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Gebiet der
Erfindung
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Diese
Erfindung bezieht sich auf Ta-Oxid-basierte kapazitive Elemente
und auf Gegenstände,
welche ein solches Element aufweisen.
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Hintergrund
der Erfindung
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Für viele
technologische Anwendungen (z.B. persönliche Kommunikationsvorrichtungen
mit Mikrowellenfrequenz) wäre
es sehr wünschenswert,
dielektrisches Material mit einer hohen dielektrischen Konstante, geringem
Verlust und einem kleinen Temperaturkoeffizienten der dielektrischen
Konstante jeweils bei relativ hohen Frequenzen von Interesse zur
Verfügung
zu haben. Verfügbarkeit
solcher dielektrischer Materialien könnte unter anderem das Bereitstellen
von relativ temperaturunempfindlichen Resonatorschaltungen erleichtern.
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Derzeit
verwendete dielektrische Materialien (typischerweise auf Si-Oxid
basierend) werden sich letztlich als unzureichend für Verwendung
in Kondensatoren in integrierten Schaltkreisen und anderen kapazitiven Elementen
erweisen, aufgrund ihrer relativ niedrigen dielektrischen Konstante.
Daher werden ausgefallenere dielektrische Materialien untersucht.
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Ta2O5 ist ein dielektrisches
Material von besonderem Interesse, da es kompatibel ist mit der
Herstellung von Mikroelektronik und Schichten guter Qualität unter
mikroelektronik-kompatiblen Verarbeitungsbedingungen bildet. Ta2O5 hat jedoch einen
relativ hohen Temperaturkoeffizienten der dielektrischen Konstante
und dementsprechend zeigen Ta2O5-basierte
kapazitive Elemente eine beträchtliche
Temperaturabhängigkeit
ihrer Kapazitanz. Mit "kapazitivem
Element" ist ein
Schaltungselement gemeint, welches im Wesentlichen kapazitive Eigenschaften
hat. Der Ausdruck soll Kondensatoren wie auch Filter und Resonatoren
umfassen.
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Angesichts
der anderweitig vorteilhaften Eigenschaften von Ta2O5 wäre
es sehr wünschenswert, Ta2O5-basiertes dielektrisches
Material zur Verfügung
zu haben, welches einen relativ geringen Temperaturkoeffizienten
der dielektrischen Konstante hat. Diese Anmeldung offenbart ein
solches Material.
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K.
Nomura et al., J. Electrochemical Society, Band 134, Seite 922 (1987)
berichten das Aufbringen von Verbunddünnschichten aus Ta2O5 und Al2O3, wie auch manche Eigenschaften der Verbundschichten.
Unter den Eigenschaften sind Kapazitanz und der dielektrische Verlustfaktor
als Funktion der Frequenz über
den Bereich von 1–1000
kHz (siehe 5). Siehe auch K. Nomura et
al., J. Electrochemical Society, Band 138, Seite 3701 (1991).
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Zusammenfassung
der Erfindung
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Die
Erfindung ist durch die Ansprüche
definiert. Ich habe die unerwartete Entdeckung gemacht, dass es
einen relativ kleinen Zusammensetzungsbereich gibt, in welchem (Ta,
Al)-Oxid eine wesentlich geringere Temperaturabhängigkeit der dielektrischen
Konstante als Ta-Oxid haben kann.
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Beispielsweise
hat Ta2O5 einen
Temperaturkoeffizienten von ca. 250 ppm/°C bei 1 MHz und 20°C, während eine
Probe von (Ta, Al)-Oxid mit einem Al/(Al + Ta)-Atomverhältnis von ca. 0,054 einen Temperaturkoeffizienten
von –5
ppm/°C unter
den gleichen Bedingungen aufweist. Dies ist ein ziemlich überraschendes Ergebnis
mit beträchtlicher
technologischer Bedeutung. Mit "(Ta,
Al)-Oxid" ist hier
ein Material gemeint, welches hauptsächlich aus Ta, Al und Sauerstoff
besteht, wobei Ta und Al mindestens 90% (vorzugsweise mindestens
95%) Atom% des Gesamtmetallgehalts bilden.
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Das
Hinzufügen
von Al-Oxid kann nicht nur die Temperaturabhängigkeit der dielektrischen
Konstante beträchtlich
reduzieren, sondern ein solches Hinzufügen kann zu einer erhöhten dielektrischen
Konstante führen.
Außerdem
habe ich auch gefunden, dass die dieelektrische Konstante des Materials
im Wesentlichen konstant über
den Frequenzbereich von ca. 1 KHz bis 14 GHz ist, und dass das Material
einen relativ geringen dielektrischen Verlust haben kann (z.B. Qualitätsfaktor
Q von ca. 600 bei 20°C
und 5 GHz).
