KR20040002477A - 감광성 인쇄 원판 - Google Patents

Abstract

본 발명은 지지체와, 상기 지지체 상에 순서대로 적층시킨 감광성 수지층, 피복층 및 커버 필름을 적어도 가지는 감광성 인쇄 원판으로서, 상기 피복층이 감광성 수지층의 활성 광선 영역에 흡수를 갖는 평균 분자량 1,000 이상의 활성 광선 흡수제를 함유하는 것을 특징으로 하는 감광성 인쇄 원판을 제공하는 것을 목적으로 한다.

Description

감광성 인쇄 원판{PHOTOSENSITIVE PRINTING PLATE}

본 발명은 인쇄용 릴리프판을 제조하기 위해서 사용되는 감광성 인쇄 원판에 관한 것이다.

일반적으로, 인쇄용 릴리프판에 이용하는 감광성 인쇄 원판은 지지체층, 감광성 수지 조성물층, 피복층, 커버 필름으로 이루어지고, 사용시는 커버 필름을 제거하여 이용된다.

커버 필름을 제거한 감광성 인쇄 원판에 투명한 화상부를 갖는 네거티브 필름(또는 포지티브 필름)을 통해서 활성 광선을 조사하고, 노광부의 감광성 수지층을 경화시킨 후, 비노광부의 감광성 수지층을 적당한 용제로 용해 제거함으로써 인쇄용 릴리프판을 작성하는 것은 널리 알려져 있다.

최근, 인쇄용 릴리프판에 이용되는 감광성 인쇄 원판에 대한 요구는 보다 미세한 패턴을 재현하는 방향으로 진행되고 있고, 백발(白拔き) 패턴의 선폭도 30 ㎛ 정도로 미세한 인쇄용 릴리프가 요구되고 있다. 그러나 이 요구에 대하여 감광성 수지 조성물을 이용한 인쇄용 릴리프판재로서는 충분히 대응할 수 없고, 제판 및 인쇄로 미세한 패턴을 재현할 수 있는 감광성 인쇄 원판을 얻을 수 없었다. 또한,본 발명자들은 이 문제를 해결하기 위해서 감광성 인쇄 원판의 피복층이 미세한 패턴의 제판 및 인쇄에 있어서의 재현성에 관여하고 있는 것을 발견했지만, 커버 박리성과의 양립이 곤란하였다.

본 발명은, 상기한 문제를 해결하고자 하는 것으로, 제판시에는 커버 필름 박리성이 양호하고, 또한 인쇄시 미세한 패턴의 재현성이 우수한 감광성 인쇄 원판을 제공하는 것을 과제로 하는 것이다.

본 발명자들은 상기 과제를 해결하기 위해서 예의 검토한 결과, 감광성 인쇄 원판의 피복층이 미세한 패턴의 제판 및 인쇄에 있어서의 재현성에 관여하고 있는 것을 발견하여, 결국 본 발명을 완성하기에 이르렀다. 즉 본 발명은, ① 적어도 지지체, 감광성 수지층, 피복층 및 커버 필름을 갖는 감광성 인쇄 원판으로서, 상기 피복층이 감광성 수지층의 활성 광선 영역에 흡수를 갖는 평균 분자량 1,000 이상의 활성 광선 흡수제를 함유하는 것을 특징으로 하는 감광성 인쇄 원판. ② 활성 광선 흡수제가 1 ㎚∼500 ㎚의 평균 입경을 갖는 자외선 흡수 미립자인 상기 ①에 기재한 감광성 인쇄 원판. ③ 자외선 흡수 미립자가 자외선 흡수제를 유화 중합에 의해서 얻은 것인 상기 ②에 기재한 감광성 인쇄 원판. ④ 피복층의 두께가 1 ㎛ 이하이고, 또한 피복층과 커버 필름과의 박리력이 1 g/㎝∼100 g/㎝인 상기 ①에 기재한 감광성 인쇄 원판. ⑤ 피복층의 광투과율이 파장 360 ㎚의 빛에 대하여 50%∼99%인 상기 ①에 기재한 감광성 인쇄 원판이다.

