DE60305562T2

DE60305562T2 - Lichtempfindliche Platte

Info

Publication number: DE60305562T2
Application number: DE60305562T
Authority: DE
Inventors: Keiichi c/o Toyo Boseki Kabushiki Ohtsu-shi Motoi; Hajime c/o Toyo Boseki Kabushiki Ohtsu-shi Koda; Satoshi c/o Toyo Boseki Kabukishi Ohtsu-shi Takahashi
Original assignee: Toyobo Co Ltd
Current assignee: Toyobo Co Ltd
Priority date: 2002-04-02
Filing date: 2003-04-02
Publication date: 2007-05-16
Anticipated expiration: 2023-04-03
Also published as: US20030235780A1; HK1059650A1; EP1353227A3; KR20040002477A; EP1353227A2; US7026095B2; KR100942485B1; CN1452012A; TW594420B; EP1353227B1; ATE328304T1; ES2266667T3; DE60305562D1; CN1324404C; TW200306459A

Description

TECHNISCHES GEBIET DER ERFINDUNG
Die vorliegende Erfindung betrifft eine lichtempfindliche Platte, die zur Herstellung einer Reliefdruckplatte verwendet wird.
HINTERGRUND DER ERFINDUNG
Gewöhnlich besteht eine lichtempfindliche Platte, die für eine Reliefdruckplatte zu verwenden ist, aus einer Trägerschicht, einer Schicht aus einer lichtempfindlichen Harzzusammensetzung, einer Beschichtungsschicht und einer Abdeckfolie, und die Abdeckfolie wird bei der Verwendung entfernt.
Es ist weithin bekannt, dass eine Reliefdruckplatte hergestellt werden kann, indem aktinische Strahlen durch einen Negativfilm (oder Positivfilm) mit einem transparenten Bildteil auf eine lichtempfindliche Platte, von der eine Abdeckfolie entfernt wurde, einwirken, wodurch eine lichtempfindliche Harzschicht des bestrahlten Teils gehärtet wird, und die lichtempfindliche Harzschicht des nicht bestrahlten Teils durch Auflösen mit einem geeigneten Lösungsmittel entfernt wird.
Die jüngste Anforderung an eine lichtempfindliche Platte zur Verwendung für eine Reliefdruckplatte betrifft die Reproduktion von noch kleineren Mikromustern, und es wird ein feines Druckrelief mit einer Linienbreite des Vertiefungsmusters von etwa 30 μm benötigt. Ein Material für Reliefdruckplatten, bei dem eine lichtempfindliche Harzzusammensetzung verwendet wird, kann aber die Anforderungen nicht ausreichend erfüllen, und eine lichtempfindliche Platte, die zur Reproduktion von feinen Mustern bei der Plattenherstellung und beim Druck fähig ist, ist bisher nicht erhalten worden. Die Erfinder der vorliegenden Erfindung haben gefunden, dass eine Beschichtungsschicht einer lichtempfindlichen Platte in die Reproduzierbarkeit eines feinen Musters bei der Plattenherstellung und beim Druck einbezogen ist. Ein gleichzeitiges Erreichen der Ablösbarkeit einer Deckfolie bei der Plattenherstellung und eine Reproduzierbarkeit eines feinen Musters bei der Plattenherstellung und beim Druck ist jedoch schwierig.
US-A-5039592 offenbart ein Material auf der Grundlage eines lichtempfindlichen Harzes, dessen Gleitschicht ein Material mit einem hohen Molekulargewicht und einen Farbstoff enthält.
KURZBESCHREIBUNG DER ERFINDUNG
Die vorliegende Erfindung zielt darauf ab, die oben erwähnten Probleme zu lösen, und macht eine lichtempfindliche Platte verfügbar, die eine feine Ablösbarkeit einer Abdeckfolie während der Plattenherstellung und eine überlegene Reproduzierbarkeit des feinen Musters beim Druck verfügbar macht.
Als Ergebnis der intensiven Untersuchungen, die von den Erfindern der vorliegenden Erfindung bei einem Versuch durchgeführt wurden, die oben erwähnten Probleme zu lösen, ist gefunden worden, dass die Anforderungen an die Ablösbarkeit einer Abdeckfolie bei der Plattenherstellung und die Reproduzierbarkeit eines feinen Musters beim Druck durch die Verbesserung einer Abdeckfolie einer lichtempfindlichen Platte erfüllt werden können, und die vorliegende Erfindung ist auf der Grundlage davon vervollständigt worden.
Demgemäß macht die vorliegende Erfindung Folgendes verfügbar.

