DE4107378A1

DE4107378A1 - Mehrfach verwendbare kopiermaske

Info

Publication number: DE4107378A1
Application number: DE4107378A
Authority: DE
Inventors: Dieter Dr Littmann; Horst Dr Koch; Walter Hoffmann
Original assignee: BASF SE
Current assignee: BASF SE
Priority date: 1991-03-08
Filing date: 1991-03-08
Publication date: 1992-09-10

Description

Die vorliegende Erfindung betrifft eine neue, mehrfach verwendbare Kopier maske für die bildmäßige Belichtung lichtempfindlicher Aufzeichnungs elemente, welche

A) eine optisch transparente Trägerfolie einer Stärke von 10 bis 500 µm und
B) eine Maskenbildschicht einer Stärke von 0,01 bis 1 µm mit optisch transparenten Nichtbildbereichen und Bildbereichen von hoher optischer Dichte enthält, wobei die Maskenbildschicht (B) durch bildmäßige Energieein wirkung auf eine 0,01 bis 1 µm starke, ein feindispergiertes Material einer hohen optischen Dichte enthaltende oder hieraus bestehende energie absorbierende Schicht oder durch Entfernen der Nichtbildbereiche aus einer solchen Schicht oder durch Übertragen der Bildbereiche auf die optisch transparente Trägerfolie herstellbar ist.

Kopiermasken (A, B) dieser Art sind üblich und bekannt und können in der unterschiedlichsten Art und Weise hergestellt werden. So kann die bild mäßige Energieeinwirkung auf die ein feindispergiertes Material einer hohen optischen Dichte enthaltende oder hieraus bestehende energieabsor bierende Schicht, je nach deren stofflichen Zusammensetzung, mit ultra violettem, sichtbarem oder infrarotem Licht oder mit Wärme allgemein erfolgen, wobei hierfür auch Laserbelichter oder Thermodrucker angewandt werden können. Die Übertragung der Bildbereiche auf die optische transpa rente Trägerfolie (A) kann mit Hilfe von Druckern, Thermodruckern oder Laserdruckern erfolgen. Mit Hilfe derselben Methoden können auch die Nichtbildbereiche aus der ein feindispergiertes Material einer hohen optischen Dichte enthaltenden oder hieraus bestehenden energieabsorbieren den Schicht entfernt werden. Des weiteren ist es möglich, die Bildbereiche der Maskenbildschicht (B) durch Übertragen von Tonern, wie sie in der Elektrophotographie verwendet werden, zu erzeugen. Zu diesen Übertragungs verfahren sei beispielhaft auf die Patentschriften US-A-37 45 586, DE-A-35 07 418 oder die DE-A-30 46 877 verwiesen.

Nachteilig für die bekannten Kopiermasken (A, B) ist, daß sie bei ihrer zweckentsprechenden Anwendung bei der Herstellung von Druckplatten, Sieb druckplatten oder Photoresisten vollflächig in engen Kontakt mit der Ober fläche der lichtempfindlichen Aufzeichnungselemente treten. Im allgemeinen enthalten diese bekannten lichtempfindlichen Aufzeichnungselemente einen dimensionsstabilen Träger (A ) und eine positiv oder negativ arbeitende lichtempfindliche Aufzeichnungsschicht (B′). Bei dem dimensionsstabilen Träger (A′) kann es sich um Folien, Platten oder Netze aus Kunststoffen oder Metallen handeln, wie sie auf dem Gebiet der Druckplatten-, Sieb druckplatten- und Leiterplattenherstellung üblicherweise angewandt werden. Die lichtempfindliche Aufzeichnungsschicht (B′) kann aus den unterschied lichsten lichtempfindlichen Gemischen bestehen wie sie z. B. für die Her stellung von Offsetdruckplatten (vgl. die Patentschriften DE-C-26 07 207, EP-A-01 77 962, EP-A-01 35 026, De-A-36 27 585, EP-B-01 26 875, EP-B-00 96 326, DE-C-26 52 304 oder EP-A-00 42 104) oder von Hochdruckplatten (vgl. die Patentschriften DE-A-23 62 005, US-A-45 17 277, EP-A-02 66 069, US-A-42 72 611, DE-A-37 38 215, US-A-38 01 328, EP-A-02 95 545, EP-A-02 95 547, EP-A-02 24 164, EP-A-01 83 552, US-A-42 72 608, EP-A-02 23 114, EP-A-02 26 153, EP-A-02 31 002, EP-A-02 93 750, US-A-27 60 863, US-A-43 23 636, US-A-43 69 246, US-A-43 23 637, US-A-39 90 897, US-A-41 62 919, US-A-43 20 188, US-A-44 60 675, US-A-44 27 759, US-A-46 22 008, EP-A-01 33 265 oder EP-A-01 83 552) verwendet werden.

Insbesondere die niedermolekularen Verbindungen können aus diesen licht empfindlichen Aufzeichnungsschichten (B′) in die Kopiermaske (A, B) diffundieren und dort die Bildbereiche der Maskenbildschicht (B) bis hin zur völligen Unbrauchbarkeit der Kopiermaske schädigen. Dies ist insbesondere dann der Fall, wenn die betreffenden Bildbereiche nicht thermisch oder photochemisch vernetzt worden sind.

Man hat bereits versucht, diesem Problem durch Aufbringen einer Deck schicht (C′) auf der lichtempfindlichen Aufzeichnungsschicht (B′) der lichtempfindlichen Aufzeichnungselemente zu begegnen. Hierbei handelt man sich allerdings andere Nachteile ein. Beispielsweise leidet dadurch die Lagerstabilität zahlreicher Aufzeichnungselemente, weil der Inhibitor Sauerstoff nicht mehr in die lichtempfindliche Aufzeichnungsschicht (B ) eindiffundieren kann. Außerdem sind die Kopiereigenschaften solcher licht empfindlichen Aufzeichnungselemente schlechter, weil in ihrer licht empfindlichen Aufzeichnungsschicht (B′) die regelnde Wirkung des Sauer stoffs fehlt. Darüber hinaus weist nach längerer Lagerung die Deck schicht (C′) einen gewissen Gehalt an eindiffundierten niedermolekularen Verbindungen auf, weswegen sie nicht mehr länger dem Schutz der Kopier maske (A, B) vor Bestandteilen der lichtempfindlichen Aufzeichnungs schicht (B′) dienen kann. Oder aber die Deckschicht (C′) muß so dick ausgestaltet werden, daß ihre Wirkung als Diffusionssperrschicht erhalten bleibt.

Dadurch werden aber die Kopiereigenschaften des betreffenden lichtempfind lichen Aufzeichnungselements wesentlich verschlechtert, was sich z. B. an der Verbreiterung feiner Linien, an der unvorteilhaft rauhen und ungleich mäßigen Oberfläche der betreffenden Druckplatte oder des betreffenden Photoresists störend bemerkbar macht.

