DE69722213T2 - Optische fasern hergestellt unter verwendung von quarzglas mit ultraniedrigem verlust - Google Patents

Optische fasern hergestellt unter verwendung von quarzglas mit ultraniedrigem verlust Download PDF

Info

Publication number
DE69722213T2
DE69722213T2 DE69722213T DE69722213T DE69722213T2 DE 69722213 T2 DE69722213 T2 DE 69722213T2 DE 69722213 T DE69722213 T DE 69722213T DE 69722213 T DE69722213 T DE 69722213T DE 69722213 T2 DE69722213 T2 DE 69722213T2
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
glass
loss
optical fibers
ppm
low loss
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Lifetime
Application number
DE69722213T
Other languages
English (en)
Other versions
DE69722213D1 (de
Inventor
Kazuya Nagoya-shi SAITOH
Akira Nagoya-shi IKUSHIMA
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toyota School Foundation
Toyota Motor Corp
Original Assignee
Toyota School Foundation
Toyota Motor Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Toyota School Foundation, Toyota Motor Corp filed Critical Toyota School Foundation
Publication of DE69722213D1 publication Critical patent/DE69722213D1/de
Application granted granted Critical
Publication of DE69722213T2 publication Critical patent/DE69722213T2/de
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C13/00—Fibre or filament compositions
    • C03C13/04—Fibre optics, e.g. core and clad fibre compositions
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C13/00—Fibre or filament compositions
    • C03C13/04—Fibre optics, e.g. core and clad fibre compositions
    • C03C13/045—Silica-containing oxide glass compositions
    • C03C13/046—Multicomponent glass compositions
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
    • C03B37/00—Manufacture or treatment of flakes, fibres, or filaments from softened glass, minerals, or slags
    • C03B37/01—Manufacture of glass fibres or filaments
    • C03B37/012—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments
    • C03B37/014—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments made entirely or partially by chemical means, e.g. vapour phase deposition of bulk porous glass either by outside vapour deposition [OVD], or by outside vapour phase oxidation [OVPO] or by vapour axial deposition [VAD]
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C3/00—Glass compositions
    • C03C3/04—Glass compositions containing silica
    • C03C3/06—Glass compositions containing silica with more than 90% silica by weight, e.g. quartz
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B6/00—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings
    • G02B6/02—Optical fibres with cladding with or without a coating
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
    • C03B2201/00—Type of glass produced
    • C03B2201/06—Doped silica-based glasses
    • C03B2201/07—Impurity concentration specified
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
    • C03B2201/00—Type of glass produced
    • C03B2201/06—Doped silica-based glasses
    • C03B2201/30—Doped silica-based glasses doped with metals, e.g. Ga, Sn, Sb, Pb or Bi
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
    • C03B2201/00—Type of glass produced
    • C03B2201/06—Doped silica-based glasses
    • C03B2201/30—Doped silica-based glasses doped with metals, e.g. Ga, Sn, Sb, Pb or Bi
    • C03B2201/50—Doped silica-based glasses doped with metals, e.g. Ga, Sn, Sb, Pb or Bi doped with alkali metals
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
    • C03B2201/00—Type of glass produced
    • C03B2201/06—Doped silica-based glasses
    • C03B2201/30—Doped silica-based glasses doped with metals, e.g. Ga, Sn, Sb, Pb or Bi
    • C03B2201/54—Doped silica-based glasses doped with metals, e.g. Ga, Sn, Sb, Pb or Bi doped with beryllium, magnesium or alkaline earth metals
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C2201/00—Glass compositions
    • C03C2201/06—Doped silica-based glasses
    • C03C2201/30—Doped silica-based glasses containing metals
    • C03C2201/40—Doped silica-based glasses containing metals containing transition metals other than rare earth metals, e.g. Zr, Nb, Ta or Zn
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C2201/00—Glass compositions
    • C03C2201/06—Doped silica-based glasses
    • C03C2201/30—Doped silica-based glasses containing metals
    • C03C2201/50—Doped silica-based glasses containing metals containing alkali metals
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C2201/00—Glass compositions
    • C03C2201/06—Doped silica-based glasses
    • C03C2201/30—Doped silica-based glasses containing metals
    • C03C2201/54—Doped silica-based glasses containing metals containing beryllium, magnesium or alkaline earth metals

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Geochemistry & Mineralogy (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • General Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Glass Compositions (AREA)