(1) Eine lichtempfindliche Platte, umfassend einen Träger, eine lichtempfindliche Harzschicht, eine Beschichtungsschicht und eine Abdeckfolie, die nacheinander auf den Träger laminiert sind, dadurch gekennzeichnet, dass die Beschichtungsschicht ein Absorptionsmittel für aktinische Strahlen mit einer Absorptionswellenlänge, die in den Wellenlängenbereich von aktinischen Strahlen fällt, die von der lichtempfindlichen Harzschicht absorbiert werden, und einer mittleren Molmasse von nicht weniger als 1000 umfasst und wobei die Beschichtungsschicht eine Lichtdurchlässigkeit von 50 %–90 % von Licht mit einer Wellenlänge von 360 nm hat.
(2) Die lichtempfindliche Platte nach dem oben erwähnten (1), wobei das Absorptionsmittel für aktinische Strahlen ein UV-absorbierendes Mikroteilchen mit einer mittleren Teilchengröße von 1 nm–500 nm umfasst.
(3) Die lichtempfindliche Platte nach dem oben erwähnten (2), wobei das UV-absorbierende Mikroteilchen durch die Emulsionspolymerisation eines UV-Absorptionsmittels erhalten wird.
(4) Die lichtempfindliche Platte nach dem oben erwähnten (1), wobei die Beschichtungsschicht eine Dicke von nicht mehr als 1 μm hat und die Abziehkraft zwischen der Beschichtungsschicht und der Abdeckfolie 1 g/cm–100 g/cm beträgt.

AUSFÜHRLICHE BESCHREIBUNG DER ERFINDUNG
Das Merkmal der Beschichtungsschicht der vorliegenden Erfindung ist dahingehend ausgebildet, dass eine Haftung eines Negativs an der lichtempfindlichen Harzschicht verhindert wird, und sie wird manchmal als Gleitbeschichtung, Abziehschicht, antiadhäsive Schicht und dergleichen bezeichnet. Als Grundmaterial werden Polyamid, Polyvinylalkohol und Derivate davon, Cellulosepolymer und dergleichen als Bindemittel verwendet. Diese können allein verwendet werden, oder zwei oder mehr Arten davon können in Kombination verwendet werden. Eine allgemeine Beschichtungsschicht kann neben der oben erwähnten Komponente anorganische Mikroteilchen wie Siliciumdioxid und dergleichen, organische, durch eine dreidimensionale, innere Vernetzung von Polystyrol und Acrylmonomer erhaltene Mikroteilchen, ein Tensid, einen mehrwertigen Alkohol und dergleichen nach Bedarf enthalten.
Das Absorptionsmittel für aktinische Strahlen, das in der für die vorliegende Erfindung zu verwendenden Beschichtungsschicht enthalten ist, hat eine Absorptionswellenlänge, die in den Wellenlängenbereich von aktinischen Strahlen fällt, die von der lichtempfindlichen Harzschicht absorbiert werden, und eine mittlere Molmasse von nicht weniger als 1000, vorzugsweise nicht weniger als 5000, noch mehr bevorzugt nicht weniger als 10 000. Wenn die mittlere Molmasse kleiner als 1000 ist, bewegt sich das Absorptionsmittel für aktinische Strahlen in die lichtempfindliche Harzschicht, wodurch die Absorptionsfähigkeit der Beschichtungsschicht für aktinische Strahlen unerwünscht verschlechtert wird. In der vorliegenden Beschreibung bedeutet der aktinische Strahl Licht mit einer Wellenlänge von 250 nm–700 nm, insbesondere einen Ultraviolettstrahl mit einer Wellenlänge von 320 nm–400 nm.
Als Absorptionsmittel für aktinische Strahlen mit einer mittleren Molmasse von nicht weniger als 1000 ist eines mit einer mittleren Molmasse von nicht weniger als 1000, das mit dem Bestandteil der Beschichtungsschicht verträglich oder zur Dispersion darin fähig ist, bevorzugt. Beispiele dafür umfassen, ohne darauf beschränkt zu sein, aus Teilchen bestehende UV-Absorptionsmittel, die durch eine mittels Emulsionspolymerisation erfolgende Copolymerisation einer radial polymerisierbaren Verbindung wie einem Acrylsäureester, Styrol und dergleichen und einem radikalisch polymerisierbaren UV-Absorptionsmittel mit einer Benzophenon-Struktur oder einer Benzotriazol-Struktur erhalten werden, ein UV-Absorptionsmittel, das durch ein Pfropfen einer Benzophenon- oder Benzotriazolverbindung an Polyvinylalkohol, ein Cellulosepolymer und dergleichen über eine Epoxyverbindung erhalten wird, ein UV-Absorptionsmittel, das durch ein Pfropfen einer Benzophenon- oder Benzotriazolverbindung an ein mit dem Bestandteil der Beschichtungsschicht verträgliches Oligomer mit einem aktiven Wasserstoff am Molekülende und mit einer mittleren Molmasse von nicht weniger als 1000 mittels eines Diisocyanats erhalten wird, und dergleichen.
