DE2632689A1 - Optischer wellenleiter - Google Patents

Optischer wellenleiter

Info

Publication number
DE2632689A1
DE2632689A1 DE19762632689 DE2632689A DE2632689A1 DE 2632689 A1 DE2632689 A1 DE 2632689A1 DE 19762632689 DE19762632689 DE 19762632689 DE 2632689 A DE2632689 A DE 2632689A DE 2632689 A1 DE2632689 A1 DE 2632689A1
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
glass
core
cladding
refractive index
geo
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
DE19762632689
Other languages
English (en)
Other versions
DE2632689C2 (de
Inventor
Ishwar Dayal Aggarwal
Eric Nils Randall
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Corning Glass Works
Original Assignee
Corning Glass Works
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Corning Glass Works filed Critical Corning Glass Works
Publication of DE2632689A1 publication Critical patent/DE2632689A1/de
Application granted granted Critical
Publication of DE2632689C2 publication Critical patent/DE2632689C2/de
Expired legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03CCHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C13/00Fibre or filament compositions
    • C03C13/04Fibre optics, e.g. core and clad fibre compositions
    • C03C13/048Silica-free oxide glass compositions
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03BMANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
    • C03B37/00Manufacture or treatment of flakes, fibres, or filaments from softened glass, minerals, or slags
    • C03B37/01Manufacture of glass fibres or filaments
    • C03B37/012Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments
    • C03B37/014Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments made entirely or partially by chemical means, e.g. vapour phase deposition of bulk porous glass either by outside vapour deposition [OVD], or by outside vapour phase oxidation [OVPO] or by vapour axial deposition [VAD]
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03BMANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
    • C03B37/00Manufacture or treatment of flakes, fibres, or filaments from softened glass, minerals, or slags
    • C03B37/01Manufacture of glass fibres or filaments
    • C03B37/012Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments
    • C03B37/014Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments made entirely or partially by chemical means, e.g. vapour phase deposition of bulk porous glass either by outside vapour deposition [OVD], or by outside vapour phase oxidation [OVPO] or by vapour axial deposition [VAD]
    • C03B37/01413Reactant delivery systems
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03CCHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C13/00Fibre or filament compositions
    • C03C13/04Fibre optics, e.g. core and clad fibre compositions
    • C03C13/045Silica-containing oxide glass compositions
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03CCHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C13/00Fibre or filament compositions
    • C03C13/04Fibre optics, e.g. core and clad fibre compositions
    • C03C13/045Silica-containing oxide glass compositions
    • C03C13/046Multicomponent glass compositions
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B6/00Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings
    • G02B6/02Optical fibres with cladding with or without a coating
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03BMANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
    • C03B2201/00Type of glass produced
    • C03B2201/06Doped silica-based glasses
    • C03B2201/20Doped silica-based glasses doped with non-metals other than boron or fluorine
    • C03B2201/28Doped silica-based glasses doped with non-metals other than boron or fluorine doped with phosphorus
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03BMANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
    • C03B2201/00Type of glass produced
    • C03B2201/06Doped silica-based glasses
    • C03B2201/30Doped silica-based glasses doped with metals, e.g. Ga, Sn, Sb, Pb or Bi
    • C03B2201/31Doped silica-based glasses doped with metals, e.g. Ga, Sn, Sb, Pb or Bi doped with germanium
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03BMANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
    • C03B2203/00Fibre product details, e.g. structure, shape
    • C03B2203/10Internal structure or shape details
    • C03B2203/22Radial profile of refractive index, composition or softening point
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03BMANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
    • C03B2203/00Fibre product details, e.g. structure, shape
    • C03B2203/10Internal structure or shape details
    • C03B2203/22Radial profile of refractive index, composition or softening point
    • C03B2203/225Matching coefficients of thermal expansion [CTE] of glass layers
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03BMANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
    • C03B2203/00Fibre product details, e.g. structure, shape
    • C03B2203/10Internal structure or shape details
    • C03B2203/22Radial profile of refractive index, composition or softening point
    • C03B2203/24Single mode [SM or monomode]
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03BMANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
    • C03B2203/00Fibre product details, e.g. structure, shape
    • C03B2203/10Internal structure or shape details
    • C03B2203/22Radial profile of refractive index, composition or softening point
    • C03B2203/26Parabolic or graded index [GRIN] core profile
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03BMANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
    • C03B2207/00Glass deposition burners
    • C03B2207/46Comprising performance enhancing means, e.g. electrostatic charge or built-in heater
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03BMANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
    • C03B2207/00Glass deposition burners
    • C03B2207/50Multiple burner arrangements

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Geochemistry & Mineralogy (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • General Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Glass Compositions (AREA)
  • Optical Fibers, Optical Fiber Cores, And Optical Fiber Bundles (AREA)
  • Manufacture, Treatment Of Glass Fibers (AREA)