Aufgabe der vorliegenden Erfindung ist es, ein Verfahren für die Her stellung von Druckplatten, Siebdruckplatten und Photoresisten zu finden, bei welchem man lichtempfindliche Aufzeichnungselemente, enthaltend einen dimensionsstabilen Träger (A′) und eine positiv oder negativ arbeitende lichtempfindliche Aufzeichnungsschicht (B′), durch eine Kopiermaske (A, B) hindurch bildmäßig mit aktinischem Licht belichtet, wodurch in der licht empfindlichen Aufzeichnungsschicht (B ) eine Löslichkeitsdifferenzierung zwischen den belichteten und den unbelichteten Bereichen eintritt, wonach man, je nach Arbeitsweise der lichtempfindlichen Aufzeichnungs schicht (B′), die belichteten oder die unbelichteten Bereiche mit einem Entwicklerlösungsmittel auswäscht (entwickelt). Dieses neue Verfahren soll die Nachteile des Standes der Technik nicht mehr länger aufweisen.

Überraschenderweise konnte diese Aufgabe durch die Verwendung einer neuen Kopiermaske (A, B, C) gelöst werden, welche auf einer optisch transparen ten dünnen Trägerfolie (A), eine Maskenbildschicht (B) einer Stärke von 0,01 bis 1 µm mit optisch transparenten Nichtbildbereichen und Bildberei chen von hoher optischer Dichte sowie eine Schutzschicht (C) aufweist. Mit Hilfe einer solchen neuen Kopiermaske (A, B, C) können mehrere licht empfindliche Aufzeichnungselemente hintereinander bildmäßig belichtet werden, ohne daß es zu einer Schädigung der Kopiermaske einerseits oder der Oberfläche des lichtempfindlichen Aufzeichnungselements, insbesondere seiner lichtempfindlichen Aufzeichnungsschicht (B′), andererseits kommt und ohne daß die vorstehend beschriebenen Nachteile des Standes der Technik auftreten.

Bei dem Gegenstand der vorliegenden Erfindung handelt es sich demnach um eine mehrfach verwendbare Kopiermaske für die bildmäßige Belichtung licht empfindlicher Aufzeichnungselemente, welche aus

A) einer optisch transparenten Trägerfolie einer Stärke von 10 bis 500 µm,
B) einer Maskenbildschicht einer Stärke von 0,01 bis 1 µm mit optisch transparenten Nichtbildbereichen und Bildbereichen von hoher optischer Dichte, erhältlich durch bildmäßige Energieeinwirkung auf eine 0,01 bis 1 µm starke, ein feindispergiertes Material einer hohen optischen Dichte enthaltende oder hieraus bestehend energieabsorbierende Schicht oder durch Entfernen der Nichtbildbereiche von dieser Schicht oder durch Übertragen der Bildbereiche auf die Trägerfolie (A), und
C) einer 0,01 bis 5 µm starken, nicht klebrigen, optisch transparenten, an (B) fest haftenden Schutzschicht, welche mindestens ein reißfeste Filme bildendes Polymeres und, bezogen auf (C), 0,1 bis 10 Gew.-% eines optisch transparenten Mattierungsmittels einer mittleren Teil chengröße von 0,1 bis 10 µm enthält, besteht.

Ein weiterer Gegenstand der vorliegenden Erfindung ist ein neues Verfahren zur Herstellung von Druckplatten, Siebdruckplatten und Photoresisten aus lichtempfindlichen Aufzeichnungselementen, welche

A′) einen dimensionsstabilen Träger und
B′) eine positiv oder negativ arbeitende lichtempfindliche Aufzeichnungsschicht

enthalten, durch

1) bildmäßiges Belichten der Schicht (B′) mit aktinischem Licht, wodurch in der Schicht (B′) eine Löslichkeitsdifferenzierung zwischen belich teten und unbelichteten Bereich eintritt, und
2) Auswaschen (Entwickeln) der belichteten (positiv arbeitende Schicht B′) oder der unbelichteten (negativ arbeitende Schicht B′) Bereiche mit einem Entwicklerlösungsmittel, bei welchem man im Verfahrensschritt (1) für die bildmäßige Belichtung mit aktinischem Licht die neue mehrfach verwendbare Kopiermaske (A, B, C) verwendet.

Im folgenden wird die neue, mehrfach verwendbare Kopiermaske (A, B, C) für die bildmäßige Belichtung lichtempfindlicher Aufzeichnungselemente der Kürze halber als erfindungsgemäße Kopiermaske (A, B, C) bezeichnet. Aus dem selben Grunde wird im folgenden das neue Verfahren zur Herstellung von Druckplatten, Siebdruckplatten und Photoresisten aus lichtempfindlichen Aufzeichnungselementen als erfindungsgemäßes Verfahren bezeichnet.

Der erfindungsgemäß wesentliche Bestandteil der erfindungsgemäßen Kopier maske (A, B, C) ist die Schutzschicht (C).

Die erfindungsgemäß anzuwendende Schutzschicht (C) hat eine Stärke von 0,01 bis 5 µm. Zwar ist in Einzelfällen die Verwendung stärkerer Schutz schichten denkbar, indes kann es dann vermehrt zu einer Lichtstreuung an der betreffenden Schutzschicht kommen, welche das Motiv in der Maskenbild schicht (B) bis hin zur Unkenntlichkeit verzerrt. Ebenso ist die Verwen dung von Schutzschichten einer geringeren Stärke als 0,01 µm nicht empfeh lenswert, weil dann die betreffende Schutzschicht nicht mehr zuverlässig als Diffusionssperre wirkt und die Maskenbildschicht (B) nicht mehr länger vor mechanischer Schädigung schützen kann. Demnach handelt es sich bei dem Bereich von 0,01 bis 5 µm um einen optimalen Bereich, innerhalb dessen die Stärke der Schutzschicht (C) breit variiert und den übrigen stofflichen und optischen Parametern der erfindungsgemäßen Kopiermaske (A, B, C) in hervorragender Weise angepaßt werden kann. Innerhalb dieses optimalen Bereichs ist derjenige von 0,2 bis 2,0 µm hervorzuheben, weil Schutz schichten (C) dieser Stärke hinsichtlich des Materialverbrauchs und der Diffusionssperrwirkung besonders vorteilhaft sind.

Die erfindungsgemäß zu verwendende Schutzschicht (C) enthält mindestens ein nicht klebriges, optisch transparentes, an (B) festhaftendes, reiß feste Filme bildendes Polymer. Beispiele geeigneter erfindungsgemäß anzu wendender Polymere dieser Art sind Polyamide, Copolyamide, Polyurethane, Poly(methlacrylate, Cyclokautschuke eines hohen Cyclisierungsgrades, Ethylen-Propylen-Copolymerisate, Homo- und Copolymerisate des Vinylchlorids, Ethylen-Vinylacetat-Copolymerisate, partiell oder nahezu vollständig hydrolysierte Poly(vinylalkoholalkancarbonsäureester), partiell oder nahezu vollständig hydrolysierte Vinylalkoholalkancarbonsäureester-Alkylenoxid-Pfropfmischpolymerisat-e, Gelatine, Celluloseether, Celluloseester, Polyvinylpyrrolidon, Vinylaromat-Alkendicarbonsäureanhydrid-Copolymerisate, Vinylether-Alkendicarbonsäureanhydrid-Copolymerisate, Poly(meth)acrylsäure, (Meth)Acrylsäure-(Meth)Acrylat-Copolymerisate und Polyalkylenoxide.

