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Technisches
Gebiet
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Diese
Erfindung betrifft Hohlfasermembranen zum Entgasen chemischer Flüssigkeiten,
und insbesondere Komposit-Hohlfasermembranen
zum Entgasen von chemischen Flüssigkeiten
zur Verwendung in Prozessen der Halbleiterfabrikation (zum Beispiel
Photolacklösungen,
Entwicklerlösungen
und chemische Flüssigkeiten
zur Verwendung in einem Spin-on-Glas-Prozeß), Tinten für Tintenstrahldrucker,
Flüssigkristallen
und organischen Lösungsmitteln.
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Stand der
Technik
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Bezüglich hochreinen
Wassers zur Verwendung bei der Halbleiterherstellung, Wasser, das
aus Boilern herausläuft,
und Wasserzuführungen
von Gebäuden
ist unbehandeltes Wasser, das gelösten Sauerstoff in gesättigtem
Zustand enthält,
für die
Oxidation verantwortlich. Dementsprechend offenbart die japanische
Patentoffenlegung Nr. 169303/'91
eine Technik zum Verringern der gelösten Sauerstoffkonzentration
durch Entfernen gelösten
Sauerstoffs von solchem unbehandeltem Wasser unter Zuhilfenahme
einer Hohlfasermembran. In diesem Patent wird eine Dreischicht-Komposit-Hohlfasermembran
verwendet, in der ein homogener Film, der aus einem dünnen Silicongummifilm,
einem Silicon-Polycarbonat-Copolymer, Poly(4-methylpenten-1), einem
Perfluoralkyl-Polymer oder segmentiertem Polyurethan besteht, zwischen
poröse
Folien zwischengelagert ist.
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Wasserhaltige
chemische Flüssigkeiten
umfassen Halbleiter-Entwicklerlösungen,
Tinten für
Tintenstrahldrucker, Alkohol-Wasser-Mischungen
und dgl. Im Falle solcher chemischer Flüssigkeiten werden sie manchmal
bei einer Temperatur von weniger als 30°C verwendet, so daß ihre Gaslöslichkeit
zum Großteil
verringert werden kann. Die Gründe,
warum dieses Verwendungsverfahren eingesetzt wird, sind, daß die Verwendung
einer auf Wasser basierenden Lösung
zum Reduzieren der gelösten
Gaskonzentrationen geeignet ist, weil Wasser im allgemeinen niedrigere
Gaslöslichkeiten
als organische Lösungsmittel über einen
großen
Temperaturbereich aufweist, und daß die Gaslöslichkeiten kleiner werden,
wenn sich die Temperatur der Lösung verringert.
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Wenn
jedoch das in dem zuvor erwähnten
Patent beschriebene Verfahren auf wasserhaltige chemische Flüssigkeiten
angewendet wird, ergeben sich die folgenden Probleme. Im Fall einer
Hohlfasermembran, in der ein dünner
Silicongummifilm, ein Silicon-Polycarbonat-Copolymer, ein Perfluoralkyl-Polymer
oder segmentiertes Polyurethan als homogener Film verwendet wird,
weist sie nicht nur hohe Sauerstoff- und Stickstoff-Gasdurchgangsflüsse, sondern
auch einen hohen Wasserdampf-Gasdurchgangsfluß auf. Folglich
verursacht die Kondensation während
des Entgasens die Bildung von Wassertropfen auf der gegenüberliegenden Oberfläche der
Membran. Dies ist die gleiche Situation wie das Lecken von unbehandeltem
Wasser auf die gegenüberliegende
Oberfläche.
Darüber
hinaus quillt die Membran heftig mit Alkoholen, Ethern, Ketonen
und Estern, die in chemischen Flüssigkeiten
enthalten sind, so daß der
dünne Film
gebrochen werden kann oder eine große Menge von Lösungsmittelgas
auf die Sekundärseite
(oder evakuierte Seite) der Membran ausgelassen werden kann. Im
Fall einer Hohlfasermembran, in der Poly(4-methylpenten-1-) verwendet
wird, hat dieses Membranmaterial seinen Glasübergangsbereich in der Nähe von 30°C und wird
daher in Wasser, das eine Temperatur von weniger als 30°C aufweist,
brüchig.
Folglich neigt die Membran dazu, durch die Wirkung eines äußeren Druckes
zu brechen und verursacht das Lecken von unbehandeltem Wasser auf
die gegenüberliegende
Oberfläche.
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Bei
Prozessen in der Halbleiterherstellung können Defekte, wie Behandlungsflecken,
wegen der Gasbläschen,
die in die zugeführten
chemischen Flüssigkeiten
eingeführt
sind, produziert werden. Zum Beispiel können beim Lithographieprozeß, in dem
ein dünner
Film, der über
einem Halbleiter-Wafer liegt, durch Beschichten mit einer Photolacklösung. Belichten
durch eine ein Muster aufweisende Maske, Entwicklung und Ätzen gemustert
wird, Probleme wie schlechte Musterbildung aufgrund der Behandlungsflecken
auftreten, wenn der Halbleiterwafer mit einer Photolacklösung oder
Entwicklerlösung
rotationsbeschichtet wird, die hierin eingeführte Gasbläschen aufweisen. Darüber hinaus
können
Waschflecken produziert werden, wenn Gasbläschen in die Waschflüssigkeit
eingeführt
sind, die bei den Waschoperationen des Lithographieprozesses verwendet
wird.
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Es
wird angenommen, daß der
Grund für
die Einführung
von Gasbläschen
wie folgt ist. Eine chemische Flüssigkeit
wird unter Zuhilfenahme von Stickstoffgas zu einer Auslaßdüse zugeführt. Wenn
die chemische Flüssigkeit
aus der Düse
ausgelassen wird, kehrt der auf die chemische Flüssigkeit ausgeübt Druck
auf Atmosphärendruck
zurück.
Als Ergebnis wird das hierin vorhandene gelöste Gase übersättigt, und diese übersättigte Fraktion
bildet Gasbläschen.
Die Bildung von Gasbläschen
kann durch Reduzieren der gelösten
Gaskonzentration beim Zuführschritt
der chemischen Flüssigkeit
gemäß einer
Technik wie Membranentgasen minimiert werden.
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Als
Techniken zum Entfernen gelöster
Gase aus chemischen Flüssigkeiten
mittels einer Membran sind die folgenden Verfahren bekannt gewesen.
- (1) Ein Verfahren zum Entfernen gelösten Stickstoffs
aus einer chemischen Flüssigkeit
mittels einer porösen
Hohlfasermembran, die in Verbindung stehende (intercommunicating)
Poren von der inneren Oberfläche
zur äußeren Oberfläche aufweist
(japanische Patent-Offenlegungsschrift
Nr. 243306/'96,
94447/'97, 7936/'97, 199607/'89 und 7915/'89; japanische Patentveröffentlichung
Nrn. 57478/'93,
und 45282/'93; und dgl.).
- (2) Ein Verfahren zum Entfernen gelösten Stickstoffs aus einer
chemischen Flüssigkeit
mittels einer heterogenen Hohlfasermembran, in der eine homogene
Dünnfilmschicht
(d.h. eine Dünnfilmschicht,
die frei von miteinander in Verbindung stehenden Poren ist) auf
der Oberfläche
angeordnet und durch eine poröse
Substratschicht getragen wird, die aus dem gleichen Polymer gebildet
ist wie die homogene Dünnfilmschicht (japanische
Patent-Offenlegungsschriften Nrn. 94447/'97, 187626/'97 und 278897/'94 und dgl.).
- (3) Ein Verfahren zum Entfernen gelösten Stickstoffs aus einer
chemischen Flüssigkeit
mittels einer nicht-porösen
(homogenen) röhrenförmigen Membran,
die durch Formen eines Tetrafluorethylenharzes mit herausragender
Lösungsmittelbeständigkeit
zu Röhren
hergestellt wird (japanische Patent-Offenlegungsschrift Nrn. 153675/'97, 243306'97, 7936'97, 267149/'93, 31804/'95, 57008/'97 und 124875/'96; Japanese Utility
Model-Offenlegungsschrift Nr. 9160/'90 und dgl.).
- (4) Ein Verfahren zum Entfernen gelösten Stickstoffs aus einer
chemischen Flüssigkeit
mittels einer Zweischicht-Komposit-Hohlfasermembran,
die einen homogenen dünnen
Film umfaßt,
der auf eine poröse
Substratschicht laminiert ist (Japanese Utility Model-Offenlegungsschrift
Nrn 91601/'90 und japanische
Patent-Offenlegungsschrift Nrn. 243306/'97, 94447/'97 und 68007/'89).
- (5) Ein Verfahren zum Entfernen gelösten Stickstoffs aus einer
chemischen Flüssigkeit
mittels einer Dreischicht-Komposit-Hohlfasermembran,
die durch Zwischenlagern eines nicht-porösen Films, der ein Fluorharz
umfaßt,
zwischen poröse
Substratschichten, die ein Fluorharz umfassen, und Klebstoff-Verbinden
der Schichten miteinander, um eine integrale Struktur zu bilden,
hergestellt wird (japanische Patent-Offenlegungsschrift Nr. 63007/'89).
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Jedoch
kann im Verfahren (1), ein erfolgreiches Entgasen nicht erreicht
werden, wenn das Membranmaterial mit der chemischen Flüssigkeit
hochgradig benetzbar ist. Insbesondere dringt die behandelte Flüssigkeit
in die Poren ein und leckt auf der Sekundärseite (d.h. die gegenüberliegende
Seite) der Membran aus, wenn die behandelte Flüssigkeit zu der Primärseite der
Membran zugeführt
wird. Dieses Phänomen
kann insbesondere dann beobachtet werden, wenn die chemische Flüssigkeit
eine chemische Flüssigkeit
zur Verwendung mit Halbleitern oder eine Tinte für Tintenstrahldrucker umfaßt.
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Im
Verfahren (2) ist es schwierig, die kristalline Orientierung der
homogenen Dünnfilmschicht
im Spinnschritt perfekt zu stören,
so daß zu
einem gewissen Grad eine geordnete Struktur auf Grundlage der kristallinen
Orientierung gebildet wird. Als Ergebnis können in Verbindung stehende
Poren in der homogenen Dünnfilmschicht
während
des Zugschrittes zum Bilden einer porösen Schicht gebildet werden.
Darüber
hinaus kann während
der Handhabung der hergestellten Membran mechanisches Reiben kleine
Löcher
(pinholes) in der homogenen Dünnfilmschicht
produzieren. Daher kann mit dieser Membran ein erfolgreiches Entgasen
nicht erreicht werden, weil die behandelte Flüssigkeit in die Poren der porösen Schicht
eindringt und dann durch die Poren oder kleine Löcher der homogenen Dünnfilmschicht
leckt. Ein solches Lecken der chemischen Flüssigkeit wird insbesondere
beobachtet, wenn die chemische Flüssigkeit eine chemische Flüssigkeit
zur Verwendung mit Halbleitern oder eine Tinte für Tintenstrahldrucker umfaßt.
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Im
Verfahren (3) weist nicht nur das Membranmaterial einen niedrigen
Stickstoff-Gasdurchlässigkeitskoeffizienten
auf, sondern die zum Entgasen verwendeten Röhren weisen auch eine große Membrandicke
auf. Folglich ist der Stickstoff-Gasdurchgangsfluß gering
[zum Beispiel Stickstoff-Gasdurchgangsfluß = 0,5 × 10–11/(cm2·Pa·s)], so
daß das
Entgasen dazu führt,
daß die
gelöste
Gaskonzentration auf nur etwa 90% seiner Sättigungskonzentration reduziert
wird. Dieser Entgasungsgrad ist für praktische Zwecke unzureichend.
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Im
Verfahren (4) weisen sowohl das homogene Dünnfilmmaterial als auch das
poröse
Substratmaterial Lösungsmittelbeständigkeit
auf und sind daher chemisch inert, so daß es schwierig ist, beide Schichten
mit einem Klebemittel zu verbinden. Dementsprechend werden beide
Schichten integral durch Verschmelzen verbunden, jedoch können beim
Verschmelzungsschritt kleine Löcher
in dem homogenen Dünnfilm
produziert werden. Wenn kleine Löcher
produziert werden, kann ein zufriedenstellendes Entgasen nicht erreicht
werden, weil die behandelte Flüssigkeit
durch die kleinen Löcher
leckt.
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Im
Verfahren (5) wird die Dicke des nicht-porösen Films durch die Dicken
der Klebemittelschichten vergrößert, was
zu einem Anstieg des Gasdurchgangswiderstandes führt. Folglich werden die Flüsse der
Gase, die durch den Dünnfilm
passieren, wesentlich verringert, und daher kann die Entgasungsfähigkeit
für praktische
Zwecke unzureichend sein.
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Bezüglich des
Flüssigkristall-Versiegelungsprozesses
werden in JP-A-170932/'98
und 218921/'95 Techniken
zum Entfernen von gelösten
Gasen oder von Gasbläschen,
die in einem Flüssigkristall
vorhanden sind, mittels einer Vakuumpumpe offenbart. In diesem Prozeß sind die
gleichen Techniken wie vorstehend im Zusammenhang mit dem Entgasen
von chemischen Flüssigkeiten
zur Verwendung bei Prozessen der Halbleiterherstellung beschrieben
ebenfalls anwendbar, führen
jedoch immer noch zu den gleichen Problemen.
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Bei
Tintenstrahldruckern, die einen Kopf mit einem piezoelektrischem
Element aufweisen, wiederholt das piezoelektrische Element des Kopfes
die Druckerhöhung
und Druckerniedrigung während
des Tintenauslassens viele Male. Es ist bekannt, daß während dieses
Prozesses gelöste
Gase (z.B. gelöster
Sauerstoff und Stickstoff), die in der in dem Kopf enthaltenen Tinte
vorhanden sind, zu Gasbläschen
anwachsen, welche dazu neigen, in dem Kopf des piezoelektrischen
Elements zu verbleiben. Diese Gasbläschen können zusammen mit der Tinte
ausgelassen werden, was einen Verlust von Druckpunkten verursacht.