Description

Die Erfindung "betrifft als optische Wellenleiter geeignete Glasfasern, welche P3O5 und GeO2 enthalten.
Pur die zukünftigen Nachrichtenübertragungssysteme sind wegen der steigenden Besetzung optische Wellenleiter im Prequenzbe-
reich von etwa 10 Hertz von steigendem Interesse. Sie 'bestehen grundsätzlich aus einem Kern und einem Mantel mit niedrigerem Brechungsindex, n^, als der des Kerns n,.
Beschichtete Pasern wurden, bereits zur Übertragung auf kürzere Strecken verwandt, deren numerische Öffnungsweite oder Apertur (NA) als Maß der lichtsammelnden Pähigkeit der Paser annähernd definiert werden kann als
NA = ^2ηΔ~ (1)
wobei η den durchschnittlichen Brechungsindex von Kern und Mantel und Δ die Brechungsdifferenz von Kern und Mantel "bezeichnet. In gewöhnlichen optischen Pasern wird Δ hoch gewählt, damit auch NA groß ist und die Paser eine möglichst große Menge des von der Lichtquelle ausgesendeten Lichts aufnimmt.
709811/1084 _2_
2532689
Für die Nachrichtenübertragung sind diese Fasern ungeeignet, weil sie eine viel zu hohe Dämpfung infolge von Streuung und Absorption durch. Verunreinigungen aufweisen. Sie müssen daher aus sehr reinem Glas hergestellt werden. Dies kann z.B. durch Flammhydrolyse nach den US-PS 3,711,262, 3,737,292, 3,737,293, 3,826,560 (im letzteren Falle als Gradientenfaser) erfolgen.
Aus einer Reihe von Gründen wurde der Wert Λ in optischen Wellenleitern verhältnismäßig niedrig gehalten. Optische Wellenleiter mit niedrigen Verlusten bestehen meist aus sehr reinem Glas, insbesondere reiner Kieselsäure, versetzt mit einer die Brechungsdifferenz einstellenden Dotierung. Bei der Herstellung durch Flammhydrolyse wurden hierzu bisher meist mehrwertige Oxide verwandt, wie Titanoxid, Tantaloxid und dergleichen, das nach oben auf etwa 15 Gew. % begrenzt werden mußte, weil durch zu hohe Dotierung die an sich sehr geringe Dämpfung der Kieselsäure infolge von Absorption und innerer Streuung wieder verschlechtert wird.
Zwar kann der Brechungsindex des SiOp Glases auch durch Zusatz von Germaniumoxid erhöht werden, das gleichzeitig sehr geringe Absorption und innere Streuung verursacht. Versuche, größere Mengen von Germaniumoxid z.B. durch Flammhydrolyse einzuführen, blieben aber erfolglos, weil selbst bei großer Mengenzufuhr z.B. von Germaniumtetrachlorid in die zu hydrolisierende Mischung unweigerlich weniger als 1 Gew. % Germaniumoxid in dem Faserglas
709811/18S4
erschienen. Eine theoretische Erklärung kann in der hohen Flammentemperatur und der Ofentemperatur von 1750 - 1850 C gesucht werden, die das Germaniumoxid -verflüchtigen, anstatt es zu verglasen. Die verfügbaren Dampfdruckwerte bestätigen dies. Ein Weg zur Herstellung von Gläsern mit bis zu 100 % Germaniumoxid beschreibt die gleichlaufende Anmeldung P 2364803.5-45. Hiernach werden durch Plammhydrolyse die Oxidpartikel als poröse Vorform niedergeschlagen und zu einem unporösen festen Körper konsolidiert. Dabei darf die Temperatur 1600°G nicht überschreiten und soll während der Konsolidation in einem Bereich zwischen der Mindestkonsolidationstemperatur des Glases und 2000G über derselben liegen.
Wird nun die Verfahrenstemperatur unter der Verflüchtigungstemperatur von GeO2 gehalten, so lassen sich optische Wellenleiterfasern mit einem mit Germaniumoxid dotierten Kern herstellen, jedoch bleibt die numerische Apertur auf höchstens 0,2 beschränkt, weil infolge der unterschiedlichen Eigenschaften von Kern und Mantel, insbesondere verschiedene Wärmedehnung und Erweichungstemperaturen, nur eine begrenzte Menge GeOp in den Faserkern eingebaut werden kann. Soll beispielsweise eine optische Wellenleiterfaser durch Flammhydrolyse hergestellt werden deren Kern 20 Gew. % GeO2 und 80 % SiO2 enthält, so beträgt der Wärmeausdehnungskoeffizient des Kernglases etwa 19 x 10 /0C, während die Wärmedehnung des Mantels aus reiner Kieselsäure etwa 6 χ 10""'/0C beträgt. Der Dehnungsunterschied um 13 wird
j IStACH(SERSiCHT I
dann dazu führen, daß die Vorform aus niedergeschlagenen feinen Glaspartikeln (sog. "soot") während der Konsolidation reißt. Der Zusatz von etwa 13 - 18 % B„0^ zu dem SiO ? Hantelglas erhöht dessen Wärmedehnung auf einen innerhalb annelim-"barer Grenzen liegenden Wert, sodaß die Vorform nicht reißt. Eine unerwünschte Nebenfolge dieses B„CL· Zusatzes zum Mantelglas besteht aber in einer Senkung der Ziehtemperatur auf 50 - 2100C unter der des Kernglases (letzteres: etwa 18000G). Bei einem derart großen Viskositätsunterschied wird die Regelung des Faserdurchmessers ein ernsthaftes Problem. Infolgedessen mußten optische Wellenleiter mit Germaniumoxid als Dotiermittel zur Erhöhung des Brechungsindex vergleichsweise kleine Δ Werte haben. Diese wiederum bedingen sehr viel kleinere numerische Aperturen als in gewöhnlichen optischen Fasern, nämlich etwa 0,15 - 0,2 gegenüber 0,6.
Optische Wellenleiter werden häufig verkabelt, um im Falle des Bruchs einer Faser Ausweichleitungen zu haben und eine größere Lichtmenge übertragen zu können. Die bei der Verkabelung oft entstehenden willkürlichen Biegungen der Fasern lassen sich durch die Gleichung darstellen
T= c a2P (2)
T ΊΓ
worin c und ρ auf die Geometrie der willkürlichen Biegungen bezogene, sowie auf den Faserindexgradienten bezogene Werte darstellen und a der Radius des Faserkerns ist. Die Untersuchung
_ R —
2632589
dieser &leic3xung (2) zeigt, daß der Verzerrungsverlust j* durch. Verringerung des Kernradius herabgesetzt werden kann. Ebenfalls möglich ist dies durch Erhöhung von Δ oder Verringerung Ton ρ und c durch geeignete Faserpackung. Erfinddungsgemäß wurde von dem Versuch ausgegangen, die Faserverluste infolge von willkürlichen Biegungen durch Steigerung von δ zu senken. Infolge des aus der Gleichung (1) ersichtlichen Verhältnisses haben solche Pasern gleichzeitig eine höhere numerische Apertur.
Erfindungsgemäß soll unter Vermeidung der geschilderten Nachteile eine optische Wellenleiterfaser mit hoher numerischer Apertur, mit ohne Rücksicht auf die Brechungsindexdifferenz verträglicher Wärmedehnung und Erweichungstemperatur von Kern und Mantel geschaffen werden.
Erfindungsgemäß wird diese Aufgabe durch einen optischen Wellenleiter gelöst, dessen Kern Po°5 ^21^ &e0? in einer e*11«2*1 größeren Brechungsindex als der Mantel verleihenden Menge und nicht mehr als 10 Millionteile kationische Verunreinigungen in Fasern von Übergangsmetallen enthält.
Diese Lösung stellt auch gegenüber den in letzter Zeit bereits vorgeschlagenen Wellenleiterfasern mit Germaniumoxid als Dotiermittel zur Erhöhung der numerischen Apertur einen besonderen technischen Fortschritt dar. Durch die Seilweise Ersetzung von durch ^2 0R wir<i die Erweichungstemperatur ohne wesentliche
709811/1084
j NACHeER£iCHT|
Veränderung der Wärmedehnung gesenkt. Je nach der Menge von P2O1- und GeOp in dem entstehenden Glas entsteht häufig eine Erhöhung des Brechungsindex im Vergleich zu GeOp-SiOp Gläsern mit gleicher SiOp Menge. Dies ist vorteilhaft, weil sich diese Wellenleiterfasern ohne die bisher auftretenden Schwierigkeiten mit hoher numerischer Apertur herstellen lassen. Durch Anpassung des GeOp : ^2 0R Verhältnisses in dem Kernglas kann die Erweichungstemperatur des Kernglases auf einen mit dem Mantel verträglichen Wert eingestellt werden. Gleichzeitig behalten die Fasern den Vorteil der großen Festigkeit der nur mit Germaniumoxid dotierten Fasern, der geringen Absorption des übertragenen Lichts. Ferner ist die bei mit Titanoxid dotierten Fasern erforderliche Wärmebehandlung nach dem Ausziehen unnötig.
In den Zeichnungen zeigen:
Die Figur 1 perspektivisch vergrößert einen optischen Wellenleiter, die Figur 2 den Querschnitt entlang der Schnittlinie 2-2 der Figur 1, die Figur 3 ein Dreiphasendiagramm des Brechungsindex als Funktion der Po0·? - GeOp - SiO2 Zusammensetzung, die Figur 4 als Schaubild den linearen Wärmeausdehnungskoeffizienten bei 25 - 2000C in Abhängigkeit vom Oxidgehalt in der Kieselsäure der beiden Systeme B2O, - SiO? und GeO2 - SiO2, die Figur 5 als Schaubild die Erweichungstemperatur als η = 10'' als Funktion des Anteils in Gew. % von GeO2, ρ ο
709S11/10S&
NACHiäEFÄICHT
2632189
oder B3O5 für Gläser der Systeme GeO2-SiO2, P3O5 - SiO2 und BpO^ - SiOp, und die Figur 6 als Schaubild den Brechungsindex als Funktion des GeOp Anteils in Gew. % für Gläser des Systems GeOp - SiO?.
