DE69210470T2

DE69210470T2 - Vorrichtung und Verfahren zur Herstellung einer hermetisch ummantelten, optischen Faser

Info

Publication number: DE69210470T2
Application number: DE69210470T
Authority: DE
Inventors: Haruhiko Aikawa; Yoichi Ishiguro; Yutaka Katsuyama; Katsuya Nagayama; Ichiro Yoshimura; Nobuyuki Yoshizawa
Original assignee: Nippon Telegraph and Telephone Corp; Sumitomo Electric Industries Ltd
Current assignee: Nippon Telegraph and Telephone Corp; Sumitomo Electric Industries Ltd
Priority date: 1991-02-14
Filing date: 1992-02-14
Publication date: 1996-10-02
Anticipated expiration: 2012-02-15
Also published as: AU1095092A; NO920574L; CN1100524A; NO920574D0; CA2061068A1; US5348564A; AU6190894A; KR920016858A; CN1064466A; EP0515774B1; KR950006203B1; AU651863B2; DE69210470D1; EP0515774A1

Description

Die vorliegende Erfindung betrifft ein Gerät und ein Verfahren zur Herstellung einer hermetisch umhüllten Lichtleitfaser durch Aufbringen eines dünnen Kohlenstoffilms oder dergleichen auf einer aus einem Lichtleitfaservorformling gesponnenen Lichtleitfaser.

(Betreffender Stand der Technik)

