrationsflüssigkeit zugesetzt. Geeignete Dispergierhilfsmittel für Zinn sind Pyrophosphate, insbesondere ein Hexametaphosphat wie Natriumhexametaphosphat. Aufgrund der hohen Affinität des Phosphats zu Metalloxiden erfolgt eine sofortige Absorption des Phosphats an der frisch gebildeten Metalloxidoberflächenschicht, die nach Entfernung des Überschusses an Reduktionsmittel während der ersten Stufe des Waschschritts gebildet wird. Diese Absorption von Phosphaten steuert den weiteren Oxidation/Passivations-Vorgang, die zum Erhalt einer sehr dünnen und stabilen Metalloxidhülle führt. Aufgrund der Adsorption der Phosphate erhalten die Zinnteilchen fernerhin eine negative Ladung. Infolge der dabei eintretenden elektrostatischen Abstoßung werden sie in Dispersion gehalten.
  • In einer bevorzugten Ausführungsform werden die Zinnteilchen ultrafiltriert, z. B. durch eine Fresenius F60-Patrone, und anschließend mit einer Lösung von Natriumhexametaphosphat in Wasser/Ethanol (98,5/1,5) diafiltriert.
  • Nach Zugabe eines oder mehrerer Gießmittel wird das gewaschene wäßrige Medium nach einer herkömmlichen Gießtechnik, wie Kaskadenbeschichtung, Vorhangbeschichtung, Wirbelbeschichtung, Extrusionsbeschichtung und Luftpinselbeschichtung, auf ein Substrat, vorzugsweise ein lichtdurchlässiges Substrat, aufgetragen (Schritt d). Nach dem Auftragsschritt wird die Schicht getrocknet.
  • Zu geeigneten Gießmitteln zählen nicht-ionische Mittel wie Saponine, Alkylenoxide, z. B. Polyethylenglycol, Polyethylenglycol/Polypropylenglycol-Kondensationsprodukte, Polyethylenglycolalkylester oder Polyethylenglycolalkylarylester, Polyethylenglycolester, Polyethylenglycolsorbitanester, Polyalkylenglycolalkylamine oder -alkylamide, Silikon-Polyethylenoxid-Addukte, Glycidol-Derivate, Fettsäureester von mehrwertigen Alkoholen und Alkylester von Sacchariden, anionische Mittel, die eine Säuregruppe wie eine Carboxyl-, eine Sulfo-, eine Phospho-, eine Schwefelester- oder eine Phosphorestergruppe enthalten, amfolytische Mittel wie Aminosäuren, Aminoalkylsulfonsäuren, Aminoalkylsulfate oder -phosphate, Alkylbetaine und Amin-N-oxide, und kationische Mittel wie Alkylaminsalze, alifatische, aromatische oder heterocyclische quaternäre Ammoniumsalze, und alifatische oder heterocyclische ringhaltige Phosphonium- oder Sulfoniumsalze. Weitere geeignete Tenside sind Perfluoralkylgruppen enthaltende Verbindungen.
  • In einer bevorzugten Ausführungsform der vorliegenden Erfindung wird als Gießmittel Saponin benutzt.
  • Die Stärke der erhaltenen Zinnschicht liegt vorzugsweise zwischen 0,1 und 1,5 μm.
  • In einer bevorzugten Ausführungsform der vorliegenden Erfindung ist das Substrat, auf das die Zinnschicht aufgetragen wird, ein lichtdurchlässiges Substrat. Ein ganz geeignetes Substrat ist ein Glassubstrat. Eine solche Anordnung ist besonders nutzbar zur Verwendung in einer elektronischen oder optoelektronischen Einrichtung.
  • Als Alternative für Glas kann als Substrat für die Zinnschicht ein lichtdurchlässiges polymeres Harz verwendet werden. Nutzbare Träger aus lichtdurchlässigem organischem Harz sind z. B. Cellulosenitratfolie, Celluloseacetatfolie, Polyvinylacetalfolie, Polyimidfolie, Polystyrolfolie, Polyethylenterephthalatfolie, Polycarbonatfolie, Polyvinylchloridfolie oder Poly-α-olefinfolien wie Polyethylen- oder Polypropylenfolie. Die Stärke solcher Träger aus organischem Harz liegt vorzugsweise zwischen 0,05 und 0,35 mm. In einer ganz besonders bevorzugten Ausführungsform der vorliegenden Erfindung ist der Träger eine mit einer Haftschicht überzogene Polyethylenterephthalatschicht. Der Auftrag dieser Haftschicht kann vor oder nach dem