DE69312073T2 - Herstellungsverfahren einer vielschicht-leiterplatte - Google Patents
Herstellungsverfahren einer vielschicht-leiterplatteInfo
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- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 13
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 126
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 57
- 230000008569 process Effects 0.000 claims abstract description 37
- 239000010410 layer Substances 0.000 claims abstract description 36
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 claims abstract description 28
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 claims abstract description 28
- 239000012790 adhesive layer Substances 0.000 claims abstract description 20
- 238000003475 lamination Methods 0.000 claims abstract description 17
- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract description 16
- 230000009969 flowable effect Effects 0.000 claims abstract description 15
- 239000012792 core layer Substances 0.000 claims abstract description 8
- 238000010030 laminating Methods 0.000 claims abstract description 4
- 239000011521 glass Substances 0.000 claims description 24
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims description 23
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims description 23
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 claims description 18
- 229920001187 thermosetting polymer Polymers 0.000 claims description 14
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 claims description 12
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 claims description 12
- 239000000835 fiber Substances 0.000 claims description 8
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 claims description 7
- XQUPVDVFXZDTLT-UHFFFAOYSA-N 1-[4-[[4-(2,5-dioxopyrrol-1-yl)phenyl]methyl]phenyl]pyrrole-2,5-dione Chemical compound O=C1C=CC(=O)N1C(C=C1)=CC=C1CC1=CC=C(N2C(C=CC2=O)=O)C=C1 XQUPVDVFXZDTLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 claims description 5
- 229920003192 poly(bis maleimide) Polymers 0.000 claims description 5
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicon dioxide Inorganic materials O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 230000002787 reinforcement Effects 0.000 claims description 4
- 229920001567 vinyl ester resin Polymers 0.000 claims description 4
- 239000004734 Polyphenylene sulfide Substances 0.000 claims description 3
- 239000002253 acid Substances 0.000 claims description 3
- 229920002577 polybenzoxazole Polymers 0.000 claims description 3
- -1 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 claims description 3
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 claims description 3
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 claims description 3
- 229920000069 polyphenylene sulfide Polymers 0.000 claims description 3
- 239000004814 polyurethane Substances 0.000 claims description 3
- 239000010453 quartz Substances 0.000 claims description 3
- 150000003918 triazines Chemical class 0.000 claims description 3
- 229920006337 unsaturated polyester resin Polymers 0.000 claims description 3
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 2
- XLJMAIOERFSOGZ-UHFFFAOYSA-M cyanate Chemical compound [O-]C#N XLJMAIOERFSOGZ-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 2
- 229920001568 phenolic resin Polymers 0.000 claims description 2
- 239000005011 phenolic resin Substances 0.000 claims description 2
- 229920002635 polyurethane Polymers 0.000 claims description 2
- 239000012783 reinforcing fiber Substances 0.000 claims description 2
- MHSKRLJMQQNJNC-UHFFFAOYSA-N terephthalamide Chemical compound NC(=O)C1=CC=C(C(N)=O)C=C1 MHSKRLJMQQNJNC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 claims 2
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 claims 1
- 229920001169 thermoplastic Polymers 0.000 claims 1
- 239000012815 thermoplastic material Substances 0.000 claims 1
- 239000004416 thermosoftening plastic Substances 0.000 claims 1
- 229920002994 synthetic fiber Polymers 0.000 abstract 1
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 18
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 11
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 11
- 239000004744 fabric Substances 0.000 description 9
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 9
- 239000011889 copper foil Substances 0.000 description 7
- 230000003014 reinforcing effect Effects 0.000 description 6
- 239000000945 filler Substances 0.000 description 5
- 239000003365 glass fiber Substances 0.000 description 4
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 4
- 238000004804 winding Methods 0.000 description 4
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 3
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 3
- 230000001627 detrimental effect Effects 0.000 description 3
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 3
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QUSNBJAOOMFDIB-UHFFFAOYSA-N Ethylamine Chemical compound CCN QUSNBJAOOMFDIB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000009471 action Effects 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- WTEOIRVLGSZEPR-UHFFFAOYSA-N boron trifluoride Chemical compound FB(F)F WTEOIRVLGSZEPR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910010293 ceramic material Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 2
- 238000010924 continuous production Methods 0.000 description 2
- 125000003700 epoxy group Chemical group 0.000 description 2
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 2
- 239000012530 fluid Substances 0.000 description 2
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 2
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 2
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 2
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 2
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 2
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 2
- 238000003825 pressing Methods 0.000 description 2
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 2
- VEORPZCZECFIRK-UHFFFAOYSA-N 3,3',5,5'-tetrabromobisphenol A Chemical compound C=1C(Br)=C(O)C(Br)=CC=1C(C)(C)C1=CC(Br)=C(O)C(Br)=C1 VEORPZCZECFIRK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZRYCRPNCXLQHPN-UHFFFAOYSA-N 3-hydroxy-2-methylbenzaldehyde Chemical compound CC1=C(O)C=CC=C1C=O ZRYCRPNCXLQHPN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910015900 BF3 Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920000106 Liquid crystal polymer Polymers 0.000 description 1
- 239000006087 Silane Coupling Agent Substances 0.000 description 1
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001252 acrylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 1
- 239000002318 adhesion promoter Substances 0.000 description 1
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005388 borosilicate glass Substances 0.000 description 1
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 238000003486 chemical etching Methods 0.000 description 1
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 238000003851 corona treatment Methods 0.000 description 1
- 238000004132 cross linking Methods 0.000 description 1
- 239000004643 cyanate ester Substances 0.000 description 1