Description

  • Technisches Gebiet
  • Diese Erfindung bezieht sich auf optische Fasern mit ultraniedrigem Verlust, die unter Verwendung eines Siliciumoxidglases hergestellt werden, zu dem Verunreinigungen zugegeben wurden.
  • Technischer Hintergrund
  • Im Allgemeinen können die folgenden als Faktoren für den Lichtübertragungsverlust bei optischen Fasern aufgeführt werden.
    • (1) Verlust, der den die optischen Fasern bildenden Materialien innewohnt, wie etwa Rayleigh-Streuung und Verlust durch Infrarotabsorption.
    • (2) Streuverlust aufgrund von Faserstrukturfehlern und Glasdefekten, wie etwa Streuung durch Unregelmäßigkeiten der Grenzfläche eines Kerns und einer Umhüllung, durch Kratzer und Blasen.
    • (3) Absorptionsverlust durch Verunreinigungen, die in den Fasern verbleiben, wie etwa Absorption durch Eisen und andere Übergangsmetalle, und Absorption durch intermolekulare Schwingung der Hydroxylgruppe.
  • Optische Siliciumoxidfasern, die gegenwärtig weitreichend praktische Verwendung finden, sind frei von Verlusten, die durch die in (2) und (3) erwähnten äußeren Faktoren verursacht werden. Wenn hochreines Siliciumoxidglas als ein Kern verwendet wird, wird es möglich, Fasern mit Verlusten nahe dem theoretischen Grenzwert von 0,15 dB/km herzustellen. Da das Zeitalter des Internets und anderer Vielmedien kommt, ist es jedoch notwendig, Fasern mit Verlusten geringer als denen der Siliciumoxidfasern zu entwickeln, um Kommunikationskosten durch Vergrößern der Verstärkerspanne zu reduzieren und um Kommunikationsnetzwerke zu vergrößern, und es sind Studien fortwährend sowohl in als auch außerhalb von Japan durchgeführt worden.
  • Im Stadium der Entwicklung von Materialien war es insbesondere erforderlich, Rayleigh-Streuung zu verringern, die die Hauptursache des Verlustes ist, und es wurden Anstrengungen gemacht, um ein Vielkomponentenglas mit minimaler Rayleigh-Streuung zu finden. Zum Beispiel offenbart die ungeprüfte japanische Patentoffenlegungsschrift (Kokai) Nr. 105483/1993 eine große Zahl an Vielkomponentengläsern, die Dichtefluktuationen verringern können, die die Hauptursache für Rayleigh-Streuung sind. Es wurde erwartet, dass Vielkomponentengläser bessere Fasern als Siliciumoxidfasern realisieren können, aber gegenwärtig wird keines der Vielkomponentengläser praktisch für Fasern für Kommunikation über weite Strecken verwendet. EP-A-0 542 476 offenbart alkalidotierte optische Fasern auf SiO2-Basis. Die Vielkomponentengläser haben die folgenden Nachteile:
    • 1) Dichte Fluktuationen nehmen zu und somit nehmen Verluste durch Lichtstreuung zu, verglichen mit einem Einkomponentenglas.
    • 2) Der Kristallinitätsgrad ist hoch und es ist schwierig, beim Verspinnen der Fasern die Mikrokristallisation zu steuern, und daher wird die Lichtübertragung verglichen mit einem Einkomponentenglas verschlechtert.
    • 3) Es ist schwierig, Verunreinigungen wie etwa Hydroxylgruppen und Übergangsmetalle zu steuern, die Licht mit Wellenlängen absorbieren, die gegenwärtig für Kommunikationen verwendet werdenund Übertragungsverluste nehmen zu.
  • Es ist eine Aufgabe der vorliegenden Erfindung, die Nachteile der Vielkomponentengläser zu vermeiden und Glasmaterialien herzustellen, aus denen optische Fasern mit minimalen Verlusten, die durch optische Fasern, die aus den herkömmlichen Siliciumoxidgläsern gebildet sind, nicht realisiert werden können, insbesondere optische Fasern, die bessere Rayleigh-Streuung-Verlustcharakteristiken haben, hergestellt werden können.
  • Offenbarung der Erfindung
  • Die Erfinder der vorliegenden Erfindung haben ermittelt, dass die Zugabe einer sehr kleinen Menge von Na2O zu Siliciumoxidglas Verluste durch Rayleigh-Streuung vermindern und haben die vorliegende Erfindung vervollständigt.
