DE69503211D1 - Verfahren zur Herstellung eines Substrats für das Aufbringen einer Dünnschicht aus supraleitenden Materialien - Google Patents

Verfahren zur Herstellung eines Substrats für das Aufbringen einer Dünnschicht aus supraleitenden Materialien

Info

Publication number
DE69503211D1
DE69503211D1 DE69503211T DE69503211T DE69503211D1 DE 69503211 D1 DE69503211 D1 DE 69503211D1 DE 69503211 T DE69503211 T DE 69503211T DE 69503211 T DE69503211 T DE 69503211T DE 69503211 D1 DE69503211 D1 DE 69503211D1
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
substrate
production
application
thin layer
superconducting materials
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Lifetime
Application number
DE69503211T
Other languages
English (en)
Other versions
DE69503211T2 (de
Inventor
Christian Belouet
Didier Chambonnet
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Nexans SA
Original Assignee
Alcatel Alsthom Compagnie Generale dElectricite
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Alcatel Alsthom Compagnie Generale dElectricite filed Critical Alcatel Alsthom Compagnie Generale dElectricite
Publication of DE69503211D1 publication Critical patent/DE69503211D1/de
Application granted granted Critical
Publication of DE69503211T2 publication Critical patent/DE69503211T2/de
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10NELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10N60/00Superconducting devices
    • H10N60/01Manufacture or treatment
    • H10N60/0268Manufacture or treatment of devices comprising copper oxide
    • H10N60/0296Processes for depositing or forming copper oxide superconductor layers
    • H10N60/0576Processes for depositing or forming copper oxide superconductor layers characterised by the substrate
    • H10N60/0632Intermediate layers, e.g. for growth control

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)
  • Physical Vapour Deposition (AREA)
  • Inorganic Compounds Of Heavy Metals (AREA)
  • Superconductors And Manufacturing Methods Therefor (AREA)
  • Superconductor Devices And Manufacturing Methods Thereof (AREA)
DE69503211T 1994-10-27 1995-10-24 Verfahren zur Herstellung eines Substrats für das Aufbringen einer Dünnschicht aus supraleitenden Materialien Expired - Lifetime DE69503211T2 (de)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
FR9412882A FR2726399B1 (fr) 1994-10-27 1994-10-27 Procede pour la preparation d'un substrat en vue du depot d'une couche mince de materiau supraconducteur

Publications (2)

Publication Number Publication Date
DE69503211D1 true DE69503211D1 (de) 1998-08-06
DE69503211T2 DE69503211T2 (de) 1999-01-14

Family

ID=9468283

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE69503211T Expired - Lifetime DE69503211T2 (de) 1994-10-27 1995-10-24 Verfahren zur Herstellung eines Substrats für das Aufbringen einer Dünnschicht aus supraleitenden Materialien

Country Status (7)

Country Link
US (1) US5595960A (de)
EP (1) EP0709903B1 (de)
JP (1) JP4024881B2 (de)
CA (1) CA2161487C (de)
DE (1) DE69503211T2 (de)
ES (1) ES2119335T3 (de)
FR (1) FR2726399B1 (de)

Families Citing this family (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP1195819A1 (de) * 2000-10-09 2002-04-10 Nexans Pufferschicht-Struktur basierend auf dotiertem Ceroxyd für optimale Gitteranpassung einer YBCO-Schicht in einem Leiter und zugehöriges Herstellungsverfahren
US20040157747A1 (en) * 2003-02-10 2004-08-12 The University Of Houston System Biaxially textured single buffer layer for superconductive articles
JP4709005B2 (ja) * 2003-05-07 2011-06-22 財団法人国際超電導産業技術研究センター 希土類系酸化物超電導体及びその製造方法
US7683010B2 (en) * 2005-07-29 2010-03-23 Ut-Battelle, Llc Doped LZO buffer layers for laminated conductors
US7258928B2 (en) * 2005-07-29 2007-08-21 Ut-Battelle, Llc Doped Y2O3 buffer layers for laminated conductors
DE102008016257B4 (de) * 2008-03-29 2010-01-28 Zenergy Power Gmbh Hochtemperatursupraleiter-Schichtanordnung und Verfahren zur Herstellung einer solchen

