DE664170C - Verfahren zur Herstellung bindemittelfreier Halogensilberschichten - Google Patents

Verfahren zur Herstellung bindemittelfreier Halogensilberschichten

Info

Publication number
DE664170C
DE664170C DEI52636D DEI0052636D DE664170C DE 664170 C DE664170 C DE 664170C DE I52636 D DEI52636 D DE I52636D DE I0052636 D DEI0052636 D DE I0052636D DE 664170 C DE664170 C DE 664170C
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
binder
halogen silver
production
free
layer
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired
Application number
DEI52636D
Other languages
English (en)
Inventor
Dr Gerhard Ollendorff
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
IG Farbenindustrie AG
Original Assignee
IG Farbenindustrie AG
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by IG Farbenindustrie AG filed Critical IG Farbenindustrie AG
Priority to DEI52636D priority Critical patent/DE664170C/de
Application granted granted Critical
Publication of DE664170C publication Critical patent/DE664170C/de
Expired legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03CPHOTOSENSITIVE MATERIALS FOR PHOTOGRAPHIC PURPOSES; PHOTOGRAPHIC PROCESSES, e.g. CINE, X-RAY, COLOUR, STEREO-PHOTOGRAPHIC PROCESSES; AUXILIARY PROCESSES IN PHOTOGRAPHY
    • G03C1/00Photosensitive materials
    • G03C1/005Silver halide emulsions; Preparation thereof; Physical treatment thereof; Incorporation of additives therein
    • G03C1/015Apparatus or processes for the preparation of emulsions

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Surface Treatment Of Glass (AREA)
  • Laminated Bodies (AREA)

Description

  • Verfahren zur Herstellung bindemittelfreier Halogensilberschichten Kolloidfreie Bromsilberschichten sind bekannt und schon vor langer Zeit hergestellt worden (Luther, Z. f. phys. Chemie 30, S.628, 1899, Schaum und Braun, Z. f. wiss. Phot. I, S.377, 19o3). Ihre Behandlung machte Schwierigkeiten, da die Schichten sich beim Entwickeln usw. leicht von der Unterlage (Glas oder Mattglas) ablösten. Infolge der schnellen Reduktion kolloidfreien Bromsilbers gelang es auch schwer, die Schichten schleierfrei zu entwickeln.
  • Es wurde nun gefunden, daß sich photographisch einwandfreie, kolloidfreie Schichten von großer rnechanischer Beständigkeit herstellen lassen, wenn man gänzlich kolloidfreie Bromsilbersole auf Unterlagen sedimentieren läßt, die mit einer dem Bromsilber gegenüber völlig indifferenten Klebeschicht überzogen sind. Als sehr geeignet hat sich das Überziehen von Glasplatten mit einer Kautschukschicht erwiesen. Man übergießt beispielsweise Glasplatten mit einer 1%igen Lösung von Kautschuk in Benzol (etwa 5 ccm Kautschuklösung auf eine 9/12 Platte), läßt ablaufen und das Lösungsmittel verdunsten. Darauf trocknet man eine Stunde in bewegter Luft bei 5o°. Weiter sind geeignet künstliche Harze, insbesondere Polymerisationsprodukte, z. B. Palyakrylsäuremethylester oder ein Gemisch aus Styrol und Akrylsäurebutylester 4:1, beide in benzolischer Lösung.
  • Zum Sedimentieren auf die so behandelte Glasplatte kann man Bromsilber- oder Bromjodsilbersole verschiedener Konzentration und Zusammensetzung verwenden. Die Sedimentationszeit ist verschieden lang. Gut und bezüglich der Dauer der Sedimentation sehr gleichmäßig erwies sich ein Sol folgender Herstellung: Beispiel 1 : Zu 250 ccm ö Bromkalium-10 läßt man innerhalb q:5 Sekunden unter Rühren 150 ccm ö Silbernitratlösung bei r8° einlaufen. Das Sol ist opalisierend. Man gießt dieses Sol in eine 18/2q. Glasschale; auf deren Boden vier mit einer der oben beschriebenen Kolloidschichten überzogene 9/I2 Platten liegen. Nach 16- bis i 8stündigem Stehen hat sich das Bromsilber auf den Glasplatten abgesetzt. Beispiel 2: Zu 25o ccm Silbernitrat-10 Silbernitratlösung läßt man innerhalb 3o bis 6o Sekunden unter Rühren 15o ccm ö Bromkalium-10 bei Zimmertemperatur einlaufen. Das 9 so erhaltene Söl gießt man wie in Beispiel i in eine Glasschale, auf deren Boden die mit einer Kautschukschicht überzogenen Glasplätten oder Filme liegen. Nach vzr 30 Stunden hat sich das Bromsilber:! a `" mit Kautschuk überzogenen Unterlag gesetzt.' Die Platten werden dann einzeln herausgenommen und jede i Minute in einer g12 Schale mit etwa Zoo ccm lest. Wasser ausgewaschen. Darauf wirst durch Ausschwenken mit der Hand oder im schwach bewegten Luftstrom getrocknet.
  • Die Verwendung eines Sols obiger Zusammensetzung mit einem hohen Bromkaliümüberschuß hat sich wegen der praktischen Sedimentationszeit dieses Sols (16 bis iß Stunden) und wegen seiner Unempfindlichkeit gegen etwaige störende Einflüsse, die auf die Sedimentationszeit wirken können, als zweckmäßig erwiesen. Sole mit geringerem Brömkaliumüberschuß, also geringerem Elektrolytgehalt, reagieren bereits auf minimalste Beimengungen, die schon in dem destillierten Wasser enthalten sein können. Verschiedene Wässer bewirken bei Solen mit geringerem Elektrolytgehalt eine verschieden lange Sedimentationszeit, die aber bei einem einheitlichen Wasser konstant ist.
  • Die Entwicklung geschieht mit einem Entwickler von niedrigem pH-Wert (etwa 7,5). Als geeignet hat sich z. B. ein Metolentwickler folgender Zusammensetzung erwiesen: iooo ccm Wässer, 15 g Meto1, 37,5 g Sulfit sicc., 13,2 g Pottasche, 6 g Bromkalium. Man entwickelt i Minute, spült mit Wasser ab, fixiert und wässert aus. Die Negative sind klar. Die Empfindlichkeit solcher Schichten beträgt 1/s, bis i/soo einer kochempfindlichen Emulsion.
  • Daß die obengenannten Kolloidschichten ;.ex,aerlei Einfluß auf das Bromsilber ausüben, ,stwiederholt nachgeprüft worden. Mit allen Vorsichtsmaßnahmen auf Mattscheiben hergestellte und entwickelte kollöidfreie Bromsilberschichten zeigten in bezug auf Klarheit und Empfindlichkeit nie einen Unterschied gegenüber den mit dem gleichen Söl hergestellten Platten, die mit einer Kolloidschickt versehen waren.