Die an einem Ausführungsbeispiel "beschriebene Erfindung ist gleichermaßen auf Einfachmoden- und Multimoden-Wellenleiter, sowie auf Wellenleiter mit konstantem oder Gradientenindex der Brechung anwendbar.
Der in den Figuren 1 und 2 gezeigte optische Wellenleiter enthält erfindungsgemäß einen Mantel 12 aus sehr reinem Glas und einen Kern 14 aus sehr reinem Glas, das mit GeO2 und P2O1- so stark dotiert ist, daß sein Brechungsindex höher wird als der des Mantels. In manchen Wellenleitern besteht der Mantel nicht aus einer besonderen Schicht mit unterschiedlichen Merkmalen gegenüber dem Kern und den benachbarten Schichten, Tgl. US-PS 3,647,406 und 3, 785,718, bei denen der Brechungsindex von einem hohen Wert im Kernbereich auf einen niedrigen Wert an der Faseroberflache allmählich abnimmt. Anstatt eines Mantels mit konstantem Brechungsindex kann dieser nach der Oberfläche zu allmählich abnehmen; u.U. kann der Mantel dann auch einen Bereich enthalten, dessen Brechungsindex höher ist als der der benachbarten Schicht mit kleinerem Radius, aber niedrigerem Brechungsindex als der Kern. Der Ausdruck Mantel wird daher hier in allgemeinerer Form als der Bereich der Faser mit unbedeutender Lichtfortpflanzung definiert und verwendet.
703811/10S4
2632B89
Das Verhältnis von P2 0R zu Ge0 2 wir<i so gewählt, daß das Kernglas eine mit der des Mantelglases verträgliche Erweichungstemperatur bekommt. Wird zunächst ein Hohler Kern erzeugt, der dann beim Ausziehen zusammenfällt, so liegt die Erweichungstemperatur des Kernglases bis zu etwa 50 C niedriger als die des Mantelglases, damit das Kernglas leicht fließt und beim Ausziehen den Hohlraum ausfüllt.
Me Figur 3 erläutert einen weiteren Vorteil der teilweisen Ersetzung von GeO2 durch P2 0R* ^s vmr^-e überraschend gefunden, duß dies zu einem höheren Brechungsindex führen kann, obwohl der Brechungsindex von ^2 0R nie(3-rige:c als der von GeO2 ist. Überdies ändert diese Ersetzung den Wärmeausdehnungskoeffizienten nur sehr wenig. Wie die Figur 3 zeigt, erfahren die Gläser mit weniger als 70 Gew. % SiO2 eine merkliche Änderung des Brechnungsindex, wenn ein Teil des GeOp durch PpOp- ersetzt wird. Ferner ist für jeden im Bereich von 0-70 % liegenden SiOp Gehalt der Brechungsindex am größten, wenn die PpCV Menge etwa 40 - 60 % des gesamten Dotiergehalts (PpO1- + GeOp) beträgt.
Eine teilweise Ersetzung kann selbst bei gleichem Brechungsindex vorteilhaft sein, tfeil P2O5 billiger als GeO2 ist. ^Beispielsweise ist ein Glas aus 65,4% SiO2, 7,4 % GeO2 und 36,2 % PpO,_ mit dem Brechungsindex 1,5 wesentlich billiger als ein Glas aus 56,4 % SiO2 und 43,6 % GeO2, dessen Brechungsindex ebenfalls 1,5 beträgt.
709811/106A
NACHCiSRElCHT
Die Tabelle I vergleicht verschiedene Glaseigenschaften des Systems GeOp - SiO2 - JPpOc m^ denen des Systems GeOp - SiOp "bei jeweils gleichem SiOp Gehalt und erläutert damit einige Wirkungen der teilweisen Ersetzung von GeOp durch PoOp- in Germaniumoxidsilikatgläs ern
709811/10S4
Glas Zusammensetzung
in Gew. %
GeO2 SiO2
Tabelle I Eigenschaften des £o°5 - GeOp - SiOp Glases
Brechungs- Brechungs- Erweichungs- Kühltemperatur index η index η1 Δη temperatur C C
AA
AB
AC
AE
"·"·» AF
AG
AH
AI
AJ
AK
AL
AM
AN
89,2
82,7
78,6
0
0
0
10,8 17,3 21,4
93.2 6,8
82.3 17,7
79.4 20,6
58.7 25,7 15,6 60,1 26,8 13,1
61.8 29,6 8,6
29.4 33,7 36,9
35.5 34,1 30,4 48,0 34,6 17,4 41,0 36,0 23,0 17,3 40,7 42,0
1,620 1,628 1,632 1,594 1,563 1,558 1,554 1,552 1,546 1,546 1.542 1,538
1,541 1,533
1,608 1,608 1,608
1,546 1,544 1,537 1,531 1.531 1,530
1,529 1,521
0,012 - 660
0,020 0,008 690
0,024 0,008 715
- 0,009 925
- 0,015 930
0,011 1040
0,008 817
0,012 822
0,012 875
890
863
830
843
900
556 571 632 618 613 603 759 721 652 678 776
to
CD
cn
Tabelle I (Fortsetzung)
Glas Zusammen
setzung
in Gew. %
GeO2 SiO2
43,2 33,2 Brechungs
index η
Brechungs
index η1
Δη Erweichungs
temperatur C
Kühltemperatur
AO 23,6 45,4 24,2 1,533 1,518 0,015 - 762
AP 30,4 45,5 17,9 1,528 1,515 0,013 878 725
AQ 36,6 46,3
46,6
10,5
39,7
1,524 1,515 0,009 895 685
D9811 AE
AS
43,1
13,7
51,7
52,8
53,2
35,7
39,6
28,2
1,520
1,520
1,513
1,513
0,007
0,007
996
900
639
709
CJ
«η
AT
AU
AV
12,6
7,6
18,6
54,6 19,5 1,510
1,506
1,508
1,505
1,505
1,504
0,005
0,001
0,004
897
890
914
704
649
731
AW 25,9 56,4 36,2 1,508 1,502 0,006 951 704
AX 7,4 62,9 37,1 1,500 1,500 0,000 897 -
AY 0 64,0 36,0 1,488 1,491 -0,003 932 691
AZ 0 65,4 11,6 1,488 1,490 -0,002 932 -
BA 23,0 66,4 33,6 1,490 1,489 0,001 1131 710
BB 0 1,484 1,487 -0,003 968 611
I ab e 1 1 e I (Fortsetzung)
Glas Zusammensetzung
in Gew. %
Brechungs- Brechungsindex η index η'
Erweichungs- Kühltemperatur temperatur 0 0
GeO,
SiO,
C.
P0O,
BC
BD
BE
BP
BG
BH
BI
BJ
BK
BL
BM
22,9 66,7 9,4 1,488 15,0 66,7 18,3 1,490 7,7 67,7 24,6 1,490 13,2 81,6
7,2 82,9
84,8
91,4
O
100,0
5,2 9,9
11,3
5,1
0 90,6
0 94,0
0 100,0
0 0
1,471 1,470
3,9 1,475 3,5 1,464 9,4 1,464 6,0 1,460 0 1,458
100,0 1,507
1,608 1,485
1,487
1,485
1,471
1,470
1,470
1,464
0,005 1158
0,003 1055
0,005 996
0,000 -
0,000 1270
0,005 1402
0,000 1268
- 1330
M 1403
•Μ 1585
867
731 708 690
853
937
888
938
1050
526
Die Zusammensetzungen, der Tabelle I wurden in zwei verschiedenen Weisen hergestellt. Die G-läser AA Ms BE, BM und BN wurden nach gewöhnlichen Schmelzverfahren durch Erschmelzen der Ansätze in 500 ecm Platintiegeln während 6-10 Stunden im Elektro-Ofen bei 165O0C, Anlassen während 3 Stunden im Tiegel und Kühlen mit Ofenges'chwindigkeit auf Zimmertemperatur hergestellt. Aus dem Tiegel wurden G-laskerne herausgebohrt und Proben für die Yiskositäts- und Dehnungsmessungen bereitet.
Die über 80 % SiO2 enthaltenden Glaser Bi1 - BL wurden durch Flammhydrolyse aus Phosphortrichlorid, G-ermaniumtetrachlorid und Siliziumtetrachlorid hergestellt. Die Rohlinge der nieder- '; geschlagenen Glaspartikel wurden konsolidiert und Prbben heraus-* geschnitten, geschliffen und poliert. ; ■ :
Zur Auswertung des Einflusses der Po^r für GeOp Teilersetzung auf den Brechungsindex wurden die Brechungsindices n1 der entsprechenden Gläser des GeOp - SiOp Systems mit der gleichen Menge an SiO2 ebenfalls in der Tabelle aufgeführt, wobei die "Veränderung des Brechungsindex infolge von P2Op- Ersetzung mit /in bezeichnet ist. Die Messungen wurden an der Natrium-D-Linie durchgeführt. ;
Wie ersichtlich, ist δ η für alle Germaniumoxid enthaltenden Gläser positiv. Da der Brechungsindex vom ^2O1- ^las niedriger als der vom GeO2 Glas ist, deutet ein positiver Wert an darauf hin, daß die Steigerung nicht allein auf der idealen Mischung der beiden
709*11/1054
ORIGINAL IMSPEGTED
Stoffe beruht. Es wird vermutet , daß die Steigerung auf einer Änderung der Koordinationszahl einiger Ge Atome von 4 zu 6 beruht. Phosphorpentoxid bestellt in der Form von PjO10 Molekülen, welche durch schwache van der Wals Kräfte miteinander verbundden sind. Das P*G..q KoIeMiI besteht aus vier gleichen ÜJetraedern mit den Phosphoratomen im Mittelpunkt. Sie sind so miteinander verbunden, daß jeder Tetraeder ein Sauerstoffatom ohne BrüekenMldungen enthält, wodurch möglicherweise die Koordinationszahl der Germaniumatome verändert und damit der Brechungsindex erhöht wird. Der Brechungsindex von reinem SiO? Glas, GeO2 Glas und P3O5 Glas ist jeweils 1,458, 1,608 und 1,507. Binäre Gläser der Tabelle I ohne SiO2, wie z.B. die Gläser AA bis AC haben einen erheblich höheren Brechungsindex als ein PpOt- Glas oder ein GeO« Glas, was als Stütze der obigen Theorie angesehen werden, kann. Der Wert ^n dieser Gläser steigt dabei mit zunehmendem P0Or- Gehalt.
Wie die Gläser BE bis BI zeigen, steigt & η mit zunehmendem SiOp Gehalt. Dies mag; auf der geringeren Anzahl der für den Wechsel der Koordinationszahl zur Verfügung stehenden Germaniumatome beruhen. Obwohl aber die Änderung von δ η für diese viel SiO2 enthaltenden Gläser kleiner ist, wird sie in GeO2 enthaltenden Gläsern nicht negativ. Da der Brechungsindex von P2O5 - SiO2 Gläsern, z.B. den Gläsern AY, AZ und BB niedriger als der entsprechender GeO2 - SiO2 Gläser ist, folgt, daß der Zusatz von P2O5 zu GeO2 - SiO2 Gläsern den Brechungsindex selbst bei geringem GeÖ« Gehalt steigert.«
- 15 -
709811/
Die" Messungen der Wärmedehnung wurden mit einem Differentialdilatometer bei Erhitzungsgeschwindigkeiten von 6OO°C/Std. durchgeführt. Der lineare Ausdehnungskoeffizient wurde für den Bereich von 25 - 3000G errechnet. Für jedes Dreikomponentenglas der Tabelle I wurde der Wärmeausdehnungskoeffizient gemessen und mit dem entsprechenden GeOp - SiO^ Glas mit-gleichem Kieselsäuregehalt verglichen. In jedem Vergleichs fall war die Änderung des Dehnungskoeffizienten kleiner als - 5 χ 10" , das ist geringer als der experimentelle Fehler bei diesen Messungen. Die Ersetzung von P2O,- für GeO2 hat also keine nennenswerte Veränderung des Ausdehnungskoeffizienten zur Folge.