- 150000001913 cyanates Chemical class 0.000 description 1
- 239000003989 dielectric material Substances 0.000 description 1
- GYZLOYUZLJXAJU-UHFFFAOYSA-N diglycidyl ether Chemical compound C1OC1COCC1CO1 GYZLOYUZLJXAJU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000003618 dip coating Methods 0.000 description 1
- 238000007772 electroless plating Methods 0.000 description 1
- 229920006332 epoxy adhesive Polymers 0.000 description 1
- 230000002349 favourable effect Effects 0.000 description 1
- 239000012943 hotmelt Substances 0.000 description 1
- 239000003112 inhibitor Substances 0.000 description 1
- 239000004849 latent hardener Substances 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 229920003986 novolac Polymers 0.000 description 1
- TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Al]O[Al]=O TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002861 polymer material Substances 0.000 description 1
- 239000004810 polytetrafluoroethylene Substances 0.000 description 1
- 229920001343 polytetrafluoroethylene Polymers 0.000 description 1
- 239000008262 pumice Substances 0.000 description 1
- 239000012779 reinforcing material Substances 0.000 description 1
- 238000007788 roughening Methods 0.000 description 1
- 238000005488 sandblasting Methods 0.000 description 1
- HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N silicon carbide Chemical compound [Si+]#[C-] HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910010271 silicon carbide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 1
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 1
- 230000003068 static effect Effects 0.000 description 1
- 238000004381 surface treatment Methods 0.000 description 1
- 229920005992 thermoplastic resin Polymers 0.000 description 1
- 239000013008 thixotropic agent Substances 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
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-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K3/00—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
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- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B37/00—Methods or apparatus for laminating, e.g. by curing or by ultrasonic bonding
- B32B37/12—Methods or apparatus for laminating, e.g. by curing or by ultrasonic bonding characterised by using adhesives
-
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- H05K1/00—Printed circuits
- H05K1/02—Details
- H05K1/03—Use of materials for the substrate
- H05K1/0313—Organic insulating material
- H05K1/0353—Organic insulating material consisting of two or more materials, e.g. two or more polymers, polymer + filler, + reinforcement
- H05K1/0366—Organic insulating material consisting of two or more materials, e.g. two or more polymers, polymer + filler, + reinforcement reinforced, e.g. by fibres, fabrics
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- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K3/00—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
- H05K3/46—Manufacturing multilayer circuits
- H05K3/4611—Manufacturing multilayer circuits by laminating two or more circuit boards
- H05K3/4626—Manufacturing multilayer circuits by laminating two or more circuit boards characterised by the insulating layers or materials
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K2201/00—Indexing scheme relating to printed circuits covered by H05K1/00
- H05K2201/01—Dielectrics
- H05K2201/0183—Dielectric layers
- H05K2201/0195—Dielectric or adhesive layers comprising a plurality of layers, e.g. in a multilayer structure
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K2201/00—Indexing scheme relating to printed circuits covered by H05K1/00
- H05K2201/02—Fillers; Particles; Fibers; Reinforcement materials
- H05K2201/0275—Fibers and reinforcement materials
- H05K2201/0287—Unidirectional or parallel fibers
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K3/00—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
- H05K3/38—Improvement of the adhesion between the insulating substrate and the metal
- H05K3/386—Improvement of the adhesion between the insulating substrate and the metal by the use of an organic polymeric bonding layer, e.g. adhesive
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Description
- Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Herstellung einer Mehrlagenleiterplatte, nachfolgend auch Multilayer genannt. Eine solche Leiterplatte enthält mindestens drei leitfähige Lagen, von denen gewöhnlich mindestens zwei Kupferlagen auf den äußeren Flächen sind und mindestens eine eine innere Schaltung ist. Das Verfahren, auf das sich die Erfindung bezieht, umfasst das Laminierverbinden von mindestens einem harten Basissubstrat, das mit leitfähigen Bahnen auf mindestens einer Seite versehen ist, und mindestens einem intermediären Substrat, wobei das Binden die Verwendung einer Kleblage zwischen den beiden Substraten umfasst.
- Ein Verfahren des obigen Typs ist in IBM Technical Disclosure Bulletin Bd. 32, Nr. 58, Seiten 355-356, beschrieben. Bei dem bekannten Verfahren wird mindestens ein intermediäres Substrat verwendet, das eine harte Kernlage besitzt, die mit einer Klebschicht auf mindestens der Seite versehen ist, welche den leitfähigen Bahnen des Basissubstrates zugewandt ist. Das Verfahren dient dazu, die dimensionale Instabilität praktisch auszuschalten, die bei mehrteiligen Laminierprozessen gewöhnlich auftritt. Obwohl dies als eine wesentliche Verbesserung der Herstellung von Multilayerplatten anzusehen ist, richtet sich die Beschreibung nicht auf ein noch wichtigeres Problem, das mit Multilayerplatten in Verbindung steht, nämlich dasjenige, ein Material zur Verfügung zu stellen, das ausreichend niedrige Wärmeausdehnungskoeffizienten (TCE) aufweist, um dem TCE von elektronischen Komponenten (Chips) zu entsprechen, die zusammen mit der Mehrlagenplatte verwendet werden. Da ein Glasfasergewebe (Tuch) als Verstärkungsmaterial verwendet wird, ist für den Durchschnittsfachmann ohne weiteres ersichtlich, dass die erhaltenen TCE-Werte relativ hoch sind. Weiterhin erfordern die bekannten Substrate und die resultierenden Multilayerplatten eine verbesserte Dimensionsstabilität.
- Ähnliche Überlegungen gelten für US 3,756,891, wo ein Verfahren zur Herstellung von Multilayer-PWBs beschrieben ist, das das Stapeln von mit Schaltungen versehenen Platten mit klebstoffbeschichteten Blättern umfasst. Der Klebstoff ist so gewählt, dass er nicht in die Verbindungsbereiche der durchgehenden Öffnungen hineinfliesst, die bei solchen Platten vorhanden sind.
- Eine unterschiedliche Methode für Multilayer-PWBs ist die in RCA Review 29 (1968), Seiten 582-599, insbesondere Seiten 596-597, beschriebene sequentielle Laminiertechnik. Obwohl ein beidseitig mit Schaltungen versehenes Basissubstrat mit einer mit Klebstoff beschichteten dielektrischen Lagelaminiert wird, ist die mit Klebstoff beschichtete Lage kein intermediäres Substrat zwischen Basissubstraten gemäss der Erfindung, sondern dient als Substrat für die nächste gedruckte Schaltung. Die Beschreibung nennt die Art des verwendeten Substrates nicht, noch kann sie eine Lösung des Problems der zur Verfügungstellung von Multilayerplatten mit ausreichend niedrigen TCE-Werten bieten.