Bei der vorliegenden Erfindung ist die Verwendung nicht auf das oben erwähnte, aus Teilchen bestehende UV-Absorptionsmittel beschränkt, und die Verwendung von aus Teilchen bestehenden Absorptionsmitteln für aktinische Strahlen ist bevorzugt. Neben den oben erwähnten Beispielen können anorganische UV-absorbierende Mikroteilchen beispielsweise aus Titanoxid und Ceroxid verwendet werden. Mit Hinblick auf die UV-absorbierende Wirkung ist ein organisches UV-absorbierendes Mikroteilchen bevorzugt, und ein UV-absorbierendes Mikroteilchen mit einer Benzotriazolstruktur ist besonders bevorzugt.
Seine mittlere Teilchengröße beträgt vorzugsweise 1 nm–500 nm und noch mehr bevorzugt 1 nm–200 nm, besonders bevorzugt 1 nm–100 nm. Wenn sie 500 nm übersteigt, wird der Abstand zwischen Mikroteilchen größer, wodurch das UV-Absorptionsvermögen der Beschichtungsschicht unerwünscht verschlechtert wird. In der vorliegenden Beschreibung wurde die mittlere Teilchengröße des UV-absorbierenden Mikroteilchens gemäß einem Verfahren zur Messung der Teilchengrößenverteilung durch Laserbeugung, ein Streuungsverfahren unter Verwendung eines Lichtstreuungs-Spektrophotometers (PAR-3; hergestellt von der OTSUKA ELECTRONICS CO., LTD.) gemessen.
In der vorliegenden Erfindung beträgt darüber hinaus die Abziehkraft zwischen der Beschichtungsschicht und der Abdeckfolie vorzugsweise 1 g/cm–100 g/cm. Damit die Abziehkraft in den oben erwähnten Bereich fällt, wird beispielsweise ein Tensid zur Beschichtungsschicht gegeben. Als Tensid ist eines mit einer entschäumenden Wirkung während des Auftragens einer Beschichtungsschicht und mit einer Fähigkeit zur Verminderung der Abziehkraft einer Abdeckfolie bevorzugt. Beispiele dafür umfassen, ohne darauf beschränkt zu sein, ein Silicon-Schaumverhütungsmittel, ein Amid-Schaumverhütungsmittel, ein Polyether-Schaumverhütungsmittel und modifizierte Schaumverhütungsmittel davon.
Die Durchlässigkeit der Beschichtungsschicht der vorliegenden Erfindung beträgt 50 % bis 99 %, vorzugsweise 70–95 %, noch mehr bevorzugt 80–90 %, bezogen auf Licht mit einer Wellenlänge von 360 nm. Wenn sie weniger als 50 % beträgt, ist die Menge der die lichtempfindliche Harzschicht erreichenden aktinischen Strahlen zu klein, so dass die Reproduzierbarkeit des Reliefs verschlechtert wird, während, wenn sie 99 % übersteigt, die Menge der aktinischen Strahlen, die die lichtempfindliche Harzschicht erreicht, zu groß wird, wodurch eine Reproduktion eines feinen Musters nachteilig verhindert wird.
Damit die Durchlässigkeit für aktinische Strahlen der Beschichtungsschicht in den oben erwähnten Bereich fällt, wird beispielsweise der Gehalt des Absorptionsmittels für aktinische Strahlen in der Beschichtungsschicht zweckmäßig eingestellt. Obwohl der Gehalt des Absorptionsmittels für aktinische Strahlen von seiner Beschaffenheit abhängt, beträgt er beispielsweise vorzugsweise 0,1 Gew.-%–30 Gew.-%, noch mehr bevorzugt 1 Gew.-%–20 Gew.-%, bezogen auf das Gesamtgewicht der Beschichtungsschicht.
Die Dicke der Beschichtungsschicht beträgt vorzugsweise 0,1–10 μm, noch mehr bevorzugt 0,1–2 μm, besonders bevorzugt 0,1–1 μm, weiterhin wünschenswerterweise 0,1–0,8 μm, insbesondere 0,1–0,6 μm. Wenn die Dicke kleiner als 0,1 μm ist, haftet sie am Negativ, während, wenn sie 10 μm übersteigt, das Auflösungsvermögen des Reliefs unerwünscht kleiner wird.
In der vorliegenden Erfindung ist die lichtempfindliche Harzschicht eine Schicht aus einer Zusammensetzung, die wenigstens eine bekannte, lösliche, synthetische Polymerverbindung, eine photopolymerisierbare, ungesättigte (hiernach auch als Vernetzungsmittel bezeichnete) Verbindung und einen Photoinitiator umfasst. Darüber hinaus kann sie ein Additiv wie einen Weichmacher, einen Inhibitor der thermischen Polymerisation, einen Farbstoff, ein Pigment, ein UV-Absorptionsmittel, einen Aromastoff und ein Antioxidans enthalten.
