DE69721309T9 - Verminderung der bildung von hohlräumen in härtbaren klebstoffzusammensetzungen - Google Patents

Verminderung der bildung von hohlräumen in härtbaren klebstoffzusammensetzungen Download PDF

Info

Publication number
DE69721309T9
DE69721309T9 DE69721309T DE69721309T DE69721309T9 DE 69721309 T9 DE69721309 T9 DE 69721309T9 DE 69721309 T DE69721309 T DE 69721309T DE 69721309 T DE69721309 T DE 69721309T DE 69721309 T9 DE69721309 T9 DE 69721309T9
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
catalyst
preparation
tert
curing
composition
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
DE69721309T
Other languages
English (en)
Other versions
DE69721309T2 (de
DE69721309D1 (de
Inventor
Derfelt Deborah FORRAY
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Quantum Materials Inc
Original Assignee
Quantum Materials Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Quantum Materials Inc filed Critical Quantum Materials Inc
Publication of DE69721309D1 publication Critical patent/DE69721309D1/de
Publication of DE69721309T2 publication Critical patent/DE69721309T2/de
Application granted granted Critical
Publication of DE69721309T9 publication Critical patent/DE69721309T9/de
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09JADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
    • C09J5/00Adhesive processes in general; Adhesive processes not provided for elsewhere, e.g. relating to primers
    • C09J5/02Adhesive processes in general; Adhesive processes not provided for elsewhere, e.g. relating to primers involving pretreatment of the surfaces to be joined
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08JWORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
    • C08J3/00Processes of treating or compounding macromolecular substances
    • C08J3/24Crosslinking, e.g. vulcanising, of macromolecules
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09JADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
    • C09J5/00Adhesive processes in general; Adhesive processes not provided for elsewhere, e.g. relating to primers
    • C09J5/06Adhesive processes in general; Adhesive processes not provided for elsewhere, e.g. relating to primers involving heating of the applied adhesive
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K3/00Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
    • H05K3/30Assembling printed circuits with electric components, e.g. with resistor
    • H05K3/303Surface mounted components, e.g. affixing before soldering, aligning means, spacing means
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K3/00Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
    • H05K3/38Improvement of the adhesion between the insulating substrate and the metal
    • H05K3/386Improvement of the adhesion between the insulating substrate and the metal by the use of an organic polymeric bonding layer, e.g. adhesive

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Medicinal Chemistry (AREA)
  • Polymers & Plastics (AREA)
  • Adhesives Or Adhesive Processes (AREA)