  • Die optische Faser der vorliegenden Erfindung ist aus Siliciumoxidglas mit ultraniedrigem Verlust gebildet und dadurch gekennzeichnet, dass das Siliciumoxidglas wenigstens ein netzwerkwandelndes Oxid in einer Menge von 1 bis 500 Gew.-ppm enthält. Es wird angenommen, dass das netzwerkwandelnde Oxid auf zweckmäßige Weise die tetraedrische Netzwerkstruktur des Siliciumoxids lockert und dass somit die Verluste durch Rayleigh-Streuung vermindert werden.
  • Das in der vorliegenden Erfindung verwendete Glas mit ultraniedrigem Verlust umfasst Siliciumoxidglas und wenigstens ein netzwerkwandelndes Oxid, das auf atomarer Ebene gleichmäßig in dem Siliciumoxidglas dispergiert ist. Hochreines Siliciumoxidglas wird als das Siliciumoxidglas verwendet.
  • Das netzwerkwandelnde Oxid wird zu dem Siliciumoxidglas in einer Menge von 1 bis 500 Gew.-ppm zugegeben. Das somit in einer sehr kleinen Menge zugegebene wandelnde Oxid sollte eher als eine sehr kleine Menge an Verunreinigungen in einem Einkomponentensiliziumoxidglas denn als eine bildende Komponente eines Vielkomponentenglases angesehen werden. Das Glas mit ultraniedrigem Verlust der vorliegenden Erfindung kann die Nachteile des herkömmlichen Vielkomponentenglases vermeiden.
  • Das netzwerkwandelnde Oxid ist wenigstens ein Element ausgewählt aus Na2O, K2O, Li2O, MgO, CaO und PbO, und wenigstens eines von diesen wird ausgewählt. Dieses Glas hat verglichen mit einem hochreinen Siliciumoxidglas eine minimale Rayleigh-Streuung, und wenn es als Material für optische Fasern verwendet wird, kann dieses Glas optische Fasern mit Verlusten niedriger als jenen der herkömmlichen optischen Fasern aus Siliciumoxid hervorbringen.
  • Als die Ursache einer Verminderung der Rayleigh-Streuung werden die folgenden zwei angenommen.
    • 1) Die Glasübergangstemperatur wird verringert und im Ergebnis wird die Intensität des gestreuten Lichts, die als proportional zu der Glasübergangstemperatur angesehen wird, ebenfalls verringert.
    • 2) Bedingt durch die Diffusion des wandelnden Oxids werden eingefrorene Dichtefluktuationen, die die Ursache der Lichtstreuung sind, vermindert, und infolgedessen wird die Intensität des gestreuten Lichts verringert.
  • Wenn der Gehalt des netzwerkwandelnden Oxids weniger als 1 Gew.-ppm beträgt, wird eine Verringerung der Rayleigh-Streuung kaum beobachtet. Wenn der Gehalt 500 Gew.-ppm übersteigt, können die Nachteile des Vielkomponentenglases nicht vermieden werden, und somit können optische Fasern mit niedrigem Verlust nicht realisiert werden.
  • Das in der vorliegenden Erfindung verwendete Glas mit ultraniedrigem Verlust kann als ein Kern oder als ein Kern und eine Umhüllung einer optischen Faser verwendet werden.
  • In dem Glas mit ultraniedrigem Verlust der vorliegenden Erfindung wird die tetraedrische Struktur des Siliciumoxidglases durch das netzwerkwandelnde Oxid gelockert, und die Rayleigh-Streuung wird verringert. Daher kann das Glas mit ultraniedrigem Verlust der vorliegenden Erfindung Licht über eine längere Distanz stabil übertragen, und wenn das Glas mit ultraniedrigem Verlust der vorliegenden Erfindung als optische Fasern verwendet wird, kann die Verstärkerspanne vergrößert werden.
  • Kurze Beschreibung der Zeichnung
  • 1 ist ein Graph, der die Beziehung zwischen den Na2O-Mengen, die zu dem Siliciumoxidglas mit ultraniedrigem Verlust zugegeben werden, und der Intensität des gestreuten Lichts in den Beispielen 1 bis 8 und im Vergleichsbeispiel zeigt.
  • Beste Ausführungsform der Erfindung
  • Hiernach wird die vorliegende Erfindung durch die Beispiele konkret diskutiert, aber diese Erfindung soll nicht auf diese Beispiele beschränkt sein.