Die Tabelle I verzeichnet auch die Erweichungstemperatur, das ist die einer Glasviskosität von 10 * Poise entsprechende Temperatur. Die teilweise Ersetzung von GeOp durch P2Oc verursacht also eine Erweichungstemperatur, die niedriger als für die entsprechenden GeO2 - SiO2 Gläser ist. Ebenfalls angegeben ist die Kühltemperatur (annealing point), das ist die einer Glasviskosität von 10 J entsprechende Temperatur. Sie steigt mit zunehmendem P2Oc Gehalt, also umgekehrt wie im Falle der Erweichungstemperatur. Möglicherweise erhält das Glas bei den niedrigen Temperaturen im Kühlbereich infolge der Änderung der Koordinationszahl einiger Ge Atome von 4 auf 6 eine starre Struktur. Bei den höheren Temperaturen im Erweichungsbereich werden diese Bindungen gelöst und verursachen
7098U/1064
damit eine niedrigere Viskosität. Die Erweichungstemperatur ist von Bedeutung, weil die Fasern bei einer ihr entsprechenden Viskosität gezogen werden. Der Ziehvorgang wird leichter, wenn die Erweichungstemperaturen von Kern und Mantel gut aufeinander abgestimmt sind, bzw. einander entsprechen, wobei vorzugsweise das Kernglas eine etwa 1 - 4-mal niedrigere Viskosität bei der Ziehtemperatur hat als das Mantelglas. Infolge der erläuterten Glaseigenschaften des GeOp - SiO2 - P2O1- Systems können aus solchen Gläsern Wellenleiter leichter hergestellt werden und haben eine höhere numerische.Apertur als bekannte Wellenleit er.
Der Mantel besteht meist aus sehr reinem optischen Glas wie Kieselsäure oder einem Kieselsäure enthaltenden Glas. Der Kern enthält ein sehr reines optisches Glas mit einer zur Einstellung der gewünschten numerischen Apertur (NA) über den Brechungsindex erzeugenden Dotierung von GeO2 und P2O1-, deren relative Anteile so gewählt werden, daß die Erweichungstemperaturen von Kern und Mantel vereinbar sind. Dabei wurde gefunden, daß zur Vermeidung übermäßiger Lichtdämpfung das Kernglas des erfindungsgemäßen Wellenleiters eine 10 Millionteile Übergangsmetalle ausmachende Verunreinigungshöhe nicht überschreiten soll. Das bevorzugte Mantelmaterial besteht aus Silikatglas mit einem die Wärmedehnung mit der des Kerns vereinbar gestaltenden B„0^ Menge. Die Wärmedehnung des Kerns kann der des Mantels gleich sein, übersteigt sie aber vorzugsweise nur bis zu ca. 5 x 10"'/0C,
70981 1/1054
•um im Mantel eine f as erv er stärkende Kompressionskraft zu erzeugen. Sie kann aber die Manteldehnung auch noch um 15 χ 10" /0C übersteigen.
Zur Auslegung der erfindungsgemäßen Wellenleiterfaser wird zunächst die erforderliche numerische Apertur der Faser bestimmt. Bei bekanntem Mantelmaterial ist auch dessen Brechungsindex n? bekannt. Es besteht der Mantel z.B. aus SiOp dotiert mit BpO7., so wird n? mit 1,458 (dem Brechungsindex von Kieselsäure).
Unter Anwendung der bekannten Verhältnisgleichung
- n\ (3)
kann der Brechungsindex n^ des Kerns errechnet werden. Die gesamte Dotiermenge GeO ? + PpOp- wird aus der Figur 3 ermittelt. Ist z.B. n. = 1,48, so enthält das Kernglas etwa 74 % SiOp und
26 % GeO0 + P0O1-.
2 2 5
Da bei gleichem Kieselsäuregehalt ein GeO2 - SiOp Glas im wesentlichen die gleiche Dehnung wie ein GeO2 - SiO2 - P2O1- Glas hat, kann an Hand der Figur 4 die zur Anpassung der Manteldennung an die des Kerns erforderliche B2O5 Menge bestimmt werden. Hat z.B. ein etwa 30 % Dotiermittel (GeO2 + P2 0K) enthaltendes Kernglas einen Dehnungskoeffizient von etwa 25 x 10 /0G, so entspricht dies einem Mantelglas aus 21 % B2O., und 79 %
- 18 -
709811/1054
Da der Dehnungskoeffizient des Kerns bis zu 5 höher als der des Mantels sein kann, so kann dieser 16 - 21 % BpO^ enthalten, was einem Dehnungsbereich von 20 - 25 x 10 /0C entspricht.
Die Erweichungstemperatur des Mantelglases kann von der Kennlinie 60 der Figur 5 abgelesen werden. Infolge der hohen Erweichungstemperaturen von Germaniumoxid - Silikatgläsern (Kennlinie 62) ist ein solches Kernglas bei den Faserziehtemperaturen härter als das Mantelglas. Die Kennlinie 64 zeigt demgegenüber die wesentlich niedrigeren Erweichungstemperaturen von I"pO|- - SiOp Giäsern. Hierfür konnte keine Wechselwirkung von PpOc ^11^· G"eOp fes"tSes'*;ell"t werden. Da ferner die Kennlinie 62 linear verläuft, kann die Erweichungstemperatur T. des Drei komponent englas es xPpOpj-yGeOp-zSiOp'
aus
Ttg = I1 - yS (4)
berechnet werden, wobei T* die aus der Kennlinie 64 der Figur 6 bestimmte Erweichungstemperatur des binären Glases xPpOj-»(y+z) SiOp und S die für die prozentualen Zusätze von GeOp eintretende Abnahme der Erweichungstemperatur des binären Glases GeOp - SiOp, ermittelt nach der Kennlinie 62 als 4,52, bezeichnet. Wie oben erwähnt ist die Dotiermittelmenge ( χ + y) die zur Einstellung des Brechungsindex n^ erforderliche Menge. So können versuchsweise verschiedene Werte χ angenommen werden, bis die gewünschte Erweichungstemperatur erreicht wird. Noch einfacher ist die
- 19 -
709811/1054
- 19 - j NACHGEREtCHTl
unmittelbare Ablesung der Temperatur T, aus einem dreidimensionalen SchauMld der Erweichungstemperatur.
Während der Brechungsindex bei über 70 % SiOp verhältnismäßig konstant bleibt, ist er für PpOp- und GeO2 Anteile bei weniger als 70 % SiO2 nicht linear, Figur 3, sodaß bei Auswahl eines Kerns aus dem letztgenannten Bereich zur Ermittlung optimaler Werte für Brechungsindex, Dehnung und Erweichungstemperatur von Kern und Mantel Versuche durchgeführt werden müssen.
Infolge der hohen erforderlichen Reinheit des Kernglases wird der auszuziehende Körper zweckmäßig durch Flainmhydrolyse hergestellt, entsprechend US-PS 3,711,262, 3,737,292, 3,737,293, 3,826,560. Infolge der Flüchtigkeit von GeO2 und P3O5 sollten die in der oben erwähnten Anmeldung P 23 64 803.5 erläuterten Maßregeln beim Niederschlag der feinen Glaspartikel (soot) und der Konsolidation beachtet werden. Eine Glasschicht aus GeO2 und P2O5 soll in der Weise erzeugt werden, daß zunächst durch Niederschlag von Oxidpartikeln eine poröse Vorform gebildet, und diese dann zu einem festen, unporösen Körper konsolidiert wird. Die Temperatur der die Flamme und der die Vorform umgebenden Atmosphäre soll so niedrig sein, daß das Glas beim Niederschlag aus der Flamme zunächst in feinteiliger Partikelform (soot) bleibt, also noch nicht konsolidiert ist. Ferner soll die Konsolidationstemperatur etwa 16000C nicht übersteigen und in einem Bereich zwischen der Mindestkonsolidationstemperatur des jeweiligen Glases und etwa 2000C darüber gehalten werden.
7098 11/1054 - 20 -
_ 20 - I NACH'3£:REiCHT
Der Träger wird entfernt, und die verbleibende hohle Vorform bis nahe an die Erweichungstemperatur und eine zum Ausziehen geeignete Viskosität erhitzt, dann ausgezogen, sodaß der Hohlraum zusammenfällt und eine feste Faser entsteht, bis der gewünschte Querschnitt erreicht ist.
Meist sollen die Fasern bei Wellenlängen von 450 - 1350 mn verwendet werden. Die Fasern können erfindungsgemäß mit Dämpfung s wer ten von weniger als 100 dB/lim bei 800 - 900 nm hergestellt werden, sind also zur Verwendung als Lichtleiter in Fachrichtensystemen geeignet.
Die Auslegung eines erfindungsgemäßen Wellenleiters und Vorteile gegenüber bekannten GeOp - SiOp Leitern seien am folgenden Beispiel erläutert.
Je nach der verwendeten Lichtquelle und der Art der Biegungen der herzustellenden Faser wird eine geeignete numerische Apertur ausgewählt, z.B. 0,24. Als Mantel soll ein Borsilikat mit dem Brechungsindex 1,458 dienen. Aus der Gleichung (3) wird der Brechungsindex n., des Kerns mit 1,477 errechnet. Die Nachteile einer aus Germaniumoxidsilikat herzustellenden Faser werden aus Folgendem deutlich. Aus der Figur 6 folgt, daß das Kernglas des GeOp - SiOp Glases 23 % GeO2 enthalten muß, damit der Brechungsindex 1,477 wird. Nach Figur 4 ist der Dehnungskoeffizient eines solchen Glases etwa 20 χ 10 /0C. Wegen der
- 21 -
709811/105*