Als eine Technik zum hermetischen Aufbringen von Kohlenstoff auf einer gesponnenen blanken Faser wurde ein Verfahren zum Überziehen eines dünnen Kohlenstoffilms auf einer Oberfläche einer blanken Faser bekannt, bei dem die Lichtleitfaser bei einem Verdünnungsverfahren der Lichtleitfaser einer Kohlenstoffgasatmosphäre mit hoher Temperatur ausgesetzt wird. (Siehe beispielsweise JP-B-38-10363)
Die EP 0.308.143 (veröffentlicht am 22. März 1989) offenbart ein Verfahren zur Herstellung einer hermetisch umhüllten Lichtleitfaser, bei dem eine verdünnte blanke Faser mit hoher Temperatur in einer Kohlenstoffgasatmosphäre bei einem Spinnungsprozeß der Lichtleitfaser aus einem Lichtleitfaservorformling geführt wird, um einen dünnen Kohlenstoffilm auf einer Oberfläche der blanken Faser aufzubringen. Bei einer Ausführungsform des offenbarten Verfahrens wird ein zwei Reaktionskammern aufweisendes Reaktionsrohr benutzt, Rohgas in jede der Reaktionskammern separat eingeführt und die dünnen Kohlenstoffilme werden in zwei Schritten in den jeweiligen Reaktionskammern aufgebracht.
Wenn eine hermetische Umhüllung durch Kohlenstoff auf der Oberfläche der Lichtleitfaser aufgebracht wird, trat in der Vergangenheit eine Rest- oder Eigenspannung in einer Übergangsfläche des Kohlenstoffilms und der Lichtleitfaser auf oder die Zugfestigkeit der Faser wurde durch die auf der Oberfläche des Kohlenstoffilms erzeugte Unebenheit reduziert.
Bei dem Stand der Technik besitzt der auf der blanken Faser gebildete Kohlenstoffilm eine gleichförmige Eigenschaft, da eine Reaktionsbedingung, wie die der Konzentration und Zusammensetzung des Rohgases, in einer Reaktionskammer konstant gehalten ist.
Wo zwei oder mehrere Reaktionskammern vorgesehen sind und Kohlenstoff mit unterschiedlichen Gasatmosphären für die entsprechenden Reaktionskammern, wie durch den Stand der Technik vorgeschlagen, aufgebracht wird, werden heterogene Filme mit Übergangsflächen ausgebildet, da die Fasertemperatur von einer Kammer zur anderen variiert. Als ein Ergebnis wird eine Verwindung aufgrund einer Restspannung bei einer heterogenen Phasenübergangsfläche erzeugt und die Verbesserung der Festigkeit wird nicht erreicht.
Ein Gerät zur Herstellung einer hermetisch umhüllten Lichtleitfaser mit zwei oder mehr Reaktionskammern ist aus der JP-A-2180735 und EP-A-0 374 926 bekannt.
Ein Gerät zur Herstellung einer hermetisch umhüllten Lichtleitfaser gemäß dem Oberbegriff des Anspruchs 1 ist aus der GB-A-2 156 858 bekannt und beinhaltet innere und äußere koaxial angeordnete perforierte Röhren. Zuführungsröhren zum Einführen von Reaktionsbestandteilen sind zwischen den inneren und äußeren Röhren angeordnet.
Es ist eine Aufgabe der vorliegenden Erfindung, eine Eigenschaft einer auf einer blanken Faser in einer Radialrichtung der blanken Faser ausgebildeten hermetischen Umhüllung kontinuierlich zu ändern.
Diese Aufgabe wird gemäß der vorliegenden Erfindung durch ein Gerät bzw. ein Verfahren mit den Merkmalen der Ansprüche 1 und 5 gelöst.
Vorteilhafte Ausführungsformen sind in den abhängigen Ansprüchen definiert.
Die vorliegende Erfindung basiert auf dem Folgenden, was von den Erfindern herausgefunden wurde.
Wenn Kohlenwasserstoff und Kohlenstoffhalogenid als Rohgas benutzt werden und eine Konzentration des Kohlenstoffhalogenids erhöht wird, wird eine Oberfläche der gebildeten Kohlenstoffilms glatt und die Zugfestigkeit einer Faser wächst an. Da die Konzentration des Kohlenstoffhalogenids erhöht wird, reduziert sich jedoch ein hermetischer Effekt des gebildeten Kohlenstoffilms. Nach verschiedenen Studien diesbezüglich wurde herausgefunden, daß die Eigenschaft des in der Reaktionskammer gebildeten Kohlenstoffilms von der Temperatur eines Substrats (Temperatur einer blanken Faser) und des Mengendurchflusses, der Zusammensetzung, Konzentration und Temperatur des Rohgases abhängt. Durch Steuerung dieser Parameter wird die Eigenschaft des gebildeten Kohlenstoffilms erfolgreich kontrolliert.
Das Verfahren zur Herstellung der hermetisch umhüllten Lichtleitfaser der vorliegenden Erfindung ist durch kontinuierliche Änderung von zumindest einer Größe, dem Mengendurchfluß (flow rate), der Zusammensetzung, der Konzentration oder Temperatur des Rohgases in der Einzelreaktionskammer entlang der Bewegungsrichtung der blanken Faser gekennzeichnet, wenn eine hermetische Umhüllung auf die durch die Einzelreaktionskammer, in die das Rohgas eingeführt wird, hindurchlaufende blanke Faser aufgebracht wird.
Gemäß der vorliegenden Erfindung wird zumindest eine Größe, der Mengendurchfluß, die Zusammensetzung, die Konzentration oder Temperatur des Rohgases in der Reaktionskammer für die Aufbringung der hermetischen Umhüllung auf der Lichtleitfaser während sie durch die Reaktionskammer hindurchläuft in Bewegungsrichtung der in der Reaktionskammer geführten blanken Faser kontinuierlich geändert, so daß der hermetische Umhüllungsfilm, der eine kontinuierlich sich unterscheidende Filmeigenschaft entlang der Radialrichtung der blanken Faser besitzt, auf die blanke Faser aufgebracht werden kann.
Dies basiert auf dem folgenden Prinzip. Wenn Kohlenwasserstoff und Kohlenstoffhalogenid als Rohgas in die Einzelreaktionskammer eingeführt werden, ist eine Filmbildungstemperatur umso höher und ein hermetischer Effekt des sich bildenden Films ist umso besser, je höher die Konzentration des Kohlenwasserstoffs ist. Wenn die Konzentration von Kohlenstoffhalogenid, die einen Dehydrierungseffekt besitzt, erhöht wird, wird andererseits die Reaktionstemperatur erniedrigt und es wird ein Kohlenstoffilm gebildet, der eine glatte Oberfläche besitzt und eine Ausgangsfestigkeit der Faser verbessert.
Die Filmbildungstemperatur tendiert dazu, hoch zu sein, wenn die Fasertemperatur ansteigt und der Mengendurchfluß des Rohgases zunimmt.
Wenn Rohgas, das eine hohe Kohlenstoffkonzentration aufweist, zu einer Einlaßseite der blanken Faser mit hoher Temperatur (ein stromaufwärts liegendes Ende in Bewegungsrichtung der blanken Faser) zugeführt wird und Rohgas, das eine hohe Kohlenstoffhalogenidkonzentration aufweist, zugeführt wird, wenn die Temperatur der blanken Faser sich vermindert (dort wo man sich zu einem stromabwärts liegenden Ende hin in Bewegungsrichtung der blanken Faser bewegt) und die Zuführungsmenge des Rohgases erhöht wird, wird gemäß dem obigen Prinzip ein ausreichend dicker Film gebildet. Der Kohlenstoffilm, der eine feine Struktur und einen hohen hermetischen Effekt aufweist, bildet sich an der Grenzfläche der blanken Faser und dem Kohlenstoffilm aus. Ein eine glatte Oberfläche besitzender Kohlenstoffilm kann hierauf ohne eine offensichtliche Grenze oder Stufe ausgebildet werden.
Die vorliegende Erfindung wird anhand der folgenden detaillierten Beschreibung und den beigefügten Zeichnungen, die lediglich als Illustration dienen und somit nicht als Beschränkung der vorliegenden Erfindung anzusehen sind, klarer verständlich.
Fig. 1 zeigt eine schematische Ansicht einer Ausführungsform eines Geräts zur Herstellung einer hermetisch umhüllten Lichtleitfaser der vorliegenden Erfindung, das für ein Verfahren zur Herstellung einer hermetisch umhüllten Lichtleitfaser gemäß der vorliegenden Erfindung anwendbar ist, und
Fig. 2 zeigt eine schematische Ansicht einer anderen Ausführungsform des Geräts zur Herstellung der hermetisch umhüllten Lichtleitfaser der vorliegenden Erfindung.