  • Beispiel 1
  • Na-Ionen wurden in eine hochreine Siliciumoxidglasprobe, die 0,01 ppm oder weniger Metallverunreinigungen (Al, Ca, Cu, Fe, Na, K, Li, Mg, Mn und Ti) enthielt, mit einem Ionenimplantierungsgerät implantiert, um eine Probe dieses Beispiels herzustellen. Die Dimensionen der Probe waren 20 × 10 × 1 mm3 und die Menge der implantierten Na-Ionen betrug 4,2 × 101 cm2. Im Ergebnis betrug die Na2O-Konzentration in dem Siliciumoxidglas 50 ppm. Danach wurde die mit Na-Ionen implantierte Probe einer Diffusionsbehandlung des Aufheizens auf 600°C für 24 Stunden unterzogen. Somit wurde das Glas mit ultraniedrigem Verlust dieses Beispiels erhalten.
  • Die Intensität des gestreuten Lichts des Glases mit ultraniedrigem Verlust dieses Beispiels wurde unter Verwendung eines Argonlasers von 488 nm bei einem Streuwinkel von 90° gemessen. Die Intensität des gestreuten Lichts bei Raumtemperatur ist in der 1 und der Tabelle 1 gezeigt.
  • In 1 zeigt die Ordinatenachse die Intensität des gestreuten Lichts und die Abszissenachse zeigt die Menge an zugegebenem Na2O.
  • Vergleichsbeispiel 1
  • Hochreines Siliciumoxidglas, das 0,01 ppm oder weniger Metallverunreinigungen (Al, Ca, Cu, Fe, Na, K, Li, Mg, Mn und Ti) enthielt, wurde wie es war als eine Probe des Vergleichsbeispiels verwendet. Die Intensität des gestreuten Lichts der Probe des Vergleichsbeispiels 1 wurde auf die gleiche Weise wie in Beispiel 1 gemessen. Die Intensität des gestreuten Lichts bei Raumtemperatur ist ebenfalls in der 1 und der Tabelle 1 gezeigt.
  • Beispiele 2 bis 8
  • Na-Ionen wurden in hochreine Siliciumoxidglasproben, die 0,01 ppm oder weniger Metallverunreinigungen (Al, Ca, Cu, Fe, Na, K, Li, Mg, Mn, Ti) enthielten, auf die gleiche Weise wie in Beispiel 1 implantiert, und Proben mit Na2O-Konzentrationen von jeweils 40, 30, 20, 15, 10, 5 und 1 ppm wurden so hergestellt. Diese Proben wurden einer Diffusionsbehandlung des Aufheizens auf 600°C für 24 Stunden auf die gleiche Weise wie in Beispiel 1 unterzogen, und die Gläser mit ultraniedrigem Verlust der Beispiele 2 bis 8 wurden so erhalten.
  • Die Intensität des gestreuten Lichts der Gläser mit ultraniedrigem Verlust der Beispiele 2 bis 8 wurden unter Verwendung eines Argonlasers von 488 nm bei einem Streuwinkel von 90° gemessen. Die Intensitäten des gestreuten Lichts dieser Beispiele bei Raumtemperatur sind ebenfalls in der 1 und der Tabelle 1 gezeigt.
  • Tabelle 1
    Figure 00070001
  • Wie aus der 1 und der Tabelle 1 ersichtlich, wurde durch Zugeben von 1 Gew.-ppm Na2O die Intensität des gestreuten Lichts von 30.500 (b. E.) auf 30.000 (b. E.) verringert, und durch Zugeben von Na2O in Mengen von 5 Gew.-ppm, 10 Gew.-ppm, 15 Gew.-ppm, 20 Gew.-ppm, 30 Gew.-ppm, 40 Gew.-ppm bzw. 50 Gew.-ppm wurde die Intensität des gestreuten Lichts des weiteren auf 27.900 (b. E.), 27.300 (b. E.), 26.500 (b. E.), 26.400 (b. E.), 26.000 (b. E.), 25.800 (b. E.) und 25.500 (b. E.) verringert.
  • Möglichkeit zur industriellen Anwendbarkeit
  • Da wie vorstehend diskutiert die Lichtstreuung, die die Übertragungsverluste merklich vergrößert, minimal ist, ist das in der optischen Faser der vorliegenden Erfindung verwendete Siliciumoxidglas mit ultraniedrigem Verlust besser für eine Übertragung über weite Strecken als ein Grundmaterial einer Glasfaser. Da das vorliegende Glas nur durch Zugeben einer sehr kleinen Menge von wenigstens einem wandelnden Oxid zu dem Siliciumoxidglas hergestellt werden kann, kann zusätzlich die vorliegende Produktionslinie mit dem Gasphasen Axialabscheidungsverfahren (dem Rußverfahren) zur Herstellung von Siliciumoxidglas-Vorformen verwendet werden, indem sie nur geringfügig verändert wird. Dies ist ein großer Vorteil der vorliegenden Erfindung.