- In US 4 943 334 sind Leiterplatten offenbart, die Vorteile in Bezug auf die TCE-Werte bieten. Es ist ein Herstellungsverfahren beschrieben, das das Aufwickeln von Verstärkungsfilamenten um einen rechteckigen flachen Kern zur Bildung einer Mehrzahl von Filamentlagen umfasst, die sich in einem Winkel von 90º überschneiden, wobei die Mehrzahl von Lagen mit einem vernetzbaren Matrixmaterial versehen wird und die Matrix vernetzt wird, um ein Basismaterial für eine Leiterplatte zu bieten. Um Mehrlagenleiterplatten zur Verfügung zu stellen, lehrt die Beschreibung ein Verfahren, bei welchem eine Anordnung aus Leiterplatten in einem Hohlraum vorgegeben wird, worauf in diesen Hohlraum ein vernetzbares Matrixmaterial eingeführt und die Matrix zur Bildung einer Mehrlagenleiterplatte vernetzt wird. Die gewünschte Verstärkung der Matrix wird durch die Gegenwart von Fasern um die gedruckten Schaltungsplatten erhalten, die während des Verfahrens in der vernetzten Matrix eingebettet werden. Das Verfahren bietet keine geeigneten Ergebnisse, unter anderem wegen eines interen Fehlens von Dickentoleranz.
- Im Printed Circuits Handbook von C.J. Coombs jun., publiziert von McGraw-Hill, Kapitel 31 und 32, insbesondere 33 und 34, ist unter anderem beschrieben, wie eine Mehrlagendruckschaltungsplatte, eine sogenannte Multilayer, allgemein hergestellt wird, wobei das Verfahren folgende Schritte umfasst:
- - Herstellung eines Laminates, das auf beiden Seiten mit Kupferfolie beschichtet ist, aus einem Glasfaser-Epoxy- Prepreg;
- - Ätzen des gewünschten Musters in das Kupfer;
- - Binden der geätzten Laminate durch Verpressen mit intermediären Lagen aus Glasfaser-Epoxy-Prepreg.
- Dieses Verfahren hat eine Reihe von Nachteilen, wie hohe Materialkosten wegen des verwendeten Glasgewebes und hohe thermische Ausdehnung wegen des niedrigen maximalen Fasergehalts in den faserverstärkten Laminaten. Ein anderer wesentlicher Nachteil dieses Verfahrens besteht darin, dass es keine absolute Dickentoleranz bietet. Die Dicke einer auf diese Weise gebildeten Multilayer hängt unter anderem vom ausgeübten Formdruck, der Formungstemperatur und der angewendeten Aufwärmgeschwindigkeit und dem "Alter" des verwendeten Prepregs und einigen weiteren Faktoren ab, die schlecht zu kontrollieren sind.
- Dieses zuletzt genannte Verfahren hat verschiedene Variationen, z.B. wie in EP 0 231 737 A2 offenbart. Bei diesem bekannten Verfahren wird eine Multilayer-Leiterplatte in einem kontinuierlichen Verfahren hergestellt. In der Ausführung gemäss Figur 2 dieser Publikation wird eine einzelne gedruckte Leiterplatte (PWB) verwendet, die aus einem Substrat von zwei Lagen Glasgewebe in einer vernetzten Matrix aus duroplastischem Kunststoff besteht, welches Substrat auf beiden Seiten mit einer Lage von Kupferbahnen versehen ist, die nach der subtraktiven Methode aus der ursprünglich auf das Substrat aufgebrachten Kupferfolie gebildet ist. Auf diese Ausgangs-PWB werden auf beiden Seiten zwei Lagen aus Glasgewebe, eine Lage aus flüssigem, duroplastisch härtbaren Material, wie Epoxyharz, und eine Kupferfolie aufgebracht. Nach der Vorerwärmung wird das ganze in einer Doppelbandpresse unter der Einwirkung von Hitze und Druck laminiert. So wird nach dem Abkühlen und Verlassen der Doppelbandpresse ein Laminat erhalten, das nach der Bildung der Kupferbahnen in den äusseren Lagen eine Multilayer-PWB darstellt. Demzufolge besteht diese Multilayer-PWB aus einem Laminat von drei Substraten aus glasverstärktem vernetztem Epoxyharz und vier Lagen mit Kupferbahnen. Obwohl ganz brauchbare Ergebnisse unter Verwendung der Multilayer-PWBs, die nach diesem bekannten Verfahren hergestellt sind, erhalten werden kznnen, hat es noch bestimmte Nachteile. Insbesondere werden die Lagen aus flüssigem, noch nicht vernetztem duroplastisch härtbarem Harz stark in der Doppelbandpresse zusammengepresst, was die Folge hat, dass es zu einer erheblichen Verminderung der Dicke des Laminats zwischen dem Eingang der Doppelbandpresse und deren Auslass kommt. Es wurde gefunden, dass als Folge dieser erheblichen Dickenveränderung es schwierig ist, eine ausreichende Genauigkeit der konstanten Dicke des fertigen Laminates und der fertigen Multilayer-PWB, wie letztlich erwünscht, zu erzielen. Abweichungen der Dicke der PWBs haben einen nachteiligen Effekt auf deren elektrische Eigenschaften, was die Qualität eines solchen PWB negativ beeinflusst. Ein weiterer Nachteil des bekannten Multilayer-PWB besteht darin, dass die Verstärkung der Substrate mit Gewebe eine relativ kostspielige Angelegenheit ist.
- DE-4 007 558 Al beschreibt eine Multilayer-PWB eines etwas anderen Typs. Zwischen einer Anzahl von benachbarten einzelnen PWBs (siehe Fig. 1, Nr. 2 von DE-4 007 558 Al), die jeweils aus einem Substrat (siehe Fig. 1, Nr. 4) bestehen, das aus einem mit duroplastisch härtbarem Kunststoff imprägnierten Glasgewebe besteht und auf beiden Seiten mit Kupferbahnen (siehe Fig. 1, Nr. 5) versehen ist, wird in jedem Fall eine Art Intermediärsubstrat (Fig. 1, Nr. 1-a und 1-b) eingelegt. Das Intermediärsubstrat (1) besteht in diesem Fall aus einem Polyimidfilm (1-a) mit einer Dicke von 10 µm, der auf beiden Seiten mit einer Klebstoffschicht (1-b) mit einer Dicke von 10 µm oder weniger versehen ist. Die Schmelztemperatur des Polyimidfilms ist höher als die während des Laminierens verwendete Temperatur, wohingegen die Klebstoffschichten eine Schmelztemperatur unter der angewendeten Laminiertemperatur haben.