Beschreibung der bevorzugten Ausführungsformen

Eine Ausführungsform der vorliegenden Erfindung wird nun unter Bezugnahme zu Fig. 1 erläutert.
Wie gezeigt, wird durch Ziehen eines Lichtleitfaservorformlings 2 mittels einer Ziehvorrichtung 10 eine blanke Faser 1 geformt. Die von dem Vorformling 2 gezogene blanke Faser 1 wird zu einer hermetischen Umhüllungsvorrichtung 20 transportiert, wo sie beispielsweise mit Kohlenstoff hermetisch umhüllt wird, um eine hermetisch umhüllte Lichtleitfaser 3 zu bilden. Die hermetisch umhüllte Lichtleitfaser 3 wird dann durch eine Faserdurchmesser- Überwachungseinrichtung 35 und eine Kühlungsvorrichtung 40 zu einer Harzauftragungsvorrichtung 50 transportiert, um eine harzumhüllte Lichtleitfaser 5 zu formen. Die harzummantelte Lichtleitfaser 5 wird mittels einer Winde auf eine Trommel (nicht gezeigt) aufgenommen oder sie wird auf die Trommel gewickelt, nachdem sie mit Nylon umhüllt wird.
Der Vorformling 2 wird in eine Röhre 11 der Ziehvorrichtung 10 gehängt, während er durch einen Arm (nicht gezeigt) gehalten wird. Die Röhre 11 wird in einem Ausziehofen 12 eingesetzt, der ein Heizgerät 13 zum Erhitzen und Schmelzen eines unteren Endes des Vorformlings 2 aufweist. Der Ausziehofen 12 kann ein bekannter elektrischer Ofen oder HF- Ofen (RF oven) sein. Bevorzugtermaßen produziert er keine Wasserstoffmoleküle oder Staub. Die blanke Faser 1, die eine im wesentlichen ähnliche Verteilung des Brechungskoeffizienten im Vergleich zu der des Vorformlings 2 besitzt, wird von dem Vorformling 2 mittels der Ziehvorrichtung 10 gesponnen und wird wie sie ist der hermetischen Umhüllungsvorrichtung 20 zugeführt.
Die hermetische Umhüllungsvorrichtung 20 besitzt eine Reaktionsröhre 21 und einen Kühlmantel 22. Das Innere der Reaktionsröhre 21 ist durch Unterteilungswände 23a und 23b in eine Einzelreaktionskammer 25 und zwei Abdichtungskammern 26, die am stromaufwärts gelegenen Ende und stromabwärts gelegenen Ende der Reaktionskammer 25 ausgebildet sind, unterteilt. Die Unterteilungswände 23a und 23b weisen an ihren Zentren Öffnungen 24a bzw. 24b auf, durch die die Faser hindurchläuft Abdichtungsgas, wie Stickstoff N&sub2; oder Ar wird durch die sich hierzu öffnenden Einlaßrohre 26a zugeführt. Eine Anzahl Einlaßrohre 25a, 25b, 25c und 25d und ein Absaugrohr 25e sind an unterschiedlichen Positionen voneinander in Bewegungsrichtung der durch die Reaktionskammer 25 hindurchlaufenden blanken Faser 1 zu der Reaktionskammer 25 hin geöffnet. Rohgas wird in die Reaktionskammer 25 durch die Einlaßrohre 25a, 25b, 25c und 25d zugeführt und durch das Abgasrohr 25e evakuiert. Der Mengendurchfluß, die Zusammensetzung, die Konzentration und Temperatur des in die Reaktionskammer 25 zuzuführenden Rohgases werden durch Steuermittel 27, die für jedes Einlaßrohr geschaffen sind, unabhängig gesteuert. Demgemäß kann zumindest der Mengendurchfluß, die Zusammensetzung, die Konzentration oder Temperatur des Rohgases in der Reaktionskammer 25 kontinuierlich entlang der Bewegungsrichtung der durch die Reaktionskammer 25 hindurchlaufenden blanken Faser 1 geändert werden.
Die Reaktionskammer 25 kann eine Vielröhrenstruktur sein, die darin eine Vielzahl von Röhren aufweist, um die Anderung des zu der blanken Faser 1 geblasenen Rohgases abzumildern. Fig. 2 zeigt eine Längsquerschnittsansicht einer anderen Ausführungsform der vorliegenden Erfindung, bei der eine Reaktionskammer mit Doppelröhrenstruktur entlang der Bewegungsrichtung der blanken Faser sektioniert izt. Ein Innenrohr 25f, das in der Oberfläche hiervon eine Anzahl von eingeformten kleinen Löchern aufweist, ist in der Reaktionskammer 25 angeordnet. Als Doppelröhrenstruktur können eine Reaktionsröhre, die einen