Claims (2)

  1. Optische Faser, die aus einem Glas mit ultra niedrigem Verlust gebildet ist, das aus Siliciumoxidglas besteht, das zumindest ein Netzwerk wandelndes Oxid in einer Menge von 1 bis 500 Gew.-ppm enthält, wobei das Netzwerk wandelnde Oxid zumindest ein Mitglied ausgewählt aus der Gruppe bestehend aus Na2O, K2O, Li2O, MgO, CaO und/oder PbO ist.
  2. Optische Faser nach Anspruch 1, wobei das Glas mit ultra niedrigem Verlust als ein Kern, oder als ein Kern und eine Umhüllung verrwendet wird.
DE69722213T 1996-07-16 1997-07-14 Optische fasern hergestellt unter verwendung von quarzglas mit ultraniedrigem verlust Expired - Lifetime DE69722213T2 (de)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP18635396 1996-07-16
JP18635396 1996-07-16
PCT/JP1997/002427 WO1998002389A1 (en) 1996-07-16 1997-07-14 Ultralow-loss silica glass and optical fibers made using the same

Publications (2)

Publication Number Publication Date
DE69722213D1 DE69722213D1 (de) 2003-06-26
DE69722213T2 true DE69722213T2 (de) 2004-04-08

Family

ID=16186886

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE69722213T Expired - Lifetime DE69722213T2 (de) 1996-07-16 1997-07-14 Optische fasern hergestellt unter verwendung von quarzglas mit ultraniedrigem verlust

Country Status (8)

Country Link
US (1) US6153546A (de)
EP (1) EP0915065B1 (de)
JP (1) JP3526580B2 (de)
KR (1) KR100283855B1 (de)
AU (1) AU715509B2 (de)
CA (1) CA2260988C (de)
DE (1) DE69722213T2 (de)
WO (1) WO1998002389A1 (de)