Verstrecken des Polyesterfilmträgers vorgenommen werden. Der Polyesterfilmträger wird vorzugsweise bei erhöhter Temperatur von z. B. 70–120°C biaxial gestreckt, wodurch seine Stärke um etwa 1/2 bis 1/9 oder mehr verringert und seine Oberfläche 2 bis 9mal erhöht wird. Das Verstrecken kann in zwei Stufen erfolgen, d. h. ein Querverstrecken und ein Längsverstrecken, dieser Reihenfolge nach, umgekehrt oder gleichzeitig. Die eventuelle Haftschicht wird vorzugsweise zwischen dem Längs- und Querverstrecken in einer Stärke von 0,1 bis 5 mm aus einem wäßrigen Medium aufgetragen. Die Haftschicht enthält vorzugsweise, wie in der europäischen Patentanmeldung EP 0 464 906 beschrieben, ein Homopolymer oder Copolymer eines ein kovalent gebundenes Chloratom enthaltenden Monomers. Beispiele für solche zur Verwendung in der Haftschicht geeigneten Homopolymere oder Copolymere sind z. B. Polyvinylchlorid, Polyvinylidenchlorid, ein Copolymer von Vinylidenchlorid, einem Acrylsäureester und Itakonsäure, ein Copolymer von Vinylchlorid und Vinylidenchlorid, ein Copolymer von Vinylchlorid und Vinylacetat, ein Copolymer von Butylacrylat, Vinylacetat und Vinylchlorid oder Vinylidenchlorid, ein Copolymer von Vinylchlorid, Vinylidenchlorid und Itakonsäure, ein Copolymer von Vinylchlorid, Vinylacetat und Vinylalkohol usw. Bevorzugt werden wasserdispergierbare Polymere, da sie einen Auftrag der Haftschicht aus einem wäßrigen Medium erlauben, was aus ökologischer Sicht vorteilhaft ist.
  • Die Bildung der Metallschicht ist anhand der bevorzugten Ausführungsform, in der das Metall Zinn ist, beschrieben. Der Schutzbereich der vorliegenden Erfindung ist jedoch nicht auf Zinn beschränkt, sondern umfaßt ebenfalls andere Metalle, die gemäß einer ähnlichen Technik dünne Metallschichten bilden können und deren Oxid leitfähig ist. Als mögliche andere Metalle sind Al, Ga, In, Ge, Bi, As und Sb zu nennen.
  • Weiterhin können ebenfalls Gemische aus zwei oder mehr Metallsalzen reduziert und aufgetragen werden. In einer bevorzugten Ausführungsform ist das Gemisch eine Kombination eines Zinnsalzes und eines anderen Metallsalzes, z. B. eines Antimonsalzes.
  • Man soll sich bewußt sein, daß die Wahl des (der) Metallsalze(s), des eventuell benutzten Komplexiermittels, des Bindemittels und des Dispergierhilfsmittels, des Reduktionsmittels usw. für jedes Metall (oder Kombination von Metallen) erneut optimal sein muß und die bevorzugten Ausführungsformen in den meisten Fällen von den bevorzugten Ausführungsformen, in denen das Metall Zinn ist, abweichen.
  • In einem letzten Schritt (e) werden die in der aufgetragenen Schicht enthaltenen Metallteilchen zu einem Metalloxid oder einem Gemisch aus Metalloxiden oxidiert. In einer ganz besonders bevorzugten und einfachen Ausführungsform handelt es sich bei der Oxidationsverarbeitung um eine Wärmeverarbeitung in einer sauerstoffhaltigen Atmosphäre. Dabei kann ganz einfach vorgegangen werden, indem das Substrat und die Metallschicht unter normalen Luftbedingungen in einen heißen Ofen eingegeben werden. Zum Beispiel im spezifischen Fall eines mit einer Sn-Teilchen enthaltenden Schicht überzogenen Glassubstrats wird der Ofen etwa sechs Stunden bei einer Temperatur zwischen 400 und 600°C unter gängigen Luftbedingungen betrieben. Die Oxidation einer aufgetragenen Metallschicht verläuft zügiger als die Oxidation einer aufgedampften Metallschicht, wahrscheinlich infolge der diskreten Art der Metallteilchen im Gegensatz zu der Art einer aufgedampften Metallfolie, die eine kontinuierliche Phase bildet. Dadurch, daß die Durchdringung von Sauerstoff durch relativ dicke Schichten möglich bleibt, kann eine vollständige Oxidation dieser relativ dicken Schichten erzielt werden.
