DE69833030D1 - Verfahren und vorrichtung zur behandlung von abgasen aus der halbleiterherstellung - Google Patents

Verfahren und vorrichtung zur behandlung von abgasen aus der halbleiterherstellung

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Families Citing this family (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4211227B2 (ja) * 2001-03-16 2009-01-21 株式会社日立製作所 過弗化物の処理方法及びその処理装置
JP2002301332A (ja) * 2001-04-05 2002-10-15 Nomura Micro Sci Co Ltd 無機酸を含む気体の処理方法、処理装置、処理システム、及び、洗浄処理装置
DE10229037A1 (de) * 2002-06-28 2004-01-29 Robert Bosch Gmbh Vorrichtung und Verfahren zur Erzeugung von Chlortrifluorid und Anlage zur Ätzung von Halbleitersubstraten mit dieser Vorrichtung
US7189865B2 (en) 2002-07-23 2007-03-13 Attenuon, Llc Thiomolybdate analogues and uses thereof
FR2868332B1 (fr) 2004-03-31 2006-05-26 Air Liquide Electronics Sys Appareil de traitement d'effluents gazeux
KR100654922B1 (ko) * 2006-01-26 2006-12-06 주식회사 코캣 반도체 제조공정으로부터 발생하는 배가스 처리장치 및방법
US20080003157A1 (en) * 2006-02-11 2008-01-03 Applied Materials, Inc. Methods and apparatus for pfc abatement using a cdo chamber
JP4845812B2 (ja) * 2007-06-01 2011-12-28 株式会社荏原製作所 フッ素含有化合物を含む排ガスの処理装置
US20100112191A1 (en) * 2008-10-30 2010-05-06 Micron Technology, Inc. Systems and associated methods for depositing materials
DE102008058143B4 (de) * 2008-11-20 2012-04-12 Lurgi Gmbh Verfahren und Anlage zur Gewinnung von NH3 aus einem NH3 und Sauergase enthaltenden Gemisch
FR3036976B1 (fr) * 2015-06-05 2017-06-23 Herakles Traitement d'effluents d'hydrolyse de gaz chlores
CN108636066A (zh) * 2018-07-10 2018-10-12 江苏富淼科技股份有限公司 一种尾气处理系统
CN112755728B (zh) * 2020-12-11 2022-09-09 吉林省拓维环保集团股份有限公司 一种污水处理池的除臭装置
CN114984738A (zh) * 2022-06-15 2022-09-02 刘六亭 一种水洗式恒压废气处理器

Family Cites Families (18)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5144744U (de) * 1974-09-30 1976-04-02
JPS5222418B2 (de) * 1974-10-14 1977-06-17
JPS5322568U (de) * 1976-08-04 1978-02-25
JPS5322568A (en) * 1976-08-12 1978-03-02 Sekisui Chemical Co Ltd Method of producing container
JPS61204022A (ja) * 1985-02-12 1986-09-10 Taiyo Sanso Kk ガス中の酸分の除去方法及び装置
JPS62125827A (ja) * 1985-11-25 1987-06-08 Seitetsu Kagaku Co Ltd 三塩化ホウ素含有ガスの除害法
US4990317A (en) * 1989-11-20 1991-02-05 International Technology Corporation Process for the treatment of hot waste gas containing hydrogen chloride
JPH0628690B2 (ja) * 1990-02-20 1994-04-20 岩谷産業株式会社 水素化物系廃ガスの乾式処理装置
JP2663326B2 (ja) 1993-03-31 1997-10-15 昭和電工株式会社 ドライエッチング排ガスの処理方法
JPH07148414A (ja) * 1993-11-29 1995-06-13 Toshiaki Maruyama 有害ガスの無害化方法および装置
JPH07308538A (ja) * 1994-03-24 1995-11-28 Japan Pionics Co Ltd 有害ガスの浄化剤
TW406028B (en) 1994-05-26 2000-09-21 Toshiba Corp Process for treating acidic exhaust gas
JPH0857254A (ja) * 1994-08-19 1996-03-05 Kanae Kuze 廃棄物の処理方法と処理装置
JP3153733B2 (ja) * 1995-05-22 2001-04-09 株式会社神戸製鋼所 フロンの燃焼分解装置
JP3129945B2 (ja) 1995-08-01 2001-01-31 株式会社荏原製作所 半導体製造排ガスの処理方法
JP3716030B2 (ja) * 1996-02-29 2005-11-16 日本パイオニクス株式会社 有害ガスの浄化方法
US5851293A (en) 1996-03-29 1998-12-22 Atmi Ecosys Corporation Flow-stabilized wet scrubber system for treatment of process gases from semiconductor manufacturing operations
FR2761896B1 (fr) * 1997-04-11 1999-05-14 Labeille Sa Procede et dispositif pour la realisation de produits chimiques de haute purete pour l'industrie micro-electronique

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