inneren Durchmesser von 40 mm besitzt, und Quarzröhren, wovon jede eine Dicke von 1,5 mm, einen inneren Durchmesser von 25 mm und einen kleinen Lochdurchmesser von 1 bis 2 mm mit einem Abstand von 5 mm besitzten, benutzt werden. Die blanke Faser 1 wird entlang einer Mittelachse des Innenrohrs 25f bewegt. Somit strömt das Rohgas durch die kleinen Löcher und wird auf die Oberfläche der blanken Faser 1 geblasen. Als ein Ergebnis wird erstens der Geschwindigkeitsunterschied von Gaspartikeln am stromaufwärts gelegenen Ende und am stromabwärts gelegenen Ende des Rohgases vereinheitlicht und zweitens wird das Rohgas zu der blanken Faser in der tiefenmäßigen Richtung des gebildeten Films gleichförmig zugeführt. Demgemäß wird die Anderung der Rohgasatmosphäre abgemindert und der Film wird entlang des Umfangs der blanken Faser 1 gleichförmig gebildet, sogar wenn die Öffnungen der Einlaßrohre 25a, 25b, 25c, 25d und 25e nicht symmetrisch entlang des Umfangs angeordnet sind.
Das Kontrollmittel 27 umfaßt Mengenflußventile 28a, 28b und 28c, die mit der Zuführungsquelle (nicht gezeigt) des Rohgases (beispielsweise Kohlenwasserstoff, wie Ethylen oder Acethylen, Kohlenstoffhalogenid, wie Kohlenstofftetrachlor, Kohlenwasserstoffhalogenid, Chloroform oder Trichlorethylen) und inertes Gas, wie N&sub2;, He oder Ar, welches als Verdünnungsgas benützt wird, in Verbindung stehen. Des weiteren umfaßt es Mengendurchsatzmesser 29a, 29b und 29c zum Messen der durch die Mengenflußventile passierenden Gasdurchsätze und eine Mischkammer 30 zum Mischen der durch die Massendurchsatzmesser passierenden Gase. Ein Thermometer zum Messen der Temperatur des inneren Gases und eine Temperatursteuerungseinheit, wie der eines Heizgeräts zum Heizen des inneren Gases, sind in der Mischkammer 30 angeordnet. Als ein Ergebnis kann der Mengendurchfluß, die Zusammensetzung, Konzentration und Temperatur des in die Reaktionskammer 25 von den Mengenflußventilen durch die Einlaßrohre 25a, 25b, 25c und 25d zugeführten Rohgases für jedes Einlaßrohr unabhängig gesteuert werden. Die Rohgase, deren Zusammensetzung gesteuert wird, werden in der Mischkammer 30 vollständig miteinder vermischt und dann der Reaktionskammer 25 zugeführt. Nur inertes Gas könnte in die Reaktionskammer 25 durch zumindest eines der Einlaßrohre 25a bis 25d durch die Steuerung des Kontrollmittels 27 zugeführt werden, so daß die Konzentration des Rohgases in der Reaktionskammer 25 entlang der Bewegungsrichtung der blanken Faser 1 kontinuierlich geändert werden könnte.
Kohlenwasserstoff oder Chlor könnte dem Rohgas hinzugefügt werden, um in die Reaktionskammer 25 eingeführt zu werden, um den Gehalt von Kohlenwasserstoffatomen oder Chloratomen in dem Rohgas zu steuern.
Gas, wie Helium, Stickstoff oder Luft, oder Flüssigkeit, wie Wasser oder Alkohol, wird als ein Kühlmittel von der Einlaßröhre 22a in den Kühlmantel 22 zugeführt, der um die Reaktionsröhre 21 herum befestigt ist, um die Reaktionskammer 25 abzudecken, und es zirkuliert durch das Absaugrohr 22b. Auf diese Weise wird eine Seitenwand der Reaktionsröhre 21, die der Reaktionskammer 25 zugewandt ist, auf konstanter Temperatur gehalten.
Die unter der hermetischen Umhüllungsvorrichtung 20 angeordnete Faserdurchmesser-Überwachungseinrichtung 35 mißt einen äußeren Durchmesser der hermetisch umhüllten Lichtleitfaser 30 mittels eines Laserstrahls. Der Faserdurchmesser der blanken Faser 1 wird auf der Basis der Messung gesteuert. Die dort darunterliegende Kühlungsvorrichtung 50 wird benutzt, um die hermetisch umhüllte Lichtleitfaser beispielsweise auf 70ºC zu kühlen. Die Kühlvorrichtung 40 könnte einen eine Länge von 30 cm und einen inneren Durchmesser von 1,5 cm aufweisenden Zylinder umfassen und Kühlheliumgas wird hierin bei einem Durchsatz von 10 Litern pro Minute zugeführt. Die Harzauftragsvorrichtung 50, die unter der Kühlvorrichtung 40 angeordnet ist, umfaßt eine Düse 51, die mit Harz 52 gefüllt ist. Die hermetisch umhüllte Lichtleitfaser 3 wird mit Harz 52 umhüllt, während sie durch die Düse 51 hindurchläuft, um die harzumhüllte Lichtleitfaser 5 zu bilden.