Von diesen sind die hochkristallinen, nahezu vollständig hydrolysierten Poly(vinylalkoholalkancarbonsäureester) und Vinylalkoholalkancarbonsäure ester-Alkylenoxid-Pfropfmischpolymerisate sowie die Polyamide und die Copolyamide erfindungsgemäß von Vorteil und werden deshalb bevorzugt angewandt.

Beispiele ganz besonders vorteilhafter erfindungsgemäß anzuwendender Poly amide und Copolyamide sind lineare Homo- und Copolyamide, welche in bekannter Weise aus bifunktionellen Carbonsäuren und Diaminen oder aus ω-Aminosäuren, Lactamen oder aus geeigneten Derivaten dieser Verbindungen hergestellt werden, wie Nylon-3, 4, 5, 6, 8, 11, 12, 13, 6.6, 6.10 oder 6.13; oder ein Polyamid aus Metaxylylendiamin und Adipinsäure oder aus Trimethylhexamethylendiamin oder Isophorondiamin und Adipinsäure; oder Nylon-6/6.6, 6/6.6/6.10 oder 6/6.6/6.10/6.12; oder ein Polyamid aus ε-Caprolactam/Adipinsäure/Hexamethylendiamin/4,4-Diaminodicyclohexylm-ethan oder aus ε-Caprolactam/Adipinsäure/Hexamethylendiamin/Polyethylenglykol diamin; oder die N-Methylol- oder N-Alkoxymethylderivate all dieser Homo-und Copolyamide.

Beispiele besonders vorteilhafter, erfindungsgemäß zu verwendender, nahezu vollständig hydrolysierter Poly(vinylalkoholalkancarbonsäureester) sind Polyvinylacetate und Polyvinylpropionate, welche einen Hydrolysegrad von 88 bis 98, insbesondere 95 bis 98 Mol-% aufweisen und wiederkehrende 1-Hydroxy-ethyliden-1,2-Einheiten in der Polymerkette enthalten. Diese Polymere werden im allgemeinen Sprachgebrauch auch als Polyvinylalkohole bezeichnet. Weitere Vorteile ergeben sich, wenn diese Polyvinylakohole zahlenmittlere Molgewichte M_n von 10₄ bis 10₅, insbesondere 1,5·10⁴ bis 5·10₄ aufweisen.

Beispiele besonders vorteilhafter nahezu vollständig hydrolysierter Vinyl alkoholalkancarbonsäureester-Alkylenoxid-Pfropfmischpolymerisate sind solche, welche durch Pfropfen von Vinylacetat oder -propionat auf Poly ethylenoxid und anschließende Hydrolyse erhalten werden und aus - jeweils bezogen auf das Pfropfmischpolymerisat - 10 bis 30 Gew.-% an 1-Oxa propyliden-1,3-, 0 bis 30 Gew.-% an 1-Acetyl-ethyliden-1,2- und 90 bis 40 Gew.-% an 1-Hydroxy-ethyliden-1,2-Einheiten bestehen.

Außer mindestens einem dieser erfindungsgemäß zu verwendenden, reißfeste Filme bildenden Polymeren enthält die erfindungswesentliche Schutz schicht (C), bezogen auf ihre Gesamtmenge, 0,01 bis 10 Gew.-% eines optisch transparenten Mattierungsmittels einer mittleren Teilchengröße von 0,1 bis 10 µm. Werden weniger als 0,01 Gew.-% des Mattierungsmittels ange wandt, kann die Kontaktierung der betreffenden Kopiermasken (A, B, C) mit der Oberfläche der lichtempfindlichen Aufzeichnungselemente Schwierigkei ten bereiten, weil die zwischen der Kopiermaske (A, B, C) und der betref fenden Oberfläche eingeschlossene Luft nur schlecht oder gar nicht entwei chen kann. Ist es dennoch gelungen, die Kopiermaske (A, B, C) mit der Oberfläche vollflächig zu kontaktieren, kann ein so inniger Kontakt ein treten, daß es bei der Ablösung zu einer Beschädigung sowohl der Kopier maske (A, B, C) als auch des lichtempfindlichen Aufzeichnungselements kommen kann. Die betreffende Kopiermaske (A, B, C) ist hiernach für die Wiederverwendung völlig untauglich. Andererseits empfiehlt es sich nicht, mehr als 10 Gew.-%, des Mattierungsmittels in der erfindungswesentlichen Schutzschicht (C) zu verwenden, weil hierdurch deren Reißfestigkeit und Homogenität in Mitleidenschaft gezogen werden. Demnach handelt es sich bei dem Gewichtsanteil von 0,1 bis 10 Gew.-% um einen optimalen Bereich, innerhalb dessen der Anteil des Mattierungsmittels breit variiert und den anderen stofflichen und verfahrenstechnischen Parametern hervorragend an gepaßt werden kann. Innerhalb dieses Bereichs ist derjenige von 2 bis 7 Gew.-% hervorzuheben, weil erfindungswesentliche Schutzschichten (C) eines solchen Gehalts an Mattierungsmittel bzw. die betreffenden erfin dungsgemäßen Kopiermasken (A, B, C) hinsichtlich der Schutzwirkung sowie der Kontaktierbarkeit und der Ablösung von der Oberfläche der licht empfindlichen Aufzeichnungselemente ein ganz besonders vorteilhaftes und ausgewogenes Eigenschaftprofil haben.

Es werden deshalb erfindungsgemäß ganz besonders bevorzugt 2 bis 7 Gew.-% an Mattierungsmittel in der erfindungswesentlichen Schutzschicht (C) angewandt.