Description

  • Die vorliegende Erfindung betrifft Zusammensetzungen, die sich zum Verbinden von elektronischen Vorrichtungen mit Trägern dafür eignen, sowie Verfahren, um die erwünschte Verbindung zu erhalten, und im wesentlichen hohlraumfreie Gegenstände, die dabei erzeugt werden.
  • HINTERGRUND DER ERFINDUNG
  • Die Mikroelektronikindustrie verwendet verschiedene Substrate, um daran mikroelektronische Vorrichtungen zu befestigen. Die meisten dieser Vorrichtungen werden durch Verwendung irgendeiner Art von Klebstoff an geeignete Substrate befestigt. Unglücklicherweise neigen viele der üblicherweise in der Mikroelektronikindustrie verwendeten Substrate und/oder Vorrichtungen dazu, Feuchtigkeit zu absorbieren. Wenn sie den erhöhten Temperaturen ausgesetzt werden, die zum Härten solcher Klebstoffe erforderlich sind, kann es als Folge der Freisetzung von absorbierter Feuchtigkeit und/oder anderen flüchtigen Stoffen, die von der Vorrichtung und/oder dem Substrat bei erhöhten Temperaturen freigesetzt werden können, zur Bildung von Hohlräumen in verschiedenerlei Mengen kommen.
  • Die Bildung von Hohlräumen kann zu einer starken Verringerung der Verläßlichkeit des resultierenden Gegenstandes führen, da die Klebstoffverbindungsstelle zwischen der Vorrichtung und dem Substrat unterbrochen wird. Es wäre deshalb wünschenswert, Zusammensetzungen und Verfahren für deren Verwendung zu entwickeln, welche den Zusammenbau und die Verbindung der Vorrichtung mit dem Substrat ermöglichen, ohne in dem fertigen Gegenstand eine bedeutende Menge an Hohlräumen zu erzeugen.
  • KURZE BESCHREIBUNG DER ERFINDUNG
  • Gemäß der vorliegenden Erfindung sind Klebstoff-Zubereitungen entwickelt worden, welche das Härten von mittels Klebstoff verbundenen Aufbauten (d. h. Aufbauten, die Vorrichtungen umfassen, welche mittels Klebstoff auf Substrate geklebt wurden) bei dra stisch vermindertem Auftreten von Hohlraumbildung beim Härten ermöglichen. In vielen Fällen kann durch Einsatz der erfindungsgemäßen Zusammensetzungen die Hohlraumbildung ausgeschlossen werden.
  • Gemäß eines weiteren Aspekts der vorliegenden Erfindung werden auch Verfahren, welche die oben beschriebenen Klebstoff-Zubereitungen verwenden, sowie im wesentlichen hohlraumfreie Gegenstände, die dabei erzeugt werden, zur Verfügung gestellt.
  • DETAILLIERTE BESCHREIBUNG DER ERFINDUNG
  • Gemäß der vorliegenden Erfindung werden Verfahren zur Verminderung der Hohlraumbildung beim Härten einer Klebstoff-Zubereitung, die zum Verbinden einer Vorrichtung mit einem Substrat verwendet wird, zur Verfügung gestellt, wobei die Vorrichtung und/oder das Substrat dazu neigt/neigen, bei erhöhten Temperaturen flüchtige Stoffe freizusetzen. Die erfindungsgemäßen Verfahren umfassen die Verwendung eines Katalysators, welcher das Härten der Zubereitung bei einer Temperatur von weniger als etwa 100°C initiiert, als Härtungskatalysator für solche Klebstoff-Zubereitungen.
  • Die zur Verwendung in der Praxis der vorliegenden Erfindung vorgesehenen Klebstoff-Zubereitungen sind u. a. Cyanatester-basierende Zubereitungen, Maleinimid-basierende Zubereitungen, Epoxy-basierende Zubereitungen, (Meth-)Acrylat-basierende Zubereitungen, Vinylether-basierende Zubereitungen, Vinylester-basierende Zubereitungen, Allylester-basierende Zubereitungen, Diallylamid-basierende Zubereitungen, Propargylether-basierende Zubereitungen, Zubereitungen auf Basis einer Polysiloxan-Hauptkette mit einer oder mehreren der vorstehend beschriebenen funktionellen Gruppen am Ende, Zubereitungen auf Basis einer vorimidisierten Polyimid-Hauptkette mit einer oder mehreren der vorstehenden beschriebenen funktionellen Gruppen am Ende und dergleichen sowie Mischungen aus beliebigen zwei oder mehreren davon.
  • Eine breite Vielfalt an Cyanatester-basierenden Zubereitungen eignet sich für die Verwendung in der Praxis der vorliegenden Erfindung. Zahlreiche Beispiele für solche Zubereitungen sind im Stand der Technik beschrieben worden. Siehe zum Beispiel das US-Patent Nr. 5 447 988, US-Patent Nr. 5 358 992, US-Patent Nr. 5 489 641, wobei jedes davon hier durch Bezugnahme in seiner Gesamtheit mitumfaßt ist.
  • Eine breite Vielfalt an Maleinimid-basierenden Zubereitungen eignet sich für die Verwendung in der Praxis der vorliegenden Erfindung. Zahlreiche Beispiele für solche Zubereitungen sind im Stand der Technik beschrieben worden. Siehe zum Beispiel die US-Anmeldungsnummer 08/300 721, eingereicht am 2. September 1994, die US-Anmeldungsnummer 08/460 495, eingereicht am 2. Juni 1995, die US-Anmeldungsnummer 08/711 982, eingereicht am 10. September 1996, das US-Patent Nr. 4 806 608 und das US-Patent Nr. 4 581 461, wobei jede(s) davon hier durch Bezugnahme in ihrer Gesamtheit mitumfaßt ist.
  • Eine breite Vielfalt an durch Wärme härtbaren (d. h. wärmehärtbaren) Epoxy-basierenden Zubereitungen eignet sich für die Verwendung in der Praxis der vorliegenden Erfindung. Zahlreiche Beispiele für solche Zubereitungen sind im Stand der Technik beschrieben worden. Siehe zum Beispiel das US-Patent Nr. 5 158 780 und das US-Patent Nr. 5 043 102, wobei jedes davon hier durch Bezugnahme in seiner Gesamtheit mitumfaßt ist.
  • Eine breite Vielfalt an (Meth-)Acrylat-basierenden Zubereitungen eignet sich für die Verwendung in der Praxis der vorliegenden Erfindung. Zahlreiche Beispiele für solche Zubereitungen sind im Stand der Technik beschrieben worden. Siehe zum Beispiel das US-Patent Nr. 5 043 102, das hier durch Bezugnahme in seiner Gesamtheit mitumfaßt ist.