Ein Experimentalergebnis der hermetischen Umhüllung auf der blanken Faser 1 durch Kohlenstoff mittels des obigen Geräts wird im folgenden erläutert.
Bei dem Experiment wurde Ethylen C&sub2;H&sub4; als Rohgas für Kohlenwasserstoff benutzt und Kohlenstofftetrachlorid CCl&sub4; wurde als Rohgas für Kohlenstoffhalogenid benutzt. Da Kohlenstofftetrachlorid CCl&sub4; bei Raumtemperatur und Raumdruck in flüssiger Phase ist, wurde es durch einen Verdampfer bei 30ºC (konstant) verdampft und Helium He wurde als Trägergas benutzt. Stickstoffgas N&sub2; wurde als Verdünnungsgas benutzt. Die Zusammensetzungen und Mengendurchsätze der in die Reaktionskammer 25 von den Einlaßrohre 25a, 25b, 25c und 25d zugeführten Rohgase wurden wie folgt festgesetzt. Tabelle 1 Einlaßrohr Trägergas
Aufgrunddessen wird das eine höhere Kohlenwasserstoffkonzentration aufweisende Rohgas in die Reaktionskammer an dem Einlaßende der hochtemperaturigen blanken Faser (stromaufwärts gelegenes Ende) zugeführt und das eine höhere Kohlenstoffhalogenidkonzentration aufweisende Rohgas wird zugeführt, sowie es gegen das stromabwärts gelegene Ende entlang der Bewegungsrichtung der blanken Faser hingeht.
Die Ziehgeschwindigkeit der blanken Faser betrug 150 m/min, die Temperatur der Reaktionsröhrenwand wurde auf 100ºC gehalten und der Mengendurchfluß des Abdichtgases (N&sub2;) zu den zwei Abdichtkammern 26 wurde auf 3 Liter/min gesetzt.
Unter solch einer Bedingung wurde Kohlenstoff hermetisch umhüllt und ein Kohlenstoffilm, der eine feine Struktur und einen hohen hermetischen Effekt besitzt, wurde an einer Grenzfläche der blanken Faser und des Kohlenstoffilms gebildet und ein Kohlenstoffilm, der eine glatte Oberfläche besitzt, wurde hierauf ohne klare Grenze oder Stufe gebildet. Als ein Ergebnis betrug ein Hauptwert einer Anfangsfestigkeit der resultierenden hermetisch umhüllten Lichtleitfaser nicht weniger als 58,8 N und eine Zugfestigkeit war gleich oder höher als die einer konventionellen optischen Faser ohne hermetische Kohlenstoffumhüllung. Dies ist ein annähernd 20%iger Anwachs über die kohlenstoffumhüllte Lichtleitfaser gemäß dem Stand der Technik. Ein Ermüdungsparameter n betrug etwa 100 oder höher und es gab kein Ansteigen eines Übertragungsverlustes (1,24 µm) durch Wasserstoff, nachdem die optische Faser in einer Wasserstoffatmosphäre (80ºC, 10&sup5; Pa) für 20 Stunden verblieb. Sie zeigte eine sehr gute wasserfeste und kohlenstoffeste Eigenschaft.
Zu Vergleichszwecken sind folgend Charakteristika einer kohlenstoffumhüllten Lichtleitfaser gezeigt, die durch Zuführung des Rohgases in die Reaktionskammer 25 nur von dem Einlaßrohr 25a hergestellt wird, während die Einlaßröhren 25b, 25c und 25d des in der Fig. 1 gezeigten Gerätes geschlossen wurden.
(1) Ethylen C&sub2;H&sub4; als Rohgas wurde mit 200 cm³/min in die Reaktionskammer zugeführt und CCl&sub4; Trägergas (He) wurde mit 300 cm³/min zugeführt.
Zugfestigkeit: 44,1 - 49 N Ermüdungsindex(n) : 100 oder höher Erhöhung des Übertragungsverlusts durch Wasserstoff: 0 dB/km
(2) Ethylen C&sub2;H&sub4; als Rohgas wurde mit 100 cm³/min in die Reaktionskammer zugeführt und CCl&sub4; Trägergas (He) wurde mit 400 cm³/min zugeführt.
Zugfestigkeit: 58,8 - 63,7 N Ermüdungsindex(n): 100 oder höher Erhöhung des Übertragungsverlusts durch Wasserstoff: 0,1 - 0,4 dB/K