Die optisch transparenten Mattierungsmittel haben eine mittlere Teilchen größe von 0,1 bis 10 µm. Hierbei empfiehlt es sich nicht, die mittlere Teilchengröße kleiner als 0,1 µm zu wählen, weil dadurch die Handhabbarkeit des Mattierungsmittels bei der Einmischung in die vorstehende genannten, reißfeste Filme bildenden Polymere erschwert ist. Andererseits empfiehlt es sich nicht, mittlere Teilchengrößen von mehr als 10 µm anzuwenden, weil hierdurch vergleichsweise grobe rauhe Schutzschichten (C) resultieren, welche Licht stark streuen und außerdem noch eine ungleichmäßige Auflage der betreffenden Kopiermaske (A, B, C) auf der Oberfläche der lichtempfindlichen Aufzeichnungselemente bewirken, was den Kopiereigenschaften völlig abträglich ist. Bei dem Teilchengrößenbereich von 0,01 bis 10 µm handelt es sich daher um ein Optimum, innerhalb dessen die Teilchengröße breit variiert und den anderen stofflichen und verfahrenstechnischen Parametern der erfindungswesentlichen Schutzschicht (C), der erfindungsgemäßen Kopiermaske (A, B, C) sowie der lichtempfindlichen Aufzeichnungselemente hervorragend angepaßt werden kann. Innerhalb dieses optimalen Bereichs ist noch einmal die mittlere Teilchengröße von 0,5 bis 7 µm hervorzuheben, weil aus der Verwendung von Mattierungsmitteln dieser Teilchengröße ein besonders vorteilhaftes und ausgewogenes Eigenschaftprofil der betreffenden erfindungswesentlichen Schutzschichten (C) resultiert.

Als optisch transparente Mattierungsmittel können für den erfindungs gemäßen Verwendungszweck alle feinteiligen Festkörper angewandt werden, welche gegenüber den übrigen Bestandteilen sowohl der erfindungsgemäßen Kopiermaske (A, B, C) als auch des lichtempfindlichen Aufzeichnungsele ments zumindest weitgehend, besser noch völlig, inert sind und einen optischen Brechnungsindex aufweisen, welcher demjenigen der übrigen Bestandteile der erfindungswesentlichen Schutzschicht (C) angepaßt ist. Hierbei ist es von ganz besonderem Vorteil, wenn die Brechnungsindices aller Bestandteile der erfindungswesentlichen Schutzschicht (C) in etwa oder genau übereinstimmen.

Beispiele geeigneter erfindungsgemäß anzuwendender optischer Mattierungs mittel sind feinteilige organische Festkörper wie Polystyrol und feintei lige anorganische Festkörper wie Glaskugeln, gemahlener Quarz und gefällte und pyrogene Kieselsäure.

Die erfindungswesentliche Schutzschicht (C) kann außer den vorstehend be schriebenen reißfeste Filme bildenden Polymeren und den optisch trans parenten Mattierungsmitteln noch weitere Zusatzstoffe enthalten. Beispiele geeigneter Zusatzstoffe sind Antistatika, Verlaufshilfsmittel (Netz mittel), Monomere, Initiatoren der Photopolymerisation und Inhibitoren der thermischen Polymerisation. Beispiele gut geeigneter Zusatzstoffe dieser Art sind aus der EP-A-03 16 618, US-A-41 62 919, DE-A-21 23 702, US-A-40 72 527, US-A-34 53 311 oder aus der DE-A-16 22 298 bekannt. Werden solche Zusatzstoffe in der erfindungswesentlichen Schutzschicht (C) mit verwendet, soll ihr Anteil im allgemeinen 20 Gew.-%, bezogen auf (C), nicht überschreiten.

Methodisch gesehen weist die Herstellung der erfindungswesentlichen Schutzschicht (C) auf der Maskenbildschicht (B) keine Besonderheiten auf, sondern kann nach den üblichen und bekannten Methoden des Auftragens dünner Polymerschichten erfolgen. Zu diesem Zweck löst man mindestens eines der vorstehend genannten, reißfeste Filme bildenden Polymeren in einem geeigneten Lösungsmittel und suspendiert das optisch transparente Mattierungsmittel in der resultierenden Polymerlösung. Die Art und Menge des hierbei angewandten Lösungsmittels richtet sich nach der Auftragungs technik und den Löslichkeitseigenschaften der Maskenbildschicht (B) einer seits und nach den bekannten Löslichkeitseigenschaften der reißfeste Filme bildenden Polymeren andererseits, so daß das geeignete Lösungsmittel und die geeignete Menge vom Fachmann aufgrund seines Fachwissens oder anhand einfacher Vorversuche ermittelt werden können. Die so in üblicher und bekannter Weise bereitgestellte Beschichtungslösung kann dann auf die Oberfläche der Maskenbildschicht (B) aufgesprüht, aufgerakelt oder aufge schleudert werden, oder sie kann durch Eintauchen in ein Bad und nachträg liches Abquetschen der überschüssigen Beschichtungslösung aufgetragen werden. Nach dem Auftragen wird die lösungsmittelhaltige Schicht (C) getrocknet, und es resultiert die erfindungswesentliche Schutzschicht (C) bzw. die erfindungsgemäße Kopiermaske (A, B, C).

Der weitere wesentliche Bestandteil der erfindungsgemäßen Kopiermaske (A, B, C) ist die Maskenbildschicht (B).

Die erfindungsgemäß zu verwendende Maskenbildschicht (B) hat eine Stärke von 0,01 bis 1 µm. Im allgemeinen empfiehlt es sich nicht, die Maskenbild schicht (B) dünner als 0,01 µm auszugestalten, weil hierdurch ihre repro graphischen Eigenschaften, insbesondere ihre optische Abschirmwirkung, in Mitleidenschaft gezogen werden. Andererseits soll die Maskenbild schicht (B) auch nicht dicker als 1 µm sein, weil es dadurch zu einer Verzerrung des Kopiermaskenmotivs bei der Reproduktion kommen kann. Der Stärkenbereich von 0,01 bis 1 µm stellt deshalb ein Optimum dar, innerhalb dessen die Stärke der Maskenbildschicht (B) breit variiert und dem jeweils vorliegenden reprographischen Problem hervorragend angepaßt werden kann. Innerhalb dieses optimalen Bereichs ist derjenige von 0,1 bis 0,7 µm her vorzuheben, weil Maskenbildschichten (B) einer solchen Stärke besonders gute reprographische Eigenschaften haben.

Die Maskenbildschicht (B) besteht aus optisch transparenten Nichtbildbe reichen und Bildbereichen von hoher optischer Dichte. Vorteilhafterweise handelt es sich bei den Nichtbildbereichen nicht um in gesonderten Verfah rensschritten hergestellte Bereiche, sondern um die freigelegte oder die freibleibende Oberfläche der nachstehend näher beschriebenen optisch transparenten Trägerfolie (A). Demgegenüber bestehen die Bildbereiche aus einem Material von hoher optischer Dichte von OD < 2, insbesondere < 3. Diese optisch nicht transparenten Bildbereiche stellen das Motiv der er findungsgemäßen Kopiermaske (A, B, C) dar oder sie umgeben dieses Motiv als optischen Kontrast.

Die Bildbereiche können aus jedem Material hoher optischer Dichte beste hen, solange es auf der nachstehend näher beschriebenen optisch transpa renten Trägerfolie (A) einerseits und der erfindungswesentlichen Schutz schicht (C) andererseits gut haftet und gegenüber diesen beiden anderen wesentlichen Bestandteilen der erfindungsgemäßen Kopiermaske (A, B, C) nahezu völlig, vorteilhafterweise völlig, inert ist. Besonders gut geeignet sind hierbei Materialien hoher optischer Dichte, welche nicht spröde sind und beim Biegen der erfindungsgemäßen Kopiermaske (A, B, C) nicht Risse bilden oder gar abblättern. Hiervon werden insbesondere die Materialien hoher optischer Dichte bevorzugt verwendet, welche lagerstabil und weitgehend oder völlig beständig gegenüber der Einwirkung von Umwelt einflüssen wie Luftsauerstoff, Luftfeuchtigkeit, elektromagnetische Strahlung und/oder Hitze sind.