  • Eine breite Vielfalt an Vinylether-basierenden Zubereitungen eignet sich für die Verwendung in der Praxis der vorliegenden Erfindung. Zahlreiche Beispiele für solche Zubereitungen sind im Stand der Technik beschrieben worden. Siehe zum Beispiel die US-Anmeldungsnummer 08/460 495, eingereicht am 2. Juni 1995, die hier durch Bezugnahme in ihrer Gesamtheit mitumfaßt ist.
  • Eine breite Vielfalt an Vinylester-basierenden Zubereitungen eignet sich für die Verwendung in der Praxis der vorliegenden Erfindung. Zahlreiche Beispiele für solche Zubereitungen sind im Stand der Technik beschrieben worden. Siehe zum Beispiel das US-Patent Nr. 5 475 048, das hier durch Bezugnahme in seiner Gesamtheit mitumfaßt ist.
  • Eine breite Vielfalt an Allylester-basierenden Zubereitungen eignet sich für die Verwendung in der Praxis der vorliegenden Erfindung. Zahlreiche Beispiele für solche Zubereitungen sind im Stand der Technik beschrieben worden. Siehe zum Beispiel das US-Patent Nr. 5 475 048, das hier durch Bezugnahme in seiner Gesamtheit mitumfaßt ist.
  • Eine breite Vielfalt an Diallylamid-basierenden Zubereitungen eignet sich für die Verwendung in der Praxis der vorliegenden Erfindung. Zahlreiche Beispiele für solche Zubereitungen sind im Stand der Technik beschrieben worden. Siehe zum Beispiel, wobei jedes davon hier durch Bezugnahme in seiner Gesamtheit mitumfaßt ist.
  • Eine breite Vielfalt an Propargylether-basierenden Zubereitungen eignet sich für die Verwendung in der Praxis der vorliegenden Erfindung. Zahlreiche Beispiele für solche Zubereitungen sind im Stand der Technik beschrieben worden. Siehe zum Beispiel die US-Anmeldungsnummer 08/684 148, eingereicht am 19. Juli 1996, die hier durch Bezugnahme in ihrer Gesamtheit mitumfaßt ist.
  • Derzeit bevorzugte Klebstoff-Zubereitungen, die für die Verwendung in der Praxis der vorliegenden Erfindung vorgesehen sind, umfassen eine Mischung aus Maleinimid und Vinylether.
  • Gegebenenfalls umfassen die zur Verwendung in der Praxis der vorliegenden Erfindung vorgesehenen Klebstoff-Zubereitungen ferner wenigstens ein Streckmittel. Für die Verwendung hierin vorgesehene Streckmittel sind u. a. elektrisch leitfähige und wärmeleitfähige Materialien sowie nichtleitfähige Materialien, die der resultierenden Zubereitung Isoliereigenschaften verleihen.
  • Beispiele für elektrisch leitfähige Streckmittel, die für die Verwendung hierin vorgesehen sind, sind u. a. Silber, Nickel, Cobalt, Kupfer, Aluminium, metallbeschichtete Graphitfasern (wobei z. B. Metalle wie Nickel, Silber, Kupfer und dergleichen als Metallbeschichtung eingesetzt werden) und dergleichen sowie Mischungen davon. Das derzeit bevorzugte elektrisch leitfähige Streckmittel, das zur Verwendung hierin vorgesehen ist, ist Silber. In den Befestigungspastenzusammensetzungen der vorliegenden Erfindung können sowohl Pulver als auch Flockenformen des Streckmittels verwendet werden. Die bevorzugte Dicke der Flocken beträgt weniger als 2 Mikron bei einer Dimension von etwa 20 bis etwa 25 Mikron. Die für die Verwendung hierin vorgesehenen Flocken haben einen Oberflächenbereich von etwa 0,15 bis 5,0 m2/g und eine Packdichte von 0,4 bis 5,5 g/cm3. Das zur Verwendung hierin vorgesehene Pulver hat vorzugsweise einen Durchmesser von etwa 0,5 bis 15 Mikron.
  • Wärmeleitfähige Streckmittel, die zur Verwendung in der Praxis der vorliegenden Erfindung vorgesehen sind, sind u. a. Diamant, Bornitrid, Aluminiumoxid, Aluminiumnitrid, Siliciumcarbid, Magnesiumoxid und dergleichen sowie Mischungen aus beliebigen zwei oder mehreren davon.
  • Katalysatoren, die zur Verwendung in der Praxis der vorliegenden Erfindung vorgesehen sind, sind diejenigen, welche das Härten der Klebstoff-Zubereitung bei einer wünschenswert niedrigen Temperatur initiieren und welche auch das Härten der Klebstoff-Zubereitungen mit einer ausreichend schnellen Geschwindigkeit fördern, so daß das Aushärtungsspitzenmaximum gleichermaßen bei einer wünschenswert niedrigen Temperatur, z. B. bei einer Temperatur von nicht höher als etwa 100°C, stattfindet. Derzeit bevorzugte Katalysatoren, die zur Verwendung hierin vorgesehen sind, sind diejenigen, welche das Härten der Klebstoff-Zubereitungen mit einer derartigen Geschwindigkeit fördern, daß das Aushärtungsspitzenmaximum bei einer Temperatur von nicht höher als etwa 90°C auftritt. Besonders bevorzugte Katalysatoren, die zur Verwendung hierin vorgesehen sind, sind diejenigen, welche das Härten der Klebstoff-Zubereitungen mit einer derartigen Geschwindigkeit fördern, daß das Aushärtungsspitzenmaximum bei einer Temperatur von nicht höher als etwa 80°C auftritt.
  • Zur Verwendung hierin besonders bevorzugt sind Katalysatoren, welche das Härten von Klebstoff-Zubereitungen mit einer derartigen Geschwindigkeit fördern, daß das Aushärtungsspitzenmaximum bei einer Temperatur von nicht höher als etwa 70°C auftritt, wobei Katalysatoren, welche das Härten der Klebestoff-Zubereitungen mit einer derartigen Geschwindigkeit fördern, daß das Aushärtungsspitzenmaximum bei einer Temperatur von nicht höher als etwa 60°C auftritt, bei bestimmten Klebstoff-Zubereitungen ganz besonders bevorzugt sind.