본 발명에 특징적인 피복층은 감광성 수지층에 대한 네가티브의 밀착을 막기 위해서 설치되어 있는 층으로서, 슬립 코트층, 박리층, 점착 방지층 등이라 칭해지는 경우도 있다. 구성 재료로서는 폴리아미드, 폴리비닐알콜과 그 유도체, 셀룰로우즈계 중합체 등이 바인더로서 이용된다. 이들은 임의의 1종을 단독으로 사용하더라도 좋고, 2종 이상을 병용하더라도 좋다. 또한, 일반적인 피복층에는 상기 성분 외에, 실리카 등의 무기 미립자, 폴리스티렌이나 아크릴계 모노머를 삼차원 내부 가교시켜 얻은 유기 미립자, 계면 활성제, 다가 알콜 등이 필요에 따라 배합되어 있다.

본 발명에서 이용하는 피복층에 함유시키는 활성 광선 흡수제는 분자량이 1,000 이상, 바람직하게는 5,000 이상, 더욱 바람직하게는 10,000 이상이다. 분자량이 1,000 미만에서는 활성 광선 흡수제가 감광성 수지층으로 이행하여 피복층의 활성 광선 흡수성을 저하시키기 때문에 바람직하지 못하다.

분자량 1,000 이상의 활성 광선 흡수제로서는 피복층 구성물에 상용, 분산되는 물질이 좋다. 예를 들면, 아크릴산에스테르, 스티렌 등의 라디칼 중합 가능한 화합물과 벤조페논 골격 또는 벤조트리아졸 골격을 지니며, 또한, 라디칼 중합 가능한 자외선 흡수제를 유화 중합에 의해서 공중합시킨 미립자형 자외선 흡수제. 또는 폴리비닐알콜, 셀룰로우즈계 중합체 등에 에폭시 화합물을 통하여 벤조페논계 또는 벤조트리아졸계 화합물을 그라프트 부가시킨 자외선 흡수제. 또는 피복층 구성물에 상용으로 분자 말단에 활성 수소를 갖는 분자량 1,000 이상의 올리고머에 디이소시아네이트를 통하여 벤조페논계, 또는 벤조트리아졸계의 활성 광선 흡수제등을 들 수 있지만, 특별히 이들에 한정되는 것이 아니다.

또한, 본 발명에서는 상기 미립자형 자외선 흡수제에 한정되지 않고, 미립자형의 화성(化成) 광선 흡수제를 이용하는 것이 바람직하며, 상기 이외에 산화티탄 및 산화세륨과 같은 무기계 자외선 흡수 미립자가 있지만, 자외선 흡수 효과로부터 유기계가 바람직하며, 특히 벤조트리아졸 골격을 갖는 화합물이 바람직하다.

또한, 그 입경은 1 ㎚∼500 ㎚, 바람직하게는 1 ㎚∼200 ㎚, 특히 바람직하게는 1 ㎚∼100 ㎚이다. 500 ㎚을 넘으면 미립자간의 공극이 넓어져 피복층의 자외선 흡수성을 저하시키기 때문에 바람직하지 못하다.

또한, 상기 입경은 오츠카 덴시 가부시키가이샤 제조 PAR-3을 이용하여 레이저 회절·산란법에 의한 입도 분포 측정법에 의해서 측정한 값이다.

다음, 본 발명에서는 피복층과 커버 필름과의 박리력은 1 g/㎝∼100 g/㎝인 것이 바람직하고, 이의 한 수단으로서 계면활성제를 함유시키는 것을 들 수 있지만, 계면활성제로서는 피복층을 코팅할 때에 억포(抑泡) 작용이 있어 커버 박리력을 작게 하는 것이 좋다. 예컨대 실리카 실리콘계, 아마이드계, 폴리에테르계 및 이들의 변성형 억포제를 들 수 있지만, 특별히 이들에 한정되는 것이 아니다.