Claims

1. Gerät zur Herstellung einer hermetisch umhüllten Lichtleitfaser, das eine einzelne Reaktionskammer aufweist, in die eine blanke Faser und Rohmaterialgas zum Aufbringen einer hermetischen Umhüllung auf der blanken Faser einzubringen sind, während die blanke Faser durch die Reaktionskammer hindurchläuft, wobei die Reaktionskammer in Bewegungsrichtung der hierdurch laufenden blanken Faser einen im wesentlichen unveränderten Querschnitt und eine Anzahl Einlaßrohre aufweist, um das Rohmaterialgas einzuführen, wobei die Anzahl Einlaßrohre an unterschiedlichen Positionen voneinander in Bewegungsrichtung der durch die Reaktionskammer hindurchlaufenden blanken Faser zur Reaktionskammer hin geöffnet sind, und Steuermittel aufweist zum unabhängigen Steuern für jedes Einlaßrohr von zumindest einer Größe, dem Mengendurchfluß, der Zusammensetzung, der Konzentration oder Temperatur des in die Reaktionskammer durch die Anzahl Einlaßrohre einzuführenden Rohmaterialgases,

dadurch gekennzeichnet, daß

die Anzahl Einlaßrohre ein erstes Einlaßrohr in einem stromaufwärts gelegenen Abschnitt der Reaktionskammer für ein erstes Rohmaterialgas und ein zweites Einlaßrohr in einem stromabwärts gelegenen Abschnitt der Reaktionskammer für ein zweites Rohmaterialgas beinhaltet, und daß

das Steuermittel angeordnet ist, um zumindest eine Größe, den Mengendurchfluß, die Zusammensetzung, die Konzentration oder die Temperatur des Rohmaterialgases in der Reaktionskammer von dem stromaufwärts gelegenen Abschnitt zu dem stromabwärts gelegenen Abschnitt kontinuierlich zu variieren.