  • Zur Verwendung in der Praxis der vorliegenden Erfindung vorgesehene Katalysatoren sind u. a. radikalische Katalysatoren, anionische Härtungskatalysatoren, kationische Härtungskatalysatoren, Übergangsmetall-Katalysatoren und dergleichen sowie Kombinationen aus beliebigen zwei oder mehreren davon.
  • Beispielhafte radikalische Katalysatoren, die zur Verwendung in der Praxis der vorliegenden Erfindung vorgesehen sind, sind u. a. Peroxyester, Peroxycarbonate, Hydroperoxide, Alkylperoxide, Arylperoxide und dergleichen. Spezielle radikalische Initiatoren, die zur Verwendung hierin vorgesehen sind, sind u. a. Cumolperoxyneodecanoat, Cumolperoxyneoheptanoat, tert.-Amylperoxyneodecanoat, tert.-Butylperoxyneodecanoat, tert.-Amylperoxyneoheptanoat, tert.-Butylperoxyneoheptanoat, ein Peroxydicarbonat, 2,4,4-Trimethylpentyl-2-peroxyneodecanoat, Di(n-propyl)peroxydicarbonat, Di(sek.-butyl)peroxydicarbonat, Di(4-tert.-butylcyclohexyl)peroxydicarbonat, Di(2-ethylhexyl)peroxydicarbonat, Dimyristylperoxydicarbonat, tert.-Amylperoxypivalat, tert.-Butylperoxypivalat, Di([3,5,5-trimethylhexanoyl]peroxid, Decanoylperoxid, Lauroylperoxid, Dilauroylperoxid, Diisononanoylperoxid, 2,5-Dimethyl-2,5-di(2-ethylhexanoylperoxy)hexan, 1-Amylperoxy-2-ethylhexanoat und dergleichen sowie Kombinationen von beliebigen zwei oder mehreren davon.
  • Beispielhafte anionische Härtungskatalysatoren, die zur Verwendung in der Praxis der vorliegenden Erfindung vorgesehen sind, sind u. a. Imidazole, tertiäre Amine und dergleichen. Die zur Verwendung hierin vorgesehenen Imidazole sind diejenigen mit der allgemeinen Struktur:
    Figure 00060001
    wobei:
    R1 ausgewählt ist aus der Gruppe, bestehend aus Alkyl-, Aryl- und Cyanoresten,
    R2 ausgewählt ist aus der Gruppe, bestehend aus Alkyl-, Aryl- und Cyanoresten, und
    R3 ausgewählt ist aus der Gruppe, bestehend aus Alkyl, substituierten Alkyl-, Alkylaryl- und substituierten Alkyl arylresten.
  • So wie hier verwendet, bedeutet "Alkyl" gerad- oder verzweigtkettige Alkylreste mit etwa 1 bis 12 Kohlenstoffatomen; "substituiertes Alkyl" bedeutet Alkylreste, die ferner ein oder mehrere Substituenten tragen, wie z. B. Hydroxy, Alkoxy (mit einer Niedrigalkylgruppe), Mercapto (mit einer Niedrigalkylgruppe), Aryl, Heterocyclus, Halogen, Trifluormethyl, Cyano, Nitro, Amino, Carboxyl, Carbamat, Sulfonyl, Sulfonamid und dergleichen.
  • So wie hier verwendet, bedeutet "Aryl" aromatische Reste mit 6 bis 14 Kohlenstoffatomen, und "substituiertes Aryl" bedeutet Arylreste, die ferner ein oder mehrere wie oben genannte Substituenten tragen.
  • So wie hier verwendet, bedeutet "Alkylaryl" alkylsubstituierte Arylreste, und "substituiertes Alkylaryl" bedeutet Alkylarylreste, die ferner ein oder mehrere wie oben genannte Substituenten tragen.
  • Beispielhafte Imidazole, die zur Verwendung hierin vorgesehen sind, sind u. a. 2-Ethyl-4-methylimidazol, 1-Methylimidazol, 2-Methylimidazol, 2-Undecylimidazol, 2-Phenylimidazol und dergleichen.
  • Tertiäre Amine, die zur Verwendung hierin vorgesehen sind, sind u. a. Hexadecyldimethylamin, Dihexadecylmethylamin, Octadecyldimethylamin, Dioctadecylmethylamin, Dimethylbehenylamin, Dimethyleicosylamin, N,N,N'-Trimethyl-N'-hexadecyl-1,2-diaminoethan, N,N,N'-Trimethyl-N'-octadecyl-1,2-diaminoethan, N,N,N'-Trimethyl-N'-eicosyl-1,2-diaminoethan, N,N,N'-Trimethyl-N'-behenyl-1,2-diaminoethan, N,N,N',N'-Tetramethyl-1,20-diamino(10,11-dioctyl)eicosan und dergleichen sowie Mischungen aus beliebigen zwei oder mehreren davon.
  • Beispielhafte kationische Härtungskatalysatoren, die zur Verwendung in der Praxis der vorliegenden Erfindung vorgesehen sind, sind u. a. Oniumsalze, Iodoniumsalze, Sulfoniumsalze und dergleichen.
  • Beispielhafte Übergangsmetall-Katalysatoren, die zur Verwendung in der Praxis der vorliegenden Erfindung vorgesehen sind, sind u. a. Nickel, Kupfer, Cobalt und dergleichen in Form eines Chelats, einer Seife oder dergleichen.
  • Im allgemeinen werden im Bereich von etwa 0,005 bis 10 Gew.-% von wenigstens einem der oben beschriebenen Katalysatoren (bezogen auf das Gesamtgewicht der organischen Phase, d. h. ohne jegliches Streckmittel) eingesetzt, wobei der Bereich von etwa 0,01 bis 5 Gew.-% derzeit bevorzugt ist.
  • Wie die Fachleute leicht erkennen werden, kann eine breite Vielfalt an Vorrichtungen gemäß der vorliegenden Erfindung geklebt werden. Beispiele für solche Vorrichtungen sind u. a. mikroelektronische Vorrichtungen auf Siliciumbasis, mikroelektronische Vorrichtungen auf Galliumarsenidbasis, mikroelektronische Vorrichtungen auf Quarzbasis, mikroelektronische Vorrichtungen auf Saphirbasis, mikroelektronische Vorrichtungen auf Indiumphosphidbasis, mikroelektronische Vorrichtungen auf Cadmiumsulfidbasis, mikroelektronische Vorrichtungen auf Lithiumniobatbasis und dergleichen.
  • Ebenso werden die Fachleute leicht erkennen, daß vielerlei Substrate gemäß der vorliegenden Erfindung geklebt werden können. Beispiele für solche Substrate sind Platinen, die aus Materialien hergestellt sind, welche dazu neigen, bei der Einwirkung von erhöhten Temperaturen flüchtige Stoffe freizusetzen, z. B. Platinen, die aus Materialien hergestellt sind, welche zur Absorption von Wasser neigen. Beispiele für solche Platinen sind u. a. Bismaleinimidtriazin-Platinen, Epoxyplatinen, Platinen mit einem Polyimidfilm darauf, Platinen mit einem Polycarbonatfilm darauf, Platinen mit einer Lötmaskenbeschichtung darauf und dergleichen.