Delmungsdifferenz sollte der Mantel dann nicht aus reinem SiOp bestehen, weil der Körper "bei der Konsolidation zu leicht reißt, Tielmehr ein Borsilikatglas mit in etwa entsprechender Dehnung gewählt werden. Nach Figur 4 hat ein Mantelglas aus 12 % B2O5 und 88 % SiO2 die Dehnung 17 x 10"7/°C. Da die Kerndehnung um 3 x 10 /0C größer als die Manteldehnung ist, erfährt der Mantel eine Kompressionskraft und die Paser wird verstärkt, lach Figur 5 ist für diese Kombination die Erweichungstemperatur von Kern und Mantel 1485 "bzw. 131O0C. Die Differenz von 175°C bedeutet Schwierigkeiten beim Ausziehen, z.B. kann der Hohlraum nicht geschlossen werden. Hierzu sollte der Kern eine tiefere Erweichungstemperatur als der Mantel haben, sodaß bei der Ziehtemperatur die Kernviskosität etwa 1-4 niedriger als die Mantelviskosität ist.
Eine bekannte Maßnahme zur Senkung der Erweichungstemperatur des Kerns besteht in einem B2O., Zusatz zum Kernglas, der nicht den Brechungsindex aber die Wärmedehnung erhöht. Zum Ausgleich muß dem Mantel mehr B2O^5 zugesetzt werden, wodurch wiederum die Schwierigkeit der unterschiedlichen Viskosität entsteht. Erforderlich ist also ein Zusatz, welcher den Brechungsindex erhöhen und die Viskosität senken kann, ohne zu einer Erhöhung des Wärmedehnungskoeffizienten zu führen. Diese Schwierigkeit wird durch die teilweise Ersetzung von GeOp durch ^2 0R behoben; welche die Erweichungstemperatur des Kerns erniedrigt, ohne den Brechungsindex zu verringern. Bei 0 - 30 % Dotierung ist die
70981 1/10 54
durch. GeOp und P2Of- bewirkte Änderung des Brechungsindex im wesentlichen linear und für "beide etwa gleich. Eine teilweise Ersetzung von GeOp durch P2O1- -^Bt, bei gleichem SiOp Gehalt, den Brechungsindex daher im wesentlichen unbeeinflußt, ein Glas aus 23 % GeO2 + P2°5» ?9 ^ Si02 hat daiier im wesentlichen den gleichen Brechungsindex und die gleiche Erweichungstemperatur wie ein Glas aus 25 % GeO2, 77 % SiO2. Ein versuchsweises Vorgehen kann erforderlich sein, wenn nach Figur 5 und Gleichung (4-) ein Dreikomp onent enkernglas mit annehmbarer Erweichungstemperatur ausgewählt wird; beispielsweise wird zunächst ein Glas der Zusammensetzung 5 % P2Oj-, ^8 ^ GeO2, 77 % SiOp angenommen . Hach Kennlinie 64 der Figur 5 ist die Erweichungstemperatur eines Glases aus 5 % ^?®^* ^ ^ SiO2 14300G. Die nach Gleichung (4) errechnete Erweichungstemperatur des angenommenen Glases ist 1348,640G, denn bei 18 % GeO2 ist yS = 18 χ 4,52. Die Differenz zum Mantel ist 380C, das angenommene Glas also noch nicht geeignet. Als nächstes wird daher ein Glas mit mehr P2O5, z.B. 10 % P2O5, 13 % GeO2, 77 % SiO2 angenommen. Nach Gleichung (4) und Figur 5 (64) ist seine Erweichungstemperatur 1262 C, also 48 G niedriger als der Mantel, und geeignet, weil dann der Hohlraum beim Ausziehen zusammenfällt.
Da Kern und Mantel für optische Wellenleiter aus sehr reinem Glas bestehen müssen, wird ein Kern mit weniger als 10 Millionteilen kationischer Verunreinigungen durch Flammhydrolyse hergestellt, nachdem die erforderlichen Durchführungsbedingungen
- 23 709811/1054
in bekannter Weise ermittelt wurden. Infolge der Flüchtigkeit von GeO0 und P0O1- wird eine kleinere als die theoretische errechnete Menge niedergeschlagen. Die Durchsätze der Trägergase durch die flüssigen Bestandteile des Ansatzes müssen daher entsprechend empirisch ermittelt werden. Der weiteren Erläuterung dienen die folgenden Beispiele.
Beispiel 1
Ein Rohling mit Kern und Mantel wurde ähnlich dem Verfahren nach der US-PS 3,737,292 hergestellt.
Dämpfe von GeCl. und SiCl. wurden bei 320C in einen mit trockenen Sauerstoff als Trägergas mit 0,4 l/Min, bzw. 2 l/Min gespeisten Flammhydrolysebrenner geleitet. Ebenfalls in die Flamme geleitet wurden PCI., Dämpfe in mit 0,5 l/Min, fließendem trockenem Stickstoff als Träger. Naturgas und Sauerstoff wurden in die Flamme mit 8 bzw. 8,5 l/Min, geleitet. Die feinen Glaspartikel (soot) wurden auf einem Borsilikatglasträgerstab mit dem Durchmesser 0,635 cm als Kern niedergeschlagen, bis ein Durchmesser von 3,81 cm erreicht war, die Gaszufuhr durch das GeCl,, PCI,, unterbrochen, und zusammen mit den weiter fließenden SiCl. Dämpfen BCl., in den Brenner geleitet, und die B2O- - SiO2 Glaspartikel (soot) als Mantel bis zu einer Dicke von etwa 10 cm niedergeschlagen, der Rohling abgekühlt, und der Trägerstab entfernt (herausgezogen). Der Rohling wurde dann bei 135O0C in
- 24 - ' 709811/105*
Helium gesintert "bzw. konsolidiert. Er hatte dann einen Durchmesser von 2,54 cm und eine Länge von ca. 11 cm. Dieser wurde auf 16000C erhitzt und zur Wellenleiterfaser ausgezogen, z.J3. auf einen äußeren Durchmesser τοπ. 125/um und eine Manteldicke -von 50 /um, NA 0,155, Verluste 9,6 dB/km bei 820 mn; die Zusammensetzung des Kerns war 5 % P2O1-, ^ ^ GeO2, 89 % SiO2, die des Mantels 5 % B2O5, 95 % SiO2.
Beispiel 2
Ein Glaspartikel (soot) Rohling wurde nach Beispiel 1 hergestellt, aber im Kern ohne Kieselsäure. POOL, und GeGl, auf 35°G "bzw. 320C wurden mit Sauerstoff durchperlt, und mit 5 l/Min, bzw. 1 l/Min, in den brenner geleitet, und das Kernmaterial auf einem 2,7 cm dicken Träger bis zu einer Dicke von 3,8 cm niedergeschlagen. Dann wurden für den Mantel SiCl, auf 32°0 mit Sauerstoff durchperlt, mit BOl5 auf 300C in den Brenner geleitet. Der Sauerstoffdurchsatζ war 2 l/Min, durch das SiCl., 0,73 l/Min., durch das BCl5, 0,73 l/Min., und die Partikel (soot) wurden bis zu einer Dicke von etwa 10 cm niedergeschlagen. Der Rohling wurde gekühlt und der Trägerstab entfernt, der Rohling dann bei 55O0C in Helium gesintert, dann auf 65O0C erhitzt und in Sauerstoff zur Paser gezogen. Zusammensetzung des Kerns 50 % P2 0C, 50 % GeO2, Mantel 50 % SiO2, 50 % B2O5, MA 0,77, also höher als bei 100 % GeO2 oder PpOj- im Kern.
- 25 709811/1054
Beispiel 3
Nach. Beispiel 1 wurden zwei Partikel (soot) Schichten auf einen 0,63 cm dicken Trägerstab aufgebracht, unter Verwendung von POCl3 bei 35°G, GeCl. bei 320C, SiCl. bei 320C,
BCl, bei 25°C. Pur die erste Schicht wurden POCl-. GeCl, 3 3 4
und SiCl, mit Durchsätzen von jeweils 3,1, 0,3 und 1 l/Min, durchperlt und die Dämpfe in die Plamme geleitet. Nach Erreichen einer Schichtdicke von 3,8 cm wurde der Gasfluß durch POCl, und GeCl. unterbrochen, der Sauerstoffdurchsatz durch SiCl. auf 2 l/Min, erhöht, und BCl3 mit 0,3 l/Min, in die Plamme geleitet. Die Partikel wurden bis zu einer Schichtdicke von 10 cm niedergeschlagen, der Rohling gekühlt, der Träger entfernt, der Rohling bei 10000C in Helium gesintert und bei 11500C in Sauerstoff zur Paser gezogen. NA = 0,30 %, Zusammensetzung des Kerns 12 % GeOp, 22 % ^2 0S> ^6 ^ SiO2; des Mantels 20 % B3O5, 80 % SiO2.
Beispiel 4
Das Beispiel beschreibt die Herstellung eines Wellenleiters mit Gradientenbrechungsindex. Plüssiges GeCl., SiCl. und
POCl^ wurden in getrennten Behältern auf einer Temperatur
/bzw. 32O
von 32 C'bzw. 35 C gehalten, mit trockenem Sauerstoff;"durchperlt und die mitgenommenen Dämpfe in einen Brenner geleitet. Bei Durchsätzen des durchperlenden Sauerstoffs von 3,1 bzw. 0,3
- 26 709811/1054
NAC: «..^REICHT
Z532689
"bzw. 2 l/Min, wurden die mitgenommenen Dämpfe in der llamme hydrolysiert und oxidiert und ergaben Partikel (Ruß) von 22 % PpOp-, 12 % GeOp, 66 % SiO ? und wurden auf einem rotierenden und hin- und her bewegten Borsilikatglasrohr mit dem äußeren Durchmesser von 6 mm niedergeschlagen, wobei der Sauerstoffdurchsatz durch das flüssige GeCl. und POCl^ kontinuierlich verringert wurde, sodaß die Etiederschlagsschicht einen radial abnehmenden Gehalt an GeO ? und PpOc erhielt. Zur Regelung des Sauerstoffdurchsatzes wird z.B. ein entsprechend ausgebildeter Nocken, zur Regelung der flüssigen Komponenten z.B. die Vorrichtung nach der US-PS 3,826,560 verwendet. Es wird ein Rohling mit einer Länge von ca 15 cm, einem Durchmesser von 3,81 cm und radial unterschiedlicher Zusammensetzung in etwa 2 Std. Niederschlagsdauer erhalten, der das Kernmaterial für den optischen Wellenleiter mit einem bei 589,3 um. gemessenen achsialen Brechungsindex von 1,49 enthält. Wenn der Außenbereich dieser ersten Schicht erreicht wird, wird der Gasstrom durch das POCl-, und GeCl, unterbrochen, und 0,3 l/Min. BCl., in die Flamme geleitet, 2 l/Min. Sauerstoff durch SiCl- beibehalten. Die Niederschlagsschicht enthält 20 % B2O.,, 80 % SiOp und bildet nach Konsolidierung eine Mantelglas schicht, Brechungsindex 1,458. Hat die Schicht ca. 7 cm Dicke erreicht, so wird sie auf Zimmertemperatur abgekühlt, der Trägerstab entfernt und der Rohling in Helium bei 10000C gesintert, in einen Induktionsofen gebracht, und in Sauerstoff bei 11500C gezogen, wobei unter Querschnittsverringerung der mittlere Hohlraum zusammenfällt, bis der Wellenleiterquerschnitt erreicht ist. Ein solcher Wellenleiter kann bis auf 0,127 mm äußerer Durchmesser gezogen werden.
709811/1054 -27-