Andererseits ist bei Tintenstrahldruckern mit einem Thermalkopf
bekannt, daß als
Ergebnis der Thermalzyklen zum raschen Erwärmen oder Kühlen der Tinte die in der Tinte
vorhandenen gelösten
Gase zu Gasbläschen
während
des Kopfbetriebs anwachsen. Da diese Gasbläschen dazu neigen, in dem Thermalkopf
zu verbleiben, können
sie zusammen mit der Tinte ausgelassen werden, was einen Verlust
von Druckpunkten verursacht.
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Als
Technik zum Entfernen gelöster
Gase aus einer Tinte mittels einer Membran offenbart die japanische
Patent-Offenlegungsschrift
37173/'95 ein Verfahren
zum Entfernen gelöster
Gase, die in einer Tinte vorhanden sind, durch einen Flachfilmteil,
der in der Tintenauslaß-Kopfeinheit
positioniert ist, um so einen evakuierten Raum von einem tintengefüllten Raum
zu trennen. Jedoch besteht eine Beschränkung bezüglich der Membranfläche, die
in dem Kopf montiert werden kann, weil die Kopfeinheit eines Tintenstrahldruckers
schnell betrieben werden muß.
Da die hierin beschriebenen Membranmaterialien Sauerstoff- und Stickstoff-Gasdurchgangsflüsse aufweisen,
die so niedrig wie etwa 1-3 × 10–10 cm3/(cm2·Pa·s) sind,
ist es schwierig, gelöste
Gase zu einem ausreichenden Grad zu entfernen.
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Darüber hinaus
offenbart die japanischen Offenlegungsschrift Nr. 17712/'93 ein Verfahren
zum selektiven Entfernen gelöster
Gase, die in einer Tinte vorhanden sind, durch eine Hohlfasermembran,
indem eine unbehandelte Tinte dem Inneren der Membran zugeführt wird
und das Äußere der
Membran evakuiert wird. Jedoch weisen die in den Beispielen dieses
Patentes verwenden Tetrafluorethylen-Röhren eine sehr kleine Membrandicke
von 1 bis 2 μm
auf. Wenn verursacht wird, daß eine
unbehandelte Tinte auf der Innenseite der Membran fließt, verursacht
der Fluß der
Tinte, daß die
Membran nach außen
expandiert. Da die Membrandicke relativ zu dieser Kraft klein ist
und folglich unzureichende mechanische Festigkeit aufweist, besteht
eine hohe Wahrscheinlichkeit, daß die Membran gebrochen wird,
was ein Lecken der behandelten Flüssigkeit verursacht.
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US-Patent
4,713,292 offenbart eine Multischicht-Komposit-Hohlfaser, die zumindest eine nicht-poröse trennende
Membranschicht (A), die zum Beispiel aus Poly-4-methylpenten-1 besteht und eine
trennende Funktion ausübt,
und zumindest zwei oder mehr poröse
Schichten (B), die eine verstärkende
Funktion ausüben,
umfaßt,
wobei die Schicht (A) und die Schichten (B) abwechselnd laminiert
sind, um so eine Struktur zu ergeben, die interne und externe Oberflächen aufweist,
die von den porösen
Schichten (B) gebildet werden, sowie ein Verfahren zum Herstellen
solch ein Hohlfaser. In dieser Multischicht-Komposit-Hohlfaser kann
die trennende Membran als ultradünne,
homogene Membran gebildet sein, die vorzugsweise eine Dicke von
nicht mehr als 5 μm
aufweist.
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JP-A-4-215828
beschreibt eine Multischicht-Komposit-Hohlfasermembran, worin die Membran
ein Laminat von abwechselnden Schichten einer porösen Schicht
(A) und einer nicht-porösen
Schicht (B) umfaßt, worin
die poröse
Schicht (A) auf beiden äußeren Oberflächen vorhanden
ist, das Polymer, das die nicht-poröse Schicht (B) aufbaut, ein
Copolymer von Perfluor(2,2-dimethyl-1,3-dioxol) und Tetrafluorethylen
ist, und die Aufgabe der Membran ist es, gelösten Sauerstoff aus Wasser
zu entfernen.
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Offenbarung
der Erfindung
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Es
ist eine Aufgabe der vorliegenden Erfindung, eine Entgasungsmembran
zur Verfügung
zu stellen, die ausreichend hohe Sauerstoff- und Stickstoff-Gasdurchgangsflüsse und
einen niedrigen Wasserdampf-Gasdurchgangsfluß aufweist, und die verwendet
werden kann, um chemische Flüssigkeiten
ohne irgendein Lecken der Flüssigkeit
zu entgasen.
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Das
heißt,
die vorliegende Erfindung stellt eine Komposit-Hohlfasermembran zur Verfügung, die
eine Kompositstruktur aufweist, die aus einem homogenen dünnen Film,
der zwischen zwei poröse
Substratschichten zwischengelagert ist, besteht, worin das Verhältnis des
Sauerstoff-Gasdurchgangsflusses zum Stickstoff-Gasdurchgangsfluß der Membran
nicht weniger als 1,1 beträgt,
und worin die prozentuale Veränderung des
Verhältnisses
innerhalb ± 10%
liegt, nachdem die Membran in chemische Flüssigkeiten gemäß JIS K
7114 eingetaucht worden ist.
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Es
ist bevorzugt, daß die
prozentuale Veränderung
des Gewichts der Membran im Bereich von 0 bis +30 % liegt, nachdem
die Komposit-Hohlfasermembran in chemische Flüssigkeiten gemäß JIS K
7114 eingetaucht worden ist. Es ist auch bevorzugt, daß diese
Hohlfasermembran einen Stickstoff-Gasdurchgangsfluß von nicht weniger als 0,5 × 10–9/(cm2·Pa·s) und
einen Sauerstoff-Gasdurchgangsfluß von nicht weniger als 0,6 × 10–9 cm3/(cm2·Pa·s) aufweist.
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Erfindungsgemäß wird der
Eintauchtest in chemische Flüssigkeiten
gemäß JIS K
7114 durchgeführt, indem
fünf Arten
von chemischen Flüssigkeiten
verwendet werden, die Isopropylalkohol, eine Halbleiter-Entwicklerlösung, eine
Spin-on-Glas-Lösung,
eine Tinte für
Tintenstrahldrucker und einen Flüssigkristall
umfassen. Für
diesen Testzweck wird eine 2 Gew.%ige wäßrige Tetramethylammoniumhydroxid-Lösung als
Halbleiter-Entwicklerlösung,
eine Mischung, die sich auf 70 Gew.% Isopropylalkohol, 2 Gew.% Tetraethoxysilan
und 28 Gew.% Wasser zusammensetzt, als Spin-on-Glas-Lösung, eine
auf Farbstoff basierende Tinte, die ein Lösungsmittel enthält, das
sich aus 80 Gew.%, Wasser, 5 Gew.% Ethylenglykol und 15 Gew.% Isopropylalkohol zusammensetzt,
als Tinte für
Tintenstrahldrucker, und Cholesterinchloridcholesterinnonanoat als
Flüssigkristall
verwendet.
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Kurze Beschreibung
der Zeichnungen
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1 ist
eine schematische Ansicht einer Komposit-Hohlfasermembran in Übereinstimmung mit der vorliegenden
Erfindung;
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2 ist
eine schematische Illustration einer beispielhaften Vorrichtung
zum Entgasen einer chemischen Flüssigkeit
durch Verwenden der erfindungsgemäßen Komposit-Hohlfasermembran;
und
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3 ist
eine schematische Ansicht, die den Oberflächenzustand eines entwickelten
Lackfilms zeigt.
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Beste Art, die Erfindung
auszuführen
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Die
erfindungsgemäße Komposit-Hohlfasermembran
weist eine Struktur auf, in der ein homogener dünner Film, der frei von kleinen
Löchern
oder Mikroporen ist, zwischen poröse Substratschichten zwischengelagert
ist, die auf beiden Seiten des dünnen
Films angeordnet sind, ohne daß er
mit den Substratschichten verbunden ist. Dementsprechend verursacht
diese Membran kein Lecken chemischer Flüssigkeiten durch die Poren,
im Gegensatz zu Membranen, die vollständig aus einer porösen Schicht
bestehen. Darüber
hinaus verursacht im Gegensatz zu heterogenen Membranen mechanisches
Reiben keine kleinen Löcher,
weil der homogene dünne
Film nicht auf der Außenseite
der Membran angeordnet ist. Trotz der Tatsache, daß die porösen Substratschichten
und der homogene dünne
Film, die die erfindungsgemäße Komposit-Hohlfasermembran
aufbauen, in bloßem
Kontakt miteinander angeordnet sind, kann diese Komposit-Membran
ihre Form stabil beibehalten, sogar wenn sie zum Entgasen einer
chemischen Flüssigkeit
verwendet wird. Es ist nicht wünschenswert,
ein Klebemittel zwischen den porösen
Substratschichten und dem homogenen dünnen Film anzuordnen, weil
die Klebemittelschicht dazu neigt, eine Verringerung der Gasdurchlässigkeit
zu verursachen, welche wiederum eine Verringerung der Entgasungsfähigkeit
verursacht. Es ist ebenso nicht wünschenswert, den homogenen
dünnen
Film und die porösen
Substratschichten durch Wärmeverschmelzung
ohne Verwenden eines Klebemittels integral zu verbinden, weil lokales
Erwärmen
einen Teil des dünnen
Films schmelzen wird, um Mikroporen zu bilden, und die zu entgasende
chemische Flüssigkeit
durch diese Mikroporen lecken kann.
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Erfindungsgemäß wird die
chemische Beständigkeit
einer Komposit-Hohlfasermembran durch Eintauchen der Membran in
chemische Flüssigkeiten
gemäß der Prozedur
(d.h. Eintauchen bei 20°C
für 7 Tage),
die in JIS K 7114 beschrieben ist, und Bestimmen der Indizes, die
durch die folgenden Gleichungen (1) und (2) definiert werden, beurteilt.
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Die
Gasdurchgangsflüsse,
wie sie hierin verwendet werden, sind Werte, die durch Zuführen reinen Sauerstoffs
oder Stickstoffs zu der Membran und Messen ihres Gasdurchgangsflusses
gemäß ASTM D
1434 erhalten werden.
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Die
erfindungsgemäße Komposit-Hohlfasermembran
ist dadurch gekennzeichnet, daß das
Gasdurchgangsflußverhältnis, definiert
als das Verhältnis
des Sauerstoff-Gasdurchgangsflusses
zum Stickstoff-Gasdurchgangsfluß,
nicht weniger als 1,1 beträgt
und daß,
nachdem die Membran in chemische Flüssigkeiten gemäß JIS K
7114 eingetaucht worden ist, die prozentuale Veränderung des Verhältnisses,
wie in Gleichung 1 definiert, innerhalb ± 10% beträgt. Falls das Gasdurchgangsflußverhältnis nicht
weniger als 1,1 beträgt,
kann die Membran Entgasungsfähigkeiten
aufweisen, die zur Verwendung in praktischen Anwendungen geeignet sind.
Wenn jedoch das Gasdurchgangsflußverhältnis weniger als 1,1 beträgt, stellt
dies die Tatsache dar, daß in
einem Teil der Membran bereits kleine Löcher gebildet worden sind.
Insbesondere zeigen werte von weniger als 0,93 an, daß kleine
Löcher
mit einer Größe, die
der mittleren freien Weglänge
von Sauerstoff- und Stickstoffmolekülen nahe kommt, in dem gesamten
homogenen dünnen
Film gebildet worden sind. Dies ist nicht wünschenswert, da chemische Flüssigkeiten
dazu neigen, durch diese kleinen Löcher zu lecken. Darüber hinaus
weist der homogene dünne
Film ausreichende Haltbarkeit für
chemische Flüssigkeiten
auf, wenn die prozentuale Veränderung
des Gasdurchgangsflußverhältnisses
nach dem Eintauchen, wie durch Gleichung 1 definiert, innerhalb ± 10% beträgt. Andererseits
wird der homogene dünne
Film hierin gebildete kleine Löcher
aufweisen, wenn die prozentuale Veränderung eine Abnahme von mehr
als –10
% beträgt,
und, falls die prozentuale Veränderung
eine Steigerung von mehr als +10% ist, wird der homogene dünne Film
eine Verringerung der mechanischen Festigkeit aufgrund von Quellen
zeigen oder das Auslassen von Lösungsmitteldämpfen zur Sekundärseite der
Membran verursachen.
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Die
Materialien, die als poröse
Substratschichten, die die erfindungsgemäße Komposit-Hohlfasermembran
aufbauen, verwendet werden können,
umfassen Polyolefine (insbesondere Polyethylen und Polypropylen),
Poly(4-methylpenten-1), Polyvinylidenfluorid und Polyoxymethylen.
Diese Polymere weisen hohe chemische Beständigkeit gegenüber der
chemischen Flüssigkeit,
die mit der erfindungsgemäßen Komposit- Hohlfasermembran
behandelt werden soll, auf, und ihre Gewichtsveränderungen sind näherungsweise Null.