  • Gemäß einer weiteren Ausführungsform der vorliegenden Erfindung werden Klebstoff-Zusammensetzungen zur Verfügung gestellt, die zum Befestigen einer Vorrichtung an einem Substrat geeignet sind, wobei die Vorrichtung und/oder das Substrat dazu neigt/neigen, bei erhöhten Temperaturen flüchtige Stoffe freizusetzen, und wobei im wesentlichen keine Hohlraumbildung bei der Härtung der Zusammensetzung auftritt. Die erfindungsgemäßen Zusammensetzungen umfassen:
    Bindemittel und
    einen Katalysator, der das Härten des Bindemittels bei einer Temperatur von nicht höher als 100°C initiiert.
  • Bindemittel, die zur Verwendung in der Praxis der vorliegenden Erfindung vorgesehen sind, sind u. a. Cyanatester-basierende Zubereitungen, Maleinimid-basierende Zubereitungen, Epoxy-basierende Zubereitungen, (Meth-)Acrylat-basierende Zubereitungen, Vinylether-basierende Zubereitungen, Vinylester-basierende Zubereitungen, Allylester-basierende Zubereitungen, Diallylamid-basierende Zubereitungen, Propargylether-basierende Zubereitungen, Zubereitungen auf Basis einer Polysiloxan-Hauptkette mit einer oder mehreren der vorstehend beschriebenen funktionellen Gruppen am Ende, Zubereitungen auf Basis einer vorimidisierten Polyimid-Hauptkette mit einer oder mehreren der vorstehenden beschriebenen funktionellen Gruppen am Ende und dergleichen sowie Mischungen aus beliebigen zwei oder mehreren davon, wie es hierin oben beschrieben ist.
  • Ähnlich sind die zur Verwendung bei der Herstellung der erfindungsgemäßen Zusammensetzungen vorgesehenen Katalysatoren wie oben beschrieben, und solche Katalysatoren können in Mengen, wie sie oben beschrieben sind, zu der erfindungsgemäßen Zusammensetzung hinzugegeben werden.
  • So wie hier verwendet, bedeutet "im wesentlichen hohlraumfrei" eine im wesentlichen kontinuierliche Klebstoffbindung zwischen der Vorrichtung und dem Substrat, welche miteinander verbunden sind. Hohlräume äußern sich als Unterbrechung dieser ansonsten kontinuierlichen Bindung und beeinträchtigen sowohl die Stärke der resultierenden Bindung als auch die Fähigkeit einer solchen Bindung, den Einflüssen von äußeren Kräften, wie z. B. hohen Feuchtigkeitsgehalten, hohen Scherkräften und dergleichen, zu widerstehen.
  • Die Erfindung wird nun durch Bezugnahme auf die folgenden nichtlimitierenden Beispiele in größerem Detail beschrieben.
  • Beispiel 1
  • Zum Testen wurde ein Harzsystem hergestellt, wobei folgende Basiszubereitung und verschiedenerlei Katalysatoren verwendet wurden, um die Auswirkung der Katalysatorwahl auf das Auftreten von Hohlräumen während des Härtens zu ermitteln. Die verwendete Basisharzzusammensetzung umfaßt:
    60 Gewichtsteile des Bismaleinimids 1,20-Bismaleinimido-10,11-dioctyleicosan,
    30 Gewichtsteile maleiniertes Polybutadien R130 MA20 von Ricon Resins, Grand Junction, CO,
    22 Gewichtsteile eines verzweigten C24-Monovinylethers (d. h. des Monovinylethers von 2-Decyltetradecanol),
    4 Gewichtsteile eines Kupplungsreagenzes (z. B. 3 Teile A-186 (d. h. β-(3,4-Epoxycyclohexyl)ethyltrimethoxysilan) und ein Teil A-174 (d. h. γ-Methacryloxypropyltrimethoxysilan), die beide von OSi Specialities, Endicott, NY, erhältlich sind) und
    1, 3 oder 5 Gewichtsteile eines Katalysators.
  • Die hier verwendeten Katalysatoren sind u. a. Perkadox 16S (Di(4-tert.-butylcyclohexyl)peroxydicarbonat, erhältlich von Akzo Nobel), Trigonox 141 (2,5-Dimethyl-2,5-di-(2-ethylhexanoylperoxy)hexan, erhältlich von Akzo Nobel) und Witco USP90MD (1,1-Bis(tert.-Amylperoxy)cyclohexan, erhältlich von Witco Chemical). Jeder dieser Katalysatoren hat eine 10-Stunden-Zersetzungshalbwertszeit bei 70°C oder weniger und wurde in Mengen von 1, 3 oder 5 Gewichtsteilen zu der oben beschriebenen Basiszubereitung hinzugegeben. Somit wurden neun Pasten zum Testen hergestellt, jede mit 77 Gew.-% Silberflocken gestreckt. Eine Differentialscanninkalorimetrie (DSC) und ein Hohlraumtest wurden mit jeder Paste durchgeführt.
  • Der Hohlraumtest wurde unter Verwendung eines kupferplattierten BT(Bismaleinamidtriazin)-Harzes mit einer Taiyo-PSR-4000-Version-AUS5-Lötmaske durchgeführt. Das Substrat wurde 15–16 Stunden lang in eine 85/85-Kammer gegeben, um sicherzustellen, daß eine Feuchtigkeitsabsorption auftritt. Die neun Pasten wurden an dem Substrat angebracht, wobei ein 300 × 300-Mil-Deckglas verwendet wurde. Die Pasten wurden 60 Sekunden lang bei 150°C auf einer Heizplattenvorrichtung gehärtet.
  • Die DSC wurde mit einer Anstiegsgeschwindigkeit von 10°C/Minute durchgeführt. Die verwendete Probengröße betrug etwa 20–30 mg. Die Analyse des DSC zeigt den Beginn der Härtung, das Aushärtungsspitzenmaximum und die freigesetzte Gesamtenergie. Die Temperatur beim Härtungsbeginn und die Temperatur beim Aushärtungsspitzenmaximum sind in der Tabelle für jede der Pasten angegeben.
  • Tabelle
    Figure 00110001
  • Die oben dargestellten Ergebnisse zeigen, daß bei feuchtigkeitsempfindlichen Polymeren keine Hohlraumbildung unter dem Plättchen stattfindet, solange die Temperaturen des Härtungsbeginns und des Aushärtungsspitzenmaximums beide unterhalb 100°C liegen.
  • Obwohl die Erfindung im Detail mit Bezug auf bestimmte bevorzugte Ausführungsformen davon beschrieben worden ist, ist es selbstverständlich, daß Modifikationen und Variationen vom Sinn und Umfang des Beschriebenen und Beanspruchten umfaßt sind.