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Gemäß einem
allgemeinen Aspekt ist die Erfindung in einem Gegenstand ausgeführt (z.B.
einem integrierten Schaltkreis oder einer persönlichen Kommunikationsvorrichtung),
welcher ein relativ temperaturunabhängiges kapazitives Element
aufweist.
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Insbesondere
umfasst der Gegenstand ein kapazitives Element, welches ein dielektrisches
Material aufweist, wobei das dielektrische Material (Ta, Al)-Oxid
aufweist.
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Insbesondere
hat das dielektrische Material ein Al/(Al + Ta)-Atomverhältnis x
im ungefähren
Bereich 0,03–0,015,
wobei das Verhältnis
so gewählt
ist, dass das dielektrische Material einen niedrigen Temperaturkoeffizienten
der dielektrischen Konstante hat (z.B. < 50 ppm/°C bei 1 MHz und 20°C).
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Das
Material kann kleinere Mengen optionaler Zusätze enthalten, z.B. TiO2 oder andere Metalloxide, unter der Voraussetzung,
dass Ta und Al gemeinsam mindestens 90 Atom% des Metallgehalts des
Materials bilden.
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Kurze Beschreibung
der Zeichnungen
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1 zeigt
exemplarische Daten der dielektrischen Konstante in Abhängigkeit
des Al/(Al + Ta)-Verhältnisses
x;
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2 zeigt
exemplarische Daten der Temperaturabhängigkeit der dielektrischen
Konstante als Funktion von x;
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3 zeigt
exemplarische Daten der Frequenzabhängigkeit der dielektrischen
Konstante und des dielektrischen Verlustfaktors einer beispielhaften
Zusammensetzung gemäß der Erfindung;
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4 zeigt
weitere Daten der Temperaturabhängigkeit
der dielektrischen Konstante und des dielektrischen Verlustfaktors;
und
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5–7 zeigen
schematisch kapazitive Elemente gemäß der Erfindung.
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Detaillierte
Beschreibung
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Die
dielektrischen Materialien, welche im Lauf der vorliegenden Untersuchung
hergestellt wurden, waren massige Proben (im Englischen als "bulk ware" bekannt) der Nominalzusammensetzung
(Al2O3)x(Ta2O5)1-x, welche
durch Keramikverarbeitungstechniken hergestellt wurden. Die Erfindung
ist jedoch nicht darauf beschränkt.
Beispielsweise wird erwartet, dass dünne Schichten der gleichen
Nominalzusammensetzung ähnliche
dielektrische Eigenschaften haben. Solche Schichten können durch
eine Mehrzahl konventioneller Verfahren hergestellt werden, entweder
durch direktes Aufbringen von Oxidtargets oder durch Oxidation einer
Metallschicht. Unter den konventionellen Techniken sind Sputtern,
chemische Dampfablagerungen, Laserablation und Elektronenstrahlverdampfung.
Es wird auch erwartet, dass dielektrische Materialien gemäß dieser
Erfindung eine relativ kleine Menge an anderen Metallen außer Ta und
Al enthalten können.
Beispielsweise ist bekannt, dass das Hinzufügen einer kleinen Menge (z.B.
8%) von TiO2 zu Ta2O5 zu einer signifikant erhöhten dielektrischen
Konstante führen
kann. Daher ist das Vorhandensein von TiO2 oder
anderen optionalen Bestandteilen, welche die Eigenschaften von dielektrischen
Materialien verbessern, gemäß der Erfindung
vorgesehen.
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Keramische
Scheiben der Nominalzusammensetzung (Al2O3)x(Ta2O5)1-x wurden hergestellt
durch Mischen von hochreinem Ta2O5 (99,993%) und Al2O3 (99,99%) in den erwünschten molaren Mengen, Erwärmen der
Mischung in Luft bei 1350°C
für 60
Stunden, gefolgt von mechanischem Mahlen. Das resultierende Pulver wurde
dann für
10 Stunden auf 1400°C
erhitzt, ein zweites Mal gemahlen und zu Pellets mit einem Durchmesser
von 1/2 Inch und ca. 3 mm Dicke gepresst. Die gepressten Pellets
wurden auf dichte Al2O3-Platten
auf Pulver ihrer eigenen Zusammensetzung angeordnet und verdichtet
durch Befeuern für
2 Stunden in Luft bei Temperaturen zwischen 1575°C und 1625°C. Die resultierenden Pellets
hatten mehr als 90% der theoretischen Dichte. Der oben beschriebene
Prozess der Herstellung des (Al, Ta)-Oxids ist beispielhaft und
der Fachmann ist in der Lage, das Verfahren auf die jeweiligen Umstände anzupassen.