  • Die endgültige erhaltene Leitfähigkeit wird durch Messung des relativen elektrischen Widerstands ausgewertet.
  • Die so hergestellten Schichten auf der Basis eines leitfähigen Metalloxids auf einem Substrat können in vorteilhafter Weise in verschiedenen Typen von elektronischen oder optoelektronischen Einrichtungen wie den eingangs aufgelisteten zum Einsatz kommen.
  • Die vorliegende Erfindung wird nun anhand der folgenden Beispiele veranschaulicht, ohne sie aber darauf zu beschränken.
  • BEISPIELE
  • Beispiel 1
  • Herstellung und Auftrag einer Zinndispersion
  • Die nachstehenden Lösungen werden angefertigt:
  • Figure 00090001
  • Die Zinndispersion wird folgendermaßen angefertigt:
  • Zu Lösung 3, die auf 40°C gehalten und bei 450 TpM gerührt wird, gibt man gleichzeitig Lösung 1 bei einer Fließgeschwindigkeit von 200 ml/Min. und Lösung 2 bei einer Fließgeschwindigkeit von 117 ml/Min. Nach beendeter Reduktion wird die Zinndispersion durch eine Fresenius F60-Patrone ultrafiltriert und mit einer 0,2%igen Lösung von Natriumhexametaphosphat in Wasser/Ethanol (98,5/1,5) (Dispersion 1) diafiltriert. Die Dispersion wird gerührt und es werden 10 ml einer 12,5%igen Lösung von Saponine Quillaya (Schmittmann) in Wasser/Ethanol (80/20) zugesetzt.
  • Die Teilchengrößenverteilung der Dispersion (Gewichtsmittel σwa) wird mit dem Scheibenzentrifuge-Fotosedimentometer BI-DCP von BROOKHAVEN analysiert. Es wird ein dwa von 93 nm (σwa = 12) erhalten.
  • Diese Zinndispersion wird mit einem Luftpinsel von 75 μm auf ein Glassubstrat (FIACHGLAS AG) aufgetragen. Diese Schicht hat einen seitlichen elektrischen Widerstand von 2,4 × 1012 Ohm/Quadrat und eine optische visuelle Dichte von mehr als 3,00.
  • Der seitliche elektrische Widerstand wird mit einem "Pico Ampero Meter" von Keithley nach DIN 53482 gemessen, die Dichte mit einem optischen Densitometer von Macbeth.
  • Herstellung einer leitenden lichtdurchlässigen Schicht
  • Anschließend wird die aufgetragene Schicht 6 h in einem Ofen von 600°C erhitzt. Es werden ein seitlicher elektrischer Widerstand von 2 × 106 Ohm/Quadrat und eine optische visuelle Dichte von 0,40 erhalten.
  • Beispiel 2
  • Herstellung und Auftrag von Zinndispersionen
  • Man benutzt die gleichen Lösungen 2 und 3 wie im vorigen Beispiel. Die folgenden neuen Lösungen werden angefertigt:
  • Figure 00100001
  • Figure 00110001
  • Drei Zinndispersionen werden folgendermaßen angefertigt:
  • Zu Lösung 3, die auf 40°C gehalten und bei 450 TpM gerührt wird, gibt man gleichzeitig Lösung 4 bei einer Fließgeschwindigkeit von 200 ml/Min. und Lösung 2 bei einer Fließgeschwindigkeit von 117 ml/Min. (Zinndispersion 2).
  • Zu Lösung 3, die auf 40°C gehalten und bei 450 TpM gerührt wird, gibt man gleichzeitig Lösung 5 bei einer Fließgeschwindigkeit von 200 ml/Min. und Lösung 2 bei einer Fließgeschwindigkeit von 117 ml/Min. (Zinndispersion 3).
  • Zu Lösung 3, die auf 40°C gehalten und bei 450 TpM gerührt wird, gibt man gleichzeitig Lösung 6 bei einer Fließgeschwindigkeit von 200 ml/Min. und Lösung 2 bei einer Fließgeschwindigkeit von 117 ml/Min. (Zinndispersion 4).
  • Nach beendeter Reduktion werden die Zinndispersionen durch eine Fresenius F60-Patrone ultrafiltriert und mit einer 0,2%igen Lösung von Natriumhexametaphosphat in Wasser/Ethanol (98,5/1,5) diafiltriert. Die Dispersionen werden gerührt und es werden 10 ml einer 12,5%igen Lösung von Saponine Quillaya (Schmittmann) in Wasser/Ethanol (80/20) zugesetzt.
  • Die Teilchengrößenverteilung der Dispersion (Gewichtsmittel σwa) wird mit dem Scheibenzentrifuge-Fotosedimentometer BI-DCP von BROOKHAVEN analysiert.