- Ein Nachteil dieser bekannten Multilayer-PWBs besteht darin, dass sich in den Leerstellen zwischen den Kupferbahnen (siehe Fig. 1) Luft befindet, die eine nachteilige Wirkung auf die Eigenschaften haben kann. Andere Nachteile von DE-4 007 558 Al sind unter anderem die hohen Materialkosten der beschriebenen Komponenten und die erforderliche lange Verarbeitungsdauer.
- In US 4 606 787 ist ein Verfahren zur Herstellung einer Multilayer-PWB beschrieben, das zunächst (siehe Fig. 12) die Herstellung eines Stapels einer Anzahl von einzelnen PWBs mit jeweils zwischengelegtem Intermediärsubstrat aus Glasfasern, imprägniert mit flüssigem, nicht vernetztem Epoxyharz, umfasst. Dann wird der Stapel unter Druck und erhöhter Temperatur verpresst, wobei das Harz die tieerstellen zwischen den leitfähigen Bahnen (siehe Spalte 6, II. 51, 52) füllt und vernetzt wird. Das Verpressen des Laminats ergibt eine erhebliche Verminderung seiner Dicke, was es schwer macht, die konstante Gesamtdicke des fertigen Laminats wie letztlich erwünscht und die konstante Dicke der einzelnen Intermediärsubstrate zu gewährleisten. Dies hat eine nachteilige Wirkung auf die elektrischen Eigenschaften der PWBs, was die Qualität negativ beeinflusst.
- Eine Multilayer-Druckschaltungsplatte, bei der das dielektrische Material aus UD-verstärkten Lagen gebildet wird, ist auch in JP-A-1,283,996 offenbart. Die beschriebenen Multilayer basieren auf der direkten Laminierung von unidirektional orientierten parallelen Fasern (UD), enthalten in einem Prepreg in kreuzweiser Orientierung.
- Die anhängige, aber nicht vorveröffentlichte internationale Patentanmeldung PCT/EP92/01133 (Publikationsnummer WO 92/22192) bietet ein Verfahren, bei welchem diese Nächteile vermieden werden. Das beschriebene Verfahren besteht darin, dass ein hartes Basissubstrat verwendet wird, das auf beiden Seiten leitfähige Bahnen besitzt, und ein Intermediärsubstrat, das eine harte Kernlage besitzt, die mit einer Klebstofflage beschichtet ist, die mindestens auf der Seite fliessfähig ist, die den leitfähigen Bahnen des Basissubstrates zugewandt ist, wobei das Laminieren unter einem ausreichend hohen Druck erfolgt, um die Kernlage des Intermediärsubstrates mit den leitfähigen Bahnen des Basissubstrates in Kontakt oder virtuell in Kontakt zu bringen, wobei der Klebstoff die Leerstellen füllt, die zwischen den Bahnen vorhanden sind, das Basissubstrat und das Intermediärsubstrat ein faserverstärktes Matrixmaterial enthalten, wobei die Verstärkung in Form einer überkreuzenden Anordnung von Lagen aus unidirektional (UD) orientierten Fasern ist.
- Es wurde nun gefunden, dass es vorteilhaft sein kann, das Verfahren gemäss der nicht vorveröffentlichten internationalen Patentanmeldung so zu modifizieren, dass ein einfacheres Verfahren mit noch besserer Haftung ermöglicht wird. Demzufolge bietet die vorliegende Erfindung ein Verfahren mit den Merkmalen von Anspruch 1. Bei dem oben angegebenen Verfahren, bei dem das Basissubstrat und das intermediäre Substrat ein faserverstärktes duroplastisches Matrixmaterial enthalten, besteht die Verbesserung darin, dass die fliessfähige Klebschicht auf das mit Schaltung versehene Basissubstrat aufgebracht oder laminiert ist. Ein fliessfähigerer Klebstoff ist allgemein ein solcher Klebstoff, der entweder fluid ist oder fluid gemacht werden kann (gewöhnlich mittels erhöhter Temperatur). Das intermediäre Substrat oder die intermediären Substrate können ebenfalls mit Klebstoff beschichtet sein, obwohl die Verwendung von nicht beschichteten intermediären Substraten bevorzugt wird.
- Das intermediäre Substrat kann auch auf einer Seite mit leitfähigen Bahnen versehen sein oder zur Bildung von leitfähigen Bahnen geeignet gemacht sein (z.B. mit Kupferfolie versehen oder für die stromlose Plattierung katalysiert sein). Diese Ausführungsform bezieht sich insbesondere auf die sogenannte Masslam-Herstellung. Bei diesem Verfahren wird Gebrauch gemacht von einem doppelseitig mit Klebstoff beschichteten Basissubstrat mit leitfähigen Bahnen auf beiden Seiten und zwei intermediären Substraten, jeweils eines auf jeder Seite des Basissubstrates, wobei die intermediären Substrate auf der Seite, die vom Basissubstrat abgekehrt ist, mit leitfähigen Bahnen versehen sind oder eine Oberfläche besitzen, die zur Anbringung von leitfähigen Bahnen geeignet ist.
- Die Herstellung der mit Schaltung versehenen Platten mit der fliessfähigen Klebstoffschicht kann auf mehreren Wegen erfolgen, einschliesslich von Beschichtung mit gegenläufigen Walzen, Sprühbeschichtung oder andere Beschichtungsmethoden, die dem Durchschnittsfachmann bekannt sind. Der Klebstoff kann grundsätzlich aus einer heissen Schmelze aufgetragen werden, jedoch auch aus Lösung, worauf das Lösungsmittel vor dem Laminieren abgedampft wird. Es können auch Klebstoffe auf Wasserbasis verwendet werden. Alternativ kann ein festes Klebstoffpulver verwendet werden, das z.B. durch Tauchbeschichtung oder elektrostatisches Pulverbeschichten aufgetragen werden kann.
- Vorzugsweise wird der fliessfähige Klebstoff vor dem Laminieren in einen festen, nicht klebrigen Zustand gebracht, z.B. durch Teilvernetzung oder durch Verwendung bei einer Temperatur unter Tg mit der Massgabe, dass natürlich der fliessfähige Klebstoff immer noch ausreichend fliessfähig gemacht werden kann, um die Leerstellen zwischen den leitfähigen Bahnen zu füllen.