Claims (9)

Patentansprüche
1. Optische Paser mit einem Kern und Mantel aus senr reinem Glas, dadurch gekennzeichnet, daß der Kern ^pO1- und p in einer einen größeren Brechungsindex als der Mantel verleihenden Menge und nicht mehr als 10 Millionteile kationische Verunreinigungen in Fasern von Übergangsmetallen enthält.
2. Faser nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß der
Kern im wesentlichen aus P0O1- und GeO0 besteht.
2 5 ^
3. Faser nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß der Mantel eine ihm einen Wärmeausdehnungskoeffizient verleihende BpO5 Menge enthält, welcher nur 0 - 3 x 10"'/0G kleiner als der des Kerns ist.
4. Faser nach Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet, daß die Erweichungstemperatur des Ker
als die des Mantelglases ist.
Erweichungstemperatur des Kernglases nur "bis zu 50° kleiner
5. Optische Faser nach Ansprüchen 1, 3 und 4, dadurch gekennzeichnet, daß das Kernglas auch SiO2 enthält, wobei die Senkung der Erweichungstemperatur durch Einstellung des P2O5 Gehaltes erfolgt.
7098 11 /1OSA
6. Optische Faser nach Ansprüchen 1 oder 5, dadurch gekennzeichnet, daß die P2O1- Menge im Kernglas 40 - 60 Gew. %
der Gesamtmenge ^2 0R + &θ0? beträgt.
7. Optische Faser nach Ansprüchen 1 oder 5, dadurch gekennzeichnet, daß die Lichtdämpfung bei Wellenlängen von 800 900 nm weniger als 100 dB/Ion und vorzugsweise weniger als 10 dB/lern beträgt.
8. Optische Faser nach irgendeinem der Ansprüche 1-7, dadurch gekennzeichnet, daß der Kern einen konstanten oder abgestuft variierenden Brechungsindex aufweist.
9. Verfahren zur Herstellung optischer Fasern, bei dem eine Glasschicht auf einen zylindrischen Träger aufgebracht, der Träger entfernt, der verbleibende Hohlkörper erhitzt und ausgezogen wird, bis eine beschichtete Faser mit festem
Querschnitt entsteht, dadurch gekennzeichnet, daß der Glasschicht eine ihr eine Erweichungstemperatur verleihende PpO(-Menge zugesetzt wird, welche nur 0 - 50 C niedriger ist, als die einer zweiten Glasschicht.
70981 1
DE2632689A 1975-09-08 1976-07-21 Optischer Wellenleiter Expired DE2632689C2 (de)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US05/611,226 US4339173A (en) 1975-09-08 1975-09-08 Optical waveguide containing P2 O5 and GeO2