Claims (26)

  1. Verfahren zur Verminderung von Hohlraumbildung beim Härten einer Klebstoff-Zubereitung, die zum Verbinden einer mikroelektronischen Vorrichtung mit einem Substrat verwendet wird, wobei die Vorrichtung und/oder das Substrat dazu neigen, bei erhöhten Temperaturen flüchtige Stoffe freizusetzen, wobei das Verfahren als Härtungskatalysator für die Zubereitung die Verwendung eines Katalysators umfasst, der das Härten der Zubereitung bei einer Temperatur von weniger als 100°C initiiert.
  2. Verfahren gemäß Anspruch 1, wobei der Katalysator das Härten der Zubereitung mit einer Geschwindigkeit fördert, so dass das Aushärtungsspitzenmaximum bei einer Temperatur von nicht mehr als etwa 100°C auftritt.
  3. Verfahren gemäß Anspruch 1, wobei der Katalysator ein radikalischer Katalysator, ein anionischer Härtungskatalysator, ein kationischer Härtungskatalysator, ein Übergangsmetall-Katalysator oder eine Kombination von zwei oder mehreren davon ist.
  4. Verfahren gemäß Anspruch 3, wobei der radikalische Katalysator ausgewählt wird aus der Gruppe bestehend aus Cumolperoxyneodecanoat, Cumolperoxyneoheptanoat, tert-Amylperoxyneodecanoat, tert-Butylperoxyneodecanoat, tert-Amylperoxyneoheptanoat, tert-Butylperoxyneoheptanoat, einem Peroxydicarbonat, 2,4,4-Trimethylpentyl-2-peroxyneodecanoat, Di-(n-propyl)-peroxydicarbonat, Di-(sek-butyl)-peroxydicarbonat, Di-(4-tert-butylcyclohexyl)-peroxydicarbonat, Di-(2-ethylhexyl)-peroxydicarbonat, Dimyristylperoxydicarbonat, tert-Amylperoxypivalat, tert-Butylperoxypivalat, Di-[3,5,5-trimethylhexanoyl]-peroxid, Decanoylperoxid, Lauroylperoxid, Dilauroylperoxid, Diisononanoylperoxid, 2,5-Dimethyl-2,5-di(2-ethylhexanoylperoxy)-hexan und 1-Amylperoxy-2-ethylhexanoat.
  5. Verfahren gemäß Anspruch 1, wobei der Katalysator das Härten der Zubereitung mit einer Geschwindigkeit fördert, so dass das Aushärtungsspitzenmaximum bei einer Temperatur von nicht mehr als etwa 90°C auftritt.
  6. Verfahren gemäß Anspruch 1, wobei der Katalysator das Härten der Zubereitung mit einer Geschwindigkeit fördert, so dass das Aushärtungsspitzenmaximum bei einer Temperatur von nicht mehr als etwa 80°C auftritt.
  7. Verfahren gemäß Anspruch 1, wobei der Katalysator das Härten der Zubereitung mit einer Geschwindigkeit fördert, so dass das Aushärtungsspitzenmaximum bei einer Temperatur von nicht mehr als etwa 70°C auftritt.
  8. Verfahren gemäß Anspruch 1, wobei der Katalysator das Härten der Zubereitung mit einer Geschwindigkeit fördert, so dass das Aushärtungsspitzenmaximum bei einer Temperatur von nicht mehr als etwa 60°C auftritt.
  9. Verfahren gemäß Anspruch 1, wobei die Klebstoff-Zubereitung eine Cyanatester-basierende Zubereitung, eine Maleinimid-basierende Zubereitung, eine Epoxy-basierende Zubereitung, eine (Meth-)Acrylat-basierende Zubereitung, eine Vinylether-basierende Zubereitung, eine Vinylester-basierende Zubereitung, eine Allylester-basierende Zubereitung, eine Diallylamid-basierende Zubereitung, eine Propargylether-basierende Zubereitung, Zubereitungen auf Basis einer Polysiloxan-Hauptkette mit einer oder mehreren der vorstehend beschriebenen funktionalen Gruppen am Ende, Zubereitungen auf Basis einer vorimidisierten Polyimid-Hauptkette mit einer oder mehreren der vorstehend beschriebenen funktionalen Gruppen am Ende, oder eine Mischung aus zwei oder mehreren davon ist.
  10. Verfahren gemäß Anspruch 9, wobei die Klebstoff-Zubereitung eine Mischung aus Maleinimid und Vinylether enthält.
  11. Verfahren gemäß Anspruch 9, wobei die Klebstoff-Zubereitung weiterhin wenigstens ein Streckmittel enthält.
  12. Verfahren gemäß Anspruch 1, wobei die Vorrichtung eine mikroelektronische Vorrichtung auf Siliciumbasis, eine mikroelektronische Vorrichtung auf Galliumarsenidbasis, eine mikroelektronische Vorrichtung auf Quarzbasis, eine mikroelektronische Vorrichtung auf Saphirbasis, eine mikroelektronische Vorrichtung auf Indiumphosphidbasis, eine mikroelektronische Vorrichtung auf Cadmiumsulfidbasis oder eine mikroelektronische Vorrichtung auf Lithiumniobatbasis ist.
  13. Verfahren gemäß Anspruch 1, wobei das Substrat eine Platine ist, die flüchtige Stoffe beim Aussetzen an erhöhte Temperaturen freisetzt.
  14. Verfahren gemäß Anspruch 13, wobei das Substrat eine Bismaleinimidtriazin-Platine, eine Epoxyplatine, eine Platine mit einem Polyimidfilm darauf, eine Platine mit einem Polycarbonatfilm darauf oder eine Platine mit einer Lötmaskenbeschichtung darauf ist.
  15. Klebstoff-Zusammensetzung, geeignet zum Befestigen einer mikroelektronischen Vorrichtung an einem Substrat, wobei die Vorrichtung und/oder das Substrat dazu neigen, bei erhöhten Temperaturen flüchtige Stoffe freizusetzen, und wobei im Wesentlichen keine Hohlraumbildung bei der Härtung der Zusammensetzung auftritt, die enthält: ein Bindemittel, und einen Katalysator, der das Härten des Bindemittels bei einer Temperatur von nicht mehr als 100°C initiiert.
  16. Zusammensetzung gemäß Anspruch 15, wobei der Katalysator das Härten der Zusammensetzung mit einer Geschwindigkeit fördert, so dass das Aushärtungsspitzenmaximum bei einer Temperatur von nicht mehr als etwa 100°C auftritt.
  17. Zusammensetzung gemäß Anspruch 15, wobei der Katalysator ein radikalischer Katalysator, ein anionischer Härtungskatalysator, ein kationischer Härtungskatalysator, ein Übergangsmetall-Katalysator, oder eine Kombination von zwei oder mehreren davon ist.
  18. Zusammensetzung gemäß Anspruch 17, wobei der radikalische Katalysator ausgewählt wird aus der Gruppe bestehend aus Cumolperoxyneodecanoat, Cumolperoxyneoheptanoat, tert-Amylperoxyneodecanoat, tert-Butylperoxyneodecanoat, tert-Amylperoxyneoheptanoat, tert-Butylperoxyneoheptanoat, einem Peroxydicarbonat, 2,4,4-Trimethylpentyl-2-peroxyneodecanoat, Di-(n-propyl)-peroxydicarbonat, Di-(sek-butyl)-peroxydicarbonat, Di-(4-tert-butylcyclohexyl)-peroxydicarbonat, Di-(2-ethylhexyl)-peroxydicarbonat, Dimyristylperoxydicarbonat, tert-Amylperoxypivalat, tert-Butylperoxypivalat, Di-[3,5,5-trimethylhexanoyl]-peroxid, Decanoylperoxid, Lauroylperoxid, Dilauroylperoxid, Diisononanoylperoxid, 2,5-Dimethyl-2,5-di(2-ethylhexanoylperoxy)-hexan und 1-Amylperoxy-2-ethylhexanoat.
  19. Zusammensetzung gemäß Anspruch 15, wobei der Katalysator das Härten der Zusammensetzung mit einer Geschwindigkeit fördert, so dass das Aushärtungsspitzenmaximum bei einer Temperatur von nicht mehr als etwa 90°C auftritt.
  20. Zusammensetzung gemäß Anspruch 15, wobei der Katalysator das Härten der Zusammensetzung mit einer Geschwindigkeit fördert, so dass das Aushärtungsspitzenmaximum bei einer Temperatur von nicht mehr als etwa 80°C auftritt.
  21. Zusammensetzung gemäß Anspruch 15, wobei der Katalysator das Härten der Zusammensetzung mit einer Geschwindigkeit fördert, so dass das Aushärtungsspitzenmaximum bei einer Temperatur von nicht mehr als etwa 70°C auftritt.
  22. Zusammensetzung gemäß Anspruch 15, wobei der Katalysator das Härten der Zusammensetzung mit einer Geschwindigkeit fördert, so dass das Aushärtungsspitzenmaximum bei einer Temperatur von nicht mehr als etwa 60°C auftritt.
  23. Zusammensetzung gemäß Anspruch 15, wobei das Bindemittel eine Cyanatester-basierende Zubereitung, eine Maleinimid-basierende Zubereitung, eine Epoxy-basierende Zubereitung, eine (Meth-)Acrylat-basierende Zubereitung, eine Vinylether-basierende Zubereitung, eine Vinylester-basierende Zubereitung, eine Allylester-basierende Zubereitung, eine Diallylamid-basierende Zubereitung, eine Propargylether-basierende Zubereitung, Zubereitungen auf Basis einer Polysiloxan-Hauptkette mit einer oder mehreren der vorstehend beschriebenen funktionalen Gruppen am Ende, Zubereitungen auf Basis einer vorimidisierten Polyimid-Hauptkette mit einer oder mehreren der vorstehend beschriebenen funktionalen Gruppen am Ende, oder eine Mischung aus zwei oder mehreren davon ist.
  24. Zusammensetzung gemäß Anspruch 15, wobei das Bindemittel eine Mischung aus Maleinimid und Vinylether enthält.
  25. Zusammensetzung gemäß Anspruch 15, wobei die Zusammensetzung weiterhin wenigstens ein Streckmittel enthält.
  26. Bauteil, das im Wesentlichen hohlraumfrei und nach dem Verfahren gemäß Anspruch 1 hergestellt ist.
DE69721309T 1997-01-06 1997-12-29 Verminderung der bildung von hohlräumen in härtbaren klebstoffzusammensetzungen Expired - Fee Related DE69721309T9 (de)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US78199597A 1997-01-06 1997-01-06
US781995 1997-01-06
PCT/US1997/024188 WO1998030647A1 (en) 1997-01-06 1997-12-29 Reducing void formation in curable adhesive formulations