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Die
prozentuale Gewichtsveränderung
der erfindungsgemäßen Komposit-Hohlfasermembran,
wie sie durch Gleichung (2) definiert wird, repräsentiert im wesentlichen eine
Gewichtsveränderung
des homogenen dünnen
Films. Falls ihr Wert im Bereich von 0 bis +30% liegt, geht die
Membran keine Bildung von kleinen Löchern aufgrund von Quellen
ein und behält
eine mechanische Festigkeit, die zur praktischen Verwendung ausreichend
ist, bei, so daß kein
Lecken der chemischen Flüssigkeit
auftritt. Wenn die prozentuale Gewichtsveränderung weniger als 0% beträgt, entspricht
dies einer nicht-wünschenswerten
Situation, in der die Membran aufgelöst wird, um kleine Löcher zu
bilden und hierdurch das Lecken der chemischen Flüssigkeit
zu verursachen. Wenn die prozentuale Gewichtsveränderung größer als +30% ist, ist der Quellgrad
der Membran so hoch, daß ihre
mechanische Stärke
verringert wird, und die Membran kann nach dem Langzeit-Entgasungsbetrieb
brechen.
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Wenn
eine chemische Flüssigkeit
entgast wird, um gelöstes
Stickstoffgas und Sauerstoffgas hieraus zu entfernen, muß der letztendliche
Entgasungsgrad allgemein so sein, daß die Konzentrationen des gelösten Stickstoffgases
und des Sauerstoffgases in der entgasten chemischen Flüssigkeit
nicht größer als
50% der Löslichkeiten
von Sauerstoff und Stickstoff bei Atmosphärendruck sind. Falls dieser
letztendliche Grad nicht erreicht wird, wird der Entgasungsgrad
unzureichend sein, weil die in der chemischen Flüssigkeit vorhandenen gelösten Gase
dazu neigen, Bläschen
zu bilden, wenn die chemische Flüssigkeit
einem anderen Vakuumschritt unterworfen wird. Insbesondere im Fall
von Tinten für
Tintenstrahldrucker kann ein besonders hoher Entgasungsgrad benötigt sein,
um den Verlust von Druckpunkten zu vermeiden. In solch einem Fall
ist es bevorzugt, daß der letztendliche
Entgasungsgrad nicht größer als
10% der Löslichkeiten
bei Atmosphärendruck ist.
Es wurde gefunden, daß die
Hohlfasermembran einen Stickstoff-Gasdurchgangsfluß von nicht
weniger als 0,5 × 10–9 cm3/(cm2·Pa·s) und
einen Sauerstoff-Gasdurchgangsfluß von nicht weniger als 0,6 × 10–9 cm3(cm2·Pa·s) aufweisen
muß, um
chemische Flüssigkeiten
zu solch einem praktisch ausreichendem Grad zu entgasen. Falls die
Sauerstoff- und Stickstoffgasdurchgangsflüsse kleiner als die vorstehend
erwähnten
Werte sind, kann der gewünschte
letztendliche Entgasungsgrad nicht erreicht werden.
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Wenn
eine Membran verwendet wird, um gelöste Gase aus einer wasserhaltigen
chemischen Flüssigkeit
zu entfernen, wird unter der Voraussetzung, daß die Membran einen hohen Wasserdampf-Gasdurchgangsfluß aufweist,
Wasserdampf, der durch die Membran gelangt ist, der Vakuumpumpe
zugeführt.
Wenn die Vakuumpumpe eine Öl-Diffusionspumpe,
eine Rotationspumpe oder dgl. umfaßt, kann das Einführen von Wasserdampf
in die Pumpe deren Versagen verursachen. Darüber hinaus ist dies auch aus
hygienischen Gesichtspunkten nicht erwünscht, da Wasserdampf, der
durch die Membran gelangt ist, auf der Sekundäroberfläche der Membran kondensiert,
und das resultierende Kondensat fördert das Wachstum von Mikroorganismen,
wie Schimmel. Daher ist eine Membran, die einen hohen Wasserdampf-Gasdurchgangsfluß aufweist, zum
Entgasen wasserhaltiger chemischer Flüssigkeiten nicht geeignet.
Als Ergebnis der Untersuchungen der vorliegenden Erfinder wurde
gefunden, daß,
um die vorstehend beschriebenen Nachteile zu vermeiden, die Membran
vorzugsweise einen Wasserdampf-Gasdurchgangsfluß von nicht mehr 1 × 10–2 g·m/(m2·Tag)
haben sollte. Der hierin verwendete Wasserdampf-Gasdurchgangsfluß ist ein
Wert, der gemäß ASTM E
96 erhalten wird, d.h., indem Luft bei 25°C und 70% relativer Luftfeuchtigkeit
zu einer Membran zugeführt
wird, die gegenüberliegende
Seite der Membran bis auf 10 KPa evakuiert wird, Wasserdampf, der
durch die Membran gelangt ist, mittels einer Kältefalle gesammelt wird, die
Menge des gesammelten Wassers auf einen Wert pro Membraneinheitsfläche pro
Tag umgewandelt wird, und dieser Wert mit der Dicke der Membran
multipliziert wird. Die Wasserdampf-Gasdurchgangsflüsse von den Materialien, die
als homogener dünner
Film bei der Durchführung
der vorliegenden Erfindung verwendet werden können und die später beschrieben
werden, sind nicht größer al 1 × 10–2 g·m/(m2·Tag).
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Die
Dicke des homogenen dünnen
Films ist im Bereich von 1 bis 10 μm. Falls die Dicke weniger als
1 μm beträgt, wird
die Membran bei der praktischen Verwendung eine unzureichende Druckbeständigkeit
aufweisen. Vorzugsweise haben die porösen Polyolefin-Substratschichten
jeweils eine Dicke von 10 bis 50 μm und
eine Porosität
von 10 bis 50 Vol.-%. Erfindungsgemäß werden eine oder mehrere
poröse
Substratschichten auf jeder Seite des homogenen dünnen Films
angeordnet. Um die mechanische Festigkeit der Membran zu erhöhen, ist
es stärker
bevorzugt, zwei oder mehr poröse
Substratschichten auf jeder Seite des homogenen dünnen Films
anzuordnen. Falls die Dicke von jeder porösen Substratschicht weniger
als 10 μm
beträgt,
wird die Membran unzureichende mechanische Festigkeit aufweisen.
Wenn die Gesamtdicke der porösen
Substratschicht, die auf jeder Seite des homogenen dünnen Films
angeordnet sind, mehr als 200 μm
beträgt,
weisen die Hohlfasern, die die Hohlfasermembran umfassen, einen
unzweckmäßig großen äußeren Durchmesser
auf, und wenn sie zu einem Modul fabriziert werden, wird die volumetrische
Effizienz der Membran unzureichend niedrig sein.
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Die
erfindungsgemäße Komposit-Hohlfasermembran
kann durch den Schritt des Durchführens von Multischicht-Kompositspinnen
und den Schritt des Ziehens der gesponnenen Faser, um sie porös zu machen, hergestellt
werden. Spezifisch wird unter Verwendung einer Spinndüse, mit
zum Beispiel einer konzentrischen Kompositstruktur, ein geschmolzenes
Polymer zur Bildung eines Substratschichtvorläufers (d.h. eine ungezogene
Schicht) zu den Teilen der äußersten
und der innersten Schicht der Düse
zugeführt,
und ein geschmolzenes Polymer zur Bildung eines homogenen Films
wird zu dem Zwischenschichtteil der Düse zugeführt. Somit werden diese geschmolzenen
Polymere durch die konzentrische Düse extrudiert und unter Luftzugs-
(drafted) Bedingungen gekühlt,
um die geschmolzenen Polymere zu verfestigen und hierdurch eine
ungezogene Hohlfaser zu bilden. Anschließend wird die ungezogene Hohlfaser
gezogen, um den Teil der äußeren Schicht hiervon
porös zu
machen. Obwohl das Zugverhältnis
gemäß der Arten
der verwendeten Polymere variieren kann, beträgt es allgemein im Bereich
von 2 bis 10, bezogen auf die Länge
der ungezogenen Faser. Wenn das Zugverhältnis weniger als 2 beträgt, wird
die Porosität
der porösen
Substratschichten niedriger als die vorstehend erwähnte untere
Grenze sein, was es schwierig macht, ausreichende Gasdurchlässigkeit
zu erhalten. Wenn das Zugverhältnis
mehr als 10 beträgt,
wird die Bruchdehnung der Komposit-Hohlfasermembran so gering sein,
daß es
zu einem Problem bei der praktischen Anwendung führt.
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Es
wurde gefunden, daß als
Material des homogenen dünnen
Films, der in der Komposit-Hohlfasermembran der vorliegenden Erfindung
enthalten ist, die folgenden zwei Arten von thermoplastischen Polymeren bevorzugt
verwendet werden können.
Diese Polymere werden nachstehend in Reihenfolge beschrieben.
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Das
erste Material, das zur Verwendung als homogener Film geeignet ist,
ist eine Polymermischung, die sich aus einem auf Styrol basierenden
thermoplastischen Elastomer und einem Polyolefin zusammensetzt. Solch
eine Polymermischung, die sich aus einem auf Styrol basierenden
thermoplastischen Elastomer und einem Polyolefin zusammensetzt,
kann zu einem homogenen dünnen
Film mit einer Dicke von nicht mehr 10 μm geformt werden, und dieser
Film weist herausragende chemische Beständigkeit gegenüber verschiedenen chemischen
Flüssigkeiten
auf und kann somit verwendet werden, um gelöste Gase zu einem praktisch
nützlichen
letztendlichen Entgasungsgrad zu entfernen. Die Gasdurchlässigkeitskoeffizienten
und Gasdurchgangsflüsse,
die unten angegeben werden, sind Werte, die durch Zuführen reinen
Sauerstoffs und Stickstoffs zu dem Film und Messen ihrer Gasdurchgangsflüsse gemäß ASTM D
1434 erhalten wurden. Die Dichte ist ein Wert, der durch Schmelzen
des Polymers bei 190°C,
Extrudieren des Polymers bei einer Belastung von 2,16 kg, um einen
Strang zu bilden, langsames Kühlen
des Polymers auf Raumtemperatur, und Vermessen dieser Probe in einer
Dichte-Gradienten-Röhre
gemäß ASTM D
1505 erhalten wurde.
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Das
auf Styrol basierende thermoplastische Elastomer, das in der vorliegenden
Erfindung verwendet wird, kann geeignet unter den folgenden zwei
Strukturen ausgewählt
werden.
- A) ein Blockcopolymer, in der die harten
Segmente ein Styrol-Polymer
umfassen und die weichen Segmente ein Polymer umfassen, das aus
zumindest einem Monomer erhalten wird, das unter Butadien, Ethylen-Butylen,
Isopren und Ethylen-Propylen ausgewählt wird.
- B) Ein statistisches Copolymer, das sich aus zwei oder mehr
Arten von Aufbaueinheiten zusammensetzt, die von Styrol und zumindest
einem von Butadien, Ethylen-Butylen, Isopren und Ethylen-Propylen
gebildet werden.
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Solche
auf Styrol basierende thermoplastische Elastomere haben Sauerstoff-
und Stickstoff-Gasdurchlässigkeitskoeffizienten
im Bereich von 0,6 × 10–13 bis
3 × 10–12 cm(STP)3cm·cm–2·s–1·Pa–1.
Um einen homogenen dünnen
Film mit den gewünschten
Sauerstoff- und Stickstoffgasdurchgangsflüssen zu erhalten, müssen sie
zu einem Film mit einer Dicke von 10 bis 1 μm geformt werden. Jedoch weisen
die auf Styrol-basierenden thermoplastischen Elastomere eine hohe
Schmelzviskosität
auf, was es schwierig macht, sie allein zur Bildung eines dünnen Films
zu verwenden. Andererseits weist eine Polymermischung, die sich
aus einem auf Styrol basierenden thermoplastischen Elastomer und
einem Polyolefin zusammensetzt (nachstehend kurz als Polyolefin/auf
Styrol basierendes thermoplastisches Elastomer bezeichnet) eine
geringere Schmelzviskosität
als das auf Styrol basierende thermoplastische Elastomer auf und
kann daher zu einem dünnen
Film geformt werden.
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Wenn
ein auf Styrol basierendes thermoplastisches Elastomer mit einem
Polyolefin schmelzvermischt wird, können die Gasdurchlässigkeitskoeffizienten
verringert sein. Jedoch wurde gefunden, daß Schmelzmischen mit einem
Polyolefin, das eine Dichte von nicht mehr als 0,900 g/cm3 aufweist, eine Polymermischung ergeben
kann, ohne eine Verringerung der Gasdurchlässigkeitskoeffizienten zu verursachen.
Die durch solches Schmelzvermischen erhaltene Polymermischung weist
Sauerstoff- und Stickstoffgasdurchlässigkeitskoeffizienten im Bereich
von 6 × 10–13 bis
3 × 10–12cm(STP)3cm·cm–2·s–1·Pa–1 auf
und kann zu einem dünnen
Film gemäß einem
Schmelzspinnverfahren geformt werden. Tatsächlich konnte ein dünner Film
mit einer Dicke von 5 bis 1 μm
erhalten werden. Dieser dünne
Film wies Sauerstoff- und Stickstoffgasdurchgangsflüsse im Bereich von
0,6 × 10–9 bis
3 × 10–8cm(STP)3cm·cm–2·s–1·Pa–1 auf
und konnte das Erfordernis erfüllen,
daß das
Verhältnis des
Sauerstoffgasdurchgangsflusses zum Stickstoff-Gasdurchgangsfluß nicht weniger als 1,1 beträgt.
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Um
chemische Beständigkeit
gegenüber
verschiedenen chemischen Flüssigkeiten
zu erhalten, ist es wirksam, eine IPN (Interpenetrating Polymer
Network)-Struktur durch Schmelzvermischen eines auf Styrol basierenden
thermoplastischen Elastomers mit einem Polyolefin herzustellen.