Publications (2)

Publication Number Publication Date
DE2632689A1 true DE2632689A1 (de) 1977-03-17
DE2632689C2 DE2632689C2 (de) 1986-05-22

Family

ID=24448148

Family Applications (2)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE2632689A Expired DE2632689C2 (de) 1975-09-08 1976-07-21 Optischer Wellenleiter
DE2660697A Expired DE2660697C2 (de) 1975-09-08 1976-07-21 Verfahren zur Herstellung eines Glas-Rohlings

Family Applications After (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE2660697A Expired DE2660697C2 (de) 1975-09-08 1976-07-21 Verfahren zur Herstellung eines Glas-Rohlings

Country Status (8)

Country Link
US (1) US4339173A (de)
JP (2) JPS5233546A (de)
AT (1) AT346103B (de)
CA (1) CA1268971A (de)
DE (2) DE2632689C2 (de)
FR (1) FR2323161A1 (de)
GB (1) GB1521826A (de)
HK (1) HK56581A (de)

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE2827303A1 (de) * 1977-06-22 1979-01-04 Corning Glass Works Verfahren zur herstellung von optischen gegenstaenden
DE2841909A1 (de) * 1977-09-29 1979-04-05 Corning Glass Works Verfahren zum herstellen eines optischen wellenleiters
DE2901092A1 (de) * 1978-01-13 1979-07-19 Western Electric Co Optische wellenleiter
DE2930398A1 (de) * 1978-07-31 1980-02-28 Corning Glass Works Optische gradientenindex-faser grosser bandbreite und verfahren zu ihrer herstellung
DE2942318A1 (de) * 1979-10-19 1981-04-30 Licentia Patent-Verwaltungs-Gmbh, 6000 Frankfurt Optisches verzweigungsglied und verfahren zur herstellung eines optischen verzweigungsglieds
WO1991012544A1 (en) * 1990-02-06 1991-08-22 University Of Southampton Optical fibre light source

Families Citing this family (39)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4360250A (en) * 1974-05-31 1982-11-23 National Research Development Corp. Optical waveguides
DE2546162B1 (de) * 1975-10-15 1976-09-23 Jenaer Glaswerk Schott & Gen Lichtleitfaser mit Brechungsindexgradient zur Nachrichtenuebertragung
DE2614183C3 (de) * 1976-04-02 1981-11-12 Jenaer Glaswerk Schott & Gen., 6500 Mainz Lichtleitfaser mit Gradientenprofil des Brechungsindex, niedrigen Übertragungsverlusten, hoher Übertragungskapazität und großer Aperatur bei Verwnedung von GeO↓2↓
JPS5521059A (en) * 1978-07-31 1980-02-14 Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> Optical fiber
JPS5611406A (en) * 1979-07-10 1981-02-04 Sumitomo Electric Ind Ltd Optical fiber and its manufacture
JPS5630102A (en) * 1979-08-20 1981-03-26 Fujitsu Ltd Optical transmission wire
US4344670A (en) 1980-05-01 1982-08-17 Corning Glass Works Optical waveguide soot preform with reduced inner layer stress and method of making
US4413882A (en) * 1980-07-03 1983-11-08 Corning Glass Works Low viscosity core glass optical fiber
US4490737A (en) * 1981-03-16 1984-12-25 Fairchild Camera & Instrument Corp. Smooth glass insulating film over interconnects on an integrated circuit
AU531893B2 (en) * 1981-08-19 1983-09-08 Hitachi Cable Ltd. d
JPS58125624A (ja) * 1982-01-20 1983-07-26 Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> 光フアイバ用母材の製造方法
JPS61188103U (de) * 1986-04-17 1986-11-22
DE3735532A1 (de) * 1987-10-21 1989-05-03 Rheydt Kabelwerk Ag Verfahren zum herstellen einer vorform fuer lichtwellenleiter
GB8804523D0 (en) * 1988-02-26 1988-03-30 Cogent Ltd Hollow glass waveguides
DE3820217A1 (de) * 1988-06-14 1989-12-21 Rheydt Kabelwerk Ag Lichtwellenleiter, insbesondere einmodenfaser
DE3842804A1 (de) * 1988-12-20 1990-06-21 Rheydt Kabelwerk Ag Lichtwellenleiter
DE3842805A1 (de) * 1988-12-20 1990-06-21 Rheydt Kabelwerk Ag Lichtwellenleiter
JP2959877B2 (ja) * 1991-06-24 1999-10-06 古河電気工業株式会社 光ファイバの製造方法
US5233621A (en) * 1991-06-27 1993-08-03 Intellectual Property Development Associates Of Connecticut, Inc. Second harmonic generation and self frequency doubling laser materials comprised of bulk germanosilicate and aluminosilicate glasses
US5253258A (en) * 1991-10-17 1993-10-12 Intellectual Property Development Associates Of Connecticut, Inc. Optically encoded phase matched second harmonic generation device and self frequency doubling laser material using semiconductor microcrystallite doped glasses
US5235662A (en) * 1992-01-02 1993-08-10 Eastman Kodak Company Method to reduce light propagation losses in optical glasses and optical waveguide fabricated by same
GB2273389B (en) * 1992-12-14 1996-07-17 Pirelli Cavi Spa Rare earth doped optical fibre amplifiers
AUPN526895A0 (en) * 1995-09-07 1995-09-28 Unisearch Limited Improvements in control of refractive index
US6105396A (en) * 1998-07-14 2000-08-22 Lucent Technologies Inc. Method of making a large MCVD single mode fiber preform by varying internal pressure to control preform straightness
KR100768175B1 (ko) * 2001-02-07 2007-10-17 삼성에스디아이 주식회사 광학적 전기적 특성을 지닌 기능성 박막
CN1539090A (zh) 2001-04-12 2004-10-20 �ź㴫 高折射率差纤维波导及其应用
US20020186942A1 (en) * 2001-05-01 2002-12-12 Bubnov Mikhail M. Low-loss highly phosphorus-doped fibers for Raman amplification
US6615615B2 (en) * 2001-06-29 2003-09-09 Lightwave Microsystems Corporation GePSG core for a planar lightwave circuit
US20030200771A1 (en) * 2002-04-30 2003-10-30 Burke Gerald E. Method of manufacturing phosphosilicate optical fibers and optical fibers formed therefrom
AU2003295929A1 (en) * 2002-11-22 2004-06-18 Omniguide, Inc. Dielectric waveguide and method of making the same
EP1435533A1 (de) * 2002-12-30 2004-07-07 STMicroelectronics S.r.l. Wellenleiter und Verfahren zur Herstellung eines Wellenleiters
US7421174B2 (en) * 2006-08-28 2008-09-02 Furakawa Electric North America; Inc. Multi-wavelength, multimode optical fibers
US8111961B2 (en) * 2008-02-26 2012-02-07 Ofs Fitel, Llc Accelerated aging of phosphorus-doped optical fibers
US8445059B2 (en) * 2008-02-26 2013-05-21 Ofs Fitel, Llc Accelerated aging of phosphorus-doped optical fibers
US8526773B2 (en) * 2010-04-30 2013-09-03 Corning Incorporated Optical fiber with differential birefringence mechanism
US9658394B2 (en) * 2014-06-24 2017-05-23 Corning Incorporated Low attenuation fiber with viscosity matched core and inner clad
CN112262217A (zh) 2018-06-15 2021-01-22 公立大学法人横滨市立大学 未分化细胞检测法
EP4059960A4 (de) 2019-11-15 2023-12-27 Public University Corporation Yokohama City University Verfahren zum nachweis undifferenzierter zellen
CN114634313B (zh) * 2020-12-15 2023-11-28 北京玻璃研究院有限公司 一种温度匹配光纤及其制备方法