In der vorliegenden Erfindung kann als lösliche synthetische Polymerverbindung eine bekannte, lösliche, synthetische Polymerverbindung verwendet werden. Zum Beispiel können ein Polyetheramid (z.B. JP-A-55-79437 etc.), ein Polyetheresteramid (z.B. JP-A-58-113537 etc.), ein tertiäre Stickstoffatome enthaltendes Polyamid (z.B. JP-A-50-76055 etc.), ein tertiäre Stickstoffatome enthaltendes Polyamid vom Ammoniumsalz-Typ (z.B. JP-A-53-36555 etc.), ein Additionspolymer einer Amidverbindung mit wenigstens einer Amidbindung und einer organischen Diisocyanatverbindung (z.B. JP-A-58-140737 etc.), ein Additionspolymer eines Diamins ohne Amidbindung und einer organischen Diisocyanatverbindung (z.B. JP-A-4-97154 etc.) und dergleichen verwendet werden. Von diesen sind ein tertiäre Stickstoffatome enthaltendes Polyamid und ein tertiäre Stickstoffatome enthaltendes Polyamid vom Ammoniumsalz-Typ bevorzugt.
Eine bevorzugte photopolymerisierbare, ungesättigte Verbindung ist ein Produkt einer unter Ringöffnung verlaufenden Addition eines Polyglycidylethers eines mehrwertigen Alkohols und Methacrylsäure und Polyglycidylsäure. Beispiele für den oben erwähnten mehrwertigen Alkohol umfassen Dipentaerythrit, Pentaerythrit, Trimethylolpropan, Glycerin, Ethylenglycol, Diethylenglycol, Triethylenglycol, ein Phthalsäure-Ethylenoxid-Addukt und dergleichen. Von diesen ist Trimethylolpropan bevorzugt.
Beispiele für den Photoinitiator umfassen Benzophenone, Benzoine, Acetophenone, Benzile, Benzoinalkylether, Benzylalkylketale, Anthrachinone, Thioxanthone und dergleichen. Spezielle Beispiele dafür umfassen Benzophenon, Chlorbenzophenon, Benzoin, Acetophenon, Benzil, Benzoinmethylether, Benzoinethylether, Benzoinisopropylether, Benzoinisobutylether, Benzyldimethylketal, Benzyldiethylketal, Benzyldiisopropylketal, Anthrachinon, 2-Ethylanthrachinon, 2-Methylanthrachinon, 2-Allylanthrachinon, 2-Chloranthrachinon, Thioxanthon, 2-Chlorthioxanthon und dergleichen.
In der vorliegenden Erfindung wird eine Abdeckfolie zum Schutz einer lichtempfindlichen Harzschicht während der Aufbewahrung und Handhabung der Platte gebildet und vor der Bestrahlung mit aktinischen Strahlen entfernt (abgezogen). Die Abziehkraft zwischen der Beschichtungsschicht und der Abdeckfolie beträgt dann vorzugsweise 1–100 g/cm, noch mehr bevorzugt 3–100 g/cm, immer noch mehr bevorzugt 5–40 g/cm, wie oben erwähnt ist. Wenn die Abziehkraft der Abdeckfolie weniger als 1 g/cm beträgt, erfolgt ein Abziehen unerwünscht während des Herstellungsschrittes, während, wenn sie 100 g/cm übersteigt, während der Plattenherstellung auf der Abziehschicht eine Abziehspur verbleibt, wodurch eine Haftung des Negativs verhindert wird. Die Abziehkraft wird gemessen, wenn die Abdeckfolie in derjenigen Richtung, die einen Winkel von 90° mit der lichtempfindlichen Harzschicht bildet, mit einer Zuggeschwindigkeit von 500 mm/min mittels einer Zugprüfmaschine (RTC-1210A, hergestellt von der ORIENTEC CO., LTD.) gezogen wird, und als Festigkeit pro Breiteneinheit (cm) ausgedrückt.
Die Grundmaterialien der Abziehfolie sind vorzugsweise Polyamid, Polyvinylalkohol, ein Copolymer von Ethylen und Vinylacetat, ein amphoteres Interpolymer, ein Cellulosepolymer wie Hydroxyalkylcellulose und Celluloseacetat, Polybutyral, ein cyclischer Kautschuk und dergleichen. Hier ist das amphotere Interpolymer im U.S.-Patent Nr. 4,293,635 beschrieben. Jede einzelne Art dieser Materialien kann allein oder in Kombination von zwei oder mehr Arten davon verwendet werden.
Darüber hinaus können eine selbstoxidierbare Verbindung beispielsweise von Nitrocellulose und Nitroglycerin, ein nicht selbstoxidierbares Polymer wie Alkylcellulose (z.B. Ethylcellulose), Polyacrylsäure und ein Alkalimetallsalz davon, ein Polyacetal, Polyimid, Polycarbonat, Polyester, Polyalkylen wie Polyethylen und Polybutylen, ein Polyphenylenether, Polyethylenoxid, Polylacton und Kombinationen davon und dergleichen verwendet werden.