Families Citing this family (34)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6683019B2 (en) * 2001-06-13 2004-01-27 Abb Lummus Global Inc. Catalyst for the metathesis of olefin(s)
US20050124839A1 (en) * 2001-06-13 2005-06-09 Gartside Robert J. Catalyst and process for the metathesis of ethylene and butene to produce propylene
US20030042357A1 (en) * 2001-08-31 2003-03-06 Van Cor Dale E. Transmission system
US20040057692A1 (en) 2002-08-28 2004-03-25 Ball Laura J. Low loss optical fiber and method for making same
EP1663890B1 (de) * 2003-08-29 2020-09-23 Corning Incorporated Erdalkalimetalloxid enthaltende lichtleitfaser und verfahren und vorrichtung zur herstellung
CN100545113C (zh) * 2003-08-29 2009-09-30 康宁股份有限公司 含碱金属氧化物的光纤及制造该光纤的方法和设备
US20060130530A1 (en) * 2004-12-21 2006-06-22 Anderson James G Method of doping silica glass with an alkali metal, and optical fiber precursor formed therefrom
JP2009517702A (ja) 2005-11-23 2009-04-30 コーニング インコーポレイテッド 低減衰／非ゼロ分散シフト光ファイバ
US7536076B2 (en) * 2006-06-21 2009-05-19 Corning Incorporated Optical fiber containing alkali metal oxide
US20080004169A1 (en) * 2006-06-28 2008-01-03 Adam James Ellison Ultra low expansion glass and methods for making
US8315495B2 (en) * 2009-01-30 2012-11-20 Corning Incorporated Large effective area fiber with Ge-free core
US7689085B1 (en) 2009-01-30 2010-03-30 Corning Incorporated Large effective area fiber with GE-free core
KR101102118B1 (ko) * 2009-06-02 2012-01-02 김선권 환경 친화성 무기계 세라믹 바인더의 제조방법
US9139466B2 (en) 2011-01-20 2015-09-22 Sumitomo Electric Industries, Ltd. Optical fiber preform, optical fiber, and method of manufacturing optical fiber preform
JP5974488B2 (ja) 2011-04-15 2016-08-23 住友電気工業株式会社 光ファイバおよび光ファイバ母材
EP2535319A3 (de) 2011-06-15 2014-09-10 Sumitomo Electric Industries, Ltd. Verfahren zur Herstellung einer optischen Faser
JP2013032241A (ja) 2011-08-01 2013-02-14 Sumitomo Electric Ind Ltd 光ファイバ母材製造方法
JP5974455B2 (ja) 2011-11-21 2016-08-23 住友電気工業株式会社 光ファイバ母材、光ファイバ製造方法および光ファイバ
JP5903896B2 (ja) 2012-01-11 2016-04-13 住友電気工業株式会社 光ファイバ母材製造方法
JP6136261B2 (ja) 2012-01-23 2017-05-31 住友電気工業株式会社 光ファイバ
EP2808310B1 (de) 2012-01-25 2017-08-23 Sumitomo Electric Industries, Ltd. Verfahren zur herstellung einer glasfaservorform
DK2813477T3 (en) 2012-02-09 2017-09-11 Sumitomo Electric Industries METHOD FOR MANUFACTURING OPTICAL FIBER PREFORM, OPTICAL FIBER PREFORM, AND OPTICAL FIBER
CN104203850B (zh) 2012-03-21 2016-12-28 住友电气工业株式会社 光纤的制造方法
JP2014043378A (ja) 2012-08-27 2014-03-13 Sumitomo Electric Ind Ltd 光ファイバ製造方法および光ファイバ
JP6048105B2 (ja) 2012-12-12 2016-12-21 住友電気工業株式会社 光ファイバ製造方法および光ファイバ
CN104981440B (zh) 2013-02-04 2017-08-29 住友电气工业株式会社 光纤母材以及光纤母材的制造方法
CN106458696B (zh) 2014-07-22 2019-05-17 住友电气工业株式会社 光纤母材的制造方法及光纤母材
JP6551109B2 (ja) 2014-11-20 2019-07-31 住友電気工業株式会社 光ファイバ
JP6536036B2 (ja) * 2015-01-14 2019-07-03 住友電気工業株式会社 光ファイバ
JP6613604B2 (ja) 2015-04-30 2019-12-04 住友電気工業株式会社 光ファイバ母材
JP6690296B2 (ja) * 2016-02-26 2020-04-28 住友電気工業株式会社 光ファイバ
EP3740796A1 (de) 2018-01-18 2020-11-25 Corning Incorporated Verlustarme wellenleiter aus glas mit hoher transmission unter verwendung von ag-na-ionenaustausch
US10690858B2 (en) 2018-02-28 2020-06-23 Corning Incorporated Evanescent optical couplers employing polymer-clad fibers and tapered ion-exchanged optical waveguides
US10585242B1 (en) 2018-09-28 2020-03-10 Corning Research & Development Corporation Channel waveguides with bend compensation for low-loss optical transmission

Family Cites Families (16)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US2134050A (en) * 1937-02-27 1938-10-25 Warren C Kimbrough Gas trap
US3971645A (en) * 1975-09-12 1976-07-27 Bell Telephone Laboratories, Incorporated Method of making compound-glass optical waveguides fabricated by a metal evaporation technique
NL8103089A (nl) * 1981-06-26 1983-01-17 Philips Nv Optische vezel van het graded index type en werkwijze voor de vervaardiging daarvan.
DE3581455D1 (de) * 1984-08-30 1991-02-28 Nippon Oxygen Co Ltd Verfahren zur herstellung von glas.
US4666247A (en) * 1985-02-08 1987-05-19 American Telephone And Telegraph Company, At&T Bell Laboratories Multiconstituent optical fiber
JPS63195147A (ja) * 1987-02-10 1988-08-12 Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> 光フアイバ
US5262365A (en) * 1990-02-05 1993-11-16 The Furukawa Electric Co., Ltd. Quartz glass doped with rare earth element and production thereof
US5212757A (en) * 1991-10-03 1993-05-18 At&T Bell Laboratories Fatigue resistant optical fiber
JPH05105483A (ja) * 1991-10-11 1993-04-27 Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> 多成分酸化物ガラスおよびこれを用いた光フアイバ
US5146534A (en) * 1991-11-12 1992-09-08 At&T Bell Laboratories SiO2 -based alkali-doped optical fiber
JPH05294670A (ja) * 1992-04-13 1993-11-09 Fujikura Ltd 希土類ドープコアファイバの製造方法
JP2755280B2 (ja) * 1992-12-28 1998-05-20 日本電信電話株式会社 光増幅用希土類ドープ光ファイバ
JP3367624B2 (ja) * 1995-01-17 2003-01-14 日本電信電話株式会社 光ファイバ
JPH08198637A (ja) * 1995-01-17 1996-08-06 Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> ガラス組成物
US5655046A (en) * 1994-12-14 1997-08-05 Nippon Telegraph And Telephone Corporation Glass composition, optical fiber made of same, and method for preparing glasses
JP2832340B2 (ja) * 1996-01-19 1998-12-09 工業技術院長 光誘起屈折率変化ガラス材料の製造方法、光誘起屈折率変化ガラス材料およびガラス材料の屈折率変化方法

