DE664170C - Verfahren zur Herstellung bindemittelfreier Halogensilberschichten - Google Patents
Verfahren zur Herstellung bindemittelfreier HalogensilberschichtenInfo
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- DE664170C DE664170C DEI52636D DEI0052636D DE664170C DE 664170 C DE664170 C DE 664170C DE I52636 D DEI52636 D DE I52636D DE I0052636 D DEI0052636 D DE I0052636D DE 664170 C DE664170 C DE 664170C
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- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03C—PHOTOSENSITIVE MATERIALS FOR PHOTOGRAPHIC PURPOSES; PHOTOGRAPHIC PROCESSES, e.g. CINE, X-RAY, COLOUR, STEREO-PHOTOGRAPHIC PROCESSES; AUXILIARY PROCESSES IN PHOTOGRAPHY
- G03C1/00—Photosensitive materials
- G03C1/005—Silver halide emulsions; Preparation thereof; Physical treatment thereof; Incorporation of additives therein
- G03C1/015—Apparatus or processes for the preparation of emulsions
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Description
- Verfahren zur Herstellung bindemittelfreier Halogensilberschichten Kolloidfreie Bromsilberschichten sind bekannt und schon vor langer Zeit hergestellt worden (Luther, Z. f. phys. Chemie 30, S.628, 1899, Schaum und Braun, Z. f. wiss. Phot. I, S.377, 19o3). Ihre Behandlung machte Schwierigkeiten, da die Schichten sich beim Entwickeln usw. leicht von der Unterlage (Glas oder Mattglas) ablösten. Infolge der schnellen Reduktion kolloidfreien Bromsilbers gelang es auch schwer, die Schichten schleierfrei zu entwickeln.
- Es wurde nun gefunden, daß sich photographisch einwandfreie, kolloidfreie Schichten von großer rnechanischer Beständigkeit herstellen lassen, wenn man gänzlich kolloidfreie Bromsilbersole auf Unterlagen sedimentieren läßt, die mit einer dem Bromsilber gegenüber völlig indifferenten Klebeschicht überzogen sind. Als sehr geeignet hat sich das Überziehen von Glasplatten mit einer Kautschukschicht erwiesen. Man übergießt beispielsweise Glasplatten mit einer 1%igen Lösung von Kautschuk in Benzol (etwa 5 ccm Kautschuklösung auf eine 9/12 Platte), läßt ablaufen und das Lösungsmittel verdunsten. Darauf trocknet man eine Stunde in bewegter Luft bei 5o°. Weiter sind geeignet künstliche Harze, insbesondere Polymerisationsprodukte, z. B. Palyakrylsäuremethylester oder ein Gemisch aus Styrol und Akrylsäurebutylester 4:1, beide in benzolischer Lösung.
- Zum Sedimentieren auf die so behandelte Glasplatte kann man Bromsilber- oder Bromjodsilbersole verschiedener Konzentration und Zusammensetzung verwenden. Die Sedimentationszeit ist verschieden lang. Gut und bezüglich der Dauer der Sedimentation sehr gleichmäßig erwies sich ein Sol folgender Herstellung: Beispiel 1 : Zu 250 ccm ö Bromkalium-10 läßt man innerhalb q:5 Sekunden unter Rühren 150 ccm ö Silbernitratlösung bei r8° einlaufen. Das Sol ist opalisierend. Man gießt dieses Sol in eine 18/2q. Glasschale; auf deren Boden vier mit einer der oben beschriebenen Kolloidschichten überzogene 9/I2 Platten liegen. Nach 16- bis i 8stündigem Stehen hat sich das Bromsilber auf den Glasplatten abgesetzt. Beispiel 2: Zu 25o ccm Silbernitrat-10 Silbernitratlösung läßt man innerhalb 3o bis 6o Sekunden unter Rühren 15o ccm ö Bromkalium-10 bei Zimmertemperatur einlaufen. Das 9 so erhaltene Söl gießt man wie in Beispiel i in eine Glasschale, auf deren Boden die mit einer Kautschukschicht überzogenen Glasplätten oder Filme liegen. Nach vzr 30 Stunden hat sich das Bromsilber:! a `" mit Kautschuk überzogenen Unterlag gesetzt.' Die Platten werden dann einzeln herausgenommen und jede i Minute in einer g12 Schale mit etwa Zoo ccm lest. Wasser ausgewaschen. Darauf wirst durch Ausschwenken mit der Hand oder im schwach bewegten Luftstrom getrocknet.