- Die Haftung kann dadurch verbessert werden, dass man die Basissubstrate und/oder die intermediären Substrate einer Oberflächenbehandlung unterzieht, z.B. durch Aufrauhen oder durch Modifizieren der Oberfläche unter Verwendung von Bimsstein, Sandstrahlen, Schleifpapier, Coronabehandlung, Flammbehandlung, chemischen Ätzmethoden usw.
- Für die intermediären und Basissubstrate wird ein verstärktes Matrixmaterial verwendet, das die oben erwähnten Nachteile vermeidet und insbesondere einen ausreichend niedrigen TCE-Wert und eine vorteilhafte Flachheit besitzt. Dieses Material enthält zwei oder mehr Lagen aus Verstärkungsfasern oder -filamenten, eingebettet in einem duroplastisch härtbaren Kunststoff auf Basis von z.B. Epoxyharz. Die Verstärkung hat die Form von filament-haltigen Lagen, die aus einer Mehrzahl von zueinander parallelen, verstreckten Filamenten zusammengesetzt sind, die nicht in Form eines Gewebes gebunden sind und sich im wesentlichen geradlinig erstrecken, und wobei Filamente von übereinander liegenden Lagen einander überkreuzen. Diese Art von verstärktem Matrixmaterial wird kurz als UD-verstärktes Material bezeichnet. Gemäss der Erfindung werden vorzugsweise drei dieser nicht in Gewebeform gebundenen Filamentlagen im Matrixmaterial spiegelbildlich relativ zur Symmetrieebene in dem Verfahren angeordnet, wobei die Filamente von übereinander liegenden Filamentlagen sich in einem Winkel von vorzugsweise etwa 90º überkreuzen. Dieses UD-verstärkte Material, das genauer als Kreuzlagen von UD-verstärkten Lagen bezeichnet werden kann, wird, um für die vorteilhafte Verwendung in Multilayer-PWBs geeignet zu sein, balanciert (ausgewogen) und symmetrisch bezüglich der Mittelebene ausgebildet. Ein Beispiel eines solchen Materials wird von den in der oben erwähnten US 4,943,334 beschriebenen Substraten gebildet. Wegen des erfindungsgemässen Laminierverfahrens unter Verwendung eines fliessfähigen Klebstoffes, der zwischen den leitfähigen Bahnen eines Basissubstrates und dem harten Kern eines benachbarten Intermediärsubstrates im wesentlichen nicht vorhanden ist, können die Vorteile von UD-verstärktem Material in einem Multilayer-PWB angewendet werden.
- Diese Vorteile umfassen insbesondere eine günstige Dimensionsstabilität. Weiterhin haben die verwendeten Substrate relativ niedrige TCE-Werte in X- und Y-Richtungen, vorzugsweise etwa gleich zu denen des verwendeten elektrisch leitfähigen Materials (gewöhnlich Kupfer). Weiter ist es möglich, Substrate zu bieten, die in den X- und Y-Richtungen-Ausdehnungskoeffizienten etwa gleich den Ausdehnungskoeffizienten der zusammen mit dem Multilayer-PWB zu verwendenden elektronischen Komponenten, insbesondere Silicium-Chips, haben. Es ist zu bemerken, dass diese Komponenten entweder auf die Multilayerplatte ("chip-on-board") aufgebracht werden können oder in einem Substrat eingebettet sein können, wie in einem intermediären Substrat gemäss der vorliegenden Erfindung ("chip-in-board"). In bezug auf die letztere Ausführungsform sollte ein mit Klebstoff beschichtetes Substrat mit offenen Zwischenräumen zum Einbetten der Chips vorgesehen werden. Es ist natürlich auch möglich, die Chips in Zwischenräumen anzuordnen, die auf einem Basissubstrat vorgesehen sind. Ein vorteilhaftes Verfahren zur Herstellung einer "chip-in-board"-Struktur umfasst die Anordnung von einem oder mehreren Chips auf einem Basissubstrat (und leitfähiger Verbindung mit der Schaltung auf dem Basissubstrat) und nachfolgendes Laminieren eines mit Klebstoff beschichteten Intermediärsubstrates, das mit entsprechenden Zwischenräumen versehen ist, um den oder die auf dem Basissubstrat befestigten Chip oder Chips zu umfassen, auf das Chip tragende Basissubstrat.
- Gemäss der Erfindung kann leicht eine Multilayer-PWB geboten werden, die viele Schichten besitzt, wenn jedes von n-1 Intermediärsubstraten (n > 2) in jedem Fall zwischen n benachbarten Basissubstraten sandwichartig angeordnet wird, mit nachfolgendem Laminieren unter erhöhtem Druck (und gewünschtenfalls erhöhter Temperatur), unter Vakuum oder einer Kombination dieser beiden Massnahmen.
- Eine vorteilhafte Ausführungsform des Verfahrens gemäss der Erfindung ist dadurch gekennzeichnet, dass die Dicke jedes Intermediärsubstrate 0,025-0,6 mm beträgt, obwohl vorzugsweise die Dicke jedes Intermediärsubstrates von gleicher Grössenordnung ist wie die des Basissubstrates. Die Dicke jeder noch plastisch verformbaren (fliessfähigen) Klebstofflage auf einer oder beiden Seiten des mit Schaltungen versehenen Basissubstrates ist von gleicher Grössenordnung wie die der leitfähigen Bahnen, die im allgemeinen eine Dicke von 2-70 µm haben. Vorzugsweise ist das Verfahren gemäss der Erfindung dadurch gekennzeichnet, dass für die fliessfähigen Klebstofflagen, die auf einer oder beiden Seiten der Hartkernschicht eines mit Schaltungen versehenen Basissubstrates vorgesehen sind, ein Klebstoff auf Basis von noch nicht vernetztem oder nur teilweise vernetztem duroplastischem Kunststoff verwendet wird, wie Epoxyharz, das vernetzt bzw. gehärtet wird, nachdem die Zwischenräume zwischen den leitfähigen Bahnen ausgefüllt sind.