Beispiele solcher erfindungsgemäß besonders bevorzugt anzuwendender Mate rialien hoher optischer Dichte sind unvernetzte, thermisch vernetzte, photovernetzte oder photopolymerisierte Materialien, welche als solche bereits eine hohe optische Dichte aufweisen oder welche ein feindisper giertes Material einer hohen optischen Dichte enthalten. Erfindungsgemäß wird der zweiten Variante der Vorzug gegeben. Das feindispergierte Mate rial einer hohen optischen Dichte kann hierbei, je nach seinen physika lisch-chemischen Eigenschaften, molekulardispers oder als Festkörper fein verteilt in dem oder den übrigen Bestandteilen der Bildbereiche als der Matrix vorliegen.

Beispiele geeigneter Materialien hoher optischer Dichte, welche sich in den übrigen Bestandteilen der Bildbereiche fein dispergiert verteilen lassen, sind Farbstoffe, Pigmente und feinverteilter Graphit, insbesondere Ruß. Hiervon wird Ruß besonders bevorzugt angewandt.

Methodisch gesehen weist die Herstellung der Maskenbildschicht (B) keine Besonderheiten auf, sondern kann nach allen üblichen und bekannten repro graphischen Techniken erfolgen.

So kann die die Maskenbildschicht (B) durch bildmäßige Energieeinwirkung auf eine 0,01 bis 1 µm starke, eines der vorstehend genannten feindisper gierten Materialien einer hohen optischen Dichte enthaltenden oder hieraus bestehenden energieabsorbierenden Schicht hergestellt werden. Welche Ener gieart man hierbei wählt, richtet sich in erster Linie nach der stoff lichen Zusammensetzung der energieabsorbierenden Schicht. Beispielsweise kann man photovernetzbare oder photopolymerisierbare energieabsorbierende Schichten anwenden, in welche man durch bildmäßiges Belichten mit aktini schem Licht das Motiv einbringt. Hierbei kann die bildmäßige Belichtung durch eine separat hergestellte Maske hindurch oder mittels eines über die energieabsorbierende Schicht hinweggeführten Laserstrahls erfolgen. Hier bei können die belichteten Bereiche, je nach ihrer stofflichen Zusammen setzung, photovernetzen oder photopolymerisieren, wonach man die unbelich teten Bereiche in üblicher und bekannter Weise, beispielsweise durch Aus waschen (Entwickeln) mit einem geeigneten Entwicklerlösungsmittel entfernt und so auch zugleich die Nichtbildbereiche freilegt. Bei geeigneter stoff licher Zusammensetzung kann man auch Wärmeenergie bildmäßig auf die energieabsorbierende Schicht einwirken lassen. Hierbei können die erhitz ten Bereiche thermisch vernetzen und dadurch unlöslich werden, wonach die nichterhitzten Bereiche gleichfalls ausgewaschen werden können. Vorteil hafterweise wird für die bildmäßige Erhitzung ein Thermokopf verwendet. Man kann indes auch energieabsorbierende Schichten wählen, welche sich an den Stellen zersetzen oder löslich werden, an denen die Energie einwirkt.

Solche energieabsorbierenden Schichten bezeichnet man im allgemeinen als positiv arbeitend. Darüber hinaus kann man auch energieabsorbierende Schichten verwenden, welche sich durch bildmäßige Einwirkung von Energie nicht vernetzen lassen. Bei solchen energieabsorbierenden Schichten be wirkt die Energieeinwirkung ein Freilegen der Nichtbildbereiche, bei spielsweise durch Verdampfen oder Wegschmelzen des betreffenden Schicht materials. Dieses Freilegen der Nichtbildbereiche durch Entfernen des betreffenden Schichtmaterials kann auch mechanisch oder durch chemisches Ätzen erfolgen. Nicht zuletzt kann man die Bildbereiche auch auf die nachstehend näher beschriebene optisch transparente Trägerfolie (A) über tragen. Hierbei können die üblichen und bekannten Drucker wie Tinten strahl- und Laserdrucker und übliche und bekannte Tinten hoher optischer Dichte angewandt werden. Es ist äußerdem noch möglich, zur Übertragung der Bildbereiche mit Hilfe elektrophotographischer oder xerographischer Metho den ein Tonerbild auf der nachstehend beschriebenen optisch transparenten Trägerfolie (A) aufzubringen. All diese genannten Methoden und die ent sprechenden hierfür geeigneten Materialien sind auf dem reprographischen Gebiet üblich und bekannt.

Der weitere wesentliche Bestandteil der erfindungsgemäßen Kopiermaske (A, B, C) ist die bereits erwähnte optische transparente Trägerfolie (A). Die optische transparente Trägerfolie (A) hat im allgemeinen eine Stärke von 10 bis 500 µm. Die Verwendung dünnerer Folien ist aufgrund ihrer geringen mechanischen Stabilität und ihrer vergleichsweise schwierigen Handhabbar keit nicht zu empfehlen. Optisch transparente Trägerfolien (A) mit einer Stärke oberhalb 1 µm führen dagegen zu schlechteren reprographischen Eigenschaften der betreffenden Kopiermasken (A, B, C). Demnach handelt es sich bei dem Bereich von 10 bis 500 µm um ein Optimum, innerhalb dessen die Stärke der optisch transparenten Trägerfolie (A) breit variiert und den jeweiligen stofflichen und optischen Parametern der erfindungsgemäßen Kopiermaske (A, B, C) und des lichtempfindlichen Aufzeichnungselements in hervorragender Weise angepaßt werden kann. Vorteilhafterweise handelt es sich bei der optisch transparenten Trägerfolie (A) um eine Kunststoffolie. Hierbei kommen alle Kunststoffolien in Betracht, solange sie optisch transparent sind. Hiervon werden diejenigen Kunststoffolien bevorzugt ver wendet, welche mechanisch, physikalisch und chemisch stabil sind. Beispie le erfindungsgemäß ganz besonders bevorzugt verwendeter optisch transpa renter Trägerfolien (A) sind die vom photographischen und reprographischen Gebiet her bekannten Polyethylenterephthalatfolien.

Die erfindungsgemäße Kopiermaske (A, B, C) weist in ihrer Handhabung und Anwendung zahlreiche Vorteile auf.

So sind ihre Bildbereiche vor mechanischer und chemischer Einwirkung geschützt. Sie kann deshalb auch unter ungünstigen Bedingungen lange gelagert und im reprographischen Betrieb mehrfach wiederverwendet werden. Hierbei treten ganz besondere Vorteile bei der Anwendung der erfindungs gemäßen Photokopiermaske (A, B, C) in dem erfindungsgemäßen Verfahren auf.