Die Dicke der Abdeckfolie beträgt vorzugsweise 10–300 μm, besonders bevorzugt 10–200 μm. Wenn die Dicke weniger als 10 μm beträgt, reißt die Abdeckfolie beim Abziehen der Folie, während, wenn sie 300 μm übersteigt, das Handhabungsverhalten des Abfalls nach dem Abziehen nachteilig schlecht wird.
Als in der vorliegenden Erfindung zu verwendender Träger können eine Kunststofffolie wie eine Polyesterfolie und dergleichen, ein Blech wie aus Eisen, rostfreiem Stahl, Aluminium und dergleichen, ein auf Metall abgeschiedener Film und dergleichen verwendet werden. Die Dicke des Trägers kann gemäß seiner Verwendung bestimmt werden. Bei Bedarf kann die Haftung zwischen dem Träger und der lichtempfindlichen Harzschicht verbessert werden, indem ein bekannter Klebstoff, der üblicherweise für diesen Anwendungszweck verwendet wird, auf die Oberfläche aufgetragen wird.
Obwohl das Verfahren zur Herstellung der lichtempfindlichen Platte der vorliegenden Erfindung nicht besonders eingeschränkt ist, wird gewöhnlich eine lichtempfindliche Harzschicht durch Beschichten, Spritzbeschichten und dergleichen auf einem Träger gebildet, oder eine Schutzfolie wird von einer kommerziell erhältlichen lichtempfindlichen Druckplatte abgezogen, wodurch ein Laminat erhalten wird. Getrennt wird eine Beschichtungsschicht durch Beschichten, Spritzbeschichten und dergleichen auf einer Substratfolie (Abdeckfolie) gebildet, wodurch ein verschiedenes Laminat erhalten wird, und die resultierenden beiden Laminate werden mittels einer Heißpressmaschine und dergleichen laminiert. Die Laminierungsbedingungen sind die Temperatur: Raumtemperatur – 150 °C, vorzugsweise 50–120 °C; Druck: 20–200 kg/cm², vorzugsweise 50–150 kg/cm². Die lichtempfindliche Platte der vorliegenden Erfindung kann durch ein bekanntes Verfahren wie Warmpressen, Gießen, Schmelzextrusion, Gießen aus Lösungen und dergleichen zu einer Folie mit einer gewünschten Dicke verarbeitet werden.
Bei der lichtempfindlichen Platte der vorliegenden Erfindung wird ein Negativfilm oder ein Positivfilm mit transparenten Bildteilen auf der lichtempfindlichen Harzschicht positioniert, wodurch ein Haftungszustand gebildet wird, und aktinische Strahlen werden von oben zur Lichteinwirkung eingestrahlt, wodurch der freiliegende Teil gehärtet und unlöslich gemacht wird. Als Lichtquelle für die aktinischen Strahlen können eine Hochdruck-Quecksilberlampe, eine Ultrahochdruck-Quecksilberdampflampe, eine Metallhalogenidlampe, eine Xenonlampe, eine chemische Lampe und dergleichen, die gewöhnlich Licht mit einer Wellenlänge von 300–400 nm emittieren, verwendet werden.
Nach der Bestrahlung mit Licht wird der nicht freiliegende Teil mit einem geeigneten Lösungsmittel, vorzugsweise Wasser, insbesondere neutralem Wasser, zur schnellen Entwicklung in kurzer Zeit aufgelöst und entfernt, wodurch eine Druckplatte (Reliefplatte) erhalten werden kann. Zur Entwicklung werden vorzugsweise ein Sprühentwickler, ein Bürstenentwickler und dergleichen verwendet.
Die vorliegende Erfindung wird nachfolgend unter Bezugnahme auf Beispiele, die nicht als einschränkend aufgefasst werden dürfen, ausführlicher beschrieben. In den Beispielen bedeutet ein einfaches "Teil" "Gew.-Teil".
Beispiel 1
ε-Caprolactam (55,0 Teile), N,N'-Bis(γ-aminopropyl)piperazinadipat (40,0 Teile), 1,3-Bisaminomethylcyclohexanadipat (7,5 Teile) und Wasser (100 Teile) wurden in einen Reaktor gefüllt, und nach einem ausreichenden Stickstoffaustausch wurde dieser verschlossen und allmählich erwärmt. Von demjenigen Zeitpunkt an, an dem der Innendruck 10 kg/cm² erreichte, wurde Wasser im Reaktor allmählich abdestilliert, wodurch der Inhalt in 1 h auf Normaldruck gebracht wurde, wonach die Mischung 1 h lang bei Normaldruck umgesetzt wurde. Die höchste Polymerisationstemperatur betrug 220 °C. Es wurde ein transparentes, blassgelbes Polyamid mit einem Schmelzpunkt von 140 °C und einer spezifischen Viskosität von 2,00 erhalten.