  • Diese Zinndispersionen werden mit einem Luftpinsel von 75 μm auf ein Glassubstrat aufgetragen. Der seitliche elektrische Widerstand und die optische visuelle Dichte der so erhaltenen Schichten sind in Tabelle 1 aufgelistet.
  • Herstellung der leitenden lichtdurchlässigen Schichten
  • In Tabelle 1 sind die nach Wärmeverarbeitung der Muster erhaltenen Ergebnisse aufgelistet.
  • TABELLE 1
    Figure 00120001
  • Aus Tabelle 1 ist ersichtlich, daß die Oberflächenleitfähigkeit nach der Wärmeverarbeitung von den Bedingungen der Herstellung der Sn-Dispersion abhängig ist.
  • Beispiel 3
  • In diesem Beispiel wird der Einfluß des Verhältnisses des Reduktionsmittels unter Beweis gestellt.
  • Die folgenden neuen Lösungen werden angefertigt.
  • Figure 00130001
  • Die drei Zinndispersionen werden folgendermaßen angefertigt:
  • Zu Lösung 3, die auf 40°C gehalten und bei 450 TpM gerührt wird, gibt man gleichzeitig Lösung 6 bei einer Fließgeschwindigkeit von 200 ml/Min. und Lösung 7 bei einer Fließgeschwindigkeit von 117 ml/Min. (Zinndispersion 5).
  • Zu Lösung 3, die auf 40°C gehalten und bei 450 TpM gerührt wird, gibt man gleichzeitig Lösung 6 bei einer Fließgeschwindigkeit von 200 ml/Min. und Lösung 2 bei einer Fließgeschwindigkeit von 117 ml/Min. (Zinndispersion 6).
  • Zu Lösung 3, die auf 40°C gehalten und bei 450 TpM gerührt wird, gibt man gleichzeitig Lösung 6 bei einer Fließgeschwindigkeit von 200 ml/Min. und Lösung 8 bei einer Fließgeschwindigkeit von 117 ml/Min. (Zinndispersion 7).
  • Nach beendeter Reduktion werden die Zinndispersionen durch eine Fresenius F60-Patrone ultrafiltriert und mit einer 0,2%igen Lösung von Natriumhexametaphosphat in Wasser/Ethanol (98,5/1,5) diafiltriert. Die Dispersionen werden gerührt und es werden 10 ml einer 12,5%igen Lösung von Saponine Quillaya (Schmittmann) in Wasser/Ethanol (80/20) zugesetzt.
  • Diese Zinndispersionen werden mit einem Luftpinsel von 75 μm auf ein Glassubstrat aufgetragen. Der seitliche elektrische Widerstand und die optische visuelle Dichte der so erhaltenen Schichten sind in Tabelle 2 aufgelistet.
  • Herstellung der leitenden lichtdurchlässigen Schichten
  • In Tabelle 2 sind die nach Wärmeverarbeitung der Muster erhaltenen Ergebnisse aufgelistet.
  • TABELLE 2
    Figure 00140001
  • Aus Tabelle 1 ist ersichtlich, daß die Oberflächenleitfähigkeit nach der Wärmeverarbeitung von den Bedingungen der Herstellung der Sn-Dispersion abhängig sind.
  • Beispiel 4
  • Herstellung und Auftrag einer Zinn/Antimon-Dispersion
  • Die folgende neue Lösung wird angefertigt:
  • Figure 00150001
  • Die Zinn/Antimon-Dispersion wird folgendermaßen angefertigt:
  • Zu Lösung 3, die auf 40°C gehalten und bei 450 TpM gerührt wird, gibt man gleichzeitig Lösung 9 bei einer Fließgeschwindigkeit von 200 ml/Min. und Lösung 2 bei einer Fließgeschwindigkeit von 117 ml/Min. Nach beendeter Reduktion wird die Zinn/Antimon-Dispersion durch eine Fresenius F60-Patrone ultrafiltriert und mit einer 0,2%igen Lösung von Natriumhexametaphosphat in Wasser/Ethanol (98,5/1,5) diafiltriert. Die Dispersion wird gerührt und es werden 10 ml einer 12,5%igen Lösung von Saponine Quillaya (Schmittmann) in Wasser/Ethanol (80/20) zugesetzt.
  • Diese Zinn/Antimon-Dispersion (8) wird mit einem Luftpinsel von 75 μm auf ein Glassubstrat aufgetragen. Die Schicht hat einen seitlichen elektrischen Widerstand von 1012 Ohm/Quadrat und eine optische visuelle Dichte von mehr als 3,00.
  • Herstellung der leitenden lichtdurchlässigen Schicht
  • In Tabelle 3 sind die nach Wärmeverarbeitung der Muster erhaltenen Ergebnisse aufgelistet.
  • TABELLE 3
    Figure 00160001