In dieser Struktur durchdringen sich die Molekularketten des auf
Styrol basierenden thermoplastischen Elastomers (d.h. die Molekularketten, die
einen physikalischen Vernetzungspunkt in einer Styrol-Einheit aufweisen)
und die Molekularketten des Polyolefins (d.h. die Molekularketten,
die einen physikalischen Vernetzungspunkt in einem kristallinen
Bereich aufweisen). Es wird angenommen, daß wegen dieser durchdringenden
Konfiguration der dreidimensionalen Netzwerkstruktur die Polymermischung
Lücken
(interstices) aufweist, die zwischen Molekularketten gebildet sind,
so daß Gasmoleküle hierdurch
passieren können,
während
ihre Auflösung
oder Quellung in chemischen Flüssigkeiten
unterdrückt
wird. Solch eine Struktur kann erhalten werden, wenn das Mischungsverhältnis des auf
Styrol basierenden thermoplastischen Elastomers zum Polyolefin im
Bereich von 5/95 bis 95/5 (gewichtsbezogen) liegt. Bei dieser Polymermischung
ist es bevorzugt, daß die
molekulare Kettenstruktur eine IPN-Struktur ist, obwohl dies von
der Art der zu entgasenden chemischen Flüssigkeit abhängt. Jedoch
kann die Molekularkettenstruktur der Polymermischung zu einer Nicht-IPN-Struktur
verändert
werden, wenn die Gasdurchlässigkeit
wichtiger als die chemische Beständigkeit
ist.
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Obwohl
der erfindungsgemäße dünne Film
aus der Polymermischung eine herausragende chemische Beständigkeit
wegen seiner oben beschriebenen Struktur aufweist, ist seine chemische
Beständigkeit
in bezug auf Lösungsmittel
(z.B. Kohlenwasserstoffe), die eine hohe Auflösungskraft für das auf
Styrol basierende thermoplastische Elastomer besitzen, schlecht.
Jedoch ist seine chemische Beständigkeit
für Ether,
Ketone und Alkohole herausragend, und es besteht keine Gefahr, daß kleine
Löcher
während
der Verwendung in praktischen Anwendungen produziert werden.
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Wenn
das vorstehend erwähnte
Blockcopolymer (A) als auf Styrol-basierendes thermoplastisches Elastomer
verwendet wird, ist die Temperaturabhängigkeit des Speicherelastizitätsmoduls
dieses Blockcopolymers so, daß der
Glasübergang,
der auf der strukturellen Relaxation von Styrolsegmenten basiert,
in der Nähe
von 100°C
beobachtet wird, und daß der
Glasübergang,
der auf der strukturellen Relaxation von weichen Segmenten basiert,
in der Nähe
von –50
bis –70°C beobachtet
wird. Andererseits ist die Temperaturabhängigkeit des Speicherelastizitätsmoduls
des statistischen Copolymers (B) so, daß keine klare Glasübergangstemperatur
beobachtet wird. In dem Temperaturbereich von –50 bis 50°C ist dieses statistische Copolymer
flexibler als das vorstehend erwähnte
Blockcopolymer (A), und dasselbe trifft auf dünne Filme zu. Jedoch weist
dieses statistische Copolymer keine Domänenstruktur auf, die Styrolsegmente
mit einem wohldefinierten Vernetzungspunkt umfaßt, und daher ist es bezüglich der
Beständigkeit
gegenüber
Brechen durch externen Druck etwas unterlegen.
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Jedoch
ist bei jedem von (A) oder (B) die Temperaturabhängigkeit des Elastizitätsmoduls
im Temperaturbereich von –50
bis 50°C,
bei der die Entgasungsoperation zum Entfernen gelöster Gase
durchgeführt wird,
gering, wenn die Dicke des dünnen
Films im Bereich von 5 bis 1,0 μm
liegt. Somit weist der dünne
Film Flexibilität über einen
weiten Temperaturbereich auf, besitzt eine praktisch ausreichende
Bruchfestigkeit gegenüber
externem Druck, und ist daher zur Verwendung als dünner Film
für Entgasungszwecke
geeignet.
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Darüber hinaus
weist der homogene dünne
Film, der das "Polyolefin/auf
Styrol basierendes thermoplastisches Elastomer" umfaßt, auch eine geringe Wasserdampfdurchlässigkeit
auf und ist daher dahingehend herausragend, daß die auf eine an die Sekundärseite der
Membran angeschlossene Vakuumpumpe ausgeübte Belastung verringert ist,
wenn es zum Entfernen gelöster
Gase aus einer wasserhaltigen chemischen Flüssigkeit verwendet wird.
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Spezifische
Beispiele des auf Styrol basierenden thermoplastischen Elastomers
umfassen Kraton, käuflich
erhältlich
von Shell Chemical Co. (USA), welches ein Blockcopolymer ist, das
harte Segmente, die aus einem Styrol-Polymer gebildet sind, und weiche Segmente,
die aus einem Butadien-Polymer oder einem Ethylen-Butylen-Copolymer
gebildet sind, aufweist; und Califlex TR, käuflich erhältlich von der gleichen Firma,
welches ein Blockcopolymer ist, das weiche Segmente aufweist, die
aus Isopren oder Ethylen-Propylen
gebildet sind. Spezifische Beispiele des statistischen Copolymers
umfassen HSBR1320P und HSBR1320P (hergestellt von Japan Synthetic
Rubber Co., Ltd.), die statistische Copolymere von Styrol und Ethylen-Butylen
sind.
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Andererseits
weist das Polyolefin vorzugsweise eine Dichte von nicht mehr als
0,900 g/cm3 auf. Spezifische Beispiele solcher
Polyolefine umfassen ataktisches Polypropylen, Polyethylen geringer
Dichte, Ethylen-Propylen-Copolymere und Ethylen-Octen-Copolymere
(z.B. ist eines unter dem Handelsnamen "ENGAGE" käuflich
von Du Pont-Dow Elastomer Co. erhältlich).
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Das
vorstehend beschriebene auf Styrol basierende thermoplastische Elastomer
und Polypropylen werden mittels eines Doppelschneckenextruders schmelzvermischt.
Die extrudierten Stränge
werden durch Abkühlen
verfestigt und dann pelletiert, um ein Harzmaterial zur Bildung
eines homogenen dünnen
Films zu erhalten. Kommerziell erhältliche Polymermischungen,
die sich aus einem auf Styrol basierenden thermoplastischen Elastomer
und einem Polyolefin zusammensetzen, umfassen zum Beispiel DYNARON
H4800N und DYNARON H4900N [hergestellt von Japan Synthetic Rubber
Co., Ltd. (JSR Co.)]; und MK-Harze wie zum Beispiel MK-1, MK-2,
MK-3 und MK-5 (hergestellt von Dai Nippon Plastics Co., Ltd.).
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In
diesem Fall kann das Material zur Verwendung als poröse Substratschichten
geeignet unter hochdichtem Polyethylen, isotaktischen Polypropylen,
Polyoxymethylen, hochkristallinem Poly(4-methylpenten-1) und dgl.
ausgewählt
werden.
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Ein
zweites Material, das zur Verwendung als homogener Film geeignet
ist, ist ein thermoplastisches Elastomer vom Polyolefin-Typ. Das
thermoplastische Elastomer vom Polyolefin-Typ, wie es hierin verwendet wird,
ist ein Copolymer, das sich vollständig aus Polyolefinen zusammensetzt.
Solche Copolymere umfassen Copolymere, die sich aus Ethylen oder
Propylen und einem höheren
Olefin zusammensetzen, wie ein Ethylen-Octen-Copolymer, ein Propylen-Octen-Copolymer
und ein Ethylen-Propylen-Copolymer. Um einen dünnen Film mit hoher Gasdurchlässigkeit
zu erhalten, ist es geeignet, solch ein Polymer mit einer Dichte
von nicht mehr als 0,900 g/cm3 bei 25°C zu verwenden.
Spezifische Beispiele des thermoplastischen Elastomers vom Polyolefin-Typ
umfassen käuflich
erhältliche
Polymere wie Toughmer XR106L und XR107L (Propyl-α-Olefin-Copolymer) und PO680
(Ethylen-α-Olefin-Copolymer),
hergestellt von Mitsui Chemical Co., Ltd. In diesem Fall kann das
Material zur Bildung der porösen
Substratschichten geeignet unter hochdichtem Polyethylen, Polypropylen
mit hoher Stereoregularität,
Polyoxymethylen und dgl. ausgewählt
werden.
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Bei
den vorstehend beschriebenen Polymermaterialien, die sich aus einem
auf Styrol basierenden thermoplastischen Elastomer und einem Polyolefin
zusammensetzen, liegt der Glasübergangsbereich
der weichen Segmente im Bereich von 50 bis +5°C, oder es ist kein wohldefinierter
Glasübergangsbereich
vorhanden.
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Bei
den thermoplastischen Elastomeren vom Polyolefin-Typ liegt der Glasübergangsbereich
im Bereich von –70
bis –10°C. Somit
liegt der Glasübergangsbereich
in einem so niedrigen Temperaturbereich, daß der homogene Film nicht leicht
bricht, sogar wenn wasserhaltige chemische Flüssigkeiten bei niedriger Temperatur
entgast werden.
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Die
chemischen Flüssigkeiten,
die durch Verwendung der erfindungsgemäßen Komposit-Hohlfasermembran
entgast werden sollen, umfassen organische Lösemittel wie Methanol, Ethanol,
Isopropylalkohol, Butanol, Methylethylketon, Ethylcellosolv, Ethyllactat
und Propylenglykolmonomethyletheracetat; Positiv-Photolacklösungen vom chemischen Verstärkungstyp;
positive Photolacke vom Naphthochinondiazid-Typ; eine Halbleiter-Entwicklerlösung, die
Tetramethylammoniumhydroxid, aufgelöst in Wasser, umfaßt; auf
Farbstoff basierende Tinten für
Tintenstrahldrucker; auf Pigmenten basierende Tinten für Tintenstrahldrucker;
und Flüssigkristalle.
Die Positiv-Photolacklösungen vom
chemischen Verstärkungstyp
sind Lösungen,
die durch Auflösen
eines Methacrylatharzes mit alicyclischen Adamantyl-Gruppen und
cyclischen Keton(oxocyclohexyl)-Gruppen als Seitenketten, eines
Copolymers von Mevalolactonmethacrylat und Methyladamantylmethacrylat
oder dgl. in Ethyllactat und Propylenglykolmonomethyletheracetat
hergestellt werden. Die Positiv-Photolacke vom Naphthochinondiazid-Typ
sind Lösungen,
die durch Auflösen
eines auf Naphthochinondiazid-basierenden Polymers in Ethyllactat
und Propylenglykolmonomethyletheracetat hergestellt werden. Die Tinten
für Tintenstrahldrucker
sind Lösungen,
die durch Auflösen
eines Farbstoffs oder Pigments in einer Lösungsmittelmischung hergestellt
werden, die sich aus Wasser, Ethylenglykol, Isopropylalkohol, Methylethylketon
und dgl. zusammensetzt. Die Flüssigkristalle
umfassen cholesterische Flüssigkristalle,
und ein spezifisches Beispiel hiervon ist Cholesterinchloridcholesterinnonanoat.
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Die
Löslichkeiten
von Sauerstoff und Stickstoff in verschiedenen chemischen Flüssigkeiten,
wie sie oben beschrieben sind, sind in Tabelle 1 gezeigt. Die in
dieser Tabelle gezeigten Daten basieren auf Werten, die in "Kagaku Benran" (Maruzen) beschrieben
sind und auf Werten, die von den Erfindern gemessen wurden. Die
Messungen wurden mittels Gaschromtographie durchgeführt. Die
gelösten
Gaskonzentrationen, die in den hierin gegebenen Beispielen beschrieben
sind, wurden auch durch Gaschromatographie gemessen.
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-
-
Das
Entgasen einer chemischen Flüssigkeit
durch Verwenden der erfindungsgemäßen Komposit-Hohlfasermembran
wird gewöhnlich
mittels eines Hohlfasermembranmoduls durchgeführt, das aus dieser Komposit-Hohlfasermembran
gebildet ist. Das Hohlfasermembranmodul kann zum Beispiel durch
Einführen eines
Bündels
von mehreren hundert Hohlfasern in ein zylindrisches Gehäuse und
Füllen
des Raums zwischen benachbarten Hohlfasern mit einem Versiegelungsmaterial
hergestellt werden, wobei es dem Versiegelungsmaterial ermöglicht wird,
in die Poren der äußeren porösen Schicht
der Komposit-Hohlfasermembran einzudringen.
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Ein
beispielhaftes Verfahren zum Entgasen einer chemischen Flüssigkeit
wird unter Bezugnahme auf 2 spezifisch
beschrieben. Eine chemische Flüssigkeit 4,
die in einem chemischen Flüssigkeitstank 3 gelagert
ist, wird durch Zuführen
von Stickstoffgas 20 durch ein Stickstoff-Zuführrohr 5 unter
Druck gesetzt. Somit wird unter Verwendung des Stickstoffgasdrucks
als Antriebskraft die chemische Flüssigkeit zu einem Hohlfasermembranmodul 10 durch
ein chemisches Flüssigkeitszuführrohr 6 zugeführt. Während dieses
Prozesses sind die Ventile 9 und 15 geöffnet, und
die Ventile 8 und 17 sind geschlossen. Das Ventil 16 wird
geöffnet,
bis die chemische Flüssigkeit
zu fließen
beginnt und das Hohlfasermembranmodul füllt, und wird geschlossen,
sobald die chemische Flüssigkeit
aus dem Nebenrohr 14 läuft.
Innerhalb des Hohlfasermembranmoduls wird die chemische Flüssigkeit
zu den Öffnungen
der Hohlfaser 11 zugeführt
und für
eine vorbestimmte Zeitspanne durch Evakuieren des Äußeren der
Hohlfasermembran auf einen Druck von 100 Pa bis 10 KPa mittels einer Vakuumpumpe
entgast. Nach Vollendung des Entgasens wird das Ventil 17 geöffnet, um
frische chemische Flüssigkeit
zu dem Hohlfasermembranmodul zuzuführen, während die entgaste chemische
Flüssigkeit
aus einer chemischen Flüssigkeitsdüse 19 ausgelassen
wird. Die entgaste chemische Flüssigkeit
wird zu einem Verwendungspunkt zugeführt. Obwohl die chemische Flüssigkeit
in diesem Fall zu der Öffnungsseite
(boreside) der Hohlfasermembran zugeführt wird, kann die chemische
Flüssigkeit
durch Zuführen
zu dem Äußeren der Hohlfasermembran
entgast werden.