Das erhaltene Polyamid (50,0 Teile), N-Ethyltoluolsulfonamid (5,0 Teile), 1,4-Naphthochinon (0,03 Teile), Methanol (50,0 Teile) und Wasser (10 Teile) wurden in einer mit einem Rührer ausgestatteten Auflösungsvorrichtung bei 60 °C 2 h lang gemischt, wodurch das Polymer vollständig aufgelöst wurde. Dann wurden Bisphenol-A-Diglycidylester-Acrylsäure-Addukt (40,6 Teile), Methacrylsäure (2,9 Teile), Hydrochinonmonomethylether (0,1 Teile), Ammoniumsulfit (0,3 Teile), Oxalsäure (0,1 Teile) und Benzyldimethylketal (1,0 Teile) zugegeben, und die Mischung wurde in 30 min aufgelöst. Die Temperatur wurde allmählich erhöht, um eine Destillation von Methanol und Wasser zu ermöglichen, und der Rückstand wurde konzentriert, bis die Temperatur in der Destillationsvorrichtung 110 °C erreichte. In dieser Stufe wurde ein fluidisches, viskoses, lichtempfindliches Harz erhalten.
Dann wurde eine Polyesterfolie mit einer Gesamtdicke von 270 μm, die eine Klebstoffschicht mit einer Dicke von 20 μm umfasste, die auf einem Polyethylenterephthalat-Träger mit einer Dicke von 250 μm ausgebildet war, hergestellt.
Die Zusammensetzungslösung für die Klebstoffschicht wurde wie folgt unter Verwendung eines Polyesterurethan-Klebstoffs hergestellt. Ein Polyesterharz "VYLON RV-200" (80 Gew.-Teile, hergestellt von Toyo Boseki Kabushiki Kaisha) wurde durch Erwärmen in einem Lösungsmittelgemisch (1940 Gew.-Teile) aus Toluol/Methylethylketon = 80/20 (Gewichtsverhältnis) bei 80 °C hergestellt. Nach dem Abkühlen wurde mehrwertiges Isocyanurat-Isocyanat ("DESMODULE HL", 20 Gew.-Teile, hergestellt von der SUMITOMO BAYER URETHANE CO., LTD.), das erhalten wurde, indem Hexamethylendiisocyanat und Toluoldiisocyanat als Ausgangsstoffe verwendet wurden, zugegeben, und Triethylendiamin (0,06 Gew.-Teile) wurde als Härtungskatalysator zugegeben, und die Mischung wurde 10 min lang gerührt.
Eine Lösung der so erhaltenen Zusammensetzung für die Klebstoffschicht wurde auf eine 250 μm dicke Polyethylenterephthalatfolie so aufgetragen, dass die Filmdicke 20 μm betrug, und 3 min lang bei 120 °C bis zur Trockene gehärtet, wodurch ein Träger mit einer Klebstoffschicht erhalten wurde.
Das oben erhaltene lichtempfindliche Harz wurde auf die Klebstoffschicht dieses Trägers gegossen, wodurch eine lichtempfindliche Harzschicht gebildet wurde.
Getrennt wurde eine wässrige Lösung eines Polyvinylalkohols (Gemisch aus GOHSENOL AH-26, hergestellt von der NIPPON SYNTHETIC CHEMICAL INDUSTRY CO., LTD, und GOHSENOL GH-23 mit einem Gewichtsverhältnis von 35:65)/einer UV-absorbierenden Emulsion (New Coat UVA-204W, hergestellt von der SHIN-NAKAMURA CHEMICAL CO., LTD., Massenmittel der Molmasse 100 000, mittlere Teilchengröße 60–70 nm)/reinem Wasser = 4,4 Teile/3,3 Teile/92,3 Teile auf eine Polyesterfolie (Abdeckfolie, beim gesamten Stoff handelte es sich um E5000, hergestellt von Toyo Boseki Kabushiki Kaisha, Dicke 100 μm), die durch chemisches Ätzen mattiert worden war, mit einer Stab-Beschichtungsmaschine Nr. 8 aufgetragen und 3 min lang bei 100 °C getrocknet, wodurch eine Beschichtungsschicht mit einer Dicke von 0,5 μm nach dem Trocknen gebildet wurde. Die Lichtdurchlässigkeit der Beschichtungsschicht bei einer Wellenlänge von 360 nm betrug 80 %. Diese Lichtdurchlässigkeit wurde mittels eines Aufzeichnungs-Spektrophotometers des Typs U-3210 (hergestellt von Hitachi, Ltd.) gemessen. Eine 100 μm dicke Polyesterfolie mit dieser Beschichtungsschicht wurde mit einem Laminator so auf eine oben hergestellte lichtempfindliche Harzschicht des Trägers laminiert, dass die Seite der Beschichtungsschicht mit der lichtempfindlichen Harzschicht des oben hergestellten Trägers in Kontakt kam, wodurch eine Laminatfolie mit einer Gesamtdicke von 1050 μm und einer Dicke der lichtempfindlichen Harzschicht von 680 μm erhalten wurde. Dieses Laminat wurde zu einer Platte verfestigt und bei 30 °C aufbewahrt. Nach 24 h wurde dieses Laminat 3 min lang bei 103 °C erwärmt und wenigstens 7 Tage lang gelagert, wodurch eine lichtempfindliche Platte (unentwickelte Platte) erhalten wurde. Die Abziehkraft der Abdeckfolie dieser Platte betrug 20 g/cm.