Claims (12)

  1. Ein Verfahren zur Herstellung einer Schicht auf Basis eines leitfähigen Metalloxids auf einem Substrat, wobei das Verfahren der Reihe nach durch die nachstehenden Schritte gekennzeichnet wird: (a) Herstellung eines wäßrigen Mediums, das zumindest einen Metallsalztyp enthält, (b) chemische Reduktion des Metallsalzes mittels eines Reduktionsmittels zur Bildung einer Dispersion von Metallteilchen, (c) Waschen der Dispersion von Metallteilchen, (d) Auftrag der gewaschenen Dispersion auf ein Substrat, wobei eine aufgetragene, Metallteilchen enthaltende Schicht erhalten wird, und (e) oxidierende Verarbeitung der aufgetragenen Schicht zur Bildung einer leitenden, Metalloxidteilchen enthaltenden Schicht.
  2. Ein Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß das Metallsalz ein Zinn(IV)-Salz ist.
  3. Ein Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß zumindest ein Metallsalz ein Gemisch aus einem Zinn(IV)-Salz und einem Sb(V)-Salz ist.
  4. Ein Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, daß die oxidierende Verarbeitung (e) eine Wärmeverarbeitung in einer sauerstoffhaltigen Atmosphäre ist.
  5. Ein Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet, daß die chemische Reduktionsstufe (b) durch Zugabe des wäßrigen Mediums (a), das zumindest einen Typ von Metallsalz enthält, und gleichzeitig einer zweiten wäßrigen, das Reduktionsmittel enthaltenden Lösung zu einem dritten wäßrigen Medium erfolgt.
  6. Ein Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 5, dadurch gekennzeichnet, daß das Reduktionsmittel KBH4 ist.
  7. Ein Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 6, dadurch gekennzeichnet, daß in jedem der Schritte (a), (b) oder (c) ein Schutzbindemittel zugesetzt wird.
  8. Ein Verfahren nach Anspruch 7, dadurch gekennzeichnet, daß das Schutzbindemittel Carboxymethylcellulose ist.
  9. Ein Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 8, dadurch gekennzeichnet, daß Waschschritt (c) eine Ultrafiltration und/oder Diafiltration umfaßt.
  10. Ein Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 9, dadurch gekennzeichnet, daß das Substrat ein lichtdurchlässiges Substrat ist.
  11. Ein Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 10, dadurch gekennzeichnet, daß das lichtdurchlässige Substrat Glas ist.
  12. Elektronische oder optoelektronische Einrichtung, die eine Schicht auf Basis eines leitfähigen Metalloxids nach einem der Ansprüche 1 bis 11 enthält.
DE69904137T 1999-02-26 1999-02-26 Schicht auf Basis eines leitfähigen Metalloxids Expired - Fee Related DE69904137T2 (de)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
EP99200554A EP1031642B1 (de) 1999-02-26 1999-02-26 Schicht auf Basis eines leitfähigen Metalloxids