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Pulver-Röntgendiffraktion
zeigte, dass die so hergestellten Materialien eine feste Lösung vom Ta2O5-Typ für x im Bereich
0 bis 0,075 sind, und dass sie mehrphasige Materialien sind, welche
aus der Phase der festen Lösung
vom Ta2O5-Typ mit
hohem Aluminiumgehalt plus AlTaO4 für x im Bereich
von 0,075–0,20 bestehen.
Der Fachmann erkennt, dass die Schreibweise (Al2O3)x(Ta2O5)1-x die anfänglichen
Zusammensetzungen darstellt (auch als "Nominalzusammensetzung" bezeichnet) und
nicht notwendigerweise das Vorhandensein der beiden Oxide in dem
exakt angegebenen Verhältnis
im Endprodukt impliziert.
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Elektrischer
Kontakt wurde zu den so hergestellten Keramikpellets hergestellt
durch Beschichten der ebenen Flächen
der Pellets mit Lot aus einer 50:50 Ga-In Legierung. Ein kommerziell
erhältliches
Impedanzanalysegerät
wurde verwendet, um die dielektrische Konstante (K) und den dielektrischen
Verlustfaktor (D; auch bezeichnet als "tanδ" und "1/Q") zwischen 1 KHz
und 5 MHz zu messen, bei einem angelegten Feld von ca. 5 V/cm über den
Temperaturbereich von –40°C bis 100°C.
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1 zeigt
die dielektrische Konstante bei 1 MHz und 20°C für exemplarisches Material der
Nominalzusammensetzung (Al2O3)x(Al2O5)1-x, für
x im Bereich von 0 bis 0,20.
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2 zeigt
Daten der Temperaturabhängigkeit
der dielektrischen Konstante für
verschiedene beispielhafte Proben. Kurve 20 bezieht sich
auf x = 0 und 0,025, und Kurven 21–24 beziehen sich
auf x = 0,05; 0,075; 0,1 bzw. 0,175. Die Kurve x = 0,2 fällt im Wesentlichen
zusammen mit der Kurve für
x = 0,175 für
Temperaturen unterhalb ca. 20°C;
und fällt
im Wesentlichen zusammen mit der Kurve für x = 0,75 für Temperaturen
oberhalb 20°C.
Die enorme Differenz der Temperaturabhängigkeit der dielektrischen
Konstante für
x = 0 (und 0,025) und für
x > 0,03 ist aus 2 sofort
ersichtlich.
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3 zeigt
Daten bezüglich
der dielektrischen Konstante und des dielektrischen Verlustfaktors
bei 20°C
als Funktion der Frequenz, beispielsweise bei einer Probe mit x
= 0,1. Kurve 30 zeigt K über dem Bereich von 1 kHz bis
5 MHz, Kurve 31 zeigt D über den ungefähren Bereich
10 kHz bis 5 MHz, und Kurve 32 zeigt K über den Bereich 1–14 GHz.
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4 veranschaulicht
die Beobachtung, dass Details der Temperaturabhängigkeit der dielektrischen Eigenschaften
erfindungsgemäßer Materialien
teilweise von den Herstellungsbedingungen abhängen. Kurven 40 und 41 beziehen
sich auf eine Probe mit x = 0,15, wobei die erstere Kurve sich auf
eine Probe nach Sintern für
zwei Stunden bei 1525°C
bezieht und die letztere auf die gleiche Probe nach vier weiteren
Stunden bei 1575°C.
Kurven 42 und 43 beziehen sich auf eine Probe
mit x = 0,056, wobei die erstere Kurve sich auf die Probe nach Sintern
bei 1625°C
bezieht und die letztere auf die gleiche Probe nach weiteren 5 Stunden
Wärmebehandlung
bei 1100°C. 4 zeigt
auch die Werte für
K bei 20°C
(K20) und von D bei 20°C (D20)
für die gleichen
Proben und Behandlungsbedingungen.
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Die
beispielhaften Daten von 4 stellen deutlich die Abhängigkeit
der dielektrischen Eigenschaften des erfindungsgemäßen Materials
von Behandlungsdetails dar und legen die Möglichkeit nahe, dielektrische Eigenschaften
für verschiedene
Anwendungen maßzuschneidern.