Das erfindungsgemäße Verfahren dient der Herstellung von Druckplatten, Siebdruckplatten und Photoresisten aus lichtempfindlichen Aufzeichnungs elementen.

Bekanntermaßen werden solche lichtempfindlichen Aufzeichnungslelemente für die Herstellung von Flexo-, Hochdruck-, Offsetdruck-, Tiefdruck- und Siebdruckplatten sowie von Photoresisten verwendet.

Der wesentliche Bestandteil eines solchen lichtempfindlichen Aufzeich nungselements ist die lichtempfindliche Aufzeichnungsschicht (B′). Diese kann entweder negativ arbeitend oder positiv arbeitend sein.

Bekanntermaßen tritt bei einer negativ arbeitenden lichtempfindlichen Aufzeichnungsschicht (B′) bei der Belichtung mit aktinischem Licht eine Löslichkeitsdifferenzierung zwischen den belichteten und unbelichteten Bereichen in der Weise ein, daß die unbelichteten Bereiche mit einem geeigneten, in seinem Lösevermögen auf die stoffliche Zusammensetzung der betreffenden lichtempfindlichen Aufzeichnungsschicht (B′) abgestimmten Entwicklerlösungsmittel ausgewaschen werden können, wogegen die belich teten Bereiche hierin unlöslich sind.

Demgegenüber tritt bei einer positiv arbeitenden lichtempfindlichen Aufzeichnungsschicht (B′) bei der bildmäßigen Belichtung mit aktinischem Licht eine Löslichkeitsdifferenzierung zwischen den belichteten und unbelichteten Bereichen in der Weise ein, daß die belichteten Bereiche mit einem geeigneten, in seinem Lösevermögen auf die stoffliche Zusammen setzung der betreffenden lichtempfindlichen Aufzeichnungsschicht (B′) abgestimmten Entwicklerlösungsmittel ausgewaschen werden können, wogegen die unbelichteten Bereiche hierin unlöslich sind.

Lichtempfindliche Aufzeichnungsschichten (B′) dieser Art können bei geeigneter Dicke und optischer Dichte auch als energieabsorbierende Schichten für die Herstellung der Maskenbildschichten (B) der erfindungs gemäßen Kopiermaske (A, B, C) verwendet werden.

Bei den negativ arbeitenden lichtempfindlichen Aufzeichnungsschichten (B′) kann es sich um die üblichen und bekannten photopolymerisierbaren oder photovernetzbaren Schichten handeln.

Bekanntermaßen enthalten die photopolymerisierbaren lichtempfindlichen Aufzeichnungsschichten (B′) mindestens ein Bindemittel, mindestens ein mit diesem Bindemittel verträgliches, photopolymerisierbares olefinisch unge sättigtes Monomeres und mindestens einen Photopolymerisationsinitiator.

Beispiele geeigneter polymerer Bindemittel zur Verwendung in diesen bekannten negativ arbeitenden photopolymerisierbaren lichtempfindlichen Aufzeichnungsschichten (B′) sind Copolymerisate des Ethylens mit (Meth)- Acrylsäure und Vinylestern, Vinylethern, (Meth)Acrylsäureestern und/oder (Meth)Acrylsäureamiden; maleinierte Alkadienpolymerisate; durch Maleinierung und Teilveresterung oder Teilamidierung polymer analog modifizierte Alkadienpolymerisate; Copolymerisate von Alkadienen mit α,β-olefinisch ungesättigten Carbonsäuren; carboxylgruppenhaltige Alkadien-Acrylnitril-Copolymiersate; partiell oder nahezu vollständig hydrolysierte Poly(vinylalkoholalkancarbonsäureester) der vorstehend genannten Art; partiell oder nahezu vollständig hydrolysierte Vinylalkoholalkancarbonsäureester-Alkylenoxid-Pfropfmischpolymerisat-e wie sie vorstehend beschrieben sind; Polyalkadiene; Alkadien-Acrylnitril-Copplymerisate; Vinylaromat-Alkadien-Copolymerisate; Vinylaromat-Alkadien-Blockmischpolymerisate; Butylkautschuke; Acrylatkautschuke; Polychloroprene; Fluorkautschuk; Silikonkautschuke; Polysulfidkautschuke; Ethylen-Propylen-Alkadien-Copolymerisate; chlorsulfonierte Polyethylene sowie linear Homo- und Copolyamide.

Beispiele für geeignete, mit den Bindemitteln verträgliche, photopoly merisierbare, olefinisch ungesättigte Monomere sind Ester der Acrylsäure und der Methacrylsäure; Styrol und dessen Derivate; Ester der Fumarsäure und der Maleinsäure; Vinylester; Vinylether, Acryl- und Methacrylamide sowie Allylverbindungen. Hierbei sind diejenigen Monomeren besonders gut geeignet, welche einen Siedepunkt von über 100°C bei Atmosphärendruck und ein Molekulargewicht von bis zu 3000, insbesondere von bis zu 2000, aufweisen.

Beispiele geeigneter Photopolymerisationsinitiatoren zur Verwendung in negativ arbeitenden photopolymerisierbaren lichtempfindlichen Auf zeichnungsschichten (B′) sind Benzoin oder Benzoinderivate; symmetrisch oder unsymmetrisch substituierte Benzilacetale; Acylarylphosphinoxide und -phosphinsäureester; substituierte und unsubstituierte Chinone sowie Trihalomethylgruppen enthaltende Verbindungen.

Bekanntermaßen enthalten die negativ arbeitenden photovernetzbaren licht empfindlichen Aufzeichnungsschichten (B′) entweder

- ein hydrophiles Bindemittel und ein lichtempfindliches Metallsalz;
- ein hydrophiles Bindemittel und ein Tetrazoniumsalz einer Diaminoverbindung wie p-Aminodiphenylamin, Benzidin, Diamidin oder Toluidin;
- ein Diazoharz, welches man im wesentlichen aus Formaldehyd und einem Diphenylamin-diazoniumsalz hergestellt hat;
- ein hydrophiles oder ein alkohollösliches Bindemittel und eine Azidoverbindung;
- einen Kautschuk oder sonstige in organischen Lösungsmittel lösliche Bindemittel und eine Azidoverbindung;
- eine Verbindung, welche beim Bestrahlen mit aktinischem Licht dimerisiert, wie Polyvinylcinnamat; oder
- ein hydrophiles Bindemittel und ein Diazoharz, welches man im wesentlichen aus Formaldehyd und einem Diphenylamin-diazoniumsalz hergestellt hat.