Die Reproduktionauswertung eines feinen Vertiefungsmusters wurde wie folgt durchgeführt. Eine Polyesterfolie (Abdeckfolie, Dicke 100 μm) wurde abgeschält, um eine Vakuumhaftung eines Test-Negativfilms zu ermöglichen, der mittels eines Druckers für die Größe A2 (hergestellt von der NIHON DENSHI SEIKI CO., LTD., chemische Lampe hergestellt von Mitsubishi) 10 min lang mit Licht bestrahlt wurde, wodurch eine Probe erhalten wurde. Dann wurde die Probe 2 min lang bei 25 °C mit Leitungswasser als flüssigem Entwickler und einem Wäscher vom Bürstentyp (Nylonbürste mit ∅ 140 μm, Typ JW-A2-PD, hergestellt von der NIHON DENSHI SEIKI CO., LTD.) entwickelt, wodurch ein Reliefbild erhalten wurde. Nach einem 10-minütigen Trocknen mit Heißluft bei 70 °C wurde sie mit einem mittels eines Druckers für die Größe A2 (hergestellt von der NIHON DENSHI SEIKI CO., LTD.) 3 min lang belichtet, wodurch eine Reliefplatte erhalten wurde.
Als Ergebnis der Auswertung der Reproduzierbarkeit des Vertiefungsmusters der erhaltenen lichtempfindlichen Platte wurde gefunden, dass das lichtabschirmende Muster des Negativfilms eine Schlitzbreite von 30 μm hatte und die Breite eines konkaven Reliefteils so reproduziert wurde, dass sie ebenfalls 30 μm betrug, wodurch das Muster des Negativfilms zuverlässig wiedergegeben wurde.
Unter Verwendung dieser Reliefplatte wurde die Druckeignung des 30-μm-Vertiefungsmusters bestimmt. Als Ergebnis eines Drucktests unter Verwendung einer von SANJO MACHINE WORKS, LTD. hergestellten Verschluss-Druckmaschine P-20 und schwarzer Druckfarbe (T&K, UV BESTCURE No5 BF-Druckfarbe) wurde ein Druckerzeugnis mit einem 30-μm-Vertiefungsmuster, das frei von einer Füllung mit Druckfarbe war und bei dem es sich um eine scharfe Kopie auf Blättern handelte, erhalten.
Vergleichsbeispiel 1
Auf dieselbe Weise wie in Beispiel 1 mit der Ausnahme, dass einer Beschichtungsschicht keine UV-absorbierende Emulsion zugegeben wurde, wurde eine lichtempfindliche Platte erhalten. Die Lichtdurchlässigkeit der Beschichtungsschicht der erhaltenen Platte bei einer Wellenlänge von 360 nm betrug 100 %. Die Abziehkraft der Abdeckfolie dieser Platte betrug 120 g/cm.
Als Ergebnis der Auswertung der Reproduzierbarkeit des Vertiefungsmusters der erhaltenen lichtempfindlichen Platte wurde gefunden, dass das lichtabschirmende Muster des Negativfilms eine Schlitzbreite von 30 μm hatte und die Breite eines konkaven Reliefteils so reproduziert wurde, dass sie 20 μm betrug und somit das Muster des Negativfilms nicht wiedergab. Dann wurde die Druckeignung eines 30-μm-Vertiefungsmusters auf dieselbe Weise wie in Beispiel 1 unter Verwendung dieser Reliefplatte bestimmt. Als Ergebnis haftete Druckfarbe an demjenigen Teil, der vertieft sein sollte, und eine scharfe Kopie auf Bögen wurde nicht erhalten.
Vergleichsbeispiel 2
Auf dieselbe Weise wie in Beispiel 1 wurde mit der Ausnahme, dass eine Beschichtungsschicht wie unten erwähnt auf der Abdeckfolie gebildet wurde, eine lichtempfindliche Platte erhalten. Die Abziehkraft der Abdeckfolie der erhaltenen Platte betrug 120 g/cm.