본 발명의 피복층의 활성 광선 투과율은 파장 360 ㎚의 빛에 대하여 50%∼99%, 바람직하게는 70∼95%, 더욱 바람직하게는 80∼90%이다. 50% 미만이면 감광성 수지 조성물층에 닿는 활성 광선이 너무 적어 릴리프의 재현성이 저하되고, 또한, 99%를 넘으면 활성 광선이 통과하여 미세 패턴을 재현할 수 없기 때문에 바람직하지 못하다.

피복층의 두께는 0.1∼10 ㎛, 바람직하게는 0.1∼2 ㎛, 특히 바람직하게는 0.1∼1 ㎛이지만, 더욱 0.1∼0.8 ㎛, 특히 0.1∼0.6 ㎛이 바람직하다. 두께가 O.1 ㎛보다 얇으면 네가티브와의 점착이 생기고, 또한 10 ㎛을 넘으면, 릴리프의 해상성이 저하되기 때문에 바람직하지 못하다.

본 발명에서의 감광성 수지층은 공지의 가용성 합성 고분자 화합물, 광중합성 불포화 화합물(이하, 가교제라고도 함) 및 광중합 개시제를 적어도 포함하는 조성물의 층이다. 또한 첨가제, 예컨대 가소제, 열중합 방지제, 염료, 안료, 자외선 흡수제, 향료 또는 산화방지제를 포함하더라도 좋다.

본 발명에 있어서, 가용성 합성 고분자 화합물로서는 공지의 가용성 합성 고분자 화합물을 사용할 수 있다. 예컨대 폴리에테르아미드(예컨대 특허 공개 소55-79437호 공보 등), 폴리에테르에스테르아미드(예컨대 특허 공개 소58-113537호 공보 등), 삼급 질소 함유 폴리아미드(예컨대 특허 공개 소50-76055 공보 등), 암모늄염형 삼급 질소 원자 함유 폴리아미드(예컨대 특허 공개 소53-36555 공보 등), 아미드 결합을 하나 이상 갖는 아미드 화합물과 유기 디이소시아네이트 화합물의 부가 중합체(예컨대 특허 공개 소58-140737호 공보 등), 아미드 결합을 갖지 않는 디아민과 유기 디이소시아네이트 화합물의 부가 중합체(예컨대 특허 공개 평4-97154호 공보 등) 등을 들 수 있고, 그 중에서도 삼급 질소 원자 함유 폴리아미드 및 암모늄염형 삼급 질소 원자 함유 폴리아미드가 바람직하다.

또한, 적합하게 이용되는 광중합성 불포화 화합물로서는 다가 알콜의 폴리글리시딜에테르와 메타크릴산 및 아크릴산과의 개환 부가 반응 생성물이며, 상기 다가 알콜로서 디펜타에리트리톨, 펜타에리트리톨, 트리메틸올프로판, 글리세린, 에틸렌글리콜, 디에틸렌글리콜, 트리에틸렌글리콜, 프탈산의 에틸렌 옥사이드 부가물 등을 들 수 있고, 그 중에서도 트리메틸올프로판이 바람직하다.

광개시제의 예로서는 벤조페논류, 벤조인류, 아세토페논류, 벤질류, 벤조인알킬에테르류, 벤질알킬케탈류, 안트라퀴논류, 티오크산톤류 등을 들 수 있다. 구체적으로는 벤조페논, 클로로벤조페논, 벤조인, 아세토페논, 벤질, 벤조인메틸에테르, 벤조인에틸에테르, 벤조인이소프로필에테르, 벤조인이소부틸에테르, 벤질디메틸케탈, 벤질디에틸케탈, 벤질디이소프로필케탈, 안트라퀴논, 2-에틸안트라퀴논, 2-메틸안트라퀴논, 2-알릴안트라퀴논, 2-클로로안트라퀴논, 티오크산톤, 2-클로로티오크산톤 등을 들 수 있다.