Claims (3)

  1. PATENTANSPRÜCHE: i. Verfahren zur Herstellung bindemittelfreier Halogensilberschichten nach dem Sedimentationsverfahren unter Verwendung von gegenüber Halogensilber indifferenten Kolloiden als Klebemittel für den Schichtträger, dadurch gekennzeichnet, daß man das Halogensilber sich aus einem bindemittelfreien, verdünnten Halogensilbersol auf eine klebende und wasserabstoßende Schicht absetzen läßt.
  2. 2. Verfahren nach Anspruch i, gekennzeichnet durch Anwendung einer Kautschukschicht als Klebeschicht.
  3. 3. Verfahren nach Anspruch i, gekennzeichnet durch die Anwendung von Polyakrylsäuremethylester aus benzolischer Lösung als Klebeschicht: ¢. Verfahren nach Anspruch i, gekennzeichnet durch die Anwendung eines Gemisches aus Styrol und Akrylsäurebutylester aus benzolischer Lösung als Klebeschickt.
DEI52636D 1935-06-26 1935-06-27 Verfahren zur Herstellung bindemittelfreier Halogensilberschichten Expired DE664170C (de)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DEI52636D DE664170C (de) 1935-06-26 1935-06-27 Verfahren zur Herstellung bindemittelfreier Halogensilberschichten

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DEI0052636 1935-06-26
DEI52636D DE664170C (de) 1935-06-26 1935-06-27 Verfahren zur Herstellung bindemittelfreier Halogensilberschichten

Publications (1)

Publication Number Publication Date
DE664170C true DE664170C (de) 1938-08-22

Family

ID=25981872

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DEI52636D Expired DE664170C (de) 1935-06-26 1935-06-27 Verfahren zur Herstellung bindemittelfreier Halogensilberschichten

Country Status (1)

Country Link
DE (1) DE664170C (de)

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE69110975T2 (de) Lösliches Calixarenderivat und Filme von diesem.
DE1447916A1 (de) Feuchtigkeitsfeste Flachdruckplatten
DE2641624A1 (de) Verfahren zur herstellung eines positiven resistbildes
DE1146752B (de) Lichtschutzschicht bzw. Lichtschutzlack fuer farbenphotographische Bilder
DE720339C (de) Photographische Schicht mit Bindemittel aus Vinylacetatharz und Verfahren zur Herstellung
DE903061C (de) Verfahren zur Empfindlichkeitssteigerung von Diazo-Lichtpausschichten
DE1053927B (de) Verfahren zum Aufbringen von gelatinehaltigen Schichten
DE664170C (de) Verfahren zur Herstellung bindemittelfreier Halogensilberschichten
DE561691C (de) Verfahren zur Herstellung eines lichtempfindlichen Materials, bei dem sich der lichtempfindliche Stoff aus der Dampfphase auf dem Traeger absetzen gelassen wird
DE740283C (de) Verfahren zur Herstellung einer Haftschicht auf Cellulosetriacetat-Filmen
DE1572119C3 (de)
DE2207503A1 (de) Verfahren zum Aufbringen einer Zwi sehen bzw Haftschicht auf einen photo graphischen Film
DE1941472A1 (de) Verfahren zur Haertung von Gelatine
EP0015880B1 (de) Empfangselemente mit Gelatinepfropfpolymeren als Farbstoffbeizmittel und diese Empfangselemente enthaltendes photographisches Material
DE2130483A1 (de) Fotografische,gelatinehaltige Beschichtungsmasse
DE754015C (de) Lichtempfindliche Schicht zur Herstellung von Druckformen
DE1572119B2 (de) Wäßrige Haftschichtdisperion
DE1254346B (de) Verfahren zur Herstellung von wasserunloeslichen Gelatineschichten
DE1086999B (de) Fotografischer Abziehfilm
DE383621C (de) Verfahren zur Herstellung photographischer UEberzuege
DE2142242C3 (de) Lichtempfindliches Gemisch
AT135355B (de) Verfahren zur Herstellung einer lichtempfindlichen Schicht.
DE2056361A1 (de) Substrierungsmasse fur Polyester Filmträger
DE637865C (de) Bindemittel fuer photographische Emulsionen
DE530808C (de) Lichthoffreier photographischer Film