- Der Kern des Intermediärsubstrates und des Basissubstrates kann aus einer Anzahl von UD-Prepregs aufgebaut sein, die in solcher Weise gestapelt sind, dass deren verstärkende Filamente einander überkreuzen, doch kann auch ein anderes Herstellungsverfahren angewendet werden. Insbesondere kann das Basissubstrat und das Intermediärsubstrat nach einem kontinuierlichen Verfahren hergestellt werden, bei dem ein Laminat, das aus der gewünschten Anzahl von Lagen aus verstreckten Verstärkungsfilamenten zusammengesetzt ist, die nicht in Gewebeform gebunden sind, auf ein Förderband gelegt wird, wobei die Filamente von übereinander liegenden Lagen einander überkreuzen. Auf das so gebildete Laminat aus Filamentlagen wird flüssiges, duroplastisch härtendes Harz aufgetragen, worauf das mit Harz versehene Laminat durch eine Doppelbandpresse geführt wird, in der unter der Einwirkung von Hitze und Druck die Filamentlagen mit dem Harz imprägniert werden und das Harz vernetzt bzw. gehärtet wird. Beim Verlassen der Doppelbandpresse kann das vollständig oder teilweise vernetzte Laminat dann auf einer oder beiden Seiten mit der oben erwähnten relativ dünnen, nicht klebenden Klebstofflage versehen werden, worauf das Intermediärsubstrat fertig ist.
- Gemäss einem anderen möglichen Verfahren werden die Kerne sowohl des Basissubstrates und des Intermediärsubstrates aus mehreren unidirektionalen Laminaten gebildet, die vorzugsweise einander in einem Winkel von 90º überkreuzen, vollständig oder praktisch vollständig vernetzt bzw. gehärtet und mit Hilfe einer Klebstofflage miteinander verbunden. Laminate auf Basis von kreuzenden UD-Laminaten, die mit einer Klebstofflage verbunden sind, können in statischen, gewünschtenfalls mehrfach öffnenden Pressen hergestellt werden sowie in Autoklaven, Doppelbandpressen und sogenannten Vakuumsäcken.
- Zum Matrixharz können üblicherweise Füller, wie feines Quarzpulver, und etwa Glaspulver, wie Borsilikatglaspulver, zugegeben werden.
- Vorzugsweise wird ein Harz auf Basis von Epoxyharz für die Basissubstratmatrix verwendet, doch können grundsätzlich auch andere Harze, wie Cyanatharze, ungesättigte Polyesterharze (UP), Vinylesterharze, Acrylatharze, BT-Epoxyharz, Bismaleimidharz (BMI), Polyimid (PI), Phenolharze, Triazine, Polyurethane, Biscitraconsäureharz (BCI), verwendet werden. Alternativ können Kombinationen der oben erwähnten Harze verwendet werden, und es ist auch möglich, die Harze mit bestimmten geeigneten thermoplastischen Harzen, wie PPO, PES, PSU und u.a. PEI, zu mischen.
- Zur Verwendung für die beschriebene Klebstofflage sind sehr viele Polymere geeignet, insbesondere duroplastische Harze, wie Epoxyharz (EP), Polyurethan (PU), Vinylester (VE), Polyimid (PI), Bismaleimid (BMI), Biscitraconsäure (BCI), Cyanatester, Triazine, Acrylate und Mischungen hiervon. Vor der Applikation können dem Klebstoff viele Additive zugesetzt werden, wie Katalysatoren, Inhibitoren, thixotropische Mittel, Haftungspromotoren, wie alle Arten von Silankupplungsmitteln, und insbesondere Füller. Diese Füller werden vorzugsweise aus der folgenden Stoffgruppe gewählt: Quarzpulver, Glaspulver, Keramikpulver, wie Aluminiumoxidpulver. Vorzugsweise sollten die zu verwendenden Füller einen niedrigen Wärmeausdehnungskoeffizienten und eine niedrige Dielektrizitätskonstante haben. Vorteilhafte Ergebnisse können unter Verwendung von Hohlkugeln als Füller erzielt werden, wobei die Kugeln entweder aus Polymermaterial oder einem keramischen Material oder Glas bestehen können.
- Für die oben erwähnten verstärkenden Filamente wird die Verwendung von Filamentgarnen bevorzugt, obwohl auch nicht-kontinuierliche Fasern verwendet werden können. Gemäss der Erfindung werden die Verstärkungsgarne vorzugsweise aus der folgenden Materialgruppe gewählt: Glas, wie E-Glas, A-Glas, C-Glas, D-Glas, AR-Glas, R-Glas, S1-Glas und S2-Glas sowie verschiedene keramische Stoffe, wie Aluminiumoxid und Siliciumcarbid. Weiterhin sind Fasern auf Polymerbasis geeignet, insbesondere flüssigkristalline Polymere, wie Paraphenylenterephthalamid (PPDT), Polybenzobisoxazol (PBO), Polybenzobisthiazol (PBT) und Polybenzoimidazol (PBI) sowie Fasern auf Basis von Polyethylenterphthalat (PETP) und Polyphenylensulfid (PPS).
- Im Rahmen der Erfindung können verschiedene Abänderungen durchgeführt werden.
- Im Sinne eines nicht beschränkenden Beispiels wird eine Multilayerleiterplatte gemäss der Erfindung wie folgt hergestellt:
- Ein 400mm x 400mm Basissubstrat wird gemäss einem Wickelverfahren, wie in US 4,943,334 beschrieben, hergestellt. Das Laminat wird so hergestellt, dass es auf beiden Seiten mit kommerziell erhältlicher, doppelbehandelter Kupferfolie belegt ist. Unter Anwendung üblicher Ätzmethoden (siehe Printed Circuits Handbook von C.J. Coombs jun., publiziert von McGraw-Hill, Kapitel 14) wird ein Muster von Kupferbahnen aus den Kupferfolienlagen, die auf diesem Laminat angebracht sind, geätzt, um eine doppelseitige Leiterplatte zu bilden. Die doppelseitige Leiterplatte wird mit einem Epoxyklebstoff auf Basis von 36,5 Gewichtsteilen Epikote 5050 (bromiertes Epoxid, das der Diglycidylether von Tetrabrombisphenol-A mit einem Epoxygruppengehalt von 2600 mMol/kg ist), 63,5 Gew.teilen Epikote 164 (fester Cresol- Formaldehyd-Novolak-Polyglycidyletherepoxyharz mit einem Epoxygruppengehalt von 4545 mMol/kg) und 3 Gew.teilen eines latenten Härters, der Bortrifluorid ist, das mit Monoethylamin komplexiert ist, um eine mit Klebstoff beschichtete PWB zu bilden, d.h. ein mit Klebstoff beschichtetes Basissubstrat, das sich zum Laminieren entsprechend dem erfindungsgemässen Verfahren eignet.