본 발명에 있어서, 커버 필름은 원판의 저장 및 취급시에 감광성 수지층을 보호하기 위해서 설치되는 것으로, 활성 광선을 조사하기 전에 제거(박리)된다. 이 때의 피복층과 커버 필름과의 박리력은 1∼100 g/㎝ 이하, 바람직하게는 3∼100 g/㎝, 더욱 바람직하게는 5∼40 g/㎝이다. 커버 박리력이 1 g/㎝ 미만이면 생산 공정상에서 박리가 일어나 바람직하지 못하고, 100 g/㎝을 넘으면 제판시에 박리층에 박리 흔적이 남아, 네가티브의 밀착성에 지장을 초래한다. 또 박리력의 측정은 인장 시험기(오리엔테크사 제조 RTC-1210A)를 이용하여 커버 필름을 감광성 수지층에 대하여 90° 각도의 방향으로 스피드 500 ㎜/분으로 인장시켰을 때의 값이며, 단위 폭(㎝)당의 강도로 표시한다.

커버 필름의 구성 재료로서는 폴리아미드; 폴리비닐알콜; 에틸렌과 비닐아세테이트와의 공중합체; 양성 인터중합체; 히드록시알킬셀룰로우즈, 셀룰로우즈아세테이트와 같은 셀룰로우즈계 중합체; 폴리부티랄; 고리형 고무 등이 적합하다. 여기서, 양성 인터중합체는 미국 특허 제4,293,635호에 기재되어 있는 것이다. 상기 재료는 어느 1종을 단독으로 사용해도 좋고, 2종 이상을 병용해도 좋다. 또한, 니트로셀룰로오즈와 니트로글리세린과 같은 자기 산화성 화합물; 알킬셀룰로우즈(예, 에틸셀룰로우즈), 폴리아크릴산 및 이의 알칼리 금속염과 같은 비자기 산화성 중합체; 폴리아세탈; 폴리이미드; 폴리카보네이트; 폴리에스테르; 폴리에틸렌, 폴리부틸렌과 같은 폴리알킬렌; 폴리페닐렌에테르; 폴리에틸렌옥사이드; 폴리락톤 및 이들의 조합 등도 사용할 수 있다.

커버 필름의 두께는 10∼300 ㎛이 바람직하고, 특히 바람직하게는 10∼200 ㎛이다. 두께가 10 ㎛ 미만에서는 커버 박리중에 필름이 파단되고, 300 ㎛을 넘으면 박리 후의 폐기물 취급성이 나빠지기 때문에 바람직하지 못하다.

본 발명에 이용하는 지지체로서는 폴리에스테르 필름 등의 플라스틱 필름, 철, 스테인레스, 알루미늄 등의 금속판, 금속 증착한 필름 등을 들 수 있다. 지지체의 두께는 용도에 따라서 적절히 선택할 수 있다. 또한, 필요에 따라 지지체와 감광성 수지층과의 접착을 향상시키기 위해서 이런 종류의 목적으로 종래부터 사용되고 있는 공지의 접착제를 표면에 설치하더라도 좋다.

본 발명의 감광성 인쇄 원판을 제작하는 방법은 특별히 한정되지 않지만, 일반적으로는, 지지체 상에 도포, 스프레이 코팅 등으로 감광성 수지층을 형성하거나, 또는 시판의 감광성 인쇄판으로부터 보호 필름을 박리하는 것으로 한쪽의 적층체를 작성하고, 또한 이것과는 별도로 기재 필름(커버 필름)에 도포, 스프레이 코팅 등으로 피복층을 형성한 후, 이와 같이 하여 얻은 2개의 적층체를 히트 프레스기 등을 이용하여 라미네이트함으로써 제작한다. 라미네이트 조건은 온도를 실온∼150℃, 바람직하게는 50∼120℃로 하고, 압력을 20∼200 kg중/㎠, 바람직하게는 50∼150 kg중/㎠로 하는 것이 좋다. 본 발명의 감광성 수지는 예를 들면 열프레스, 주형, 용융 압출, 용액 캐스트 등 공지의 임의의 방식에 의해 원하는 두께의 시트형물로 할 수 있다.