Demgegenüber enthalten die positiv arbeitenden lichtempfindlichen Auf zeichnungsschichten (B′) bekanntermaßen entweder

- ein alkalilösliches Bindemittel und eine Chinondiazidoverbindung wie Naphtochinon-1,2-diazidosulfonatester;
- eine Verbindung, welche bei der Belichtung Säure abspaltet, eine monomere oder polymere Verbindung, welche mindestens eine durch Säure abspaltbare C-O-C-Gruppe, wie etwa eine o-Carbonsäureestergruppe oder eine Carbonsäureamidacetalgruppe, aufweist, und gegebenenfalls ein Bindemittel; oder
- eine Verbindung mit mindestens zwei aromatischen und/oder hetero aromatischen o-Nitrocarbinolestergruppierungen, eine vernetzend wirkende Verbindung mit mindestens zwei reaktiven Gruppen, welche beim Erhitzen mit Carboxylgruppen zu reagieren vermögen, und einen diese Reaktion beschleunigenden Katalysator, wie etwa Iodonium-, Sulfoxonium- oder Pyrryliumsalze.

Die Entscheidung, welche lichtempfindliche Aufzeichnungsschicht (B′) in welcher Dicke für ein lichtempfindliches Aufzeichnungselement verwendet wird, richtet sich in der Hauptsache nach dem Verwendungszweck des be treffenden lichtempfindlichen Aufzeichnungselements, d. h. danach, ob es für die Herstellung einer Flexodruck-, Hochdruck-, Offsetdruck-, Tief druck- oder Siebdruckplatte oder eines Photoresists verwendet werden soll.

Die für den jeweiligen Verwendungszweck besonders vorteilhaften stoff lichen Zusammensetzungen der lichtempfindlichen Aufzeichnungsschich ten (B′) sowie die hierbei verwendeten Dickenbereiche sind üblich und bekannt und dem Fachmann geläufig.

Der weitere wesentliche Bestandteil des lichtempfindlichen Aufzeichnungs elements (A′, B′) ist der dimensionsstabile Träger (A′).

Hierbei kann die lichtempfindliche Aufzeichnungsschicht (B′) mit dem dimensionsstabilen Träger (A′) haftfest oder leicht ablösbar verbunden sein. Der dimensionsstabile Träger (A′) wiederum kann mit einer weich elastischen Unterschicht unterlegt sein. Ferner kann eine haftfeste Verbindung zwischen dem Träger (A′) und der lichtempfindlichen Aufzeich nungsschicht (B′) mit Hilfe einer Haftschicht erreicht werden. Sofern der dimensionsstabile Träger (A′) mit der lichtempfindlichen Aufzeichnungs schicht (B′) leicht ablösbar verbunden ist, wird er auch als temporärer Schichtträger (A′) bezeichnet.

Als dimensionsstabile Träger (A′) können Platten, Folien, Netze oder konische oder zylindrische Röhren (sleeves) aus Metallen, wie Stahl, Aluminium, Kupfer oder Nickel oder aus Kunststoffen wie Polyethylentereph thalat, Polybutylenterephthalat, Polyamid oder Polycarbonat verwendet werden. Daneben kommen noch Gewebe und Vliese wie Glasfasergewebe oder Verbundmaterialien aus Glasfasern und Kunststoffen wie Polyethylentereph thalat in Betracht. Außerdem kommen als dimensionsstabile Träger (A′) auch Platten in Betracht, wie sie üblicherweise bei der Herstellung von Leiter platten verwendet werden.

Erfindungsgemäß werden diese lichtempfindlichen Aufzeichnungselemente bzw. ihre lichtempfindliche Aufzeichnungsschicht (B′) durch die erfindungsge mäße Kopiermaske (A, B, C) hindurch mit aktinischem Licht bildmäßig be lichtet, wodurch in der Schicht (B′) die Löslichkeitsdifferenzierung zwischen den belichteten und unbelichteten Bereichen eintritt. Hiernach werden entweder die belichteten (positiv arbeitende Schicht B′) oder die unbelichteten (negativ arbeitende Schicht B′) Bereiche mit einem Entwick lerlösungsmittel ausgewaschen.

Hierbei erweist es sich als ein ganz besonderer Vorteil des erfindungs gemäßen Verfahrens und der erfindungsgemäßen Kopiermaske (A, B, C), daß sie besonders leicht und problemlos mit der Oberfläche der lichtempfind lichen Aufzeichnungselemente kontaktiert werden kann. Nach der bildmäßigen Belichtung kann dann die erfindungsgemäße Kopiermaske (A, B, C) ebenso leicht und problemlos wieder von der Oberfläche der belichteten Aufzeich nungselemente wieder abgelöst werden, ohne daß hierbei die beiden Elemente in irgendeiner Weise beschädigt werden würden. Insbesondere aber können bei der Verwendung der erfindungsgemäßen Kopiermaske (A, B, C) erheblich mehr lichtempfindliche Aufzeichnungselemente mit ein und derselben Kopier maske belichtet werden, als es bei Verwendung einer herkömmlichen Kopier maske überhaupt möglich ist. Darüber hinaus hat die erfindungsgemäße Kopiermaske (A, B, C) selbst nach mehrfacher Wiederverwendung keine Ver ringerung der Wiedergabequalität der ursprünglichen Bildinformation durch die lichtempfindlichen Aufzeichnungselemente zur Folge.

Beispiel und Vergleichsversuch Beispiel

Die Herstellung einer erfindungsgemäßen Kopiermaske (A, B, C) und ihre Verwendung im erfindungsgemäßen Verfahren.

Allgemeine Herstellvorschrift

Als optisch transparente Trägerfolie (A) wurde eine 100 µm starke Poly ethylenterephthalatfolie verwendet. Auf diese Folie wurden die Bild bereiche mit Hilfe eines computergesteuerten Tintenstrahldruckers über tragen. Hierbei verwendete man geschmolzene Tinten auf Kunststoffbasis, welche als Schwarzpigment Ruß enthielten, wodurch die herkömmliche Kopier maske (A, B) resultierte.

Zum Zwecke der Beschichtung der herkömmlichen Kopiermaske (A, B) mit der erfindungswesentlichen Schutzschicht (C) wurde zunächst eine 15 gew-%ige Lösung von Polyvinylalkohol eines Hydrolysegrades von 98 Mol-% in einem Gemisch aus Wasser und Alkohol im Volumenverhältnis von 90:10 hergestellt. Die resultierende Polymerlösung wurde mit, bezogen auf den Polyvinyl alkohol, 5 Gew.-% oberflächenmodifiziertem Siliciumdioxid einer durch schnittlichen Teilchengröße von 5 µm versetzt. Die hierbei resultierende Suspension wurde in ein Beschichtungsbad eingefüllt, und die herkömmliche Kopiermaske (A, B) wurde mit gleichmäßiger Geschwindigkeit durch das Bad geführt. Nach dem Verlassen des Bades wurde überschüssige Suspension mit Hilfe von Quetschwalzen entfernt, so daß nach dem Trocknen die erfindungs wesentliche Schutzschicht (C) einer Stärke von ungefähr 1 µm zurückblieb.