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3737292A (en) 1972-01-03 1973-06-05 Corning Glass Works Method of forming optical waveguide fibers
US3826560A (en) 1972-03-30 1974-07-30 Corning Glass Works Method of forming a light focusing fiber waveguide
DE2434717A1 (de) * 1973-08-21 1975-03-06 Int Standard Electric Corp Verfahren zur herstellung optischer fasern und deren vorstufen

Family Cites Families (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
IT1000579B (it) * 1973-01-04 1976-04-10 Corning Glass Works Vetro del tipo ad ossidi fusi
US3938974A (en) * 1973-04-27 1976-02-17 Macedo Pedro B Method of producing optical wave guide fibers
CA1050833A (en) * 1974-02-22 1979-03-20 John B. Macchesney Optical fiber fabrication involving homogeneous reaction within a moving hot zone
US4360250A (en) * 1974-05-31 1982-11-23 National Research Development Corp. Optical waveguides
JPS643650A (en) * 1987-06-26 1989-01-09 Hitachi Ltd Method for forming photosensitive resin film

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3737292A (en) 1972-01-03 1973-06-05 Corning Glass Works Method of forming optical waveguide fibers
US3826560A (en) 1972-03-30 1974-07-30 Corning Glass Works Method of forming a light focusing fiber waveguide
DE2434717A1 (de) * 1973-08-21 1975-03-06 Int Standard Electric Corp Verfahren zur herstellung optischer fasern und deren vorstufen

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE2827303A1 (de) * 1977-06-22 1979-01-04 Corning Glass Works Verfahren zur herstellung von optischen gegenstaenden
DE2841909A1 (de) * 1977-09-29 1979-04-05 Corning Glass Works Verfahren zum herstellen eines optischen wellenleiters
DE2901092A1 (de) * 1978-01-13 1979-07-19 Western Electric Co Optische wellenleiter
DE2930398A1 (de) * 1978-07-31 1980-02-28 Corning Glass Works Optische gradientenindex-faser grosser bandbreite und verfahren zu ihrer herstellung
DE2942318A1 (de) * 1979-10-19 1981-04-30 Licentia Patent-Verwaltungs-Gmbh, 6000 Frankfurt Optisches verzweigungsglied und verfahren zur herstellung eines optischen verzweigungsglieds
WO1991012544A1 (en) * 1990-02-06 1991-08-22 University Of Southampton Optical fibre light source

Also Published As

Publication number Publication date
AT346103B (de) 1978-10-25
JPS57170836A (en) 1982-10-21
CA1268971A (en) 1990-05-15
FR2323161B1 (de) 1982-12-10
FR2323161A1 (fr) 1977-04-01
US4339173A (en) 1982-07-13
JPS6124348B2 (de) 1986-06-10
DE2660697C2 (de) 1986-05-28
DE2632689C2 (de) 1986-05-22
GB1521826A (en) 1978-08-16
HK56581A (en) 1981-11-27
JPS5233546A (en) 1977-03-14
ATA645876A (de) 1978-02-15

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE2632689A1 (de) Optischer wellenleiter
DE2906070C2 (de) Verfahren zum Herstellen von optischen Wellenleitern
DE2364782B2 (de) Optischer Wellenleiter aus Glas mit einem GeO2 enthaltenden Kernglas
DE2930398C2 (de)
EP1000909B1 (de) Verfahren zur Herstellung einer Vorform für eine optische Faser und für die Durchführung des Verfahrens geeignetes Substratrohr
DE69214252T2 (de) Mit Alkalimetall dotierte, auf SiO2 basierende optische Faser
DE60025823T2 (de) Optische wellenleiterfaser mit niedrigem wasserpeak und verfahren zu ihrer herstellung
DE2300013A1 (de) Verfahren zur herstellung optischer fasern
DE19537379A1 (de) Optische Faservorform und Verfahren zur Herstellung derselben
DE2919080B2 (de) Verfahren zum Herstellen einer optischen Faser aus Kern und Mantel
DE60032363T2 (de) Optische faser mit niedrigen polarisationsmodendispersion sowie dämpfung und ihre herstelungsverfahren
EP0191202A2 (de) Lichtleitfaser mit Fluordotierung und Verfahren zu deren Herstellung
DE3229432C2 (de)
EP0731368A1 (de) Zylinderförmiger Lichtwellenleiter
DE10225773B4 (de) Jacketrohr aus synthetisch hergestelltem Quarzglas
EP1286926A1 (de) Verfahren für die herstellung einer optischen faser
DE2625010B2 (de) Verfahren zur Herstellung eines Vorformlings für optische Fasern
DE2930816C2 (de) Optische Faser mit einem Mantelglas, hauptsächlich aus Quarzglas, und einem Kernglas aus Quarzglas, dotiert mit Ge0&amp;darr;2&amp;darr; und P&amp;darr;2&amp;darr;0&amp;darr;5&amp;darr;, Ti0&amp;darr;2&amp;darr;, Al&amp;darr;2&amp;darr;0&amp;darr;3&amp;darr; und/oder Ga&amp;darr;2&amp;darr;0&amp;darr;3&amp;darr;
DE2746418C3 (de)
DE2122896A1 (de) Optischer Wellenleiter
DE102015206790A1 (de) Vorform für einen Lichtwellenleiter mit einem nicht-runden Kern
DE2938218C2 (de) Verfahren zur Herstellung eines Glasgegenstandes
DE2454293C3 (de) Na↓2↓O-B↓2↓O↓3↓-SiO↓2↓-Glas zur Herstellung dielektrischer optischer Wellenleiter, Verfahren zu dessen Herstellung und seine Verwendung
DE2912960A1 (de) Verfahren zur herstellung von lichtleitfasern
DE3713029A1 (de) Verfahren zur herstellung von glasfasern mit sehr geringer optischer daempfung

Legal Events

Date Code Title Description
OD Request for examination
8172 Supplementary division/partition in:

Ref country code: DE

Ref document number: 2660697

Format of ref document f/p: P

AH Division in

Ref country code: DE

Ref document number: 2660697

Format of ref document f/p: P

Q171 Divided out to:

Ref country code: DE

Ref document number: 2660697

8128 New person/name/address of the agent

Representative=s name: REINHARD, H., DIPL.-CHEM. DR.RER.NAT., PAT.-ANW.,

D2 Grant after examination
AH Division in

Ref country code: DE

Ref document number: 2660697

Format of ref document f/p: P

8363 Opposition against the patent
8330 Complete disclaimer