본 발명의 감광성 수지 원판에 있어서는, 그 감광층 상에 투명 화상부를 갖는 네거티브 필름 또는 포지티브 필름을 밀착, 중합시켜 그 위쪽에서 활성 광선을 조사하여 노광을 수행하면, 노광부가 경화되어 불용화된다. 활성 광선에는 통상 300∼400 ㎚의 파장을 중심으로 하는 고압 수은 램프, 초고압 수은 램프, 메탈할라이드 램프, 크세논 램프, 케미컬 램프 등의 광원을 이용할 수 있다.

노광 후, 적당한 용제, 바람직하게는, 물, 특히 중성수를 용제로 이용하여 비노광 부분을 용해 제거함으로써 단시간에 조속히 현상이 이루어져 인쇄판(릴리프판)을 얻을 수 있다. 현상 방식으로서는 스프레이식 현상 장치, 브러쉬식 현상 장치 등을 이용하는 것이 바람직하다.

다음, 본 발명을 실시예에 의해 구체적으로 설명하지만, 본 발명은 이것의 실시예에 한정되는 것이 아니다. 실시예에서, 간단히 "부"라고 하는 것은 중량부를 나타낸다.

실시예 1

ε-카프롤락탐 55.0 부, N,N'-비스(γ-아미노프로필)피페라진아디페이트 40.0 부, 1,3-비스아미노메틸시클로헥산아디페이트 7.5 부 및 물 100 부를 반응기에 넣고, 충분한 질소 치환을 수행한 후, 밀폐시켜 서서히 가열하였다. 내압이 10 ㎏/㎠에 달한 시점에서, 반응기 내의 물을 서서히 유출시켜 1 시간에 상압으로 복귀시키고, 그 후 1.0 시간 상압에서 반응시켰다. 최고 중합 온도는 220℃이었다. 얻은 중합체는 융점 140℃, 비점도 2.00의 투명 담황색의 폴리아미드이다.

얻은 폴리아미드를 50.0 부, N-에틸톨루엔설폰산아미드 5.0 부, 1,4-나프토퀴논 0.03 부, 메탄올 50.0 부 및 물 10 부를 교반 부착 가열 오븐 중에서 60℃, 2 시간 혼합하여 중합체를 완전히 용해하고 나서, 비스페놀 A 디글리시딜에스테르의 아크릴산 부가물 40.6 부, 메타크릴산 2.9 부, 히드로퀴논모노메틸에테르 0.1 부, 아황산암모늄 0.3 부, 옥살산 0.1 부 및 벤질디메틸케탈 1.0 부를 첨가하여 30분간 용해하였다. 계속해서, 서서히 승온하여 메탄올과 물을 유출시키고, 오븐 내의 온도가 110℃가 될 때까지 농축하였다. 이 단계에서 유동성이 있는 점조성 감광성 수지를 얻었다.

다음, 250 μ의 폴리에틸렌테레프탈레이트 지지체 상에 접착층을 20 ㎛ 설치한 총 두께가 270 ㎛인 폴리에스테르 필름을 제작하였다.

접착층은 폴리에스테르우레탄계 접착재를 이용하고, 접착층용 조성물 용액은 다음과 같이 조정하였다. 도요 보세키 가부시키가이샤 제조 폴리에스테르계 수지「바이론 RV-200」 80 중량부를 톨루엔/메틸에틸케톤=80/20(중량비)의 혼합 용제 1940 중량부에 80℃로 가열 용해하였다. 냉각 후, 이소시아누레이트형 다가 이소시아네이트로서 헥사메틸렌디이소시아네이트와 톨루엔디이소시아네이트를 원료로 하는 스미토모 바이엘 우레탄 가부시키가이샤 제조의 이소시아누레이트형 다가 이소시아네이트의「데스모듈 HL」 20 중량부, 경화 촉매로서 트리에틸렌디아민 0.06 중량부를 첨가하고, 10 분간 교반하였다.

이와 같이 하여 얻은 접착층용 조성물 용액을 막 두께가 20 ㎛가 되도록 두께 250 μ의 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름 상에 도포하여 120℃에서 3 분간 건조 경화시켜 접착층을 설치한 지지체를 얻었다.