- Zwei weitere 400mmx400mm Laminate werden gemäss dem Verfahren von US 4,943,334 zur Aufwicklung von Filamenten um einen Kern hergestellt. Das Laminat wird so gebildet, dass es auf einer Seite mit Kupferfolie versehen werden kann. Die andere Seite wird mit einem PTFE-Trennfilm (als Folge des Verfahrens des Aufwickelns um einen Kern) versehen, um zwei Intermediärsubstrate zu bilden, die jedes auf einer Seite eine leere Oberfläche besitzen, geeignet zum Laminieren gemäss dem erfindungsgemässen Verfahren.
- Die oben beschriebenen Laminate werden nach Entfernung des Trennfilms in folgender Ordnung gestapelt (von oben nach unten):
- - Intermediärsubstrat, die leere Fläche nach unten, die Kupferlage nach oben;
- - doppelseitig mit Klebstoff beschichtetes doppelseitiges Leiterplattensubstrat;
- - Intermediärsubstrat, die leere Seite nach oben, die Kupferlage nach unten.
- Der Stapel wird in eine Vakuumpresse gebracht, evakuiert und unter Erhitzen auf 180ºC verpresst. Nach einer Stunde wird die Presse geöffnet, und es entsteht eine erfindungsgemäss hergestellte Multilayer-Leiterplatte.
Claims (17)
1.Verfahren zur Herstellung einer Mehrlagenleiterplatte durch
Laminierverbindung mindestens eines
Hartkern-Grundsubstrates, das auf mindestens einer Seite mit leitfähigen Bahnen
und Zwischenräumen zwischen den Bahnen versehen ist, mit
mindestens einem Hartkern-Intermediärsubstrat, wobei das
Verbinden die Verwendung einer Klebschicht zwischen den
beiden Substraten umfasst und die Klebschicht auf das mit
einer Schaltung versehene Grundsubstrat auf der Seite
aufgebracht ist, die dem Intermediärsubstrat zugewendet ist,
wobei der Klebstoff fliessfähig ist und das Laminieren
unter einem Druck erfolgt, durch den das intermediäre
Substrat in Kontakt oder virtuell in Kontakt mit den
leitfähigen Bahnen des Basissubstrates gebracht wird, wobei der
Klebstoff die zwischen den Bahnen vorliegenden
Zwischenräume füllt, wobei das Basissubstrat und das
Intermediärsubstrat ein faserverstärktes duroplastisches
Matrixmaterial enthalten und die Verstärkung in Form einer
überkreuzenden Anordnung von Lagen aus unidirektional orientierten
Fasern besteht.
2.Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass ein
nicht beschichtetes intermediäres Substrat verwendet wird.
3.Verfahren nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet,
dass ein intermediäres Substrat auf beiden Seiten des
Basissubstrates vorgesehen wird.
4.Verfahren nach Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet, dass ein
doppelseitig mit Klebstoff beschichtetes Basissubstrat
verwendet wird, das auf beiden Seiten mit leitfähigen Bahnen
versehen ist, und dass die intermediären Substrate auf der
Seite, die vom Basissubstrat abgewendet ist, mit
leitfähigen
Bahnen versehen sind oder eine Oberfläche aufweisen,
die zum Anbringen von leitfähigen Bahnen geeignet ist.
5.Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass
jedes intermediäre Substrat zwischen benachbarten
Basissubstraten sandwichförmig angeordnet wird, die jeweils mit
einer fliessfähigen Klebstoffschicht auf der Seite versehen
sind, die dem intermediären Substrat oder den intermediären
Substraten zugewandt ist, und während des Laminierprozesses
ein solcher Druck auf das Laminat ausgeübt wird, der das
intermediäre Substrat oder die Substrate in Kontakt oder
virtuellen Kontakt mit den leitfähigen Bahnen der
Basissubstrate bringt und die Zwischenräume zwischen diesen
Bahnen auf jeder Seite des intermediären Substrates oder der
Substrate mit dem Klebstoffmaterial füllt.
6.Verfahren nach Anspruch 5, dadurch gekennzeichnet, dass
jedes einer Mehrzahl von n intermediären Substraten, wobei n
eine ganze Zahl grösser als 1 ist, sandwichartig zwischen
benachbarten Basissubstraten angeordnet wird, wobei die
Zahl der Basissubstrate demzufolge n+1 ist, und dass dann
laminiert wird.
7.Verfahren nach Anspruch 5 oder 6, dadurch gekennzeichnet,
dass das Laminieren unter erhöhtem Druck und erhöhter
Temperatur durchgeführt wird.
8.Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass die
Dicke jeder fliessfähigen Klebstoffschicht von gleicher
Grössenordnung ist wie diejenige der leitfähigen Bahnen.
9.Verfahren nach Anspruch 8, dadurch gekennzeichnet, dass die
Dicke jedes intermediären Substrates von gleicher
Grössenordnung ist wie diejenige der Basissubstrate.
10.Verfahren nach einem der vorangehenden Ansprüche, dadurch
gekennzeichnet, dass die Basissubstrate mit elektrisch
leitfähigen Kontaktlöchern versehen werden.
11.Verfahren nach einem der vorangehenden Ansprüche, dadurch
gekennzeichnet, dass die elektrisch leitfähigen
Kontaktlöcher nach jedem Laminierschritt in den Substraten gebildet
werden.
12.Verfahren nach einem der vorangehenden Ansprüche, dadurch
gekennzeichnet, dass für die fliessfähige Klebstoffschicht,
die auf einer oder beiden Seiten eines mit einer Schaltung
versehenen Basissubstrates angeordnet sind, ein Klebstoff
auf Basis eines unvernetzten oder nur teilweise vernetzten
duroplastischen Kunststoffmaterials verwendet wird.