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Die
vorliegende Erfindung wird spezifischer unter Bezug auf die folgenden
Beispiele beschrieben.
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Beispiel 1
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10
Gew.% Kraton G-1652 und 80 Gew.% Kraton G-1657 (beide hergestellt
von Shell Chemical Co.) wurden als auf Styrol basierende thermoplastische
Elastomere verwendet und 10% ENGAGE 8400 (hergestellt von Du Pont-Dow
Elastomer Co., Dichte = 0,870 g/cm3) wurde
als Polyolefin verwendet. Diese Polymere wurden ausgewogen und mittels
einer biaxialen Knetmaschine schmelzvermischt. Dann wurde eine Komposit-Hohlfaser durch Durchführen von
Dreischicht-Kompositspinnen durch eine Dreischicht-Komposit-Düse durchgeführt, wobei
das schmelzgemischte Polymer [Glasübergangstemperatur (Tg) = –45°C] zu dessen
Zwischenschicht zugeführt
wurde und hochdichtes Polyethylen B161 (hergestellt von Asahi Chemical
Industry Co., Ltd.) zu den innersten und äußersten Schichten hiervon zugeführt wurde.
Diese Hohlfaser wurde bei 115°C
für 12
Stunden abgekühlt,
bei Raumtemperatur mit einem Faktor von 1,3 gezogen und dann bei
111°C um
einen Faktor 5 gezogen. Somit wurde eine Dreischicht-Komposit-Hohlfasermembran
erhalten, in der die innersten und äußersten Schichten poröses Polyethylen
umfaßten
und die Zwischenschicht einen homogenen dünnen Film der Polymermischung
umfaßte,
die sich aus dem auf Styrol basierenden thermoplastischen Elastomeren
und dem Polyolefin zusammensetzte. Die Dimensionen, Porosität, Gasdurchgangseigenschaften
und chemische Beständigkeit
dieser Hohlfasermembran wurden getestet, und die so erhaltenen Ergebnisse
sind in Tabelle 2 gezeigt. Der Wasserdampf-Gasdurchgangsfluß dieser
Hohlfasermembran betrug 1,5 × 10–3 g·m/(m2·Tag).
-
Beispiel 2 (Referenzbeispiel
- nicht von der Erfindung umfaßt)
-
Eine
Dreischicht-Komposit-Hohlfaser wurde durch Schmelzspinnen durch
eine Dreischicht-Kompositdüse
gebildet, wobei Teflon AF1600 [ein Copolymer von (2,2-Bistrifluormethyl-4,5-difluor-1,3-dioxol)
und Tetrafluorethylen in einem Copolymerisationsverhältnis von
60/40 (mol%), hergestellt von E.I. Du Pont de Nemours & Co., Inc.; Glasübergangstemperatur
(Tg) = 160°C]
zu dessen Zwischenschicht bei einer Harztemperatur von 270°C zugeführt wurde
und Poly(4-methylpenten-1) (hergestellt von Mitsui Chemical Co.,
Ltd.) zu den innersten und äußersten
Schichten hiervon bei einer Harztemperatur von 270°C zugeführt wurden.
Diese Hohlfaser wurde bei 220°C
für 12
Stunden abgekühlt,
bei Raumtemperatur um einen Faktor von 1,3 gezogen, und dann bei
111°C um
einen Faktor 3 gezogen. So wurde eine Dreischicht-Komposit-Hohlfasermembran
erhalten, in der die innersten und äußersten Schichten poröses Poly(4-methylpenten-1)
umfaßten
und die Zwischenschicht einen homogenen dünnen Film von Teflon AF1600
umfaßte.
Die Dimensionen, Porosität,
Gasdurchgangseigenschaften und chemische Beständigkeit der Hohlfasermembran
wurden getestet, und die so erhaltenen Ergebnisse sind in Tabelle
2 gezeigt. Der Wasserdampf-Gasdurchgangsfluß dieser
Hohlfasermembran betrug 7,3 × 10–2 g·m/(m2·Tag).
-
Beispiel 3 (Referenzbeispiel – nicht
von der Erfindung umfaßt)
-
Eine
Hohlfaser wurde durch Kompositspinnen durch eine Dreischicht-Kompositdüse gebildet,
wobei ein fluorhaltiges thermoplastische Elastomer (Daiel Thermoplastic
T-630, hergestellt von Daikin Industries, ltd.; Glasübergangstemperatur
(Tg) = –10°C) zu dessen
Zwischenschicht bei einer Harztemperatur von 200°C zugeführt wurde und hochstereoreguläres isotaktisches
Polypropylen [Hipol CJ700 (Warenname), hergestellt von Mitsui Chemical
Co., Ltd.] zu den innersten und äußersten
Schichten hiervon bei einer Harztemperatur von 200°C zugeführt wurde.
Diese Hohlfaser wurde bei 150°C
für 12
Stunden abgekühlt,
bei Raumtemperatur um einen Faktor 1,3 gezogen und dann bei 145°C um einen
Faktor 3 gezogen. Somit wurde eine Dreischicht-Komposit-Hohlfasermembran erhalten,
in der die innersten und äußersten
Schichten poröses
isotaktisches Polypropylen umfaßten
und die Zwischenschicht einen homogenen dünnen Film des fluorhaltigen
thermoplastischen Elastomers umfaßten. Die Dimensionen, Porosität, Gasdurchgangseigenschaften
und chemische Beständigkeit
dieser Hohlfasermembran wurden getestet, und die so erhaltenen Ergebnisse
sind in Tabelle 2 gezeigt. Der Wasserdampf-Durchgangsfluß dieser
Hohlfasermembran betrug 1,9 × 10–3 g·m/(m2·Tag).
-
Beispiel 4 (Referenzbeispiel – nicht
von der Erfindung umfaßt)
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Es
wurde eine Hohlfaser durch Schmelzspinnen durch eine Dreischicht-Kompositdüse gebildet,
wobei niedrigkristallines Poly(4-methylpenten-1) [MX001, hergestellt
von Mitsui Chemical Co., Ltd.; Glasübergangstemperatur (Tg) = 30°C] zu dessen
Zwischenschicht bei 250°C
zugeführt
wurde und hochkristallines Poly(4-methylpenten-1) (RT31, hergestellt
von Mitsui Chemical Co., Ltd.) zu den innersten und äußersten
Schichten hiervon bei 250°C
zugeführt
wurde. Diese Holfaser wurde bei 210°C für 12 Stunden abgekühlt, bei
Raumtemperatur um einen Faktor 1,3 gezogen und dann bei 200°C um einen
Faktor 5 gezogen. Somit wurde eine Dreischicht-Komposit-Hohlfasermembran
erhalten, in der die innersten und äußersten Schichten poröses Poly(4-methylpenten-1)
umfaßten
und die Zwischenschicht einen homogenen Film von Poly(4-methylpenten-1) umfaßte. Die
Dimensionen, Porosität,
Gasdurchgangseigenschaften und chemische Beständigkeit dieser Hohlfasermembran
wurden getestet, und die so erhaltenen Ergebnisse sind in Tabelle
2 gezeigt. Der Wasserdampf-Durchgangsfluß dieser
Hohlfasermembran betrug 3,3 × 10–3 g·m/(m2·Tag).
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Beispiel 5
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Es
wurde eine Hohlfaser durch Kompositspinnen durch eine Dreischicht-Kompositdüse gebildet,
wobei ein thermoplastisches Elastomer vom Polyolefin-Typ (Toughmer
XR106L, hergestellt von Mitsui Chemical Co., Ltd.; Glasübergangstemperatur
(Tg) = –60°C) zu der
Zwischenschicht bei 190°C
zugeführt
wurde und hoch-stereoreguläres
isotaktisches Polypropylen [Hipol CJ700 (Handelsname)] zu den innersten
und äußersten
Schichten hiervon bei 190°C
zugeführt
wurde. Diese Hohlfaser wurde bei 150°C für 12 Stunden abgekühlt, bei
Raumtemperatur um einen Faktor von 1,3 gezogen, und dann bei 140°C um einen
Faktor 3 gezogen. Somit wurde eine Dreischicht-Komposit-Hohlfasermembran
erhalten, in der die innersten und äußersten Schichten poröses isotaktisches
Polypropylen umfaßten
und die Zwischenschicht einen homogenen dünnen Film des thermoplastischen
Elastomers vom Polyolefin-Typ umfaßten. Die Dimensionen, Porosität, Gasdurchgangseigenschaften
und chemische Beständigkeit
dieser Hohlfasermembran wurden getestet, und die so erhaltenen Ergebnisse
sind in Tabelle 2 gezeigt. Der Wasserdampf-Durchgangsfluß dieser Hohlfasermembran betrug
3,1 × 10–3 g·m/(m2·Tag).
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Beispiel 6
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(Entgasungsbehandlung
eines Halbleiter-Photolacks und Auftragung der Lacklösung)
-
Es
wurden Hohlfasermembranmodule (mit einer Membranfläche von
2,5 m2) unter Verwendung der in Beispielen
1 bis 5 hergestellten Hohlfasermembranen hergestellt. Jedes von
ihnen wurde in der in 2 veranschaulichten chemischen
Flüssigkeit-Zuführleitung
installiert. Durch Öffnen
der Ventile 9, 15 und 16 wurde die positive
Lacklösung
vom chemischen Verstärkungstyp
APEX-E2405 (hergestellt von SHIPLEY Inc.) innerhalb des chemischen
Flüssigkeitstanks
zu den Öffnungen
(bores) der Hohlfasern in dem Hohlfasermembranmodul 11 unter
Zuhilfenahme von Stickstoffgas mit einem Druck von 2 Atmosphären zugeführt. Nachdem
die Hohlfasern mit der chemischen Flüssigkeit 16 gefüllt waren,
wurde das Ventil 16 geschlossen und die Lacklösung wurde
durch Halten der Außenseite
der Hohlfasermembran bei 100 Pa für 30 Minuten entgast. Eine
Probe der entgasten Lacklösung
wurde durch das Nebenrohr 14 der chemischen Flüssigkeits-Zuführleitung
gesammelt und bezüglich
der gelösten
Stickstoffkonzentration analysiert.
-
Dann
wurde das Ventil 17 geöffnet,
um die entgaste Lacklösung
auf einen Silicium-Wafer zu tropfen, wobei frische Lacklösung zu
dem Hohlfasermembranmodul zugeführt
wurde. Der Wafer wurde auf einem Rotationsbeschichter mit einer
Umdrehungsgeschwindigkeit von 3000 Umdrehungen/Minute gedreht, um
die aufgetropfte Lacklösung
zu verteilen und hierdurch einen dünnen Lackfilm (mit einer Dicke
von 0,8 μm)
auf dem Wafer zu bilden. Nachdem der dünne Lackfilm getrocknet worden
war, um jegliches Restlösungsmittel
zu verdampfen, wurde ein 100 μm × 100 μm großer Bereich
der Oberfläche
des dünnen
Lackfilms mit einem Raster-Elektronenmikroskop
beobachtet und hierdurch bezüglich
der Gegenwart von Defekten untersucht, von denen angenommen wird,
daß sie
Unregelmäßigkeiten
sind, die durch Gasbläschen
verursacht werden. Die Bewertungsergebnisse sind in Tabelle 3 gezeigt.
-
Beispiel 7
-
(Belichtung des Halbleiter-Photolacks,
Entgasungsbehandlung der Entwicklerlösung und Entwicklung)
-
Der
in Beispiel 6 erhaltene dünne
Lackfilm wurde bei 90°C
für 60
Sekunden vorgebacken und mit Licht eines KrF-Exzimerlasers durch
eine Photomaske belichtet, die in Kontakt mit dem Lackfilm plaziert
worden war.
-
Es
wurden Hohlfasermembranmodule (mit einer Membranfläche von
2,5 m2) unter Verwendung der in den Beispielen
1 bis 5 hergestellten Hohlfasermembranen hergestellt. Jedes von
ihnen wurde in der Entwicklerlösung-Zuführleitung
eines Beschichtungsentwicklers (coater-developer) zur Verwendung
bei der Halbleiterherstellung installiert, die eine chemische Flüssigkeit-Zuführleitung ähnlich zu
der von 2 war. Dann wurde unter Verwendung
von Stickstoffgas mit einem Druck von 2 Atmosphären eine Entwicklerlösung (MF-321,
hergestellt von SHIPLEY Inc.; eine wäßrige Lösung von Tetramethylammoniumhydroxid
mit einer Stickstoffkonzentration von 50 ppm) zu den Öffnungen
der Hohlfasern mit einer Flußrate
von 1 l/min zugeführt.
Nachdem die Öffnungen
der Hohlfasern mit der Entwicklerlösung gefüllt worden waren, wurde durch
Halten der Außenseite
der Hohlfasermembran bei 100 Pa für 30 Minuten entgast.
-
Nach
Vollendung des Entgasens wurden die entgaste Entwicklerlösung aus
der Auslaßdüse auf die belichtete
Oberfläche
getropft, um sie zu entwickeln. Eine Probe der entgasten Entwicklerlösung wurde
durch die Nebenleitung gesammelt und bezüglich der gelösten Stickstoffkonzentration
analysiert. Nachdem der Lackfilm, der aus der Entwicklung resultiert,
in einem Trockenofen bei 120°C
nachgebacken worden war, wurde ein 100 μm × 100 μm großer Bereich der entwickelten
Oberfläche
mit einem Rasterelektronenmikroskop beobachtet und hierdurch bezüglich der
Riefenbreite 21, der Landbreite 22, der Riefentiefe 23 (siehe 3) und
der Gegenwart von Defekten, die durch die Entwicklung verursacht
wurden, untersucht. Die Bewertungsergebnisse sind in Tabelle 4 gezeigt.