이 지지체의 접착층 상에 상기한 감광성 수지조를 유연(流延)시켜 감광층을 형성하였다.

한편, 폴리에스테르 필름(원반은 도요 보세키 가부시키가이샤 제조의 E5000으로 두께 125 ㎛)에, 폴리비닐알콜 (니혼 가세이 가가쿠 고교 가부시키가이샤 제조 고세놀 GH-23)/자외선 흡수 에멀젼(신나카무라 가가쿠 고교 가부시키가이샤 제조 뉴코트 UVA-204W: 평균 분자량 약 10만, 평균 입경 60∼70 ㎚)/순수=4.4 부/3.3 부/92.3 부의 비율로 용해한 수용액을 바코터 #8로 도포하고, 100℃, 3 분간 건조하고, 건조 후의 두께가 0.5 ㎛인 피복층을 형성하였다. 피복층의 파장 360 ㎚에서의 광투과율은 80%이었다. 이 광투과율은 U-3210형 자기 분광 광도계(히타치 세이사쿠쇼)에 의해서 측정하였다. 이 피복층을 갖는 두께 125 ㎛의 폴리에스테르 필름을 상기 피복층측이 감광층과 접하도록 상기 폴리에스테르 필름을 라미네이터로 감광층 상에 적층하고, 총 두께가 1,075 ㎛로 감광층 두께가 680 ㎛인 시트형 적층체를 얻었다. 이 적층체는 30℃에서 보관하 판형으로 고화되었다. 24 시간 후, 이 적층체를 103℃에서 3 분간 가열하고, 7 일간 이상 보관한 후, 감광성 수지 원판(생판)을 얻었다. 이 원판의 커버 박리력은 20 g/㎝이었다.

미세한 백발 패턴의 재현성 평가는 다음과 같이 하여 수행하였다. 125 ㎛의 폴리에스테르 필름을 박리시키고, 테스트 네거티브 필름을 진공 밀착시키고, 니혼 덴시 세이키 가부시키가시야 제조의 A2 사이즈용 프린터(미츠비시 제조 케미컬 램프)를 사용하여 10 분간 노광시킨 샘플을 만들었다. 계속해서 수도물을 현상액으로 하여 브러쉬식 워셔(140 ㎛φ 나일론 브러쉬, 니혼 덴시 세이키 가부시키가이샤 제조 JW-A2-PD형)를 이용하여 25℃에서 2 분간 현상하여 릴리프 화상을 얻을 수 있었다. 또한, 70℃에서 10 분간 온풍 건조시킨 후, 니혼 덴시 세이키 가부시키가이샤 제조의 A2 사이즈용 프린터로 3 분간 노광하여 릴리프판을 얻었다.

얻은 감광성 인쇄 원판의 백발 패턴의 재현성을 평가한 결과, 네거티브 필름의 슬릿폭 30 ㎛의 차광 패턴에 대하여 릴리프 오목부의 폭도 30 ㎛을 재현하고 있어 네거티브 필름의 패턴을 충실히 재현하는 결과가 되었다.

다음, 이 릴리프판을 사용하여 30 ㎛ 백발 패턴의 인쇄성을 평가하였다. 평가는 산조 기카이 세이사쿠쇼 가부시키가이샤 제조의 시일 인쇄기 P-20을 사용하여 흑잉크(T&K사 UV 베스트 경화-No. 5 BF 흑)로 인쇄 테스트를 하여 30 ㎛의 백발 패턴은 잉크로 메워지는 부분이 없는 선명한 인쇄의 인쇄물을 얻을 수 있었다.

비교예 1

실시예 1에서, 피복층 중 자외선 흡수성 에멀젼을 첨가하지 않은 것 이외는 실시예 1과 같은 방법에 의해 감광성 인쇄 원판을 얻었다.

얻은 감광성 인쇄 원판의 백발 패턴의 재현성을 평가한 결과, 슬릿폭 30 ㎛의 차광 패턴에 대하여, 릴리프 오목부의 폭은 20 ㎛이며, 네거티브 필름의 패턴을 재현하지 않았다. 다음, 이 릴리프판을 사용하여 실시예 1과 같이 인쇄성을 평가하였다.