Die in dieser Weise erhaltene erfindungsgemäße Kopiermaske (A, B, C) wurde für die bildmäßige Belichtung von Hochdruckplatten für den Zeitungsdruck, wie sie beispielsweise in der US-A-42 72 611 beschrieben werden, verwen det. Nach der bildmäßigen Belichtung der lichtempfindlichen Aufzeichnungs elemente in einem handelsüblichen Belichter für Zeitungshochdruckplatten wurden die belichteten Aufzeichnungslelemente in einem handelsüblichen Entwicklergerät mit Wasser ausgewaschen (entwickelt). Nach dem Trocknen resultierten Zeitungshochdruckplatten mit einer Reliefschicht, welche die ursprüngliche und über die erfindungsgemäße Kopiermaske (A, B, C) einge brachte Information völlig detailgetreu wiedergab. Mit ein und derselben erfindungsgemäßen Kopiermaske (A, B, C) konnten in der vorstehend be schriebenen Weise 15 Zeitungshochdruckplatten hergestellt werden, ohne daß es hierbei zu einem Verlust an reprographischer Qualität gekommen wäre.

Vergleichsversuch

Die Herstellung einer herkömmlichen Kopiermaske (A, B) und ihre Verwendung zur Herstellung von Zeitungshochdruckplatten.

Versuchsvorschrift

Es wurde im wesentlichen wie im Beispiel verfahren, nur daß auf die dort beschriebene herkömmliche Kopiermaske (A, B) keine erfindungswesentliche Schutzschicht (C) aufgebracht wurde. Mit Hilfe dieser herkömmlichen Kopiermaske (A, B) konnten nur 2 Zeitungshochdruckplatten hergestellt werden. Hiernach war die herkömmliche Kopiermaske (A, B) für eine weitere Verwendung nicht mehr brauchbar. Außerdem gab nur die zuerst hergestellte Zeitungshochdruckplatte die ursprüngliche Information detailgetreu wieder. Schon die zweite Zeitungshochdruckplatte wies erhebliche Mängel auf.

Claims

1. Mehrfach verwendbare Kopiermaske für die bildmäßige Belichtung von lichtempfindlichen Aufzeichnungselementen mit aktinischem Licht, welche aus

A) einer optisch transparenten Trägerfolie einer Stärke von 10 bis 500 µm,
B) einer Maskenbildschicht einer Stärke von 0,01 bis 1 µm mit optisch transparenten Nichtbildbereichen und Bildbereichen von hoher optischer Dichte, erhältlich durch bildmäßige Energie einwirkung auf eine 0,01 bis 1 µm starke, ein feindispergiertes Material einer hohen optischen Dichte enthaltende oder hieraus bestehende energieabsorbierende Schicht oder durch Entfernen der Nichtbildbereiche von dieser Schicht oder durch Übertragen der Bildbereiche auf die Trägerfolie (A), und
C) einer 0,01 bis 5 µm starken, nicht klebrigen, optisch transparen ten, an der Maskenbildschicht (B) festhaftenden Schutzschicht, welche mindestens ein reißfeste Filme bildendes Polymeres und, bezogen auf (C), 0,1 bis 10 Gew.-% eines optisch transparenten Mattierungsmittels einer mittleren Teilchengröße von 0,1 bis 10 µm enthält, besteht.

2. Die Kopiermaske nach Anspruch 1, worin man als reißfeste Filme bilden de Polymere, Polyamide, Copolyamide, Polyurethane, Poly(meth)acrylate, Cyclokautschuke hohen Cyclisierungsgrades, Ethylen-Propylen-Copolymerisate, Homo- uund Copolymerisate des Vinylchlorids, Ethylen-Vinylacetat-Copolymerisate, partiell oder nahezu vollständig hydrolysierte Poly(vinylalkoholalkancarbonsäureester), partiell oder nahezu vollständig hydrolysierte Vinylalkoholalkancarbonsäureester-Alkylenoxid-Pfropfmischpolymerisat-e, Gelatine, Celluloseether, Celluloseester, Polyvinylpyrrylidon, Vinylaromat-Alkendicarbonsäureanhydrid-Copolymerisate, Vinylether-Alkendicarbonsäurenahydrid-Copolymerisate, Poly(meth)acrylsäure, (Meth)Acrylsäure-(Meth)Acrylat-Copolymerisate und/oder Polyalkylenoxide verwendet.

3. Die Kopiermaske nach Anspruch 2, worin man als reißfeste Filme bildende Polymere Polyamide, Copolyamide, nahezu vollständig hydrolysierte Poly(vinylalkoholalkancarbonsäureester) oder nahezu vollständig hydrolysierte Vinylalkoholalkancarbonsäureester-Alkylen oxid-Propfmischpolymerisate verwendet.

4. Die Kopiermaske nach einem der Ansprüche 1 bis 3, worin die Masken bildschicht (B) durch bildmäßige Einwirkung von aktinischem Licht durch eine Maske hindurch erhältlich ist.

5. Die Kopiermaske nach einem der Ansprüche 1 bis 3, worin die Masken bildschicht (B) durch bildmäßige Einwirkung eines Laserstrahls erhält lich ist.

6. Die Kopiermaske nach einem der Ansprüche 1 bis 3, worin die Masken bildschicht durch bildmäßige Einwirkung eines Thermokopfes erhältlich ist.

7. Die Kopiermaske nach einem der Ansprüche 1 bis 3, worin die Masken bildschicht (B) durch Übertragen der Bildbereiche auf den optisch transparenten Träger (A) mit Hilfe von Tonern, wie sie in der Elektro photographie verwendet werden, erhältlich ist.

8. Die Kopiermaske nach einem der Ansprüche 1 bis 7, worin als fein dispergiertes Material hoher optischer Dichte Ruß verwendet wird.

9. Verwendung der Kopiermaske gemäß einem der Ansprüche 1 bis 8 für die Herstellung von Druckplatten, Siebdruckplatten und Photoresisten.

10. Verfahren zur Herstellung von Druckplatten, Siebdruckplatten und Photoresisten aus lichtempfindlichen Aufzeichnungselementen, welche

A′) einen dimensionsstabilen Träger und
B′) eine positiv oder eine negativ arbeitende lichtempfindliche Aufzeichnungsschicht

enthalten, durch

1) bildmäßiges Belichten der lichtempfindlichen Aufzeichnungs schicht (B′) mit aktinischem Licht, wodurch in der Schicht (B′) eine Löslichkeitsdifferenzierung zwischen belichteten und unbelichteten Teilen eintritt, und
2) Auswaschen (Entwickeln) der belichteten (positiv arbeitende Schicht B′) oder der unbelichteten (negativ arbeitende Schicht B′) Bereiche mit einem Entwicklerlösungsmittel, dadurch gekennzeichnet, daß man im Verfahrensschritt (1) für die bildmäßige Belichtung eine mehrfach verwendbare Kopiermaske gemäß einem der Ansprüche 1 bis 8 verwendet.