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Beispiel 8
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(Entgasungsbehandlung
von Isopropylalkohol)
-
Es
wurden Membranmodule (mit einer Membranfläche von 2,5 m2)
unter Verwendung der in den Beispielen 1 bis 5 hergestellten Hohlfasermembranen
hergestellt. Jedes von ihnen wurde in einer chemischen Flüssigkeit-Zuführleitung, ähnlich zu
der in 2 veranschaulichten, installiert. Dann wurde unter
Verwendung von Stickstoffgas mit einem Druck von 2 Atmosphären Isopropylalkohol
auf die gleiche Weise wie in Beispiel 6 zu dem Hohlfasermembranmodul
zugeführt.
Nachdem die Öffnungen
der Hohlfasern mit Isopropylalkohol gefüllt waren, wurde es durch Halten
der Außenseite
der Hohlfasermembran bei 100 Pa für 30 Minuten entgast. Nach
Vollendung des Entgasens wurden der entgaste Isopropylalkohol aus
der Auslaßdüse auf einen Siliciumwafer
getropft, um ihn zu reinigen, und zur gleichen Zeit wurde frischer
Isopropylalkohol zu dem Membranmodul zugeführt. Es wurde eine Probe des
entgasten Isopropylalkohols durch die Nebenleitung gesammelt und
bezüglich
der gelösten
Stickstoffkonzentration analysiert. Die Bewertungsergebnisse sind
in Tabelle 5 gezeigt.
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Beispiel 9
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(Entgasungsbehandlung
der Spin-on-Glas-Lösung)
-
Es
wurden Membranmodule (mit einer Membranfläche von 2,5 m2)
unter Verwendung der in den Beispielen 1 bis 5 hergestellten Hohlfasermembranen
hergestellt. Jedes von ihnen wurde in eine chemische Flüssigkeit-Zuführleitung, ähnlich zu
der in 2 veranschaulichten, installiert. Dann wurde unter
Verwendung von Stickstoffgas mit einem Druck von 2 Atmosphären eine
Spin-on-Glas-Lösung
(die sich aus 70 Gew.% Isopropylalkohol, 2 Gew.% Tetraethoxysilan
und 28 Gew.% Wasser zusammensetzt) zu dem Hohlfasermembranmodul
auf die gleiche Weise wie in Beispiel 6 zugeführt. Nachdem die Öffnungen
der Hohlfasern mit der Spin-on-Glas-Lösung gefüllt waren, wurde entgast, indem
die Außenseite
der Hohlfasermembran bei 100 Pa für 30 Minuten gehalten wurde.
Nach Vollendung des Entgasens wurden die Ventile 9 und 15 geöffnet, um
die entgaste Spin-on-Glas-Lösung
aus der Auslaßdüse auf einen
Silicium-Wafer zu tropfen, um einen isolierenden Film hierauf zu
bilden, wobei frische Spin-on-Glas-Lösung zu
dem Hohlfasermembranmodul zugeführt
wurde. Eine Probe der entgasten Spin-on-Glas-Lösung wurde durch die Nebenleitung 14 der
chemische Flüssigkeit-Zuführleitung,
illustriert in 2 gesammelt, und bezüglich der
gelösten
Stickstoffkonzentration analysiert. Nachdem der wie oben hergestellte
isolierende Film in einem Trockenofen bei 150°C erwärmt wurde, um so das Fortschreiten
der Kondensationsreaktion zu verursachen, wurde ein 100 μm × 100 μm großer Bereich
der Oberfläche
des isolierenden Films mit einem Raster-Elektronenmikroskop beobachtet
und hierdurch bezüglich des
Vorhandenseins von Defekten untersucht. Die Bewertungsergebnisse
sind in Tabelle 6 gezeigt.
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Beispiel 10
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(Entgasungsbehandlung
von Tinte für
Tintenstrahldrucker, und Drucktests mit entgaster Tinte)
-
Es
wurden Membranmodule (mit einer Membranfläche von 2,5 m2)
unter Verwendung der in den Beispielen 1 bis 5 hergestellten Hohlfasermembranen
hergestellt. Es wurden 5 Module von jedem Typ in Serie verbunden,
und diese Anordnung von Hohlfasermembranen wurde in eine chemische
Flüssigkeit-Zuführleitung ähnlich zu
der in 2 veranschaulichten installiert. Während sie
bei einem Luftdruck von 2 Atmosphären unter Druck gesetzt wurde,
wurde eine Tinte für
Tintenstrahldruckerpatronen (eine auf Farbstoff basierende Tinte,
die ein Lösungsmittel
enthält,
das sich aus 80 Gew.% Wasser, 5 Gew.% Ethylenglykol und 15 Gew.% Isopropylalkohol
zusammensetzt) zu dem Inneren der Hohlfasermembran mit einer Flußrate von
100 ml/min zugeführt.
Dann wurde die Tinte auf die gleiche Weise wie in Beispiel 6 entgast,
das heißt
durch Halten der Außenseite
der Hohlfasermembran bei 100 Pa für 30 Minuten. Eine Probe der
entgasten Tinte, die durch die fünf
Module gelangt war, wurde durch die in 2 gezeigte
Nebenleitung 14 gesammelt und bezüglich der gelösten Sauerstoff-
und Stickstoffkonzentrationen analysiert. Dann wurde die entgaste
Tinte aus der in 2 gezeigten Düse ausgelassen
und in ein Gefäß einer
Tintenpatrone eingebracht (indem der Innenraum evakuiert wurde und
bei 100 Pa gehalten wurde). Diese Patrone wurde auf einem Tintenstrahldrucker
PM700C (hergestellt von Seiko Epson Corp.) montiert und einem Drucktest
unterzogen. In diesem Test wurde die Häufigkeit von Druckpunktverlusten
als relativer Anteil des Bereichs ungedruckter Punkte zum Gesamtbereich
von Druckpunkten ausgedrückt.
Wenn die Häufigkeit
der Druckpunktverluste weniger als 1% beträgt, weist der Ausdruck wenige
Druckpunktverluste auf und wird durch das bloße Auge als Hochqualitätsdruck
wahrgenommen. Die Bewertungsergebnisse sind in Tabelle 7 gezeigt.
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Beispiel 11
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In
diesem Beispiel wurde Cholesterinchloridcholesterinnonanoat (cholesterischer
Flüssigkristall)
als chemische Flüssigkeit
verwendet. Es wurden Membranmodule (mit einer Membranfläche von
2,5 m2) unter Verwendung der in den Beispielen
1 bis 5 hergestellten Hohlfasermembranen hergestellt, und jedes
von ihnen wurde verwendet, um die Entgasung durchzuführen. Die
chemische Flüssigkeit
wurde zugeführt
und mittels einer Vorrichtung entgast, die ähnlich zu der in Beispiel 6
beschriebenen ist. Im spezifischen wurde die chemische Flüssigkeit
unter Druck durch Hilfe von Stickstoffgas (2 Atmosphären) zugeführt, der
Innenseite der Hohlfasermembran mit einer Flußrate von 1 l/Minute zugeführt, und
entgast, indem die Außenseite
der Hohlfasermembran bei 100 Pa für 30 Minuten gehalten wurde.
Der Flüssigkristall
wurde bezüglich
der Stickstoffkonzentration vor und nach dem Entgasen analysiert,
und der entgaste Flüssigkristall
wurde in einem Flüssigkristall-Versiegelungsprozeß bewertet.
Die Bewertungsergebnisse sind in Tabelle 8 gezeigt.
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Beispiel 12
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10
Gew.% Kraton G-1652 und 80 Gew.% Kraton G-1657 (beide hergestellt
von Shell Chemical Co.) wurden als auf Styrol basierende thermoplastische
Elastomere verwendet, und 10 Gew.% ENGAGE 8400 (hergestellt von
Du Pont-Dow Elastomer Co.; Dichte = 0,870 g/cm3)
wurde als Polyolefin verwendet. Diese Polymere wurden ausgewogen
und mittels einer biaxialen Knetmaschine schmelzvermischt. Dann
wurde eine Hohlfaser durch Schmelzspinnen in einer Dreischicht-Konfiguration
gebildet, bei der das resultierende modifizierte thermoplastische
Elastomer [Glasübergangstemperatur
(Tg) = –45°C] in der
Zwischenschicht angeordnet war und hochdichtes Polyethylen B161
(hergestellt von Asahi Chemical Industry Co., Ltd.) in den innersten und äußersten
Schichten angeordnet war. Diese Hohlfaser wurde bei 115°C für 12 Stunden
abgekühlt,
bei Raumtemperatur um einen Faktor 1,3 gezogen, und dann bei 111°C um einen
Faktor 5 gezogen. Somit wurde eine Dreischicht-Komposit-Hohlfasermembran
(mit einem Innendurchmesser von 300 μm und einem Außendurchmesser
von 420 μm)
erhalten, in der die innersten und äußersten Schichten poröses Polyethylen
umfaßten,
und die Zwischenschicht einen homogenen dünnen Film der Polymermischung
umfaßte,
die sich aus auf Styrol basierenden thermoplastischen Elastomeren
und dem Polyolefin zusammensetzte. Die porösen Schichten (d.h. die innersten
und äußersten
Schichten) hatten beide eine Dicke von 30 μm und eine Porosität von 50 Vol.-%.
Die Schicht des homogenen dünnen
Films hatte eine Dicke von 0,8 μm.
Diese Hohlfasermembran wies einen Sauerstoff-Gasdurchgangsfluß von 6,0 × 10–9 cm3·cm–2·s–1·Pa–1 und
einen Stickstoff-Gasdurchgangsfluß von 4,6 × 10–9 cm3·cm–2·s–1·Pa–1 auf.
Wenn diese Hohlfasermembran in eine 50/50 (Gew.%)-Mischung von Wasser
und Isopropylalkohol (IPA) bei 20°C
für 7 Tage
auf die gleiche Weise, wie es im Zusammenhang mit Tabelle 1 beschrieben
ist, eingetaucht wurde, betrugen ihre Sauerstoff- und Stickstoffgasdurchgangsflüsse 6,0 × 10–9 cm3·cm–2·s–1·Pa–1 bzw.
4,6 × 10–9 cm3·cm–2·s–1·Pa–1,
und die Hohlfasermembran behielt ihren Anfangszustand bei. Die prozentuale
Gewichtsveränderung
der Membran betrug auch Null. Es wurden insgesamt 5000 Dreischicht-Hohlfasern
wie oben beschrieben zusammengebunden, um ein Hohlfaserbündel herzustellen,
und es wurde eine 50/50 (Gew.%)-Mischung von Wasser und IPA mit
einer gelösten
Sauerstoffkonzentration von 8 ppm entgast, indem es zum Inneren
der Hohlfasermembran mit einer Flußrate von 5 l/min zugeführt wurde, und
die Außenseite
der Hohlfasermembran bei 30 Torr gehalten wurde. Die gelöste Sauerstoffkonzentration nach
dem Entgasen betrug 0,1 ppm. Der Wasserdampf-Gasdurchgangsfluß dieser
Hohlfasermembran betrug 1,9 × 10–3 g·m/(m2·Tag).
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Beispiel 13
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Es
wurden insgesamt 2500 Dreischicht-Hohlfasern, wie sie in Beispiel
8 beschrieben sind, zusammengebunden, um ein Hohlfaserbündel herzustellen,
und es wurde eine 60/40 (Gew.%)-Mischung von IPA und Wasser, die
1 ppm gelösten
Sauerstoff enthielt, durch Zuführen
hiervon zum Inneren der Hohlfasermembran mit einer Flußrate von
5 l/min und Halten der Außenseite
der Hohlfasermembran bei 30 Torr entgast. Die gelöste Sauerstoffkonzentration
in der Mischung nach dem Entgasen betrug 0,06 ppm.
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Beispiel 14
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90
Gew.% HSBRL1390P (hergestellt von Japan Synthetic Rubber Co., Ltd.;
Styrol-Gehalt = 30 Gew.%) wurden als auf Styrol basierendes thermoplastisches
Elastomer verwendet, und 10 Gew.% ENGAGE 8400 (hergestellt von Du
Pont-Dow Elastomer Co.; Dichte = 0,870 g/cm3)
wurden als Polyolefin verwendet. Diese Polymere wurden ausgewogen
und mittels einer biaxialen Knetmaschine schmelzvermischt. Dann
wurde eine Hohlfaser durch Schmelzspinnen in einer Dreischicht-Konfiguration
gebildet, bei der das resultierende modifizierte thermoplastische
Elastomer [Glasübergangstemperatur
(Tg) = –55°C] in der
Zwischenschicht angeordnet war und hochdichtes Polyethylen B161
(hergestellt von Asahi Chemical Industry Co., Ltd.) in den innersten
und äußersten
Schichten angeordnet war. Diese Hohlfaser wurde bei 115°C für 12 Stunden
abgekühlt, bei
Raumtemperatur um einen Faktor 1,3 gezogen, und dann bei 111°C um einen
Faktor 5 gezogen. Somit wurde eine Dreischicht-Komposit-Hohlfasermembran
(mit einem Innendurchmesser von 300 μm und einem Außendurchmesser
von 420 μm)
erhalten, in der die innersten und äußersten Schichten poröses Polyethylen umfaßten und
die Zwischenschicht einen homogenen dünnen Film der Polymermischung
umfaßte,
die sich aus auf Styrol basierenden thermoplastischen Elastomeren
und dem Polyolefin zusammensetzte. Die porösen Schichten (d.h. die innersten
und äußersten
Schichten) hatten beide eine Dicke von 30 μm und eine Porosität von 50
Vol.-%. Die Schicht des homogenen dünnen Films hatte eine Dicke
von 0,8 μm.