또한, 인쇄물도 백발되어야 하는 부분에 잉크가 부착되어 선명한 인쇄의 인쇄물은 얻을 수 없었다.

비교예 2

폴리에스테르 필름(원반은 도요 보세키 가부시키가이샤 제조의 E5000로 두께 125 ㎛)에 폴리비닐알콜(니혼 가세이 가가쿠 고교 가부시키가이샤 제조 고세놀 GH-23)/분자량 323의 자외선 흡수제(오츠카 가가쿠 가부시키가야샤 제조 RUVA-93)/순수=4.7 부/0.6 부/95 부의 비율로 첨가한 수용액을 바코터 #8로 도포하고, 100℃, 3 분간 건조하여 건조 후의 두께가 0.5 ㎛인 피복층을 형성하였다. 피복층의 파장 360 ㎚에서의 광투과율은 80%이었다. 이하, 실시예 1과 같은 방법으로 감광성 인쇄 원판을 얻었다. 얻은 감광성 수지 적층체가 미세한 백발 패턴의 재현성을 평가한 결과, 슬릿폭 30 ㎛의 차광 패턴에 대하여 릴리프 오목부의 폭은 20 ㎛이며, 네거티브 필름의 패턴을 재현하지 않았다. 다음에 이 릴리프판을 사용하여 실시예 1과 같이 인쇄성을 평가하였다.

또한, 인쇄물도 백발되어야 하는 부분에 잉크가 부착되어 선명한 인쇄의 인쇄물은 얻을 수 없었다.

실시예 2

실시예 1에서, 커버 필름에 폴리에스테르 필름(원반은 도요 보세키 가부시키가이샤 제조의 E5000로 두께 125 ㎛)을 이용한 것 이외는 실시예 1과 같은 방법에 의해 감광성 인쇄 원판을 얻었다. 얻은 원판의 커버 박리력은 40 g/㎝이며, 박리성은 양호하였다.

얻은 감광성 인쇄 원판의 백발 패턴의 재현성을 평가한 결과, 슬릿폭 30 ㎛의 차광 패턴에 대하여, 릴리프 오목부의 폭은 30 ㎛이며, 네거티브 필름의 패턴을 재현하고 있었다. 다음, 이 릴리프판을 사용하여 실시예 1과 같이 인쇄성을 평가한 바, 인쇄물도 백발되어야 하는 부분에 잉크로 메워지는 부분이 없는 선명한 인쇄의 인쇄물을 얻을 수 있었다.

이상, 이러한 구성으로 이루어지는 본 발명 감광성 인쇄 원판에 따르면, 커버 박리성이 양호하고, 또한 미세한 백발 패턴을 릴리프, 인쇄물에서 재현할 수 있고, 고품질의 인쇄가 가능한 인쇄판을 얻을 수 있기 때문에 산업계에 기여하는 바가 크다.

Claims (5)

1. 적어도 지지체, 감광성 수지층, 피복층 및 커버 필름을 갖는 감광성 인쇄 원판으로서, 상기 피복층이 감광성 수지층의 활성 광선 영역에 흡수를 갖는 평균 분자량 1,000 이상의 활성 광선 흡수제를 함유하는 것을 특징으로 하는 감광성 인쇄 원판.
2. 제1항에 있어서, 활성 광선 흡수제가 1 ㎚∼500 ㎚의 평균 입경을 갖는 자외선 흡수 미립자인 것인 감광성 인쇄 원판.
3. 제2항에 있어서, 자외선 흡수 미립자가 자외선 흡수제를 유화 중합에 의해서 얻는 것인 감광성 인쇄 원판.
4. 제1항에 있어서, 피복층의 두께가 1 ㎛ 이하이고, 또한 피복층과 커버 필름과의 박리력이 1 g/㎝∼100 g/㎝인 것인 감광성 인쇄 원판.
5. 제1항에 있어서, 피복층의 광투과율이 파장 360 ㎚의 빛에 대하여 50%∼99%인 것인 감광성 인쇄 원판.