Eine wässrige Lösung eines Polyvinylalkohols (Gemisch aus GOHSENOL AH-26, hergestellt von der NIPPON SYNTHETIC CHEMICAL INDUSTRY CO., LTD, und GOHSENOL GH-23 mit einem Gewichtsverhältnis von 35:65)/einem UV-Absorptionsmittel mit einem Massenmittel der Molmasse von 323 (RUVA-93, hergestellt von der Otsuka Chemical Co., Ltd.)/reinem Wasser = 4,7 Teile/0,6 Teile/95 Teile wurde auf eine Polyesterfolie (Abdeckfolie, beim gesamten Stoff handelte es sich um E5000, hergestellt von Toyo Boseki Kabushiki Kaisha, Dicke 100 μm), die durch chemisches Ätzen mattiert worden war, mit einer Stab-Beschichtungsmaschine Nr. 8 aufgetragen und 3 min lang bei 100 °C getrocknet, wodurch eine Beschichtungsschicht mit einer Dicke von 0,5 μm nach dem Trocknen gebildet wurde. Die Lichtdurchlässigkeit der Beschichtungsschicht bei einer Wellenlänge von 360 nm betrug 80 %.
Als Ergebnis der Auswertung der Reproduzierbarkeit des feinen Vertiefungsmusters der erhaltenen lichtempfindlichen Platte wurde gefunden, dass das lichtabschirmende Muster des Negativfilms eine Schlitzbreite von 30 μm hatte und die Breite eines konkaven Reliefteils so reproduziert wurde, dass sie 20 μm betrug und somit das Muster des Negativfilms nicht wiedergab. Dann wurde die Druckeignung eines 30-μm-Vertiefungsmusters auf dieselbe Weise wie in Beispiel 1 unter Verwendung dieser Reliefplatte bestimmt. Als Ergebnis haftete Druckfarbe an demjenigen Teil, der vertieft sein sollte, und eine scharfe Kopie auf Bögen wurde nicht erhalten.
Beispiel 2
Auf dieselbe Weise wie in Beispiel 1 wurde mit der Ausnahme, dass eine ebene Polyesterfolie (beim gesamten Stoff handelte es sich um E5000, hergestellt von Toyo Boseki Kabushiki Kaisha, Dicke 125 μm) als Abdeckfolie verwendet wurde, eine lichtempfindliche Platte erhalten. Die Abziehkraft der Abdeckfolie der erhaltenen Platte betrug 40 g/cm, und die Ablösbarkeit war gut. Die Lichtdurchlässigkeit der Beschichtungsschicht der erhaltenen Platte bei einer Wellenlänge von 360 nm betrug 80 %.
Als Ergebnis der Auswertung der Reproduzierbarkeit des Vertiefungsmusters der erhaltenen lichtempfindlichen Platte wurde gefunden, dass das lichtabschirmende Muster des Negativfilms eine Schlitzbreite von 30 μm hatte und die Breite eines konkaven Reliefteils ebenfalls 30 μm betrug, wodurch das Muster des Negativfilms zuverlässig wiedergegeben wurde. Dann wurde die Druckeignung eines Vertiefungsmusters auf dieselbe Weise wie in Beispiel 1 bestimmt. Als Ergebnis wurde ein Druckerzeugnis mit einem Vertiefungsmuster, das frei von einem Füllen mit Druckfarbe war und bei dem es sich um eine scharfe Kopie auf Bögen handelte, erhalten.
Wie oben erwähnt wurde, kann mit der lichtempfindlichen Platte der vorliegenden Erfindung mit einer solchen Beschaffenheit eine Druckplatte, die eine Eigenschaft einer feinen Ablösung der Abdeckfolie aufweist, feine Vertiefungsmuster in einem Relief und auf einem Druckerzeugnis erzeugt und einen qualitativ hochwertigen Druck ergibt, erhalten werden, wodurch ein außerordentlicher Beitrag für die Industrie geleistet wird.

Claims

Lichtempfindliche Platte, umfassend einen Träger, eine lichtempfindliche Harzschicht, eine Beschichtungsschicht und eine Deckfolie, die nacheinander auf den Träger laminiert sind, dadurch gekennzeichnet, dass die Beschichtungsschicht ein Absorptionsmittel für aktinische Strahlen mit einer Absorptionswellenlänge, die in den Wellenlängenbereich von aktinischen Strahlen fällt, die von der lichtempfindlichen Harzschicht absorbiert werden, und einer mittleren Molmasse von nicht weniger als 1000 umfasst und wobei die Beschichtungsschicht eine Lichtdurchlässigkeit von 50 %–99 % von Licht mit einer Wellenlänge von 360 nm hat.
Lichtempfindliche Platte nach Anspruch 1, wobei das Absorptionsmittel für aktinische Strahlen ein UV-absorbierendes Mikroteilchen mit einer mittleren Teilchengröße von 1 nm–500 nm umfasst.
Lichtempfindliche Platte nach Anspruch 2, wobei das UV-absorbierende Mikroteilchen durch die Emulsionspolymerisation eines UV-Absorptionsmittels erhalten wird.
Lichtempfindliche Platte nach Anspruch 1, wobei die Beschichtungsschicht eine Dicke von nicht mehr als 1 μm hat und die Abziehkraft zwischen der Beschichtungsschicht und der Deckfolie 1 g/cm–100 g/cm beträgt.