Family Cites Families (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CA1336567C (en) * 1988-02-03 1995-08-08 Franz Joseph Himpsel Epitaxy of high t_ superconductors on silicon
US4940693A (en) * 1988-07-28 1990-07-10 The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Army High temperature superconducting thin film structure and method of making
JPH04214097A (ja) * 1990-12-13 1992-08-05 Sumitomo Electric Ind Ltd 超電導薄膜の作製方法
US5262394A (en) * 1991-12-27 1993-11-16 The United States Of America As Represented By The United States Department Of Energy Superconductive articles including cerium oxide layer

Also Published As

Publication number Publication date
DE69503211T2 (de) 1999-01-14
CA2161487C (fr) 2000-10-03
CA2161487A1 (fr) 1996-04-28
JP4024881B2 (ja) 2007-12-19
US5595960A (en) 1997-01-21
ES2119335T3 (es) 1998-10-01
FR2726399A1 (fr) 1996-05-03
JPH08231219A (ja) 1996-09-10
EP0709903B1 (de) 1998-07-01
FR2726399B1 (fr) 1997-01-10
EP0709903A1 (de) 1996-05-01

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE69633423D1 (de) Verfahren zur Herstellung eines mit einer dünnen ferroelektrischen Schicht überdeckten Substrats
DE69518548T2 (de) Verfahren zur Herstellung eines keramischen Substrates
DE69328390D1 (de) Verfahren zur Herstellung eines mehrlagigen Substrats
DE69513459D1 (de) Verfahren zur Herstellung einer Al-Ge Legierung mit einer WGe Polierstoppschicht
DE69827856D1 (de) Verfahren zur Herstellung eines bedruckten Substrats
DE69711335T2 (de) Hochtemperatur-Schutzschicht für ein Substrat aus einer Superlegierung und Verfahren zu deren Herstellung
DE69423143T2 (de) Verfahren zur Herstellung einer Doppelschichtfolie
DE69518121D1 (de) Verfahren zur Herstellung eines Dünnfilms eines Verbund-Metalloxid-Dielektrikums
DE3885261D1 (de) Verfahren zur Herstellung eines mit Apatit beschichteten Substrats.
DE69512186D1 (de) Ferroelektrische Dünnschicht, Substrat bedeckt mit einer ferroelektrischen Dünnschicht und Verfahren zur Herstellung einer ferroelektrischen Dünnschicht
DE69526286T2 (de) Verfahren zur Herstellung eines keramischen Substrates
DE69225881T2 (de) Verfahren zur Herstellung eines Substrates vom SOI-Typ mit einer uniformen dünnen Silizium-Schicht
DE69219652D1 (de) Verfahren zur Herstellung eines Glassubstrat für Scheibe
DE69520538D1 (de) Verfahren zur Herstellung einer dünnen polykristallinen Halbleiterschicht
DE69509594T2 (de) Verfahren zur Herstellung einer Diamantschicht
DE69208692D1 (de) Verfahren zur Herstellung einer hundfussformigen Schicht aus Verbundwerkstoff und dafür gebrauchtes (benötigtes) Werkzeug
DE69503211D1 (de) Verfahren zur Herstellung eines Substrats für das Aufbringen einer Dünnschicht aus supraleitenden Materialien
DE69506331T2 (de) Verfahren zur Herstellung einer synthetischen Diamantschicht mit reduzierter Beugung
DE69010305D1 (de) Beschichtung aus einer Chromium-Stickstofflegierung zum Verleihen guter tribologischer Eigenschaften an ein Substrat und Verfahren zu ihrer Herstellung.
DE3854828D1 (de) Verfahren zur Herstellung einer dünnen Schicht aus zusammengesetztem supraleitendem Oxyd
DE69700977T2 (de) Polyimidvorläuferlösung, Verfahren zu ihrer Herstellung und Verfahren zur Herstellung einer Beschichtung oder eines Films daraus
DE69502228T2 (de) Verfahren zur Ausbildung einer Stufe auf der Oberfläche eines Substrats für die Herstellung einer supraleitenden Anordnung aus einem Oxid-Supraleiter
DE69116399D1 (de) Verfahren zur Herstellung einer Schicht aus supraleitendem Oxyd
DE69703005T2 (de) Verfahren zum Herstellen einer Dünnschicht aus Metallfluorid auf einem Substrat
DE69302444D1 (de) Verfahren zur Herstellung eines keramischen Überzuges mit metallischen Substraten

Legal Events

Date Code Title Description
8327 Change in the person/name/address of the patent owner

Owner name: ALCATEL, PARIS, FR

8364 No opposition during term of opposition
8327 Change in the person/name/address of the patent owner

Owner name: NEXANS, PARIS, FR