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Tabelle
1 stellt eine Zusammenfassung der dielektrischen Eigenschaften als
Funktion der Nominalzusammensetzung dar. Die Untersuchung der Daten
zeigt eine moderate Verbesserung der beobachteten dielektrischen
Konstanten gegenüber
denen von Ta2O5 über alle
Temperaturen, für
x im Bereich von ca. 0,06 ≤ x < 0,15. Der exakte
Wert der beobachteten dielektrischen Konstante variierte etwas (~±5–10%) von
Zubereitung zu Zubereitung, möglicherweise
aufgrund von Unterschieden in Pelletdichte und bevorzugter Orientierung von
Keramikkörnern,
aber die allgemeine Beobachtung der moderaten Verbesserung von K
wurde durchgehend beobachtet. Die Materialien zeigen auch durchgehend
geringe D-Werte und dementsprechend hohe Q-Werte. Die D-Werte sind
auch et was variabel, abhängig
von Probenzubereitungsbedingungen. Die geringen D-Werte in der Tabelle
(0,0002–0,0005,
Q = 5000–2000)
können
als obere Grenze für
die intrinsischen Verluste dieser Materialien bei Megaherzfrequenzen
angesehen werden, da die gemessenen Werte nicht für Beiträge der Messschaltung
korrigiert wurden. Diese Materialien können daher dielektrische Materialien
mit hoher Qualität
in dem untersuchten Frequenzbereich und möglicherweise über diesen
Bereich hinaus sein.
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Tabelle
1: dielektrische Eigenschaften von repräsentativen (Ta
2O
5)
1-x(Al
2O
3)
x polykristallinen
Keramiken bei 1 MHz.
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Tabelle
2 zeigt die dielektrische Konstante K und den Temperaturkoeffizienten
von K (TCK) für
beispielhafte Proben (x = 0 bis x = 0,2). TCK ist definiert als
{(K100 – K40)/K20}/140°C, wobei
K100, K–40 und
K20 die Werte K bei 100°C, –40°C bzw. 20°C sind.
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Tabelle
2: Temperaturkoeffizient der Dielektrizitätskonstante (TCK) bei 1 MHz
für repräsentative
polykristalline Proben von (Ta
2O
5)
1-x(Al
2O
3)
x
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Wie
aus Tabelle 2 ersichtlich ändert
sich TCK von einem relativ großen
positiven Wert (z.B. ca. 250 ppm/°C)
bei Null oder kleinem x-Wert (z.B. ca. 0,025) zu einem relativ kleinen
Wert (z.B. ca. 20 ppm/°C)
für höhere Werte
von x. Materialien bei nahezu x = 0,05–0,06 haben einen besonders
geringen TCK, wobei der TCK in diesem Bereich typischerweise das
Vorzeichen ändert.
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In
Anbetracht der relevanten Eigenschaften insgesamt ist ersichtlich,
dass Zusammensetzungen mit x im ungefähren Bereich 0,03–0,15 vorteilhafte
Eigenschaften aufweisen. Das ist ein unerwartetes Ergebnis, d.h.,
nach meinem besten Wissen wird es nicht durch den Stand der Technik
nahegelegt, und erfindungsgemäßes Material
mit der Zusammensetzung in dem genannten Bereich kann vorteilhaft
in vielen Gegenständen verwendet
werden, welche ein kapazitives Element aufweisen (z.B. ein diskreter
oder integrierter Kondensator, Filter, Resonator, mikroelektronische
Speicher, aufweisend integrierte Kondensatoren), insbesondere in
solchen Gegenständen,
welche über
einen breiten Temperaturbereich betrieben werden sollen.
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5 stellt
schematisch ein beispielhaftes kapazitives Element 50 gemäß der Erfindung
dar, nämlich einen
diskreten Kondensator, wobei Bezugszeichen 51–54 sich
auf eine obere Elektrode, untere Elektrode, dielektrisches Material
gemäß der Erfindung
bzw. Kapsel beziehen. Bis auf das neue dielektrische Material kann der
Kondensator 50 konventionell sein.
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6 zeigt
schematisch ein weiteres kapazitives Element gemäß der Erfindung, nämlich einen
integrierten MOS Kondensator 60, wobei die Bezugszeichen 61–63 sich
auf ein (typischerweise dotiertes) Halbleitersubstrat, eine dielektrische
Schicht gemäß der Erfindung
bzw. eine Elektrode beziehen. Bis auf das neue dielektrische Material
kann der Kondensator 60 konventionell sein.
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7 zeigt
schematisch ein weiteres kapazitives Element 70 gemäß der Erfindung,
nämlich
einen Resonator 71 mit ringförmigem Aufbau mit einer Lücke (Lücken-Ringresonator),
wobei das dielektrische Element 72 innerhalb der Lücke des
Resonators angeordnet ist. Lücken-Ringresonatoren
sind bekannt. Das Element 72 besteht aus erfindungsgemäßen dielektrischen
Material, was zu erhöhter
Kapazitanz und Temperaturstabilität führt. Eine Mehrzahl von Resonatoren
kann in einem Filter angeordnet werden, wie dem Fachmann bekannt.
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Diskrete
und integrierte Kondensatoren gemäß der Erfindung werden vorteilhaft
verwendet in beispielsweise persönlichen
Kommunikationsvorrichtungen, und Resonatoren und Filter gemäß der vorliegenden Erfindung
werden in Basissta tionen oder Zwischenverstärkern von drahtlosen Kommunikationssystemen
verwendet.