Publications (3)

Publication Number Publication Date
DE69721309D1 DE69721309D1 (de) 2003-05-28
DE69721309T2 DE69721309T2 (de) 2004-01-29
DE69721309T9 true DE69721309T9 (de) 2005-03-10

Family

ID=25124596

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE69721309T Expired - Fee Related DE69721309T9 (de) 1997-01-06 1997-12-29 Verminderung der bildung von hohlräumen in härtbaren klebstoffzusammensetzungen

Country Status (12)

Country Link
US (1) US20020062923A1 (de)
EP (1) EP0950082B1 (de)
JP (1) JP2001508483A (de)
KR (1) KR20000069904A (de)
CN (1) CN1105160C (de)
AT (1) ATE238397T1 (de)
AU (1) AU5623798A (de)
CA (1) CA2276737A1 (de)
DE (1) DE69721309T9 (de)
MY (1) MY132841A (de)
TW (1) TW565601B (de)
WO (1) WO1998030647A1 (de)

Families Citing this family (37)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6784024B2 (en) * 2000-01-18 2004-08-31 Micron Technology, Inc. Die attach curing method for semiconductor device
US20050288457A1 (en) * 2002-10-22 2005-12-29 Puwei Liu Co-curable compositions
US8513375B2 (en) * 2003-05-05 2013-08-20 Designer Molecules, Inc. Imide-linked maleimide and polymaleimide compounds
WO2010019832A2 (en) 2008-08-13 2010-02-18 Designer Molecules, Inc. Amide-extended crosslinking compounds and methods for use thereof
US7884174B2 (en) * 2003-05-05 2011-02-08 Designer Molecules, Inc. Imide-linked maleimide and polymaleimide compounds
US7875688B2 (en) * 2004-06-04 2011-01-25 Designer Molecules, Inc. Free-radical curable polyesters and methods for use thereof
US7795362B2 (en) * 2004-07-16 2010-09-14 Designer Molecules, Inc. Olefin oligomers containing pendant maleimide groups
US8043534B2 (en) * 2005-10-21 2011-10-25 Designer Molecules, Inc. Maleimide compositions and methods for use thereof
US8378017B2 (en) * 2005-12-29 2013-02-19 Designer Molecules, Inc. Thermosetting adhesive compositions
US8530573B2 (en) 2006-05-10 2013-09-10 Designer Molecules, Inc. Modified calcium carbonate-filled adhesive compositions and methods for use thereof
US8287686B2 (en) * 2006-07-24 2012-10-16 Designer Molecules, Inc. Derivatives of poly(styrene-co-allyl alcohol) and methods for use thereof
US7825188B2 (en) * 2006-12-19 2010-11-02 Designer Molecules, Inc. Thermoplastic elastomer with acyloxyphenyl hard block segment
WO2008077140A2 (en) * 2006-12-19 2008-06-26 Designer Molecules, Inc. Hydrolytically resistant thermoset monomers
WO2008092168A2 (en) * 2007-01-26 2008-07-31 Designer Molecules, Inc. Methods for the preparation of imides, maleimides and maleimide-terminated polyimide compounds
WO2008124797A1 (en) * 2007-04-09 2008-10-16 Designer Molecules, Inc. Curatives for epoxy compositions
US8039663B2 (en) * 2007-04-09 2011-10-18 Designer Molecules, Inc. Monomers derived from pentacyclopentadecane dimethanol
US8431655B2 (en) * 2007-04-09 2013-04-30 Designer Molecules, Inc. Curatives for epoxy compositions
US7868113B2 (en) 2007-04-11 2011-01-11 Designer Molecules, Inc. Low shrinkage polyester thermosetting resins
WO2008128209A1 (en) * 2007-04-12 2008-10-23 Designer Molecules, Inc. Polyfunctional epoxy oligomers
WO2008130894A1 (en) * 2007-04-16 2008-10-30 Designer Molecules, Inc. Low temperature curing acrylate and maleimide based formulations and methods for use thereof
US7928153B2 (en) 2007-08-14 2011-04-19 Designer Molecules, Inc. Thermosetting polyether oligomers, compositions and methods for use thereof
US8398898B2 (en) * 2008-02-23 2013-03-19 Designer Molecules, Inc. Soluble metal salts for use as conductivity promoters
US8541531B2 (en) * 2008-03-21 2013-09-24 Designer Molecules, Inc. Anti-bleed compounds, compositions and methods for use thereof
US8308892B2 (en) 2008-04-09 2012-11-13 Designer Molecules, Inc. Di-cinnamyl compounds and methods for use thereof
US8217120B2 (en) * 2008-08-13 2012-07-10 Designer Molecules, Inc. Functionalized styrene oligomers and polymers
US8013104B2 (en) * 2008-08-13 2011-09-06 Designer Molecules, Inc. Thermosetting hyperbranched compositions and methods for use thereof
US8008419B2 (en) * 2008-08-13 2011-08-30 Designer Molecules, Inc. Siloxane monomers and methods for use thereof
US8158748B2 (en) * 2008-08-13 2012-04-17 Designer Molecules, Inc. Hetero-functional compounds and methods for use thereof
US8288591B2 (en) * 2008-11-20 2012-10-16 Designer Molecules, Inc. Curing agents for epoxy resins
US8415812B2 (en) * 2009-09-03 2013-04-09 Designer Molecules, Inc. Materials and methods for stress reduction in semiconductor wafer passivation layers
US8686162B2 (en) 2010-08-25 2014-04-01 Designer Molecules Inc, Inc. Maleimide-functional monomers in amorphous form
US8816021B2 (en) 2010-09-10 2014-08-26 Designer Molecules, Inc. Curable composition with rubber-like properties
TWI509631B (zh) * 2011-02-25 2015-11-21 Henkel IP & Holding GmbH 用於電子裝置之可燒結銀薄片黏著劑
US10000670B2 (en) 2012-07-30 2018-06-19 Henkel IP & Holding GmbH Silver sintering compositions with fluxing or reducing agents for metal adhesion
KR102008354B1 (ko) * 2013-02-01 2019-08-07 쓰리엠 이노베이티브 프로퍼티즈 컴파니 감압 접착제 조성물 및 이를 포함하는 접착 물품
CN107709418B (zh) 2015-05-08 2021-04-27 汉高知识产权控股有限责任公司 可烧结的膜和膏及其使用方法
JP2018104653A (ja) * 2016-12-28 2018-07-05 日立化成株式会社 接着剤組成物の選別方法、回路部材の接続方法、接続構造体、接着剤組成物及びフィルム状接着剤