Publications (2)

Publication Number Publication Date
DE69904137D1 DE69904137D1 (de) 2003-01-09
DE69904137T2 true DE69904137T2 (de) 2004-03-18

Family

ID=8239928

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE69904137T Expired - Fee Related DE69904137T2 (de) 1999-02-26 1999-02-26 Schicht auf Basis eines leitfähigen Metalloxids

Country Status (4)

Country Link
US (1) US6306747B1 (de)
EP (1) EP1031642B1 (de)
JP (1) JP2000248366A (de)
DE (1) DE69904137T2 (de)

Families Citing this family (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7507447B2 (en) 2002-02-26 2009-03-24 Fujifilm Corporation Transparent conductive film, method for producing same and method for forming pattern
JP3749531B2 (ja) * 2003-08-29 2006-03-01 日東電工株式会社 透明導電積層体の製造方法
JP4770239B2 (ja) * 2005-03-31 2011-09-14 大日本印刷株式会社 金属酸化物膜の製造方法
KR101234233B1 (ko) * 2006-05-18 2013-02-18 삼성에스디아이 주식회사 포스페이트를 포함하는 반도체 전극 및 이를 채용한태양전지
US7682431B1 (en) * 2008-11-12 2010-03-23 Lam Research Corporation Plating solutions for electroless deposition of ruthenium
JP5392754B2 (ja) * 2009-03-18 2014-01-22 国立大学法人秋田大学 錫含有ペースト、錫含有ペーストの製造方法、および、リチウムイオン二次電池用電極
RU2656916C1 (ru) * 2017-06-20 2018-06-07 Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования "Кубанский государственный университет" (ФГБОУ ВО "КубГУ") Способ получения тонких пленок оксида олова-индия
RU2762687C1 (ru) * 2020-10-21 2021-12-22 Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования "Кубанский государственный университет" (ФГБОУ ВО "КубГУ") Бис(N,N-диэтилкарбамат) олова, способ его получения и изготовление пленок оксида олова на его основе
RU2761322C1 (ru) * 2020-10-21 2021-12-07 Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования "Кубанский государственный университет" (ФГБОУ ВО "КубГУ") Бис(N,N-диэтилкарбамат) олова, способ его получения и изготовление на его основе легированных пленок оксида олова

Family Cites Families (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB8300554D0 (en) * 1983-01-10 1983-02-09 Atomic Energy Authority Uk Catalyst preparation
JP2718023B2 (ja) * 1986-09-17 1998-02-25 松下電器産業株式会社 透明導電膜の形成方法
JPH07112076B2 (ja) 1987-05-07 1995-11-29 日本板硝子株式会社 二層構造を有する透明導電膜体
JPS6481112A (en) 1987-09-21 1989-03-27 Mitsubishi Chem Ind Transparent conductive film
JPH0517878A (ja) 1991-07-12 1993-01-26 Sanyo Electric Co Ltd 透明導電膜の形成方法
JPH05218476A (ja) 1992-02-03 1993-08-27 Matsushita Electric Ind Co Ltd 太陽電池
JPH05218477A (ja) 1992-02-03 1993-08-27 Matsushita Electric Ind Co Ltd 太陽電池
JPH05314820A (ja) * 1992-05-08 1993-11-26 Matsushita Electric Ind Co Ltd 透明導電膜形成用組成物と透明導電膜形成方法
JP3408578B2 (ja) * 1993-04-30 2003-05-19 住友大阪セメント株式会社 熱線遮蔽ガラス板の製造方法
US5368995A (en) * 1994-04-22 1994-11-29 Eastman Kodak Company Imaging element comprising an electrically-conductive layer containing particles of a metal antimonate
JPH0831572A (ja) 1994-07-19 1996-02-02 Nec Kansai Ltd 電界発光表示素子
US5707745A (en) 1994-12-13 1998-01-13 The Trustees Of Princeton University Multicolor organic light emitting devices
JP3476277B2 (ja) 1995-02-16 2003-12-10 三井化学株式会社 透明導電性積層体
JP3466001B2 (ja) 1995-07-12 2003-11-10 三井化学株式会社 透明導電性積層体
US6132927A (en) * 1997-04-29 2000-10-17 Agfa-Gevaert, N.V. Thin metal recording layer coated from aqueous medium