Diese Hohlfasermembran wies einen Sauerstoff-Gasdurchgangsfluß von 7,5 × 10–9 cm3·cm–2·s–1·Pa–1 und
einen Stickstoff-Gasdurchgangsfluß von 2,1 × 10–9 cm3·cm–2·s–1·Pa–1 auf.
Wenn diese Hohlfasermembran in eine 50/50 (Gew.%)-Mischung von Wasser
und IPA bei 20°C
für 7 Tage
auf die gleiche Weise, wie es im Zusammenhang mit Tabelle 1 beschrieben
ist, eingetaucht wurde, betrugen ihre Sauerstoff- und Stickstoffgasdurchgangsflüsse 7,5 × 10–9 cm3·cm–2·s–1·Pa–1 bzw.
2,1 × 10–9 cm3·cm–2·s–1·Pa–1,
und die Hohlfasermembran behielt ihren Anfangszustand bei. Die prozentuale
Gewichtsveränderung
der Membran betrug auch Null. Es wurden insgesamt 5000 Dreischicht-Hohlfasern
wie oben beschrieben zusammengebunden, um ein Hohlfaserbündel herzustellen,
und es wurde eine 50/50 (Gew.%)-Mischung von Wasser und IPA mit
einer gelösten
Sauerstoffkonzentration von 100 ppm entgast, indem es zum Inneren
der Hohlfasermembran mit einer Flußrate von 5 l/min zugeführt wurde
und die Außenseite
der Hohlfasermembran bei 30 Torr gehalten wurde. Die gelöste Sauerstoffkonzentration
nach dem Entgasen betrug 0,9 ppm. Der Wasserdampf-Gasdurchgangsfluß dieser
Hohlfasermembran betrug 2,5 × 10–3 g·m/(m2·Tag).
-
Beispiel 15
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Es
wurde MK-Harz MK-2F hergestellt von Dai Nippon Plastics Co., Ltd.;
Glasübergangstemperatur (Tg)
= –35°C] als Polymermischung,
die sich aus einem auf Styrol basierenden Elastomer und Polypropylen zusammensetzt,
verwendet. Dann wurde unter Verwendung einer Dreischicht-Kompositdüse, in der
die vorher erwähnte
Polymermischung in der Zwischenschicht angeordnet war und hochdichtes
Polyethylen ("Nippon Hard,
5110" in den innersten
und äußersten
Schichten angeordnet war, die geschmolzenen Harze bei einer Harztemperatur
von 190°C
und einem Verzugverhältnis
(draft ratio) von 700 gesponnen, um eine Hohlfaser zu bilden. Diese
Hohlfaser wurde bei 115°C
für 12
Stunden abgekühlt,
bei Raumtemperatur um einen Faktor 1,2 gezogen und dann bei 111°C um einen
Faktor 2 gezogen. Somit wurde eine Dreischicht-Komposit-Hohlfasermembran
(mit einem Innendurchmesser von 300 μm und einem Außendurchmesser
von 424 μm),
in der die innersten und äußersten
Schichten poröses
Polyethylen umfaßten
und die Zwischenschicht einen homogenen dünnen Film umfaßt, hergestellt.
Die porösen
Schichten (d.h. die innersten und äußersten Schichten) hatten beide
eine Dicke von 30 μm
und eine Porosität
von 50 Vol.-%. Die Schicht des homogenen dünnen Films hatte eine Dicke
von 2,0 μm.
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Wenn
diese Hohlfasermembran in eine 50/50 (Gew.%)-Mischung von Wasser
und IPA bei 20°C
für 7 Tage
auf die gleiche Weise, wie es im Zusammenhang mit Tabelle 1 beschrieben
ist, eingetaucht wurde, betrugen ihre Sauerstoff- und Stickstoffgasdurchgangsflüsse 7,5 × 10–9 cm3·cm–2·s–1·Pa–1 bzw.
2,1 × 10–9 cm3·cm–2·s–1·Pa–1,
und die Hohlfasermembran behielt ihren Anfangszustand bei. Die prozentuale
Gewichtsveränderung
der Membran betrug auch Null. Es wurden insgesamt 5000 Dreischicht-Komposit-Hohlfasern,
wie sie oben beschrieben sind, zusammengebunden, um ein Hohlfaserbündel herzustellen,
und es wurde eine 50/50 (Gew.%)-Mischung von Wasser und IPA mit
einer gelösten
Sauerstoffkonzentration von 120 ppm entgast, indem sie zu dem der
Innenseite der Hohlfasermembran mit einer Flußrate von 5 l/min zugeführt wurde und
die Außenseite
der Membran bei 30 Torr gehalten wurde. Die gelöste Sauerstoffkonzentration
nach dem Entgasen betrug 1,6 ppm. Wenn diese Entgasungsoperation
für einen
Monat fortgesetzt wurde, blieb die gelöste Sauerstoffkonzentration
nach dem Entgasen während
der Operationszeitspanne unverändert.
Der Wasserdampf-Gasdurchgangsfluß dieser
Hohlfasermembran betrug 1,5 × 10–3 g·m/(m2·Tag).
-
Beispiel 16
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DYNARON
H4800N [hergestellt von JSR Co.; Glasübergangstemperatur (Tg) = –45°C] wurde
als Polymermischung, die sich aus einem auf Styrol basierenden thermoplastischen
Elastomer und Polypropylen zusammensetzt, verwendet. Dann wurde
unter Verwendung einer Dreischicht-Kompositdüse, in der die vorher erwähnte Polymermischung
in der Zwischenschicht angeordnet war und hochdichtes Polyethylen
("Nippolon Hard
5110", hergestellt
von Tosoh Corp.) in den innersten und äußersten Schichten angeordnet
war, die geschmolzenen Harze bei einer Harztemperatur von 190°C und einem
Verzugverhältnis
von 850 gesponnen, um eine Hohlfaser zu bilden. Diese Hohlfaser
wurde bei 115°C
für 12
Stunden abgekühlt,
bei Raumtemperatur um einen Faktor 1,2 gezogen und dann bei 111°C um einen
Faktor 2,0 gezogen. Somit wurde eine Dreischicht-/Komposit-Hohlfasermembran
(mit einem Innendurchmesser von 300 μm und einem Außendurchmesser
von 362 μm)
erhalten, in der die innersten und äußersten Schichten poröses Polyethylen
umfaßten
und die Zwischenschicht einen homogenen dünnen Film umfaßte. Die
porösen
Schichten (d.h. die innersten und äußersten Schichten) hatten beide
eine Dicke von 30 μm
und eine Porosität
von 50 Vol.-%. Die Schicht des homogenen dünnen Films hatte eine Dicke
von 1,0 μm.
Diese Hohlfasermembran wies einen Sauerstoff-Gasdurchgangsfluß von 6,7 × 10–9 cm3·cm–2·s–1·Pa–1 und
einen Stickstoff-Gasdurchgangsfluß von 2,2 × 10–9 cm3·cm–2·s–1·Pa–1 auf.
In diesem Beispiel betrug der Wasserdampf-Gasdurchgangsfluß 2,50 × 10–3 g·/(m2·Tag).
-
Es
wurden insgesamt 1200 Komposit-Hohlfasern, wie sie oben beschrieben
sind, zusammengebunden, um ein Hohlfaserbündel herzustellen. Dieses Hohlfaserbündel wurde
in ein zylindrisches Gehäuse
eingeführt,
das aus einem modifizierten Polyphenylenetherharz hergestellt war.
An den gegenüberliegenden
Enden des Zylinders wurde der Raum zwischen den Hohlfasern mit einem
vernetzten Bismaleimidharz versiegelt, um ein Membranmodul herzustellen.
Die Vakuumseite dieses Membranmoduls wurde auf 100 Pa mittels einer
Vakuumpumpe, die hierin angeschlossen war, evakuiert. Zur gleichen
Zeit wurde unter Verwendung einer Tintenzuführpumpe, die mit einem Tintenstrahldrucker
(Design Jet 3500CP, hergestellt von Hewlett Packard Co.) verbunden
war, eine auf Pigment basierende schwarze Tinte (hergestellt von
Hewlett Packard Co.) zu der Primärseite
(oder Innenseite) der Hohlfasermembran zugeführt und hierdurch entgast.
Die entgaste Tinte wurde zu dem Tintenkopf zugeführt und zum Drucken auf 54
inch breitem Papier zur ausschließlichen Verwendung verwendet.
Die gelöste
Sauerstoffkonzentration in der entgasten Druckertinte betrug 0,05
ppm. Das Drucken wurde fortgesetzt, bis die in die Tintenpatrone
für Tintenstrahldrucker
eingebrachte Tinte vollständig
verbraucht war. Unmittelbar bevor die Tinte verbraucht war, betrug
die gelöste
Sauerstoffkonzentration in der Tinte 0,06 ppm. Wenn die Anzahl der
ungedruckten Punkte und die Gesamtzahl der Druckpunkte durch Beobachtung
mit einem vergrößerndem
Projektor bestimmt wurde, wurde gefunden, daß die Häufigkeit der Druckpunktverluste in
den resultierenden Drucken 0,5% betrug und während der ganzen Entgasungsoperation
konstant blieb. Die Häufigkeit
der Druckpunktverluste ist ein Wert, der durch die folgende Gleichung
definiert ist. Die Punktflächen wurden
aus einem Bild bestimmt, das durch einen vergrößernden Projektor erzeugt wurde.
-
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Beispiel 17
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MK
Resin MK-2F (hergestellt von Dai Nippon Plastics Co., Ltd.) wurde
als Polymermischung verwendet, die sich aus einem auf Styrol basierenden
thermoplastischen Elastomer und Polypropylen zusammensetzt. Dann
wurde unter Verwendung einer Dreischicht-Kompositdüse, in der
die vorher erwähnte
Polymermischung in der Zwischenschicht angeordnet war, und hochdichtes
Polyethylen ("Nipolon
Hard 5110", hergestellt von
Tosoh Corp.) in den innersten und äußersten Schichten angeordnet
war, die geschmolzenen Harze bei einer Harztemperatur von 190°C und einem
Zugverhältnis
von 850 gesponnen, um eine Hohlfaser zu bilden. Diese Hohlfaser
wurde bei 115°C
für 12
Stunden abgekühlt,
bei Raumtemperatur um einen Faktor 1,2 gezogen und dann bei 111°C um einen
Faktor 2,0 gezogen. Somit wurde eine Dreischicht-Komposit-Hohlfasermembran (mit
einem Innendurchmesser von 300 μm
und einem Außendurchmesser
von 362 μm),
in der die innersten und äußersten
Schichten poröses
Polyethylen umfaßten
und die Zwischenschicht einen homogenen dünnen Film der Polymermischung
umfaßte,
die sich aus einem auf Styrol basierenden thermoplastischen Elastomer und
Polypropylen zusammensetzt, erhalten. Die porösen Schichten (d.h. die innersten
und äußersten
Schichten) hatten beide eine Dicke von 30 μm und ein Porosität von 50
Vol.-%. Die Schicht des homogenen dünnen Films hatte eine Dicke
von 1,0 μm.
Diese Hohlfasermembran wies einen Sauerstoff-Gasdurchgangsfluß von 6,7 × 10–9 cm3·cm–2·s–1·Pa–1 und
einen Stickstoff-Gasdurchgangsfluß von 2,2 × 10–9 cm3·cm–2·s–1·Pa–1 auf.
Der Wasserdampf-Gasdurchgangsfluß dieser Hohlfasermembran betrug
1,55 × 10–3 g·m/(m2·Tag).
-
Es
wurden insgesamt 1200 Komposit-Hohlfasern, wie sie oben beschrieben
sind, zusammengebunden, um ein Hohlfaserbündel herzustellen. Dieses Hohlfaserbündel wurde
in ein zylindrisches Gehäuse
eingeführt,
das aus einem modifizierten Polyphenylenetherharz hergestellt war.
An den entgegengesetzten Enden des Zylinders wurde der Raum zwischen
den Hohlfasern mit einem vernetzten Bismaleimidharz versiegelt,
um ein Membranmodul herzustellen. Die Vakuumseite dieses Membranmoduls
wurde auf 100 Pa mittels einer Vakuumpumpe, die hieran angeschlossen
war, evakuiert. Zur gleichen Zeit wurde unter Verwendung einer Tintenzuführpumpe,
die an einen Tintenstrahldrucker (Design Jet 3500CP, hergestellt
von Hewlett Packard Co.) angeschlossen war, eine auf Pigment basierende
schwarze Tinte (hergestellt von Hewlett Packard Co.) zu der Primärseite (oder
Innenseite) der Hohlfasermembran zugeführt und mittels einer in 2 veranschaulichten Entgasungsvorrichtung
entgast. Die entgaste Tinte wurde zu dem Tintenkopf zugeführt und
zum Drucken auf 54 inch breitem Papier zur ausschließlichen
Verwendung verwendet. Die gelöste
Sauerstoffkonzentration in der entgasten Druckertinte betrug 0,05
ppm. Das Drucken wurde fortgesetzt, bis die in die Tintenpatrone
für Tintenstrahldrucker
eingebrachte Tinte vollständig
verbraucht war. Unmittelbar bevor die Tinte verbraucht war, betrug
die gelöste
Sauerstoffkonzentration in der Tinte 0,06 ppm. Wenn die Anzahl der
ungedruckten Punkte und die Gesamtzahl der Druckpunkte durch Beobachten
mit einem vergrößernden
Projektor bestimmt wurde, wurde gefunden, daß die Häufigkeit der Druckpunktverluste
in den resultierenden Drucken 0,5% betrug und während der Entgasungsoperation
konstant blieb.