Family Cites Families (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB1155973A (en) * 1965-06-26 1969-06-25 Ajinomoto Kk Spiroacetal Diamine Derivatives and their use as Curing Agents for Epoxy Resins
JPS55127098A (en) * 1979-03-09 1980-10-01 Matsushita Electric Ind Co Ltd Method of mounting electronic part
GB2179001A (en) * 1985-08-16 1987-02-25 Burr Brown Corp Method of bonding using paste or non-dry film adhesives
US4714726A (en) * 1986-06-04 1987-12-22 W. R. Grace & Co. Low temperature single step curing polyimide adhesive
DE3806738C1 (de) * 1988-03-02 1989-09-07 Espe Stiftung & Co Produktions- Und Vertriebs Kg, 8031 Seefeld, De
EP0508951B1 (de) * 1991-04-08 1996-08-21 Ciba-Geigy Ag Thermisch härtbare Zusammensetzungen
US5391604A (en) * 1993-07-30 1995-02-21 Diemat, Inc. Adhesive paste containing polymeric resin
GB9318872D0 (en) * 1993-09-11 1993-10-27 Unisersity Fo Leeds The Polymer resin
US5644837A (en) * 1995-06-30 1997-07-08 Lambda Technologies, Inc. Process for assembling electronics using microwave irradiation

Also Published As

Publication number Publication date
KR20000069904A (ko) 2000-11-25
US20020062923A1 (en) 2002-05-30
TW565601B (en) 2003-12-11
CA2276737A1 (en) 1998-07-16
ATE238397T1 (de) 2003-05-15
EP0950082A1 (de) 1999-10-20
AU5623798A (en) 1998-08-03
DE69721309T2 (de) 2004-01-29
JP2001508483A (ja) 2001-06-26
CN1245520A (zh) 2000-02-23
CN1105160C (zh) 2003-04-09
MY132841A (en) 2007-10-31
EP0950082A4 (de) 2000-07-12
EP0950082B1 (de) 2003-04-23
WO1998030647A1 (en) 1998-07-16
DE69721309D1 (de) 2003-05-28

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE69721309T9 (de) Verminderung der bildung von hohlräumen in härtbaren klebstoffzusammensetzungen
DE69821350T2 (de) Klebstoff, verfahren zur verbindung und anordungen von montierten leiterplatten
DE69908417T2 (de) Wärme entklebbare klebstoffzusammensetzung und klebestruktur
DE60109356T2 (de) Vinylether und Karbamat oder Harnstofffunktionalität enthaltende Haftklebemittel für Halbleiterplatten
DE60038253T2 (de) Verbindungsmaterial
JP3814301B2 (ja) ペルフッ素化炭化水素重合体入り接着剤配合物及びその用途
DE602005000085T2 (de) Epoxidharzzusammensetzung zum einkapseln von Halbleitern, Halbleiter davon und Herstellungsverfahren von Halbleitern
DE60126157T2 (de) Zusammensetzungen; verfahren und vorrichtungen für bleifreies hochtemperaturlötmittel
DE60101910T2 (de) Monocarbonsäuresalze von imidazolreaktionsprodukten, verfahren zur herstellung der salze, und oberflächenbehandlungen, zusätze für harze und harzzusammensetzungen welche diese enthalten
US8987607B2 (en) Conductive particle, and anisotropic conductive film, bonded structure, and bonding method
DE69625554T2 (de) Eine Haftvermittlerschicht enthaltende mehrschichtige Strukturen
DE69026219T2 (de) Epoxyharz imprägnierte Glasmatte mit einer Kleberschicht
DE68928583T2 (de) Epoxydharzzusammensetzung für die Versiegelung von Halbleitern
DE69407538T2 (de) Flüssigklebstoff für elektronische Teile und deren Anwendung zur Bildung einer isolierenden Klebeschicht
DE102008045424A1 (de) Einen anorganischen Füllstoff und einen organischen Füllstoff enthaltende härtbare Kunstharzmischung, mit einer Resistschicht beschichtete gedruckte Leiterplatte und Verfahren zu dessen/deren Herstellung
DE60303972T2 (de) Wärmehärtbare Klebefilme
DE3625587A1 (de) Verfahren zur verbesserung der haftfestigkeit von stromlos abgeschiedenen metallschichten auf kunststoffoberflaechen
DE69603177T2 (de) Klebeband und mit aminen vernetzbarer heissschmelzklebstoff
DE60102457T2 (de) Paste zum Befestigen eines Halbleiterchips und Halbleiteranordnung
WO2001059007A1 (fr) Composition de resine, adhesifs prepares avec cette composition et destines a lier des elements de circuit, et cartes a circuit imprime
DE69023504T2 (de) Thermoplastische Klebschicht zur Halbleiterbefestigung.
DE60300602T2 (de) Thiazole Derivate enthaltende härtbare Zusammensetzung
JP2000234083A (ja) 異方導電性接着剤の製造方法及びその方法により製造された接着剤を用いて製作された電子機器
DE19511553C2 (de) Verfahren zur Erzeugung elektrisch leitfähiger Strukturen, eine nach dem Verfahren erhaltene elektrisch leitfähige Struktur sowie Kombination zur Erzeugung elektrisch leitfähiger Strukturen
CN109072014A (zh) 粘接剂组合物、固化物、精密部件

Legal Events

Date Code Title Description
8364 No opposition during term of opposition
8339 Ceased/non-payment of the annual fee