Also Published As

Publication number Publication date
CA2260988C (en) 2002-10-29
WO1998002389A1 (en) 1998-01-22
KR100283855B1 (ko) 2001-02-15
EP0915065A1 (de) 1999-05-12
EP0915065B1 (de) 2003-05-21
EP0915065A4 (de) 1999-09-29
JP3526580B2 (ja) 2004-05-17
AU3460197A (en) 1998-02-09
CA2260988A1 (en) 1998-01-22
DE69722213D1 (de) 2003-06-26
KR20000023743A (ko) 2000-04-25
US6153546A (en) 2000-11-28
AU715509B2 (en) 2000-02-03

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE69722213T2 (de) Optische fasern hergestellt unter verwendung von quarzglas mit ultraniedrigem verlust
DE60105978T2 (de) Lichtverstärktes glas und verfahren zu dessen herstellung
EP2072477B1 (de) Kernglas im Alkali-Zink-Silikat-Glassystem für einen faseroptischen Lichtleiter und faseroptischer Lichtleiter mit diesem Kernglas
DE69600652T2 (de) Durchsichtige Glaskeramik
DE69920251T2 (de) Lichtverstärkendes glas, lichtverstärkendes mediumund harzbeschichtetes lichtverstärkendes medium
DE60106827T2 (de) Lichtverstärkendes Glas
DE2940451C2 (de)
DE60025823T2 (de) Optische wellenleiterfaser mit niedrigem wasserpeak und verfahren zu ihrer herstellung
DE69214252T2 (de) Mit Alkalimetall dotierte, auf SiO2 basierende optische Faser
DE69625155T2 (de) Optische Einmodennachrichtenfaser und Verfahren zur Herstellung der Faser
DE69500711T2 (de) Ga- und/oder In-enthaltende AsGe-Sulfidgläser
DE69504461T2 (de) Durchsichtige Glaskeramik
DE2632689A1 (de) Optischer wellenleiter
DE2908697A1 (de) Nah-infrarot-absorptionsfilter fuer farbfernsehkameras
DE19936699A1 (de) Blei- und bariumfreies Kristallglas
DE69919733T2 (de) Optische faser für lichtverstärker
DE1621002A1 (de) Infrarotdurchlaessiges,amorphes Glas,das Germanium und Selen enthaelt
DE19758481C1 (de) Thermisch hochbelastbares Glas für Lampenkolben und dessen Verwendung
EP0209927B1 (de) Verfahren zur Herstellung von Glaskörpern
DE3102783C2 (de) Fluoridglas
DE2746418C3 (de)
EP1425250A1 (de) Germaniumoxid-haltige bismutoxidgläser
DE2122896B2 (de) Optischer wellenleiter in form einer glasfaser
DE2930816C2 (de) Optische Faser mit einem Mantelglas, hauptsächlich aus Quarzglas, und einem Kernglas aus Quarzglas, dotiert mit Ge0&amp;darr;2&amp;darr; und P&amp;darr;2&amp;darr;0&amp;darr;5&amp;darr;, Ti0&amp;darr;2&amp;darr;, Al&amp;darr;2&amp;darr;0&amp;darr;3&amp;darr; und/oder Ga&amp;darr;2&amp;darr;0&amp;darr;3&amp;darr;
DE2939339C2 (de)

Legal Events

Date Code Title Description
8364 No opposition during term of opposition
8320 Willingness to grant licences declared (paragraph 23)