- Die Verwendung eines Sols obiger Zusammensetzung mit einem hohen Bromkaliümüberschuß hat sich wegen der praktischen Sedimentationszeit dieses Sols (16 bis iß Stunden) und wegen seiner Unempfindlichkeit gegen etwaige störende Einflüsse, die auf die Sedimentationszeit wirken können, als zweckmäßig erwiesen. Sole mit geringerem Brömkaliumüberschuß, also geringerem Elektrolytgehalt, reagieren bereits auf minimalste Beimengungen, die schon in dem destillierten Wasser enthalten sein können. Verschiedene Wässer bewirken bei Solen mit geringerem Elektrolytgehalt eine verschieden lange Sedimentationszeit, die aber bei einem einheitlichen Wasser konstant ist.
- Die Entwicklung geschieht mit einem Entwickler von niedrigem pH-Wert (etwa 7,5). Als geeignet hat sich z. B. ein Metolentwickler folgender Zusammensetzung erwiesen: iooo ccm Wässer, 15 g Meto1, 37,5 g Sulfit sicc., 13,2 g Pottasche, 6 g Bromkalium. Man entwickelt i Minute, spült mit Wasser ab, fixiert und wässert aus. Die Negative sind klar. Die Empfindlichkeit solcher Schichten beträgt 1/s, bis i/soo einer kochempfindlichen Emulsion.
- Daß die obengenannten Kolloidschichten ;.ex,aerlei Einfluß auf das Bromsilber ausüben, ,stwiederholt nachgeprüft worden. Mit allen Vorsichtsmaßnahmen auf Mattscheiben hergestellte und entwickelte kollöidfreie Bromsilberschichten zeigten in bezug auf Klarheit und Empfindlichkeit nie einen Unterschied gegenüber den mit dem gleichen Söl hergestellten Platten, die mit einer Kolloidschickt versehen waren.
Claims (3)
- PATENTANSPRÜCHE: i. Verfahren zur Herstellung bindemittelfreier Halogensilberschichten nach dem Sedimentationsverfahren unter Verwendung von gegenüber Halogensilber indifferenten Kolloiden als Klebemittel für den Schichtträger, dadurch gekennzeichnet, daß man das Halogensilber sich aus einem bindemittelfreien, verdünnten Halogensilbersol auf eine klebende und wasserabstoßende Schicht absetzen läßt.
- 2. Verfahren nach Anspruch i, gekennzeichnet durch Anwendung einer Kautschukschicht als Klebeschicht.
- 3. Verfahren nach Anspruch i, gekennzeichnet durch die Anwendung von Polyakrylsäuremethylester aus benzolischer Lösung als Klebeschicht: ¢. Verfahren nach Anspruch i, gekennzeichnet durch die Anwendung eines Gemisches aus Styrol und Akrylsäurebutylester aus benzolischer Lösung als Klebeschickt.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DEI52636D DE664170C (de) | 1935-06-26 | 1935-06-27 | Verfahren zur Herstellung bindemittelfreier Halogensilberschichten |
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DEI0052636 | 1935-06-26 | ||
DEI52636D DE664170C (de) | 1935-06-26 | 1935-06-27 | Verfahren zur Herstellung bindemittelfreier Halogensilberschichten |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE664170C true DE664170C (de) | 1938-08-22 |
Family
ID=25981872
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DEI52636D Expired DE664170C (de) | 1935-06-26 | 1935-06-27 | Verfahren zur Herstellung bindemittelfreier Halogensilberschichten |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
DE (1) | DE664170C (de) |
-
1935
- 1935-06-27 DE DEI52636D patent/DE664170C/de not_active Expired
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