Also Published As

Publication number Publication date
EP1031642B1 (de) 2002-11-27
DE69904137D1 (de) 2003-01-09
US6306747B1 (en) 2001-10-23
EP1031642A1 (de) 2000-08-30
JP2000248366A (ja) 2000-09-12

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE2336581C2 (de) Verfahren zur Herstellung einer transparenten Heizscheibe
DE2363319C2 (de) Verfahren zur Herstellung eines Metalloxidüberzugs auf einem Substrat
DE2813394B2 (de) Transparente elektrisch leitende Schichtstruktur
DE1909910A1 (de) Verfahren zum UEberziehen von Substraten mit leitenden Metalloxidfilmen durch kathodische Zerstaeubung
US8658251B2 (en) Method of producing structural member having prussian blue-type metal complex nanoparticles, structural member obtained by the method, substrate, electrochromic device, rectifying device, and photo responding device, using the structural member
DE19831611A1 (de) Hydrophiler Gegenstand und Verfahren zu seiner Herstellung
DE69904137T2 (de) Schicht auf Basis eines leitfähigen Metalloxids
CH639294A5 (de) Verfahren zur herstellung einer durchsichtigen, leitenden schicht auf einem substrat.
DE102013216848A1 (de) Langzeitstabile, aus Lösungen abscheidbare photovoltaische Elemente und in-situ-Verfahren zu deren Herstellung
DE102006005019A1 (de) Hochleitfähige, transparente und mechanisch stabile Metalloxid-Schichten und Verfahren zu ihrer Herstellung
DE102015122788A1 (de) Verfahren zur Herstellung von leitfähigen Strukturen
DE2930373A1 (de) Verfahren zum herstellen transparenter, elektrisch leitender indiumoxid (in tief 2 o tief 3 )-schichten
DE2254477C2 (de) Verfahren zum Aufbringen und Haftverbinden von elektrischem Leitermaterial auf ein Substrat und Druckmasse zur Durchführung des Verfahrens
DE3855617T2 (de) Beschichtungsflüssigkeit zur bildung einer elektroleitfähigen schicht
DE69814694T2 (de) Verfahren zur herstellung lithiumhaltiger vanadiumoxyd-schichten mit optischer qualität
DE102014209891B4 (de) Elektrochrome Zelle und Verfahren zu deren Herstellung
DE60100739T2 (de) Anwendung von rekristallisierbarem glas als anorganisches bindemittel für die elektrodenpaste einer plasmaanzeige
DE69828357T2 (de) Zusammensetzung eines Glasfärbers
DE10160356A1 (de) IR-Schutz
DE2846577C2 (de) Verfahren zur Herstellung von Widerstandsmaterial und durch dieses Verfahren hergestellte Widerstandskörper
DE2949883A1 (de) Elektrochrome anzeigeeinheit und verfahren zu ihrer herstellung
DE102016122132A1 (de) Katalytisch aktives Material, Verfahren zu dessen Herstellung sowie dessen Verwendung
DE2322826C3 (de) Verfahren zur Ausbildung eines transparenten elektrisch leitfähigen Filmmusters
DE2909359C2 (de) Verfahren zur Herstellung einer elektrochromen Anzeigevorrichtung
EP1517967A1 (de) Beschichtungsmaterial

Legal Events

Date Code Title Description
8364 No opposition during term of opposition
8339 Ceased/non-payment of the annual fee