13.Verfahren nach einem der vorangehenden Ansprüche, dadurch
gekennzeichnet, dass die Matrix der Kernlagen der Substrate
gewählt ist aus der folgenden Gruppe duroplastischer
Kunststoffe: Cyanatharze, ungesättigte Polyesterharze,
Vinylesterharze, Acrylatharze, BT-Epoxyharz, Bismaleimidharz,
Polyimid, Phenolharze, Triazine, Polyurethane,
Biscitraconsäureharze und Kombinationen dieser Harze.
14.Verfahren nach einem der vorangehenden Ansprüche, dadurch
gekennzeichnet, dass die Matrix der Kernlagen der Substrate
auch einen thermoplastischen Kunststoff enthält.
15.Verfahren nach einem der vorangehenden Ansprüche, dadurch
gekennzeichnet, dass die Matrix der Kernlagen der Substrate
sowohl thermoplastische als auch duroplastische Kunststoffe
enthält.
16.Verfahren nach einem der vorangehenden Ansprüche, dadurch
gekennzeichnet, dass die Verstärkungsfaser gewählt ist aus
der folgenden Materialgruppe: A-Glas, AR-Glas, C-Glas,
D-Glas, E-Glas, R-Glas, S1-Glas, S2-Glas, Quarz,
Siliciumdioxid, Paraphenylenterephthalamid, Polybenzobisoxazol,
Polybenzobisthiazol und Polybenzoimidazol,
Polyethylenterephthalat und Polyphenylensulfid.
17.Verfahren nach einem der vorangehenden Ansprüche, dadurch
gekennzeichnet, dass die Kleblage auch einen
duroplastischen Kunststoff enthält.
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
EP92202492 | 1992-08-13 | ||
PCT/EP1993/002069 WO1994005140A1 (en) | 1992-08-13 | 1993-08-03 | Method of manufacturing a multilayer printed wire board |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE69312073D1 DE69312073D1 (de) | 1997-08-14 |
DE69312073T2 true DE69312073T2 (de) | 1998-01-15 |
Family
ID=8210849
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE69312073T Expired - Fee Related DE69312073T2 (de) | 1992-08-13 | 1993-08-03 | Herstellungsverfahren einer vielschicht-leiterplatte |
Country Status (12)
Country | Link |
---|---|
EP (1) | EP0655183B1 (de) |
JP (1) | JP2650072B2 (de) |
KR (1) | KR950703270A (de) |
AT (1) | ATE155312T1 (de) |
AU (1) | AU683846B2 (de) |
BR (1) | BR9306894A (de) |
CA (1) | CA2142267A1 (de) |
DE (1) | DE69312073T2 (de) |
ES (1) | ES2105301T3 (de) |
RU (1) | RU2115274C1 (de) |
TW (1) | TW230864B (de) |
WO (1) | WO1994005140A1 (de) |
Families Citing this family (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
FR2924894B1 (fr) * | 2007-12-10 | 2010-12-10 | Eads Europ Aeronautic Defence | Pieces en materiau composite electro-structural. |
CN101911017A (zh) | 2007-12-31 | 2010-12-08 | 数据逻辑移动公司 | 用于配置、更新和引导便携式数据读取器上的可替代操作系统的系统和方法 |
JP5125567B2 (ja) * | 2008-02-07 | 2013-01-23 | 株式会社デンソー | 多層回路基板 |
JP5956198B2 (ja) * | 2012-03-05 | 2016-07-27 | 旭化成株式会社 | 集光型太陽電池用レンズ及び集光型太陽電池用レンズの製造方法 |
Family Cites Families (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3756891A (en) * | 1967-12-26 | 1973-09-04 | Multilayer circuit board techniques | |
JPH01283996A (ja) * | 1988-05-11 | 1989-11-15 | Mitsubishi Electric Corp | 多層プリント配線板 |
JPH02237197A (ja) * | 1989-03-10 | 1990-09-19 | Hitachi Ltd | 多層回路基板及びその製造方法並びにその用途 |
DE69108158T2 (de) * | 1990-09-24 | 1995-11-02 | Akzo Nobel Nv | Verfahren zum kontinuierlichen Herstellen von Trägern für gebündelte Schaltungen und so hergestelltes Erzeugnis. |
-
1993
- 1993-08-03 RU RU95106822A patent/RU2115274C1/ru active
- 1993-08-03 DE DE69312073T patent/DE69312073T2/de not_active Expired - Fee Related
- 1993-08-03 BR BR9306894A patent/BR9306894A/pt not_active Application Discontinuation
- 1993-08-03 CA CA002142267A patent/CA2142267A1/en not_active Abandoned
- 1993-08-03 AT AT93917736T patent/ATE155312T1/de not_active IP Right Cessation
- 1993-08-03 ES ES93917736T patent/ES2105301T3/es not_active Expired - Lifetime
- 1993-08-03 WO PCT/EP1993/002069 patent/WO1994005140A1/en active IP Right Grant
- 1993-08-03 AU AU47065/93A patent/AU683846B2/en not_active Ceased
- 1993-08-03 JP JP6505834A patent/JP2650072B2/ja not_active Expired - Lifetime
- 1993-08-03 EP EP93917736A patent/EP0655183B1/de not_active Expired - Lifetime
- 1993-08-04 TW TW082106244A patent/TW230864B/zh active
-
1995
- 1995-02-10 KR KR1019950700487A patent/KR950703270A/ko not_active Application Discontinuation
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
ATE155312T1 (de) | 1997-07-15 |
EP0655183B1 (de) | 1997-07-09 |
JPH08500212A (ja) | 1996-01-09 |
BR9306894A (pt) | 1998-12-08 |
RU2115274C1 (ru) | 1998-07-10 |
ES2105301T3 (es) | 1997-10-16 |
RU95106822A (ru) | 1996-11-27 |
CA2142267A1 (en) | 1994-03-03 |
KR950703270A (ko) | 1995-08-23 |
AU4706593A (en) | 1994-03-15 |
EP0655183A1 (de) | 1995-05-31 |
WO1994005140A1 (en) | 1994-03-03 |
DE69312073D1 (de) | 1997-08-14 |
AU683846B2 (en) | 1997-11-27 |
TW230864B (de) | 1994-09-21 |
JP2650072B2 (ja) | 1997-09-03 |
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