2. Gerät zur Herstellung einer hermetisch umhüllten Lichtleitfaser gemäß Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß das Steuermittel eine Anzahl von Mengendurchflußventilen zum Steuern der Mengendurchflüsse von Bestandteilgasen des Rohmaterialgases, eine Mischkammer zum Mischen der durch die Mengendurchflußventile hindurchpassierenden Bestandteilgase und Tempertursteuermittel zum Steuern einer Temperatur des in der Mischkammer gemischten Rohmaterialgases beinhaltet.

3. Gerät zur Herstellung einer hermetisch umhüllten Lichtleitfaser gemäß Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß das Temperatursteuermittel ein Thermometer zum Messen der Temperatur des Rohmaterialgases in der Mischkammer und ein Heizgerät zum Heizen des Rohmaterialgases in der Mischkammer beinhaltet.

4. Gerät zur Herstellung einer hermetisch umhüllten Lichtleitfaser gemäß Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Reaktionskammer ein Innenrohr besitzt, das eine Anzahl von kleinen Löchern in der Oberfläche hiervon besitzt und die blanke Faser durch das Innenrohr hindurchläuft

5. Verfahren zur Herstellung einer hermetisch umhüllten Lichtleitfaser, das die Schritte umfaßt:

Hindurchführen einer blanken Lichtleitfaser durch eine einzelne Reaktionskammer, die in Bewegungsrichtung der Lichtleitfaser einen im wesentlichen unveränderten Querschnitt besitzt,

Steuern von zumindest dem Mengendurchfluß, der Zusammensetzung, der Konzentration oder Temperatur des Rohmaterialgases, bevor das Rohmaterialgas in die Reaktionskammer eingeführt wird, und

Einführen des Rohmaterialgases durch eine Anzahl Einlaßrohre in die Reaktionskammer, worin ein erstes Rohmaterialgas in einen stromaufwärts gelegenen Abschnitt der Reaktionskammer durch ein erstes Einlaßrohr eingeführt wird und ein zweites Rohmaterialgas in einen stromabwärts gelegenen Abschnitt der Reaktionskammer durch ein zweites Einlaßrohr eingeführt wird, wobei das erste Rohmaterialgas von dem zweiten Rohmaterialgas in zumindest dem Mengendurchfluß, der Zusammensetzung, Konzentration oder Temperatur verschieden ist, bevor die Rohmaterialgase in die Reaktionskammer eingeführt werden, und wodurch zumindest der Mengendurchfluß, die Zusammensetzung, die Konzentration oder die Temperatur des Rohmaterialgases in der Reaktionskammer von dem stromaufwärts gelegenen Abschnitt zu dem stromabwärts gelegenen Abschnitt kontinuierlich variiert.

6. Verfahren zur Herstellung einer hermetisch umhüllten Lichtleitfaser gemäß Anspruch 5, dadurch gekennzeichnet, daß das in die Reaktionskammer zuzuführende Rohmaterialgas Ethylen, Acetylen, Kohlenstoffhalogenid oder Kohlenwasserstoffhalogenid oder eine Mischung von zwei oder mehr hiervon ist.

7. Verfahren zur Herstellung einer hermetisch umhüllten Lichtleitfaser nach Anspruch 5 oder 6, dadurch gekennzeichnet, daß Chlor oder Wasserstoff mit dem in die Reaktionskammer einzuführenden Rohmaterialgas gemischt wird.

8. Verfahren zur Herstellung einer hermetisch umhüllten Lichtleitfaser nach Anspruch 5, 6 oder 7, dadurch gekennzeichnet, daß ein Kohlenstoffilm auf der blanken Faser hermetisch aufgebracht wird.

9. Verfahren zur Herstellung einer hermetisch umhüllten Lichtleitfaser nach Anspruch 5, dadurch gekennzeichnet, daß das eine hohe Kohlenwasserstoffkonzentration aufweisende Rohmaterialgas zu der Einlaßrohröffnung zu der Reaktionskammer an dem stromaufwärts gelegenen Abschnitt zugeführt wird und Rohmaterialgas, das eine hohe Kohlenstoffhalogenidkonzentration aufweist zu der Einlaßrohröffnung zu der Reaktionskammer in Bewegungsrichtung der blanken Faser an dem stromabwärts gelegenen Abschnitt mit einem erhöhten Zuführungsbetrag des Rohgases zugeführt wird.