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Vergleichsbeispiel 1
-
Es
wurde Schmelzspinnen unter den gleichen Bedingungen wie in Beispiel
1 durchgeführt,
außer
daß ein
auf Styrol basierendes thermoplastisches Elastomer allein (d.h.
100 Gew.% Kraton G-1657,
hergestellt von Shell Chemical Co) in der Zwischenschicht verwendet
wurde. Jedoch war die Schmelzviskosität des auf Styrol basierenden
thermoplastischen Elastomers so hoch, daß das auf Styrol basierende
thermoplastische Elastomer in geschmolzenen Zustand nicht aus dem
Extruder extrudiert werden konnte. Folglich war es unmöglich, eine
Dreischicht-Composit-Hohlfasermembran
zu bilden.
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Vergleichsbeispiel 2
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Eine
Dreischicht-Komposit-Hohlfasermembran wurde unter den gleichen Bedingungen
wie in Beispiel 1 gebildet, außer
daß ENGAGE
8400 (hergestellt von Du Pont-Dow Elastomer Co.; Dichte = 0,870
g/cm3) allein in der Zwischenschicht verwendet
wurde. Diese Hohlfasermembran wies einen Sauerstoff-Gasdurchgangsfluß von 2 × 10–7 cm3·cm–2·s–1·cmHg–1 auf.
Die porösen
Schichten und der homogene dünne
Film hatten die gleichen Dicken wie diejenigen, die in Beispiel
1 erhalten wurden. Insgesamt wurden 5000 Dreischicht-Hohlfasern,
wie sie oben beschrieben sind, zusammengebunden, um ein Hohlfaserbündel herzustellen,
und unbearbeitetes Wasser mit einer gelösten Sauerstoffkonzentration
von 8 ppm wurde entgast, indem es zu der Innenseite der Hohlfasermembran
mit einer Flußrate
von 5 l/min zugeführt
wurde und die Außenseite
der Membran bei 30 Torr gehalten wurde. Die gelöste Sauerstoffkonzentration
nach dem Entgasen betrug 5 ppm.
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Vergleichsbeispiel 3
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Insgesamt
wurden 5000 poröse
Polypropylen-Hohlfasern [KPF190M (Warenname), hergestellt von Mitsubisihi
Rayon Co., Ltd.] zusammengebunden, um ein Membranmodul herzustellen.
Unter Verwendung dieses Membranmoduls wurden Entgasungsexperimente
mit einer Entwicklerlösung,
einem Halbleiterlack und einer Tinte für Tintenstrahldrucker auf die
gleiche Weise wie in Beispiel 1 durchgeführt. Die Entwicklerlösung enthielt
ein Tensid. In allen Experimenten versagte die Membran darin, eine
Entgasungswirkung zu zeigen, weil die chemische Flüssigkeit
durch die Poren der Membran leckte.
-
Vergleichsbeispiel 4
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Insgesamt
wurden 200 Polytetrafluorethylen-Röhren [Poreflon (Handelsname),
hergestellt von Sumitomo Electrochemical Co., Ltd.; Membrandicke
= 50 μm]
zusammengebunden, um ein Membranmodul herzustellen. Unter Verwendung
dieses Membranmoduls wurden Entgasungsexperimente mit einer Entwicklerlösung, einem
Halbleiterlack und einer Tinte für
Tintenstrahldrucker auf die gleiche Weise wie in Beispiel 1 durchgeführt Die
Entwicklerlösung
enthielt ein Tensid. In allen Experimenten versagte die Membran
darin, eine Entgasungswirkung zu zeigen, weil die chemische Flüssigkeit
durch die Poren der Membran leckte.
-
Vergleichsbeispiel 5
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Es
wurde eine Dreischicht-Composit-Hohlfasermembran auf die gleiche
Weise wie in Beispiel 1 gebildet, außer daß die Dicke der Zwischenschicht
zu 20 μm
verändert
wurde. Diese Hohlfasermembran wies einen Sauerstoff-Gasdurchgangsfluß von 4 × 10–10 cm3·cm–2·s–1·Pa–1 und
einen Stickstoff-Gasdurchgangsfluß von 1,7 × 10–10 cm3·cm–2·s–1·Pa–1 auf.
Insgesamt wurden 5000 Dreischicht-Hohlfasern, wie sie oben beschrieben sind,
zusammengebunden, um ein Hohlfasermembranmodul herzustellen. Unter
Verwendung dieses Membranmoduls wurde eine Entwicklerlösung auf
die gleiche Weise wie in Beispiel 6 entgast. In ähnlicher Weise zu Beispiel
6 wurde ein 100 μm × 100 μm großer Bereich
der entwickelten Oberfläche
mit einem Rasterelektronenmikroskop beobachtet und hierdurch bezüglich der
Gegenwart von Defekten in den Riefen- und Landbereichen untersucht.
Als Ergebnis wurden 100 runde unentwickelte Punkte mit einem Radius
von 0,5 μm
in diesem Bereich beobachtet. Somit versagte die Membran darin,
eine Entgasungswirkung herbeizuführen.
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Vergleichsbeispiel 6
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Insgesamt
wurden 5000 Dreischicht-Komposit-Hohlfasern [MHF200TL, hergestellt
von Mitsubishi Rayon Co., Ltd.; die porösen Schichten umfaßten Polyethylen
und hatten beide eine Dicke von 25 μm; der homogene Film umfaßte ein
Polyurethan und hatte eine Dicke von 1 μm; Innendurchmesser = 200 μm, Wasserdampf-Gasdurchgangsfluß = 7,30 × 10–1 g·m/(m2·Tag)]
zusammen gebunden, um ein Hohlfasermembranmodul herzustellen. Unter
Verwendung dieses Membranmoduls wurde Isopropylalkohol auf die gleiche
Weise wie in Beispiel 8 entgast. In diesem Beispiel quellte der
homogene Film in der chemischen Flüssigkeit, und die prozentuale
Gewichtsveränderung
der Hohlfasermembran betrug 95%. Als versucht wurde, eine Entgasungsbehandlung
mit dieser Hohlfasermembran durchzuführen, wurde ein erfolgreiches
Entgasen nicht erreicht, weil der homogene Film gebrochen war und
die chemische Flüssigkeit
durch die porösen
Schichten durchleckte.
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Vergleichsbeispiel 7
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Es
wurde eine Tinte auf die gleiche Weise wie in Beispiel 16 entgast,
außer
daß die
zum Entgasen verwendeten Hohlfasern Siliciumröhren (mit einem Innendurchmesser
von 300 μm
und einer Wandstärke
von 100 μm)
umfaßten.
Die entgaste Tinte wurde zu dem Tintenkopf zugeführt und zum Drucken auf 54
inch breitem Papier zur ausschließlichen Verwendung verwendet.
Das Drucken wurde fortgesetzt, bis die in die Tintenpatrone für Tintenstrahldrucker
eingebrachte Tinte vollständig
verbraucht war. Bezüglich
des Drucks, der unmittelbar nach dem Beginn des Druckens erhalten
wurde, wurde die Anzahl der ungedruckten Punkte und die Gesamtzahl
der Druckpunkte mittels Beobachtung mit einem vergrößernden
Projektor bestimmt. Hierdurch wurde gefunden, daß die Häufigkeit der Druckpunktverluste
0,1% betrug. Als etwa die Hälfte
der eingebrachten Tinte verwendet worden war, wurde die Häufigkeit
der Druckpunktverluste auf die gleiche Weise bestimmt und zu 1%
gefunden. Darüber
hinaus wurde, als etwa die Hälfte
der eingebrachten Tinte verwendet worden war, die Ablagerung von
Schaum durch Beobachtung der Oberflächen der Sekundärseite der
Entgasungsröhren
offenbart. Dies verursachte eine Verringerung der scheinbaren Gasdurchlässigkeit,
so daß die
gelösten Gaskonzentrationen
gleich 70% der gesättigten
Konzentrationen unter Atmosphärendruck
waren. Es wurde angenommen, daß diese
Verringerung der Gasdurchlässigkeit
für den
Anstieg der Häufigkeit
von Druckpunktverlusten verantwortlich war.
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Vergleichsbeispiel 8
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Insgesamt
wurden 1200 Siliciumröhren
(mit einem Innendurchmesser von 300 μm und einem Außendurchmesser
von 500 μm
und einer Membrandicke von 100 μm)
zusammengebunden, um ein Hohlfaserbündel herzustellen. Dieses Hohlfaserbündel wurde
in das gleiche Gehäuse
eingeführt,
wie es in Beispiel 17 verwendet wurde, um ein Membranmodul herzustellen.
Dieselbe Tinte, wie sie in Beispiel 17 verwendet wurde, wurde einem
Drucktest unterzogen, in dem die Tinte zu dem vorher erwähnten Membranmodul
zugeführt
wurde und in dem gleichen Drucker verwendet wurde. Während die
Häufigkeit
des Druckpunktverlustes 0,2% beim Beginn des Druckens betrug, betrug
sie 2% unmittelbar bevor die Tinte verbraucht war. Die Ablagerung
eines Schaums wurde auf den Oberflächen der Negativdruckseite
der Membran, die in dem Membranmodul enthalten war, bemerkt. Dies
verursachte eine Verringerung der scheinbaren Gasdurchlässigkeit
der Membran, so daß die
gelösten
Gaskonzentrationen gleich 95% der gesättigten Konzentrationen bei
Atmosphärendruck
waren. Es wurde angenommen, daß diese
Verringerung der Gasdurchlässigkeit
für den
Anstieg der Häufigkeit der
Druckpunktverluste verantwortlich war.
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Vergleichsbeispiel 9
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Das
Vergleichsbeispiel 7 wurde wiederholt, indem Tetrafluorethylen-Röhren (mit
einem Innendurchmesser von 300 μm,
einem Außendurchmesser
von 500 μm,
und einer Membrandicke von 100 μm)
anstelle der Silicon-Röhren
verwendet wurden. Insgesamt wurden 1200 solcher Tetrafluorethylenröhren zusammengebunden,
um ein Hohlfaserbündel
herzustellen. Dieses Hohlfaserbündel
wurde in das gleiche Gehäuse,
wie es in Beispiel 16 verwendet wurde, eingeführt, um ein Membranmodul herzustellen.
Die gleiche Tinte, wie sie in Beispiel 16 verwendet wurde, wurde
einem Drucktest unterzogen, in dem die Tinte zu dem vorher erwähnten Membranmodul
zugeführt
wurde, und sie in dem gleichen Drucker verwendet wurde. Während die
Häufigkeit der
Druckpunktverluste 0,2% beim Beginn des Druckens betrug, betrug
sie 2% unmittelbar bevor die Tinte verbraucht war. Die Ablagerung
eines Schaums wurde auf den Oberflächen der Negativdruckseite
der Membran, die in dem Membranmodul enthalten war, bemerkt. Dies
verursachte eine Verringerung der scheinbaren Gasdurchlässigkeit
der Membran, so daß die
gelösten
Gaskonzentrationen gleich 96% der gesättigten Konzentrationen bei
Atmosphärendruck
waren. Es wurde angenommen, daß diese
Verringerung der Gasdurchlässigkeit für den Anstieg
der Häufigkeit
der Druckpunktverluste verantwortlich war.
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Vergleichsbeispiel 10
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Isopropylalkohol
wurde unter den gleichen Bedingungen wie in Beispiel 8 entgast,
außer
daß eine
heterohomogene Hohlfasermembran [SEPAEL, hergestellt von Dainippon
Ink & Chemicals,
Inc.; Glasübergangstemperatur
(Tg) = 30°C]
hergestellt aus Poly(4-methylpenten-1) als Entgasungsmembran verwendet
wurde. Jedoch wurde ein erfolgreiches Entgasen nicht erreicht, weil
der Isopropylalkohol unmittelbar nach dem Beginn der Entgasungsoperation
begann, zu der Sekundärseite
der Membran zu lecken.
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Vergleichsbeispiel 11
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Die
Positiv-Lacklösung
vom chemischen Verstärkungstyp
APEX-E2405 (hergestellt
von SHIPLEY Inc.) wurde unter den gleichen Bedingungen wie in Beispiel
6 entgast, außer
daß eine
heterohomogene Hohlfasermembran (SEPAEL, hergestellt von Dainippon
Ink & Chemicals)
hergestellt aus Poly(4-methylpenten-1) als
Entgasungsmembran verwendet wurde. Bevor die Hohlfasermembran in
diese Lacklösung
eingetaucht wurde, betrug das Verhältnis des Sauerstoff-Gasdurchgangsflusses
zum Stickstoff-Gasdurchgangsfluß 1,2. Nach
dem Eintauchen betrug jedoch das Verhältnis des Sauerstoff-Gasdurchgangsflusses
zum Stickstoff-Gasdurchgangsfluß 0,93,
und die prozentuale Gewichtsveränderung
betrug 31%. Wenn diese Hohlfasermembran verwendet wurde, um die
Lacklösung
zu entgasen, konnte erfolgreiches Entgasen nicht erreicht werden,
weil die Lacklösung
unmittelbar nach Beginn der Entgasungsoperation begann, zu der Sekundärseite der Membran
zu lecken.
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Die
erfindungsgemäßen Komposit-Hohlfasermembranen
können
zu geringeren Kosten als röhrenförmige Fluorharzmembranen
hergestellt werden, die konventionell zum Entgasen chemischer Flüssigkeiten
verwendet werden, und Entgasungsmembranmodule können auch zu geringeren Kosten
hergestellt werden. Dies erlaubt dem Verwender, die Betriebskosten
zu reduzieren. Darüber
hinaus haben sie ein große
praktische Anwendbarkeit dahingehend, daß sie bei begrenztem Platz
(zum Beispiel in einem Tintenstrahldrucker) als Entgasungsmembran
installiert werden können.